JP6165535B2 - マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び検査装置 - Google Patents
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Description
(a)検査対象の透光性基板における検査位置とする主表面と対向する主表面に対して、特定の機能を有する光学部材を液浸コンタクトすること。
(b)その光学部材は、1つの検査光を導入面から取り込み、液浸コンタクトしている面を介して透光性基板の主表面にある検査位置に対し、その検査位置で検査光が全反射する条件を満たす方向である第1の方向で検査光を照射する構造になっていること。
(c)その光学部材は、検査位置で全反射された検査光を液浸コンタクトしている面から再度導入し、光学部材内部で反射を2回以上させ、その検査光の方向を、第1の方向とは異なる方向であり、主表面の同じ検査位置に向かう方向であり、その検査位置で検査光が全反射する条件を満たす方向である第2の方向に変更するような構造となっていること。
(d)その光学部材は、主表面の検査位置で再度全反射された検査光を液浸コンタクトしている面から導入し、出射予定位置から検査光を出射する構造となっていること。
(e)光学部材が上記のような構成となっていることにより、検査対象の透光性基板における主表面の検査位置に全反射条件を逸脱させるような欠陥が存在しない場合、導入面から光学部材に導入された検査光は必ず、光学部材の出射予定位置から出射される。出射予定位置以外から検査光が漏出した場合は、検査対象の透光性基板のどこかに欠陥が存在することになる(主表面の検査位置以外に欠陥が存在しても、光学部材の出射予定位置以外から検査光が漏出する。)。これにより、透光性基板の欠陥の有無を検査できる。
(構成1)対向する1組の主表面を有する透光性基板を用いてマスクブランク用基板を製造する方法であって、透光性基板の一方の主表面と液体を介在させて光学的に接続された光学部材を介して、他方の主表面の所定位置に向かう方向であり、かつ所定位置で全反射される方向で検査光を照射し、光学部材の出射予定位置以外から漏出する検査光の有無を検査する検査工程を有し、検査工程は、検査光を、所定位置で全反射される方向である第1の方向で照射し、所定位置で全反射された検査光を光学部材に導入し、導入した検査光の方向が、第1の方向とは異なる方向であり、かつ所定位置で全反射される方向である第2の方向になるように光学部材内で反射(または全反射)することにより、検査光を第2の方向で更に所定位置に照射する。
(構成14)対向する1組の主表面を有する透光性基板に対して検査を行う検査装置であって、光源部と基板ホルダと光学部材とを備えるものであり、光源部は、検査光を前記光学部材に向かって照射するものであり、基板ホルダは、前記透光性基板を保持するものであり、光学部材は、検査光導入面と検査光照射面と検査光反射部とを備えるものであり、基板ホルダに保持された透光性基板の一方の主表面と光学部材の検査光照射面とを液体を介在させて光学的に接続させ、検査光導入面から光学部材内に導入した検査光を、透光性基板の他方の主表面における所定位置に対し、検査光照射面から所定位置で全反射される方向である第1の方向で照射し、所定位置で全反射された検査光を検査光照射面から前光学部材に導入し、検査光反射部で、導入した検査光の方向が、第1の方向とは異なる方向であり、かつ所定位置で全反射される方向である第2の方向になるように光学部材内で反射(または全反射)し、検査光を第2の方向で更に所定位置に照射し、光学部材における検査光の出射予定位置以外から漏出する検査光の有無を検査するものである。このように構成すれば、上記(a)〜(e)に示した特徴を有する検査装置とすることができ、透光性基板の欠陥の有無について、高い精度で適切に検査できる。
なお、上記のマスクブランクの製造方法に関し、検査工程の具体的な構成や、光学部材102の具体的な構成、マスクブランクの具体的な構成については、前記のマスクブランク用基板の製造方法の場合と同様である。
Claims (20)
- 対向する1組の主表面を有する透光性基板を用いてマスクブランク用基板を製造する方法であって、
前記透光性基板の一方の主表面と液体を介在させて光学的に接続された光学部材を介して、他方の主表面の所定位置に向かう方向であり、かつ前記所定位置で全反射される方向で検査光を照射し、前記光学部材の出射予定位置以外から漏出する検査光の有無を検査する検査工程を有し、
前記検査工程は、前記検査光を、前記所定位置で全反射される方向である第1の方向で照射し、前記所定位置で全反射された前記検査光を前記光学部材に導入し、前記導入した検査光の方向が、前記第1の方向とは異なる方向であり、かつ前記所定位置で全反射される方向である第2の方向になるように前記光学部材内で反射することにより、前記検査光を前記第2の方向で更に前記所定位置に照射する
ことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記検査光は、レーザー光であることを特徴とする請求項1に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記光学部材は、
前記透光性基板の一方の主表面と液体を介在させて光学的に接続される面であり、かつ前記所定位置へ向けて検査光を照射する検査光照射面と、
前記光学部材の内部において予め設定された方向へ前記検査光を反射する検査光反射部とを備え、
前記光学部材の外部から導入された前記検査光を、前記検査光照射面から前記所定位置へ向けて、前記第1の方向で照射し、前記所定位置で全反射された前記検査光を前記検査光照射面から前記光学部材の内部へ導入し、前記検査光反射部で、前記検査光照射面から導入された検査光を前記第2の方向へ反射し、前記第2の方向へ反射された検査光を前記検査光照射面から前記所定位置へ向けて照射するものであることを特徴とする請求項1または2に記載のマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記検査光反射部は、前記導入した検査光を反射する第1の反射面と、前記第1の反射面で反射された検査光を反射して前記検査光を第2の方向に変える第2の反射面を有することを特徴とする請求項3記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記光学部材は、外部において前記検査光照射面と平行な方向へ進む前記検査光を前記光学部材の内部へ導入する検査光導入面と、前記検査光導入面から導入された前記検査光を前記所定位置へ向けて、前記第1の方向に反射する導入光反射部とを備えることを特徴とする請求項3または4に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記検査光導入面は、前記検査光照射面と交差する平面であり、
前記導入光反射部は、前記検査光照射面と対向し、かつ前記検査光照射面に対して傾斜する位置に設けられた平面であることを特徴とする請求項5に記載のマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記光学部材は、前記検査光反射部に加え、少なくとも第2の検査光反射部を備え、
前記第2の方向で前記所定位置に照射した前記検査光について、前記所定位置で全反射された前記検査光を前記光学部材に導入し、前記導入した検査光の方向が、前記第1の方向、及び前記第2の方向のいずれとも異なる方向であり、かつ前記所定位置で全反射される方向である第3の方向になるように第2の検査光反射部で反射することにより、前記検査光を前記第3の方向で更に前記所定位置に照射することを特徴とする請求項3から6のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記光学部材は、更に第3の検査光反射部を備え、
前記第3の方向で前記所定位置に照射した前記検査光について、前記所定位置で全反射された前記検査光を前記光学部材に導入し、前記導入した検査光の方向が、前記第1の方向、第2の方向及び前記第3の方向のいずれとも異なる方向であり、かつ前記所定位置で全反射される方向である第4の方向になるように第3の検査光反射部で反射することにより、前記検査光を前記第4の方向で更に前記所定位置に照射することを特徴とする請求項7に記載のマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記検査工程で、漏出する光がない透光性基板をマスクブランク用基板として選定する選定工程を有することを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記透光性基板における前記他方の主表面は、鏡面に研磨されていることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 請求項1から10のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法で製造されたマスクブランク用基板の主表面に、パターン形成用薄膜を形成する工程を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
- 請求項11に記載のマスクブランクの製造方法で製造されたマスクブランクの前記パターン形成用薄膜に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
- 請求項12に記載の転写用マスクを用い、半導体ウェハ上に回路パターンを形成することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
- 対向する1組の主表面を有する透光性基板に対して検査を行う検査装置であって、
光源部と基板ホルダと光学部材とを備えるものであり、
前記光源部は、検査光を前記光学部材に向かって照射するものであり、
前記基板ホルダは、前記透光性基板を保持するものであり、
前記光学部材は、検査光導入面と検査光照射面と検査光反射部とを備えるものであり、
前記基板ホルダに保持された前記透光性基板の一方の主表面と前記光学部材の検査光照射面とを液体を介在させて光学的に接続させ、前記検査光導入面から光学部材内に導入した前記検査光を、前記透光性基板の他方の主表面における所定位置に対し、前記検査光照射面から前記所定位置で全反射される方向である第1の方向で照射し、前記所定位置で全反射された前記検査光を前記検査光照射面から前記光学部材に導入し、前記検査光反射部で、前記導入した検査光の方向が、前記第1の方向とは異なる方向であり、かつ前記所定位置で全反射される方向である第2の方向になるように前記光学部材内で反射し、前記検査光を前記第2の方向で更に前記所定位置に照射し、前記光学部材における前記検査光の出射予定位置以外から漏出する検査光の有無を検査する
ことを特徴とする検査装置。 - 前記検査光反射部は、前記検査光照射面から導入した検査光を反射する第1の反射面と、前記第1の反射面で反射された検査光を反射して前記検査光を第2の方向に変える第2の反射面を有することを特徴とする請求項14記載の検査装置。
- 前記検査光は、レーザー光であることを特徴とする請求項14または15に記載の検査装置。
- 前記光学部材は、前記検査光導入面から導入された前記検査光を前記所定位置へ向けて、前記第1の方向に反射する導入光反射部を備えることを特徴とする請求項14から16のいずれかに記載の検査装置。
- 前記検査光導入面は、前記検査光照射面と交差する平面であり、
前記導入光反射部は、前記検査光照射面と対向し、かつ前記検査光照射面に対して傾斜する位置に設けられた平面であることを特徴とする請求項17に記載の検査装置。 - 前記光学部材は、前記検査光反射部に加え、少なくとも第2の検査光反射部を備え、
前記第2の方向で前記所定位置に照射した前記検査光について、前記所定位置で全反射された前記検査光を前記光学部材に導入し、前記導入した検査光の方向が、前記第1の方向、及び前記第2の方向のいずれとも異なる方向であり、かつ前記所定位置で全反射される方向である第3の方向になるように前記第2の検査光反射部で反射することにより、前記検査光を前記第3の方向で更に前記所定位置に照射することを特徴とする請求項14から18のいずれかに記載の検査装置。 - 前記光学部材は、更に第3の検査光反射部を備え、
前記第3の方向で前記所定位置に照射した前記検査光について、前記所定位置で全反射された前記検査光を前記光学部材に導入し、前記導入した検査光の方向が、前記第1の方向、第2の方向及び前記第3の方向のいずれとも異なる方向であり、かつ前記所定位置で全反射される方向である第4の方向になるように前記第3の検査光反射部で反射することにより、前記検査光を前記第4の方向で更に前記所定位置に照射することを特徴とする請求項19に記載の検査装置。
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