KR870000018A - 응집방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

응집방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 일례에 따른 장치의 계통도이다.
제2도는 제1도에서 선 2-2를 따라 취한 부분도이다.
제3도는 제1도에서 선 3-3를 따라 취한 부분도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 공급호퍼 14 : 연마기
16 : 열교환기 18 : 저장호퍼
22 : 공급관 24 : 공급오리퍼스
26 : 작업실 28 : 스팀자켓
30 : 스팀노즐 32 : 스팀노즐
38 : 스팀원 46 : 흡입실
50 : 흡입원 54 : 공기노즐
56 : 압축공기원 64 : 로울러
66 : 로울러 72 : 니프
74 : 구동부 90 : 초퍼
96 : 분류기 98 : 연마기
100 : 생성물

Claims (12)

  1. 다음 단계들로 구성된 입상식료품의 응집방법 : (a) 입자의 표면에 유동상을 형성하고, (b) 한쌍의 대립된 무한표면중 적어도 하나상에 입자를 퇴적시키고 그 표면을 니프를 통하여 하향으로 이동시켜서 입자를 니프를 통하여 운송하되, 표면이 니프를 향하여 이동하면서 표면들이 상호 수렴함으로써 입자들을 합체시켜서 입자 표면의 유동상이 합병하여 입자들이 덩어리로 결합하게 하고, (c) 상기한 표면들로부터 덩어리를 제거하고, (d) 유동상을 고형화함으로써 덩어리를 고형화함.
  2. 제1항에 있어서, 식료품이 수용성이고 유동상형성 단계 중에 입자의 표면부에만 물을 가하고, 부가된 물이 입자 전체를 통하여 완전히 평형화되기 전에 입자가 니프를 통과함을 특징으로 하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 표면을 향하여 입자를 투사함으로써 입자를 표면상에 퇴적시키고 입자가 표면을 향하여 이동하면서 입자를 스팀과 접촉시켜서 입자에 물을 가함을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 니프에서의 표면들간의 간격이 니프의 폭을 가로질러서 균일하지 않고, 간격이 더 큰 니프의 부분을 향한 입자들에 적용되는 스팀의 양이 간격이 더 작은 니프의 부분을 향한 입자들에 적용되는 그것보다 더 많음을 특징으로 하는 방법.
  5. 제2항에 있어서, 물질을 건조시켜서 부가된 물을 제거함으로써 상기한 재-고형화단계를 실시하되 덩어리가 상기한 표면으로부터 제거된 후에 이 건조단계의 적어도 대부분이 실시됨을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 니프에서의 상기한 표면들간의 거리가 입자들의 평균 직경보다 더 큰 방법.
  7. 제1항에 있어서, 표면상에 연속적으로 입자들을 퇴적시키고, 니프를 통하여 하향으로 연속적으로 표면을 운동시키되, 덩어리내에 빈 공간이 존재하도록 퇴적속도, 니프에서의 표면들간의 거리 및 운동속도를 선택함을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기한 입상 식료품이 가용성 커피임을 특징으로 하는 방법.
  9. 다음으로 구성된 입상 식료품의 응접장치 : (a) 입상 물질을 제공하는 장치, (b) 각각 무한표면을 갖고 상호 인접하여 설치되어 그 사이에 니프를 형성하고 상기한 무한표면들이 니프를 통하여 연장되고 니프에서 상호 만나게 하는 2개의 대립된 요소, (c) 상기한 무한표면의 연속적인 대립된 부분들이 상기한 니프를 통하여 하향으로 움직이고 이들이 니프를 향하여 하향으로 움직이면서 상호 수렴할 수 있도록 상기한 요소들을 움직이는 장치, (d) 상기한 공급장치에 의하여 상기한 니프의 상류에 공급된 입자들을 상기한 무한표면중 적어도 하나상에 퇴적시키는 장치-이에 의하여 입자들이 니프를 통하여 운반되고 움직이는 무한표면에 의하여 합체된다. (e) 입자들의 합체시에 입자들 위의 유동상이 합병하여 입자들을 덩어리로 결합시킬 수 있도록 입자들이 니프에 도달하기 전에 입자들의 표면에 유동상을 형성시키는 장치, (f) 니프를 통과한 후에 유동상을 재-고형화하는 장치 및 (g) 무한표면으로부터 덩어리를 제거하는 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기한 유동상 형성장치가 입자의 표면에 수분을 가하는 장치를 포함하고, 상기한 재-고형화장치가 무한표면으로부터 덩어리가 제거된 후에 덩어리를 건조시키는 장치를 포함하는 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기한 퇴적장치가 상기한 요소로부터 원거리에 배치된 공급 오리피스와 그리고 이 공급오리피스를 통하여 상기한 요소를 향하여 입자를 투사하는 장치를 포함하고, 상기한 수분-첨가 장치에 입자가 상기한 공급 오리피스로부터 상기한 요소를 향하여 통과하면서 입자에 스팀을 적용하는 장치가 포함됨을 특징으로 하는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 스팀 적용장치가 공급오리피스에 인접하여 배치된 스팀노즐과 그리고 스팀이 상기한 니프를 향한 제트로서 노즐로부터 분출하도록 상기한 노즐에 스팀을 공급하는 장치를 포함하고, 전체장치가 공급오리피스에 인접한 상단, 상기한 요소에 인접한 하단과 이러한 양단간에 연장된 측면벽을 갖는 작업실 및 상기한 측면벽을 따라 건조가스를 투사하는 장치를 더 포함하고, 이 작업실을 통하여 상기 요소를 향하여 입자 및 스팀을 투사할 수 있도록 상기한 공급오리피스 및 상기한 스팀노즐이 작업실의 내부를 향하는 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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