KR840001562B1 - 4-아미노-1, 2-하이드로카빌 피라졸리딘의 제조방법 - Google Patents

4-아미노-1, 2-하이드로카빌 피라졸리딘의 제조방법 Download PDF

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에이·에이취·로빈스 캄파니 인코포레이티드
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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Abstract

내용 없음.

Description

4-아미노-1,2-하이드로카빌 피라졸리딘의 제조방법
본 발명은 구토 및 위공복감 억제에 유용한 N-(1,2-하이드로카빌-4-피라졸리디닐) 벤즈아미드 제조시 중간체로 유용한 다음 일반식(I)의 4-아미노-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘의 신규 제조방법에 관한 것이다.
Figure kpo00001
상기식에서
R1및 R2는 같거나 다를 수 있으며, 저급알킬, 저급사이클로알킬 및 페닐-저급알킬중에서 선택된다.
본 발명은 신규의 4-니트로-1,2-하이드로 카빌-피라졸리딘을 경유하여, 4-아미노-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 4-니트로-1,2-하이드로 카빌-피라졸리딘은 아직까지 기술된 적이 없으며, 1,2-이치환된 히드라진과 1,3-비스-(이치환된 아미노)-2-니트로 프로판으로부터의 제조방법도 신규한 방법이다. 4-아미노-1,2-하이드로 카빌-피라졸리딘은 이전에 본 발명의 방법에 의해 제조된 적은 없었으나, 미합중국 특허원 제041,461호(미합중국 특허 제4,207,327호)에 기술된 벤즈아미드의 제조에 사용된 공지 화합물이다.
상기 특허에 의하면, 4-아미노-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘은 4-할로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘 및 암모니아로 부터 제조된다.
본 발명에 따르면, 일반식(IV)의 1,2-이치환된 히드라진 산염을 일반식(III)의 1,3-비스-(이치환된 아미노)-2-니트로프로판과 반응시켜 일반식(II)의 신규 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 생성시킨 다음, 생성된 화합물을 환원시킴을 특징으로하는 일반식(I)의 4-아미노-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘의 제조방법이 제공된다.
Figure kpo00002
상기식에서
R1및 R2는 같거나 다를 수 있으며, 저급알킬, 저급 사이클로알킬 또는 페닐저급 알킬이고; R3,R4,R5및 R6는 같거나 다를 수 있으며, 저급 알킬이고,
R3및 R4또는 R5및 R6가 인접한 질소원자와 함께는 헤테로사이클릭 잔기를 형성할 수 있으며
X는 산음이온이다.
본 발명의 방법에서는 환원반응을 수행하기전에 초기 용액으로부터 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 분리할 필요가 없다.
일반식(II)의 신규 4-니트로-1,2-하이드로카빌 피라졸리딘은 본 발명의 전구체로 사용된다.
일반식(I)의 4-아미노-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘은 본 발명의 최종 생성물로서, R1및 R2가 상기 정의한 바와 같은 상기 벤즈아미드를 제조하는데 유용하다.
또한, 본 발명은 위장 장해 치료에 유용한 N-(4-피라졸리디닐)-벤즈아미드를 제조하기 위한 4-아미노-1,2-하이드로카빌 피라졸리딘 중간체를 생성하는 신규의 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘 중간체도 제공한다.
따라서 본 발명에는 4-니트로 및 4-아미노-1,2-하이드로카빌 피라졸리딘을 제조하는 신규 방법이 포함된다.
본 발명은 본 발명을 수행하는데 있어서 최선의 방법에 대한 다음의 설명과 첨부된 특허청구범위로 부터 본 분야의 숙련가에게 명백해질 것이다.
본 발명에 따르는 일반식(I) 및 (II)의 제조방법은 다음과 같다:
제1단계에서, 이치환된 히드라진산염(IV)을 1,3-비스(이치환된 아미노)-2-니트로프로판(III)과 반응시켜 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘(II)을 수득하며 다음 반응도식으로 나타낼 수 있다.
Figure kpo00003
상기식에서
R1,R2,R3,R4,R5,R6및 X는 상기에서 정의한 의미와 같다.
제2단계에서, 상기 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘(II)을 환원시켜 상응하는 4-아미노-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘(I)을 수득하며, 다음 반응도식으로 나타낼 수 있다 :
Figure kpo00004
상기식에서 R1및 R2는 상기 정의한 의미와 같다. 몇가지 환원제가 니트로화합물을 아미노유도체로 전환시키는데 사용되며, 예를들면 금속 촉매, 아세트산 용매 중의 철분말, 염기성 알콜수용액 중의 아연분, 주석-염산, 수소화물(수소화 알루미늄 리튬 및 디보란), 티오황산나트륨 또는 황화암모늄을 사용하여 수소로 촉매 수소화할 수 있다.
[참조 : Beuler, C.A. ＆ Pearson, D.E. “Survey of Organic Synthesis” I and II (1970 and 1977) Chapter 8 each volume, Wiley Interscience Publ., N.Y., N.Y.]
본 명세서에서 사용된 용어 “저급알킬”은 탄소수 1 내지 8의 직쇄 및 측쇄라디칼을 말하며, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 3급부틸, 아민, 이소아밀, n-헥실, n-헵틸 및 n-옥틸 라디칼이 있다. “저급알콕시” 라디칼은 -O-저급알킬로 표시할 수 있다.
본 명세서에 사용된 용어 “저급사이클로알킬”은 탄소원자를 3개 내지 12개까지 함유하는 사이클릴 알킬 라디칼을 말하며, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 메틸-사이클로펜틸, 에틸-사이클로헥실 등이 포함된다.
본 명세서에 사용된 용어 “페닐-저급알킬”은 비치환된 페닐-저급알킬라디칼 및 본 반응조건하에서 반응성이 없거나 방해하지 않는 라디칼, 예를들면 저급알킬, 저급알콕시, 트리플루오로메틸, 할로, 아세트아미도, 설팜옥실 등과 같은 라디칼로 치환된 페닐 저급알킬라디칼을 말한다. 치환된 페닐-저급알킬 라디칼은 페닐환상에 상기와 같은 치환기 3개까지를 갖는 것이 바람직하고, 이들 치환기는 폐닐핵의 여러 유용한 위치에 존재할 수 있으며, 치환기가 1개 이상 존재할 경우 이들은 같거나 다를 수 있으며, 서로서로 상대적으로 여러 위치에 존재할 수 있다. 저급알킬 및 저급알콕시 치환기 각각은 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 측쇄가 바람직하다. 폐닐-저급알킬에 존재하는 폐닐환상의 치환기로는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 플루오로, 브로모, 클로로, 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 부톡시 라디칼이 바람직하다.
용어 “폐닐-저급알킬”에는 벤질, 펜에틸, 펜프로필, α-메틸벤질 등이 포함된다.
헤테로사이클릭 잔기로는 피롤리디노, 모폴리노, 피폐리디노, 피폐라지노 등이 있다.
1단계에서 출발물질로 사용된 일반식(IV)의 1,2-이치환된 히드라진은 공지 방법에 의해 제조된다. 대칭의 1 및 2-이치환된 저급알킬 히드라진은 문헌 (참조 : “Organic Synthesis”II, p.208 내지 211]에 기술된 방법에 의해 제조되며, 비대칭의 1 및 2-이치환된 저급알킬 및 사이클로알킬 히드라진은 문헌 [참조 : “Chemistry of Open Chain Organic Nitrogen Compounds” by Smith, P.A.S., vol.2, Chapter 2, publ. W.A. Benjamin, Inc. N,Y. (1966)]에 기술된 방법에 의해 제조된다. 대칭의 폐닐저급알킬 및 치환된-폐닐-저급알킬히드라진은 상응하는 페닐 및 치환된 페닐-저급알킬아진을 디보란과 반응시킴으로써 제조된다. 비대칭의 1-페닐-저급알킬-2-저급알킬 또는 1-페닐-저급알킬-2-사이클로알킬 히드라진은 미합중국특허 제3,660,426호의 방법에 의해 제조된다. 대칭의 1,2-사이클로알킬-히드라진은 문헌 [참조 : Cope, A.C. 및 Engelhart, J.E. in J. Amer, Chem. Soc. 90, 7092-7096]에 기술된 방법에 의해 제조된다.
일반식(III)의 1,3-비스-(이치환된 아미노)-2-니트로-프로판 출발물질은 문헌 [참조 : Zeif, M. Mason, J.P. in J. Org. Chem, 8, 1-5(1943)]에 기술된 방법, 예를들면 모폴린과 포름알데히드를 반응시킨 다음 니트로메탄과 반응시킴으로써 제조된다.
단계 1에서 1,2-이치환된 히드라진산염(IV)과 1,3-비스(이치환된 아미노)-2-니트로프로판(III)을 실온 내지 150℃, 바람직하게는 60 내지 80℃에서 비간섭용매 또는 용매혼합물 중에서 반응시킨다. 적합한 용매로는 메탄올, 에탄올, 2-메톡시에탄올, 이소프로판올 및 알콜과 방향족 용매(예, 톨루엔, 벤젠 등)의 혼합물이 있다. 알콜과 할로겐화된 용매의 혼합물을 사용할 수도 있다. 히드라진의 산염으로는 염산염, 하이드로겐 설페이트 등이 적절하다. 아민염산염, V 및 VI은 여과하여 분리한다.
단계 1의 반응에서, 니트로프로판상의 1,3-위치에서 존재하는 -NR3R4및 -NR5R6는 전이성이며, 양자수용체로 제공되고, 피라졸리딘 구조에서 나타나지 않는다. 따라서. 본 정의의 범위내에 있는 니트로 프로판상의 -NR3R4또는 -NR5R6는 1,2-이치환된 히드라진 산염과 반응하여 동일한 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 생성시킬 수 있다. 그런데, 바람직한 구조는 부반응이 보다 적게 일어나는 정도에서 R3및 R4와 R5및 R6가 인접된 질소원자와 함께 형성한 헤테로사이클릭잔기 예를들면 모폴린, 피롤리딘, 피페리딘이다. 상기의 헤테로사이클릭 잔기중, 1,3-디모폴린을 사용하는 것이 본 발명의 바람직한 태양이다.
따라서, 니트로 프로판 출발물질로는 1,3-디모폴리노-2-니트로 프로판이 바람직하다. 바람직한 1,2-이치환된 히드라진은 1,2-디에틸 히드라진이며 그의 산염으로는 이염산염이 바람직하다.
상술한 바와 같이, 다음단계를 진행하기전 1단계에서 용액으로 부터 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 모두 분리시킬 필요가 없으며 단지 아민염 V 및 VI을 여과 제거하는 것이 필요하다. 그러나, 실질적으로 순수한 형태의 개별적 실체로서 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 제조하는 방법을 포함하는 본 발명에서, 반응 혼합물의 용매를 증발시키고 잔사를 톨루엔과 같은 비극성 용매에 용해시킨 다음 생성된 아민 염산염 V 및 VI을 여과시켜 제거한다. 다음에는 비극성 용매를 증발시켜 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘(II)을 수득한다. 이어서 화합물을 추가로 칼럼 크로마토그라피하여 정제한다. 바람직한 1,3-디모폴리노-2-니트로프로판을 사용할 경우, V 및 VI은 동일하며, 예를들면 모폴리노 염산염이다.
[실시예 1]
4-니트로-1,2-디에틸-피라졸리딘
메탄올 28ml 및 톨루엔 16ml의 혼합물 중의 1,2-디에틸 히드라진 이염산염 4.03g(0.025몰) 및 1,3-디모폴리노-2-니트로프로판 6.72g(0.026몰)의 교반된 용액을 3시간 동안 환류 가열한다. 용매를 감압하에 증발시키고, 잔사를 톨루엔 중에 재현탁시킨다. 고체(대부분 모폴린 염산염)를 여과하여 제거하면 톨루엔 중에 표제화합물의 용액이 남는다. 톨루엔을 증발시켜, 약간의 불순물이 있는 표제화합물의 유리염기 5.1g을 오일로서 수득한다. 톨루엔을 용출제로 사용하여 플로리실(Florisil)상에서 칼럼크로마토 그라피한 다음 감압하에 톨루엔을 증발시켜 순수한 표제화합물을 오일로서 수득한다. 생성물은 다음과 같은 특징을 나타내었다.
적외선 스펙트럼(CHCl3미크론) : 6.46(s), 6.94(M), 7.27(s) 및 (9.82(M) ;
핵자기 공명(CDCl3,δ) : 5.18(m, 1H), 3.47(m,4H)에서 무게 중심을 갖는 3.16 내지 3.75, 2.56(q,7.7Hz, 4H), 1.07(t,7.7Hz, 6H); 질량스펙트럼 : M+173.
[실시예 2]
4-니트로-1,2-디이소프로필-피라졸리딘
실시예 1의 방법에 따라서. 1,2-디에틸히드라진 이염산염 대신에 동물량의 1,2-디이소프로필 히드라진 이염산염을 사용하여 표제 화합물을 수득한다.
[실시예 3]
4-니트로-1,2-디에틸-피라졸리딘
빙욕중에서, 디에틸 히드라진 이염산염 일수화물 1.8g(0.011몰)을 약 5분 동안 교반하면서 에탄올 20ml중의 탄산칼륨 3g(0.022몰)의 현탁액에 가한다. 다음에는 1,3-비스-디메틸아미노-2-니트로프로판 1.92g(0.011몰)을 가하여 실온에서 2.5시간 동안 계속 교반한다. 알콜성 용액을 고체로부터 경사시키고 증발시켜 짙은 오일을 수득한다. 디에틸 에테르를 가하여 현탁액을 제조한 다음 황산 마그네슘을 가하고, 액체부분을 분리하여 증발시켜 오일을 얻는다. 핵자기 공명으로 생성물이 약간의 출발니트로 화합물로 오염되었음을 확인하였다.
[실시예 4]
4-니트로-1,2-비스(4-메톡시벤질) 피라졸리딘
먼저 P-메톡시벤즈알데히드 2몰을 이소프로필 알콜중에 10℃에서 히드라진 1몰과 반응시켜 디-(4-메톡시벤질) 아진을 제조한다. 아진을 10℃이하, 질소 대기하에 테트라하이드로푸란 중에서 디보란과 반응시켜 디-(4-메톡시벤질) 히드라진을 수득하여 오일로서 분리한다. 다음에는 이소프로판올 중에서 염화수소 개스와 혼합한 다음. 이어서 메틸렌클로라이드 및 톨루엔을 가하여 비스-(4-메톡시벤질)히드라진 이염산염을 백색고체로서 수득한다(아진에 대해 81% 수율).
1,2-디-(4-메톡시벤질) 히드라진 (3.5g, 0.01몰) 및 1,3-디모폴린-1,2-니트로프로판(2.6g, 0.01몰)을 메탄올 30ml 및 톨루엔 20ml의 혼합물 중에 현탁시켜 3시간 동안 환류 가열한다. 반응혼합물을 증발건고 시키고, 잔사를 톨루엔으로 추출하여 여과한다. 톨루엔 여액을 증발시켜 갈색오일 3.5g을 수득한 다음 10% 디에틸 에테르 -90% 메틸렌클로라이드를 사용하여 실리카겔상에서 칼럼크로마토그래피시켜 정제한다. 핵자기공명 및 질량 스펙트럼으로 표제화합물의 구조를 확인한다. 오일은 실온에서 하룻동안 정치시킨 후 고화된다.
[실시예 5]
실시예 1의 방법에 따라, 1,2-디-에틸 히드라진 염산염 대신 동몰량의 1,2-디사이클로헥실 히드라진 이염산염, 1-사이클로헥실-2-메틸 히드라진 이염산염, 1-이소프로필-2-메틸 히드라진 이염산염, 1-에틸-2-메틸 히드라진 이염산염, 1-이소프로필-2-에틸 히드라진 이염산염, 1-벤질-2-메틸 히드라진 이염산염, 1-벤질-2-에틸 히드라진 이염산염, 1-사이클로헥실 2-에틸 히드라진 이염산염, 1,2-디벤질 히드라진 이염산염, 1-(4-메톡시벤질)-2-에틸 히드라진 이염산염을 사용하여 4-니트로-1,2-디사이클로헥실-피라졸리딘, 4-니트로-1사이클로헥실-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-이소프로필-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-에틸-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-이소프로필-2-에틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-벤질-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-벤질-2-에틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-사이클로헥실-2-에틸-피라졸리딘, 4-니트로-1,2-디벤질-피라졸리딘, 4-니트로-1-(4-메톡시벤질)-2-에틸-피라졸리딘을 수득한다.
[실시예 6]
4-아미노-1,2-디에틸-피라졸리딘
톨루엔 100ml 중의 4-니트로-1,2-디에틸-피라졸리딘 대략 3.0g(0.016몰)의 용액에 무수 에탄올 60ml 및 라니닉켈(무수 에탄올로 3회 세척)을 가한다. 혼합물을 약 30p.s.i에서 3시간 동안 수소화한다. 혼합물을 여과하여 담황색용액을 얻는다. 용매를 감압하에 증발시키면 표제 생성물 1.95g이 무색의 액체로 수득된다(비점 : 113 내지 115℃/40mm). 디말리에이트의 융점은 119 내지 120℃이다.
[실시예 7]
4-아미노-1,2-디에틸-피라졸리딘
메탄올 28ml 및 톨루엔 16ml의 혼합물 중의 1,2-디에틸히드라진 이염산염 4.03g(0.025몰) 및 1,3-디모폴리노-2-니트로프로판 6.72g(0.026몰)의 교반된 용액을 3시간 동안 환류 가열한다. 용매를 감압하에 증발시키고, 잔사를 톨루엔 100ml 중에 재현탁시킨다. 고체 모폴린 염산염을 여과하여 제거하면 용액 중에 4-니트로-1,2-디에틸-피라졸리딘의 용액이 남는다. 톨루엔 용액에 무수에탄올 60ml 및 라니닉켈 2g(무수 에탄올로 3회 세척)을 가한다. 혼합물을 약 30psi 수소압에서 수소화한 후 질소하에 조심스럽게 여과하여 발화를 방지한다. 용매를 증발시키고 감압하에 증류하면 무색의 액체 생성물 1.95g(디에틸히드라진에 대한 계산치 54% 수율)이 수득된다(비점 : 113 내지 115℃/40mm).
[실시예 8]
실시예 6의 방법에 따라 4-니트로-1,2-디에틸-피라졸리딘 대신 동몰량이 4 니트로-1,2-디사이클로헥실-피라졸리딘, 4-니트로-1-사이클로헥실-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-이소프로필-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-에틸-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-이소프로필-2-에틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-벤질-2-메틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-벤질-2-에틸-피라졸리딘, 4-니트로-1-사이클로헥실-2-에틸-피라졸리딘, 4-니트로-1,2-디벤질-피라졸리딘, 4-니트로-1,2-(4-디메 톡시벤질)피라졸리딘, 4-니트로-1-(4-메톡 시벤질)-2-에틸-피라졸리딘을 사용하여 4-아미노-1,2-디사이클로헥실-피라졸리딘, 4-아미노-1-사이클로헥실-2-메틸-피라졸리딘, 4-아미노-1-이소프로필-2-메틸-피라졸리딘, 4-아미노-1-에틸-2-메틸-피라졸리딘, 4-아미노-1-이소프로필-2-에틸-피라졸리딘, 4-아미노-1-벤질-2-메틸-피라졸리딘, 4-아미노-1-벤질-2-에틸-피라졸리딘, 4-아미노-1-사이클로헥실-2-에틸-피라졸리딘, 4-아미노-1,2-디벤질-피라졸리딘, 4-아미노-1,2-디(4-메톡시벤질)피라졸리딘, 4-아미노-1-(4-메톡시벤질)-2-에틸-피라졸리딘올 수득한다.
[실시예 9]
실시예 7의 방법에 따라, 1,2-디에틸-히드라진 이염산염 대신 동몰량의 1-(4-클로로벤질)-2-에틸 히드라진 이염산염, 1,2-디(4-클로로벤질)히드라진 이염산염, 1,2-디(4-트리플루오로메틸벤질)히드라진 이염산염, 1,2-디(4-아세트 아미도벤질)히드라진 하이드로겐 설페이트, 1,2-디(4-설팜옥시벤질)히드라진 이염산염, 1,2-디(4-부톡시벤질)히드라진 인산염을 사용하여 4-아미노-1-(4-클로로벤질)-2-에틸 피라졸리딘, 4-아미노-1,2-디(4-클로로벤질)피라졸리딘, 4-아미노-1,2-디(트리플루오로메틸벤질) 피라졸리딘, 4-아미노-1,2-디(4-아세트 아미도벤질) 피라졸리딘, 4-아미노-1,2-디(4-설팜옥시벤질)피라졸리딘, 4-아미노-1,2-디(부톡시벤질)피라졸리딘을 수득한다.
[실시예 10]
4-아미노-1,2-디이소프로필-피라졸리딘
실시예 6의 방법에 따라, 4-니트로-1,2-디에틸-피라졸리딘 대신 동몰량의 4-니트로-1,2-디이소프로필-피라졸리딘을 사용하여 표제 화합물을 수득한다.
[실시예 11]
4-아미노-1,2-디이소프로필-피라졸리딘 푸마레이트
[1 : 2], 헤미하이드레이트
실시예 9에서 수득된 유리염기를 푸마르산과 반응시켜 융점이 157 내지 161℃인 표제 화합물을 수득한다.
[실시예 12]
실시예 4의 방법에 따라, 디(p-메톡시벤질)히드라진 대신 동몰량의 디-(3,4,5-트리메톡시벤질)히드라진, 비스-(2,4-디메톡시벤질)히드라진, 비스-(2,4-디메틸벤질)히드라진, 디-(α-메틸벤진) 히드라진, 비스-(2,4-디메톡시페닐에틸)히드라진을 사용하여 4-니트로-1,2-디[(3′4′,5′-트리메톡시)벤질] 피라졸리딘, 4-니트로-1,2-비스[(2′,4′-디메톡시)벤질] 피라졸리딘, 4-니트로-1,2 -비스 [(2′,4′-디메틸)벤질] 피라졸리딘, 4-니트로-1,2-디[(α-메틸벤질)] 피라졸리딘, 4-니트로-1,2-비스 [(2′,4′-디메톡시)페닐에틸] 피라졸리딘을 수득한다.
[실시예 13]
실시예 6의 방법에 따라, 4-니트로-1,2-디에틸-피라졸리딘 대신 동몰량의 4-니트로-1,2-디 [(3′,4′,5′-트리메톡시)벤질] 피라졸리딘, 4-니트로-1,2-비스 [(3′,4′-디메톡시)벤질] 피라졸리딘, 4-니트로-1,2-비스[(2′,4′-디메틸)벤질] 피라졸리딘, 4-니트로-1,2-디 (α-메틸벤질)피라졸리딘, 4-니트로-1,2-비스 [(2′,4′-디메톡시)페닐에틸] 피라졸리딘을 사용하여 4-아미노-1,2-디 [(3′,4′,5′-트리메톡시)벤질] 피라졸리딘, 4-아미노-1,2-비스 [(3′,4′-디메톡시)벤질] 피라졸리딘, 4-아미노-1,2-비스 [(2′,4′-디메틸)벤질]피라졸리딘, 4-아미노-1,2-비스(α-메틸벤질)피라졸리딘, 4-아미노-1,2-비스[(2′,4′-디메톡시)페닐에틸] 피라졸리딘을 수득한다.

Claims (1)

  1. 일반식 (IV)의 이치환된 히드라진 산염을 일반식(III)의 1,3-비스(이치환된 아미노)-2-니트로 프로판과 반응시켜 일반식(II)의 4-니트로-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 생성시킨 다음, 생성된 화합물을 환원시킴을 특징으로 하여, 일반식(I)의 4-아미노-1,2-하이드로카빌-피라졸리딘을 제조하는 방법.
    Figure kpo00005
    상기식에서 R1및 R2는 같거나 다를 수 있으며, 저급알킬, 저급사이클로알킬 또는 페닐저급알킬이고 ; R3, R4, R5및 R6는 같거나 다를 수 있으며, 저급알킬이고, R3및 R4또는 R5및 R6가 인접한 질소원자와 함께는 헤테로사이클릭 잔기를 형성할 수 있으며 ; X는 산 음이온이다.
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