KR870003560A - 반도체 디바이스 측정장치 - Google Patents

반도체 디바이스 측정장치 Download PDF

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KR870003560A
KR870003560A KR1019860006967A KR860006967A KR870003560A KR 870003560 A KR870003560 A KR 870003560A KR 1019860006967 A KR1019860006967 A KR 1019860006967A KR 860006967 A KR860006967 A KR 860006967A KR 870003560 A KR870003560 A KR 870003560A
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wafer
moving
semiconductor device
measuring needle
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KR1019860006967A
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다카마사 사카이
모도히로 고오노
다카유키 우마바
요시유키 나카가와
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이시다 도쿠지로오
다이닛뽕스쿠링 세이소오 가부시키가이샤
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

반도체 디바이스 측정장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 관한 측정장치의 1실시예의 개략을 나타내는 사시도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
11 : 기대 12 : 웨이퍼지지부
13 : 피측정 웨이퍼 14 : 냉각가스취출구
15 : 표시 16 : 조작패널
17, 22, 26 : 가이드레일 18, 23, 27 : 이동대
19, 24, 28 : 모터 20, 25, 29 : 이송나사
21, 30 : 브라켓 31 : 측정침
32 : 현미경 33, 36 : 지지편
34, 35, 37 : 걸이맞춤편 38 : 광체
39 : 닥트 40 : 이동 유니트

Claims (11)

  1. 피측정 웨이퍼를 대략 수직으로 지지하기 위한 웨이퍼 지지수단과 상기 웨이퍼 지지수단에 대향하는 위치에 배설된 도전성 측정침과, 상기 웨이퍼 지지수단에 대하여, 상기 측정침을 상대적으로 제1, 제2, 제3의 방향으로 이동시키기 위한 이동수단과 상기 측정침에 접척되고 기체내에 내장된 데이터 처리장치와, 상기 측정침 근방에 배설되고 상기 측정침의 선단을 그 시야의 대략 중심에 위치하도록한 현미경을 구비하여 되는 것을 특징으로 하는 반도체 디바이스의 측정장치.
  2. 웨이퍼 지지수단(12)에 피측정 웨이퍼를 진공 흡착하기 위한 흡착수단을 설치하여 구성되는 특허청구범위 제1항 기재의 반도체 디바이스의 측정장치.
  3. 웨이퍼 지지수단(12)이 거의 수직으로 연장되는 광체(38) 수직면에 배설하여 구성되는 특허청구범위 제1항 기재의 반도체 디바이스의 측정장치.
  4. 이동수단이 웨이퍼 지지수단과 측정침을 상대적으로 제1의 방향으로 이동하는 제1의 이동부와 웨이퍼 지지수단과 측정침을 상대적으로 제2의 방향으로 이동하는 제2의 이동부와 웨이퍼 지지수단과 측정침을 상대적으로 제3의 방향으로 이동하는 제3의 이동부로 구성되는 특허청구범위 제1항 기재의 반도체 디바이스의 측정장치.
  5. 이동수단의 각 이동부가 이동방향에 따라 연장되는 적어도 한개의 가이드레일를 구비하여, 상기 가이드 레일에 따라 이동하도록한 특허청구범위 제1항 기재의 반도체 디바이스의 측정장치.
  6. 이동수단의 각 이동부가 서로 중첩하여 이일체가 되어서 배설되어 구성되는 특허청구범위 제1항 또는 제4항에 기재된 디바이스의 측정장치.
  7. 측정침이 이동수단위에 배설되어 구성되는 특허청구범위 제1항, 제4항 또는 제6항중 어느 하나의 항에; 기재된 반도체 디바이스의 측정장치.
  8. 현미경이 이동수단 위에 배설되어 구성되는 특허청구 범위, 제1항 제4항 또는 제6항중 어느하나의 항에 기재된 반도체 디바이스의 측정장치.
  9. 웨이퍼 지지수단의 하방에 피측정 웨이퍼의 표면에 냉각용 가스를 공급하기 위한 공급수단을 마련하여 구성하는 특허청구범위 제1항, 제2항 또는 제3항중 어느 하나의 항에 기재된 반도체 디바이스의 측정장치.
  10. 웨이퍼 지지수단의 상방에 피측정 웨이퍼의 표면에 공급된 냉각용 가스를 배기하기 위한 배기수단을 구비하여 구성되는 특허청구범위 제9항 기재의 반도체 디바이스의 측정장치.
  11. 피측정용 웨이퍼를 기대 상부의 정위치에 수직 내지 약간 경사하도록 지지하는 웨이퍼 지지장치와 상기 피측정용 웨이퍼에 형성된 반도체 디바이스의 소망단자에 당접함으로써, 해당 단자와 도통(導通)하며 디바이스의 전기 특성을 측정하는 측정기에 데이터를 입력시키는 측정침과 해당 측정침과 상기 피측정용 웨이퍼면을 상하 및 좌우 방향으로 상대적으로 이동시키며, 또 소망위치에서 측정침의 선단을 웨이퍼면에 당접 또는 이간시키도록 전후 방향으로 상대적으로 이동시키도록 설치한 3방향 이동장치와 측정침의 선단을 그 시야의 거의 중심에 두도록 웨이퍼 면과의 상대 위치가 상기 측정침과 함께 적어도 상하 및 좌우 방향으로 이동하는 현미경으로 구성되는 반도체 디바이스의 측정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860006967A 1985-09-13 1986-08-22 반도체 디바이스 측정장치 KR900001985B1 (ko)

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JP60201638A JPS6262536A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 半導体デバイスのプロ−ビング装置
JP60-201638 1985-09-13

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KR870003560A true KR870003560A (ko) 1987-04-18
KR900001985B1 KR900001985B1 (ko) 1990-03-30

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63265443A (ja) * 1987-04-23 1988-11-01 Tokyo Electron Ltd プロ−ブ装置
JPH054480U (ja) * 1991-07-02 1993-01-22 山形日本電気株式会社 ウエーハ面検査装置

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KR900001985B1 (ko) 1990-03-30
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