KR102634565B1 - 알칸의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 개시는, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조하는 것을 과제로 한다. 알칸의 제조 방법으로서, 알켄을, 염소화 반응하는 공정을 포함하고, 상기 염소화 반응하는 공정을, 촉매로서 제올라이트를 이용하여 행하는, 제조 방법이다.
Description
본 개시는, 알칸의 제조 방법에 관한 것이다.
특허문헌 1에는, 알켄((E)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐, E-1336mzz)을, 촉매로서 활성탄을 이용하여, 염소화 반응에 의해, 알칸(2,3-디클로로-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄, HCFC-336mdd)을 제조하는 방법이 개시되어 있다.
본 개시는, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조하는 것을 과제로 한다.
본 개시는, 이하의 구성을 포함한다.
항 1.
일반식 (1):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알칸의 제조 방법으로서,
일반식 (2):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 상기와 같다.)
로 표시되는 알켄을, 염소화 반응하는 공정을 포함하고,
상기 염소화 반응하는 공정을, 촉매로서 제올라이트를 이용하여 행하는, 제조 방법.
항 2.
상기 항 1에 있어서,
상기 염소화 반응을 기상에서 행하는, 제조 방법.
항 3.
일반식 (1):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알칸과,
염소를 1개 이상 포함하는 하이드로클로로플루오로카본(HCFC) 화합물(상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 제외한다)로 이루어지는 적어도 1종류의 추가 화합물을 함유하는,
조성물.
항 4.
상기 항 3에 있어서,
상기 조성물 전량을 100mol%로 하여, 상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸의 함유량이 90mol% 이상이고, 상기 추가적 화합물의 함유량이 10mol% 이하인, 조성물.
항 5.
상기 항 3 또는 항 4에 있어서,
상기 추가 화합물이, 모노클로로헥사플루오로부탄, 트리클로로헥사플루오로부탄, 및 테트라클로로헥사플루오로부탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 조성물.
항 6.
상기 항 3 내지 항 5 중 어느 한 항에 있어서,
에칭 가스, 냉매, 또는 열 이동 매체로서 이용되는, 조성물.
본 개시에 의하면, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있다.
본 발명자들은, 예의 연구를 행한 결과, 원료 화합물인 알켄을 염소화 반응하는 공정을, 촉매로서 제올라이트를 이용하여 행함으로써, 상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 것을 찾아냈다.
본 개시는, 이러한 지견에 의거하여, 더욱 연구를 거듭한 결과 완성된 것이다.
본 개시는, 이하의 실시 형태를 포함한다.
본 개시의 일반식 (1):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알칸의 제조 방법은,
일반식 (2):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 상기와 같다.)
로 표시되는 알켄을, 염소화 반응하는 공정을 포함한다.
본 개시에서는, 상기 염소화 반응하는 공정을, 촉매로서 제올라이트를 이용하여 행한다.
본 개시에서는, 바람직한 양태로서, 상기 염소화 반응을 기상에서 행한다.
본 개시에 있어서는, 상기 요건을 만족함으로써, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있다.
본 개시에 있어서, 「전화율」이란, 반응기에 공급되는 원료 화합물(알켄)의 몰량에 대한, 반응기 출구로부터의 유출 가스에 포함되는 원료 화합물 이외의 화합물(염소화한 알칸 등)의 합계 몰량의 비율(mol%)을 의미한다.
본 개시에 있어서, 「선택률」이란, 반응기 출구로부터의 유출 가스에 있어서의 원료 화합물 이외의 화합물(염소화한 알칸 등)의 합계 몰량에 대한, 당해 유출 가스에 포함되는 목적 화합물(염소화한 알칸)의 합계 몰량의 비율(mol%)을 의미한다.
본 개시의 알칸의 제조 방법은, 염소화 반응을, 종래 기술의 촉매로서 활성탄을 이용하는 반응과는 달리, 촉매로서 제올라이트를 이용하여, 예를 들면 기상에서 반응을 행함으로써, 목적 화합물의 수율을 향상시킬 수 있다.
(1) 원료 화합물
본 개시에 있어서, 원료 화합물은, 일반식 (2):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알켄이다.
식 (2) 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
A1, A2, A3, 및 A4의 할로겐 원자는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 및 요오드 원자를 들 수 있다. A1, A2, A3, 및 A4의 할로겐 원자는, 불소 원자인 것이 바람직하다.
A1, A2, A3, 및 A4의 퍼플루오로알킬기는, 모든 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알킬기이다. 퍼플루오로알킬기는, 예를 들면, 탄소수 1~20, 바람직하게는 탄소수 1~12, 보다 바람직하게는 탄소수 1~6, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~4, 특히 바람직하게는 탄소수 1~3의 퍼플루오로알킬기인 것이 바람직하다. 퍼플루오로알킬기는, 직쇄상, 또는 분지쇄상의 퍼플루오로알킬기인 것이 바람직하다. 상기 퍼플루오로알킬기로서, 트리플루오로메틸기(CF3-), 및 펜타플루오로에틸기(C2F5-)인 것이 바람직하다.
A1, A2, A3, 및 A4의 탄화수소기는, 예를 들면, 탄소수 1~20, 바람직하게는 탄소수 1~12, 보다 바람직하게는 탄소수 1~6, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~4, 특히 바람직하게는 탄소수 1~3의 탄화수소기인 것이 바람직하다. 탄화수소기는, 직쇄상, 또는 분지쇄상의 탄화수소기인 것이 바람직하다. 상기 탄화수소기로서, 메틸기(CH3-), 및 에틸기(C2H5-)인 것이 바람직하다.
A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 불소 원자, 또는 트리플루오로메틸기(CF3-)인 것이 바람직하다.
본 개시에서는, 원료 화합물은, 일반식 (2)에 있어서, A1, A2, A3, 및 A4의 탄화수소기가 환상 구조를 나타내는 경우를 제외하는 것이 바람직하고, 예를 들면 벤젠환을 제외하는 것이 바람직하다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄으로서는, 제올라이트를 이용하여, 염소화한 알칸을 보다 높은 전화율(수율) 및 보다 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 탄소수 2 화합물(C2 화합물)~탄소수 8 화합물(C8 화합물)인 것이 보다 바람직하고, C2 화합물~C4 화합물인 것이 보다 바람직하며, C4 화합물인 것이 특히 바람직하다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄으로서는, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 또는 트리플루오로메틸기(CF3-)인 것이 보다 바람직하다.
원료 화합물인 일반식 (2)로 표시되는 알켄으로서는, 예를 들면,
등의 화합물을 들 수 있다.
이들 일반식 (2)로 표시되는 알켄은, 단독으로 이용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다. 이러한 알켄은, 시판품을 채용할 수도 있다.
(2) 염소화 반응
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정에서는, 촉매로서 제올라이트를 이용하여 행한다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정에서는, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 예를 들면, 원료 화합물로서 일반식 (2)로 표시되는 알켄에서는, 상기 A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 불소 원자, 또는 트리플루오로메틸기(CF3-)인 것이 바람직하다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정은, 이하의 반응식에 따르는, 염소화 반응이다.
식 (1) 및 (2) 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정은, 이하의 반응식에 따르는, 염소화 반응인 것이 바람직하다.
제올라이트 촉매
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정에서는, 제올라이트 촉매의 존재하, 염소화 반응을 행한다. 제올라이트(Zeolite)는, 점토 광물의 일종이며, 규칙적인 채널(관 형상 세공)과 캐비티(공동)를 갖는 강직한 음이온성의 골격으로 이루어지는 알칼리 또는 알칼리 토류 금속을 포함하는 함수(含水) 알루미노 규산염이다.
제올라이트는, 일반적으로,
(MI, MII 1/2)m(AlmSinO2(m+n))·xH2O, (n≥m) (MI: Li+, Na+, K+ 등, MII: Ca2+, Mg2+, Ba2+ 등)
의 조성으로 표시되고, 양이온이, 알루미노 규산염의 골격의 부전하를 보상한다.
또, 제올라이트 중의 양이온의 종류에 특별히 제한은 없고, 통상, H+, Li+, Na+, K+, Ca2+, Mg2+, Ba2+ 등이 이용된다.
구조의 기본적인 단위는, SiO4 혹은 AlO4의 사면체 구조(합쳐서 TO4 사면체)이며, 이들이 3차원 방향으로 무한하게 이어져, 결정을 형성한다. 제올라이트에서는, 그 결정은, 다공질이고, 세공의 직경이 통상 0.2nm~1.0nm(2Å~10Å) 정도이다. 제올라이트에서는, 제올라이트의 세공 직경보다 큰 분자는, 진입할 수 없다고 하는 분자 체 작용(molecular sieve)을 갖는다. 제올라이트는, 그 골격 구조에 유래하는 세공에 의한 분자 체 효과에 더하여, 고체 산성, 이온 교환능, 촉매능, 흡착능 등의 특성을 갖고 있다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정에서는, 제올라이트 촉매의 존재하, 알켄을 염소화하여, 염소를 포함하는 알칸을 제조한다. 본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정에서는, 알켄을, 제올라이트에 접촉시키는 공정을 갖는다. 본 개시에서 알켄을 제올라이트에 접촉시키는 것이란, 알켄을, 염소(Cl2)의 존재하, 제올라이트를 충전한 칼럼 등에 통과시키는 것, 혹은, 알켄을, 염소(Cl2)의 존재하, 제올라이트를 충전한 용기에 충전하는 것을 의미한다.
본 개시에서는, 제올라이트를, 그 사용 전에, 활성화 처리해도 된다. 활성화 처리의 조건으로서, 예를 들면, 진공 중(10-1mmHg~10-3mmHg), 300℃~600℃의 범위 내의 온도에서 하룻밤 가열하는 등의 건조 처리를 들 수 있다. 본 개시에서는, 상기 활성화 처리를 실시하지 않은 제올라이트도, 적합하게 사용할 수 있다.
본 개시에서 사용하는 제올라이트는, 바람직하게는 다공질이다.
본 개시에서 사용하는 제올라이트는, 상업적으로 입수 가능하다.
제올라이트의 성상
본 개시에서는, 사용하는 제올라이트의 사용 형태는 특별히 제한은 없다. 제올라이트를 충전한 장치에, 알켄을 유통시켜도 되고, 또, 제올라이트를 충전한 용기에, 알켄을 충전하고, 소정 시간 경과 후에 염소화된 알칸을 빼내도 된다.
본 개시에서는, 사용하는 제올라이트는, 분말 형상, 과립 형상, 또는 펠릿 형상으로 이용해도 되고, 성형체로서 이용해도 된다. 사용하는 제올라이트는, 공업적으로는 성형체로서 이용하는 것이 바람직하다. 성형체의 형상에 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 직경 0.5mm~5mm 정도, 길이 1mm~15mm 정도의 원기둥 형상, 혹은 직경 0.5mm~10mm 정도의 구 형상의 것을 이용하는 것이 바람직하다.
본 개시에서는, 제올라이트의 성형체의 제조 방법에 특별히 제한은 없고, 예를 들면 바인더로서 카올린계 점토를 이용하는 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다.
제올라이트의 실리카/알루미나비(SiO
2
/Al
2
O
3
비)
본 개시에서는, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, SiO2/Al2O3비(몰비)가 1~10의 제올라이트를 이용하는 것이 바람직하다. 본 개시에서는, 이용하는 제올라이트의 SiO2/Al2O3비(몰비)는, 보다 바람직하게는 1.5~9이며, 더욱 바람직하게는 2~7이다.
본 개시에서는, SiO2/Al2O3비(몰비)가, 1보다 작으면 제올라이트의 극성이 높아지고, 또, 10보다 크면 제올라이트의 극성이 낮아지므로, SiO2/Al2O3비(몰비)가 1~10의 제올라이트를 이용하는 것이 바람직하다.
제올라이트의 세공 직경
본 개시에서는, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 6Å~15Å의 평균 세공 직경을 갖는 제올라이트를 이용하는 것이 바람직하다. 본 개시에서는, 이용하는 제올라이트의 평균 세공 직경은, 보다 바람직하게는 7Å~12Å이고, 특히 바람직하게는 8Å~10Å의 평균 세공 직경을 갖는 제올라이트이다.
본 개시에서는, 이용하는 제올라이트의 평균 세공 직경이 6Å~15Å인 것에 의해, 원료인 알켄이, 바람직하게는 탄소수 2 화합물(C2 화합물)~탄소수 8 화합물(C8 화합물)인 것, 보다 바람직하게는 C2 화합물~C4 화합물일 때에, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있다.
제올라이트의 카티온종
본 개시에서는, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 제올라이트의 카티온종(양이온종)은, 통상, H+, Li+, Na+, K+, Ca2+, Mg2+, Ba2+ 등이 바람직하게 이용되고, 카티온종이 H+, Na+ 등인 제올라이트를 특히 바람직하게 이용할 수 있다.
본 개시에서는, 제올라이트 중의 양이온은, 양호하게 알루미노 규산염의 골격의 부전하를 보상하여, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있다.
제올라이트의 비표면적
본 개시에서는, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 제올라이트의 BET법에 의해 측정한 비표면적(이하, BET 비표면적이라고도 칭한다.)은, 바람직하게는 50m2/g~3,000m2/g이고, 보다 바람직하게는 100m2/g~1,000m2/g이며, 더욱 바람직하게는 200m2/g~800m2/g이고, 특히 바람직하게는 250m2/g~700m2/g이다.
본 개시에서는, 제올라이트의 촉매의 BET 비표면적이 이러한 범위에 있는 경우, 제올라이트의 입자의 밀도가 너무 작은 경우가 없기 때문에, 높은 선택률로 목적 화합물을 얻을 수 있다. 또, 원료 화합물의 전화율을 향상시키는 것도 가능하다.
염소의 사용량(Cl
2
/알켄 몰비)
본 개시에서는, 염소의 사용량은, 특별히 제한은 없다. 본 개시에서는, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 염소의 사용량은, 알켄 1몰에 대해, 바람직하게는 0.1~10몰(Cl2/알켄 몰비: 0.1~10)이고, 보다 바람직하게는 1~5몰(Cl2/알켄 몰비: 1~5)이며, 더욱 바람직하게는 1.5~3몰(Cl2/알켄 몰비: 1.5~3)이고, 특히 바람직하게는 2몰(Cl2/알켄 몰비: 2)이다.
기상 반응
본 개시에서는, 바람직한 양태로서, 상기 염소화 반응을 기상에서 행한다. 본 개시에서는, 특히 바람직한 양태로서, 상기 염소화 반응을 기상에서 행하고, 특히 고정상 반응기를 이용한 기상 연속 유통식으로 행하는 것이 바람직하다. 기상 연속 유통식으로 행하는 경우는, 장치, 조작 등을 간략화할 수 있음과 더불어, 경제적으로 유리하다.
염소화 반응 온도
본 개시에서는, 알켄의 염소화 반응에 있어서, 염소를 첨가하고, 제올라이트를 접촉시키는 온도는 특별히 제한은 없다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정에서는, 반응 온도의 하한값은, 보다 효율적으로 염소화 반응을 진행시켜, 목적 화합물을 보다 높은 선택률로 얻을 수 있는 관점, 전화율의 저하를 억제하는 관점에서, 통상 50℃이며, 바람직하게는 100℃이다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정에서는, 반응 온도의 상한값은, 보다 효율적으로 염소화 반응을 진행시켜, 목적 화합물을 보다 높은 선택률로 얻을 수 있는 관점, 또한 반응 생성물이 분해 또는 중합하는 것에 의한 선택률의 저하를 억제하는 관점에서, 통상 600℃이며, 바람직하게는 500℃이고, 보다 바람직하게는 300℃이며, 특히 바람직하게는 200℃이다.
염소화 반응 시간
본 개시에서는, 알켄의 염소화 반응에 있어서, 염소를 첨가하고, 제올라이트를 접촉시키는 시간은 특별히 제한은 없다.
본 개시에서는, 염소화 반응의 반응 시간은, 원료 화합물(알켄)의 제올라이트 촉매에 대한 접촉 시간(W/F0)[W: 금속 촉매의 중량(g), F0: 원료 화합물의 유량(cc/sec)]을 길게 하면 원료 화합물의 전화율을 올릴 수 있지만, 제올라이트 촉매의 양이 많아지고 설비가 커져, 비효율적이다.
그 때문에, 본 개시에서는, 염소화 반응의 반응 시간은, 원료 화합물(알켄)의 전화율을 향상시키는 점, 및 설비 비용을 억제하는 점에서, 원료 화합물의 제올라이트 촉매에 대한 접촉 시간(W/F0)이, 바람직하게는 1g·sec/cc~200g·sec/cc이고, 보다 바람직하게는 5g·sec/cc~100g·sec/cc이며, 더욱 바람직하게는 8g·sec/cc~50g·sec/cc인 것이, 특히 바람직하게는 10g·sec/cc~30g·sec/cc이다.
상기 원료 화합물의 촉매에 대한 접촉 시간이란, 원료 화합물(알켄) 및 제올라이트 촉매가 접촉하는 시간을 의미한다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응에서는, 촉매의 존재하, 기상에서 행할 때에, 특히 촉매에 맞추어 반응 온도와 반응 시간(접촉 시간)을 적절히 조정함으로써, 목적 화합물을 보다 높은 선택률로 얻을 수 있다.
염소화 반응 압력
본 개시에서는, 알켄의 염소화 반응에 있어서, 염소를 첨가하고, 제올라이트를 접촉시키는 압력은 특별히 제한은 없다.
본 개시에서는, 염소화 반응의 반응 압력은, 보다 효율적으로 염소화 반응을 진행시키는 점에서, 예를 들면, 바람직하게는 -0.05MPa~2MPa이고, 보다 바람직하게는 -0.01MPa~1MPa이며, 더욱 바람직하게는 상압~0.5MPa이다. 또한, 본 개시에 있어서, 압력에 대해서는 표기가 없는 경우는 게이지압으로 한다.
본 개시에서는, 염소화 반응에 있어서, 원료 화합물(알켄)에 염소(Cl2)를 첨가하고, 제올라이트 촉매를 접촉시켜 반응시키는 반응기로서는, 상기 온도 및 압력에 견딜 수 있는 것이면, 형상 및 구조는 특별히 한정되지 않는다. 반응기로서는, 예를 들면, 종형 반응기, 횡형 반응기, 다관형 반응기 등을 들 수 있다. 반응기의 재질로서는, 예를 들면, 유리, 스테인리스, 철, 니켈, 철니켈 합금 등을 들 수 있다.
염소화 반응의 예시
본 개시에서는, 염소화 반응은, 반응기에 원료 화합물(알켄)을 연속적으로 주입하고, 염소(Cl2)를 첨가하여, 당해 반응기로부터 목적 화합물(염소화된 알칸)을 연속적으로 빼내는 유통식 및 배치(batch)식 중 어느 방식에 의해서나 실시할 수 있다. 목적 화합물이 반응기에 머물면, 추가로 염소화 반응을 진행할 수 있는 점에서, 유통식으로 실시하는 것이 바람직하다.
본 개시에서는, 염소화 반응하는 공정에서는, 기상에서 행하고, 특히 고정상 반응기를 이용한 기상 연속 유통식으로 행하는 것이 바람직하다. 기상 연속 유통식으로 행하는 경우는, 장치, 조작 등을 간략화할 수 있음과 더불어, 경제적으로 유리하다.
본 개시에서는, 염소화 반응을 행할 때의 분위기에 대해서는, 제올라이트 촉매의 열화를 억제하는 점에서, 불활성 가스 존재하 및/또는 불화 수소 존재하인 것이 바람직하다. 당해 불활성 가스는, 질소, 헬륨, 아르곤 및 이산화탄소로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. 이들 불활성 가스 중에서도, 비용을 억제하는 점에서, 질소가 보다 바람직하다. 당해 불활성 가스의 농도는, 반응기에 도입되는 기체 성분의 0~50mol%로 하는 것이 바람직하다.
본 개시에서는, 염소화 반응 종료 후는, 필요에 따라 통상의 방법에 따라, 정제 처리를 행하여, 일반식 (1)로 표시되는 염소화된 알칸을 얻을 수 있다.
(3) 목적 화합물
본 개시에 있어서의 목적 화합물은, 일반식 (1):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알칸(염소화된 알칸)이다.
식 (1) 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
목적 화합물인 일반식 (1)로 표시되는 알칸으로서는, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 불소 원자, 또는 트리플루오로메틸기(CF3-)인 것이 보다 바람직하다.
제조하려고 하는 일반식 (1)로 표시되는 알칸은, 예를 들면, 다음의
등의 화합물을 들 수 있다.
본 개시에 있어서의 알칸의 제조 방법에서는, 일반식 (2)로 표시되는 알켄을 원료 화합물로 하여, 염소를 첨가하고, 제올라이트 촉매의 존재하에서, 염소화 반응을 진행시켜, 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 제조한다.
식 (1) 및 (2) 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
본 개시에 있어서의 염소화 반응하는 공정은, 원료 화합물로서, 일반식 (2)로 표시되는 알켄에서는, 상기 A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 또는 트리플루오로메틸기(CF3-)인 것이 바람직하고, 이하의 반응식에 따르는 염소화 반응인 것이 바람직하다.
(4) 알칸을 포함하는 조성물
이상과 같이 하여, 일반식 (1)로 표시되는 알칸(염소화된 알칸)을 얻을 수 있지만, 상기와 같이, 일반식 (1)로 표시되는 알칸과, 일반식 (2)로 표시되는 알켄을 함유하는 조성물의 형태로 얻어지는 경우도 있다.
조성물에 포함되는 일반식 (1)로 표시되는 알칸으로서는, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 불소 원자, 또는 트리플루오로메틸기(CF3-)인 것이 보다 바람직하다.
본 개시의 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 포함하는 조성물에 있어서, 상기 조성물의 총량을 100mol%로 하여, 일반식 (1)로 표시되는 알칸의 함유량은, 95mol% 이상인 것이 바람직하고, 99mol% 이상인 것이 보다 바람직하다. 본 개시의 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 포함하는 조성물에 있어서, 상기 조성물의 총량을 100mol%로 하여, 일반식 (1)로 표시되는 알칸의 함유량은 바람직하게는 80mol%~99.9mol%이고, 보다 바람직하게는 90mol%~99.9mol%이며, 더욱 바람직하게는 95mol%~99.9mol%이다.
본 개시에 있어서의 일반식 (1)로 표시되는 알칸 조성물에는, 상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸과, 염소를 1개 이상 포함하는 하이드로클로로플루오로카본(HCFC) 화합물(상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 제외한다)로 이루어지는 적어도 1종류의 추가 화합물을 함유할 수 있다.
상기 조성물 전량을 100mol%로 하여, 상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸의 함유량은 90mol% 이상이고, 상기 추가적 화합물의 함유량은 10mol% 이하인 것이 바람직하다.
상기 추가 화합물은, 모노클로로헥사플루오로부탄, 트리클로로헥사플루오로부탄, 및 테트라클로로헥사플루오로부탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.
본 개시에 있어서의 알칸의 제조 방법에서는, 상기 염소화 반응에는, 2,2,3,3-테트라클로로-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(HCFC-316maa, CF3CCl2CCl2CF3)이 생성될 수 있다.
본 개시의 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 포함하는 조성물에 있어서, 상기 조성물의 총량을 100mol%로 하여, 예를 들면 CF3CHClCHClCF3(336mdd)의 함유량은 99mol% 이상이며, CF3CCl2CCl2CF3(316maa)의 함유량은 1mol% 이하가 바람직하다.
본 개시의 제조 방법에 의하면, 일반식 (1)로 표시되는 알칸(염소화된 알칸)을 포함하는 조성물로서 얻어진 경우이더라도, 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 특히 높은 선택률로 얻을 수 있고, 그 결과, 상기 조성물 중의 일반식 (1)로 표시되는 알칸 이외의 성분을 줄이는 것이 가능하다. 본 개시의 제조 방법에 의하면, 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 얻기 위한 정제의 노력을 삭감할 수 있다.
본 개시의 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 포함하는 조성물은, 일반식 (1)로 표시되는 알칸 단독의 경우와 동일하게, 반도체, 액정 등의 최첨단의 미세 구조를 형성하기 위한 에칭 가스 외, 냉매, 또는 열 이동 매체로서 이용되는 것이 바람직하다. 본 개시의 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 포함하는 조성물은, 또, 에칭 가스 외, 디포짓 가스, 유기 합성용 빌딩 블록, 클리닝 가스 등의 각종 용도로 유효 이용할 수 있다.
상기 디포짓 가스란, 에칭 내성 폴리머층을 퇴적시키는 가스이다.
상기 유기 합성용 빌딩 블록이란, 반응성이 높은 골격을 갖는 화합물의 전구체가 될 수 있는 물질을 의미한다. 예를 들면, 본 개시의 일반식 (1)로 표시되는 알칸, 및 이것을 포함하는 조성물과 CF3Si(CH3)3 등의 불소 함유 유기 규소 화합물을 반응시키면, CF3기 등의 플루오로알킬기를 도입하여 세정제나 불소 함유 의약 중간체가 될 수 있는 물질로 변환하는 것이 가능하다.
이상, 본 개시의 실시 형태를 설명했지만, 특허청구범위의 취지 및 범위로부터 벗어나지 않고, 형태나 상세의 다양한 변경이 가능하다.
실시예
이하에 실시예를 들어, 본 개시를 구체적으로 설명하지만, 본 개시는, 이들 실시예에 의해 아무런 한정되는 것은 아니다.
실시예: 제올라이트 촉매
실시예의 알칸의 제조 방법에서는, 원료 화합물은, 일반식 (2)로 표시되는 알켄에 있어서, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 또는 트리플루오로메틸기(CF3-)이며, 염소를 첨가하고, 제올라이트 촉매의 존재하에서, 이하의 반응식에 따르는 염소화 반응으로 했다.
원료 화합물: (Z)1336mzz: (Z)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐
목적 화합물: HCFC-336mdd: 2,3-디클로로-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄
또, 상기 염소화 반응에는, 2,2,3,3-테트라클로로-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(HCFC-316maa, CF3CCl2CCl2CF3)이 생성될 수 있다.
반응관으로서 SUS 배관(외경: 1/2인치)를 이용하여 제올라이트 촉매를 충전했다. 질소 분위기하, 500℃에서 3시간 건조한 후, 반응시킬 온도까지 내리고, 우선 질소로 희석한 염소를 유통시키고, 서서히 염소 농도를 올려서, 마지막에는 100% 염소로 촉매의 염소화 처리를 행했다. 압력을 상압, (Z)1336mzz(원료 화합물)와 제올라이트 촉매의 접촉 시간(W/F0)이 12g·sec/cc 또는 24g·sec/cc가 되도록, 반응기에 (Z)-1336mzz(원료 화합물)를 유통시켰다.
염소의 사용량은, Cl2/알켄 몰비: 2로 했다.
기상 연속 유통식으로 반응을 진행시켰다.
반응기를 100℃ 또는 200℃에서 가열하여, 염소화 반응을 개시했다.
염소화 반응을 개시하고 나서 1시간 후에, 제해탑(除害塔)을 통과한 유출분을 모았다.
그 후, 가스 크로마토그래피(시마즈 제작소사 제조, 상품명 「GC-2014」)를 이용하여 가스 크로마토그래피/질량 분석법(GC/MS)에 의해 질량 분석을 행하고, NMR(JEOL사 제조, 상품명 「400YH」)을 이용하여 NMR 스펙트럼에 의한 구조 해석을 행했다.
질량 분석 및 구조 해석의 결과로부터, 목적 화합물로서 336mdd가 생성한 것이 확인되었다.
실시예 1에서는, (Z)1336mzz(원료 화합물)로부터의 전화율은 45.0mol%이고, 336mdd(목적 화합물)의 선택률은 97.8mol%이며, 316maa의 선택률은 1.2%였다.
실시예 2에서는, (Z)1336mzz(원료 화합물)로부터의 전화율은 45.1mol%이고, 336mdd(목적 화합물)의 선택률은 98.0mol%이며, 316maa의 선택률은 1.1%였다.
실시예 3에서는, (Z)1336mzz(원료 화합물)로부터의 전화율은 66.9mol%이고, 336mdd(목적 화합물)의 선택률은 99.6mol%이며, 316maa의 선택률은 0.1%였다.
실시예 4에서는, (Z)1336mzz(원료 화합물)로부터의 전화율은 7.02mol%이고, 336mdd(목적 화합물)의 선택률은 99.6mol%이며, 316maa의 선택률은 0.1%였다.
실시예 5에서는, (Z)1336mzz(원료 화합물)로부터의 전화율은 92.07mol%이고, 336mdd(목적 화합물)의 선택률은 99.7mol%이며, 316maa의 선택률은 0.12%였다.
실시예의 결과로부터, 원료 화합물의 (Z)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐((Z)1336mzz)을, 제올라이트 촉매의 존재하, 염소를 첨가하고, 염소화 반응을 행하여, 목적 화합물로서 2,3-디클로로-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(HCFC-336mdd)을 제조할 때에는, 알켄을, 효율적으로 염소화 반응할 수 있고, 염소화한 알칸을 높은 전화율(수율) 및 높은 선택률로 제조할 수 있는 점에서, 다음의 제올라이트 촉매를 이용하는 것이, 특히 바람직한 실시 양태라고 평가할 수 있었다.
제올라이트 중에서도, 특히, 실리카/알루미나비(SiO2/Al2O3비)가 5.5인 제올라이트를 이용하는 것이 바람직하다고 평가할 수 있었다.
제올라이트 중에서도, 특히, 평균 세공 직경이 9Å인 제올라이트를 이용하는 것이 바람직하다고 평가할 수 있었다.
제올라이트 중에서도, 특히, 카티온종(양이온종)이 Na+인 제올라이트를 이용하는 것이 바람직하다고 평가할 수 있었다.
비교예: 알루미나 촉매
실시예의 실험 방법에 따라, 촉매로서 알루미나를 이용하고, 실시예와 동일하게 하여, 염소화 반응, 질량 분석 및 구조 해석을 실시했다.
비교예: 실리카 알루미나 촉매
상기 실시예의 실험 방법에 따라, 촉매로서 실리카 알루미나를 이용하고, 실시예와 동일하게 하여, 염소화 반응, 질량 분석 및 구조 해석을 실시했다.
각 실시예의 결과를 이하의 표 1에 나타낸다. 표 1에 있어서, 접촉 시간(W/F0)이란, 유통하는 원료 가스를 어느 정도의 속도로 흐르게 하는지, 즉, 촉매 및 원료 가스가 접촉하는 시간을 의미한다.
Claims (6)
- 일반식 (1):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. A1, A2, A3, 및 A4 중 어느 하나 이상의 기는, 할로겐 원자를 포함하는 기이다.)
로 표시되는 알칸의 제조 방법으로서,
일반식 (2):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. A1, A2, A3, 및 A4 중 어느 하나 이상의 기는, 할로겐 원자를 포함하는 기이다.)
로 표시되는 알켄을, 염소화 반응하는 공정을 포함하고,
상기 염소화 반응하는 공정을, 촉매로서 제올라이트를 이용하여 행하는, 제조 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 할로겐 원자는 불소 원자인, 제조 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 적어도, 불소 원자, 트리플루오로메틸기(CF3-), 및 펜타플루오로에틸기(C2F5-)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 제조 방법. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 염소화 반응을 기상에서 행하는, 제조 방법. - 일반식 (1):
(식 중, A1, A2, A3, 및 A4는, 동일 또는 상이하고, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄화수소기, 또는 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.)
로 표시되는 알칸과,
염소를 1개 이상 포함하는 하이드로클로로플루오로카본(HCFC) 화합물(상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸을 제외한다)로 이루어지는 적어도 1종류의 추가 화합물을 함유하는,
조성물로서,
상기 추가 화합물이, 모노클로로헥사플루오로부탄, 트리클로로헥사플루오로부탄, 및 테트라클로로헥사플루오로부탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이며,
상기 조성물 전량을 100mol%로 하여, 상기 일반식 (1)로 표시되는 알칸의 함유량이 90mol% 이상이고, 상기 추가 화합물의 함유량이 10mol% 이하인, 조성물. - 청구항 5에 있어서,
에칭 가스, 냉매, 또는 열 이동 매체로서 이용되는, 조성물.
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