KR850007075A - 폴리실란에 의한 비닐단량체의 광활성 중합방법 - Google Patents

폴리실란에 의한 비닐단량체의 광활성 중합방법 Download PDF

Info

Publication number
KR850007075A
KR850007075A KR1019850001272A KR850001272A KR850007075A KR 850007075 A KR850007075 A KR 850007075A KR 1019850001272 A KR1019850001272 A KR 1019850001272A KR 850001272 A KR850001272 A KR 850001272A KR 850007075 A KR850007075 A KR 850007075A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
aliphatic
composition
aromatic
polysilane
phenethyl
Prior art date
Application number
KR1019850001272A
Other languages
English (en)
Other versions
KR910001023B1 (ko
Inventor
죠오지 피터슨 도날드
Original Assignee
도날드밀러쎌
미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도날드밀러쎌, 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니 filed Critical 도날드밀러쎌
Publication of KR850007075A publication Critical patent/KR850007075A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR910001023B1 publication Critical patent/KR910001023B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/12Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/12Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
    • C08F283/124Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes on to polysiloxanes having carbon-to-carbon double bonds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

폴리실란에 의한 비닐단량체의 광활성 중합방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (22)

  1. 비닐단량체 또는 전중합체와; (2)사슬화된 실리콘원자의 주쇄를 갖으며 250-400나노미터 파장의 전자기적 에너지를 흡수하는 5×102-5×106의 분자량(Mn)을 갖는 폴리실란의 혼합물을 단량체 또는 전중합체의 중합정도가 증가할때까지 250-400나노미터 파장의 방사선에 노출시키는 것을 특징으로 하는 폴리실란에 의한 비닐 단량체의 광활성 중합방법.
  2. 제1항에 있어서, 혼합물은 (1)과 (2)전체중량에 대해 0.01-10중량%의 (2)롤 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 혼합물은 또한 유기아민활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 혼합물은 비닐단량체 또는 전중합체, 폴리실단과 유기아민활성제 전체중량에 대해 각각 0.01-10중량%의 폴리실란과 유기아민활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제3항에 있어서, 아민활성제는 36이하의 탄소원자를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 폴리실란은 하기식인 것을 특징으로 하는 방법.
    여기서 Ra,Rb,Rc와 Rd는 각각 18탄소원자 이하를 포함하는 지방족, 방향족 치환된 방향족, 알지방족과 사이크로지방족기로부터 선택되며 y와 x는 1-19,000까지의 수이고 y와 x는 1-19,000까지의 수이고 y와 xs의 합은 2-20,000이다.
  7. 제6항에 있어서, Ra,Rb,Rc와 Rd는 각각 페닐, 메틸, 사이크로헥실, 페네틸과 P-메틸페닐로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제6항에 있어서, Ra는 방향족 또는 알알킬이며 Rb,Rc와 Rd는 지방족인 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제6항에 있어서, Rb와 Rc는 방향족 또는 알알킬이며 Rb와 Rd는 지방족인 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제6항에 있어서, Ra는 페닐 또는 페네틸, Rb,Rc와 Rd는 지방족이고 X대 Y의 비율은 3:1-1:20으로 변화하는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제6항에 있어서, Ra와 Rc는 같으며 페닐과 페네틸로 부터 선택되고 Rb와 Rd는 같으며 지방족, 방향족, 치환된 방향족, 알지방족과 사이크로지방족기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. (1)비닐 단량체 또는 전중합체와; (2)사슬화된 실리큰원자의 주쇄를 갖으며 250-400나노미터 파장범위의 전자기적 에너지를 흡수하는 5×102-5×106의 분자량을 갖는 폴리실란의 혼합물로 구성되는 것을 특징으로 하는 광중합될 수 있는 조성물.
  13. 제12항에 있어서, (1)과 (2)전체중량에 대해 0.01-10중량%의 (2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제12항에 있어서, 유기아민활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 비닐단량체 또는 전중합체, 폴리실란과 유기아민활성제의 전체중량에 대해 각각 0.01-10중량%의 폴리실란과 유기아민 활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제14항에 있어서, 아민활성제는 36이하의 탄소원자를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제12항에 있어서, 폴리실란은 하기식을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
    여기서 Ra,Rb,Rc와 Rd는 각각 18탄소원자이하를 포함하는 지방족, 방향족, 치환된 방향족, 알지방족과 사이크로 지방족기로부터 선택되며 y와 x의 합은 2-20,000이다.
  18. 제17항에 있어서, Ra,Rb,Rc와 Rd는 각각 페닐, 메틸, 사이크로헥실, 페네틸과 p-메틸페닐로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제17항에 있어서, Ra는 방향족 또는 알알킬이며, Rb,Rc와 Rd는 지방족인 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제17항에 있어서, Ra와 Rc는 방향족 또는 알알킬이며, Rb와 Rd는 지방족인 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제17항에 있어서, Ra는 페닐 또는 페네틸, Rb,Rc와 Rd는 지방족이며 X대 Y의 비율은 3:1-1:20으로 변화하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제17항에 있어서, Ra와 Rc는 같으며 페닐과 페네틸로부터 선택되고 Rb와 Rd는 같으며 지방족, 방향족, 치환된 방향족일지방족과 사이크로지방족기로 부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850001272A 1984-02-28 1985-02-28 폴리실란에 의한 비닐단량체의 광활성 중합방법 KR910001023B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US584504 1984-02-28
US06/584,504 US4548690A (en) 1984-02-28 1984-02-28 Photoactivated polymerization of vinyl monomers in the presence of polysilanes and amines

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR850007075A true KR850007075A (ko) 1985-10-30
KR910001023B1 KR910001023B1 (ko) 1991-02-19

Family

ID=24337584

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019850001272A KR910001023B1 (ko) 1984-02-28 1985-02-28 폴리실란에 의한 비닐단량체의 광활성 중합방법

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4548690A (ko)
EP (1) EP0154519B1 (ko)
JP (1) JPH0670089B2 (ko)
KR (1) KR910001023B1 (ko)
AU (1) AU573781B2 (ko)
CA (1) CA1256642A (ko)
DE (1) DE3564119D1 (ko)
DK (1) DK168955B1 (ko)
ZA (1) ZA851195B (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5017406A (en) * 1988-12-08 1991-05-21 Dow Corning Corporation UV curable compositions cured with polysilane and peroxide initiators
JPH0649148A (ja) * 1992-07-31 1994-02-22 Shin Etsu Chem Co Ltd ポリシラン−オレフィン系ポリマー共重合体の製造方法
US6197844B1 (en) 1996-09-13 2001-03-06 3M Innovative Properties Company Floor finish compositions
JP7024532B2 (ja) * 2018-03-19 2022-02-24 株式会社リコー 組成物、硬化物、収容容器、像形成装置、及び像形成方法
JP2020015790A (ja) * 2018-07-24 2020-01-30 株式会社リコー 硬化型組成物、硬化型インク、収容容器、2次元又は3次元の像形成装置、2次元又は3次元の像形成方法、硬化物、及び印刷物

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1034902A (en) * 1973-12-13 1978-07-18 Unisearch Limited Curable pre-polymer compositions
JPS52112700A (en) * 1976-02-28 1977-09-21 Tohoku Daigaku Kinzoku Zairyo Amorphous organopolysilicone composite for preparing silicone carbide
US4260780A (en) * 1979-11-27 1981-04-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Phenylmethylpolysilane polymers and process for their preparation
US4276424A (en) * 1979-12-03 1981-06-30 Petrarch Systems Methods for the production of organic polysilanes
US4314956A (en) * 1980-07-23 1982-02-09 Dow Corning Corporation High yield silicon carbide pre-ceramic polymers
US4324901A (en) * 1981-04-29 1982-04-13 Wisconsin Alumni Research Foundation Soluble polysilastyrene and method for preparation
JPS6049647B2 (ja) * 1981-09-18 1985-11-02 株式会社日立製作所 光又は放射線硬化性ポリオルガノシロキサン組成物

Also Published As

Publication number Publication date
DK168955B1 (da) 1994-07-18
EP0154519A3 (en) 1986-11-12
CA1256642A (en) 1989-06-27
US4548690A (en) 1985-10-22
KR910001023B1 (ko) 1991-02-19
AU3916285A (en) 1985-09-05
EP0154519B1 (en) 1988-08-03
JPS60210604A (ja) 1985-10-23
EP0154519A2 (en) 1985-09-11
JPH0670089B2 (ja) 1994-09-07
AU573781B2 (en) 1988-06-23
DE3564119D1 (en) 1988-09-08
DK84985D0 (da) 1985-02-25
DK84985A (da) 1985-08-29
ZA851195B (en) 1986-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR920005968A (ko) 모발 처리 조성물
KR970071135A (ko) 화학 증폭 포지형 레지스트 재료
KR960017807A (ko) 카르바메이트 첨가제를 함유하는 경화성 코팅 조성물
KR880011211A (ko) 중합성 화합물 및 이를 함유하는 방사선-중합성 혼합물
KR860700257A (ko) 아크릴 별모양 중합체
KR840001343A (ko) 방사(radiation)중합성 혼합물과 이들로부터 제조되는 광중합성복사물
ATE226224T1 (de) Polymermaterial bestehend aus n, p, s, as oder se und zusammensetzung für ladungstransportmaterial
KR890000614A (ko) 방오용 페인트
KR940014470A (ko) 포지티브 포토레지스트로서 유용한 중합체 및 이를 포함하는 조성물
KR910009862A (ko) 피복 조성물
KR970069941A (ko) 시멘트 분산 방법 및 시멘트 조성물
KR960017808A (ko) 카르바메이트 수지 및 카르바메이트 첨가제를 함유하는 경화성 코팅 조성물
KR960022899A (ko) 카르바메이트 및 아크릴아미드 작용성 성분을 포함하는 피복 조성물
KR890017278A (ko) 광개시제 공중합체
KR850007075A (ko) 폴리실란에 의한 비닐단량체의 광활성 중합방법
KR960038483A (ko) 네가티브형 포토레지스트조성물
KR910009818A (ko) 내마모성 폴리옥시메틸렌 수지 조성물 및 이의 제조방법
EP0795765A3 (en) Photopolymerizable composition and transparent cured product thereof
KR970027119A (ko) 아세탈기를 함유하는 알콕시-스틸렌 중합체와 그의 제조방법 및 알콕시-스틸렌 중합체를 주요 구성성분으로 하는 화학증폭형 포토레지스트 재료
KR910006437A (ko) 염기성 콜로이드성 실리카를 함유하는 방사선 경화 가능한 투명한 피복 조성물
KR880009092A (ko) 메틸실록산 조성물
EP0208972A3 (en) Polysilane-siloxane oligomers and copolymers and methods of making the same
KR840006353A (ko) 내마모성이 우수한 염소성 피복조성물
KR960705793A (ko) 에테르화된 알킬 또는 아릴카바밀메틸화된 아미노트리아진 및 이를 함유하는 경화성 조성물(etherified alkyl or arylcarbamylmethylated aminotri-azines and curable compositions containing the same)
JPS5586848A (en) Coating composition having excellent functional characteristic

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19950208

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee