KR20240045215A - 광투과성 적층체의 검사 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 종래에 비해서 각별하게 미소한 결점을 검출할 수 있는 광투과성 적층체의 검사 방법을 제공한다. 본 발명의 광투과성 적층체의 검사 방법은, 제 1 주면과 제 2 주면을 갖는 매엽의 광투과성 적층체의 검사 방법으로서, 변위 센서로 상기 광투과성 적층체의 상기 제 1 주면의 높이를 검출하여 변위 데이터를 얻는 것, 광학계로 상기 광투과성 적층체를 주사하고, 그것에 의해 얻어진 주사 화상으로부터 결점의 좌표 맵을 작성하는 것, 및 상기 결점의 좌표 맵에 근거하여 결점을 검출하는 것을 포함하고, 상기 광투과성 적층체의 주사가, 상기 변위 데이터에 근거하여 상기 주사 화상을 얻을 때의 상기 광학계의 초점의 높이 위치와 상기 제 1 주면의 높이 위치의 거리를 일정하게 유지하면서 행해진다.
Description
본 발명은 광투과성 적층체의 검사 방법에 관한 것이다.
화상 표시 장치에 적용되는 광투과성 적층체(예를 들면, 광학 부재, 광학 적층체, 광학 필름, 광투과성 점착 시트)는 화상 표시 결함 등을 방지하기 위해서 상기 적층체 내부의 이물을 배제할 필요가 있다. 그 때문에, 이러한 광투과성 적층체는 대표적으로는 이물 검사에 제공된다. 이물 검사는 대표적으로는 광투과성 적층체의 장척상의 웹을 반송하면서 행해지는 투과 검사이고, 상기 투과 검사에 있어서 이물 등의 결점은 암점으로서 인식될 수 있다. 최근, 화상 표시 장치에 요구되는 표시 성능이 각별히 높아지고, 그 결과, 광투과성 적층체의 이물 검사의 정밀도에 대해서도 각별히 높은 것이 요구되고 있다. 구체적으로는 종래는 50㎛ 정도의 결점을 검출하면 허용되고 있었지만, 10㎛ 정도의 결점을 검출할 필요가 생기고 있다. 그러나, 상기와 같은 장척상의 웹을 반송하면서 행해지는 이물 검사에서는 이렇게 작은 결점을 검출하는 것은 매우 곤란하다. 또한, 광투과성 적층체에 잔주름이나 휘어짐이 존재하는 경우에, 정확하게 결점을 검출하는 것이 곤란하다고 하는 문제가 있다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것이며, 그 주된 목적은 광투과성 적층체에 잔주름이나 휘어짐이 존재하는 경우이어도, 종래에 비해서 각별히 미소한 결점을 검출할 수 있는 매엽의 광투과성 적층체의 검사 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 하나의 국면에 의하면, 제 1 주면과 제 2 주면을 갖는 매엽의 광투과성 적층체의 검사 방법으로서, 변위 센서로 상기 광투과성 적층체의 상기 제 1 주면의 높이를 검출하여 변위 데이터를 얻는 것, 광학계로 상기 광투과성 적층체를 주사하고, 그것에 의해 얻어진 주사 화상으로부터 결점의 좌표 맵을 작성하는 것, 및
상기 결점의 좌표 맵에 근거하여 결점을 검출하는 것을 포함하고, 상기 광투과성 적층체의 주사가, 상기 변위 데이터에 근거하여 상기 주사 화상을 얻을 때의 상기 광학계의 초점의 높이 위치와 상기 제 1 주면의 높이 위치의 거리를 일정하게 유지하면서 행해지는, 검사 방법이 제공된다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 결점의 좌표 맵을 작성하는 것이, 상기 광학계로 상기 광투과성 적층체를 복수회 주사하고, 복수의 예비적 좌표 맵을 작성하는 것 및 상기 복수의 예비적 좌표 맵을 통합하는 것을 포함하고, 각 주사에 있어서의 상기 초점의 높이 위치와 상기 제 1 주면의 높이 위치의 거리가 소정 거리 P씩 상이하다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 변위 데이터에 근거해서 결정되는 상기 광투과성 적층체의 제 1 주면의 기준 높이, 최대 높이 및 최소 높이와, 상기 광투과성 적층체의 두께에 근거하여 주사 횟수를 결정하는 것을 더 포함하고, 상기 최대 높이와 기준 높이의 차를 상기 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qa, 상기 최소 높이와 기준 높이의 차를 상기 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qb, 상기 광투과성 적층체의 두께를 상기 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qc라고 한 경우에, 상기 주사 횟수가 Qa+Qb+Qc 이상(단, Qa+Qb+Qc=0일 때는 1 이상)이다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 주사 횟수가 Qa+Qb+Qc+2이고, 상기 광투과성 적층체의 제 1 주면의 높이 위치로부터 두께 방향 상방으로 (Qa+1)×P의 거리의 높이로부터 두께 방향 하방으로 (Qb+Qc)×P의 거리의 높이까지의 영역을, 상기 초점의 높이 위치와 상기 제 1 주면의 높이 위치의 거리를 상기 소정 거리 P씩 변화시키면서 주사한다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 소정 거리 P가 10㎛∼100㎛이다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 광학계가 라인 카메라를 포함하고, 상기 변위 데이터를 얻는 것 및 상기 결점의 좌표 맵을 작성하는 것이 상기 라인 카메라의 폭방향의 시야마다 연속해서 행해진다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 검사 방법은 50㎛ 이하의 사이즈의 결점을 검출한다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 광투과성 적층체가 광학 필름, 점착제 시트, 및 이들의 조합으로부터 선택된다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 광학 필름이 편광판, 위상차판, 및 이들을 포함하는 적층체로부터 선택된다.
하나의 실시형태에 있어서, 상기 광투과성 적층체의 두께가 300㎛ 이하이다.
본 발명의 실시형태에 의한 광투과성 적층체의 검사 방법에 의하면, 매엽의 광투과성 적층체의 변위(굴곡)를 검출하고, 촬상의 초점을 상기 굴곡을 따르도록 상기 광투과성 적층체를 주사함으로써, 광투과성 적층체에 잔주름이나 휘어짐이 존재하는 경우이어도, 미소한 결점을 양호하게 검출할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 의한 광투과성 적층체의 검사 방법을 설명하는 플로우도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 의한 검사 방법에 사용될 수 있는 검사 장치의 일례의 개략 측면도이다.
도 3은 변위 데이터 취득 공정을 설명하는 개략도이다.
도 4는 변위 데이터 취득 공정을 설명하는 개략도이다.
도 5는 주사 횟수 결정 공정을 설명하는 개략도이다.
도 6은 주사 화상을 촬상할 때의 초점의 높이 위치를 설명하는 개략도이다.
도 7은 결점의 좌표 맵의 작성의 일례를 설명하는 개념도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 의한 검사 방법에 사용될 수 있는 검사 장치의 일례의 개략 측면도이다.
도 3은 변위 데이터 취득 공정을 설명하는 개략도이다.
도 4는 변위 데이터 취득 공정을 설명하는 개략도이다.
도 5는 주사 횟수 결정 공정을 설명하는 개략도이다.
도 6은 주사 화상을 촬상할 때의 초점의 높이 위치를 설명하는 개략도이다.
도 7은 결점의 좌표 맵의 작성의 일례를 설명하는 개념도이다.
이하, 도면을 참조해서 본 발명의 실시형태에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시형태에는 한정되지 않는다. 또한, 도면은 모두 모식적으로 나타내어지고 있고, 실제의 상태를 정확하게 그린 것은 아니다.
A．광투과성 적층체의 검사 방법의 개략
도 1의 플로우도에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 실시형태에 의한 광투과성 적층체의 검사 방법은, 제 1 주면과 제 2 주면을 갖는 매엽의 광투과성 적층체의 제 1 주면의 높이를 변위 센서로 검출하고, 변위 데이터를 얻는 것(변위 데이터 취득 공정), 광학계로 상기 광투과성 적층체를 주사하고, 그것에 의해 얻어진 주사 화상으로부터 결점의 좌표 맵을 작성하는 것(결점의 좌표 맵 작성 공정) 및 상기 결점의 좌표 맵에 근거하여 결점을 검출하는 것(결점 검출 공정)을 포함하고, 바람직하게는 주사 횟수를 결정하는 것(주사 횟수 결정 공정)을 더 포함한다. 결점의 좌표 맵 작성 공정에 있어서, 광투과성 적층체의 주사는 얻어진 변위 데이터에 근거하여 주사 화상을 얻을 때의 광학계의 초점의 높이 위치와 제 1 주면의 높이 위치의 거리를 일정하게 유지하면서 행해진다. 이와 같이 광투과성 적층체를 주사함으로써, 제 1 주면의 변위(굴곡)에 추종한 주사를 행할 수 있고, 결과로서, 광투과성 적층체에 잔주름이나 휘어짐이 존재하는 경우이어도, 미소한 결점을 양호에 검출할 수 있다.
A-1. 검사 장치
도 2는 본 발명의 실시형태에 의한 검사 방법에 사용될 수 있는 검사 장치의 일례의 개략 측면도이다. 도 2에 나타내는 검사 장치(100)는 검사 대상의 광투과성 적층체를 고정하는 샘플 스테이지(10)와, 주사 화상을 촬상하는 촬상부를 포함하는 광학계(20)와, 광투과성 적층체의 제 1 주면(상면)의 높이를 검출하는 변위 센서(30)와, 광학계(20)를 Z축 방향으로 임의로 이동 가능하게 지지하는 Z축 이동 제어부(40)를 구비한다. 변위 센서(30) 및 Z축 이동 제어부(40)는, 지지 기구(50a, 50b)에 지지되고 있고, 샘플 스테이지(10)는 XY축 이동 제어부(60)에 의해 X축 방향 및 Y축 방향으로 임의로 이동 가능하다. 도시하지 않지만, 변위 센서(30)는 측정된 변위 데이터를 해석 또는 처리하는 변위 데이터 처리부와 접속되고, Z축 이동 제어부(40)는 변위 데이터 처리부로부터 출력되는 변위 정보(예를 들면, 변위 맵)에 근거하여 제 1 주면의 변위 패턴에 대응하도록 광학계(20)의 높이를 변화시킬 수 있다. 이러한 구성으로 함으로써, 광학계(20)의 위치(높이)의 변화를 통하여 광학계(촬상부)의 초점을 소망의 위치(높이)로 설정할 수 있고, 결과로서, 주사 시에 있어서의 제 1 주면의 높이 위치와의 거리가 일정하게 되도록 광학계(촬상부)의 초점의 높이 위치를 제어할 수 있다.
샘플 스테이지(10)는 상기한 바와 같이, X축 방향 및 Y축 방향으로 임의로 이동 가능하게 구성되어 있다. 이러한 구성으로 함으로써, 광투과성 적층체의 임의의 영역을 검사할 수 있다. 샘플 스테이지는 예를 들면, 광투과성 적층체를 적재하는 스테이지 대와, 그 단부를 고정하는 고정 부재를 구비할 수 있다. 또는 샘플 스테이지는 광투과성 적층체를 중공에 고정할 수 있는 구성이어도 되고, 예를 들면, 대향하는 1쌍 또는 2쌍의 지지 부재로 광투과성 적층체의 단부만을 파지 가능하게 구성될 수 있다. 잔주름이나 휘어짐을 저감시키는 관점에서, 장력을 부여한 상태로 광투과성 적층체를 고정해도 된다.
광학계(20)는 광투과성 적층체에 검사 광을 조사하는 조사측 광학계와 촬상부를 포함한다. 촬상부는 촬상 소자와, 광투과성 적층체로 반사된 검사 광을 촬상소자 상에서 결상시키는 결상측 광학계를 포함한다. 조사측 광학계로서는 동축 낙사 조명계 또는 사방 조명계가 열거되고, 동축 낙사 조명계가 바람직하게 사용될 수 있다. 검사 광으로서는 바람직하게는 레이저 광이 사용된다. 결상측 광학계는 대물 렌즈, 결상 렌즈 등을 포함할 수 있다. 촬상 소자로서는 CCD, CMOS 등이 바람직하게 예시될 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서는 촬상부를 카메라라고 하는 경우가 있다. 하나의 실시형태에 있어서, 촬상부는 라인 카메라이다.
변위 센서(30)는 대표적으로는 비접촉계 변위 센서이다. 비접촉계 변위 센서로서는 레이저 변위 센서, 초음파 변위 센서 등이 바람직하게 예시될 수 있다.
본 발명의 실시형태에 의한 검사 방법에 사용될 수 있는 검사 장치는 상기 도시예에 한정되지 않는다. 도시예의 검사 장치(100)는 반사형 검사 장치이지만, 이것과는 상이한 투과형 검사 장치를 사용할 수도 있다. 반사형 검사 장치에 의하면, 기포 등의 결점을 백점으로서 검출할 수 있고, 투과형 검사 장치에 의하면, 이물 등의 결점을 흑점으로서 검출할 수 있다. 투과형 검사 장치의 경우, 조사측 광학계(광원)가 제 2 주면측, 대표적으로는 샘플 스테이지의 하방에 설치되고, 샘플 스테이지는 광을 투과할 수 있도록 광투과성 적층체의 단부만을 파지할 수 있는 형상(예를 들면, 프레임상)으로 구성될 수 있다.
또한, 예를 들면, 샘플 스테이지를 X축 방향 및 Y축 방향으로 임의로 이동 가능하게 구성하는 것 대신에, 광학계 및 변위 센서를 X축 방향 및 Y축 방향으로 임의로 이동 가능한 XY축 이동 기구를 설치해도 된다.
A-2. 광투과성 적층체
검사 대상이 되는 광투과성 적층체로서는 검사가 필요로 되는 임의의 적절한 광투과성의 적층체가 열거된다. 구체예로서는 광학 필름, 점착제 시트 및 이들의 조합(예를 들면, 점착제층 부착 광학 필름)이 열거된다. 광학 필름으로서는 예를 들면, 편광판, 위상차판, 터치패널용 도전성 필름, 표면 처리 필름 및 이들을 목적에 따라서 적절하게 적층한 적층체(예를 들면, 반사 방지용 원평광판, 터치패널용 도전층 부착 편광판)가 열거된다. 점착제 시트는 대표적으로는 점착제와 그 적어도 일방의 측에 가착된 이형 필름을 포함한다. 광투과성 적층체는, 대표적으로는 점착제층 부착 광학 필름일 수 있다. 광투과성 적층체의 두께는 바람직하게는 300㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 280㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 250㎛ 이하이다. 본 발명의 실시형태에 의하면, 이러한 박형의 광투과성 적층체에 있어서도 미소한 이물을 양호하게 검출할 수 있다. 광투과성 적층체의 두께의 하한은 예를 들면, 30㎛일 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 광투과성 적층체의 두께는 굴절률을 가미한 경우의 두께이고, 하기 식(1)에 근거해서 산출된다. 또한, 식(1) 중의 평균 굴절률은 하기 식(2)에 근거해서 산출된다.
굴절률을 가미한 경우의 광투과성 적층체의 두께(㎛) = 광투과성 적층체를 구성하는 각 층의 두께의 합계(㎛÷평균 굴절률 (1)
평균 굴절률 = 광투과성 적층체를 구성하는 각 층의 굴절률의 합계÷광투과성 적층체를 구성하는 층의 수 (2)
광투과성 적층체는 예를 들면, 광투과성 적층체를 구성하는 각 층을, 소위 롤 투 롤에 의해 적층함으로써 제작될 수 있다. 광투과성 적층체는 제 1 주면과 제 2 주면을 갖는다. 제 1 주면은 촬상부측의 면(상면)이다. 제 1 주면은 예를 들면, 광투과성 적층체가 부착되는 화상 표시 셀과 반대측의 표면이고; 제 2 주면은 예를 들면, 화상 표시 셀측의 표면이고, 보다 상세하게는 점착제층의 표면일 수 있다. 제작된 장척상의 광투과성 적층체는 소정 사이즈로 재단되어서 검사에 제공된다. 상기 사이즈는, 대표적으로는 최종 제품이 복수매 얻어지는 사이즈일 수 있다. 검사 종료 후, 광투과성 적층체는 대표적으로는 최종 제품 사이즈로 재단되어서 출하될 수 있다.
하나의 실시형태에 있어서는 광투과성 적층체는 검사에 제공될 때, 제 1 주면에 반사성 보호 필름이 박리 가능하게 가착되어도 좋다. 광투과성 적층체의 종류·구성에 따라서는(예를 들면, 광투과성 적층체가 저반사층(AR층)을 포함하는 경우에는), 변위 센서에 의한 표면 변위의 검출이나 촬상부에 의한 촬상이 곤란하게 되는 경우가 있는 바, 반사성 보호 필름을 가착함으로써, 이러한 문제를 회피할 수 있다. 반사성 보호 필름은 대표적으로는 변위 센서로부터의 계측광 및 광학계로부터의 검사광을 반사한다. 하나의 실시형태에 있어서는 반사성 보호 필름은 이하의 관계를 만족한다:
y≥0.0181x-11.142
여기서, x는 650nm∼800nm의 파장 영역에서의 검출 파장의 절대값이고, y는 반사율의 절대값이다. 이러한 구성이면, 변위 센서에 의한 표면 변위의 검출이나 촬상부에 의한 촬상을 양호하게 행할 수 있다. 반사성 보호 필름으로서는 상기 기능을 갖는 한에 있어서 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 구체적으로는 반사성 보호 필름은 예를 들면, 일본특허공개 2019-099751호 공보의 [0031]에 기재된 환상 올레핀계 수지로 구성될 수 있다. 환상 올레핀계 수지로서는 예를 들면, 폴리 노르보르넨이 열거된다. 환상 올레핀계 수지는 시판품을 사용해도 된다. 시판품의 구체예로서는 Zeon Corporation 제작의 제오노어 및 제오넥스, JSR 제작의 아톤, Mitsui Chemicals, Inc. 제작의 아펠, TOPAS ADVANCED POLYMERS 제작의 토파스 등이 열거된다. 환상 올레핀계 수지 필름은 환상 올레핀계 수지를 50중량% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 하나의 실시형태에 있어서는 반사성 보호 필름의 표면에 하드 코트층이 형성되어 있어도 된다. 하드 코트층을 형성함으로써, 반사성 보호 필름의 스크래치의 발생, 반사성 보호 필름에의 이물의 부착 등을 방지할 수 있으므로, 보다 고정밀도로 검사를 행할 수 있어 미소한 결점을 정확하게 검출할 수 있다.
반사성 보호 필름은 예정되는 검사 횟수에 따라서, 복수매를 가착해도 된다. 예를 들면 검사가 2회 예정되어 있는 경우에는 반사성 보호 필름을 2매 부착함으로써, 2회째의 검사 전에 외측의 반사성 보호 필름을 1매 박리하면, 내측의 반사성 보호 필름의 스크래치의 발생, 내측의 반사성 보호 필름에의 이물의 부착 등을 방지할 수 있으므로, 보다 고정밀도로 복수회의 검사를 행할 수 있다. 또한, 복수회의 검사가 예정되어 있는 경우이어도, 반사성 보호 필름을 1매만 가착해도 된다.
하나의 실시형태에 있어서는 반사성 보호 필름의 표면(반사성 보호 필름이 복수 존재하는 경우에는 최표의 반사성 보호 필름 표면)에 표면 보호 필름이 박리가능하게 가착되어도 된다. 표면 보호 필름을 가착함으로써, 반사성 보호 필름의 스크래치의 발생, 반사성 보호 필름에의 이물의 부착 등을 방지할 수 있으므로, 보다 고정밀도로 검사를 행할 수 있다. 표면 보호 필름은 대표적으로는 검사 시에 박리 제거된다. 검사 종료 후에는 검사 시에 박리된 표면 보호 필름이 광투과성 적층체의 표면에 다시 가착되어도 되고, 다른 표면 보호 필름이 박리 가능하게 가착되어도 된다.
반사성 보호 필름 및 표면 보호 필름은 롤 투 롤에 의해 (즉, 재단 전에) 광투과성 적층체에 가착되어도 되고, 재단 후에 가착되어도 된다.
이하, 각 공정에 대해서 구체적으로 설명한다.
B．변위 데이터 취득 공정
변위 데이터 취득 공정에 있어서는, 변위 센서로 광투과성 적층체의 제 1 주면의 높이(변위)를 검출하고, 변위 데이터를 취득한다. 대표적으로는 변위 센서를 사용하여 광투과성 적층체의 제 1 주면 상을 이차원적으로 주사해서 그 높이를 검출한다. 예를 들면, 도 3에 나타내는 바와 같이 하여, 광투과성 적층체(200)의 제 1 주면(200a) 상을 소정의 간격 L로 라인상으로 주사해서 그 높이를 검출한다. 상기 소정의 간격 L은 예를 들면 1mm∼100mm, 바람직하게는 1mm∼30mm, 보다 바람직하게는 5mm∼15mm이다.
변위 센서에 의한 제 1 주면의 높이의 검출은 촬상부(대표적으로는 라인 카메라)의 폭방향의 시야마다 복수의 라인을 따라 행할 수 있다. 예를 들면, 도 4에 나타내는 실시형태에서는 다음과 같이 해서 제 1 주면의 높이가 검출된다. 우선, 광투과성 적층체의 제 1 주면의 검사 대상 영역을 촬상부의 폭방향의 시야(도시예에서는 30mm)마다 N개의 영역으로 분할한다. 라인 X1과 X4에 의해 규정되는 영역 1에 있어서, 10mm 간격의 4개의 라인 X1∼X4에 있어서의 Y방향의 시점(좌표 Y0)으로부터 종점(좌표 Y100)까지의 제 1 주면의 높이를 순차 검출한다. 이어서, 라인 X4과 X7에 의해 규정되는 영역 2에 있어서 10mm 간격의 4개의 라인 X4∼X7에 있어서의 Y방향의 시점(좌표 Y0)부터 종점(좌표 Y100)까지의 제 1 주면의 높이를 순차 검출한다 (라인 X4 상에서의 높이 검출은 생략해도 된다). 상기 순서를 영역 N까지 반복함으로써, 광투과성 적층체의 제 1 주면 전체 또는 검사 대상 영역의 전체에 대해서, 변위 데이터를 얻을 수 있다. 후술하는 바와 같이, 본 발명의 실시형태에 의한 검사 방법에 있어서는 제 1 주면 전체 또는 검사 대상 영역의 전체에 대해서, 변위 데이터를 취득하고, 이어서, 광학계의 주사를 행해도 되고, 또는 촬상부의 폭방향의 시야마다 변위 데이터 취득 공정부터 결점의 좌표 맵 작성 공정까지를 연속해서 행하고, 시야를 순차적으로 어긋나게 하고 동일한 조작을 반복함으로써, 제 1 주면 전체 또는 검사 대상 영역의 전체에 대해서 검사를 행해도 된다. 따라서, 상기 시야 마다 일방향에 제 1 주면의 높이를 검출함으로써, 광학계의 주사 패턴(주사의 방향 및 위치)와 일치한 변위 데이터를 얻을 수 있고, 후자의 실시형태에 있어서 검사의 효율화에 기여할 수 있다.
얻어진 변위 데이터를, 임의의 적절한 알고리즘에 의해 처리함으로써, 2D 또는 3D 형상 프로파일(이하, 변위 맵이라고도 한다)이 얻어질 수 있다. 예를 들면, 제 1 주면의 전체 또는 소정 영역의 변위 맵, 임의의 단면에 있어서의 변위 맵, 임의의 측면으로부터 본 경우의 변위 맵 등이 얻어질 수 있다. 이러한 처리로서는 변위 센서에 부속의 형상 해석 프로그램, 목적에 따라서 제작된 프로그램 등의 임의의 적절한 컴퓨터 프로그램(예를 들면, Auto Focus 전면 변위 Scan모드 알고리즘)을 사용한 처리가 열거된다.
C．주사 횟수 결정 공정
후술하는 바와 같이, 결점의 좌표 맵 작성 공정에 있어서는 광투과성 적층체를 그 두께 방향 전체에 걸쳐 검사하는 관점에서, 광투과성 적층체의 제 1 주면의 높이 위치와 촬상부의 초점의 높이 위치의 거리를 소정 거리 P씩 변화시켜서 복수회의 주사가 행해질 수 있다. 따라서, 하나의 실시형태에 있어서, 결점의 좌표 맵 작성 공정 전에 주사 횟수를 결정한다.
주사 횟수는 예를 들면, 변위 데이터에 근거해서 결정되는 광투과성 적층체의 제 1 주면의 기준 높이, 최대 높이 및 최소 높이(이하, 단지, 광투과성 적층체의 기준 높이, 최대 높이 및 최소 높이라고 하는 경우가 있다)와, 광투과성 적층체의 두께에 근거해서 결정될 수 있다.
광투과성 적층체의 기준 높이로서는 제 1 주면의 임의의 지점의 높이를 기준 높이로 할 수 있다. 하나의 실시형태에 있어서, 광투과성 적층체의 기준 높이는 제 1 주면에 관해서 얻어진 변위 데이터에 있어서의 최대 높이 및 최소 높이의 중앙값이고, 양자의 산술 평균으로서 산출된다. 또한, 광투과성 적층체의 최대 높이 및 최소 높이는 각각, 상기 변위 데이터에 있어서의 최대 높이 및 최소 높이이다. 또는 상기 변위 데이터에 근거해서 외삽법, 내삽법 등에 의해 산출되는 상정 최대 높이 및 상정 최소 높이를 각각, 광투과성 적층체의 최대 높이 및 최소 높이로 할 수도 있다.
주사 횟수는 예를 들면, 최대 높이와 기준 높이의 차(|최대 높이-기준 높이|)를 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qa, 최소 높이와 기준 높이의 차(|최소 높이-기준 높이|)를 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qb, 광투과성 적층체의 두께를 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qc라고 한 경우에, Qa+Qb+Qc 이상 (단, Qa+Qb+Qc가 0인 경우는 1 이상)으로 결정될 수 있다. 주사 횟수를 Qa+Qb+Qc 이상으로 함으로써, 광투과성 적층체가 잔주름이나 휘어짐을 갖는 경우이어도, 그들의 영향을 배제하고, 광투과성 적층체를 두께 방향의 전체에 걸쳐 검사할 수 있다. 주사 횟수의 상한은 특별히 제한되지 않지만, 생산 택트의 관점에서, 주사 횟수는 예를 들면, 1회 이상 10회 이하이면 된다.
하나의 실시형태에 있어서, 주사 횟수는 제 1 주면보다 상방에 있어서의 제 1 예비 주사 및/ 또는 제 2 주면보다 하방에 있어서의 제 2 예비 주사를 추가로 가하고, Qa+Qb+Qc+1 또는 Qa+Qb+Qc+2로 할 수 있다. 제 1 예비 주사 및/또는 제 2 예비 주사를 행함으로써, 광투과성 적층체를 두께 방향의 전체에 걸쳐 확실하게 검사할 수 있다.
도 5를 참조하면서, 주사 횟수 결정 공정의 하나의 실시형태에 관해서, 구체적인 순서를 설명한다. 본 실시형태에 있어서는 도 5(b)에 나타내는 변위 맵으로부터 광투과성 적층체의 기준 높이, 최대 높이 및 최소 높이를 결정하고, 이들과 광투과성 적층체의 두께에 근거해서 주사 횟수를 결정한다. 또한, 도 5(b)에 나타내는 변위 맵은 도 5(a)에 있어서 광투과성 적층체(200)를 Y방향 일측으로부터 본 경우의 제 1 주면의 표면 변위를 나타내는 2D 형상 프로파일이고, 도 5(a)에 나타낸 바와 같이, 광투과성 적층체(200)의 제 1 주면에 있어서, 변위 센서(30)로 소정의 간격의 4개 라인(라인A∼라인 D)에 있어서의 표면 변위를 검출하고, Auto Focus 전면변위 Scan모드 알고리즘을 사용한 처리에 의해 얻어질 수 있다(도 5(b) 중, 실측값에서의 최대 높이는 라인 B에 있어서의 160㎛이며, 실측값에서의 최소 높이는 라인 C에 있어서의 -310㎛이다. 또한, 내삽법으로 얻어진 상정 최대 높이 및 상정 최소 높이는 각각 190㎛ 및 -340㎛이다). 본 실시형태에 있어서는 광투과성 적층체의 최대 높이 및 최소 높이로서, 취득된 변위 데이터(실측값)에 있어서의 최대 높이 및 최소 높이를 사용한다. 또한, 광투과성 적층체의 두께(실제의 두께(350㎛)을 평균 굴절률(1.4)로 나누어서 산출함)는 250㎛이며, 각 주사에 있어서의 소정 거리 P는 100㎛로 한다. 또한, 도 5(b)에 있어서의 높이 0㎛는 변위 데이터의 취득 개시점의 제 1 주면의 높이(최초에 초점이 맞은 제 1 주면의 높이)이다.
순서 A1: 최대 높이 Hmax(160㎛) 및 최소 높이 Hmin(-310㎛)에 근거하여 기준 높이를 -75㎛로 결정한다.
순서 A2: Hmax와 기준 높이의 차(235㎛)를 소정 거리 P(100㎛)로 나눈 몫(2.35)의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값 Qa를 얻는다(Qa=2).
순서 A3: Hmin과 기준 높이의 차(235㎛)를 소정 거리 P(100㎛)로 나눈 몫(2.35)의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값 Qb를 얻는다(Qb=2).
순서 A4: 광투과성 적층체의 두께(250㎛)를 소정 거리 P로 나눈 몫(2.5)의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값 Qc를 얻는다(Qc=3).
순서 A5: Qa, Qb 및 Qc에 근거해서 주사 횟수를 결정한다(Qa+Qb+Qc 이상으로서 적용되는 주사 횟수는 7 이상 이고, 제 1 예비 주사 및 제 2 예비 주사 중 어느 일방 또는 양방을 행하는 경우의 주사 횟수는 각각, 8 또는 9일 수 있다).
D．결점의 좌표 맵 작성 공정
결점의 좌표 맵은 광투과성 적층체에 대하여 검사 광을 주사하고, 주사 화상을 얻는 것에 의해 작성된다. 이 때, 변위 데이터에 근거하여 광학계(촬상부)의 초점의 높이 위치와 제 1 주면의 높이 위치의 거리를 일정하게 유지하면서 주사한다. 하나의 실시형태에 있어서, 촬상부의 초점이 제 1 주면의 변위 패턴에 추종하도록 초점의 높이 위치를 조정하면서 주사한다.
변위 데이터와 주사 위치의 위치 맞춤은 예를 들면, 미리 광투과성 적층체의 제 1 주면에 기준 마크를 설치해 두고, 상기 기준 마크의 위치 좌표에 근거해서 행할 수 있다. 또는 광투과성 적층체의 코너부를 기준으로 해서 위치 맞춤을 행할 수도 있다.
주사는 촬상부와 광투과성 적층체의 상대적인 위치 관계를 변화시킴으로써, 광투과성 적층체의 검사 대상 영역 전체에 대하여 이차원적으로 행해질 수 있다. 바람직하게는 촬상부의 주사 방향과 변위 센서의 주사 방향은 평행하고, 보다 바람직하게는 동일한 방향이다.
상기 주사에 있어서는 제 1 주면의 높이 위치로서, 임의의 적절한 알고리즘을 사용해서 변위 데이터로부터 산출되는 값을 사용할 수 있다. 예를 들면, 촬상부로서 라인 카메라를 사용하는 경우, 라인 카메라의 폭방향(예를 들면, X방향)의 시야 내에 있어서의 제 1 주면의 최대 높이와 최소 높이의 중앙값을 제 1 주면의 높이 위치로 할 수 있고, 상기 시야마다 주사 방향(예를 들면, Y방향)에 있어서의 제 1 주면의 높이 위치의 변화에 추종하도록 라인 스캔 카메라의 초점의 높이 위치를 변화시키면서 주사할 수 있다. 예를 들면, 도 4를 참조하면서 구체적으로 설명하면, 영역 1에 관해서, 좌표 Y0로 검출되는 라인 X1∼X4에 있어서의 최대 높이와 최소 높이의 중앙값, 좌표 Y1로 검출되는 라인 X1∼X4에 있어서의 최대 높이와 최소 높이의 중앙값, …, 좌표 Y100으로 검출되는 라인 X1∼X4에 있어서의 최대 높이와 최소 높이의 중앙값과 같이 Y0으로부터 Y100까지의 Y좌표의 이동에 따라 변화되는 제 1 주면의 높이 위치에 추종하도록 라인 카메라의 초점의 높이 위치를 변화시키면서 주사할 수 있다.
광투과성 적층체의 주사는 1회 또는 복수회 행해진다. 바람직하게는 주사 횟수 결정 공정으로 결정된 복수회의 주사가 행해진다.
주사가 1회만 행해지는 경우, 제 1 주면 상에(환언하면, 제 1 주면의 높이 위치에) 촬상부의 초점을 맞춘 상태에서, 또는 광투과성 적층체 내부의 임의의 심도에 촬상부의 초점을 맞춘 상태에서, 검사 대상 영역 전체에 대하여 주사가 행해지고, 상기 주사에 있어서 얻어진 주사 화상이 결점의 좌표 맵(XY 좌표 맵)이 된다.
주사가 복수회 행해지는 경우, 도 6에 나타내는 바와 같이, 촬상부의 초점을 소정 거리 P씩 어긋나게 하면서 주사가 행해질 수 있다. 소정 거리 P는 선명한 주사 화상이 얻어지는 범위에 있어서 제한되지 않고, 광학계의 초점 심도(피사계 심도)에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 소정 거리 P는, 예를 들면 10㎛∼100㎛이고, 바람직하게는 20㎛∼80㎛이며, 보다 바람직하게는 40㎛∼60㎛이다. 이러한 구성에 의하면, 적절한 주사 횟수로, 두께 방향으로 존재하는 실질적으로 모든 결점을 검출할 수 있다. 또한, 도시예에서는 Auto Focus 시스템을 사용해서 광학계(촬상부)를 Z방향으로 이동시킴으로써, 초점의 위치 맞춤을 행하고 있지만, 초점의 위치 맞춤은 다른 수단에 의해 행해져도 된다. 예를 들면, 렌즈 등에 의해 촬상부의 초점거리를 변경해도 되고, 샘플 스테이지의 높이를 변화시켜도 되고, 이들의 수단을 조합시켜도 된다.
상술한 바와 같이, 제 1 예비 주사 및 제 2 예비 주사를 행하는 경우, 광투과성 적층체(200)의 제 1 주면(200a)의 높이 위치로부터 두께 방향 상방으로 (Qa+1)×P의 거리의 높이로부터 두께 방향 하방으로 (Qb+Qc)×P의 거리의 높이까지의 영역을, 주사마다, 촬상부의 초점 높이 위치와 제 1 주면 높이 위치의 거리를 소정 거리 P씩 변화시키면서 주사한다. 이 경우, 주사의 순서는 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는 제 1 예비 주사를 최초로 행하고, 두께 방향 하방을 향해서 촬상부의 초점을 소정 거리 P씩 어긋나게 하면서 주사를 행하고, 최후에 제 2 예비 주사를 행할 수 있다. 또한, 예를 들면, 제 1 주면 상에 (환언하면, 제 1 주면의 높이 위치에) 촬상부의 초점을 맞춘 상태로 최초의 주사를 행하고, 이어서, 그 두께 방향 하방을 향해서 촬상부의 초점을 어긋나게 하면서 순차 주사를 행하고, 제 2 예비 주사의 종료 후에 제 1 주면의 높이 위치로부터 두께 방향 상방을 향해서 촬상부의 초점을 어긋나게 하면서 순차 주사를 행하고, 최후에 제 1 예비 주사를 행할 수 있다. 또한 예를 들면, 제 1 주면 상에 (환언하면, 제 1 주면의 높이 위치에) 촬상부의 초점을 맞춘 상태에서 최초의 주사를 행하고, 이어서, 그 두께 방향 상방을 향해서 촬상부의 초점을 어긋나게 하면서 순차 주사를 행하고, 제 1 예비 주사의 종료 후에 제 1 주면의 높이 위치로부터 두께 방향 하방을 향해서 촬상부의 초점을 어긋나게 하면서 순차 주사를 행하고, 최후에 제 2 예비 주사를 행할 수 있다.
구체예로서, 도 5에 나타내는 실시형태에 있어서, 최대 높이, 최소 높이, 표준 높이 및 광투과성 적층체 두께를, 각각 160㎛, -310㎛, -75㎛ 및 250㎛로 하고, 소정 거리 P를 100㎛로 하고, 주사 횟수를 9회로 결정한 경우(Qa+Qb+Qc에 의해 산출되는 조작 횟수(7회)에 제 1 예비 주사 및 제 2 예비 주사를 추가한 경우), 촬상부의 초점의 높이 위치가 제 1 주면의 높이 위치로부터 상방으로 300㎛의 거리를 유지하도록 1회째의 주사를 행하고, 이어서, 상기 초점의 높이 위치를 하방으로 100㎛씩 어긋나게 하면서, 계 9회의 주사를 행할 수 있다.
주사가 복수회 행해지는 경우, 각 주사로 얻어진 주사 화상을 예비적 좌표 맵으로 하고, 얻어진 복수의 예비적 좌표 맵을 통합함으로써, 결점의 좌표 맵(통합 XY좌표 맵)이 작성된다.
예를 들면, 도 7은 5개의 예비적 좌표 맵을 통합해서 결점의 좌표 맵(통합 XY좌표 맵)을 작성하는 일례를 나타낸다. 도 7과 같이, 각 화상 데이터를 통합함으로써, 각각의 좌표 맵에 존재하는 결점을 공통의 XY 좌표 상에서 나타낼 수 있다. 이렇게 하여, 얻어진 결점의 좌표 맵(통합 XY 좌표 맵)에 있어서는 광투과성 적층체에 있어서의 실질적으로 모든 결점이 XY 좌표(2차원 좌표)에 나타내어지고 있다.
E．결점 검출 공정
결점 검출 공정에 있어서는 결점의 좌표 맵에 근거하여 결점을 검출한다. 통합 XY 좌표 맵에 근거해서 결점을 검출하는 경우는 모든 예비적 좌표 맵에 있어서, XY 좌표로부터 동일 결점을 특정하고, 가장 콘트라스트 값이 높은 화상을 결점으로서 검출할 수 있고, 또는 상기 화상이 얻어졌을 때의 초점의 위치로부터 결점의 심도(Z좌표)를 특정할 수 있다.
본 발명의 실시형태에 의한 검사 방법에 의하면, 50㎛ 이하, 바람직하게는 30㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 10㎛ 이하의 사이즈(최대 길이)의 결점을 검출할 수 있다. 검출되는 결점의 사이즈는, 예를 들면 1㎛ 이상, 또한 예를 들면 3㎛ 이상, 또한 예를 들면 8㎛ 이상일 수 있다.
이상과 같이 해서, 결점의 검출이 행해질 수 있다. 검사 종료 후, 광투과성 적층체는 상기한 바와 같이, 대표적으로는 최종 제품 사이즈로 재단되어서 출하될 수 있다. 이것도 상기한 바와 같이, 검사 종료 후에는 필요에 따라서, 박리한 표면 보호 필름을 광투과성 적층체에 다시 박리 가능하게 가착해도 된다.
상기 B항∼E항에서 설명한 본 발명의 실시형태에 의한 광투과성 적층체의 검사 방법에 있어서는 변위 데이터 취득 공정으로부터 결점의 좌표 맵 작성 공정까지를 촬상부(라인 카메라)의 폭방향의 시야마다 행해도 된다. 촬상부의 폭방향의 시야마다 변위 데이터 취득 공정으로부터 결점의 좌표 맵 작성 공정까지를 연속해서 행함으로써 변위 데이터와 주사 위치의 위치 맞춤이 불필요 또는 매우 용이하게 되고, 또한, 주사 영역마다 주사 횟수를 최적화할 수 있는 점으로부터 고정밀도한 결점의 검출을 효율적으로 행할 수 있다. 목적에 따라서, 변위 데이터 취득 공정으로부터 결점 검출 공정까지를 촬상부(라인 카메라)의 폭방향의 시야마다로 행해도 된다.
(산업상 이용가능성)
본 발명의 실시형태에 의한 광투과성 적층체의 검사 방법은 화상 표시 장치의 제조 과정에 있어서 광학 필름, 점착제 시트 등의 결점의 검출에 바람직하게 사용될 수 있다.
10 샘플 스테이지
20 광학계
30 변위 센서
40 Z축 이동 제어부
50 지지 기구
60 XY축 이동 제어부
100 검사 장치
200 광투과성 적층체
20 광학계
30 변위 센서
40 Z축 이동 제어부
50 지지 기구
60 XY축 이동 제어부
100 검사 장치
200 광투과성 적층체
Claims (10)
- 제 1 주면과 제 2 주면을 갖는 매엽의 광투과성 적층체의 검사 방법으로서,
변위 센서로 상기 광투과성 적층체의 상기 제 1 주면의 높이를 검출하여 변위 데이터를 얻는 것,
광학계로 상기 광투과성 적층체를 주사하고, 그것에 의해 얻어진 주사 화상으로부터 결점의 좌표 맵을 작성하는 것, 및
상기 결점의 좌표 맵에 근거하여 결점을 검출하는 것을 포함하고,
상기 광투과성 적층체의 주사가, 상기 변위 데이터에 근거하여 상기 주사 화상을 얻을 때의 상기 광학계의 초점의 높이 위치와 상기 제 1 주면의 높이 위치의 거리를 일정하게 유지하면서 행해지는, 검사 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 결점의 좌표 맵을 작성하는 것이,
상기 광학계로 상기 광투과성 적층체를 복수회 주사하여 복수의 예비적 좌표 맵을 작성하는 것, 및
상기 복수의 예비적 좌표 맵을 통합하는 것을 포함하고,
각 주사에 있어서의 상기 초점의 높이 위치와 상기 제 1 주면의 높이 위치의 거리가 소정 거리 P씩 상이한, 검사 방법. - 제 2 항에 있어서,
상기 변위 데이터에 근거해서 결정되는 상기 광투과성 적층체의 제 1 주면의 기준 높이, 최대 높이 및 최소 높이와, 상기 광투과성 적층체의 두께에 근거하여 주사 횟수를 결정하는 것을 더 포함하고,
상기 최대 높이와 기준 높이의 차를 상기 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qa, 상기 최소 높이와 기준 높이의 차를 상기 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qb, 상기 광투과성 적층체의 두께를 상기 소정 거리 P로 나눈 몫의 소수점 첫째자리를 사사오입한 값을 Qc라고 한 경우에, 상기 주사 횟수가 Qa+Qb+Qc 이상(단, Qa+Qb+Qc=0일 때는 1 이상)인, 검사 방법. - 제 3 항에 있어서,
상기 주사 횟수가 Qa+Qb+Qc+2이고,
상기 광투과성 적층체의 제 1 주면의 높이 위치로부터 두께 방향 상방으로 (Qa+1)×P의 거리의 높이로부터 두께 방향 하방으로 (Qb+Qc)×P의 거리의 높이까지의 영역을, 상기 초점의 높이 위치와 상기 제 1 주면의 높이 위치의 거리를 상기 소정 거리 P씩 변화시키면서 주사하는, 검사 방법. - 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 소정 거리 P가 10㎛∼100㎛인, 검사 방법. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광학계가 라인 카메라를 포함하고,
상기 변위 데이터를 얻는 것 및 상기 결점의 좌표 맵을 작성하는 것이, 상기 라인 카메라의 폭방향의 시야마다 연속해서 행해지는, 검사 방법. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
50㎛ 이하의 사이즈의 결점을 검출하는, 검사 방법. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광투과성 적층체가 광학 필름, 점착제 시트, 및 이들의 조합으로부터 선택되는, 검사 방법. - 제 8 항에 있어서,
상기 광학 필름이 편광판, 위상차판, 및 이들을 포함하는 적층체로부터 선택되는, 검사 방법. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광투과성 적층체의 두께가 300㎛ 이하인, 검사 방법.
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| JP2019219357A (ja) * | 2018-06-22 | 2019-12-26 | 名古屋電機工業株式会社 | 撮影装置、撮影方法および撮影プログラム |
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