KR20240025033A

KR20240025033A - 퍼스널 케어 제품의 제조 방법

Info

Publication number: KR20240025033A
Application number: KR1020247004161A
Authority: KR
Inventors: 다카히로 히라노; 히데오 고바야시; 유키 곤도; 준지 호소카와; 쇼헤이 나츠이
Original assignee: 카오카부시키가이샤
Priority date: 2021-12-27
Filing date: 2022-12-23
Publication date: 2024-02-26
Also published as: GB202402512D0; WO2023127763A1; CN117979940A; JP2023097416A; JP7361189B2

Abstract

본 발명은, 인체에 적용 가능한 퍼스널 케어 제품의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법은, 이하의 (1) 또는 (2) 를 만족시킨다.
(1) 조성물을 노즐로부터 대상물에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정을 갖는다. 형성 공정 중에, 노즐로부터 공급되는 조성물을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는다.
(2) 조성물을 노즐로부터 대상물에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정과, 그 형성 공정보다 이전에, 그 형성 공정에 있어서 노즐로부터 공급되는 조성물을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는다.

Description

퍼스널 케어 제품의 제조 방법

본 발명은, 퍼스널 케어 제품의 제조 방법에 관한 것이다.

비누나, 아이새도우나 파운데이션 등의 고형 화장료 등의 퍼스널 케어 제품은, 일반적으로 화장료 슬러리를 포함하는 유동체를 소정의 형상을 갖는 용기에 충전하여 고화시키거나, 혹은, 그 유동체를 기재 또는 사전에 성형된 별체의 고체 화장료 상에 토출한 조형물로서 제조된다.

이와 같은 화장료의 제조 방법의 일례로서, 특허문헌 1 에는, 화장품의 제조를 위한 주형 방법이 개시되어 있다. 동 문헌에 기재된 방법은, 오일을 함유하는 조성물을 가열에 의해 유동화시키고, 유동화된 조성물을 노즐로부터 지지체 상에 사출하고, 그 후, 사출된 조성물을 냉각시킴으로써, 고형의 조성물을 얻는 것이다.

특허문헌 2 에는, 모양이 형성된 고형 화장료가 개시되어 있다. 동 문헌에 기재된 기술은, 제 1 적층용 화장료에 대하여 제 2 적층용 화장료의 적어도 일부를 소정 방향을 따라 적층시킴으로써, 입체 형상의 모양을 형성하는 것이다.

일본 공표특허공보 2017-518983호 일본 공개특허공보 2019-108308호

본 발명은, 인체에 적용 가능한 퍼스널 케어 제품의 제조 방법에 관한 것이다.

일 실시형태에 있어서, 상기 제조 방법은, 이하의 (1) 또는 (2) 를 만족시키는 것이 바람직하다.

(1) 조성물을 노즐로부터 대상물에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정을 갖고,

상기 형성 공정 중에, 상기 노즐로부터 공급되는 상기 조성물을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는다.

(2) 조성물을 노즐로부터 대상물에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정과, 그 형성 공정보다 이전에, 그 형성 공정에 있어서 상기 노즐로부터 공급되는 상기 조성물을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는다.

도 1 은, 본 발명의 제조 방법에서 사용되는 제조 장치의 일 실시형태를 모식적으로 나타내는 사시도이다.
도 2(a) ∼ 도 2(c) 는, 본 발명의 제조 방법에 있어서, 퇴적체를 형성하는 공정의 일 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3(a) 및 도 3(b) 는, 본 발명의 제조 방법에 있어서, 퇴적체를 형성하는 공정의 다른 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4(a) 및 도 4(b) 는, 본 발명의 제조 방법에 있어서, 퇴적체를 형성하는 공정의 또 다른 실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 5 는, 실시예 1-1 의 퍼스널 케어 제품을 동결시킨 것을 평면에서 봤을 때의 사진이다.
도 6 은, 실시예 3-1 의 퍼스널 케어 제품 (동결 건조 후) 을 평면에서 봤을 때의 사진이다.
도 7 은, 비교예 3-1 의 퍼스널 케어 제품을 평면에서 봤을 때의 사진이다.

특허문헌 1 에 기재된 기술에서는, 가열에 의해 유동화된 조성물을 사출한 후에 냉각 고화시키므로, 사출 직후의 유동체에서 재용융시켜 버리거나, 사출량이 많은 경우 등에는 유동성의 조성물이 사출 직후부터 고화될 때까지의 동안에 사출 된 영역 밖으로 유출되어 버리거나 하여, 조형물의 소정의 형상을 유지할 수 없다. 요컨대, 특허문헌 1 에 기재된 방법에서는, 원하는 형상이나 치수를 가지며, 퍼스널 케어 제품의 입체적인 조형 및 가식 (加飾) 이 곤란하였다.

특허문헌 2 에 기재된 기술에서는, 퍼스널 케어 제품의 조형 및 가식에 관해서, 형상이나 치수의 정밀도를 높이는 것에 대해서 전혀 검토되지 않았다.

또한, 실온 (23 ℃) 에서 유동성을 갖는 조성물을 사용하여, 입체적인 형상을 부여하는 것은, 특허문헌 1 및 2 에 기재된 기술에서는 전혀 검토되지 않았다.

본 발명은, 실온에서 유동성을 갖는 조성물을 사용한 경우라도, 원하는 형상이나 치수를 갖는 퍼스널 케어 제품의 조형 및 가식을 입체적으로 실시할 수 있는 제조 방법에 관한 것이다.

이하 본 발명을, 그 바람직한 실시형태에 의거하여 설명한다.

본 제조 방법에 의해 제조되는 퍼스널 케어 제품은, 이것을 피부 상에 직접 도포하거나, 혹은 물 등의 액매에 용해 또는 분산시킨 액체를 피부 상에 도포, 산포 또는 적하 등 하거나 함으로써, 인체에 적용 가능한 것이다. 퍼스널 케어 제품은, 1 기압, 20 ℃ 에 있어서 고체이다.

이와 같은 퍼스널 케어 제품으로는, 예를 들어, 메이크업 화장품 등의 화장품, 비누, 입욕제 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다.

메이크업 화장품으로는, 아이새도우나 파운데이션, 립스틱을 들 수 있다.

립스틱은 전형적으로는 유제 및 안료를 포함한다.

퍼스널 케어 제품은, 전형적으로는 화장료 분말을 포함한다.

본 제조 방법은, 유동성을 갖는 조성물을 대상물 상에 공급하고, 그 후, 필요에 따라 그 조성물을 고화시키고, 대상물 상에 조성물 유래인 퇴적체를 조형하여, 대상물을 가식시킬 때에 바람직하게 적용 가능하다. 조성물이 예를 들어 화장료를 포함하는 경우, 얻어지는 퇴적체는, 고형 화장료로서 사용 가능하다.

유동성을 갖는 조성물은, 액체 그 자체이거나, 액체를 포함하는 것인 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에 있어서 사용되는 조성물은, 고체만의 형태 또는 기체만의 형태는 제외된다.

이와 같은 조성물로서는, 예를 들어, 화장료 등의 분체와, 액체인 분산매를 포함하는 혼합물인 분산액 (이른바 슬러리) 이나, 화장료 등의 각종의 화합물을 액체의 용매에 용해시킨 용액, 혹은, 화장료 또는 유제의 단체 또는 화장료를 포함하는 조성물을 가열 용융시킨 용융액 등을 들 수 있다. 조성물 및 그 구성 재료의 상세함은 후술한다.

조성물이 공급되는 대상물로서는, 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 종이, 필름, 부직포, 금속, 수지, 혹은, 조성물의 조성과 동일 또는 상이한 조성을 가지며, 이미 제조된 퍼스널 케어 제품 등을 들 수 있다.

본 발명의 제조 방법에 바람직하게 사용되는 제조 장치 (10) 는, 전형적으로는 유동성을 갖는 조성물 (L) 을, 조성물이 공급되는 대상물 (이하, 간단히 대상물이라고도 한다.) (70) 상에 공급하는 공급부 (20) 와, 공급부 (20) 와 연통되도록 일체적으로 배치된 노즐 (21) 을 구비한다.

본 발명에 사용되는 제조 장치 (10) 는, 전형적으로는 평판상의 대상물 배치부 (90) 가 노즐 (21) 의 하방 또한 노즐 (21) 과 대향하는 위치에 배치되어 있고, 대상물 배치부 (90) 의 상면에 대상물 (70) 이 재치 (載置) 또는 고정시킬 수 있게 되어 있다.

이들 구조를 구비한 실시형태의 일례를 도 1 및 도 2(a) ∼ 도 2(c) 에 나타낸다.

본 발명에 사용되는 제조 장치 (10) 는, 공급부 (20) 와 대상물 배치부 (90) 을 소정의 위치에 지지 또는 유지하는 위치 조정부 (50) 를 구비하는 것이 바람직하다.

위치 조정부 (50) 는, 노즐 (21) 의 위치 및 대상물 배치부 (90) 의 위치를, 임의의 방향으로 상대적으로 이동시키는 위치 조정 기구를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 이에 따라, 노즐 (21) 및 대상물 배치부 (90) 의 적어도 일방을, 평면 방향, 연직 방향 또는 그 조합의 방향으로 이동시켜, 노즐 (21) 및 대상물 배치부 (90) 상의 대상물 (70) 의 적어도 일방을 타방에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있도록 구성되어 있다. 위치 조정 기구는 수동이어도 되고, 혹은 컨트롤러 등으로부터 발신된 전기 신호에 대응하여 자동적으로 제어되고 있어도 된다.

공급부 (20) 는, 유동성을 갖는 조성물 (L) 을 대상물 (70) 측에 송액하는 부재이다. 공급부 (20) 는, 송액부 (25) 와 조성물 수용부 (26) 를 구비하는 것이 바람직하다.

송액부 (25) 는, 유로 (28) 를 통하여 조성물 수용부 (26) 가 연통되어 접속되어 있는 것이 바람직하다. 이에 따라, 조성물 수용부 (26) 로부터 송액부 (25) 의 내부에 공급된 조성물 (L) 을 노즐 (21) 측에 연속적으로 또는 비연속적으로 공급하거나, 혹은 공급을 정지하거나 할 수 있다.

이와 같은 송액부 (25) 로서는, 조성물 (L) 을 액적상으로 토출할 수 있는 제트 디스펜서, 혹은 조성물 (L) 을 연속적으로 토출할 수 있는 모노 디스펜서나 스크루 디스펜서를 사용할 수 있다.

조성물 수용부 (26) 는, 그 일방이 에어 등의 가압 수단이나 펌프와 접속되어 있어, 조성물 수용부 (26) 에 수용되어 있는 조성물 (L) 을, 유로 (28) 를 통하여 송액부 (25) 측으로 압송할 수 있도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.

노즐 (21) 은, 전형적으로는 조성물 (L) 을 공급부 (20) 로부터 대상물 (70) 을 향해 공급하는 관상의 부재이다. 노즐 (21) 은, 그 내부에 형성된 공간인 조성물 (L) 의 유로가 조성물 (L) 의 유동 방향 R 을 따라 형성되어 있다. 노즐 (21) 은, 그 일방의 단부인 노즐 선단이 조성물 (L) 의 공급구를 구성하고, 타방의 단부는 상기 서술한 공급부 (20) 와 연통되어 접속되어 있다.

노즐의 구성 재료는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 금속이나 플라스틱 등을 채용할 수 있다.

노즐 (21) 은, 조성물 (L) 의 노즐 (21) 의 유동 방향 R 과 직교하는 단면에 있어서의 유로의 최대 길이 D1 (도 2(a) 참조) 이, 노즐 막힘의 억제, 연속 토출의 안정화, 압력 손실의 저감이라는 관점에서, 내부 공간의 최대 길이로서 나타내며, 바람직하게는 0.01 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 ㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 0.2 ㎜ 이상이다.

또한 상기 서술한 최대 길이 D1 은, 미세 도포를 가능하게 하고, 액 떨어짐을 억제한다는 관점에서, 바람직하게는 2 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 1 ㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 0.6 ㎜ 이하이다.

또, 상기 서술한 노즐 (21) 의 유로의 최대 길이 D1 은, 노즐 (21) 이 원형상인 경우의 내경과 동일한 의미이다.

노즐 (21) 은, 조성물 (L) 의 노즐 (21) 의 유동 방향 R 과 직교하는 단면의 단면적이, 노즐 막힘의 억제, 연속 토출의 안정화, 압력 손실의 저감이라는 관점에서, 바람직하게는 0.00008 ㎜² 이상, 보다 바람직하게는 0.008 ㎜² 이상, 더욱 바람직하게는 0.03 ㎜² 이상이다.

또한 상기 서술한 노즐 (21) 의 단면적은, 미세 도포를 가능하게 하고, 액 떨어짐을 억제한다는 관점에서, 바람직하게는 3.2 ㎜² 이하, 보다 바람직하게는 1 ㎜² 이하, 더욱 바람직하게는 0.4 ㎜² 이하이다.

조성물의 점도를 후술하는 범위가 되도록 적절하게 조정하기 쉽게 하는 관점에서, 제조 장치 (10) 는, 조성물 (L) 의 온도를 조정하는 온도 제어 부재 (80) 가 배치되어 있는 것이 바람직하다. 온도 제어 부재 (80) 는, 조성물 (L) 이 대상물 (70) 에 공급되기까지의 유로의 적어도 일부에 배치되는 것도 바람직하다.

온도 제어 부재 (80) 가 배치되는 제조 장치 (10) 의 위치로서는, 예를 들어, 공급부 (20), 노즐 (21), 송액부 (25), 조성물 수용부 (26), 및 유로 (28) 중 적어도 하나의 부재에 있어서의 외주면 등을 들 수 있다.

온도 제어 부재 (80) 로서는, 예를 들어, 냉각 부재, 단열재 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 채용해도 되고, 조합하여 채용해도 된다.

냉각 부재로서는, 예를 들어, 냉각 유체에 의해 조성물 (L) 을 강제 냉각시킬 수 있는 기구를 채용할 수 있고, 예를 들어, 제조 장치 (10) 의 구성 부재의 외주면에, 냉각 기체나 냉각 액체를 접촉시키면서 유동시키고, 그 구성 부재 내부에 유통되는 조성물 (L) 을 강제 냉각시키는 기구를 사용할 수 있다. 이것들에는 칠러나 펠티에 소자를 들 수 있다.

단열재로서는, 페놀, 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리우레탄 등의 수지를 발포시킨 발포 수지나, 글래스 울 등을 사용할 수 있다.

또한 제조 장치 (10) 는, 공급부 (20) 보다 상류에, 조성물 (L) 의 온도를 조정하는 온도 제어 장치를 갖고 있어도 된다. 온도 제어 장치로서는, 예를 들어 상기 서술한 냉각 부재를 들 수 있다.

본 발명의 제조 방법은, 소정의 점도를 갖는 조성물 (L) 을 노즐 (21) 로부터 대상물 (70) 에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정을 갖는다.

형성 공정에 있어서는, 유동성을 갖는 조성물 (L) 을 노즐 (21) 로부터 대상물 (70) 에 공급하면서, 그 노즐 (21) 을 그 대상물 (70) 에 대하여 상대적으로 이동시켜, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 것이 바람직하다.

상기 서술한 실시형태와 동일한 구성 부분은 동일한 부호를 붙여 설명을 생략한다. 특별히 설명하지 않는 구성 부분은, 상기 서술한 실시형태에 대한 설명이 적절히 적용된다.

본 발명의 제조 방법에 있어서는, 조성물 (L) 의 대상물 (70) 에 대한 공급은, 액적상으로 비연속적으로 공급해도 되고, 혹은, 직선상 또는 곡선상, 또는 이것들의 조합의 형상으로 선상으로 연속적으로 공급해도 된다.

이하의 설명에서는, 설명의 편의상, 조성물 (L) 로서 고체의 화장료 분말과 액매를 포함하는 화장료 슬러리를 사용하며, 그 슬러리를 선상으로 연속 공급하여, 선상의 퇴적체를 조형하는 경우를 예로 들어 설명한다.

전형예로서, 먼저 형성 공정을 실시하기에 앞서, 대상물 (70) 을 대상물 배치부 (90) 상에 재치하고, 그 상태에서 노즐 (21) 과 대상물 (70) 을 상대적으로 이동시켜, 대상물 (70) 의 상방의 소정의 위치에 노즐 (21) 이 대향하도록 배치한다. 이 노즐 (21) 의 위치가 대상물 (70) 로의 조성물 (L) 의 공급 개시 위치가 된다.

이 때, 노즐 (21) 의 선단과 대상물 (70) 의 사이는 공극을 갖고 있으며, 서로 비접촉인 것이 바람직하다. 노즐 (21) 과 대상물 (70) 의 상대적인 이동은, 위치 조정부 (50) 에 있어서의 위치 조정 기구에 의해 행할 수 있다.

이 일례를 도 2(a) 에 나타낸다.

계속해서, 조성물 (L) 을 노즐 (21) 로부터 대상물 (70) 을 향해 공급하면서, 노즐 (21) 및 대상물 (70) 의 적어도 일방을 타방에 대하여 상대적으로 이동시켜, 대상물 (70) 상에 조성물 유래인 퇴적체 (S) 를 조형한다 (형성 공정). 이 때, 노즐 (21) 로부터의 조성물 (L) 의 공급은 계속되고 있다.

노즐 (21) 의 상대적인 이동 방향은, 목적으로 하는 퇴적체 (S) 를 평면에서 봤을 때의 형상이나 입체 형상, 혹은 묘출되는 디자인에 따라, 평면 방향, 연직 방향, 혹은 이것들의 조합의 방향으로 할 수 있다.

본 명세서에 있어서의 디자인이란, 예를 들어 히라가나 및 카타카나 등의 일본어 문자, 알파벳, 아라비아 숫자, 로마 숫자, 여러 외국의 문자 등의 각종 문자, 직선 및 곡선 그리고 이것들의 조합으로 이루어지는 도형이나 기하학 형상, 기호, 색, 모양 또는 이것들의 조합의 형상을 의미한다.

이들 디자인은, 디자인이 배치되는 대상물 (7) 이 본래 갖는 바탕색과 동일 또는 상이한 색으로 착색되어 표출된다.

이 일례를 도 2(b) 에 나타낸다.

형성 공정에 있어서 사용되는 조성물 (L) 은, 적어도 대상물 (70) 로의 공급 시에 있어서, 유동성을 가지며, 또한 소정의 점도를 갖는 것이 바람직하다.

구체적으로는, 대상물 (70) 로의 공급 시에 있어서의 조성물 (L) 의 점도는, 23 ℃ 에 있어서의 조성물 (L) 의 점도보다 높게 되어 있는 것이 바람직하다.

그 수단의 전형예는 조성물을 냉각시키는 것이다.

본 명세서에 있어서의 냉각이란, 23 ℃ 보다 낮은 온도로 하는 것을 말한다.

본 발명의 제조 방법에 있어서는, 형성 공정 중에, 노즐 (21) 로부터 공급되는 조성물 (L) 을 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는 것이 바람직하다. 조성물 냉각 공정에 있어서는, 조성물 (L) 을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시킨다.

형성 공정 중에 조성물 냉각 공정을 갖는 경우, 형성 공정이, 조성물 (L) 자체가 냉각된 상태에서 실시되도록 하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 조성물 (L) 을 강제 냉각시킨 상태에서 실온의 환경 하에서 형성 공정을 실시해도 되고, 혹은, 실온보다 저온인 환경 하에 있어서 외기온에 대응하여 조성물 (L) 이 자연 냉각된 상태에서 형성 공정을 실시해도 된다. 또, 본 명세서에 있어서 실온이란 23 ℃ 를 의미한다.

또한 본 발명의 제조 방법은, 형성 공정과는 별도로 조성물 냉각 공정을 갖는 것도 바람직하다. 바꾸어 말하면, 본 발명의 청소 방법은, 형성 공정과 조성물 냉각 공정을 갖는 것도 바람직하다. 이 경우, 조성물 냉각 공정은 형성 공정보다 이전에 실시한다. 요컨대, 조성물 냉각 공정에 의해 냉각된 조성물 (L) 을, 형성 공정에 있어서 노즐 (21) 로부터 대상물에 공급한다. 예를 들어, 공급부 (20) 보다 상류에 배치된 냉각 장치에 의해 조성물 (L) 을 냉각시킨 후, 조성물 (L) 을 조성물 수용부 (26) 에 수용하고, 그 조성물 (L) 을 노즐 (21) 로부터의 공급에 사용해도 된다.

형성 공정과 조성물 냉각 공정을 갖는 경우에도, 조성물 냉각 공정에 있어서는, 조성물 (L) 을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시킨다.

이하, 형성 공정 중에 조성물 냉각 공정을 갖는 경우와, 형성 공정과는 별도로 조성물 냉각 공정을 갖는 경우의 양쪽에 공통되는 사항에 대해서 설명한다.

조성물 (L) 의 냉각 시의 점도는, 냉각 시의 온도에 있어서, 조성물에 포함되는 재료의 균일 분산성을 향상시키고 품질을 안정화시키는 점이나, 노즐로부터 토출된 퇴적체의 붕괴를 억제하여 형상을 안정화시킨다는 관점에서, 바람직하게는 5 Pa·s 이상, 보다 바람직하게는 6 Pa·s 이상, 더욱 바람직하게는 8 Pa·s 이상이다.

또한, 조성물 (L) 의 냉각 시의 점도는, 냉각 시의 온도에 있어서 노즐로부터의 공급성·토출성을 향상시키고, 성형성을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 1000 Pa·s 이하, 보다 바람직하게는 350 Pa·s 이하, 더욱 바람직하게는 200 Pa·s 이하이다.

조성물 (L) 의 점도는, 조성물의 온도를 노즐 (21) 로부터의 공급 시의 조성물과 동일한 온도로 한 후에, B 형 점도계 (토키 산업 주식회사 제조, 디지털 점도계 TVB-10R) 를 사용하여 측정된 값으로 한다. 이 경우의 측정 조건은, 로터를 샘플의 점도 범위에 맞춰서 로터 No. M1, M2, M3, M4, H1, H2, H3, H4, H5, H6, H7, T-A, T-B, T-C, T-D 및 T-E 중 어느 것으로 하고, 회전수를 3 ∼ 100 rpm 으로 하고, 측정 시간을 60 초간으로 한다.

조성물 (L) 의 냉각 시의 점도를 상기 서술한 범위로 하기 위해서는, 예를 들어, 냉각 온도를 변경하거나, 조성물 중의 액체와 분체의 배합 비율을 변경하거나, 액체의 종류를 변경하거나 함으로써 적절히 조정할 수 있다.

조성물 (L) 의 냉각 온도는, 조성물의 조성이나 목적으로 하는 점도에 따라 적절히 변경 가능하지만, 노즐로부터 토출 후의 온도·점도 변화에 의한 형상 유지성을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 15 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 10 ℃ 이하, 더욱 바람직하게는 8 ℃ 이하가 되도록 냉각된다.

또한, 조성물 (L) 의 냉각 온도는, 특별히 한정되지 않지만 노즐로부터의 공급성을 양호하게 유지하는 관점에서 현실적으로는 －10 ℃ 이상이 되도록 냉각된다.

주위 온도의 영향을 받지 않고, 조성물 (L) 의 냉각 온도를 상기 서술한 범위로 유지하기 쉽게 하여, 대상물 (70) 상에서의 조성물의 형상 유지성을 높이는 관점에서, 형성 공정 중에 노즐 (21) 로부터 공급되는 조성물 (L) 을 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는 것이 바람직하다. 예를 들어 상기 서술한 제조 장치 (10) 를 사용했을 때에, 조성물 (L) 이 대상물 (70) 에 공급되기까지의 유로의 적어도 일부에, 온도 제어 부재 (80) 가 배치된 상태에서 형성 공정을 실시하는 것이 바람직하다. 온도 제어 부재 (80) 로서는, 상기 서술한 바와 같이 냉각 부재 또는 단열재 등을 들 수 있다.

또한 형성 공정에 있어서는, 노즐 (21) 의 단면의 최대 길이 D1 과, 노즐 (21) 의 선단과 대상물 (70) 의 거리 H1 의 비 (거리 H1/최대 길이 D1) 가 소정의 관계가 되도록 유지한 상태에서, 조성물 (L) 을 대상물 (70) 상에 공급하는 것이 바람직하다.

상세하게는 형성 공정에 있어서의 최대 길이 D1 에 대한 거리 H1 의 비 (H1/D1) 는, 토출된 퇴적체를 노즐에 의해 찌부러뜨려 버리는 것이나, 선폭을 굵게 해 버리는 것을 억제한다는 관점에서, 바람직하게는 0.3 이상, 보다 바람직하게는 0.5 이상, 더욱 바람직하게는 0.7 이상으로 한다.

또한, 형성 공정에 있어서의 최대 길이 D1 에 대한 거리 H1 의 비 (H1/D1) 는, 노즐과 대상물의 상대적인 이동에 대한 토출된 퇴적체의 추종성을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 3 미만, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하로 한다.

상기 서술한 H1/D1 은, 형성 공정의 개시부터 종료까지에 있어서 일정해지도록 유지되어 있어도 되고, 상기 서술한 범위에서 변화되어 있어도 된다.

형성 공정에 있어서의 노즐 (21) 의 단면의 최대 길이 D1 은, 상기 서술한 범위로 할 수 있다.

형성 공정에 있어서의 노즐 (21) 의 선단과 대상물 (70) 의 거리 H1 은, 노즐과 대상물의 접촉을 억제한다는 관점에서, 바람직하게는 0.15 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.2 ㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 0.25 ㎜ 이상이다.

또한 상기 서술한 거리 H1 은, 노즐과 대상물의 상대적인 이동에 대한 토출된 퇴적체의 추종성을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 5 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 2.5 ㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 2 ㎜ 이하이다.

거리 H1 은, 예를 들어 상기 서술한 위치 조정부 (50) 에 의해 적절히 조정할 수 있다.

형성 공정에 있어서의 조성물 (L) 의 공급 속도 V1 은, 생산 능력을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 1 ㎜/s 이상, 보다 바람직하게는 3 ㎜/s 이상, 더욱 바람직하게는 5 ㎜/s 이상으로 한다.

또한, 형성 공정에 있어서의 조성물 (L) 의 공급 속도 V1 은, 공급이 가능한 한 특별히 한정되지 않지만, 현실적인 관점에서, 바람직하게는 5000 ㎜/s 이하, 보다 바람직하게는 500 ㎜/s 이하, 더욱 바람직하게는 200 ㎜/s 이하로 한다.

공급 속도 V1 은, 공급부 (20) 에 있어서의 송액부 (25) 로서 예를 들어 상기 서술한 디스펜서를 사용한 경우에는 로터의 회전수를 적절히 조정하거나, 혹은, 노즐 (21) 의 형상이나 내경, 조성물 (L) 의 점도 등을 조정하거나 함으로써 적절히 변경 가능하다.

형성 공정에 있어서의 조성물 (L) 의 공급량 M1 은, 생산 능력을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 0.05 ㎜³/s 이상, 보다 바람직하게는 0.1 ㎜³/s 이상, 더욱 바람직하게는 0.4 ㎜³/s 이상으로 한다.

또한, 형성 공정에 있어서의 조성물 (L) 의 공급량 M1 은, 동작이 가능한 한 특별히 한정되지 않지만, 노즐의 상대 이동 속도와의 밸런스에 의해 고정세의 퇴적체의 안정적인 형성을 실시한다는 관점에서, 바람직하게는 150 ㎜³/s 이하, 보다 바람직하게는 50 ㎜³/s 이하, 더욱 바람직하게는 15 ㎜³/s 이하로 한다.

공급량 M1 은, 공급부 (20) 에 있어서의 송액부 (25) 로서 예를 들어 상기 서술한 디스펜서를 사용한 경우에는 로터의 회전수를 적절히 조정하거나, 혹은, 노즐 (21) 의 형상이나 내경, 조성물 (L) 의 점도 등을 조정하거나 함으로써 적절히 변경 가능하다.

마지막으로, 노즐 (21) 로부터의 조성물 (L) 의 공급을 정지한다. 이상의 공정에 의해, 대상물 (70) 상에 소정의 형상을 갖는 퇴적체 (S) 를 형성한다. 이에 따라, 예를 들어, 화장료 슬러리를 사용하여 형성된 퇴적체 (S) 는, 조성물 유래인 화장료를 포함하는 선상체로 이루어지는 입체물로 할 수 있다. 필요에 따라, 노즐 (21) 은, 대상물 (70) 에 대하여 동일 평면 상에 상대적으로 이동시키거나, 혹은, 상대적으로 이간시키거나 해도 된다.

이 일례를 도 2(c) 에 나타낸다.

이 때, 대상물 (70) 상에 형성된 퇴적체 (S) 는 냉각되는 것이 바람직하다 (퇴적체 냉각 공정). 퇴적체 (S) 를 냉각시킴으로써, 퇴적체 (S) 의 형상 유지성을 유지 또는 향상시키고, 예를 들어 후술하는 고화 공정을 실시할 때에, 원하는 형상이나 치수를 유지한 상태에서, 의장성이 높은 디자인을 형성하기 쉽게 할 수 있다.

퇴적체 (S) 의 냉각 온도는, 퇴적체 (S) 의 형상 유지성을 향상시킨다는 관점에서, 바람직하게는 －30 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 －20 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 －10 ℃ 이상이다.

또한, 퇴적체 (S) 의 냉각 온도는, 바람직하게는 15 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 10 ℃ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ℃ 이하이다.

퇴적체 (S) 를 냉각시키기 위해서는, 예를 들어 형성 공정을 저온 환경 하에서 실시하거나, 대상물 (70) 에 냉각된 다른 부재를 접촉시키는 것 등 하여 냉각된 대상물 (70) 상에 퇴적체 (S) 를 형성하거나 하면 된다.

이와 같이 조형된 퇴적체 (S) 는, 이것을 그대로 목적으로 하는 퍼스널 케어 제품으로 해도 되고, 혹은 다른 공정을 추가로 실시하여, 목적으로 하는 퍼스널 케어 제품으로 해도 된다. 어느 경우라도, 본 발명의 제조 방법에 따르면, 실온에서 유동성을 갖는 조성물을 사용한 경우라도, 형틀 등이 필요 없고, 조성물의 처방 자체로 형상 유지성을 높이면서, 원하는 디자인을 고정밀도 또한 고정세로 묘출할 수 있으므로, 형상이나 치수의 정밀도가 양호한 조형 및 가식을 간편하게 또한 효율적으로 실시할 수 있다.

상기 서술한 방법으로 제조된 퇴적체 (S) 의 두께 (연직 방향을 따른 길이) T1 은, 입체적인 디자인을 형성한다는 관점에서, 바람직하게는 0.05 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.1 ㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 0.15 ㎜ 이상이다.

또한, 퇴적체 (S) 의 두께 T1 은, 특별히 한정되지 않지만, 퇴적체를 1 층 형성했을 때의 퇴적체의 붕괴를 억제한다는 관점에서, 바람직하게는 1 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 0.5 ㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 ㎜ 이하로 한다.

또, 상기 두께 T1 은, 퇴적체가 1 층만인 경우에는, 그 1 층의 두께를 나타내고, 퇴적체가 복수 적층되어 있는 경우에는, 각 층의 단층 단위에서의 두께를 나타낸다.

퇴적체 (S) 의 두께 T1 은, 예를 들어 노즐 (21) 의 선단과 대상물 (70) 의 거리 H1 을 상기 서술한 범위로 하거나, 혹은, 노즐 (21) 의 형상이나 내경, 조성물 (L) 의 조성이나 점도 등을 조정하거나 함으로써 적절히 변경 가능하다.

퇴적체 (S) 의 형상 유지성을 높이며, 유통 시 및 사용 시에 있어서의 내충격성을 향상시킴과 함께, 제품의 사용감을 높이는 관점에서, 형성 공정을 실시한 후, 대상물 (70) 상에 존재하는 조성물 (L) 을 고화시켜, 퇴적체 (S) 로 하는 공정 (고화 공정) 을 실시하는 것이 바람직하다. 고화 공정은, 예를 들어, 비가열 조건 하에서 건조시키는 방법을 바람직하게 들 수 있다.

비가열 조건 하에서 건조시키는 방법으로는, 예를 들어, 실온 환경 하에서의 자연 건조나 감압 제거, 혹은, 진공 동결 건조 등의 액체 제거 방법을 들 수 있다. 이에 따라, 슬러리 유래의 액체를 조성물 (L) 로부터 제거 또는 고화시키고, 고화된 퇴적체 (S) 로 하면 된다.

고화 공정을 실시하는 경우라도, 형성된 퇴적체 (S) 의 두께 T1 은 상기 서술한 범위를 만족시키는 것이 바람직하다. 두께 T1 을 상기 서술한 범위로 하기 위해서는, 예를 들어 화장료 슬러리 중의 분체 함유량을 조정하면 된다.

상기 서술한 조성물 유래인 퇴적체는, 파우더 화장품 등의 분체를 주성분으로 하는 퍼스널 케어 제품을 제조하는 관점에서, 그 고형분으로서 분체를 바람직하게는 70 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 80 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 85 질량％ 이상 함유한다.

조성물 유래인 퇴적체는, 성형성이라는 관점에서, 그 고형분으로서 분체를 바람직하게는 99 질량％ 이하 함유한다.

퇴적체를 이와 같은 구성으로 하기 위해서는, 예를 들어 조성물 (L) 에 분체를 상기 서술한 고형분의 범위로 함유시키거나, 혹은, 액매 및 분체를 포함하는 조성물 (L) 을 사용하여 대상물 (70) 상에 공급한 후, 고화 공정을 실시하여 액매를 제거하거나 함으로써 달성할 수 있다.

본 발명의 제조 방법은, 목적으로 하는 퍼스널 케어 제품에 부여하는 디자인에 따라, 상기 서술한 형성 공정을 1 회만 실시해도 된다. 이것 대신에, 상기 서술한 형성 공정을 복수 회 실시하여, 퇴적체 (S) 를 동일 평면 상에 복수 개 형성하거나, 입체 형상이 되도록 적층하거나 해도 된다. 요컨대, 제 1 형성 공정을 실시하여 제 1 퇴적체를 형성한 후, 제 2 형성 공정을 포함하는 형성 공정을 추가로 1 회 이상 실시하여, 제 1 퇴적체 이외의 다른 퇴적체를 1 개 이상 형성해도 된다. 이 경우, 다른 퇴적체는 대상물 (70) 상에 별개 독립적으로 형성되어도 되고, 제 1 퇴적체 (S1) 상에 적층하도록 형성되어도 되고, 이것들의 조합이 되도록 형성되어도 된다.

상세하게는 제 1 퇴적체 상에 다른 퇴적체를 적층하는 예로서는, 제 1 형성 공정을 실시하여, 대상물 (70) 상에 제 1 퇴적체 (S1) 를 형성한다. 그 후, 노즐 (21) 로부터의 조성물 (L) 의 공급을 정지한 상태에서, 노즐 (21) 을 대상물 (70) 에 대하여 동일 평면 상에 상대적으로 이동시킨다 (이동 공정). 이동 공정을 실시함으로써, 노즐 (21) 의 위치가 대상물 (70) 로의 조성물 (L) 의 공급 개시 위치에 재배치된다. 이 실시형태의 일례를 도 3(a) 에 나타낸다.

그리고, 노즐 (21) 로부터의 조성물 (L) 의 공급을 재개하여 제 2 형성 공정을 추가로 실시하여, 제 1 퇴적체 (S1) 상에, 제 1 퇴적체 (S1) 이외의 다른 퇴적체 (S) 로서의 제 2 퇴적체 (S2) 를 형성한다. 이 실시형태의 일례를 도 3(b) 에 나타낸다.

제 1 퇴적체 이외의 다른 퇴적체를 별개 독립적으로 형성하는 예로서는, 제 1 형성 공정을 실시하여, 대상물 (70) 상에 제 1 퇴적체 (S1) 를 형성한다. 그 후, 이동 공정을 실시한다. 이 실시형태의 일례를 도 4(a) 에 나타낸다.

그리고, 노즐 (21) 로부터의 조성물 (L) 의 공급을 재개하여 제 2 형성 공정을 추가로 실시하여, 대상물 (70) 상에, 제 1 퇴적체 (S1) 이외의 다른 퇴적체 (S) 로서의 제 2 퇴적체 (S2) 를 형성한다. 이 실시형태의 일례를 도 4(b) 에 나타낸다.

상기 서술한 어느 실시형태라도, 형성 공정과 이동 공정을 이 순서로 반복해서 실시하여, 대상물 (70) 상 및 제 1 퇴적체 (S1) 상의 적어도 일방에, 이미 형성된 퇴적체 (S) 이외의 다른 퇴적체를 1 개 이상 형성할 수 있다.

각 퇴적체 (S) 를 형성할 때에 사용하는 조성물 (L) 은, 각각 동일한 조성이어도 되고, 상이한 조성이어도 된다.

또한 각 퇴적체 (S) 의 형성 후에는, 필요에 따라, 각 퇴적체 (S) 를 냉각시키는 공정이나, 고화 공정을 실시해도 된다. 고화 공정은, 퇴적체 (S) 가 형성될 때마다 복수 회 실시해도 되고, 목적으로 하는 모든 퇴적체 (S) 가 형성된 후에 실시해도 된다.

이상의 제조 방법에 의해, 퇴적체를 포함하여 구성되는 퍼스널 케어 제품을 얻을 수 있다.

예를 들어, 대상물 (70) 이 퍼스널 케어 제품이면, 퇴적체는 퍼스널 케어 제품 상에 직접 형성되어, 퇴적체로 이루어지는 디자인이 시인 (視認) 가능해져, 의장성이 높은 퍼스널 케어 제품이 된다. 또한, 베리에이션이 풍부한 디자인을 용이하게 묘출, 성형할 수 있게 된다. 또, 형성된 퇴적체는 입체적 또한 형상 유지성이 높고, 또한 고정세이므로, 시인되는 디자인도 의장성이 양호한 것이 된다. 필요에 따라, 별도로 조형한 퇴적체를 퍼스널 케어 제품에 적층하는 것 등 하여 가식하거나, 포장 봉지나 포장 상자 등에 수용하는 포장 공정을 실시하거나 하여, 시장에 유통시킬 수 있다.

퇴적체를 포함하여 구성되는 퍼스널 케어 제품의 일 실시형태로서, 퇴적체로서 화장료를 포함하는 입체 조형체를 구비하는 형태를 들 수 있다. 이 입체 조형체는, 예를 들어 개방 공공 (空孔) 또는 폐쇄 공공을 갖는 다공질체이다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 피부와 접했을 때의 감촉이 양호하고, 또한, 떼어내는 느낌 (박리의 감각) 도 양호하다.

얻어진 퇴적체를 다공질체로 하기 위해서는, 예를 들어, 조성물의 냉각 온도나 교반 속도를 조정하고, 얼음 결정의 크기라는 조건을 제어하면 된다.

얻어진 퇴적체가 다공질체인지의 여부는, 예를 들어, 마이크로스코프에 의한 관찰이라는 방법에 의해, 10 ∼ 100 ㎛ 정도의 구멍의 형성 유무와 같은 기준으로 판단할 수 있다.

또한, 상기 서술한 입체 조형체는 퇴적체이므로, 상기 서술한 바와 같은 함유량으로, 고형분으로서 분체를 포함하는 것이 바람직하다.

이하에, 상기 서술한 제조 방법에 적용 가능한 사항에 대해서 설명한다. 특별히 언급이 없는 한, 이하에 설명하는 물질의 상태 (3 상태) 는, 1 기압, 20 ℃ 를 기준으로 한다.

본 발명에 사용되는 조성물 (L) 은, 조성물에 포함되는 재료의 균일 분산성을 향상시키고 품질을 안정화시키는 점이나, 노즐로부터 토출된 퇴적체의 붕괴를 억제하고 형상을 안정화시킨다는 관점에서, 그 점도가, 바람직하게는 100 mPa·s 이상, 보다 바람직하게는 500 mPa·s 이상, 더욱 바람직하게는 1000 mPa·s 이상이다.

또한, 상기 점도는, 토출성을 향상시키고, 성형성을 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 1000000 mPa·s 이하, 보다 바람직하게는 500000 mPa·s 이하, 더욱 바람직하게는 200000 mPa·s 이하이다.

상기 서술한 조성물의 점도는, 상기 서술한 조성물 (L) 의 점도의 측정 수단과 동일한 수단으로 측정한다. 예를 들어 조성물이 슬러리인 것 등과 같은 가열 용융액 이외의 것인 경우에는, 23 ℃ 에 있어서 측정한다.

본 발명에 사용되는 조성물 (L) 은, 분체 등의 고체 및 유제에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.

이와 같은 고체로서는, 예를 들어, 착색 안료 및 체질 안료 등의 통상적인 화장료 성분에 사용되는 분체를 포함하는 것이 바람직하다.

착색 안료 및 체질 안료로서는, 예를 들어, 무기 분체, 유기 분체, 무기 분체와 유기 분체의 복합 분체 등을 들 수 있다.

무기 분체로서는, 규산, 무수 규산, 규산마그네슘, 탤크, 세리사이트, 마이카, 카올린, 벵갈라, 클레이, 벤토나이트, 운모, 티탄 피막 운모, 옥시염화비스무트, 산화지르코늄, 산화마그네슘, 산화티탄, 산화아연, 산화알루미늄, 황산칼슘, 황산바륨, 황산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화철, 군청, 산화크롬, 수산화크롬, 칼라민, 카본 블랙, 질화붕소, 이것들의 복합체 등을 들 수 있다.

유기 분체로서는, 폴리아미드, 나일론, 폴리에스테르, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 비닐 수지, 우레아 수지, 페놀 수지, 불소 수지, 규소 수지, 아크릴 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 폴리카보네이트 수지, 디비닐벤젠·스티렌 공중합체, 실크 파우더, 셀룰로오스, 장사슬 알킬인산 금속염, N-모노 장사슬 알킬아실 염기성 아미노산, 이것들의 복합체 등을 들 수 있다.

이들의 체질 안료나 착색 안료는, 착색되어 있거나 또는 비착색 (예를 들어, 백색 또는 본질적으로 투명) 이고, 조성물 또는 피부에 대하여, 착색, 광의 회절, 유분 흡수, 반투명성, 불투명성, 광택, 광택이 없는 외관, 매끄러움감 등 중 하나 이상의 효과를 제공할 수 있다.

조성물 중에 있어서의 분체의 함유량은, 그 목적에 따라 상이하지만, 건조와 같은 생산성의 관점에서, 바람직하게는 20 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 30 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 40 질량％ 이상이다.

조성물 중에 있어서의 분체의 함유량은, 공급 시의 유동성과 같은 생산성의 관점에서, 바람직하게는 85 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 80 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 70 질량％ 이하이다.

이와 같은 범위임으로써, 고정세의 입체 형상을 갖는 퍼스널 케어 제품을 제조하기 쉽게 할 수 있고, 또한 제품을 사용했을 때의 양호한 사용감을 높일 수 있다.

조성물 중에 있어서의 분체의 평균 입경은, 착색력이나 명도, 채도 등의 광학적 성질의 조정을 용이하게 하는 관점에서, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상이다.

조성물 중에 있어서의 분체의 평균 입경은, 노즐 막힘을 억제하여 연속적으로 안정된 토출을 가능하게 하는 관점에서, 바람직하게는 300 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 150 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100 ㎛ 이하이다.

평균 입경은, 레이저 회절/산란식 입도 분포 측정 장치로 측정되는 누적 체적 50 용량％ 에 있어서의 체적 누적 입경 D50 으로 한다.

유동체 중에 포함될 수 있는 유제는, 1 기압, 20 ℃ 에서 액체인 오일 (이하, 이것을 액체유라고도 한다.), 및 1 기압, 20 ℃ 에서 고체인 오일 (이하, 이것을 고체유라고도 한다.) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.

액체유로서는, 예를 들어, 직사슬 또는 분기의 탄화수소유, 식물유, 동물유, 에스테르유, 실리콘유, 고분자 알코올을 들 수 있다.

직사슬 또는 분기의 탄화수소유로서는, 유동 파라핀, 스쿠알란 등을 들 수 있다.

식물유로서는, 호호바유, 올리브유 등을 들 수 있다.

동물유로서는, 액상 라놀린 등을 들 수 있다.

에스테르유로서는, 모노 알코올 지방산 에스테르, 다가 알코올 지방산 에스테르 등을 들 수 있다.

실리콘유로서는, 디메틸폴리실록산, 디메틸시클로폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 메틸하이드로젠폴리실록산, 고급 알코올 변성 오르가노폴리실록산 등을 들 수 있다.

고분자 알코올로서는, 폴리에틸렌글리콜 등을 들 수 있다.

고체유로서는, 예를 들어, 바셀린, 세탄올, 스테아릴알코올, 세라미드 등을 들 수 있다.

조성물 중에 있어서의 유제의 함유량은, 그 목적에 따라 상이하지만, 총량으로서 바람직하게는 0.5 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 1 질량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 1.5 질량％ 이상이다.

조성물 중에 있어서의 유제의 함유량은, 바람직하게는 30 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 15 질량％ 이하이다. 이와 같은 범위임으로써, 퍼스널 케어 제품으로서의 양호한 발색성이나 감촉을 높일 수 있다.

조성물은, 목적으로 하는 퍼스널 케어 제품의 종류에 따라, 증점제, 피막제, 계면 활성제, 당, 다가 알코올, 수용성 고분자, 금속 이온 봉쇄제, 저급 알코올, 아미노산, 유기 아민, pH 조정제, 피부 컨디셔닝제, 비타민, 산화 방지제, 향료, 방부제, 자외선 흡수제, 자외선 산란제 등에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 성분을, 본 발명의효과를 저해하지 않는 범위에서 적절히 함유할 수 있다.

자외선 흡수제로서는, 예를 들어, 벤조페논 유도체, 메톡시신남산 유도체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.

벤조페논 유도체로서는, 디하이드록시벤조페논, 디하이드록시디메톡시벤조페논, 하이드록시메톡시벤조페논술폰산염, 디하이드록시디메톡시벤조페논디술폰산염 등을 들 수 있다.

메톡시신남산 유도체로서는, 메톡시신남산 2-에틸헥실 등을 들 수 있다.

자외선 산란제로서는, 예를 들어 평균 입경이 0.1 ㎛ 이하인 미립자를 사용할 수 있다.

자외선 산란제로서는, 산화아연, 산화티탄 및 실리카 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.

조성물 (L) 은, 액매를 추가로 포함하는 것도 바람직하다. 액매는, 화장료를 용해 또는 분산시키는 용매 또는 분산매로서 사용할 수 있는 액체이다. 조성물 (L) 을 슬러리의 형태로 하는 경우, 조성물 (L) 은, 분체 및 액매를 적어도 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다. 조성물 (L) 을 화장료 슬러리의 형태로 하는 경우에는, 조성물 (L) 은, 상기 서술한 안료를 포함하는 분체, 유제 및 액매를 적어도 포함하는 혼합물인 것이 바람직하다.

상기 서술한 액체 (액매) 로서는, 예를 들어, 액체의 상태에 있어서 휘발성을 갖는 물질 (휘발성 용매) 을 들 수 있다. 구체적으로는 액체 (액매) 로서는, 물, 알코올, 케톤 및 탄화수소 등에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 바람직하게 들 수 있다.

알코올로서는, 예를 들어 1 가의 탄소수 1 ∼ 6 의 사슬형 지방족 알코올이나, 1 가의 탄소수 3 ∼ 6 의 고리형 지방족 알코올이나, 1 가의 방향족 알코올이 바람직하게 사용된다. 그것들의 구체예로서는, 에탄올, 이소프로필알코올, 부틸알코올, 페닐에틸알코올, 프로판올, 펜탄올 등을 들 수 있다.

케톤으로는 예를 들어 탄소수 3 ∼ 6 의 사슬형 지방족 케톤이나, 탄소수 3 ∼ 6 의 고리형 지방족 케톤이나, 탄소수 8 ∼ 10 의 방향족 케톤이 바람직하게 사용된다. 그것들의 구체예로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 아세토페논 등을 들 수 있다.

탄화수소로서는, 예를 들어 이소파라핀계 탄화수소가 바람직하게 사용되고, 그 구체예로서는 IP 솔벤트를 들 수 있다.

조성물 (L) 에 액매를 포함하는 경우, 조성물 중에 있어서의 액매의 함유량은, 그 목적에 따라 상이하지만, 총량으로서 바람직하게는 20 질량％ 이상, 보다 바람직하게는 30 질량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 40 질량％ 이상이다.

조성물 중에 있어서의 액매의 함유량은, 바람직하게는 70 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 60 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 50 질량％ 이하이다.

이와 같은 범위임으로써, 조성물 (L) 의 구성 재료의 균일 분산성을 높이면서, 취급성을 높일 수 있다.

실시예

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명의 범위는, 이러한 실시예에 제한되지 않는다.

〔실시예 1-1 ∼ 1-5, 비교예 1-1 ∼ 1-2〕

이하에 나타내는 원료를 혼합하고, 화장료 및 액매로서의 물을 포함하는 화장료 슬러리 (아이새도우 1 용 슬러리) 를 조성물 (L) 로서 사용하였다. 조성물 (L) 전체량에 대한 분체의 비율은 47.1 질량％ 였다.

＜아이새도우 1 용 슬러리의 조성＞

(1) 분체 성분

·펄 분체와 안료 분체의 합계 : 91.79 질량부

(2) 분체 이외의 성분

·물 : 91.54 질량부

·유제 : 8 질량부

·습윤제 : 0.01 질량부

·방부제 : 0.96 질량부

이어서, 대상물 (70) 로서 수지 필름을 사용하고, 수지 필름 상에 상기 서술한 조성물 (L) 을 연속적으로 공급하여 형성 공정을 실시하였다. 이 때, 조성물을 수용하고 있는 용기와 수지 필름을 세팅하는 플레이트를, 펠티에 소자를 사용하여 냉각시켰다. 형성 공정에 있어서의 조성물의 온도 및 점도는 표 1 에 나타내는 바와 같이 하였다. 실시예 1-1 ∼ 1-5 에 있어서, 냉각된 용기에 수용하기 전의 조성물의 점도, 즉 냉각시키기 전의 조성물의 점도는 3 Pa·s 였다.

형성 공정 후 바로 －30 ℃ 에서 냉각시킴과 함께, 동 온도에서 8 시간에 걸쳐 진공 동결 건조에 의한 고화 공정을 실시하여, 대상물 (70) 상의 조성물 (L) 로부터 조성물 유래의 물을 제거하였다. 이와 같이 하여 퇴적체 (S) 로서 화장료를 포함하는 입체 조형체를 대상물 (70) 상에 형성하였다. 이에 따라 실시예 1-1 ∼ 1-5, 비교예 1-1 ∼ 1-2 의 메이크업 화장품을 얻었다. 얻어진 퇴적체 (S) 중의 분체 비율은 91.1 질량％ 였다. 이 장치에는 냉각 부재와 단열재는 배치되지 않았다.

형성 공정에 있어서의 조성물 (L) 의 공급 온도 및 점도는 이하의 표 1 에 나타내는 조건으로 하였다. 조성물 (L) 의 공급 온도는 열전쌍에 의해 측정하고, 조성물 (L) 의 점도는 상기 서술한 측정 방법으로 측정하였다.

실시예 1-1 에서 형성된 입체 조형체 표면의 마이크로스코프 관찰 이미지를 도 5 에 나타낸다. 도 5 에 나타내는 바와 같이, 실시예 1-1 의 퇴적체 (입체 조형체) 는 다공질체였다. 또한 도시되어 있지 않지만, 실시예 1-2 ∼ 1-5 가 모두 다공질체로서 형성되었다.

〔실시예 2-1 ∼ 2-4, 비교예 2-1 ∼ 2-2〕

이하에 나타내는 원료를 혼합하고, 화장료 및 액매로서의 물을 포함하는 화장료 슬러리 (아이새도우 2 용 슬러리) 를 조성물 (L) 로서 사용하였다. 조성물 (L) 전체량에 대한 분체의 비율은 45.1 질량％ 였다.

그것 이외에는 실시예 1-1 과 동일한 방법으로 각 공정을 실시하여, 퇴적체 (S) 로서 화장료를 포함하는 다공질의 입체 조형체를 대상물 (70) 상에 형성하였다. 얻어진 퇴적체 (S) 중의 분체 비율은 78.3 질량％ 였다.

형성 공정에 있어서의 조성물 (L) 의 공급 온도 및 점도는 이하의 표 2 에 나타내는 조건으로 하였다. 실시예 2-1 ∼ 2-4 에 있어서, 냉각된 용기에 수용하기 전의 조성물의 점도, 즉 냉각시키기 전의 조성물의 점도는 1 Pa·s 였다.

＜아이새도우 2 용 슬러리의 조성＞

(1) 분체 성분

·펄 분체와 안료 분체의 합계 : 78.79 질량부

(2) 분체 이외의 성분

·물 : 74.13 질량부

·유제 : 21 질량부

·습윤제 : 0.01 질량부

·방부제 : 0.88 질량부

〔실시예 3-1〕

이하에 나타내는 원료를 혼합하고, 화장료 및 액매로서의 물을 포함하는 화장료 슬러리 (아이새도우 3 용 슬러리) 를 조성물 (L) 로서 사용하였다. 조성물 (L) 전체량에 대한 분체의 비율은 42.6 질량％ 였다.

그것 이외에는 실시예 1-1 과 동일한 방법으로 각 공정을 실시하여, 퇴적체 (S) 로서 화장료를 포함하는 다공질의 입체 조형체를 대상물 (70) 상에 형성하였다. 얻어진 퇴적체 (S) 중의 분체 비율은 78.2 질량％ 였다.

형성 공정에 있어서의 조성물 (L) 의 공급 온도는 10 ℃, 점도는 7 Pa·s 로 하였다.

〔비교예 3-1〕

비교예로서, 시판되는 아이새도우 (주식회사 가네보 화장품 제조, 2017년 제조, KATE 브라운 셰이드 아이즈) 를 관찰 대상으로서 사용하였다.

실시예 3-1 및 비교예 3-1 에서 각각 형성된 입체 조형체 표면의 마이크로스코프 관찰 이미지를 도 6 및 도 7 에 나타낸다. 도 6 에 나타내는 바와 같이, 실시예 3-1 의 퇴적체 (입체 조형체) 는 다공질체였다. 한편, 비교예 3-1 의 퇴적체 (입체 조형체) 는, 표면에 구멍이 관찰되지 않았으며, 다공질체는 아니었다.

＜아이새도우 3 용 슬러리의 조성＞

(1) 분체 성분

·펄 분체와 안료 분체의 합계 : 78.79 질량부

(2) 분체 이외의 성분

·물 : 84.08 질량부

·유제 : 21 질량부

·습윤제 : 0.01 질량부

·방부제 : 0.93 질량부

산업장 이용 가능성

본 발명에 따르면, 실온에서 유동성을 갖는 조성물을 사용한 경우라도, 원하는 형상이나 치수를 갖는 퍼스널 케어 제품의 조형 및 가식을 입체적으로 실시할 수 있다.

Claims

인체에 적용 가능한 퍼스널 케어 제품의 제조 방법으로서,
상기 제조 방법은, 이하의 (1) 또는 (2) 를 만족시키는, 퍼스널 케어 제품의 제조 방법.
(1) 조성물을 노즐로부터 대상물에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정을 갖고,
상기 형성 공정 중에, 상기 노즐로부터 공급되는 상기 조성물을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는다.
(2) 조성물을 노즐로부터 대상물에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정과, 그 형성 공정보다 이전에, 그 형성 공정에 있어서 상기 노즐로부터 공급되는 상기 조성물을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖는다.
제 1 항에 있어서,
상기 형성 공정에 있어서, 점도가 6 Pa·s 이상인 조성물을 상기 대상물에 공급하는, 제조 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 형성 공정에 있어서, 점도가 350 Pa·s 이하인 조성물을 상기 대상물에 공급하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물 냉각 공정에 있어서, 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하의 점도가 되도록 상기 조성물을 냉각시키는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물 냉각 공정에 있어서 상기 조성물을 15 ℃ 이하로 냉각시키는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물 냉각 공정에 있어서 상기 조성물을 냉각시켜, －10 ℃ 이상으로 하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물을 공급하면서, 상기 노즐 및 상기 대상물의 적어도 일방을 타방에 대하여 상대적으로 이동시켜, 상기 형성 공정을 실시하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 대상물 상에, 상기 퇴적체 이외의 다른 퇴적체를 1 개 이상 형성하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 형성 공정을 실시한 후에, 상기 노즐로부터의 조성물의 공급을 정지한 상태에서 상기 노즐을 상기 대상물에 대하여 동일 평면 상에 상대적으로 이동시키는 이동 공정을 추가로 갖고,
상기 형성 공정과 상기 이동 공정을 이 순서로 반복해서 실시하여, 상기 대상물 상에, 그 퇴적체 이외의 다른 퇴적체를 1 개 이상 형성하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 의 상기 형성 공정을 실시한 후에, 제 2 의 상기 형성 공정을 추가로 실시하여,
상기 퇴적체 상에, 그 퇴적체 이외의 다른 퇴적체를 1 개 이상 형성하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 형성 공정을 실시한 후에, 상기 노즐로부터의 조성물의 공급을 정지한 상태에서 상기 노즐을 상기 대상물에 대하여 동일 평면 상에 상대적으로 이동시키는 이동 공정을 추가로 갖고,
상기 형성 공정과 상기 이동 공정을 이 순서로 반복해서 실시하여, 상기 퇴적체 상에, 그 퇴적체 이외의 다른 퇴적체를 1 개 이상 형성하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물이 액체와 분체의 혼합물인, 제조 방법.
제 12 항에 있어서,
상기 액체가, 물, 알코올, 케톤 및 탄화수소에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상인, 제조 방법.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
상기 조성물 중의 상기 분체의 함유량이 20 질량％ 이상인, 제조 방법.
제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물 중의 상기 분체의 함유량이 85 질량％ 이하인, 제조 방법.
제 12 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물 유래인 상기 퇴적체에 있어서의 고형분 중의 상기 분체의 함유량이 70 질량％ 이상인, 제조 방법.
제 12 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물 유래인 상기 퇴적체에 있어서의 고형분 중의 상기 분체의 함유량이 99 질량％ 이하인, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제조 방법은, 조성물을 노즐로부터 대상물에 공급하여, 그 조성물 유래인 퇴적체를 대상물 상에 형성하는 형성 공정을 갖고,
상기 형성 공정 중에, 상기 노즐로부터 공급되는 상기 조성물을, 23 ℃ 이하 또한 점도가 5 Pa·s 이상 1000 Pa·s 이하로 될 때까지 냉각시키는 조성물 냉각 공정을 갖고 있고,
상기 조성물이 상기 대상물에 공급되기까지의 유로의 적어도 일부에 냉각 부재가 배치된 상태에서 상기 조성물 냉각 공정을 실시하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물이 상기 대상물에 공급되기까지의 유로의 적어도 일부에 단열재가 배치된 상태에서 상기 형성 공정을 실시하는, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 대상물 상에 형성된 상기 퇴적체를 냉각시키는, 제조 방법.
제 20 항에 있어서,
상기 퇴적체의 냉각 온도는, －30 ℃ 이상인, 제조 방법.
제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
상기 퇴적체의 냉각 온도는, 15 ℃ 이하인, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 대상물이, 종이, 필름, 부직포, 금속, 수지 또는 퍼스널 케어 제품인, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 대상물 상에 형성된 상기 퇴적체를 비가열 조건 하에서 건조시키는, 제조 방법.
제 24 항에 있어서,
비가열 조건 하의 상기 건조는, 실온 환경 하에서의 자연 건조, 실온 환경 하에서의 감압 제거 및 진공 동결 건조에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 방법인, 제조 방법.
제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 퍼스널 케어 제품이, 화장품, 비누 또는 입욕제인, 제조 방법.
화장료를 포함하는 퇴적체로 이루어지는 입체 조형체를 포함하고, 그 입체 성형체가 다공질인, 퍼스널 케어 제품.
제 27 항에 있어서,
상기 퇴적체가, 고형분으로서 분체를 70 질량％ 이상 함유하는, 퍼스널 케어 제품.
제 27 항 또는 제 28 항에 있어서,
상기 퇴적체가, 고형분으로서 분체를 99 질량％ 이하 함유하는, 퍼스널 케어 제품.
제 27 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서,
화장품, 비누 또는 입욕제인, 퍼스널 케어 제품.