KR840006478A - 벤조 트리아졸의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (11)
- a) 일반식(Ⅱa)의 벤조트리아졸을 R5그룹을 도입시키기에 적절한 황산 또는 설폰산 에스테르와 함께 또는, 황산 또는 설폰산 에스테르의 존재하에 또는 통상적인 상전이 촉매의 임의 존재하에 브롬화물, R5Br과 함께 가열시키거나 :b) 일반식(Ⅲ)화합물을 적절한 황산 또는 설폰산 에스테르 또는 소량의 통상적인 상전이 촉매의 존재하에 가열시키거나 ;c) 일반식(Ⅳ)의 α-할로니트로벤젠을 불활성용매중에서 염기성 물질의 존재하에 일반식(Ⅴ)의 히라진과 반응시키거나 ;d) 일반식(Ⅵ)의 벤조트리아졸을 질소원자에서 치환시키고, 경우에 따라 공정 a) 내지 c)에 따라 수득된 N-옥사이드를 환원시켜 n이 0인 일반식(Ⅰ)화합물을 수득함을 특징으로하여 일반식(Ⅰ)화합물을 제조하는방법.상기식에서n은 0 또는 1을 나타내고 ;R1, R2, R3및 R4는 H, F, 염소, 브롬, CF3, CH1-4알킬, OR, SOR또는 SR(여기서 R은 임의로 산소-차단된 및/또는 염소-치환된 C1-6알킬그룹, 임의로 치환된 아르알킬그룹 또는 임의로 치환된 아릴그룹을 나타낸다)을 나타내나, 이중 H는 세번까지 존재할 수 있고, CN, OR 및 SR은 2번까지 존재할 수 있으며, CF3는 한번밖에 존재할 수 없으며 ;R5는 염소에 의해 임의로 치환된 C1-8알킬그룹 또는 C3-6알케닐그룹을 나타내고 ;단, 만약 n이 1이고 R4가 수소를 나타내면 R1및 R3가 염소를 나타내고 R3가 수소를 나타내는 경우와 R1, R2및 R3가 염소를 나타내는 경우가 제외되고 Hal은 불소, 염소 또는 브롬을 나타낸다.
- 제1항에 있어서, n이 0인 화합물을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, n이 1인 화합물을 제조하는 방법.
- 제1,2 또는 3항에 있어서, R5가 메틸인 화합물을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 3-메틸-4-클로로-벤조트리아졸을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 3-메틸-4,5-디클로로 벤조트리아졸을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 3-이소프로필-4,5-디클로로-벤조트리아졸을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 3-메-4-틸클로로-5-플루오로-벤조트리아졸-N-옥사이드를 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 3-메틸-5-플루오로-6-클로로-벤조트리아졸-N-옥사이드를 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 3-메틸-4,5,6,7-테트라클로로-벤조트리아졸-N-옥사이드를 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 3-메틸-4-클로로-벤조트리아졸-N-옥사이드를 제조하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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