KR20240072025A - 광학 필름 - Google Patents

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KR20240072025A
KR20240072025A KR1020230125441A KR20230125441A KR20240072025A KR 20240072025 A KR20240072025 A KR 20240072025A KR 1020230125441 A KR1020230125441 A KR 1020230125441A KR 20230125441 A KR20230125441 A KR 20230125441A KR 20240072025 A KR20240072025 A KR 20240072025A
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hard coat
optical film
film
antifouling
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KR1020230125441A
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료타로 요코이
카즈키 타나카
히데히코 안도
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

광학 필름(100)은 투명 필름 기재(10)의 일주면 상에 하드코트층(11)을 구비하고, 하드코트층 상의 최표면층으로서 방오층(7)을 구비한다. 광학 필름의 반사율은 1% 이상이다. 광학 필름은 방오층측의 면의 올레산 접촉각이 70° 이상이며, 방오층측의 면의 산술 평균 높이 Sa가 0.1∼1㎛이다. 본 발명의 광학 필름은 지문 등의 오염이 부착된 경우의 오염이 눈에 띄기 어렵고, 또한 부착된 오염 물질의 닦아냄 제거성이 우수하고 있다.

Description

광학 필름{OPTICAL FILM}
본 발명은 방오층을 구비하는 광학 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 광학 필름을 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
화상 표시 장치의 최표면에 배치되는 반사 방지 필름이나 비산 방지 필름, 창유리나 쇼윈도우에 접합시키는 윈도우 필름 등의 광학 필름은 외부로부터 접촉가능한 상태로 사용되기 때문에, 지문이나 손때 등에 의한 오염의 영향을 받기 쉽다. 그 때문에, 외부 환경으로부터의 오염 방지나, 부착된 오염 물질의 제거를 용이하게 하는 목적으로 방오층이 형성되어 있다.
예를 들면, 특허문헌 1에는 하드코트 필름 상에, 굴절률이 상이한 복수의 박막의 적층체로 이루어지는 반사 방지층을 구비하고, 반사 방지층 상에 방오층을 구비하는 광학 필름이 개시되어 있다. 특허문헌 2에는 하드코트 필름 상에, 무기 산화물의 하지층을 구비하고, 하지층 상에 방오층을 구비하는 광학 필름이 개시되어 있다.
국제공개 제2021/106797호 국제공개 제2022/014570호
광학 필름의 최표면에 방오층이 형성되어 있음으로써, 지문 등의 오염 물질의 부착을 방지할 수 있지만, 오염 물질의 부착을 완전히 방지할 수 있는 것은 아니다. 특허문헌 1에 기재되어 있는 바와 같이, 굴절률이 상이한 복수의 박막의 적층체로 이루어지는 반사 방지층 상에 방오층을 구비하는 광학 필름은 저반사율이기 때문에 외광의 비침이 작아 시인성이 우수하지만, 지문 얼룩이 부착되었을 때에 얼룩이 눈에 띄기 쉽다. 특허문헌 2에 기재되어 있는 광학 필름은 지문 얼룩의 닦아냄 제거성이 충분하지 않다.
본 발명은 지문 등의 오염이 부착된 경우의 오염이 눈에 띄기 어렵고, 또한 부착된 오염 물질의 닦아냄 제거성이 우수한 광학 필름의 제공을 목적으로 한다.
본 발명의 일실시형태에 따른 광학 필름은 투명 필름 기재의 일주면 상에 하드코트층을 구비하고, 하드코트층 상의 최표면층으로서 방오층을 구비한다. 광학 필름은 하드코트층과 방오층 사이에, 광학 조정층을 구비하고 있어도 좋다.
광학 필름은 방오층측의 면의 올레산 접촉각이 70° 이상이며, 방오층측의 면의 산술 평균 높이 Sa가 0.1∼1㎛인 것이 바람직하다. 광학 필름의 반사율은 1% 이상이 바람직하다. 광학 필름의 헤이즈는 2% 이상이 바람직하다.
하드코트층은 입자지름이 1∼10㎛인 미립자(마이크로 입자)를 포함하고 있어도 좋다. 하드코트층에 있어서의 마이크로 입자의 양은 0.5∼20중량%이어도 좋다.
하드코트층과 방오층 사이에 광학 조정층이 배치되는 경우, 광학 조정층은 굴절률이 1.50 이하인 저굴절률층을 포함하는 것이 바람직하다. 광학 조정층은 2층 이상의 박막을 포함하고 있어도 좋다. 광학 필름의 반사율은 6% 이하가 바람직하다.
본 발명의 광학 필름은 최표면에 방오층을 구비하기 때문에, 지문이나 손때 등에 의한 오염 물질의 부착이 억제되어 있다. 또한, 오염 물질이 부착된 경우에도, 오염이 눈에 띄기 어렵고, 또한 부착된 오염 물질의 닦아냄 제거성이 우수하다.
도 1은 광학 필름의 적층 구성예를 나타내는 단면도이다.
도 1은 본 발명의 일실시형태의 광학 필름의 적층 구성예를 나타내는 단면도이다. 광학 필름(100)은 하드코트 필름(1)의 하드코트층(11) 형성면측의 최표면층으로서 방오층(7)을 구비한다. 하드코트 필름(1)은 투명 필름 기재(10)의 일주면 상에 하드코트층(11)을 구비한다. 하드코트층(11)과 방오층(7) 사이에는, 광학 조정층(5)이 배치되어 있어도 좋다.
[하드코트 필름]
하드코트 필름(1)은 투명 필름 기재(10)의 일주면 상에, 하드코트층(11)을 구비한다. 방오층(7) 형성면측에 하드코트층(11)이 형성됨으로써, 광학 필름의 표면 경도나 내찰상성 등의 기계 특성을 향상시킬 수 있다.
<투명 필름 기재>
투명 필름 기재(10)의 가시광 투과율은 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이다. 투명 필름 기재(10)를 구성하는 수지 재료로서는, 예를 들면 투명성, 기계 강도, 및 열안정성이 우수한 수지 재료가 바람직하다. 수지 재료의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 환상 폴리올레핀계 수지(노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알콜계 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
투명 필름 기재의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 관점에서 5∼300㎛ 정도가 바람직하고, 10∼250㎛가 보다 바람직하고, 20∼200㎛가 더욱 바람직하다.
<하드코트층>
하드코트층(11)은 경화성 수지의 경화물(바인더 수지)을 포함한다. 하드코트층(11)은 미립자를 더욱 포함하고 있어도 좋다.
(바인더)
하드코트층(11)의 바인더로서는 열경화성 수지, 광경화성 수지, 전자선 경화성 수지 등의 경화성 수지가 바람직하게 사용된다. 경화성 수지의 종류로서는 폴리에스테르계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 아미드계, 실리콘계, 실리케이트계, 에폭시계, 멜라민계, 옥세탄계, 아크릴우레탄계 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 경도가 높고, 광경화가 가능하기 때문에, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 및 에폭시계 수지가 바람직하고, 그 중에서도 아크릴우레탄계 수지가 바람직하다.
광경화성의 바인더 수지 성분은 2개 이상의 광중합성(바람직하게는 자외선 중합성)의 관능기를 갖는 다관능 화합물을 포함한다. 다관능 화합물은 모노머이어도 올리고머이어도 좋다. 광중합성의 다관능 화합물로서는 1분자 중에 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 화합물(다관능 (메타)아크릴레이트)이 바람직하게 사용된다.
(미립자)
하드코트층(11)은 입자지름이 1∼10㎛인 미립자(이하, 「마이크로 입자」라고 기재)를 포함하고 있어도 좋다. 하드코트층(11)에 마이크로 입자가 포함됨으로써, 하드코트층(11), 및 하드코트층(11) 상에 형성되는 방오층(7)의 표면에 요철이 형성되어 지문 닦아냄성이 향상한다. 또한, 마이크로 입자는 하드코트층(11)(및 광학 필름)의 헤이즈의 제어에도 기여한다.
하드코트층(11) 상에 형성되는 광학 조정층(5) 및 방오층(7)은 두께가 작기 때문에, 방오층(7)의 표면 형상은 하드코트층(11)의 표면 형상에 의존한다. 후술하는 바와 같이, 방오층(7)의 표면의 산술 평균 높이 Sa는 0.1∼1㎛가 바람직하다. 방오층(7)의 표면의 산술 평균 높이를 상기 범위로 하기 위해서는, 하드코트층(11)의 산술 평균 높이가 0.1∼1㎛인 것이 바람직하다. 산술 평균 높이 Sa는 레이저 현미경을 사용한 100㎛×100㎛의 관찰상으로부터, ISO 25178에 준하여 산출된다. 하드코트층에 포함되는 미립자의 입자지름이나 함유량을 조정함으로써, 하드코트층(11)의 표면의 요철 형상을 조정할 수 있다.
마이크로 입자로서는 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화칼슘, 산화주석, 산화인듐, 산화카드뮴, 산화안티몬 등의 각종 금속 산화물 미립자, 유리 미립자, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 아크릴-스티렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민, 폴리카보네이트 등의 각종 투명 폴리머로 이루어지는 가교 또는 미가교의 유기계 미립자, 실리콘계 미립자 등의 투명성을 갖는 것을 특히 제한 없이 사용할 수 있다. 이들 미립자는 1종 또는 2종 이상을 적당히 선택해서 사용할 수 있다.
하드코트층(11)에 포함되는 마이크로 입자의 평균 입자지름은 1∼10㎛이다. 마이크로 입자의 평균 입자지름은 1.5∼8㎛가 바람직하고, 2∼5㎛가 보다 바람직하다. 하드코트층에 2종 이상의 마이크로 입자가 포함되는 경우는, 마이크로 입자 전체의 평균 입자지름이 상기 범위 내인 것이 바람직하다. 평균 입자지름은 콜더 카운트법에 의해 측정되는 중량 평균 입자지름이다.
마이크로 입자의 입자지름이 작은 경우는 표면 요철이 작고, 광학 필름의 지문 닦아냄성이 저하하는 경우가 있다. 마이크로 입자의 입자지름이 과도하게 큰 경우는 투과광이나 반사광이 눈부심으로 시인되기 쉽고, 시인성이 저하하는 경우가 있다.
마이크로 입자의 형상은 특별히 제한되지 않지만, 눈부심 저감의 관점에서는 애스펙트비가 1.5 이하인 원형 입자가 바람직하다. 원형 입자의 애스펙트비는 바람직하게는 1.3 이하, 보다 바람직하게는 1.1 이하이다.
하드코트층(11)에 있어서의 마이크로 입자의 함유량은 특별히 제한되지 않는다. 하드코트층(11)의 표면에 균일하게 요철을 형성하는 관점에서, 마이크로 입자의 함유량은 하드코트층(11)의 전체에 대하여 0.5∼20중량%가 바람직하고, 1∼15중량%가 보다 바람직하고, 2∼12중량%가 더욱 바람직하고, 3∼10중량%가 특히 바람직하다.
하드코트층(11)은 입자지름이 1㎛ 미만인 미립자(이하, 「나노 입자」라고 기재하는 경우가 있음)를 포함하고 있어도 좋다. 예를 들면, 하드코트층(11)이 10㎚∼100㎚ 정도의 평균 일차 입자지름을 갖는 나노 입자를 포함함으로써, 하드코트층(11)의 표면에 마이크로 입자에 의해 형성되는 요철보다 작은 사이즈의 미세한 요철이 형성되고, 하드코트층(11)과, 그 상에 형성되는 광학 조정층(5)이나 방오층(7)과의 밀착성이 향상하는 경우가 있다. 또한, 가시광의 파장보다 충분히 작은 사이즈(예를 들면, 100㎚ 이하)의 입자지름을 갖는 나노 입자를 포함시킴으로써, 하드코트층의 투명성을 저하시키는 경우 없이 하드코트층의 굴절률을 조정할 수 있다.
바인더 중에서의 분산성을 높이는 관점에서, 나노 입자의 평균 일차 입자지름은 15㎚ 이상이 바람직하고, 20㎚ 이상이 보다 바람직하다. 밀착성 향상에 기여하는 미세한 요철 형상을 형성하는 관점에서, 나노 입자의 평균 일차 입자지름은 90㎚ 이하가 바람직하고, 70㎚ 이하가 보다 바람직하고, 50㎚ 이하가 더욱 바람직하다.
나노 입자의 재료로서는 무기 산화물이 바람직하다. 무기 산화물로서는 산화실리콘, 산화티타늄, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화티타늄, 산화니오브, 산화아연, 산화주석, 산화세륨, 산화마그네슘 등의 금속 또는 반금속의 산화물을 들 수 있다. 무기 산화물은 복수 종의 (반)금속의 복합 산화물이어도 좋다. 예시의 무기 산화물 중에서도, 밀착성 향상 효과가 높기 때문에 산화실리콘이 바람직하다. 무기 산화물 입자의 표면에는, 수지와의 밀착성이나 친화성을 향상시킬 목적으로, 아크릴기, 에폭시기 등의 관능기가 도입되어 있어도 좋다.
하드코트층이 나노 입자를 포함하는 경우, 나노 입자의 양은 바인더 수지 100중량부에 대하여 1∼150중량부 정도이어도 좋다. 하드코트층(11)의 표면에, 무기 박막과의 밀착성이 우수한 표면 형상을 형성하는 관점에서, 하드코트층(11)에 있어서의 나노 입자의 함유량은 바인더 수지 100중량부에 대하여 20∼100중량부가 바람직하고, 25∼90중량부가 보다 바람직하고, 30∼80중량부가 더욱 바람직하다.
(하드코트층의 형성)
투명 필름 기재(10) 상에 하드코트 조성물을 도포하고, 필요에 따라서 용매의 제거 및 수지의 경화를 행함으로써 하드코트층(11)이 형성된다. 하드코트 조성물은 상기의 바인더 수지 및 미립자를 포함하고, 필요에 따라서 바인더 성분을 용해 또는 분산가능한 용매를 포함한다. 바인더 수지 성분 광경화형 수지인 경우에는, 조성물 중에 광중합개시제가 포함되는 것이 바람직하다.
하드코트 조성물은 상기 이외에, 레벨링제, 점도 조정제(틱소트로피제, 증점제 등), 대전 방지제, 블록킹 방지제, 분산제, 분산 안정제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 소포제, 계면활성제, 윤활제 등의 첨가제를 포함하고 있어도 좋다.
하드코트 조성물이 틱소트로피제를 포함함으로써, 마이크로 입자의 침강이 억제되어 하드코트층의 표면에 마이크로 입자에 의한 요철이 균일하게 형성되기 쉽다. 틱소트로피제로서는 유기 점토, 산화폴리올레핀, 변성 우레아 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 스멕타이트 등의 유기 점토가 바람직하다. 틱소트로피제의 배합은 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.3∼5중량부 정도가 바람직하다.
하드코트 조성물이 레벨링제를 포함함으로써, 하드코트층의 표면 형상이 균일화되는 경향이 있다. 레벨링제로서는, 예를 들면 불소계 또는 실리콘계의 레벨링제를 들 수 있고, 레벨링제의 배합량은 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.01∼3중량부 정도가 바람직하다.
하드코트 조성물의 도포 방법으로서는 바 코팅법, 롤 코팅법, 그라비어 코팅법, 로드 코팅법, 슬롯 오리피스 코팅법, 커튼 코팅법, 파운틴 코팅법, 콤마 코팅법 등의 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 도포 후의 가열 온도는 하드코트 조성물의 조성 등에 따라서, 적절한 온도로 설정하면 좋고, 예를 들면 50℃∼150℃ 정도이다. 바인더 수지 성분이 광경화성 수지인 경우는 자외선 등의 활성 에너지 선을 조사함으로써 광경화가 행해진다. 조사광의 적산 광량은 바람직하게는 100∼500mJ/㎠ 정도이다.
하드코트층(11)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 높은 경도를 실현함과 아울러, 표면 형상을 적절하게 제어하는 관점에서 1∼30㎛ 정도가 바람직하고, 2∼20㎛ 또는 3∼10㎛이어도 좋다.
하드코트층(11) 상에 광학 조정층(5)이나 방오층(7)을 형성하기 전에, 하드코트층(11)의 표면 처리가 행해져도 좋다. 표면 처리로서는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 프레임 처리, 오존 처리, 프라이머 처리, 글로우 처리, 알칼리 처리, 산 처리, 커플링제에 의한 처리 등의 표면 개질 처리를 들 수 있다. 표면 처리로서 진공 플라즈마 처리를 행해도 좋다. 진공 플라즈마 처리에 의해, 하드코트층의 표면 형상을 조정할 수도 있다. 진공 플라즈마 처리(예를 들면, 아르곤 플라즈마 처리)의 방전 전력은 0.1∼10kW 정도가 바람직하다.
[광학 조정층]
광학 필름은 반사율 저감 등을 목적으로서, 하드코트층(11)과 방오층(7) 사이에, 광학 조정층(5)을 포함하고 있어도 좋다. 광학 조정층(5)은 1층 이상의 박막을 포함한다. 박막의 재료로서는 금속의 산화물, 질화물, 플루오르화물 등의 무기 재료가 바람직하다.
광학 조정층(5)으로서는, 예를 들면 적어도 1층의 저굴절률층을 포함하는 것을 들 수 있다. 저굴절률층의 굴절률은 1.50 이하가 바람직하고, 저굴절률층은 하드코트층(11)보다 굴절률이 낮은 것이 특히 바람직하다. 하드코트층(11) 상에 저굴절률의 광학 조정층(5)(저굴절률층)이 형성됨으로써, 광학 필름의 반사율이 저감한다.
광학 조정층(5)을 구성하는 저굴절률층의 굴절률은 1.50 이하가 바람직하고, 1.48 이하가 더욱 바람직하다. 저굴절률층의 재료로서는 산화실리콘, 플루오르화마그네슘, 플루오르화바륨, 플루오르화칼슘, 플루오르화하프늄, 플루오르화란탄 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 산화실리콘(SiO2)이 바람직하다.
광학 조정층(5)의 두께는 10∼220㎚ 정도이며, 15∼200㎚ 또는 20∼150㎚이어도 좋고, 박막을 구성하는 재료의 굴절률 등에 따라서 두께를 설정하면 좋다.
광학 조정층(5)은 복수의 박막을 포함하고 있어도 좋다. 예를 들면, 광학 조정층(5)은 저굴절률층에 더해서, 상대적으로 굴절률이 높은 고굴절률층을 포함하고 있어도 좋다. 고굴절률재료로서는 산화티타늄, 산화니오브, 산화지르코늄, 산화탄탈, 산화아연, 산화인듐, 산화인듐주석(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO) 등을 들 수 있다.
광학 조정층이 복수의 박막을 포함하는 경우는, 방오층(7)에 접하는 층(광학 조정층(5)의 최외층)이 저굴절률층인 것이 바람직하다. 광학 조정층(5)의 최외층이 저굴절률층임으로써, 반사율이 저감하는 경향이 있다.
광학 조정층이 복수의 박막의 적층 구성인 경우는, 입사광과 반사광의 역전한 위상이 서로 상쇄하도록 박막의 광학 막두께(굴절률과 두께의 곱)를 조정함으로써, 가시광의 광대역의 파장 범위에 있어서 반사율을 작게 할 수 있다. 광학 조정층(5)을 구성하는 박막의 층수를 증가시킴으로써, 보다 정밀한 광학 설계가 가능해 져 반사율을 저감할 수 있다. 단, 광학 필름의 반사율이 1% 미만인 경우는, 지문 등의 오염이 부착되었을 때에 오염이 눈에 띄기 쉽다. 그 때문에, 광학 필름의 반사율은 1% 이상이 바람직하다.
또한, 본 명세서에 있어서 「반사율」이란, 시감 반사율(XYZ표 색계의 3자극 값의 Y값)이며, D65 광원을 사용하여 정반사광 포함(SCI) 방식으로 측정한 반사 스펙트럼에 근거하고 나서 산출되는 값이다. 반사 스펙트럼의 측정에 있어서는, 이면의 반사광의 영향을 제거하기 위해서, 측정 대상의 이면에 흑색판을 접합한 시료를 사용한다.
광학 필름의 반사율을 상기 범위 내로 함과 아울러, 생산성을 높이는 관점에서 광학 조정층(5)을 구성하는 박막의 층수는 1층 또는 2층이 바람직하다. 광학 조정층이 1층인 경우는, 상기와 같이 광학 조정층은 산화실리콘 등의 저굴절률층인 것이 바람직하다. 광학 조정층이 2층인 경우는, 하드코트층(11)측이 고굴절률층, 방오층(7)측이 저굴절률층인 것이 바람직하다. 저굴절률층 및 저굴절률층의 막두께는, 각각 5∼200㎚ 정도이다. 광학 조정층(5)의 합계 두께는 10∼220㎚ 정도이며, 15∼200㎚ 또는 20∼150㎚이어도 좋다.
광학 조정층(5)을 구성하는 박막의 성막 방법은 특별히 한정되지 않고, 웨트 코팅법, 드라이 코팅법 중 어느 하나이어도 좋다. 막두께가 균일한 박막을 형성할 수 있기 때문에, 진공 증착, CVD, 스퍼터, 전자선증 등의 드라이 코팅법이 바람직하다. 그 중에서도, 막두께의 균일성이 우수하고, 치밀하여 고강도한 막을 형성하기 쉽기 때문에, 스퍼터법이 바람직하다.
스퍼터법에서는 롤 투 롤 방식에 의해, 장척의 하드코트 필름을 일방향(길이방향)으로 반송하면서 박막을 연속 성막할 수 있다. 스퍼터법에서는 아르곤 등의 불활성 가스, 및 필요에 따라서 산소 등의 반응성 가스를 챔버 내에 도입하면서 성막이 행해진다. 스퍼터법에 의한 산화물층의 성막은 산화물 타겟을 사용하는 방법, 및 금속 타겟을 사용한 반응성 스퍼터 중 어느 하나이어도 실시할 수 있다. 고레이트로 금속 산화물을 성막하기 위해서는 금속 타겟을 사용한 반응성 스퍼터가 바람직하다.
[방오층]
광학 필름은 최표면층(탑코트층)으로서 방오층(7)을 구비한다. 최표면에 방오층이 형성됨으로써, 외부 환경으로부터의 오염(지문, 손때 등)의 영향을 저감할 수 있음과 아울러, 표면에 부착된 오염 물질의 제거가 용이하게 된다.
방오층(7)의 재료로서는 방오성이 우수하기 때문에, 불소 함유 화합물이 바람직하다. 그 중에서도, 높은 방오성을 발휘할 수 있기 때문에, 퍼플루오로폴리에테르 골격을 함유하는 불소계 폴리머가 바람직하다. 방오성을 높이는 관점에서, 강직하게 병렬가능한 주쇄 구조를 갖는 퍼플루오로폴리에테르가 특히 바람직하다.
퍼플루오로폴리에테르 골격을 함유하는 불소계 폴리머는 바람직하게는 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물의 축합물이다. 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시 실란 화합물로서는, 예를 들면 하기의 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.
R1-R2-X-(CH2)m-Si(OR3)3 … (1)
일반식(1)에 있어서, R1은 알킬기의 1개 이상의 수소 원자가 불소 원자로 치환된, 직쇄상 또는 분지를 갖는 플루오르화알킬기이며, R1의 탄소수는 1∼20이 바람직하다. R1은 알킬기의 수소 원자의 모두가 불소 원자에 치환된 퍼플루오로알킬기인 것이 바람직하다.
R2는 퍼플루오로폴리에테르(PFPE)기의 반복 구조를 적어도 1개 포함하는 구조 2가의 유기기이며, 바람직하게는 PFPE기의 반복 구조를 2개 포함한다. PFPE기의 반복 구조로서는, 예를 들면 직쇄상 PFPE기의 반복 구조, 및 분지상 PFPE기의 반복 구조를 들 수 있다. 직쇄상 PFPE기의 반복 구조로서는, 예를 들면 -(OCnF2n)p-로 나타내어지는 구조(n은 1∼20의 정수이며, p는 1∼50의 정수)를 들 수 있다. 분지상 PFPE기의 반복 구조로서는, 예를 들면 -(OC(CF3)2)p-로 나타내어지는 구조, 및 -(OCF2CF(CF3)CF2)p-로 나타내어지는 구조를 들 수 있다. PFPE기의 반복 구조는 바람직하게는 직쇄상이며, 그 중에서도 -(OCF2)p- 및 -(OC2F4)p-가 특히 바람직하다.
R3은 탄소수 1∼4의 알킬기이며, 바람직하게는 메틸기이다.
X는 에테르기, 카르보닐기, 아미노기, 또는 아미드기이며, 바람직하게는 에테르기이다.
m은 1 이상의 정수이다. m은 20 이하가 바람직하고, 10 이하가 보다 바람직하고, 5 이하가 더욱 바람직하다.
퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물로서, 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 중에서도, 하기의 일반식(2)으로 나타내어지는 화합물이 특히 바람직하다.
CF3-(OCF2)q-(OC2F4)r-O-(CH2)3-Si(OCH3)3 … (2)
일반식(2)에 있어서, q 및 r은 각각 독립적으로 1∼50의 정수이다.
방오층(7)은 리버스 코팅법, 다이 코팅법, 그라비어 코팅법 등의 웨트법이나, 진공증착법, CVD법 등의 드라이법 등에 의해 형성할 수 있다. 올레산 접촉각이 크고 방오성이 높은 막을 형성하기 위해서, 방오층은 드라이법에 의해 형성하는 것이 바람직하고, 진공증착법이 특히 바람직하다. 즉, 방오층(7)은 바람직하게는 증착막이다.
방오층(7)이 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물의 축합물을 포함하고, 또한 드라이 코팅에 의해 형성된 막(특히, 증착막)인 경우에, 올레산 접촉각이 크고 방오성이 우수한 경향이 있다.
방오층(7)의 두께는, 통상 2∼30㎚ 정도이다. 방오층(7)의 두께가 클수록, 방오성이 향상하는 경향이 있다. 방오층의 두께는 4㎚ 이상이 바람직하고, 5㎚ 이상이 보다 바람직하고, 8㎚ 이상이 더욱 바람직하다. 한편, 방오층(7)의 표면에, 하드코트층(11)의 요철 형상을 반영한 표면 형상을 형성하여 오염 물질의 닦아냄성을 높이는 관점에서, 방오층의 두께는 20㎚ 이하가 바람직하고, 15㎚ 이하가 보다 바람직하고, 12㎚ 이하 또는 10㎚ 이하이어도 좋다.
지문(손가락 기름) 등에 의한 오염의 방지, 및 부착된 손가락 기름 등의 오염 물질의 제거성을 높이는 관점에서, 방오층(7)의 올레산 접촉각은 70° 이상이 바람직하고, 73° 이상이 보다 바람직하고, 75° 이상이어도 좋다. 방오층(7)의 올레산 접촉각은 90° 이하, 85° 이하 또는 80° 이하이어도 좋다. 방오층(7)의 수 접촉각은 105° 이상이 바람직하고, 108° 이상이 보다 바람직하고, 110° 이상이어도 좋다. 방오층(7)의 수 접촉각은 130° 이하, 125° 이하 또는 120° 이하이어도 좋다.
광학 필름(100)의 최표면층인 방오층(7)의 표면의 산술 평균 높이 Sa는 0.1㎛ 이상이 바람직하고, 0.15㎛ 이상이 보다 바람직하다. 방오층(7)이 표면 요철을 갖고, 산술 평균 높이 Sa가 0.1㎛ 이상임으로써, 오염 물질의 닦아냄성이 우수하다. 방오층(7)은 올레산의 접촉각이 크기(즉, 젖음성이 낮기) 때문에, 오염 물질이 부착된 경우도 젖어 퍼지기 어렵고, 방오층(7)이 표면 요철을 갖는 경우는 요철의 오목부보다 볼록부의 근방에 오염 물질이 부착되기 쉽다고 생각된다. 방오층(7)의 산술 평균 높이 Sa가 큰 경우는 그 경향이 현저하고, 볼록부 근방에 부착된 오염 물질은 닦아냄이 용이한 것이 닦아냄성 향상에 기여하고 있다고 추정된다.
오염 물질의 닦아냄성의 관점에 있어서는, 방오층(7)의 산술 평균 높이 Sa는 클수록 바람직하다. 한편, 방오층(7)의 산술 평균 높이 Sa가 과도하게 큰 경우는 표면 요철에 의한 광산란이 커서, 투과광이나 반사광이 눈부심으로 시인되기 쉽기 때문에, 시인성이 저하하는 경우가 있다. 그 때문에, 방오층(7)의 산술 평균 높이 Sa는 1㎛ 이하가 바람직하고, 0.7㎛ 이하가 보다 바람직하고, 0.5㎛ 이하가 더욱 바람직하고, 0.4㎛ 이하 또는 0.3㎛ 이하이어도 좋다.
하드코트층(11) 상에 형성되는 광학 조정층(5) 및 방오층(7)은 박막이기 때문에, 방오층(7)의 표면에는 하드코트층(11)의 표면 형상을 반영한 요철 형상이 형성되기 쉽다. 그 때문에, 방오층(7)의 표면의 산술 평균 높이 Sa를 상기 범위로 하기 위해서는, 하드코트층(11)에 마이크로 입자를 함유시켜 표면 요철을 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 하드코트층(11)에 진공 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 실시함으로써 표면 형상을 조정해도 좋다.
[광학 필름의 특성]
상술한 바와 같이, 광학 필름에 방오층(7)측으로부터 광을 입사했을 때의 반사율은 1% 이상이 바람직하다. 반사율이 1% 이상임으로써, 방오층의 표면에 지문 등의 오염이 부착되었을 때에 오염이 눈에 띄기 어렵고, 시인성의 저하를 억제할 수 있다. 광학 필름의 반사율은 2% 이상이 보다 바람직하고, 3% 이상 또는 5% 이상이어도 좋다. 한편, 반사율이 과도하게 높은 경우는 외광의 비침 등의 시인성 저하의 원인이 되기 때문에, 광학 필름의 반사율은 6% 이하가 바람직하고, 5% 이하 또는 4% 이하이어도 좋다. 상기와 같이, 하드코트층(11)과 방오층(7) 사이에 광학 조정층(5)을 형성함으로써, 반사율을 저감할 수 있다.
광학 필름의 헤이즈는 2% 이상이 바람직하고, 3% 이상이 보다 바람직하고, 5% 이상, 7% 이상 또는 10% 이상이어도 좋다. 광학 필름의 반사율이 1% 이상이며, 또한 헤이즈가 2% 이상임으로써, 방오층의 표면에 지문 등의 오염이 부착되었을 때에 오염이 보다 눈에 띄기 어려워진다. 또한, 헤이즈가 2% 이상이면 반사광이 산란되기 때문에, 반사율이 1% 이상이어도, 외광의 비침이 억제되어 시인성이 향상하는 경향이 있다. 한편, 헤이즈가 과도하게 큰 경우는, 투과광이 흐려져 시인되고 선명성이 저하하기 때문에, 광학 필름의 헤이즈는 50% 이하가 바람직하고, 45% 이하가 보다 바람직하고, 40% 이하, 35% 이하 또는 30% 이하이어도 좋다.
하드코트층(11)이 마이크로 입자를 포함함으로써, 하드코트층의 내부에서 바인더와 마이크로 입자의 계면에서의 광의 산란·반사가 생기기 때문에, 헤이즈(내부 헤이즈)가 커지는 경향이 있다. 또한, 하드코트층이 마이크로 입자를 포함함으로써, 하드코트층의 표면에 요철이 형성되기 때문에 헤이즈(외부 헤이즈)가 커지는 경향이 있다. 하드코트층에 포함되는 바인더와 마이크로 입자의 굴절률차, 및 마이크로 입자의 함유량을 조정함으로써, 하드코트층 (및 광학 필름)의 헤이즈를 적절한 범위로 제어할 수 있다.
상술과 같이, 광학 필름의 표면, 즉 광학 필름의 최표면층인 방오층(7)의 표면의 산술 평균 높이 Sa는 0.1∼1㎛가 바람직하고, 0.15∼0.5㎛가 보다 바람직하다. 광학 필름 표면의 산술 평균 높이 Sa가 이 범위임으로써, 부착된 오염 물질의 닦아냄성이 우수함과 아울러 시인성이 우수하다.
상술과 같이, 광학 필름의 표면, 즉 광학 필름의 최표면층인 방오층(7)의 올레산 접촉각은 70° 이상이 바람직하고, 73° 이상이 보다 바람직하고, 75° 이상이어도 좋다. 광학 필름 표면의 올레산 접촉각이 큼으로써, 지문(손가락 기름) 등의 오염 물질의 부착이 억제됨과 아울러, 부착된 손가락 기름 등의 오염 물질의 제거성이 우수한 경향이 있다.
상기와 같이, 본 발명의 광학 필름은 올레산 접촉각이 큰 방오층(7)을 구비함으로써 방오성이 우수하고 있다. 또한, 반사율이 1% 이상임으로써, 오염 물질이 부착된 경우에도 오염이 눈에 띄기 어렵고, 표면의 산술 평균 높이 Sa가 0.1㎛ 이상임으로써 오염 물질의 닦아냄성이 우수하고 있다.
[광학 필름의 사용 형태]
상기의 광학 필름은 방오 필름이나 비산 방지 필름으로서 사용할 수 있다. 상기의 광학 필름은, 예를 들면 액정 디스플레이나 유기 EL 디스플레이 등의 화상 표시 장치의 표면에 배치하여 사용된다. 예를 들면, 액정셀이나 유기 EL셀 등의 화상 표시 매체를 포함하는 패널의 시인측 표면에 광학 필름을 배치함으로써, 방오성을 갖는 비산 방지 필름으로서의 기능을 발휘한다.
특히, 본 발명의 광학 필름은 터치패널을 구비하는 화상 표시 장치에도 바람직하게 사용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름이 최표면에 배치된 화상 표시 장치는, 화면을 터치 조작한 경우에도 지문 오염이 부착되기 어렵고, 지문 오염이 부착된 경우에도 오염이 눈에 띄기 어렵다. 또한, 부착된 오염 물질을 용이하게 닦아내는 것이 가능하다.
(실시예)
이하에, 실시예를 들어 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
<하드코트 조성물의 조제>
바인더 수지로서, 펜타에리스리톨 폴리아크릴레이트(오사카 유기화학제 「비스코트＃300」) 50중량부 및 우레탄아크렐레이트 프리폴리머(니혼 고우세이 카가쿠제 「자색광 UV-1700TL」) 50중량부; 스티렌과 메타크릴산메틸(㎜A)의 공중합 가교 입자(세키스이 플라스틱 코교제 「테크노 폴리머 SSX-540TNR」; 평균 입자지름 3.6㎛) 7.2중량부; 틱소트로피제로서 유기화 스멕타이트(쿠니미네 코교제 「스멕톤 SAN」) 1.5중량부; 광중합개시제(IGM Resins제 「OMNIRAD907」) 3중량부; 및 레벨링제(교에이샤 카가쿠제 「POLYFLOW LE303」) 0.15중량부를 혼합하고, 톨루엔/시클로펜탄온 혼합 용매(중량비 70/30)로 희석하여, 고형분 농도 50중량%의 하드코트 조성물 A를 조제했다. 또한, 상기의 배합량은 고형분(불휘발분)의 양이며, 유기화 스멕타이트는 톨루엔으로 고형분이 6중량%가 되도록 희석하여 사용했다(이하의 하드코트 조성물 B, C에 대해서도 같음).
<하드코트층의 형성>
상기의 하드코트 조성물 A를, 두께 80㎛의 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(코니카 미놀타옵트제 「KC8UA」)에, 콤마코터(등록상표)를 사용하여 도포하고, 80℃에서 1분간 가열했다. 그 후, 고압수은 램프로 적산 광량 300mJ/㎠의 자외선을 조사하고, 도포층을 경화시켜 두께 6.0㎛의 방현성 하드코트층을 형성했다.
<광학 조정층의 형성>
상기의 하드코트 필름(하드코트층이 형성된 TAC 필름)을, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 도입하고, 필름을 주행시키면서 하드코트층에 봄버드 처리(Ar 가스에 의한 플라즈마 처리)를 행한 후, 두께 100㎚의 SiO2층을 스퍼터 성막했다. SiO2층의 성막에는 Si 타겟을 사용하고, 플라즈마 발광 모니터링(PEM) 제어에 의해 성막 모드가 변이 영역을 유지하도록 도입하는 산소량을 조정했다.
<방오층의 형성>
퍼플루오로폴리에테르기 함유 알콕시실란 화합물을 포함하는 고형분 농도 20%의 방오 코팅제(신에츠 카가쿠 코교제 「KY1903-1」)를 건조하여 고화한 것을 증착원으로서, 가열 온도 260℃에서 진공 증착법에 의해 SiO2층 상에 두께 6㎚의 방오층을 형성했다.
[실시예 2]
SiO2층의 두께를 25㎚로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 SiO2층 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다.
[실시예 3]
무기 박막의 형성에 있어서, 두께 14㎚의 Nb2O5층 및 두께 80㎚의 SiO2층의 2층 구성의 박막을 스퍼터 성막했다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 Nb2O5층 및 SiO2층의 2층으로 이루어지는 무기 박막, 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다. SiO2층의 성막에는 Si 타겟, Nb2O5층의 성막에는 Nb 타겟을 사용하고, PEM 제어에 의해 성막 모드가 변이 영역을 유지하도록 도입하는 산소량을 조정했다.
[실시예 4]
<하드코트 조성물의 조제>
바인더 수지로서, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(오사카 유기화학제 「비스코트＃300」) 50중량부 및 우레탄아크렐레이트 프리폴리머(신나카무라 카가쿠 코교제 「UA-53H-80BK」) 50중량부; 실리콘 입자(모멘티브 퍼포먼스 머테리얼즈·재팬제 「토스펄130」, 평균 입자지름 3.0㎛) 3.5중량부; 유기화 스멕타이트(쿠니미네 코교제 「스멕톤SAN」) 2중량부; 광중합개시제(IGM Resins제 「OMNIRAD907」) 3중량부; 및 레벨링제(교에이샤 카가쿠제 「POLYFLOW LE303」) 0.4중량부를 혼합하고, 톨루엔/시클로펜탄온 혼합 용매(중량비 70/30)로 희석하여, 고형분 농도 32중량%의 하드코트 조성물 B를 조제했다.
<하드코트층, 무기 박막 및 방오층의 형성>
하드코트 조성물 A 대신에 하드코트 조성물 B를 사용하여 하드코트층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 SiO2 박막 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다.
[실시예 5]
<하드코트 조성물의 조제>
바인더 수지로서 우레탄아크렐레이트 프리폴리머(DIC제 「LUXYDIR17-806」) 100중량부; 스티렌 입자(소우켄 카가쿠제 「SX-350H」, 평균 입자지름 3.5㎛) 13.8중량부; 유기화 스멕타이트(쿠니미네 코교제 「스멕톤SAN」) 2.5중량부; 광중합개시제(IGM Resins제 「OMNIRAD907」) 5중량부; 및 레벨링제(DIC제 「메가팩F-556」) 0.5를 혼합하고, 톨루엔/시클로펜탄온 혼합 용매(중량비 70/30)로 희석하여, 고형분 농도 32중량%의 하드코트 조성물 C를 조제했다.
<하드코트층, 무기 박막 및 방오층의 형성>
하드코트 조성물 A 대신에 하드코트 조성물 C를 사용하여 하드코트층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 SiO2 박막 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다.
[비교예 1]
<하드코트 조성물의 조제>
바인더 수지로서, 우레탄아크렐레이트 프리폴리머(DIC제 「LUXYDIR17-806」) 100중량부; 광중합개시제(IGM Resins제 「OMNIRAD907」) 2.4중량부; 및 레벨링제(DIC제 「ＧRANDIC PC-4100」) 0.1부를 혼합하고, 메톡시프로판올/시클로펜탄온 혼합 용매(중량비 65/37)로 희석하여, 고형분 농도 36중량%의 하드코트 조성물 D를 조제했다.
<하드코트층, 무기 박막 및 방오층의 형성>
하드코트 조성물 A 대신에 하드코트 조성물 D를 사용하여 하드코트층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 SiO2 박막 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다.
[비교예 2]
무기 박막을, 두께 10㎚의 Nb2O5층, 28㎚의 SiO2층, 105㎚의 Nb2O5층 및 두께 84㎚의 SiO2층의 4층 구성으로 변경했다. 그 이외에는 실시예 3과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 4층 구성의 무기 박막 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다.
[비교예 3]
하드코트 조성물 A 대신에 하드코트 조성물 D를 사용하여 하드코트층을 형성한 것 이외에는 비교예 2과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 4층 구성의 무기박막 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다.
[비교예 4]
하드코트 조성물 A 대신에 하드코트 조성물 D를 사용하여 하드코트층을 형성하고, 진공 증착 대신에 웨트 코팅에 의해 무기 박막 상에 방오층을 형성했다. 이들의 변경 이외에는 비교예 2와 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 4층 구성의 무기 박막 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다. 방오층의 형성에 있어서는, 고형분 농도 20%의 방오 코팅제(신에츠 카가쿠 코교제 「KY1903-1」)를 불소계 용매(쓰리엠제 「Fluorinert FC-40」)에 의해 고형분 농도 0.1중량%로 희석한 용액을, 무기 박막 상에 도포한 후 건조하여, 두께 8㎚의 방오층을 형성했다.
[비교예 5]
하드코트 조성물 B 대신에 하드코트 조성물 C를 사용하여 하드코트층을 형성한 것 이외에는 비교예 4과 마찬가지로 하여, 하드코트 필름 상에 4층 구성의 무기 박막 및 방오층을 구비하는 광학 필름을 제작했다.
[평가]
<헤이즈>
헤이즈 미터(무라카미 시키사이 기쥬츠 켄큐쇼제 「HM-150」)에 의해, 방오층측으로부터 광을 조사하고, JIS K7136에 준하여 광학 필름의 헤이즈를 측정했다.
<표면 조도>
레이저 현미경(키엔스제 「VK-X200」)을 사용하고, 배율 10배에서의 관찰 상(100㎛×100㎛)으로부터 ISO 25178에 준하여, 광학 필름 표면(방오층)의 산술 평균 표면 높이 Sa를 측정했다.
<반사 스펙트럼의 측정>
광학 필름의 TAC 필름측의 면에, 투명 아크릴 점착제를 개재해서 두께 2㎜의 흑색의 아크릴판을 접합시킨 시료를 제작했다. 이 시료에, 방오층측의 면으로부터 D65 광원의 광을 조사하고, 분광 측색계(코니카 미놀타제 「CM2600d」)를 사용하여, 정반사광 포함(SCI) 방식의 반사 스펙트럼을 측정했다. 얻어진 SCI 반사 스펙트럼으로부터, 시감 반사율 Y, 및 L*a*b* 표색계의 명도 지수 L*, 및 크로마틱네스 지수 a*b*를 산출했다.
<수 접촉각 및 올레산 접촉각>
방오층 표면에, 약 5.0㎕의 물을 적하했다. 적하로부터 2초 후에, 접촉각 측정 장치(쿄와 카이멘 카가쿠제 「DMo-701」)를 사용하고, 방오층의 표면과 액적 단부의 접선의 각도를 측정하여, 방오층의 수 접촉각으로 했다. 물 대신에 올레산을 사용하여 올레산 접촉각을 측정했다.
<방오성>
상기의 반사 스펙트럼 측정 후의 시료의 방오층 상에, 2㎕의 올레산을 적하하고, 직경 11㎜의 실리콘 패드를 사용하여 방오층의 표면에 올레산을 밀어 펼쳤다. 이 시료의 반사 스펙트럼을 측정한 후, 와이핑 크로스(쓰리엠제 「스카치·브라이트 No.5000」)를 사용하여, 방오층의 표면을 1회 문지름으로써 올레산을 닦아 냈다. 그 후, 재차 반사 스펙트럼을 측정했다.
올레산 도포 전의 시료의 반사광의 L* 0과, 올레산 도포 후의 반사광의 L* 1의 차 ΔL=L* 1-L* 0을, 지문 얼룩의 눈에 띄기 쉬움의 지표로 했다. 올레산 도포 전의 시료의 반사광과, 올레산을 도포하여 닦아낸 후의 시료의 반사광의 색차 ΔE* ab를, 지문 얼룩의 닦아냄성의 지표로 했다.
상기의 실시예 및 비교예의 광학 필름의 구성(하드코트 조성물의 종류, 광학 조정층의 적층 구성, 및 방오층의 성막 방법 및 두께), 및 광학 필름의 평가 결과를, 표 1에 나타낸다. 표 1의 광학 조정층의 구성은 하드코트층측으로부터의 적층 구성을 나타내고 있고, 괄호 내의 숫자는 각 층의 두께(㎚)이다.
미립자를 포함하지 않고, 평활하고 저헤이즈의 하드코트층 상에, 광학 조정층으로서의 SiO2층 및 방오층을 형성한 비교예 1에서는, 초기와 지문 닦아냄 후의 색차 ΔE* ab가 커서 지문 닦아냄성이 불충분했다. 마이크로 입자를 포함하는 하드코트층 상에, 합계 4층의 박막으로 이루어지는 광학 조정층을 형성하고, 그 상에 방오층을 형성한 비교예 2에서는, 초기와 올레산 도포 후의 밝기의 차 ΔL이 커서, 유분에 의한 오염이 부착되었을 때에 오염이 눈에 띄기 쉬운 것을 알았다.
하드코트층의 조성을 변경한 비교예 3∼5도 비교예 2와 마찬가지로, ΔL이 크고, 오염이 눈에 띄기 쉬운 것을 알았다. 특히, 도포에 의해 방오층을 형성한 비교예 4 및 비교예 5에서는, 올레산 접촉각이 작아 ΔL이 특히 커지고 있었다. 비교예 4, 5에서는, 실시예 및 비교예 1∼3에 비교해서, 유분의 부착 방지성이 충분하지 않은 것도 ΔL의 상승에 관여하고 있다고 생각된다.
마이크로 입자를 포함하는 하드코트층 상에, 1층 또는 2층으로 이루어지는 광학 조정층을 설치하고, 그 상에 진공증착법에 의해 방오층을 형성한 실시예 1∼5에서는 ΔL의 절대값이 0.2 이하이며, 유분에 의한 오염이 부착되었을 때도 오염이 눈에 띄기 어렵고, 또한 초기와 지문 닦아냄 후의 색차 ΔE* ab가 0.14 이하이며, 오염 물질의 제거성이 우수한 것을 알았다.
1 하드코트 필름 10 투명 필름 기재
11 하드코트층 5 광학 조정층
7 방오층

Claims (7)

  1. 투명 필름 기재의 일주면 상에 하드코트층을 구비하고, 상기 하드코트층 상의 최표면층으로서 방오층을 구비하는 광학 필름으로서,
    방오층측의 면의 올레산 접촉각이 70° 이상이며,
    방오층측의 면의 산술 평균 높이 Sa가 0.1∼1㎛이며,
    반사율이 1% 이상인 광학 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    헤이즈가 2% 이상인 광학 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 하드코트층과 상기 방오층 사이에, 광학 조정층을 구비하는 광학 필름.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 광학 조정층은 굴절률이 1.50 이하인 저굴절률층을 포함하는 광학 필름.
  5. 제 4 항에 있어서,
    반사율이 6% 이하인 광학 필름.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 하드코트층이, 입자지름이 1∼10㎛인 미립자를 0.5∼20중량% 포함하는 광학 필름.
  7. 화상 표시 매체의 시인측 표면에, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 필름이 배치되어 있는 화상 표시 장치.
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WO2021106797A1 (ja) 2019-11-25 2021-06-03 日東電工株式会社 反射防止フィルムおよび画像表示装置
WO2022014570A1 (ja) 2020-07-13 2022-01-20 日東電工株式会社 防汚層付き光学フィルム

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