KR860001888A - 펠릿 냉각 방법과 장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

펠릿 냉각 방법과 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

도면은 본 발명에 의한 공법을 실시하기 위한 냉각장치의 단면개략도.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1:원추형용기 2:원추형경사부 4:입상자물질공급관 9:원추형안내면 11:가스공급관 18:제1냉각가스공급관 19:제2냉각가스공급관 20:가스분배기

Claims (23)

1. 해면철 또는 소결펠릿과 같은 입자상 물질을 700∼1000℃의 온도로부터 예컨대, 100℃ 미만의 온도로 냉각시키기 위해서 앞의 공정단위에서 나오는 입자상물질을 밸브를 갖춘 수직의 냉각장치의 상부로 공급관을 통해서 공급하여 냉각 가스와 접촉시킨 다음 그 냉각된 물질을 그 냉각장치의 저부 중심에 배치된 배출기를 통해서 배출시키는 것으로서, 냉각 가스를 수직형 냉각장치의 중심으로 공급하여 제1의 냉각가스 흐름은 냉각장치의 상부에서 중력에 의해 냉각장치로 흘러들어오는 물질의 유동방향에 대하여 횡방향으로 유동하도록 하는 한편, 제2의 냉각 가스 흐름은 그 물질의 유동방향에 대하여 역류하도록 함과 아울러 제1 및 제2의 냉각 가스흐름의 양은 서로 반비례관계로 조절하여 최대의 냉각효과를 얻어냄을 특징으로 하는 냉각방법.
2. 제1항의 것으로서, 냉각가스의 배출은 상부의 출구를 통해서 이루어지게끔 하는 한편 그 배출되는 냉각 가스의 온도는 열전소자의 같은 것으로 검출해냄을 특징으로 하는 냉각방법.
3. 제2항의 것으로서, 제1 및 제2의 냉각가스흐름간의 비율은 그 냉각 가스 배출구에서의 온도에 따라서 냉각가스유입 파이프에 달린 하나 또는 그 이상의 제어밸브를 동착시키는 자동제어장치에 의해서 조절함을 특징으로 하는 냉각 방법.
4. 제3항의 것으로서, 제1 및 제2 냉각 가스흐름의 분포량은 배출되는 냉각 가스의 온도가 최대로 되게끔 조절함을 특징으로 하는 냉각방법.
5. 제1∼4항중 어느한 항의 것으로서 먼지를 함유하고서 냉각장치를 떠나는 고온의 냉각가스는 청정압축하여 재순환시킴을 특징으로 하는 냉각방법.
6. 제1∼5항중 어느 한항의 것으로서, 입자상 물질이 중력에 의해 냉각장치를 통과하는 속도는 냉각장치 저부의 배출기에 의해서 결정되게끔 함을 특징으로 하는 냉각방법.
7. 제1∼6항중 어느한 항의 것으로서, 냉각 가스의 총 흐름량은 배출기로 결정되는 냉각 장치의 생산속도에 따라서 조절됨을 특징으로 하는 냉각방법.
8. 제1∼7항중 어느 한항의 것으로서, 해면철을 냉각시킬 경우에는 냉각가스로서 주로 N₂와 또는 CO₂와 아울러 CO 및 H를 선택적으로 첨가하여 구성한 가스를 사용함을 특징으로 하는 냉각방법.
9. 제1∼7항중 어느 한항의 것으로서, 소결펠릿을 냉각시킬 경우에는 냉각 가스로서 공기를 사용함을 특징으로 하는 냉각방법.
10. 제1∼9항중 어느 한 항의 것으로서, 입자상 물질의 입자크기는 4∼25㎜의 범위에 존재하도록 함과 아울러, 4㎜미만의 입자크기를 갖는 물질의 비율은 10∼15%를 초과하지 못하도록 함을 특징으로 하는 냉각방법.
11. 제1∼10항중 어느 한 항의 것으로서, 크기가 25㎜를 초과하는 입자는 냉각장치로 들어가기 전에 분리시켜 버림을 특징으로 하는 냉각방법.
12. 제1항의 방법을 실시하여 해면철 또는 소결펠릿과 같은 입자상물질을 700∼1000℃의 온도로부터 예컨대, 100℃ 미만의 온도로 냉각시키기 위해서 저부를 원추형으로하고 가스가 새지 못하도록 함과 아울러 중력에 의해서 물질이 이동하도록 한 수직의 단열원주형용기, 가능한 밸브를 갖춘 입자상물질 공급파이프, 원추형용기의 저부에 장치하여 물질의 유동속도를 결정하도록 한 배출기, 용기의 내부에 물질 공급관의 중심선을 따라서 하방으로 일정한 거리상에 꼭지점이 위치하도록 설치하는 원추형 안내면, 냉각가스로 하여금 상기한 안내면 하방으로 유동하여 용기로 떨어져들어도는 고온의 입자상물질에 대하여 횡방향으로 흐르도록하는 제1냉각 가스공급 파이프, 용기의 저부원추형 부분의 중심에 배치한 제2 냉각 가스 공급장치로부터 냉각가스가 흘러나와 상기의 낙하하는 입자상물질에 대하여 역류하도록하는 제2 냉각가스 공급 파이프 및 냉각 가스의 상부를 통해서 나오는 가스 배출구로 구성한 냉각장치.
13. 제12항의 것으로서, 원추형 안내면의 정부각은 물질의 낙하 각도와 일치하도록 조정한 냉각장치.
14. 제13항의 것으로서, 물질공급 파이프의 길이와 직경은 그 파이프속의 물질 기둥이 냉각가스로 하여금 더 높은 위치에 있는 부분들로 흘러가지 못하도록 하게끔 조정한 냉각장치.
15. 제14항의 것으로서, 물질공급관은 언제나 그 속에 최소한 부분적으로는 물질이 채워져 있게끔 장치한 냉각장치.
16. 제12∼15항중 어느 한항의 것으로서, 냉각가스가 횡방향으로 흐르는 곳에 있는 원추형 안내면상으로 낙하하는 물질층의 두께는 물질 공급관의 출구와 그 안내면의 첨단간의 거리를 조정함으로써 조정하는 냉각장치.
17. 제12∼16항중 어느 한 항의 것으로서, 그 용기의 저부원추형 부분에 있는 가스분산장치에는 하방을 향하여 최소한 하나의 가스공급장치를 설치하여 그 곳으로부터 가스가 흘러나와 상승하도록하여 그 용기의 저부 원추형 벽과 가스 분산장치간의 환상 간격을 통해 낙하하는 입자상물질에 대하여 역류하게끔 한 냉각장치.
18. 제17항의 것으로서 가스 분산장치에는 직경이 감소하는 여러개의 가스 공급구를 갖추어놓은 냉각장치.
19. 제17 또는 제18항의 것으로서, 상기한 가스 공급구를 통한 가스의 흐름은 드로틀 디스크에 의해서 조절하는 냉각장치.
20. 제19항의 것으로서, 가스 공급구는 동심환으로 형성시킨 냉각 장치.
21. 제12∼20항중 어느 한항의 것으로서, 그 용기의 출구에 장치하는 포켓형상의 가스 차단장치 및 이것에 접속시키는 밀폐 파이프를 갖추도록 하는 한편, 이 밀폐 파이프의 길이 및 직경은 그 속의 물질기둥이 냉각가스의 흐름을 사실상 차단할 수 있는 정도로 한 냉각장치.
22. 제21항의 것으로서, 그 용기의 출구에 장치한 상기의 포켓에 밀폐 가스공급장치로 해서 압력평형을 이루어내는 냉각장치.
23. 제12∼22항중 어느한 항의 것으로서, 그 용기출구의 배출기는 회전밸브로 구성한 냉각장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.