KR840001186B1 - 벤즈옥사졸론의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

벤즈옥사졸론의 제조방법
본 발명은 하기 일반식(II)로 표시되는 살리실아미드로 부터 하기 일반식(I)로 표시되는 벤즈옥사졸론을 제조하는 방법에 관한 것이다.
Figure kpo00001
이 벤즈옥사졸론은 포살론(phosalone)이라 알려지고 있는 살충제 등의 합성에 유용한 중간체로서 영어로는 특히, 벤즈옥사졸리논이라 불려질 때도 있다.
이 벤즈옥사졸론은 수산화나트륨(NaOH)의 조재하에 살리실아미드와 하이포아염과를 반응시키는 방법(Grabe & Rostovzeff, Ber., 35권, 2747페이지, 1902년)에 의해 이미 제조되어 왔다. 이로부터 50년이 경과된 후에 상기 방법은 아루쿠스 및 그린우드(Arcus and Green Wood)씨에 의해 확인되어 알카리제의 농도가 높으면 수율이 보다 좋아진다는 것이 알려진다(J. Chem. Soc., 1953년 1937∼1940페이지).
본 발명의 목적은 살리실아미드로부터 벤즈옥사졸론은 보다 고수율로 얻은 방법을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 하나의 목적은 과량의 반응 혼합물을 처리하지 않기 위하여 상당히 농축된 반응 매질 중의 살리실아미드로부터 벤즈옥사졸론을 얻는 방법을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 다른 목적의 하나는 반응 매질을 목적하는 데로 교반할 수 있고, 또 균일하게 할 수 있도록 상당히 유동성인 반응 매질로부터 벤즈옥사졸론을 얻는 방법을 제공하는데에 있다.
본 발명자들은 물과 수산기 이온, 나트륨 이온 및 칼륨이온의 존재하에 살리실아미드와 하이포아염소산이온과를 반응시킴을 특징으로 하여 살리실아미드로부터 벤즈옥사졸론을 제조하는 본 발명의 방법에 의해 전술한 목적들의 전부 또는 일부를 달성할 수가 있음을 발견하였다.
본 반응은 하기와 같이 간단하게 나타낼 수가 있다.
Figure kpo00002
반응 매질중의 하이포아염소산 이온의 농도는 일반으로 0.05내지 3g이온/리터이며, 0.1내지 1.5 이온/리터가 바람직하고, 반응 매질중의 수산기 이온의 농도는 일반으로 1.5내지 8g이온/리터이며, 2.5내지 6g이온/리터가 바람직하다. 또 반응 매질중의 살리실 아미드의 농도는 일반으로 0.2내지 4몰/리터이며, 0.5 내지 2몰/리터가 바람직하다.
Na+이온과 K+이온수의 비율은 일반으로 Na+이온과 K+이온 농도의 비율, 즉
Figure kpo00003
이 0.1내지 2, 바람직하게는 0.3내지 1.5가 되도록 한다.
반응 온도는 일반으로 0내지 50℃이며, 10내지 30℃가 바람직하다.
본 발명의 방법은 하이포아염소산 알카리 금속 용액과 살리실아미드 알카리 용액과를 혼합 반응시킴으로서 용이하게 수행할 수가 있다. 이를테면, 살리실아미드 알카리 용액에 대해서는 수산화나트륨(NaOH)이나 수산화칼륨(KOH)중에 하이포아 염소산나트륨이나 하이포아염소산 칼륨을 용해시킨 용액을 사용할수 있다. 그러나, 바람직한 방법에 의하면, 수산화칼륨을 함유하는 살리실아미드 수용액과 하이포아염산 나트륨 수용액과를 혼합 반응시킨다.
반응이 종료된 후에는 생성된 벤즈옥사졸론을 그 자체의 공지된 방법에 의해 단리시킨다. 즉, 과잉의 하이포아염소산염을 환원제로 파괴 공격하고, 필요에 따라서는 반응매질의 가열을 행하여 보다 유동성을 띄게 한 다음 중화시킨다. 중화가 종료되면 벤즈옥사졸론이 석출되는데, 이 석출물을 여과나 경사 분리 또는 기타 상응하는 방법에 의해 얻을 수가 있다.
본 발명의 반응 물질로 사용하는 살리실아미드는 공지의 물질로서, 살리실아미드의 단리형, 용액형 또는 조(粗)생성 물형으로 하여 사용하여도 좋다.
본 명세서에 의하면 살리실아미드는 아주 용이하게 사용되는 물질이며, 본 방법은 살리실아미드의 반응도 포함된다고 서술되어 있는 사실을 주목해야 한다. 그러나, 실제의 반응 조건하에서 살리실아미드는 염(CONH2기로 치환된 알카리금속 석탄산염)의 형태로 사용하여도 좋다. 따라서, 본 명세서에 있어서, 살리실아미드라는 용어는 석탄산염의 형태도 포함된다는 사실을 이해하여야 한다.
하기에 실시예들을 열거하여 본 발명을 보다 상세하게 서술하겠으며, 이들 실시예들만으로 본 발명의 범위가 한정되지는 않는다.
[실시예 1]
살리실아미드 3몰/리터와 수산화칼륨(330cc) 9.3몰/리터와의 수용액에 하이포아염소산트륨 2.17몰/리터와 염화나트륨(505cc) 2.2몰/리터와의 수용액을 28℃에서 75분에 걸쳐 서서히 첨가 교반하고 첨가 종료 후에 또 120분간 교반을 행하였다.
다음에 아황산나트륨 Na2SO3(8g, 0.064몰)을 첨가하여 과잉의 하이포아염소산염을 제거하였다.
다음에 70℃에서 혼합물을 가열함과 동시에 교반하면서 여기에 황산(230cc) 7.1몰/리터의 수용액을 첨가하고 얻어지는 혼액을 40℃로 냉각한 다음 여과를 행하였다.
삭출물을 물로 수세하여 살리실아미드의 사용량에 대하여 수율이 96%인 벤즈옥사졸론을 얻었다.
[실시예 2]
살리실아미드 3.0몰/리터와 수산화칼륨(330cc) 9.3몰/리터와의 수용액에 하이포아염소산 나트륨 2.10몰/리터와 염화나트륨(525cc) 2.2몰/리터와의 수용액을 10℃에서 90분에 걸쳐서 서서히 첨가 교반하고 첨가 종료 후에 또 120분간 교반을 행한 것을 제외하고는 실시예 1의 조작대로 반복 행하였다.
아황산나트륨(11g, 0.087몰)을 첨가한 다음, 25℃에서 교반을 행하면서 염산(280cc) 11.5몰/리터의 수용액을 첨가하고 얻어지는 혼액을 실온에서 여과하여 석출물을 물로 씻어주면 벤즈옥사졸론이 수율 95%로서 얻어졌다.
Na+유도체와 K+유도체중 하나만을 사용한 것을 제외하고 실시예 1 및 2의 조작을 반복 행하는 경우에는 반응매질의 교반이 아주 어려워지기 때문에 염이 다량으로 석출되어 그 결과, 물을 상당량으로 희석시켜야만 되며, 또 거품이 다량으로 생성되기 때문에 반응의 진행이 또한 어려워진다.

Claims (1)

  1. 다음 일반식(II)로 표시되는 살리실아미드 유도체와 하이포아염소산 이온을 물과 수산기 이온, 나트륨 이온 및 칼륨 이온의 존재하에 반응시킴을 특징으로 하는 다음 일반식(I)로 표시되는 벤즈옥사졸론의 제조방법.
    Figure kpo00004
    (상기 식(II)에서, R은 수소원자 또는 알카리 금속이다.)
KR1019800002431A 1979-06-20 1980-06-20 벤즈옥사졸론의 제조방법 KR840001186B1 (ko)

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