KR880006384A - 금속 표면 정련을 위한 조성물 및 방법 - Google Patents

금속 표면 정련을 위한 조성물 및 방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

금속 표면 정련을 위한 조성물 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (17)

  1. 물, 수용성 옥살레이트 화합물, 수용성 나이트 레이트 화합물, 및 수용성 퍼옥시 화합물로 이루어지며, 이때 약 0.125 내지 0.65g.mol/l의 옥살레이트 라디칼을 제공하기에 충분한 양의 상기 옥살레이트 화합물, 약 0.004g.mol/l이상의 나이트레이트 화합물, 및 0.001 내지 0.05g.mol/l의 퍼옥시 그룹을 제공하기에 충분한 양의 상기 퍼옥시 화합물을 함유하는 금속 표면의 정련에 사용하는 수용액.
  2. 제1항에 있어서, 상기 나이트레이트 화합물이 약 0.2g.mol/l까지의 나이트레이트 라디칼을 제공하는 용액.
  3. 제1항에 있어서, 상기 옥살레이트 화합물이 약 0.25 내지 0.45g.mol/l의 옥살레이트 라디칼을 제공하고, 상기 나이트레이트 화합물이 약 0.05 내지 0.11g.mol/l의 옥살레이트의 나이트레이트 라디칼을 제공하며, 상기 퍼옥시 화합물이 약 0.01 내지 0.03g.mol/l의 퍼옥시 그룹을 제공하는 용액.
  4. 제1항에 있어서, 약 0.4g.mol/l의 옥살레이트 라디칼, 약 0.1g.mol/l의 옥살레이트 라디칼, 약 0.1g.mol/l의 나이트레이트 라디칼, 및 0.02g.mol/l의 퍼옥시 그룹을 함유하는 용액.
  5. 제1항에 있어서, 부가적으로 유효량의 습윤제를 함유하는 용액.
  6. 제1항에 있어서, 상기 옥살레이트 화합물이 옥살산이고, 상기 나이트레이트 화합물이 나트륨 나이트레이트이며, 상기 퍼옥시 화합물이 과산화수소인 약 1.5 내지 3.0의 pH를 갖는 용액.
  7. 수용성 옥살레이트 화합물, 수용성 나이트레이트 화합물, 및 수용성 퍼옥시 화합물로 이루어지고, 이때 상기 화합물을 1ℓ의 물로 희석시 약 0.125 내지 0.65g.mol/l의 옥사레이트 라디칼, 약 0.004g.mol/l이상의 나이트레이트 라디칼, 및 0.001 내지 0.05g.mol/l의 퍼옥시 그룹을 제공하기에 충분한 양으로 함유하며 금속 표면의 정련에 사용하는 수용액을 제공하기 위하여 물에 첨가시키기 위한 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 상기 화합물이 주위 조건하에서 고체이며, 실질적으로 건조 분말의 형태인 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 상기 옥살레이트 화합물이 옥살산이고, 상기 나이트레이트 화합물이 나트륨 나이트레이트이며, 상기 퍼옥시 화합물이 과붕산 나트륨, 과탄산 나트륨, 과황산 나트륨, 과황산 암모늄, 과붕산 칼륨 및 과황산 칼륨으로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 조성물.
  10. (a) 물, 수용성 옥살레이트 화합물, 수용성 나이트레이트 화합물, 및 수용성 퍼옥시 화합물을 포함하며, 이때 상기 옥살레이트 화합물은 약 0.125 내지 0.65g.mol/l의 옥살레이트 라디칼을 제공하기에 충분한 양이고, 상기 나이트레이트 화합물은 약 0.004g.mol/l이상의 나이트레이트 라디칼을 제공하기에 충분한 양이며, 상기 퍼옥시 화합물은 0.001 내지 0.05g.mol/l퍼옥시 그룹을 제공하기에 충분한 양인 수용액을 제공하고;(b)대량 끝처리 장치의 용기내에 금속 표면을 갖는 목적을 다량 포함하는 대량의 요소를 도입시키고; (c) 상기 대량의 요소를 용액으로 습윤시키고; (d) 상기 표면을 상기 용액을 사용하여 습윤상태로 유지하는 동안 상기 대량의 요소를 급속히 진탕시켜, 상기 요소를 사이에 상대적 운동 및 접촉을 발생시키고; (e) 상기 표면의 거침 정도를 상당히 감소 시키기에 충분한 시간 동안 상기 진탕 단계를 계속하는 단계를 포함하는 목적물의 금속 표면을 정련하는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 용액이 약 0.25 내지 0.45g.mol/l의 옥살레이트 라디칼을 함유하고, 상기 나이트레이트 화합물이 약 0.05 내지 0.11g.mol/l의 나이트레이트 라디칼을 제공하며, 상기 퍼옥시 화합물이 약 0.01 내지 0.03g.mol의 그룹을 제공하는 방법.
  12. 제10항에 있어서, 상기 대량의 요소가 다량의 대량 끝처리 매질을 포함하는 방법.
  13. 제10항에 있어서, 상기 금속 표면이 도입시기에 약 30을 초과하는 산술 평균 끝처리 거칠기를 가지며, 거칠기에서 상당한 감소에 의해 약 6의 산술 평균 거칠기를 제공하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 진탕 단계의 시간이 약 4시간 이하인 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 진탕 단계가 상기 용액의 연속적 산화를 발생시키는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 용액을 상기 대량 끝처리 장치 용기 용적의 약 15 내지 25%와 동일한 양으로 제공하는 방법.
  17. 제10항에 있어서, 상기 목적물 표면의 금속의 철 및 이의 합금으로 이루어진 그룹으로 부터 선택하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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