KR860007723A - 기판의 표면검사방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 표면검사장치의 사시도.
제 2 도는 제 1 도에 따른 표면검사장치의 블록도.
제 3 도는 반사율과 검출출력전압과의 관계를 나타낸 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1…기판 2…구동기구
3…광원 4…집광수단
4a,4b,4c…창 5…검출수단
6…광전자증배관 7,35…헤드증폭기
8…보정수단 9…고압전원
10…고압전원제어부 11…필터
12…광변조제어부 13…정반사광
14…절환스위치 15…산란광
21…턴테이블 22,24…모우터
23…락 30…평균부
31…광변조장치 32…광변조제어부
33…증폭율제어부 34…PMT.
Claims (35)
- 기판표면에 광을 조사하여 이 기판표면으로부터의 산란광을 집광하고, 이렇게 집광된 산란광을 검출하여 상기 기판표면을 검사하는 표면검사 방법에 있어서, 상기 기판 표면에 반사율에 응하여 산란광의 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판표면의 산란광의 강도를 근거로 하여 상기 기판표면의 반사율에 따른 보정 제어신호를 출력하고, 이 보정제어신호에 의해 상기 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판 표면 검사방법.
- 제 2 항에 있어서, 조사광으로 상기 기판표면을 주사하여 주사시의 검출신호를 평균화하여, 이 평균화된 신호를 상기보정 제어신호로 하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판표면의 정반사광의 강도를 근거로하여 상기 기판표면의 반사욜에 따른 보정제어신호를 출력하고, 이 보정제어신호에 의해 상기 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사방법.
- 제 4 항에 있어서, 조사광으로 상기 기판표면을 주사하여 주사시의 검출신호를 평균화하고, 이 평균화된 신호를 상기 보정제어신호로 하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사방법.
- 기판표면에 빛을 조사하는 광원과, 이 기판으로부터의 산란광을 집광하는 집광수단과, 상기 집광수단에 의해 집광된 산란광을 검출하는 검출수단을 구비하여 상기 기판표면을 검사하는 기판의 표면검사장치에 있어서, 상기 기판표면의 반사율에 따라서 상기 검출수단의 검출감도를 보정하는 보정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 표면 검사장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 검출수단은 광전자증배관이고, 상기 보정수단은 이 광전자증배관으로의 인가전압을 조정함에 의해 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 차광을 가변의 필터인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 가동조리개인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 검출회로의 증폭율을 조정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 기판표면의 산란광의 강도를 근거로하여 상기 기판표면의 반사율에 따른 보정 제어신호를 출력하는 보정제어신호에 의해 상기 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 보정제어신호 출력수단은 상기 검출 수단의 검출 신호의 평균화한 보정제어신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 검출수단은 광전자증배관이며, 상기 보정수단은 이 광전자증배관으로의 인가 전압을 조정함에 의해 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 차광을 가변의 필터인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 가동조리개인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제11항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 검출회로의 증폭율을 조정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제12항에 있어서, 상기 검출수단은 광전자 증배관이며, 상기 보정수단은 이 광전자증 배관으로의 인가전압을 조정함에 의해 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제12항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 차광을 가변의 필터인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제12항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 가동조리개인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제12항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 검출회로의 증폭율을 조정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제6항에 있어서, 상기 기판표면의 정반사광의 강도를 근거로하여 상기 기판표면의 반사율에 따른 보정제어신호를 출력하는 보정제어신호 출력수단을 다시 설치하고, 상기 보정수단을 이 보정제어신호에 의해 상기 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제21항에 있어서, 상기 보정제어신호 출력수단은 상기 기판 표면의 정반사광을 검출하는 제 2 의 검출수단을 갖으며, 이 제 2 의 검출수단의 검출신호를 평균화한 보정제어신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제22항에 있어서, 상기 제 2 의 검출수단은 광전자증 배관에서 유도되는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제21항에 있어서, 상기 검출수단은 광전자증배관이며, 상기 보정수단은 이 광전자증배관으로의 인가전압을 조정함에 의해 검출감도를 보정할 수 있는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제21항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 차광율가변의 필터인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제21항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 가동조리개인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제21항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 검출회로의 증폭율을 조정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제22항에 있어서, 상기 검출수단은 광전자증배관이며, 상기 보정수단은 이 광전자증 배관으로의 인가 전압을 조정함에 의해 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제22항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 차광율 가변의 필터인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제22항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 가동조리개인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
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- 제23항에 있어서, 상기 검출수단은 광전자증 배관이며 상기 보정수단은 이 광전자증 배관으로의 인가 전압을 조정함에 의해 검출감도를 보정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제23항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 차광율 가변의 필터인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제23항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 전면에 설치된 가동조리개인 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.
- 제23항에 있어서, 상기 보정수단은 상기 검출수단의 검출회로의 증폭율을 조정하는 것을 특징으로 하는 기판의 표면검사장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190110448A (ko) * | 2018-03-20 | 2019-09-30 | 캐논 가부시끼가이샤 | 이물 검사 장치, 처리 장치, 및 물품 제조 방법 |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2680482B2 (ja) * | 1990-06-25 | 1997-11-19 | 株式会社東芝 | 半導体基板、半導体基板と半導体装置の製造方法、並びに半導体基板の検査・評価方法 |
US4740708A (en) * | 1987-01-06 | 1988-04-26 | International Business Machines Corporation | Semiconductor wafer surface inspection apparatus and method |
US4965454A (en) * | 1988-01-21 | 1990-10-23 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for detecting foreign particle |
US4875780A (en) * | 1988-02-25 | 1989-10-24 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for inspecting reticles |
CH681495A5 (ko) * | 1990-03-05 | 1993-03-31 | Tet Techno Investment Trust | |
ES2083526T3 (es) * | 1990-06-21 | 1996-04-16 | Zeneca Ltd | Derivados piranicos biciclicos y su uso como inhibidores de 5-lipoxigenasa. |
US5267381A (en) * | 1991-02-19 | 1993-12-07 | Westinghouse Electric Corp. | Automatic tube processing system |
US5256886A (en) * | 1991-04-30 | 1993-10-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Apparatus for optically detecting contamination in particles of low optical-loss material |
US5189481A (en) * | 1991-07-26 | 1993-02-23 | Tencor Instruments | Particle detector for rough surfaces |
JP3027241B2 (ja) * | 1991-07-30 | 2000-03-27 | 株式会社堀場製作所 | 異物検査装置 |
JP2523227Y2 (ja) * | 1991-07-30 | 1997-01-22 | 株式会社堀場製作所 | 異物検査装置 |
JP2651815B2 (ja) * | 1991-07-30 | 1997-09-10 | 株式会社堀場製作所 | 異物検査装置 |
US5369481A (en) * | 1992-05-08 | 1994-11-29 | X-Rite, Incorporated | Portable spectrophotometer |
JP2800587B2 (ja) * | 1992-10-05 | 1998-09-21 | 松下電器産業株式会社 | 異物検査装置および異物検査方法 |
US5416594A (en) * | 1993-07-20 | 1995-05-16 | Tencor Instruments | Surface scanner with thin film gauge |
US5712701A (en) * | 1995-03-06 | 1998-01-27 | Ade Optical Systems Corporation | Surface inspection system and method of inspecting surface of workpiece |
US6118525A (en) * | 1995-03-06 | 2000-09-12 | Ade Optical Systems Corporation | Wafer inspection system for distinguishing pits and particles |
US6982794B1 (en) * | 1995-06-07 | 2006-01-03 | The Boeing Company | Directional reflectometer |
US5929981A (en) * | 1996-06-18 | 1999-07-27 | Ohmeda Inc. | System for monitoring contamination of optical elements in a Raman gas analyzer |
US6108078A (en) | 1997-11-21 | 2000-08-22 | Kabushiki Kaisha Topcon | Method and apparatus for surface inspection |
JP4215220B2 (ja) * | 1997-11-21 | 2009-01-28 | 株式会社トプコン | 表面検査方法及び表面検査装置 |
US6061140A (en) * | 1999-05-27 | 2000-05-09 | X-Rite, Incorporated | Spectrophotometer with selectable measurement area |
US6366352B1 (en) | 1999-06-10 | 2002-04-02 | Applied Materials, Inc. | Optical inspection method and apparatus utilizing a variable angle design |
DE10083372B4 (de) * | 1999-10-14 | 2010-02-04 | Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp. | Verfahren zum Untersuchen der Oberfläche von Halbleiterwafern |
US6917433B2 (en) * | 2000-09-20 | 2005-07-12 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a property of a specimen prior to, during, or subsequent to an etch process |
US7349090B2 (en) * | 2000-09-20 | 2008-03-25 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a property of a specimen prior to, during, or subsequent to lithography |
US6891627B1 (en) | 2000-09-20 | 2005-05-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a critical dimension and overlay of a specimen |
US6657714B2 (en) * | 2001-09-24 | 2003-12-02 | Applied Materials, Inc. | Defect detection with enhanced dynamic range |
KR100542747B1 (ko) * | 2003-08-01 | 2006-01-11 | 삼성전자주식회사 | 결함 검사 방법 및 결함 검사 장치 |
JP4875936B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2012-02-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 異物・欠陥検出方法および異物・欠陥検査装置 |
WO2008143849A2 (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-27 | Historx, Inc. | Compartment segregation by pixel characterization using image data clustering |
WO2008156669A1 (en) * | 2007-06-15 | 2008-12-24 | Historx, Inc. | Method and system for standardizing microscope instruments |
JP4797005B2 (ja) * | 2007-09-11 | 2011-10-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 表面検査方法及び表面検査装置 |
EP2335221B8 (en) * | 2008-09-16 | 2016-05-25 | Novartis AG | Reproducible quantification of biomarker expression |
US9192110B2 (en) | 2010-08-11 | 2015-11-24 | The Toro Company | Central irrigation control system |
KR20130094083A (ko) * | 2012-02-15 | 2013-08-23 | 삼성전기주식회사 | 레이저 스캔 장치 |
GB201312913D0 (en) * | 2013-07-18 | 2013-09-04 | Perkinelmer Ltd | Sample spinners and spectrometers including sample spinners |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD49060B (ko) * | ||||
BE558271A (ko) * | 1956-06-13 | |||
US3229564A (en) * | 1961-05-12 | 1966-01-18 | Bausch & Lomb | Reflectometer |
US3340400A (en) * | 1964-06-11 | 1967-09-05 | Api Instr Company | Dual channel flaw detector having phase comparison feedback for automatic balancing |
AT351295B (de) * | 1977-12-09 | 1979-07-10 | Vianova Kunstharz Ag | Anordnung zur messung des glanzvermoegens von oberflaechen, insbesondere organischer ueberzuege |
DE2924241A1 (de) * | 1979-06-15 | 1981-01-08 | Basf Ag | Goniophotometer zur messung des glanzes und/oder des glanzschleiers von oberflaechen |
US4360275A (en) * | 1980-08-11 | 1982-11-23 | Litton Systems Inc. | Device for measurement of optical scattering |
US4352017A (en) * | 1980-09-22 | 1982-09-28 | Rca Corporation | Apparatus for determining the quality of a semiconductor surface |
-
1986
- 1986-03-27 US US06/844,601 patent/US4902131A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-27 KR KR1019860002296A patent/KR910000794B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-04-01 DE DE8686104444T patent/DE3673226D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-04-01 EP EP86104444A patent/EP0200918B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190110448A (ko) * | 2018-03-20 | 2019-09-30 | 캐논 가부시끼가이샤 | 이물 검사 장치, 처리 장치, 및 물품 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR910000794B1 (ko) | 1991-02-08 |
EP0200918A1 (en) | 1986-11-12 |
DE3673226D1 (de) | 1990-09-13 |
EP0200918B1 (en) | 1990-08-08 |
US4902131A (en) | 1990-02-20 |
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DE69212333D1 (de) | Methode und system zur kontrolle eines materialabtragprozesses; wobei man die spektralausstrahlung analysiert | |
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G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
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