KR20240032994A - 알켄의 제조 방법 - Google Patents
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- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 title claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims abstract description 50
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 35
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 8
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 8
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 59
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- YIFLMZOLKQBEBO-UPHRSURJSA-N (z)-1,1,1,2,4,4,4-heptafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C(/F)=C/C(F)(F)F YIFLMZOLKQBEBO-UPHRSURJSA-N 0.000 description 10
- WSJULBMCKQTTIG-OWOJBTEDSA-N (e)-1,1,1,2,3,4,4,4-octafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C(/F)=C(\F)C(F)(F)F WSJULBMCKQTTIG-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- -1 alkane compound Chemical class 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- ZVJOQYFQSQJDDX-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3,4,4,4-octafluorobut-1-ene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZVJOQYFQSQJDDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012450 pharmaceutical intermediate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
- C07C17/354—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction by hydrogenation
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/44—Palladium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
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- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K5/00—Heat-transfer, heat-exchange or heat-storage materials, e.g. refrigerants; Materials for the production of heat or cold by chemical reactions other than by combustion
- C09K5/02—Materials undergoing a change of physical state when used
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Abstract
본 개시는, 수소 치환에 의해, 수소화된 알켄을 제조하는 것을 과제로 한다. 귀금속 또는 희소금속을 담지한 활성탄 촉매의 존재 하에서, 수소화 반응시키는 공정을 포함하는, 알켄의 제조 방법.
Description
본 개시는, 알켄의 제조 방법에 관한 것이다.
특허문헌 1에는, 활성탄 상에 담지된 팔라듐 또는 백금으로 이루어지는 촉매의 존재 하에서, 클로로트리플루오로에틸렌을 수소와 접촉시키는 것을 포함하는, 트리플루오로에틸렌을 조제하기 위한 방법이 개시되어 있다.
본 개시는, 수소 치환에 의해, 수소화된 알켄을 제조하는 것을 과제로 한다.
본 개시는, 이하의 구성을 포함한다.
항 1.
일반식 (1):
(식 중, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄의 제조 방법으로서,
일반식 (2):
(식 중, X는, 할로겐 원자이며, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. 식 중, X가, 염소 원자일 때, R1, R2, 및 R3 중 어느 하나 이상은, 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄을, 귀금속 또는 희소금속을 담지한 활성탄 촉매의 존재 하에서, 수소화 반응시키는 공정을 포함하는, 제조 방법.
항 2.
상기 수소화 반응시키는 공정을, 기상으로 행하는, 상기 항 1에 기재된 제조 방법.
항 3.
상기 귀금속 또는 희소금속은, 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 및 망간(Mn)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 귀금속 또는 희소금속인, 상기 항 1 또는 2에 기재된 제조 방법.
항 4.
CF3-CF=CH-CF3;
CF3-CFH-CFH-CF3;및
CF3-CFH-CFH-CF2H를 함유하는, 조성물.
항 5.
에칭 가스, 냉매, 열이동 매체, 디포짓 가스, 유기 합성용 빌딩 블록, 또는 클리닝 가스로서 이용되는, 상기 항 4에 기재된 조성물.
본 개시에 의하면, 수소 치환에 의해, 효율적으로 수소화된 알켄을 제조할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 「함유」는, 「포함한다(comprise)」, 「실질적으로 만으로 이루어진다(consist essentially of)」, 및 「만으로 이루어진다(consist of)」 모두 포함하는 개념이다. 또, 본 명세서에 있어서, 수치 범위를 「A~B」로 나타내는 경우, A 이상 B 이하를 의미한다.
본 발명자들은, 예의 연구를 행한 결과, 원료 화합물인 알켄을 수소화 반응시키는 공정을, 팔라듐 담지 활성탄 촉매의 존재 하에서 행함으로써, 효율적으로 수소화 반응을 진행시킬 수 있어, 수소화된 알켄을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 것을 발견했다.
본 개시는, 이와 같은 지견에 의거하여, 더욱 연구를 거듭한 결과 완성된 것이다.
본 개시는, 이하의 실시 형태를 포함한다.
본 개시된 일반식 (1):
(식 중, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄의 제조 방법은,
일반식 (2):
(식 중, X는, 할로겐 원자이며, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. 식 중, X가, 염소 원자일 때, R1, R2, 및 R3 중 어느 하나 이상은, 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄을, 귀금속 또는 희소금속을 담지한 활성탄 촉매의 존재 하에서, 수소화 반응시키는 공정을 포함한다.
본 개시된 제조 방법은, 바람직하게는, 상기 수소화 반응시키는 공정을 기상으로 행한다.
본 개시된 제조 방법은, 바람직하게는, 상기 귀금속 또는 희소금속은, 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 및 망간(Mn)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 귀금속 또는 희소금속이다.
본 개시된 조성물은,
CF3-CF=CH-CF3;
CF3-CFH-CFH-CF3;및
CF3-CFH-CFH-CF2H를 함유한다.
본 개시된 조성물은, 바람직하게는, 에칭 가스, 냉매, 열이동 매체, 디포짓 가스, 유기 합성용 빌딩 블록, 또는 클리닝 가스로서 이용된다.
본 개시는, 상기 요건을 만족함으로써, 효율적으로 수소화 반응이 진행되어, 수소화된 알켄을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있다.
본 개시에 있어서, 「전화율」이란, 반응기에 공급되는 원료 화합물(할로겐 원자를 포함하는 알켄)의 몰량에 대한, 반응기 출구로부터의 유출 가스에 포함되는 원료 화합물 이외의 화합물(수소화된 알켄 등)의 합계 몰량의 비율(mol%)을 의미한다.
본 개시에 있어서, 「선택률」이란, 반응기 출구로부터의 유출 가스에 있어서의 원료 화합물 이외의 화합물(수소화된 알켄 등)의 합계 몰량에 대한, 당해 유출 가스에 포함되는 목적 화합물(수소화된 알켄)의 합계 몰량의 비율(mol%)을 의미한다.
본 개시된 알켄의 제조 방법은, 원료 화합물인 할로겐 원자를 포함하는 알켄을, 효율적으로 수소화 반응을 진행시킬 수 있어, 수소화된 알켄을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있다.
(1) 원료 화합물
본 개시된 원료 화합물은, 일반식 (2):
(식 중, X는, 할로겐 원자이며, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. 식 중, X가, 염소 원자일 때, R1, R2, 및 R3 중 어느 하나 이상은, 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄이다.
알켄의 식 (2) 중, X는, 할로겐 원자이며, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
알켄의 식 (2) 중, X가, 염소 원자일 때, R1, R2, 및 R3 중 어느 하나 이상은, 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
할로겐 원자는, 바람직하게는, 불소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자, 및 염소 원자이다.
퍼플루오로알킬기는, 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알킬기이다. 퍼플루오로알킬기는, 바람직하게는, 탄소수 1~20, 보다 바람직하게는, 탄소수 1~12, 더 바람직하게는, 탄소수 1~6, 특히 바람직하게는, 탄소수 1~4, 가장 바람직하게는, 탄소수 1~3의 퍼플루오로알킬기이다.
퍼플루오로알킬기는, 바람직하게는, 직쇄상 또는 분기쇄상의 퍼플루오로알킬기이다. 퍼플루오로알킬기는, 바람직하게는, 트리플루오로메틸기(CF3-), 및 펜타플루오로에틸기(C2F5-)이다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, 귀금속 또는 희소금속을 담지한 활성탄 촉매의 존재 하에서, 효율적으로 수소화 반응이 진행되어, 수소화된 알켄을 높은 전화율, 수율 및/또는 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 바람직하게는, 탄소수가 2~8이며, 보다 바람직하게는 2~4이며, 더 바람직하게는 4이다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, 바람직하게는, 퍼플루오로-2-부텐(F3C-CF=CF-CF3), 퍼플루오로-1-부텐(CF3-CF2-CF=CF2) 등이다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, 단독으로 이용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다. 시판품인 알켄을 사용해도 된다.
(2) 수소화 반응
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 촉매로서, 팔라듐 담지 활성탄을 이용하여, 일반식 (2)로 표시되는 알켄을 수소화 반응시킨다.
수소화 반응시키는 공정은, 원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, 수소화된 알켄을 높은 전화율, 수율 및/또는 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 바람직하게는, 탄소수가 2~8이며, 보다 바람직하게는 2~4이며, 더 바람직하게는 4이다.
수소화 반응시키는 공정은, 원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, 알켄을, 팔라듐 담지 활성탄 촉매의 존재 하에서, 효율적으로 수소화 반응이 진행되어, 수소화된 알켄을 높은 전화율, 수율 및/또는 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 바람직하게는, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, 바람직하게는, 퍼플루오로-2-부텐(CF3-CF=CF-CF3)이며, 수소화되는 목적 화합물인 일반식 (1)로 표시되는 알켄은, 바람직하게는, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐(CF3-CF=CH-CF3)((Z/E)-1327 myz))이다.
귀금속 또는 희소금속을
담지한
활성탄 촉매
(활성탄에
담지된
귀금속 또는 희소금속 촉매)
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 촉매로서, 귀금속 또는 희소금속을 담지한 활성탄 촉매를 이용하여, 원료 화합물인, 일반식 (2)로 표시되는 알켄을, 수소화 반응을 행하여, 목적 화합물인, 수소화되는 일반식 (1)로 표시되는 알켄, 바람직하게는, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐을 제조한다.
수소화 반응시키는 공정은, 바람직하게는, 기상으로 행한다.
수소화 촉매로서, 귀금속 또는 희소금속은, 바람직하게는, 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 및 망간(Mn)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 귀금속 또는 희소금속이다.
수소화 촉매로서, 보다 바람직하게는, 귀금속 또는 희소금속이 팔라듐(Pd), 담체가 활성탄인, 팔라듐 담지 활성탄 촉매를 이용함으로써, 높은 금속 표면적을 얻을 수 있어, 수소화의 반응 속도가 빠르다는 효과가 얻어진다.
활성탄의 담체의 입경은, 바람직하게는, 0.1mm~100mm 정도이다.
수소화 반응시키는 공정에서 이용하는 촉매의 전체 질량에 대한 팔라듐의 담지량은, 0.01질량%~20질량% 정도가 바람직하고, 0.1질량%~10질량% 정도가 보다 바람직하다.
촉매의 조제 방법은, 공지의 조제 방법을 널리 사용할 수 있다. 예를 들면, 활성탄 담체 상에 팔라듐 금속이 담지된 촉매는, 활성탄 담체를, 팔라듐 금속을 포함하는 용액에 침지함으로써, 이 용액을 담체에 함침시키고, 이 후, 필요에 따라, 중화 및 소성 등을 행하는 방법에 의해 얻어진다. 이 경우, 용액의 농도, 함침의 시간 등에 의해, 담체로의 귀금속 또는 희소금속의 담지량을 조절한다.
수소의 사용량(H
2
/
알켄
몰비
)
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 수소화되는 알켄을 높은 전화율, 수율 및/또는 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 수소의 사용량은, 알켄 1몰에 대해, 바람직하게는, 0.1몰~10몰(H2/알켄 몰비: 0.1~10)이며, 보다 바람직하게는, 1몰~5몰(H2/알켄 몰비: 1~5)이며, 더 바람직하게는, 1몰~3몰(H2/알켄 몰비: 1~3)이며, 특히 바람직하게는, 1.1몰(H2/알켄 몰비: 1.1)이다.
수소화 반응의 반응 온도
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 팔라듐 담지 활성탄 촉매를 사용하여, 반응 온도의 하한치는, 원료 화합물로부터, 보다 효율적으로 수소화 반응을 진행시키고, 전화율을 보다 향상시켜, 목적 화합물을 보다 높은 선택률로 얻을 수 있는 관점에서, 바람직하게는, 100℃ 이상이며, 보다 바람직하게는, 150℃ 이상이며, 더 바람직하게는, 200℃ 이상이다.
수소화 반응시키는 공정은, 수소화 반응의 상한치는, 수소화 반응을 보다 효율적으로 진행시키고, 전화율을 보다 향상시켜, 목적 화합물을 보다 높은 선택률로 얻을 수 있는 관점, 또한 반응 생성물이 분해 또는 중합되는 것에 의한 선택률의 저하를 보다 억제하는 관점에서, 바람직하게는, 800℃ 이하이며, 보다 바람직하게는, 600℃ 이하이며, 더 바람직하게는, 500℃ 이하이며, 특히 바람직하게는, 400℃ 이하이다.
수소화 반응의 반응 시간
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 수소화 반응시키는 반응 시간은, 예를 들면 기상 유통식을 채용하는 경우에는, 원료 화합물의 촉매에 대한 접촉 시간(W/F)[W: 금속 촉매의 중량(g), F: 원료 화합물의 유량(cc/sec)]은, 수소화 반응에 의한 전화율이 특히 높고, 목적 화합물을 보다 고수율 및 고선택률로 얻을 수 있는 관점에서, 바람직하게는, 1g·sec./cc~120g·sec./cc이며, 보다 바람직하게는, 3g·sec./cc~100g·sec./cc이며, 더 바람직하게는, 5g·sec./cc~80g·sec./cc이다. 상기의 W/F는 특히 기상 유통식 반응을 채용한 경우의 반응 시간을 특정한 것이다.
배치식 반응을 채용하는 경우도, 접촉 시간을 적절히 설정할 수 있다.
상기 접촉 시간은, 원료 화합물(기질) 및 촉매가 접촉하는 시간을 의미한다.
수소화 반응의 반응 압력
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 수소화 반응시키는 반응 압력은, 수소화 반응을 보다 효율적으로 진행시키는 점에서, 바람직하게는, -0.05MPa~2MPa이며, 보다 바람직하게는, -0.01MPa~1MPa이며, 더 바람직하게는, 상압~0.5MPa이다.
본 개시에 있어서, 압력에 대해서 특별히 표기가 없는 경우는, 압력은 게이지압으로 한다.
수소화 반응의 반응 용기
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 원료 화합물과 촉매를 투입하고, 수소화 반응시키는 반응기는, 상기 온도 및 압력에 견딜 수 있는 것이면, 형상 및 구조는 특별히 한정되지 않는다. 수소화 반응시키는 반응기는, 바람직하게는, 종형 반응기, 횡형 반응기, 다관형 반응기 등이다. 수소화 반응시키는 반응기의 재질은, 바람직하게는, 유리, 스테인리스, 철, 니켈, 철 니켈 합금 등이다.
기상 반응
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 바람직하게는, 기상 반응에 의해, 반응기에 원료 화합물(기질)을 연속적으로 주입하여, 반응기로부터 목적 화합물을 연속적으로 뽑아내는 유통식 및 배치식 중 어느 방식에 의해서도 실시할 수 있다.
목적 화합물이 반응기에 머물어 반응이 과잉하게 진행되는 것을 억제하는 이유에서, 바람직하게는, 유통식으로 실시한다.
기상 연속
유통식
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 바람직하게는, 기상으로 행하며, 보다 바람직하게는, 고정상 반응기를 이용한 기상 연속 유통식으로 행한다. 기상 연속 유통식으로 행하는 경우는, 장치, 조작 등을 간략화할 수 있음과 함께, 경제적으로 유리하다.
수소화 반응시키는 공정은, 수소화 반응을 행할 때의 분위기는, 촉매의 열화를 억제하는 점에서, 바람직하게는, 불활성 가스 분위기 하, 불화수소 가스 분위기 하 등이다. 불활성 가스는, 바람직하게는, 질소, 헬륨, 아르곤 등이다. 불활성 가스 중에서도, 비용을 억제하는 관점에서, 바람직하게는, 질소를 이용한다. 불활성 가스의 농도는, 바람직하게는, 반응기에 도입되는 기체 성분의 0몰%~50몰%로 한다.
수소화 반응시키는 공정은, 촉매의 존재 하, 기상으로 행할 때에, 특히 촉매에 맞추어 반응 온도와 반응 시간(접촉 시간)을 적절히 조정함으로써, 목적 화합물을 보다 높은 선택률로 얻을 수 있다.
(3) 목적 화합물
본 개시된 목적 화합물은, 일반식 (1):
(식 중, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄(수소화된 알켄)이다.
수소화 반응시키는 공정에 의해, 원료 화합물은, 일반식 (2)로 표시되며, 그 X(할로겐 원자)가 수소 치환되어, 수소 치환된 알켄을 제조한다.
알켄의 식 (1) 중, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
퍼플루오로알킬기는, 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알킬기이다. 퍼플루오로알킬기는, 바람직하게는, 탄소수 1~20, 보다 바람직하게는, 탄소수 1~12, 더 바람직하게는, 탄소수 1~6, 특히 바람직하게는, 탄소수 1~4, 가장 바람직하게는, 탄소수 1~3의 퍼플루오로알킬기이다.
퍼플루오로알킬기는, 바람직하게는, 직쇄상 또는 분기쇄상의 퍼플루오로알킬기이다. 퍼플루오로알킬기는, 바람직하게는, 트리플루오로메틸기(CF3-), 및 펜타플루오로에틸기(C2F5-)이다.
목적 화합물인 일반식 (1)로 표시되는 알켄은, 원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄(할로겐 원자)을, 팔라듐 담지 활성탄 촉매의 존재 하에서, 효율적으로 수소화 반응이 진행되어, 수소화된 알켄을 높은 전화율, 수율 및/또는 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 바람직하게는, 탄소수 2 화합물(C2 화합물)~탄소수 8 화합물(C8 화합물)이며, 보다 바람직하게는, C2 화합물~C4 화합물이며, 더 바람직하게는, C4 화합물이다.
목적 화합물인 일반식 (1)로 표시되는 알켄은, 원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄(할로겐 원자)을, 팔라듐 담지 활성탄 촉매의 존재 하에서, 효율적으로 수소화 반응이 진행되어, 수소화된 알켄을 높은 전화율, 수율 및/또는 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 바람직하게는, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
목적 화합물인 일반식 (1)로 표시되는 알켄은, 바람직하게는, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐이다.
원료 화합물인 일반식 (1)로 표시되는 알켄은, 단독으로 이용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다. 시판품인 알켄을 사용해도 된다.
바람직한 수소화 반응
본 개시된 수소화 반응시키는 공정은, 바람직하게는, 팔라듐 담지 활성탄 촉매를 사용하며, 원료 화합물인 알켄으로서 퍼플루오로-2-부텐을 수소화하여, 목적 화합물인 알켄으로서 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐을 제조한다.
수소화 반응 종료 후에는, 필요에 따라 상법에 따라서, 정제 처리를 행하여 목적 화합물을 얻을 수 있다.
(4)
알켄을
포함하는 조성물
본 개시된 조성물은, 바람직한 양태로서,
CF3-CF=CH-CF3(1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐);
CF3-CFH-CFH-CF3;및
CF3-CFH-CFH-CF2H를 함유한다.
조성물은, 바람직하게는, 에칭 가스, 냉매, 열이동 매체, 디포짓 가스, 유기 합성용 빌딩 블록, 또는 클리닝 가스로서 이용된다.
본 개시된 제조 방법에 의해, 일반식 (1)로 표시되는 알켄을 얻을 수 있다. 목적 화합물인 일반식 (1)로 표시되는 알켄과, 원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄을 함유하는 조성물의 형태로 얻어지는 경우도 있다.
조성물이 포함하는 CF3-CFH-CFH-CF3는, 예를 들면, 원료 화합물인 퍼플루오로-2-부텐 유래의 알칸 화합물이다.
조성물이 포함하는 CF3-CFH-CFH-CF2H는, 예를 들면, 3H체의 알칸 화합물이다.
조성물에 있어서는, 조성물의 총량을 100mol%로 하여, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐의 함유량은, 바람직하게는, 80mol% 이상 99.9mol% 이하이며, 보다 바람직하게는, 90mol% 이상 99.9mol% 이하이며, 더 바람직하게는, 95mol% 이상 99.9mol% 이하이며, 특히 바람직하게는, 99mol% 이상 99.9mol% 이하이다.
조성물은, 조성물의 총량을 100mol%로 하여, CF3-CF=CH-CF3의 함유량은, 바람직하게는, 80mol% 이상이며, CF3-CFH-CFH-CF3 및 CF3-CFH-CFH-CF2H의 함유량은, 바람직하게는, 20mol% 이하이다.
본 개시된 제조 방법에 의하면, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐(수소화된 알켄)을 특히 높은 선택률로 얻을 수 있어, 그 결과, 조성물 중의 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐 이외의 성분을 줄이는 것이 가능하다. 그 때문에, 본 개시된 제조 방법에 의하면, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐을 얻기 위한 정제를 효율적으로 행할 수 있다.
조성물은, 바람직하게는, 반도체, 액정 등의 최첨단의 미세 구조를 형성하기 위한 에칭 가스, 냉매, 열이동 매체 등으로서 이용된다. 알켄을 포함하는 조성물은, 바람직하게는, 디포짓 가스, 유기 합성용 빌딩 블록, 클리닝 가스 등의 각종 용도로 유효하게 이용할 수 있다.
디포짓 가스란, 에칭 내성 폴리머층을 퇴적시키는 가스이다.
유기 합성용 빌딩 블록이란, 반응성이 높은 골격을 갖는 화합물의 전구체가 될 수 있는 물질을 의미한다. 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐을 포함하는 조성물과 CF3Si(CH3)3 등의 함불소 유기 규소 화합물을 반응시키면, CF3기 등의 플루오로알킬기를 도입하여, 세정제나 함불소 의약 중간체가 될 수 있는 물질로 변환하는 것이 가능하다.
이상, 본 개시된 실시 형태를 설명했다.
본 개시된 실시 형태는, 특허 청구의 범위의 취지 및 범위로부터 일탈하는 일 없이, 형태나 상세한 다양한 변경이 가능하다.
[실시예]
이하에 실시예를 들어, 본 개시를 구체적으로 설명한다.
본 개시는, 이들 실시예에 의해 하등 한정되는 것은 아니다.
실시예
원료 화합물: 퍼플루오로-2-부텐(F3C-CF=CF-CF3)
목적 화합물: 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐(F3C-CF=CH-CF3)
((Z/E)-1327myz))
가스 크로마토그래피: 시마즈 제작소사 제조, 제품명 「GC-2014」
NMR: JEOL사 제조, 제품명 「400YH」
반응관으로서 SUS 배관(외경: 1/2인치)을 이용하여, 팔라듐 담지 활성탄 촉매를 충전했다. 질소 분위기 하, 200℃에서 3시간 건조시킨 후, 400℃로 승온시켰다. 400℃로 승온시킨 후, 반응시키는 온도까지 낮추고, 질소로 희석한 수소를 유통시켜, 서서히 수소 농도를 올려 가며, 마지막에는 100% 수소로 촉매의 수소화 처리를 행했다.
기상 유통식 반응을 행하고, 압력은 상압으로 하여, 퍼플루오로-2-부텐(원료 화합물)과 팔라듐 담지 활성탄 촉매(1% Pd/C)의 접촉 시간(W/F0)을, 8g·sec/cc(%), 17g·sec/cc(%), 38g·sec/cc(%), 60g·sec/cc(%), 또는 78g·sec/cc(%)가 되도록, 반응기에 원료 화합물을 유통시켰다.
수소의 사용량은, H2/알켄 몰비: 1.1로 했다.
(H2: 1.1몰, 알켄몰: 1몰)
반응기를, 200℃, 300℃, 또는 400℃에서 가열하여, 불소 원자의 수소화 반응을 개시했다. 수소화 반응을 개시하고 나서, 1시간 후에, 제해탑을 통과한 유출분(溜出分)을 모았다.
그 후, 가스 크로마토그래피를 이용하여 가스 크로마토그래피/질량분석법(GC/MS)에 의해 질량 분석을 행하고, NMR를 이용하여 NMR 스펙트럼에 의한 구조 해석을 행했다.
반응 종료 후, 질량 분석 및 구조 해석의 결과로부터, 목적 화합물로서, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐이 생성된 것을 확인할 수 있었다.
원료 화합물인 퍼플루오로-2-부텐(F3C-FC=CF-CF3) 유래의 알칸 화합물: CF3-CFH-CFH-CF3, 3H체의 알칸 화합물: CF3-CFH-CFH-CF2H가 생성되었다.
각 실시예의 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.
표 1에 있어서, 접촉 시간(W/F)은, 유통하는 원료 가스를 어느 정도의 속도로 흐르게 하는지, 즉, 촉매 및 원료 가스가 접촉하는 시간을 의미한다.
실시예의 결과(표 1)로부터, 원료 화합물인 퍼플루오로-2-부텐을, 팔라듐 담지 활성탄 촉매의 존재 하, 수소를 첨가하고, 수소화 반응을 행하여, 목적 화합물로서, 1,1,1,2,4,4,4-헵타플루오로-2-부텐을 제조할 때에는, 효율적으로 수소화 반응시킬 수 있어, 수소화된 알켄을 높은 전화율, 수율 및/또는 높은 선택률로 제조할 수 있었다. 팔라듐 담지 활성탄 촉매를 이용하는 것이, 특히 바람직한 실시 형태이다.
Claims (5)
- 일반식 (1):
(식 중, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄의 제조 방법으로서,
일반식 (2):
(식 중, X는, 할로겐 원자이며, R1, R2, 및 R3은, 동일 또는 상이하고, 불소, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. 식 중, X가, 염소 원자일 때, R1, R2, 및 R3 중 어느 하나 이상은, 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄을, 귀금속 또는 희소금속을 담지한 활성탄 촉매의 존재 하에서, 수소화 반응시키는 공정을 포함하는, 제조 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 수소화 반응시키는 공정을, 기상으로 행하는, 제조 방법. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 귀금속 또는 희소금속은, 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 로듐(Rh), 루테늄(Ru), 및 망간(Mn)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 귀금속 또는 희소금속인, 제조 방법. - CF3-CF=CH-CF3;
CF3-CFH-CFH-CF3;및
CF3-CFH-CFH-CF2H를 함유하는, 조성물. - 청구항 4에 있어서,
에칭 가스, 냉매, 열이동 매체, 디포짓 가스, 유기 합성용 빌딩 블록, 또는 클리닝 가스로서 이용되는, 조성물.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2021-117229 | 2021-07-15 | ||
JP2021117229A JP7348535B2 (ja) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | アルケンの製造方法 |
PCT/JP2022/027339 WO2023286752A1 (ja) | 2021-07-15 | 2022-07-12 | アルケンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20240032994A true KR20240032994A (ko) | 2024-03-12 |
Family
ID=84919465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020247004581A KR20240032994A (ko) | 2021-07-15 | 2022-07-12 | 알켄의 제조 방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7348535B2 (ko) |
KR (1) | KR20240032994A (ko) |
CN (1) | CN117642373A (ko) |
TW (1) | TW202313535A (ko) |
WO (1) | WO2023286752A1 (ko) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013534529A (ja) | 2010-07-01 | 2013-09-05 | ソルヴェイ・スペシャルティ・ポリマーズ・イタリー・エッセ・ピ・ア | トリフルオロエチレンの合成のための方法 |
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WO2010007968A1 (ja) | 2008-07-18 | 2010-01-21 | 日本ゼオン株式会社 | 含水素フルオロオレフィン化合物の製造方法 |
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JP6827246B2 (ja) | 2019-02-21 | 2021-02-10 | ダイキン工業株式会社 | ハロゲン化ブテン化合物の製造方法 |
-
2021
- 2021-07-15 JP JP2021117229A patent/JP7348535B2/ja active Active
-
2022
- 2022-07-12 KR KR1020247004581A patent/KR20240032994A/ko active Search and Examination
- 2022-07-12 TW TW111126040A patent/TW202313535A/zh unknown
- 2022-07-12 WO PCT/JP2022/027339 patent/WO2023286752A1/ja active Application Filing
- 2022-07-12 CN CN202280049957.8A patent/CN117642373A/zh active Pending
-
2023
- 2023-05-24 JP JP2023085252A patent/JP2023099721A/ja active Pending
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JP2013534529A (ja) | 2010-07-01 | 2013-09-05 | ソルヴェイ・スペシャルティ・ポリマーズ・イタリー・エッセ・ピ・ア | トリフルオロエチレンの合成のための方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7348535B2 (ja) | 2023-09-21 |
WO2023286752A1 (ja) | 2023-01-19 |
JP2023099721A (ja) | 2023-07-13 |
CN117642373A (zh) | 2024-03-01 |
TW202313535A (zh) | 2023-04-01 |
JP2023013217A (ja) | 2023-01-26 |
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