KR830007762A - 개량된 방사선 중합조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

개량된 방사선 중합 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (27)

  1. 광중합성 원자단과 수지에 대한 용매를 함유하는 폴리아미드 에스테르수지로구성된 조성물에 있어서, (a) 방사선에 예민한 중합성 다기능 아크릴레이트화합물과 (b) 방향족 비이미다졸의 광중합개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 갸량된 방사중합조성물.
  2. (a) 상기 1항에 있어서 수지 중량기준으로 중합성 다기능 아크릴 레이트 호합물 약 5-30중량%와 (b) 수지중량으로 광중합 개시제 약 0.5-15중량%로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 개량된 피복 조성물.
  3. 상기 2항에 있어서 폴리아미드 에스테르수지가 하기 구조식을 갖는 개량된 조성물.
    상기식에서, →는 이성상태이고, R은 방향족 라디칼, R1은 광중합성 올레핀 이중결합을 갖는 유기라디칼, R2는 방향족, 지방족 또는 환지방족 라디칼이며 n은 수지가 겔침투 크로마토그라피에 의해서 결정된 약 5,000-75,000의 분자량을 갖도록 충분한 정수이다.
  4. 상기 3항에 있어서 폴리아마이드에스테르수지의 R이 피로멜리트이 무수물이고, R1이 하이드록시알킬메타크릴레이트 또는 하이드록시알킬메타크릴레이드 또는 하이드록시알킬아크릴레이트이며 R2는 방향족 디아민인 조성물,
  5. 상기 3항에 있어서 중합성 다기능 아크릴레이트가 트리메틸렌프로판트리메타크릴레이트, 트리메틸을 프로판트리아크릴레이트, 트리메틸을프로판에톡실레이트트리메타크릴레이트, 트리메틸을프로판에톡실레이트트리아크릴레이트, 트리메틸을프로판폴리에톡실레이트트리메타크릴레이트, 트리메틸을프로판폴리에톡실레이트트리아크릴레이트, 펜타에리트리롤트리아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레얀, 폴리메틸렌디아크릴레이트, 폴리메틸렌디메타크릴레얀, 트리메틸렌글리콜디메타크릴레이트와 이들의 혼합물로부터 선정되는 조성물.
  6. 상기 제3항에 있어서 수지중량기준으로 류코염료가 알킬아미노-방향족 알칸인 조성물,
  7. 상기 6항에 있어서 류코염료가 알킬아미노-방향족-알칸인 조성물
  8. 상기 5항 또는 6항에 있어서 광중합 개시제가 비스(2-0-클로로페닐-4,5-디페닐이미다졸일)또는 비스〔2-0-클로로-페닐-4,5-디(m-메톡시페닐이미다졸일〕인 조성물.
  9. 상기 5항 또는 6항에 있어서 광중합 개시제외에, 수지중량기준으로 감광제 약 0.1-10중량%를 함유하는 조성물.
  10. 상기 3항에 있어서 폴리아마드이에스테르수지가 히드록시에틸메타크릴레이트로에스테르화되고 옥시디아닐과 반응된 피로멜리트 이수화물종에 있고, 다기능 아크릴레이트 화합물이 약 500-1500의 평균분자량을 갖는 트리메틸을프로판폴리에틸옥실레이트이고, 광중합 개시제가 비스(2-0-클로로페닐-4,5-디페닐이미다졸일)이면 조성물이 수지중량기준으로 트리스(디에틸아미노-0-톨일)메틴 약 0.1-10중량%와 테트라메틸디아미노벤조페논의 감광제 약 0.1-10중량%를 함유하는 조성물.
  11. 상기 3항에 있어서 폴리아마이드에스테르가 히드록시에틸메타크릴레이트로 에스테르화되고 옥시디아닐린과 반응되는 피로멜리트 이무수물중에 있고, 다기능 아크릴레이트가 트리메틸을 프로판트리메타크릴레이트 또는 트리메틸을 프로판트리크릴레이트이고, 중합개시제가 비스(2-0-클로로페닐-4,5-디페닐이미다졸일)이며 조성물이 수지중량기준으로 트리스(디에틸아미노-0-톨일)메탄 약 0.1-10중량%와 테트라메틸디아미노벤조페논의 감광제 약 0.1-10중량%를 함유하는 조성물.
  12. 상기 3항, 10항 또는 11항의 조성물로부터 형성된 중합된 폴리아마이드 구조층으로 피복돈 전기장치.
  13. 상기 12항에 있어서 콘텐서, 반도체, 다층회로 또는 통합회로인 전기장치.
  14. 광중합성 원자단과 수지에 대한 용매를 함유하는 폴리아마이드에스테르수지로 구성된 조성물에 있어서, 방향족 비이미다졸의 광중합개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 매량된 방사중합조성물.
  15. 상기 14항에 있어서 수지가 상기 3항의 수지구조를 갖는 조성물.
  16. 상기 15항에 있어서 폴리아마이드에스테르수지가 히드록시에틸메타크릴레이트로 에스테르화되고 옥시디아닐란과 반응되는 피로멜리트 이무수물중에 있고, 광중합 개시제가 비스〔2-0-클로로페닐-4,5-디(메톡시페닐)이미다졸일〕이며 테트라메틸디아미노벤조페논의 감광제 약 0.1-10중량%를 함유하는 조성물
  17. 광중합운지단, 수지에 대한 용매와 광중합개시제를 함유하는 폴리아미드 에스테르수지로 구성된조성물에 있어서, 중합성 다기능 아크릴레이트 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 개량된 방사중합조성물.
  18. 상기 17항에 있어서 수지중량기준으로 다기능 아크릴레얀화합물 약 5-30중량%를 함유하는 조성물
  19. 상기 제17항에 있어서 중합성 다기능 아크릴레이트가 트리메틸을프로판트리메타크릴레이트, 트리메틸을프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레얀, 트리메틸올프로판 폴리에톡실레이트트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡실레이트트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜리메타크릴레이트, 폴리메틸렌디아크릴레이트, 폴리메틸렌디베타크절레이트, 트리메틸렌글리콜디메타크릴레이트 및 그 혼합물들로부터 선정되는 조성물.
  20. 약각구조가 용매에 용해할 수 있고 방사선에 예민한 폴리아마이드에스테르수지 조성물을 기판에 이용하고, 조성물을 건조하고, 조성물을 방사선에 노출하고, 노출되지 않은 부분을 용해하고 열저항 폴리아마이트구조를 형성하기 위해서 행성된 양각구조를 베이킹하는 것으로 구성된 안정한 열저항 폴리아미드물질을 함유하는 전지장치에 대한 양각구조를 형성하는 방법에 있어서, (a) 방사선에 예민한 중합성 다기능 아크릴레이트 화합물과 (b) 방향비이미다졸의 광중합 개시제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전기구조에 대한 양각구조 형성방법.
  21. (a) 수지중량기군으로 중합성 다기능 아크릴레이트 화합물 약 5-30중량%와 (b) 상기 20항에 있어서 수지중량기준으로 광중합개시재 약 0.5-15%중량으로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 상기 21항에 있어서 폴리아마이드에스테르수지가 다음 구조식을 갖는 개량된 방법
    상기식에서 → 는 이성상태이고, R은 방향족 라디칼이며, R1은 광중합성 올레핀 이중결합을 갖는 유기라디칼이고, R2는 방향족, 지방족 또는 환식지방족 라디칼이고 n은 겔침투 크로마토그라피에 의해서 약 5,000-75,000의 평균분자량을 수지에 부여하기에 충분히 큰 정수임.
  23. 상기 22항에 잇어서 폴리아마이드에스테르의 R이 피로멜리트이무수이며, R1이 하이드록시알킬메타크릴레이트 도는 히드록시알킬아크릴레이트이며 R'는 옥시디아닐린인 개량된 방법.
  24. 상기 23항에 있어서 방사선에 예민한 중합성 다기능 아크릴레이트화합물이 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 트레메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡실레이트트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡실레이트트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판폴리에톡실레이트트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜터아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레트, 폴리메틸렌디아크릴레이트, 폴리메틸렌디메타크릴레이트, 트리메틸렌글리콜디메타크릴레이트 및 그 혼합물로부터 선정되는 개량된 방법.
  25. 상기 24항에 있어서 중합개시제가 비스〔2-0-클로로페닐-4,5-디(메톡실메틸)이미다졸일〕과 비스(2-0-클로로페닐-4,5-디페닐이미다졸일)로부터 선정되는 개량된 방법.
  26. 상기 25항에 있어서 수지중량기준으로 테트라메틸디아미노벤조페논 약 0.1-10중량%를 함유하는 개량된 방법.
  27. 상기 26항에 있어서 수지중량기준으로 테트라메틸디아미노벤조페논 약 0.1-10중량%를 함유하는 개량된 방법
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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