KR870010618A - 웨이퍼 처리 시스템 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

웨이퍼 처리 시스템

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명에 따른 웨이퍼 처리 시스템의 부분 단면 정면도.

제2도는 제1도 선 2-2를 따라 취한 제1도 시스템의 부분단면도.

제3도는 제2도의 선 3-3을 따라 취한 제1도 및 제2도 시스템을 통한 단면도.

Claims (23)

1. 반도체 웨이퍼 처리기에 있어서, 처리를 위한 반도체 웨이퍼의 카세트를 수용하기 위한 제1로드록 수단과, 처리된 웨이퍼를 수용하기 위한 제2로드록 수단과, 적어도 하나의 처리실과, 적어도 2개의 웨지밸브를 포함하며, 상기 제1로드록 수단은 제1웨지 밸브가 개방될 때 제1웨지 밸브를 통해 웨이퍼 처리실과 통하고, 상기 제2로드록 수단은 제2웨지 밸브가 개방될 때 제2웨지 밸브를 통해 웨이퍼 처리실과 통하고, 상기 로드록 수단, 웨지 밸브 및 처리실은 진공 밀봉되어 있고 외부 진공 펌핑 수단에의 부착을 위한 수단을 가지며, 컴퓨터 수단은 상기 각 로드록 수단, 웨지 밸브 및 처리실을 제어하고, 상기 각 웨지 밸브는 입력 포트와 출력 포트를 가지는 밸브 하우징과, 상기 입·출력 포트를 밀봉하는 면, 즉 서로에 대해 경사진 밸브웨지 밀봉면을 가지며 또 상기 밀봉면 사이에 저장노치를 가진 밸브웨지와, 상기 밸브 웨지가 상기 입·출력 포트를 통해 라인 시계를 벗어나도록 상기 하우징내에서 상기 밸브 웨지를 밀봉 위치로부터 개방 위치로 미끄럼 시키는 수단과, 상기 밸브가 폐쇄될 때 상기 저장 노치내에서 겹친 위치로 저장될 수 있는 작업물 취급 아암을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
2. 제1항에 있어서,

   상기 아암은 중심쪽 지지편과, 중심쪽 신장편과, 말단부상의 작업물을 지지하는 수단을 가진 말단쪽 지지편과, 말단쪽 신장편 및 상기 아암에 동력을 전달하여 제어하기 위해 제1축에 관해 회전하는 한쌍의 동심축을 포함하며, 상기 중심쪽 지지편은 제1의 상기 동심축에 직각으로 고정 부착되고, 상기 중심쪽 신장편은 제2의 상기 동심축에 직각으로 고정 부착되고, 상기 중심쪽 신장편은 제2축에서 상기 말단쪽 신장편에 피버트 가능하게 부착되고, 상기 중심쪽 지지편과 상기 말단쪽 신장편은 각각 제3 및 제4축에서 상기 말단쪽 지지편에 피버트 가능하게 부착되며, 상기 제1, 제2, 제3 및 제4축은 평행하고, 상기 축 사이의 공간은 평행사변형을 형성하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
3. 제2항에 있어서,

   상기 말단쪽 지지 아암은 평 블레이드인 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
4. 제3항에 있어서,

   상기 중심쪽 신장편은 상기 중심쪽 지지편보다 짧은 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
5. 제4항에 있어서

   반도체 웨이퍼의 카세트를 수용하는 상기 제1로드록 수단은 문을 가지는 진공실과, 밀접한 평행 방사빔을 보내는 전송수단과, 평행 방사 빔을 지나 일정 속도비로 카세트를 이동시키는 수용 수단과, 시간의 함수로서 평행 방사 빔에서의 방해 위치 정보를 변환하는 신호 처리 수단과, 상기 신호 처리 수단으로부터의 정보로 받아서 저장하는 컴퓨터 수단과, 문과 대면한 개구를 가지면서 진공실의 벽내에 있는 작은 진공 셀과, 진공실에 문을 밀봉시키는 밀봉 수단과, 상기 작은 진공 셀을 진공 펌핑 수단에 연결시키는 수단을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
6. 제4항에 있어서

   상기 운반 수단은 수평면에 있는 웨이퍼를 구비한 카세트를 승강시키는 엘리베이터인 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
7. 제5항에 있어서,

   상기 연결 수단은 작은 진공 셀로부터 진공 펌핑수단을 차단시키는 펌핑 차단 밸브를 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
8. 제7항에 있어서,

   상기 연결 수단은 상기 차단 밸브가 폐쇄될 때 상기 작은 진공 셀을 대기로 배기시키도록 하는 배출 밸브를 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
9. 제8항에 있어서,

   상기 차단 밸브와 배출 밸브는 문의 핸들에 설치된 스위치 수단으로부터 전기적으로 작동되는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
10. 제9항에 있어서,

    상기 컴퓨터 수단은 작업 결정 시스템으로부터 기계를 작동시키는 수단을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
11. 제1항에 있어서,

    웨이퍼 중심을 두어 클램핑 시키는 척 수단을 포함하며, 상기 척 수단은 작업물을 지지하기 위한 상부면 수단을 가진 플랫포옴과, 플랫포옴상의 공작물을 중심에 두어 유지시키고, 상기 플랫포옴 주의 둘레에 분포되고, 그 각각이 작업물상에 끼워지도록된 형상의 상부 립, 하부 립 및 상승 슬롯을 가진 얇은 평면 훅부재와 스프링 부재를 포함하는 다수의 클램프 수단과, 상기 상부면 수단 주의에 그리고 그 아래에 배치되면서 상기 각 얇은 평면 훅 부재의 상기 상승 슬롯이 결합하는 승강 링과, 상기 상부면 수단 주의및 그 아래에 그리고 상기 승강 링 위에 배치되면서 상기 얇은 평면 훅 부재의 상기 하부 립이 결합하는 확전식 링과, 상기 승강 링을 이동시키는 수단 및 상기 확전식 링을 이동시키는 수단을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
12. 제11항에 있어서,

    작업물 취급 기구로부터 작업물을 받아 상기 작업물을 상기 플랫포옴에 내려 놓는 승강 핀 수단을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
13. 제12항에 있어서,

    상기 작업물이 상기 플랫포옴에 유지되는 동안 상기 작업믈의 온도 제어를 위한 수단을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
14. 제13항에 있어서,

    상기 온도 제어 수단은 상기 플랫포옴의 상기 상부면 수단 작업물의 이면 사이에 헬륨 가스를 보내는 수단을 포함하여 열 접촉을 보증하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
15. 제14항에 있어서,

    상기 클램프를 적소에 두면서 서비스를 하기 위해 상기 클램프를 제거하는 수단을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
16. 제 15항에 있어서,

    상기 컴퓨터 수단은 작업 결정 시스템으로 부터 기계를 작동시키는 수단을 포함하는 것이 특징인 반도체 웨이퍼 처리기.
17. 반도체 웨이퍼를 자동 처리하기 위한 에칭 시스템에서,

    웨이퍼 에칭 실은 진공 펌핑 수단, 처리 가스 도입용 수단, 플라즈마를 유지하는 전극 수단, 상기 전력 수단에 전력을 공급하는 전력 공급 수단, 웨이퍼 지지 수단, 웨이퍼 냉각 수단 및 처리 감지 수단을 포함하여 상기 웨이퍼를 에칭하며, 웨이퍼 취급수단은 웨이퍼 카세트를 수용하는 카세트 실, 상기 카세트 실내에 진공을 발생시키는 수단을 포함하고 상기 카세트 실은 카세트내의 웨이퍼 위치를 자동적으로 조사하여 측정하는 수단을 포함하며, 상기 카세트 실과 상기 에칭 실 사이에 있는 웨이퍼 이송 실은 상기 카세트 실로부터 상기 에칭 실로 웨이퍼를 자동적으로 이동시키고 에칭 실에서의 웨이퍼 처리중 이송 실로부터 에칭실을 밀봉시키며, 상기 실들은 상기 카세트 실과 상기 이송 실 사이의 제1웨이퍼 통로와 상기 이송 실과 상기 에칭 실 사이의 제2웨이퍼 통로에 의해 상호 연결되고 상기 이송실은 상기 통로를 개폐하는 밸브 수단을 포함하며, 웨이퍼 운반 수단은 상기 이송실 내에 설치되며 상시 카세트 실 내의 카세트로부터 웨이퍼를 취하기 위해 상기 제1통로를 통해 이동하여 이송 실, 상기 제2통로를 통해 상기 에칭 실로 웨이퍼를 운반하도록 되어 있으며, 상기 에칭 실내의 자동 수단은 상기 웨이퍼 운반 수단으로부터 웨이퍼를 취해 에칭 실내의 상기 지지 수단상에 웨이퍼를 작업위치로 클램핑하며, 상기 운반 수단을 다시 상기 이송 실로 이동시키고 웨이퍼가 상기 운반 수단으로부터 취해진 후 상기 밸브 수단을 폐쇄하는 수단이 제공되어, 이송 실로부터 에칭실을 밀봉한 후 웨이퍼가 카세트로부터 에칭을 위해 상기 에칭실로 개개마다 이동되는 것이 특징인 에칭 시스템.
18. 제17항에 있어서,

    작업 결정 시스템을 통해 상기 에칭 시스템을 작동하는 수단을 가지는 제어 컴퓨터를 포함하는 것이 특징인 에칭시스템.
19. 반도체 작업물을 처리하기 위한 처리 시스템에 있어서,

    입구 카세트 수용실, 출구 카세트 수용 실, 상기 카세트 수용실 중간에 있는 적어도 하나의 처리실 및 연속 체인으로 각 2개의 다른 형버의 실 사이에 위치하는 이송 실을 포함하는 연속 체인의 상호 연결된 실을 포함하며, 상기 각 카세트 수용 실은 작업물 카세트를 제거 가능하게 밀봉하는 문 수단, 지지된 카세트에 수직이동을 제공하는 엘리베이터 수단 및 상기 엘리베이터 수단상에 위치된 카세트내의 각 반도체 작업물의 실제 수직 위치를 검출하는 수단을 가지며, 벽 수단은 작업물 통로가 상기 각 이송실의 내부와 이송 실에 인접한 다른 각 실의 내부 사이에 형성되도록 상기 실을 형성하며, 상기 각 이송 실은 각 이송 실로 개구하는 통로 양쪽을 동시에 개방 또는 폐쇄하도록 가동할 수 있는 밸브 수단을 포함하며, 상기 각 이송 실은 작업물을 해제 가능하게 지지하도록 되어 있는 작업물 이송 수단과, 각 이송 실과 인접 실 사이의 통로를 통해 상기 이송 수단을 이동시켜 상기 인접 실의 하나로부터 이송 실을 통해 상기 다른 인접 실로 공작물을 이동시키도록 하는 수단을 포함하며, 상기 처리 실은 상기 작업물 이송 수단에 의해 현 작업물을 해제 가능하게 지지하는 수단을 가지는 것이 특징인 처리 시스템.
20. 제19항에 있어서,

    상기 작업물 이송 수단은 중심쪽 지지편과, 중심쪽 신장편과, 말단부상의 작업물을 지지하는 수단을 가진 말단쪽 지지편과, 말단쪽 신장편 및 상기 아암에 동력을 전달하여 제어하기 위해 제1축에 관해 회전하는 한쌍의 동심축을 포함하며, 상기 중심쪽 지지편은 제1의 상기 동심축에 직각으로 고정 부착되고, 상기 중심쪽 신장편은 제2의 상기 동심축에 직각으로 고정 부착되고, 상기 중심쪽 신장편은 제2축에서 상기 말단쪽 신장편에 피버트 가능 하게 부착되고, 상기 중심쪽 지지편과 상기 말단쪽 신장편은 각각 제3및 제4축에서 상기 말단쪽 지지편에 피버트 가능하게 부착되며, 상기 제1, 제2, 제3, 및 제4축은 평행하고, 상기 축 사이의 공간은 평행 사변형을 형성하는 것이 특징인 처리 시스템.
21. 제19항에 있어서,

    상기 지지 및 클램핑 수단은 작업물을 지지하기 위한 상부면 수단을 가진 플랫포옴과, 플랫포옴상의 공작물을 중심에 두어 유지시키고, 상기 플랫포옴 주위 둘레에 분포되고, 그 각각이 작업물상에 끼워지도록 된 형상의 상부 립, 하부 립 및 상승 슬롯을 가진 얇은 평면 훅 부재와 스프링 부재를 포함하는 다수의 클램프 수단과, 상기 상부면 수단 주위에 그리고 그 아래에 배치되면서 상기 각 얇은 평면 훅 부재의 상기 상승슬롯이 결합하는 승강 링과, 상기 상부면 수단 주위 및 그 아래에 그리고 상기 승강 링 위에 배치 되면서 상기 얇은 평면 훅 부재의 상기 하부 립이 결합하는 확전식 링과, 상기 승강 링을 이동시키는 수단 및 상기 확전식 링을 이동시키는 수단을 포함하는 것이 특징인 처리 시스템.
22. 제19항에 있어서,

    상기 벨브 수단은 입력포트와 출력 포트를 가지는 밸브 하우징과, 상기 입, 출력 포트를 밀봉하는 면, 즉 서로에 대해 경사진 밸브 웨지 밀봉면을 가지며 또 상기 밀봉면 사이에 저장 노치를 가진 밸브 웨지 와, 상기 밸브 웨지가 상기 입ㆍ 출력 포트를 통해 라인 시계를 벗어나도록 상기 하우징내에서 상기 밸브웨지를 밀봉 위치로부터 개방 위치로 미끄럼 시키는 수단을 포함하는 것이 특징인 처리 시스템.
23. 제22항에 있어서,

    작업 결정 시스템을 통해 상기 처리 시스템을 작동시키는 수단을 가진 제어 컴퓨터를 포함하는 것이 특징인 처리 시스템.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.