KR860000547A - 고분자 감온 체 - Google Patents

고분자 감온 체 Download PDF

Info

Publication number
KR860000547A
KR860000547A KR1019850004161A KR850004161A KR860000547A KR 860000547 A KR860000547 A KR 860000547A KR 1019850004161 A KR1019850004161 A KR 1019850004161A KR 850004161 A KR850004161 A KR 850004161A KR 860000547 A KR860000547 A KR 860000547A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polymer
group
compound
thermal element
alkyl
Prior art date
Application number
KR1019850004161A
Other languages
English (en)
Other versions
KR900003402B1 (ko
Inventor
도미하루 호사카 (외 2)
Original Assignee
야마시다 도시히꼬
마쓰시다 덴기산교 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 야마시다 도시히꼬, 마쓰시다 덴기산교 가부시기가이샤 filed Critical 야마시다 도시히꼬
Publication of KR860000547A publication Critical patent/KR860000547A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR900003402B1 publication Critical patent/KR900003402B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Cookers (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

고분자 감온 체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도면은 매트릭스에 첨가하는 화합물 A1,B1의 비율과 내습성의 관계를 표시한 것이다.

Claims (10)

  1. 폴리아미드 성분을 함유한 고분자 매트릭스중에 탄소수 11~36의 알킬기를 갖인 페놀계 화합물 A와 페놀계 화합물의 알데히드축 중합체 B를 함유시킨 고분자 감온 체.
  2. 제1항에 있어서, 폐놀계 화합물 A가 옥시안식향산 알킬에스텔, 지옥시안식향산알킬에스텔, 몰식자산알킬에스텔, 및 알킬페놀으로부터 완성된 군(群)에서 선택된 적어도 1종인 고분자 감온체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 탄소수 11~36이 알킬기가 도대실기, 스테아릴기 및 펜타코실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 고분자 감온체.
  4. 제1에서 부터 제3항의 어느것인가에 있어서, 페놀계 화합물의 알데히드축 중합체 B가 옥시안식향산 알킬에스텔, 할로겐화페놀 및 알킬페놀로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1가지의 포름알데히드축 중합체인 고분자 감온체.
  5. 제4항에 있어서, 옥시안식향산알킬에스텔의 포름 알데히드축 중합체의 알킬기가, 프릴기, 헥실기 및 옥틸기로 이루어진 군으로부터 선택되는 고분자 감온체.
  6. 제1항에서 부터 제5항의 어느 것인 가에 있어서, 상기 화합물 A와 화합물 B의 중량비 A/B가 0.2~5인 고분자 감온체.
  7. 제1항에서 부터 제6항의 어느 것인가에 있어서, 폴리아미즈 성분이 폴리운데칸아미노 및 폴리도데칸 아미노로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나인 고분자 감온체.
  8. 제1항에서 부터 제6항의 어느 것인가에 있어서, 폴리아미드 성분을 함유한 고분자 매트릭스가 결정성 폴리아미노와 저결정성 공중합 폴리아미노와의 혼합물로 이루어진 고분자 감온체.
  9. 제8항에 있어서, 결정성 폴리아미노가 폴리운데칸아미노 또는 폴리도데칸아미드이고, 저결정 성폴리아미노가 N-알킬치환아미드 성분을 함유한 폴리아미드, 에텔아미드 성분을 함유한 폴리아미노중의 적어도 1가지인 고분자 감온체.
  10. 제1항에서부터 제10항의 어느 것인가에 있어서, 상기 화합물 A와 화합물 B와의 합계가 고분자 매트릭스 100중량부에 대하여 5~30 중량부인 고분자 감온체.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850004161A 1984-06-15 1985-06-13 고분자 감온체 KR900003402B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59-123045 1984-06-15
JP59123045A JPS612301A (ja) 1984-06-15 1984-06-15 高分子感温体
JP123045 1984-06-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR860000547A true KR860000547A (ko) 1986-01-29
KR900003402B1 KR900003402B1 (ko) 1990-05-18

Family

ID=14850841

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019850004161A KR900003402B1 (ko) 1984-06-15 1985-06-13 고분자 감온체

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4603179A (ko)
JP (1) JPS612301A (ko)
KR (1) KR900003402B1 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH061723B2 (ja) * 1984-12-27 1994-01-05 東レ株式会社 感熱性素子
JPS61154102A (ja) * 1984-12-27 1986-07-12 東レ株式会社 感熱性素子
US5492980A (en) * 1992-10-12 1996-02-20 Kishimoto Sangyo Co., Ltd. Thermoplastic molding resin composition
JP3037525B2 (ja) * 1993-04-12 2000-04-24 松下電器産業株式会社 発熱シート
US6563940B2 (en) * 2001-05-16 2003-05-13 New Jersey Institute Of Technology Unauthorized user prevention device and method
JP6386362B2 (ja) * 2014-12-12 2018-09-05 上野製薬株式会社 ポリアミド樹脂組成物
CN114058033B (zh) * 2021-12-20 2024-06-04 河南省科学院同位素研究所有限责任公司 一种温度敏感型水凝胶的制备方法及其制备的温度敏感型水凝胶产品

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1383940A (en) * 1971-12-14 1974-02-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Polymeric thermodetective material
US3899462A (en) * 1974-03-29 1975-08-12 Gen Motors Corp Reinforced polyamide molding composition
JPS6019516B2 (ja) * 1977-08-31 1985-05-16 カシオ計算機株式会社 画面編集方式

Also Published As

Publication number Publication date
US4603179A (en) 1986-07-29
JPH0247084B2 (ko) 1990-10-18
JPS612301A (ja) 1986-01-08
KR900003402B1 (ko) 1990-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR860002839A (ko) 자성 복합물
MY115318A (en) Liquid epoxy resin composition.
KR860000547A (ko) 고분자 감온 체
KR900014516A (ko) 방향족 폴리카보네이트 수지 조성물
KR870006137A (ko) 폴리에스테르 조성물
KR860000414A (ko) 방식 재조성물
KR880002050A (ko) 고내열성 포지티브형 포토레지스트 조성물
KR920005874A (ko) 초컬릿
KR900002125A (ko) 내식막 조성물
KR880005477A (ko) 액정 중합체
EP0151763A3 (en) Stabilized fluoropolymer composition
JPS57167369A (en) Adhesive for polyester
EP0905184A3 (en) Aromatic polycarbonate resin composition
KR860000342A (ko) 고분자 감온체
KR860003001A (ko) 돌출실이 구비된 자궁내 기구
JPS57143348A (en) Modified polyester composition
KR910002613A (ko) 감열 기록장치
KR920001242A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR910014122A (ko) 에토포시드-2-디메틸아미노 화합물의 동결건조 제제
JPS55127553A (en) Photosensitive composition
KR960022843A (ko) 필름용 폴리아미드 조성물
KR910008152A (ko) 규소를 알루미늄에 첨가하는 방법
KR920000899A (ko) 내열성이 우수한 접착제 조성물
EP0029090A3 (en) Sulfon amides containing a hindered phenol; stabilized composition containing a synthetic polymer and said sulfon amides
JPS55118937A (en) Stabilized synthetic resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19950518

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee