KR880008085A - 우수한 접착성을 갖는 광중합성 조성물 - Google Patents

우수한 접착성을 갖는 광중합성 조성물 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

우수한 접착성을 갖는 광중합성 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (21)

  1. 하기(a)-(c)를 포함하는광중합성 조성물. (a)비스페놀 A에폭시 단량체의 반아크릴로일 에스테르인 단량체 성분, (b)화학선으로 활성화된 개시계와, (c)본질적으로 산성기를 갖지 않는 미리 형성된 거대분자 엘라스토머 수불용성 중합체 결합제. 단 이때, 광중합성 조성물이 화학선에 노출된 후에, 결과로써 생성되는 광중합성 조성물은 70℃의 온도에서 유지시킨 pH12의 액체와의 24시간동안의 접촉을 견딜수 있는 능력을 가져야 하고, 더 나아가 광중합성 조성물을 기판상에 라미네이팅하고 화학선에 노출시키고 150℃의 온도에서 경화시킨 후, 결과로써 생성되는 광중합된 조성물은 노출되고 경화된 조성물이 기판으로부터 제거됨이 없이 직선 2.54㎝(1in)당 최소한 2.27㎏(5.0 lb)의 박리력을 견딜 수 있어야 한다.
  2. 제1항에 있어서, 성분(a)가 하기식 (Ⅰ)을 포함하는 조성물.
    상기식에서, R1은이고, R2는이고 R3는 H또는 탄소원자 1내지 10개를 갖는 알킬기이고 A는또는,또는, -A-는 O와사이의 겨합을 나타내며, m은 1내지 10의 정수이고, n은 0또는 1내지 5의 정수이고, q는 1내지 10의 정수이고, r은 1내지 10의 정수이며, s는 1내지 10의정수이다.
  3. 제2항에 있어서, 성분(a)의 식(Ⅰ)에 있어서, R1이이고 R2가이고 n이 2인 조성물.
  4. 제2항에 있어서, 식(Ⅰ)이 성분(a)의 최소한 30중량%인 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 식(Ⅰ)이 성분(a)의 최소한 30중량%인 조성물.
  6. 제2항에 있어서, R1과 R2가 동일하다는 것을 제외하고는, 정의한 바와 같은 식의 유사화합물이 존재하는 조성물.
  7. 제3항에 있어서, R1과 R2가 동일하다는 것을 제외하고는 정의한 바와 가은 식(Ⅰ)의 유사화합물이 존재하는 조성물.
  8. 제7항에 있어서, R1과 R2가 둘다 하기식을 갖는 조성물.
  9. 제7항에 있어서, R1과 R2가 둘다 하기의 식을 갖는 조성물.
  10. 제8항에 있어서, R1과 R2가 둘다 하기식을 갖는 유사화합물을 포함하는 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 아크릴화 우레탄이 존재하는 조성물.
  12. 로울형태로 감겨진 연질 필름에 의해 지지된, 하기(a)-(c)를 포함하는 저장 안정성 광중합성 조성물 함유 물품. (a) 비스페놀 A에폭시 단량체의 반아크릴로 일 에스테르인 단량체 성분, (b)화학선으로 활성화된 개시계와, (c)본질적으로 산성기를 갖지 않는 미리 형성된 거대분자 엘라스토머 수불용성 중합체 결합제, 단 이때, 광중합성 조성물이 화학선에 노출된후에, 결과로써 생성되는 광중합성 조성물은 70℃의 온도에서 유지시킨 pH12의 액체와의 24시간 동안의 접촉을 견딜수 있는 능력을 가져야 하고, 더 나아가 광중합성 조성물을 기판상에 라미네이팅하고 화학선에 노출시키고 150℃의 온도에서 경화시킨후, 결과로써 생성되는 광중합된 조성물은 노출되고 경화된 조성물이 기판으로부터 제거됨이 없이 직선 2.54㎝ (1 in)당 최소한 2.27㎏(5.0 lb)의 박리력을 견딜 수 있어야한다.
  13. 제12항에 있어서, 성분(a)가 하기식 (Ⅰ)을 포하하는 물품.
    상기식에서, R1은이고, R2는이고, R3는 H또는 탄소원자 1내지 10개를 갖는 알칼기이고, A는또는,또는, -A-는 O과사이의 결합을 나타내고, m은 1내지 10의 정수이고, n은 0또는 1내지 5의 정수이고, q는 1내지 10의 정수이고, r은 1내지 10의 정수이며, s는 1내지 10의 정수이다.
  14. 제13항에 있어서, 성분(a)의 식(Ⅰ)에서 R1이이고 R2가이고 n이 2인 물품.
  15. 하기(a)-(c)를 포함하는 광중합성 조성물 선구체로부터 생성된 광중합 조성물의 유전층에 의해 분리된 2개의 전도층을 포함하는 다층 인쇄 회로판. (a)비스페놀 A에폭시 단량체의 반아크릴로일에 스테트인 단량체성분, (b)화학선으로 활성화된 개시계와, (c)본질적인 산성기를 갖지 않는 미리형성된 거대분자 엘라스토머 불용성 중합체 결합제. 단 이때, 광중합성 조성물이 화학선에 노출된 후에, 결과로써 생성되는 광중합성 조성은 70℃의 온도에서 유지시킨 pH12의액체와의 24시간동안의 접촉을 견딜수 있는 능력을 가져야하고, 더나아가 광중합성 조성물을 기판상에 라미네이팅하고 화학선에 노출시키고 150℃의 온도에서 경화시킨후, 결과로써 생성되는 광중합된 조성물은 노출되고 경화된 조성물이 기판으로 부터 제거됨이 없이 직선 2.54㎝(1in)당 최소한 2.27㎏(5.01b)의 박리력을 견딜 수 있어야 한다.
  16. 제15항에 있어서, 성분(a)가 하기식(Ⅰ)을 포함하는 다층 인쇄 회로판.
    상기식에서, R1은이고, R2는이고, R3는 H또는 탄소원자 1내지 10개를 갖는 알칼기이고 A는또는,또는, -A-는 0과사이의 결합을 나타내고, m은 1내지 10의정수이고, n은 0또는 1내지 5의 정수이고, q는 1내지 10의 정수이고, r은 1내지 10의 정수이며, s는 1내지 10의 정수이다.
  17. 제16항에 있어서 성분(a)의 식(Ⅰ)에서 R1이, 이고, R2가이고 n이 2인 다층인쇄 회로판.
  18. (a) 지지된 광중합성 필름을 기판에 라미네이팅 하고, (b) 층을 화학선에 상형성방식으로 노출시키고, (c) 레지스트 지대를 생성하기 위해 층의 비노출 부분을 제거하고, (d) 기판을 에칭시키거나 혹은 기판상에 물질을 부착 시킴으로해서 레지스트 지대에 의해 보호되지 않은 기판 부분을 영구히 개질 시키는 것을 포함하는 기판에 광중합성 필름을 라미네이팅시키는 방법에 있어서, 상기 광중합성 필름이 하기 (a)-(c)를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. (a) 비스페놀 A에폭시 단량체의 반아크릴로일 에스테르인 단량체 성분, (b) 화학선으로 활성화된 개시계와, (c) 본질적으로 산성기를 갖지 않는 미리 형성된 거대분자 엘라스토머 수불용성 중합체 결합제. 단 이 때, 광중합성 조성물이 화학선에 노출된 후에, 결과로써 생성되는 광중합성 조성물은 70℃의 온도에서 유지시킨 pH12의 액체와의 24시간 동안의 접촉을 견딜 수 있는 능력을 가져야 하고 더나아가 광중합성 조성물을 기판상에 라미네이팅하고 화학선에 노출시키고 150℃의 온도에서 경화시킨 후, 결과로써 생성되는 광중합성 조성물은 기판으로 부터 노출되고 경화된 조성물이 제거됨이 없이 직선 2.54㎝(1 in)당 최소한 2.27㎏(5.0 lb)의 박리력을 견딜 수 있어야 한다.
  19. 제18항에 있어서, 추가의 층(e)이 레지스트 지대에 접착되는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 성분(a)가 하기식(Ⅰ)을 포함하는 방법.
    상기식에서 R1은이고, R2는이고, R3는 H또는 탄소원자 1내지 10개를 갖는 알킬기이고, A는, 또는, 또는 -A-는 O와사이의 결합을 나타내고, m은 1내지 10의 정수이고, n은 0또는 1내지 5의 정수이고, q는 1내지 10의 정수이고, r은 1내지 10의 정수이며, s는 1내지 10의 정수이다.
  21. 제20항에 있어서, 성분(a)의 식(Ⅰ)에서, R1은이고, R2는이고 n은 2인 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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