KR20240001822A - Antenna pattern and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20240001822A
KR20240001822A KR1020220078585A KR20220078585A KR20240001822A KR 20240001822 A KR20240001822 A KR 20240001822A KR 1020220078585 A KR1020220078585 A KR 1020220078585A KR 20220078585 A KR20220078585 A KR 20220078585A KR 20240001822 A KR20240001822 A KR 20240001822A
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맹주승
노진원
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주식회사 아모텍
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Abstract

본 개시는 금속 시트에 형성된 관통 홀의 내벽면에 도금층을 형성하여 안테나 패턴의 선 간격을 미세하고 정밀하게 형성하도록 한 안테나 패턴 및 이의 제조 방법을 제시한다. 제시된 안테나 패턴 제조 방법은 하프 에칭 공정 및/또는 하프 펀칭 공정을 금속 시트의 양면에 제1 하프 홈 및 제2 하프 홈을 형성하고, 제1 하프 홈 및 제2 하프 홈으로 구성된 관통 홀의 내벽면을 도금하여 안테나 패턴을 형성한다.The present disclosure proposes an antenna pattern and a method of manufacturing the same that form a fine and precise line spacing of the antenna pattern by forming a plating layer on the inner wall of a through hole formed in a metal sheet. The presented antenna pattern manufacturing method involves forming a first half groove and a second half groove on both sides of a metal sheet using a half etching process and/or a half punching process, and forming the inner wall of the through hole consisting of the first half groove and the second half groove. Plating is performed to form an antenna pattern.

Description

안테나 패턴 및 이의 제조 방법{ANTENNA PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}Antenna pattern and manufacturing method thereof {ANTENNA PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은 안테나 패턴 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 휴대 단말 등에 실장되어 무선 전력 송수신 또는 통신을 위해 사용되는 루프 형상의 안테나 패턴을 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing an antenna pattern, and more specifically, to a method of manufacturing a loop-shaped antenna pattern that is mounted on a portable terminal and used for wireless power transmission and reception or communication.

최근 고속충전을 위해 20W 이상의 고출력(High Power) 무선 충전에 대한 시장 요구가 증가하고 있다. 고출력 무선 충전은 일반 충전 방식에 비해 무선 전력 전송/수신용 안테나와 기판인 높은 전압이 인가되기 때문에 충전 효율이 저하되거나, 심한 경우 화재가 발생할 수도 있다.Recently, market demand for high power wireless charging of 20W or more is increasing for fast charging. Compared to general charging methods, high-output wireless charging applies a higher voltage to the antenna and substrate for wireless power transmission/reception, which can reduce charging efficiency or, in extreme cases, cause a fire.

이에, 고출력 무선 충전 시장에서는 무선 충전 효율뿐만 아니라 발열 억제에 대한 중요성이 커지고 있고, 충전 효율 및 발열 억제를 위해 안테나의 두께가 두꺼워지고 있다.Accordingly, in the high-output wireless charging market, the importance of not only wireless charging efficiency but also heat suppression is increasing, and the thickness of the antenna is becoming thicker for charging efficiency and heat suppression.

무선 전력 전송/수신용 안테나를 제조하는 방법으로는 코일 권선 방식, 패턴 인쇄 방식 및 하이브리드 방식이 주로 사용되고 있다.Coil winding method, pattern printing method, and hybrid method are mainly used to manufacture antennas for wireless power transmission/reception.

하지만, 종래의 제조 방법은 안테나의 두께가 두꺼워지면 패턴의 선 간격(또는 선폭)을 정밀하게 형성할 수 없다. 이에, 종래의 제조 방법에 의해 제조된 안테나는 발열 억제가 가능하지만 충전 효율이 저하되는 문제점이 있다.However, the conventional manufacturing method cannot precisely form the line spacing (or line width) of the pattern when the thickness of the antenna becomes thick. Accordingly, antennas manufactured using conventional manufacturing methods can suppress heat generation, but have the problem of reduced charging efficiency.

이상의 배경기술에 기재된 사항은 발명의 배경에 대한 이해를 돕기 위한 것으로서, 공개된 종래 기술이 아닌 사항을 포함할 수 있다.The matters described in the above background technology are intended to aid understanding of the background of the invention and may include matters that are not disclosed prior art.

한국등록특허 제10-1218755호Korean Patent No. 10-1218755

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로 관통 홀의 내벽면을 도금하여 안테나 패턴의 선 간격(또는 선폭)을 정밀하게 형성하도록 한 안테나 패턴 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been proposed to solve the above problems, and its purpose is to provide a method of manufacturing an antenna pattern that precisely forms the line spacing (or line width) of the antenna pattern by plating the inner wall of the through hole.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴은 루프 형상의 안테나 패턴으로, 안테나 패턴의 수직 단면은 제1 금속 패턴, 제1 금속 패턴과 이격된 제2 금속 패턴, 제1 금속 패턴 및 제2 금속 패턴 사이에 개재되어 제1 금속 패턴과 제2 금속 패턴 사이에 이격 공간을 형성하도록 구성된 관통 홀 및 관통 홀의 내벽면에 형성된 도금층을 포함한다.In order to achieve the above object, the antenna pattern according to an embodiment of the present invention is a loop-shaped antenna pattern, and the vertical cross-section of the antenna pattern includes a first metal pattern, a second metal pattern spaced apart from the first metal pattern, and a first metal pattern. It includes a through hole interposed between the pattern and the second metal pattern to form a space between the first metal pattern and the second metal pattern, and a plating layer formed on an inner wall of the through hole.

관통 홀은 안테나 패턴의 상면 방향으로 배치된 제1 하프 홀 및 안테나 패턴의 하면 방향으로 배치된 제2 하프 홀을 포함하고, 제1 하프 홀 및 제2 하프 홀은 적어도 일부가 중첩되어 안테나 패턴을 수직으로 관통하는 관통 홀을 형성하도록 구성될 수 있다.The through hole includes a first half hole disposed toward the top of the antenna pattern and a second half hole disposed toward the bottom of the antenna pattern, and at least a portion of the first half hole and the second half hole overlap to form the antenna pattern. It may be configured to form a vertically penetrating through hole.

도금층은 제2 금속 패턴과 마주하는 제1 금속 패턴의 제1 단부와 제1 금속 패턴과 마주하는 제2 금속 패턴의 제1 단부 중에서 적어도 하나의 단부에 형성될 수 있따.The plating layer may be formed on at least one end of the first end of the first metal pattern facing the second metal pattern and the first end of the second metal pattern facing the first metal pattern.

제2 금속 패턴과 마주하는 제1 금속 패턴의 제1 단부에는 요홈이 형성되고, 도금층은 요홈에 도금되어 제1 금속 패턴의 제1 단부를 평탄화하도록 구성될 수 있다.A groove may be formed in the first end of the first metal pattern facing the second metal pattern, and a plating layer may be plated in the groove to flatten the first end of the first metal pattern.

제1 금속 패턴과 마주하는 제2 금속 패턴의 제1 단부에는 요홈이 형성되고, 도금층은 요홈에 도금되어 제2 금속 패턴의 제1 단부를 평탄화하도록 구성될 수 있다.A groove may be formed in the first end of the second metal pattern facing the first metal pattern, and a plating layer may be plated in the groove to flatten the first end of the second metal pattern.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 금속 시트의 제1 면에 캐리어 시트를 합지하는 단계, 금속 시트의 제2 면에 제1 하프 홈을 형성하는 단계, 금속 시트의 제2 면에 커버레이 시트를 합지하는 단계, 금속 시트의 제1 면에 합지된 캐리어 시트를 제거하는 단계, 금속 시트의 제1 면에 제2 하프 홈을 형성하는 단계 및 제1 하프 홈 및 제2 하프 홈 중에서 적어도 하나의 내벽면에 도금층을 형성하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above object, the method of manufacturing an antenna pattern according to an embodiment of the present invention includes the steps of laminating a carrier sheet to the first side of a metal sheet, forming a first half groove on the second side of the metal sheet, and forming a first half groove on the second side of the metal sheet. Laminating the coverlay sheet on the second side of the sheet, removing the carrier sheet laminated on the first side of the metal sheet, forming a second half groove on the first side of the metal sheet, and forming a first half groove. and forming a plating layer on the inner wall surface of at least one of the second half grooves.

제1 하프 홈을 형성하는 단계에서는 하프 에칭 및 펀칭 공정을 통해 금속 시트의 제2 면에서 금속 시트의 내부 방향으로 파여진 제1 하프 홈을 형성할 수 있다.In the step of forming the first half groove, the first half groove may be formed on the second side of the metal sheet toward the inside of the metal sheet through a half etching and punching process.

제2 하프 홈을 형성하는 단계에서는 하프 에칭 및 펀칭 공정을 통해 금속 시트의 제1 면에서 금속 시트의 내부 방향으로 파여진 제2 하프 홈을 형성할 수 있다.In the step of forming the second half groove, the second half groove may be formed on the first side of the metal sheet toward the inside of the metal sheet through a half etching and punching process.

제2 하프 홈을 형성하는 단계에서는 제1 하프 홈과 적어도 일부가 중첩되도록 제2 하프 홈을 형성하고, 제1 하프 홈 및 제2 하프 홈은 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 관통하는 관통 홀을 형성할 수 있다.In the step of forming the second half groove, the second half groove is formed so that at least a portion overlaps the first half groove, and the first half groove and the second half groove penetrate the first and second sides of the metal sheet. A through hole can be formed.

제1 하프 홈을 형성하는 단계에서 형성된 제1 하프 홈은 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 수직으로 관통하는 제1 중심 축을 갖고, 제2 하프 홈을 형성하는 단계에서 형성된 제2 하프 홈은 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 수직으로 관통하는 제2 중심 축을 갖고, 제1 중심 축과 제2 중심 축은 이격되거나, 동일 선상에 배치될 수 있다.The first half groove formed in the step of forming the first half groove has a first central axis vertically penetrating the first and second sides of the metal sheet, and the second half groove formed in the step of forming the second half groove It has a second central axis that passes perpendicularly through the first and second surfaces of the metal sheet, and the first central axis and the second central axis can be spaced apart or arranged on the same line.

제1 하프 홈 및 제2 하프 홈은 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 관통하는 관통 홀을 형성하고, 도금층을 형성하는 단계에서는 제1 하프 홈 및 제2 하프 홈 중에서 적어도 하나의 내벽면에 도금층을 형성하여 관통 홀의 내벽면을 평탄화할 수 있다.The first half groove and the second half groove form a through hole penetrating the first and second sides of the metal sheet, and in the step of forming the plating layer, at least one inner wall surface of the first half groove and the second half groove By forming a plating layer on the inner wall surface of the through hole can be flattened.

제1 하프 홈 및 제2 하프 홈은 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 관통하는 관통 홀을 형성하고, 도금층을 형성하는 단계에서는 관통 홀의 내벽면에 도금층을 형성할 수 있다.The first half groove and the second half groove form a through hole penetrating the first and second sides of the metal sheet, and in the step of forming the plating layer, the plating layer may be formed on the inner wall of the through hole.

본 발명에 의하면, 안테나 패턴은 금속 패턴의 단부에 도금층을 형성함으로써, 금속 패턴의 단부(즉, 안테나 패턴의 측면)을 평탄화여 관통 홀의 폭(즉, 안테나 패턴의 선 간격(또는 선폭))을 더 좁고 정밀하게 형성할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, the antenna pattern is formed by forming a plating layer on the end of the metal pattern, thereby flattening the end of the metal pattern (i.e., the side of the antenna pattern) to reduce the width of the through hole (i.e., the line spacing (or line width) of the antenna pattern). It has the effect of being able to form narrower and more precisely.

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 에칭 공정 및/또는 펀칭 공정을 2단계로 나누어 수행하여 관통 홀을 형성함으로써, 종래의 안테나 패턴 제조 방법에 비해 금속 시트에 형성된 관통 홀의 폭(즉, 안테나 패턴의 선 간격 또는 선폭)을 50% 정도로 감소시킬 수 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method divides the etching process and/or the punching process into two stages to form a through hole, thereby reducing the width of the through hole formed in the metal sheet (i.e., the line spacing of the antenna pattern) compared to the conventional antenna pattern manufacturing method. or line width) can be reduced by about 50%.

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 종래에 비해 관통 홀의 폭(즉, 안테나 패턴의 선 간격 또는 선폭)을 50% 정도로 감소시킴으로써, 두께가 3oz(105um) 이상인 금속 시트에서도 100um 이하의 선 간격(Pitch)을 갖는 안테나 패턴을 제작할 수 있는 효과가 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method reduces the width of the through hole (i.e., the line spacing or line width of the antenna pattern) by about 50% compared to the conventional method, allowing a line spacing (pitch) of 100um or less even in a metal sheet with a thickness of 3oz (105um) or more. There is an effect of being able to produce an antenna pattern with

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 금속 두께의 80% 내지 120% 정도의 선 간격을 갖는 안테나 패턴의 제작이 가능하여 설계 자유도가 증가하고, 성능 최적화 설계가 가능한 효과가 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method allows the production of an antenna pattern with a line spacing of about 80% to 120% of the metal thickness, which increases design freedom and enables performance-optimized design.

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 관통 홀을 형성한 후 관통 홀의 내벽면에 도금층을 형성함으로써, 안테나 패턴의 선 간격(또는 선폭)은 더욱 미세하고 정밀하게 형성할 수 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method forms a through hole and then forms a plating layer on the inner wall of the through hole, so that the line spacing (or line width) of the antenna pattern can be formed more finely and precisely.

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 관통 홀의 내벽면에 도금층을 형성함으로써, 관통 홀의 폭을 최소화하여 안테나 패턴의 선 간격을 최소화할 수 있다.Additionally, the antenna pattern manufacturing method forms a plating layer on the inner wall of the through hole, thereby minimizing the width of the through hole and minimizing the line spacing of the antenna pattern.

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 관통 홀의 내벽면에 도금층을 형성함으로써, 관통 홀의 내벽면을 평탄화하여 안테나 패턴의 선 간격을 정밀하게 형성할 수 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method forms a plating layer on the inner wall of the through hole, thereby flattening the inner wall of the through hole and forming the line spacing of the antenna pattern precisely.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 및 이의 패턴 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴을 설명하기 위한 도면.
도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 관통 홀을 설명하기 위한 도면.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴의 선 각격을 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법을 설명하기 위한 흐름도.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법을 설명하기 위한 도면.
도 8 및 도 9는 종래의 안테나 패턴 제조 방법과 본 발명의 안테나 패턴 제조 방법을 비교 설명하기 위한 도면.
1 is a diagram for explaining an antenna pattern and a method of manufacturing the pattern according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram for explaining an antenna pattern according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 3 and 4 are views for explaining the through hole shown in FIG. 2.
Figure 5 is a diagram for explaining the line spacing of an antenna pattern according to an embodiment of the present invention.
6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an antenna pattern according to an embodiment of the present invention.
7 is a diagram for explaining a method of manufacturing an antenna pattern according to an embodiment of the present invention.
8 and 9 are diagrams for comparing and explaining the conventional antenna pattern manufacturing method and the antenna pattern manufacturing method of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이고, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. The examples are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art, and the following examples may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is limited to the following examples. It is not limited. Rather, these embodiments are provided to make the disclosure more faithful and complete and to fully convey the spirit of the invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 또한, 본 명세서에서 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다.The terms used herein are used to describe specific embodiments and are not intended to limit the invention. Additionally, in this specification, singular forms may include plural forms, unless the context clearly indicates otherwise.

실시예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "위(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "위(on)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여(indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 위 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 하는 것을 원칙으로 한다.In the description of the embodiment, each layer (film), region, pattern or structure is said to be formed “on” or “under” the substrate, each layer (film), region, pad or pattern. Where described, “on” and “under” include both being formed “directly” or “indirectly” through another layer. In addition, in principle, the standards for the top or bottom of each floor are based on the drawing.

도면은 본 발명의 사상을 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 도면에 의해서 본 발명의 범위가 제한되는 것으로 해석되지 않아야 한다. 또한 도면에서 상대적인 두께, 길이나 상대적인 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위해 과장될 수 있다.The drawings are only intended to enable understanding of the spirit of the present invention, and should not be construed as limiting the scope of the present invention by the drawings. Additionally, in the drawings, relative thickness, length, or relative size may be exaggerated for convenience and clarity of explanation.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 및 이의 제조 방법은 금속 시트(110)를 이용하여 루프 형상의 안테나 패턴(100)을 제조한다. 안테나 패턴 제조 방법을 통해 제조된 안테나 패턴(100)은 무선 전력 송신/수신(WPC; Wireless Power Consortium)용 안테나 패턴, 근거리 통신(NFC; Near Field Communication)용 안테나 패턴, 전자결제(MST; Magnetic Secure Transmission)용 안테나 패턴 등으로 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1, the antenna pattern and its manufacturing method according to an embodiment of the present invention manufacture a loop-shaped antenna pattern 100 using a metal sheet 110. The antenna pattern 100 manufactured through the antenna pattern manufacturing method is an antenna pattern for wireless power transmission/reception (WPC; Wireless Power Consortium), an antenna pattern for near field communication (NFC; Near Field Communication), and an antenna pattern for electronic payment (MST; Magnetic Secure). It can be used as an antenna pattern for transmission, etc.

본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 WPC, NFC 및 MST 중에서 둘 이상으로 포함하는 콤보 안테나 패턴을 제조하기 위해 사용될 수도 있다.The antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention may be used to manufacture a combo antenna pattern including two or more of WPC, NFC, and MST.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법에 의해 제조된 하나 이상의 안테나 패턴(100)들은 회로 기판(FPCB)에 조립되어 단일 안테나 또는 콤보 안테나를 구성할 수 있다. 이때, 안테나 패턴(100)은 솔더링(Soldering) 공정, 초음파 융착 공정 등을 통해 회로 기판에 조립될 수 있다.Additionally, one or more antenna patterns 100 manufactured by the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention may be assembled on a circuit board (FPCB) to form a single antenna or a combo antenna. At this time, the antenna pattern 100 may be assembled on the circuit board through a soldering process, ultrasonic welding process, etc.

이때, 회로 기판에는 NFC 안테나 패턴, MST 안테나 패턴 중 적어도 하나의 안테나 패턴과 안테나 패턴들을 외부 기판(예를 들면, 휴대 단말의 메인 기판)과 연결하기 위한 단자부들이 형성되고, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법에 의해 제조된 WPC용 안테나 패턴(100)을 솔더링 공정, 초음파 융착 공정 등을 통해 회로 기판이 조립하고, 차폐 시트, 방열 시트 등을 조립하여 콤보 안테나를 구성할 수도 있다.At this time, at least one antenna pattern among the NFC antenna pattern and the MST antenna pattern and terminal portions for connecting the antenna patterns to an external board (for example, the main board of a mobile terminal) are formed on the circuit board, and in an embodiment of the present invention, The WPC antenna pattern 100 manufactured by the following antenna pattern manufacturing method may be assembled into a circuit board through a soldering process, an ultrasonic welding process, etc., and a combo antenna may be formed by assembling a shielding sheet, a heat dissipation sheet, etc.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴(100)의 수직 절단면은 복수의 금속 패턴(111) 및 복수의 관통 홀(112)이 교대로 배치된다. 이하에서는 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴(100)을 용이하게 설명하기 위해서 안테나 패턴(100)의 수직 절단면을 기준으로 설명한다.Referring to FIG. 2, the vertical cut surface of the antenna pattern 100 according to an embodiment of the present invention has a plurality of metal patterns 111 and a plurality of through holes 112 arranged alternately. Hereinafter, in order to easily explain the antenna pattern 100 according to an embodiment of the present invention, the description will be made based on the vertical cut surface of the antenna pattern 100.

금속 패턴(111)은 관통 홀(112)과 인접한 단부에 요홈이 형성된다. 이때, 관통 홀(112)의 양측에 인접한 두 개의 금속 패턴(111) 중에서 하나의 금속 패턴(111)의 단부에만 요홈이 형성될 수도 있다.The metal pattern 111 has a groove formed at an end adjacent to the through hole 112. At this time, the groove may be formed only at the end of one of the two metal patterns 111 adjacent to both sides of the through hole 112.

일례로, 제1 금속 패턴(111a)의 제1 단부에는 도면을 기준으로 제1 금속 패턴(111a)의 상부로 치우쳐진 제1 요홈 및 제1 금속 패턴(111a)의 하부로 치우쳐진 제2 요홈이 형성된다. 이때, 제1 금속 패턴(111a)의 제1 단부에는 제1 요홈의 제1 단부와 제2 요홈의 제1 단부가 연결되어 형성된 제1 돌기가 더 형성된다. 여기서, 제1 돌기는 제1 관통 홀(112a)이 배치된 방향으로 돌출된다.For example, the first end of the first metal pattern 111a has a first groove biased toward the top of the first metal pattern 111a and a second groove biased toward the bottom of the first metal pattern 111a based on the drawing. This is formed. At this time, a first protrusion formed by connecting the first end of the first groove and the first end of the second groove is further formed at the first end of the first metal pattern 111a. Here, the first protrusion protrudes in the direction in which the first through hole 112a is disposed.

제2 금속 패턴(111b)의 제1 단부에는 제2 금속 패턴(111b)의 상면으로 치우쳐지도록 형성된 제3 요홈 및 제2 금속 패턴(111b)의 하면으로 치우쳐지도록 형성된 제4 요홈을 포함할 수 있다. 이때, 제2 금속 패턴(111b)의 제1 단부에는 제3 요홈의 제1 단부와 제4 요홈의 제1 단부가 연결되어 형성된 제2 돌기가 더 형성된다. 여기서, 제2 돌기는 제1 관통 홀(112a)이 배치된 방향으로 돌출된다.The first end of the second metal pattern 111b may include a third groove formed to be biased toward the upper surface of the second metal pattern 111b and a fourth groove formed to be biased to the lower surface of the second metal pattern 111b. . At this time, a second protrusion formed by connecting the first end of the third groove and the first end of the fourth groove is further formed at the first end of the second metal pattern 111b. Here, the second protrusion protrudes in the direction in which the first through hole 112a is disposed.

여기서, 제1 금속 패턴(111a) 및 제2 금속 패턴(111b)에 모두 요홈이 형성된 것으로 도시 및 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 제1 금속 패턴(111a) 및 제2 금속 패턴(111b) 중 하나의 단면에만 요홈이 형성될 수도 있다.Here, it has been shown and explained that grooves are formed in both the first metal pattern 111a and the second metal pattern 111b, but this is not limited to this and only one of the first metal pattern 111a and the second metal pattern 111b Grooves may be formed only on one end.

금속 패턴(111)은 관통 홀(112)과 인접한 단부에 도금층(113)이 형성된다. 도금층(113)은 도금 공정을 통해 금속 패턴(111)의 단부에 형성되며, 금속 패턴(111)의 단부에 형성된 요홈 상에 형성된다. 도금층(113)은 금속 패턴(111)의 요홈 만을 커버하도록 형성될 수 있고, 도금 공정을 반복하여 다층 구조로 형성될 수 있다.A plating layer 113 is formed at an end of the metal pattern 111 adjacent to the through hole 112. The plating layer 113 is formed at the end of the metal pattern 111 through a plating process, and is formed on the groove formed at the end of the metal pattern 111. The plating layer 113 may be formed to cover only the grooves of the metal pattern 111, and may be formed into a multi-layer structure by repeating the plating process.

관통 홀(112)은 인접한 두 금속 패턴(111) 사이에 개재되어 이격 공간을 형성하고, 관통 홀(112)에 의해 형성된 이격 공간은 안테나 패턴(100)의 선 간격을 형성한다.The through hole 112 is interposed between two adjacent metal patterns 111 to form a space, and the space formed by the through hole 112 forms a line spacing of the antenna pattern 100.

일례로, 제1 관통 홀(112a)은 제1 금속 패턴(111a)과 제2 금속 패턴(111b) 사이에 개재되어, 제1 금속 패턴(111a)과 제2 금속 패턴(111b)을 이격시킨다. 제2 관통 홀(112b)은 제2 금속 패턴(111b)과 제3 금속 패턴(111c) 사이에 개재되어, 제2 금속 패턴(111b)과 제3 금속 패턴(111c)을 이격시킨다. 제3 관통 홀(112c) 내지 제10 관통 홀(112j)도 각각 인접한 두 금속 패턴(111) 사이에 개재되어 두 금속 패턴(111)을 이격시킨다.For example, the first through hole 112a is interposed between the first metal pattern 111a and the second metal pattern 111b, thereby separating the first metal pattern 111a and the second metal pattern 111b. The second through hole 112b is interposed between the second metal pattern 111b and the third metal pattern 111c, thereby separating the second metal pattern 111b and the third metal pattern 111c. The third to tenth through holes 112c to 112j are also interposed between the two adjacent metal patterns 111 to space the two metal patterns 111 apart.

관통 홀(112)은 제1 하프 홀(H1) 및 제2 하프 홀(H2)을 포함하여 구성된다. 이때, 제1 하프 홀(H1) 및 제2 하프 홀(H2)은 적어도 일부가 중첩되도록 구성되어 안테나 패턴(100)의 상면 및 하면을 수직으로 관통하는 관통 홀(112)을 구성한다. 여기서, 제1 하프 홀(H1) 및 제2 하프 홀(H2)은 후술할 제1 하프 홈(114) 및 제2 하프 홈(115)에 각각 대응된다.The through hole 112 includes a first half hole (H1) and a second half hole (H2). At this time, the first half hole (H1) and the second half hole (H2) are configured to overlap at least a portion to form a through hole 112 that vertically penetrates the upper and lower surfaces of the antenna pattern 100. Here, the first half hole H1 and the second half hole H2 respectively correspond to the first half groove 114 and the second half groove 115, which will be described later.

도 3을 참조하면, 제1 하프 홀(H1)의 중심 축(A)과 제2 하프 홀(H2)의 중심 축(B)은 안테나 패턴(100)의 상면 및 하면과 직교하고, 중심 축(A) 및 중심 축(B)은 동일 선상에 배치된다. 그에 따라, 관통 홀(112)은 안테나 패턴(100)을 수직으로 관통하는 "8"형상을 갖는다.Referring to FIG. 3, the central axis (A) of the first half hole (H1) and the central axis (B) of the second half hole (H2) are perpendicular to the upper and lower surfaces of the antenna pattern 100, and the central axis ( A) and the central axis (B) are arranged on the same line. Accordingly, the through hole 112 has an “8” shape that vertically penetrates the antenna pattern 100.

본 발명의 실시 예에서, 관통 홀(112)은 이중 에칭 공정을 통해 형성되는데, 실제 공정에서 제1 하프 홀(H1) 및 제2 하프 홀(H2)이 정확하게 정렬되도록 에칭하는 것은 매우 어렵다.In an embodiment of the present invention, the through hole 112 is formed through a double etching process, but in an actual process, it is very difficult to etch the first half hole (H1) and the second half hole (H2) to be accurately aligned.

이에, 도 4를 참조하면, 제1 하프 홀(H1) 및 제2 하프 홀(H2)이 어긋나도록 형성되고, 관통 홀(112)은 안테나 패턴(100)을 비스듬하게(또는 경사지게, 사선으로) 관통할 수 있다.Accordingly, referring to FIG. 4, the first half hole (H1) and the second half hole (H2) are formed to be offset, and the through hole 112 diagonally (or obliquely, diagonally) the antenna pattern 100. It can penetrate.

일례로, 안테나 패턴(100)의 상면 및 하면과 직교하는 제1 하프 홀(H1)의 중심 축(A)과 제2 하프 홀(H2)의 중심 축(B)은 도면상 수평 방향으로 서로 어긋나고(또는 평행하고), 관통 홀(112)은 안테나 패턴(100)을 사선으로 관통한다. 그에 따라, 관통 홀(112)의 단면은 기울어진 "8"형상을 갖는다.For example, the central axis (A) of the first half hole (H1) and the central axis (B) of the second half hole (H2), which are perpendicular to the upper and lower surfaces of the antenna pattern 100, are offset from each other in the horizontal direction in the drawing. (or parallel), and the through hole 112 penetrates the antenna pattern 100 diagonally. Accordingly, the cross section of the through hole 112 has an inclined “8” shape.

금속 패턴(111)의 단부는 도금층(113)에 의해 요홈이 커버링되어 평탄화됨에 따라, 관통 홀(112)의 폭(즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격(또는 선폭))을 더 좁고 정밀하게 형성할 수 있게 된다.As the grooves at the ends of the metal pattern 111 are covered and flattened by the plating layer 113, the width of the through hole 112 (i.e., the line spacing (or line width) of the antenna pattern 100) becomes narrower and more precise. can be formed.

일례로 도 5를 참조하면, 금속 패턴(111)의 단부에 도금층(113)이 형성됨에 따라, 관통 홀(112)의 폭(W)은 도금층(113)이 형성되지 않은 금속 패턴(111)의 폭(W2)보다 a+b 만큼 좁게 형성된다. 따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴(100)은 안테나 패턴(100; 즉, 금속 시트(110))의 두께가 두꺼워지더라도 안테나 패턴(100)의 선 간격(또는 선폭)을 정밀하게 형성할 수 있다.Referring to FIG. 5 as an example, as the plating layer 113 is formed at the end of the metal pattern 111, the width W of the through hole 112 is less than that of the metal pattern 111 without the plating layer 113. It is formed to be narrower than the width (W2) by a+b. Therefore, the antenna pattern 100 according to an embodiment of the present invention precisely forms the line spacing (or line width) of the antenna pattern 100 even if the thickness of the antenna pattern 100 (i.e., the metal sheet 110) increases. can do.

이처럼, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴(100)은 금속 패턴(111)의 단부에 도금층(113)을 형성함으로써, 금속 패턴(111)의 단부(즉, 안테나 패턴(110)의 측면)을 평탄화여 관통 홀(112)의 폭(즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격(또는 선폭))을 더 좁고 정밀하게 형성할 수 있다.In this way, the antenna pattern 100 according to an embodiment of the present invention forms the plating layer 113 at the end of the metal pattern 111, thereby forming the end of the metal pattern 111 (i.e., the side surface of the antenna pattern 110). By flattening, the width of the through hole 112 (i.e., the line spacing (or line width) of the antenna pattern 100) can be formed narrower and more precisely.

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 캐리어 시트 합지 단계(S110), 제1 하프 홈 형성 단계(S120), 커버레이 시트 합지 단계(S130), 캐리어 시트 제거 단계(S140), 제2 하프 홈 형성 단계(S150) 및 도금층 형성 단계(S160)를 포함하여 구성된다.Referring to Figures 6 and 7, the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention includes a carrier sheet laminating step (S110), a first half groove forming step (S120), a coverlay sheet laminating step (S130), and a carrier sheet laminating step (S130). It includes a removal step (S140), a second half groove forming step (S150), and a plating layer forming step (S160).

캐리어 시트 합지 단계(S110)에서는 금속 시트(110)의 제1 면에 캐리어 시트(120)를 합지한다. 캐리어 시트 합지 단계(S110)에서는 설정 두께 이상의 두께를 갖는 금속 시트(110)의 제1 면(즉, 금속 시트(110)의 상면)에 캐리어 시트(120)를 합지한다.In the carrier sheet lamination step (S110), the carrier sheet 120 is laminated to the first side of the metal sheet 110. In the carrier sheet lamination step (S110), the carrier sheet 120 is laminated to the first surface (that is, the upper surface of the metal sheet 110) of the metal sheet 110 having a thickness equal to or greater than the set thickness.

캐리어 시트 합지 단계(S110)에서는 대략 2oz(즉, 대략 70um) 이상의 두께를 갖는 금속 시트(110)를 준비한다. 이때, 캐리어 시트 합지 단계(S110)에서는 일반적인 안테나 패턴(100)에 사용되는 구리(Cu) 재질의 금속 시트(110)를 준비한다.In the carrier sheet lamination step (S110), a metal sheet 110 having a thickness of approximately 2oz (i.e., approximately 70um) or more is prepared. At this time, in the carrier sheet lamination step (S110), a metal sheet 110 made of copper (Cu) used for the general antenna pattern 100 is prepared.

캐리어 시트 합지 단계(S110)에서는 PI(polyimide), PET(polyethylene terephthalate) 등의 고분자, 또는 유기화합물 및 그 유도체로 이루어진 비결정성 고체 또는 반고체인 수지(resin)를 캐리어 시트(120)로 준비한다.In the carrier sheet lamination step (S110), an amorphous solid or semi-solid resin made of polymers such as polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), or organic compounds and their derivatives is prepared as the carrier sheet 120.

캐리어 시트 합지 단계(S110)에서는 롤 투 롤(Roll to Roll) 공정을 통해 금속 시트(110)의 제1 면에 캐리어 시트(120)를 합지하는 것을 일례로 한다.In the carrier sheet lamination step (S110), for example, the carrier sheet 120 is laminated to the first side of the metal sheet 110 through a roll to roll process.

제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 에칭 공정, 펀칭 공정 등을 통해 금속 시트(110)에 제1 하프 홈(114)을 형성한다. 제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 금속 시트(110)의 제2 면에서 금속 시트(110)의 내부 방향으로 파여진 제1 하프 홈(114)을 형성한다.In the first half groove forming step (S120), the first half groove 114 is formed in the metal sheet 110 through an etching process, a punching process, etc. In the first half groove forming step (S120), a first half groove 114 is formed on the second surface of the metal sheet 110 toward the inside of the metal sheet 110.

제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 에칭 공정을 통해 금속 시트(110)의 제2 면에 제1 하프 홈(114)을 형성할 수 있다.In the first half groove forming step (S120), the first half groove 114 may be formed on the second surface of the metal sheet 110 through an etching process.

제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 금속 시트(110)의 제2 면을 노광(exposure)하여 금속 시트(110)의 제2 면에 노광층을 형성한다.In the first half groove forming step (S120), the second surface of the metal sheet 110 is exposed to form an exposure layer on the second surface of the metal sheet 110.

제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 캐리어 시트(120)가 합지된 금속 시트(110)에 노광 필름(photoresist film)을 합지하거나, 금속 시트(110)의 제2 면에 감광액(photoresist)을 도포하여 노광층을 형성한다.In the first half groove forming step (S120), a photoresist film is laminated to the metal sheet 110 on which the carrier sheet 120 is laminated, or a photoresist is applied to the second side of the metal sheet 110. This forms an exposed layer.

제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 노광층이 형성된 금속 시트(110)의 제2 면에 안테나 패턴(100) 마스크(mask)를 적층(또는 배치)한 상태에서 노광 장치를 통해 금속 시트(110)의 제2 면에 UV 광을 비춘다. 그에 따라, 금속 시트(110)의 제2 면에 형성된 노광층은 안테나 패턴(100) 마스크의 안테나 패턴(100)과 동일한 형상으로 경화된다.In the first half groove forming step (S120), the antenna pattern 100 mask is stacked (or placed) on the second side of the metal sheet 110 on which the exposure layer is formed, and the metal sheet 110 is formed through an exposure device. ) and shine UV light on the second side. Accordingly, the exposed layer formed on the second surface of the metal sheet 110 is hardened into the same shape as the antenna pattern 100 of the antenna pattern 100 mask.

제1 하프 홈 형성 단계(S130)에서는 1차 노광 단계를 거친 금속 시트(110)의 제2 면을 에칭하여 금속 시트(110)에 제1 하프 홈(114)을 형성한다.In the first half groove forming step ( S130 ), the first half groove 114 is formed in the metal sheet 110 by etching the second surface of the metal sheet 110 that has undergone the first exposure step.

제1 하프 홈 형성 단계(S130)에서는 노광층이 형성된 금속 시트(110)의 제2 면을 에칭한다. 제1 하프 홈 형성 단계(S130)에서는 웨트 에칭, 드라이 에칭 등의 에칭 공정을 통해 노광 필름이 합지된 금속 시트(110)의 제2 면을 에칭한다. 그에 따라, 금속 시트(110)에는 금속 시트(110)의 제2 면에서 금속 시트(110)의 내부 방향으로 파여진 제1 하프 홈(114)이 형성된다. 제1 하프 홈 형성 단계(S130)에서는 제1 하프 홈(114)이 형성된 후 경화된 노광층을 제거한다.In the first half groove forming step (S130), the second surface of the metal sheet 110 on which the exposure layer is formed is etched. In the first half groove forming step (S130), the second surface of the metal sheet 110 on which the exposure film is laminated is etched through an etching process such as wet etching or dry etching. Accordingly, a first half groove 114 is formed in the metal sheet 110 from the second surface of the metal sheet 110 toward the inside of the metal sheet 110. In the first half groove forming step (S130), the cured exposure layer is removed after the first half groove 114 is formed.

제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 펀칭 공정을 통해 금속 시트(110)의 제2 면에 제1 하프 홈(114)을 형성할 수도 있다.In the first half groove forming step (S120), the first half groove 114 may be formed on the second surface of the metal sheet 110 through a punching process.

제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 금속 시트(110)의 제2 면을 하프 펀칭(Punching)하여 금속 시트(110)의 제2 면에 제1 하프 홈(114)을 형성한다. 제1 하프 홈 형성 단계(S120)에서는 펀칭 압력을 조절하여 금속 시트(110)의 제2 면에 복수의 제1 하프 홈(114)을 형성한다.In the first half groove forming step (S120), the first half groove 114 is formed on the second side of the metal sheet 110 by half punching the second side of the metal sheet 110. In the first half groove forming step (S120), a plurality of first half grooves 114 are formed on the second surface of the metal sheet 110 by controlling the punching pressure.

커버레이 시트 합지 단계(S130)에서는 제1 하프 홈(114)이 형성된 금속 시트(110)의 제2 면에 커버레이 시트(130)를 합지한다. 커버레이 시트 합지 단계(S130)에서는 제1 하프 홈(114)이 형성된 금속 시트(110)의 제2 면에 커버레이 시트(130)를 합지한다. 이때, 커버레이 시트(130)는 PI, PET, 열경화성 수지 등의 재질로 형성된 시트인 것을 일례로 한다.In the coverlay sheet lamination step (S130), the coverlay sheet 130 is laminated to the second side of the metal sheet 110 on which the first half groove 114 is formed. In the coverlay sheet lamination step (S130), the coverlay sheet 130 is laminated to the second side of the metal sheet 110 on which the first half groove 114 is formed. At this time, the coverlay sheet 130 is an example of a sheet formed of a material such as PI, PET, or thermosetting resin.

캐리어 시트 제거 단계(S140)에서는 제1 면에 커버레이 시트(130)가 합지된 금속 시트(110)로부터 캐리어 시트(120)를 제거한다. 캐리어 시트 제거 단계(S140)에서는 금속 시트(110)의 제2 면에 합지된 캐리어 시트(120)를 제거한다.In the carrier sheet removal step (S140), the carrier sheet 120 is removed from the metal sheet 110 on which the coverlay sheet 130 is laminated to the first side. In the carrier sheet removal step (S140), the carrier sheet 120 laminated to the second side of the metal sheet 110 is removed.

제2 하프 홈 형성 단계(S150)에서는 에칭 공정, 펀칭 공정 등을 통해 금속 시트(110)에 제2 하프 홈(115)을 형성한다. 제2 하프 홈 형성 단계(S150)에서는 금속 시트(110)의 제1 면에서 금속 시트(110)의 내부 방향으로 파여진 제2 하프 홈(115)을 형성한다.In the second half groove forming step (S150), the second half groove 115 is formed in the metal sheet 110 through an etching process, a punching process, etc. In the second half groove forming step (S150), a second half groove 115 is formed on the first surface of the metal sheet 110 in the inner direction of the metal sheet 110.

제2 하프 홈 형성 단계(S150)에서는 제1 하프 홈 형성 단계(S130)에서 형성된 제1 하프 홈(114)과 적어도 일부가 중첩되도록 제2 하프 홈(115)을 형성한다. 그에 따라, 제1 하프 홈(114) 및 제2 하프 홈(115)은 금속 시트(110)를 관통하는 관통 홀(112)을 형성하고, 관통 홀(112)은 금속 시트(110)에 의해 형성되는 안테나 패턴(100)의 선 간격을 형성한다.In the second half groove forming step (S150), the second half groove 115 is formed so that at least part of the first half groove 114 formed in the first half groove forming step (S130) overlaps. Accordingly, the first half groove 114 and the second half groove 115 form a through hole 112 penetrating the metal sheet 110, and the through hole 112 is formed by the metal sheet 110. The line spacing of the antenna pattern 100 is formed.

도금층 형성 단계(S160)에서는 관통 홀(112)의 내벽면에 도금층(113)을 형성한다. 도금층 형성 단계(S160)에서는 도금 공정을 통해 관통 홀(112)의 내벽면(즉, 금속 시트(110)의 단부)에 도금층(113)을 형성한다. In the plating layer forming step (S160), the plating layer 113 is formed on the inner wall of the through hole 112. In the plating layer forming step (S160), the plating layer 113 is formed on the inner wall surface of the through hole 112 (i.e., the end of the metal sheet 110) through a plating process.

본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 도금층 형성 단계(S160)를 통해 관통 홀(112)의 내벽면에 도금층(113)을 형성함으로써, 관통 홀(112)의 폭을 최소화하여 안테나 패턴의 선 간격을 최소화할 수 있다.The antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention forms a plating layer 113 on the inner wall of the through hole 112 through the plating layer forming step (S160), thereby minimizing the width of the through hole 112 and forming the antenna pattern. Line spacing can be minimized.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 도금층 형성 단계(S160)를 통해 관통 홀(112)의 내벽면에 도금층(113)을 형성함으로써, 관통 홀(112)의 내벽면을 평탄화하여 안테나 패턴의 선 간격을 정밀하게 형성할 수 있다.In addition, the method of manufacturing an antenna pattern according to an embodiment of the present invention flattens the inner wall surface of the through hole 112 by forming a plating layer 113 on the inner wall surface of the through hole 112 through the plating layer forming step (S160). The line spacing of the antenna pattern can be formed precisely.

도금층 형성 단계(S160)에서는 제1 하프 홈(114) 및 제2 하프 홈(115) 중에서 적어도 하나의 하프 홈의 내벽면에 도금층을 형성할 수 있다. 도금층 형성 단계(S160)에서는 에칭 공정을 통해 형성된 하프 홈의 내벽면에 도금층을 형성하는 것을 일례로 한다.In the plating layer forming step (S160), a plating layer may be formed on the inner wall of at least one of the first half grooves 114 and the second half grooves 115. In the plating layer forming step (S160), for example, a plating layer is formed on the inner wall of a half groove formed through an etching process.

제1 하프 홈 형성 단계(S120) 및/또는 제2 하프 홈 형성 단계(S150)에서 에칭을 통해 제1 하프 홈(114) 및 제2 하프 홈(115)을 형성하는 경우, 관통 홀(112)에 인접한 금속 시트(110)의 단부에는 요홈이 형성될 수 있다. 이에, 도금층 형성 단계(S160)에서는 금속 시트(110)의 단부에 형성된 요홈 상에 도금층(113)을 형성한다. When forming the first half groove 114 and the second half groove 115 through etching in the first half groove forming step (S120) and/or the second half groove forming step (S150), the through hole 112 A groove may be formed at an end of the metal sheet 110 adjacent to . Accordingly, in the plating layer forming step (S160), the plating layer 113 is formed on the groove formed at the end of the metal sheet 110.

도금층 형성 단계(S160)에서는 금속 시트(110)의 요홈 만을 커버하도록 도금층(113)을 형성할 수도 있고, 도금 공정을 반복하여 다층 구조를 갖는 도금층(113)을 형성할 수도 있다.In the plating layer forming step (S160), the plating layer 113 may be formed to cover only the grooves of the metal sheet 110, or the plating process may be repeated to form the plating layer 113 having a multilayer structure.

도금층 형성 단계(S160)를 통해, 관통 홀(112)은 인접한 두 금속 시트(110)의 단부들 사이에 개재되어 이격 공간을 형성하고, 관통 홀(112)에 의해 형성된 이격 공간은 안테나 패턴(100)의 선 간격을 형성한다.Through the plating layer forming step (S160), the through hole 112 is interposed between the ends of the two adjacent metal sheets 110 to form a separation space, and the separation space formed by the through hole 112 is the antenna pattern 100. ) to form a line spacing.

도 8을 참조하면, 종래의 안테나 패턴 제조 방법은 한 번의 에칭을 통해 안테나 패턴의 선 간격을 형성하는 관통 홀(11)을 금속 시트(10)에 형성한다. 이 경우, 에칭 기술의 한계로 관통 홀(11)의 폭(W3)이 금속 시트(10)의 두께(T)에 비례하도록 커지며, 종래의 에칭 공정으로 통해 형성된 관통 홀(11)의 폭(W3, 즉, 안테나 패턴의 선 간격)은 금속 시트(10)의 두께(T)의 2배(200%) 정도로 형성된다.Referring to FIG. 8, the conventional antenna pattern manufacturing method forms through holes 11 that form the line spacing of the antenna pattern in the metal sheet 10 through one-time etching. In this case, due to the limitations of etching technology, the width W3 of the through hole 11 increases in proportion to the thickness T of the metal sheet 10, and the width W3 of the through hole 11 formed through the conventional etching process is That is, the line spacing of the antenna pattern) is formed to be about twice (200%) the thickness (T) of the metal sheet 10.

즉, 금속 시트(10, 안테나 패턴)의 두께(T)가 2oz(대략 70um) 정도이면, 종래의 안테나 패턴 제조 방법에 의해 형성되는 관통 홀(11)의 폭(W3, 즉, 안테나 패턴의 선 간격 또는 선폭)은 대략 140um 정도로 형성된다.That is, if the thickness (T) of the metal sheet (10, antenna pattern) is about 2oz (approximately 70um), the width (W3, that is, the line of the antenna pattern) of the through hole 11 formed by the conventional antenna pattern manufacturing method is The spacing or line width) is formed to be approximately 140um.

금속 시트(10, 안테나 패턴)의 두께(T)가 3oz(대략 105um) 정도이면, 종래의 안테나 패턴 제조 방법에 의해 형성되는 관통 홀(11)의 폭(W3, 즉, 안테나 패턴의 선 간격 또는 선폭)은 대략 210um 정도로 형성된다.If the thickness (T) of the metal sheet (10, antenna pattern) is about 3oz (approximately 105um), the width (W3, that is, the line spacing of the antenna pattern or The line width) is formed to be approximately 210um.

이에 반해, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 관통 홀(112)을 형성하기 위해 에칭 공정 및/또는 펀칭 공정을 2단계(즉, 제1 하프 홈 형성 단계(S130) 및 제2 하프 홈 형성 단계(S180))로 나누어 수행함으로써, 금속 시트(110)에 형성된 관통 홀(112)의 폭(즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격 또는 선폭)을 금속 시트(110) 두께 이하로 형성할 수 있다.On the other hand, the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention involves an etching process and/or a punching process in two steps (i.e., a first half groove forming step (S130) and a second half groove forming step (S130) to form the through hole 112. By performing the groove forming step (S180), the width of the through hole 112 formed in the metal sheet 110 (i.e., the line spacing or line width of the antenna pattern 100) is formed to be less than or equal to the thickness of the metal sheet 110. can do.

이때, 관통 홀(112)의 폭(즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격 또는 선폭)은 제작 공정상 오차를 포함하여 금속 시트(110)의 두께의 80% 내지 120% 정도로 형성될 수 있다.At this time, the width of the through hole 112 (i.e., the line spacing or line width of the antenna pattern 100) may be formed to be about 80% to 120% of the thickness of the metal sheet 110, including errors during the manufacturing process.

일례로, 도 9를 참조하면, 금속 시트(110; 즉, 안테나 패턴(100))의 두께(T)가 2oz(대략 70um) 정도이면, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법에 의해 형성되는 관통 홀(112)의 폭(W4, 즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격 또는 선폭)은 대략 70um 정도로 형성된다.For example, referring to FIG. 9, if the thickness T of the metal sheet 110 (i.e., the antenna pattern 100) is about 2oz (approximately 70um), it is formed by the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention. The width (W4, that is, the line spacing or line width of the antenna pattern 100) of the through hole 112 is formed to be approximately 70 um.

금속 시트(110; 즉, 안테나 패턴(100))의 두께(T)가 3oz(대략 105um) 정도이면, 종래의 안테나 패턴 제조 방법에 의해 형성되는 관통 홀(112)의 폭(W4, 즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격 또는 선폭)은 대략 100um 정도로 형성된다.If the thickness (T) of the metal sheet 110 (i.e., the antenna pattern 100) is about 3 oz (approximately 105 um), the width (W4, i.e., the antenna) of the through hole 112 formed by the conventional antenna pattern manufacturing method is The line spacing or line width of the pattern 100 is formed to be approximately 100 um.

이처럼, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 에칭 공정 및/또는 펀칭 공정을 2단계(즉, 제1 하프 홈 형성 단계(S130) 및 제2 하프 홈 형성 단계(S150))로 나누어 수행하여 관통 홀(112)을 형성함으로써, 종래의 안테나 패턴 제조 방법에 비해 금속 시트(110)에 형성된 관통 홀(112)의 폭(즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격 또는 선폭)을 50% 정도로 감소시킬 수 있다.As such, the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention is performed by dividing the etching process and/or punching process into two steps (i.e., the first half groove forming step (S130) and the second half groove forming step (S150)) By forming the through hole 112, the width of the through hole 112 formed in the metal sheet 110 (i.e., the line spacing or line width of the antenna pattern 100) is reduced by about 50% compared to the conventional antenna pattern manufacturing method. can be reduced.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 종래에 비해 관통 홀(112)의 폭(즉, 안테나 패턴(100)의 선 간격 또는 선폭)을 50% 정도로 감소시킴으로써, 두께가 3oz(105um) 이상인 금속 시트(110)에서도 100um 이하의 선 간격(Pitch)을 갖는 안테나 패턴(100)을 제작할 수 있는 효과가 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention reduces the width of the through hole 112 (i.e., the line spacing or line width of the antenna pattern 100) by about 50% compared to the prior art, thereby reducing the thickness to 3oz (105um). ) or more, there is an effect of producing an antenna pattern 100 with a line spacing (pitch) of 100 um or less.

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 금속 두께의 80% 내지 120% 정도의 선 간격을 갖는 안테나 패턴(100)의 제작이 가능하여 설계 자유도가 증가하고, 성능 최적화 설계가 가능한 효과가 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method enables the manufacturing of the antenna pattern 100 with a line spacing of approximately 80% to 120% of the metal thickness, thereby increasing design freedom and enabling performance-optimized design.

또한, 안테나 패턴 제조 방법은 관통 홀(112)을 형성한 후 관통 홀(112)의 내벽면에 도금층(113)을 형성함으로써, 안테나 패턴(100)의 선 간격(또는 선폭)은 더욱 미세하고 정밀하게 형성할 수 있다.In addition, the antenna pattern manufacturing method forms the through hole 112 and then forms the plating layer 113 on the inner wall of the through hole 112, so that the line spacing (or line width) of the antenna pattern 100 is finer and more precise. can be formed.

여기서, 도 6 및 도 7에 도시하지는 않았으나, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 2차 도금층 형성 단계(S160) 이후에 단계적으로 수행되는 표면 처리 단계 및 스탬핑 단계를 더 포함할 수 있다.Here, although not shown in FIGS. 6 and 7, the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention may further include a surface treatment step and a stamping step that are performed step by step after the secondary plating layer forming step (S160). .

표면 처리 단계에서는 금속 시트(110)의 제1 면을 표면 처리한다. 표면 처리 단계에서는 OSP(Organic Solderability Preservative) 공정을 통해 유기물을 도포하여 금속 시트(110)의 제1 면에 방청막(118)을 형성한다. 이를 통해, 금속 시트(110)의 제1 면을 평탄화하면서 금속 시트(110)와 공기가 접촉하는 것을 차단하여 금속 시트(110; 즉, 안테나 패턴(100))의 산화를 방지한다. 표면 처리 단계에서는 OSP 공정과 함께 금속 시트(110)의 산화 방지를 위해 금속 시트(110)의 제1 면에 주석(Sn), 니켈(Ni)을 도금하여 도금층(113)을 형성할 수도 있다.In the surface treatment step, the first side of the metal sheet 110 is surface treated. In the surface treatment step, an organic material is applied through an Organic Solderability Preservative (OSP) process to form a rust prevention film 118 on the first side of the metal sheet 110. Through this, the first surface of the metal sheet 110 is flattened and air is blocked from contact with the metal sheet 110 to prevent oxidation of the metal sheet 110 (that is, the antenna pattern 100). In the surface treatment step, the plating layer 113 may be formed by plating tin (Sn) or nickel (Ni) on the first surface of the metal sheet 110 to prevent oxidation of the metal sheet 110 along with the OSP process.

스탬핑 단계에서는 스탬핑 공정을 통해 금속 시트(110)에 안테나 패턴(100)의 아웃 라인을 형성한다. 스탬핑 단계에서는 스탬핑 장치를 통해 금속 시트(110)를 스탬핑하여 안테나 패턴(100)의 아웃 라인을 형성한다.In the stamping step, an outline of the antenna pattern 100 is formed on the metal sheet 110 through a stamping process. In the stamping step, the metal sheet 110 is stamped using a stamping device to form an outline of the antenna pattern 100.

상술한 과정을 통해, 본 발명의 실시 예에 따른 안테나 패턴 제조 방법은 금속 시트(110) 두께의 80% 이상 120% 이하의 선 간격을 갖는 안테나 패턴(100)을 제조할 수 있다. 상술한 공정을 통해 제조된 안테나 패턴(100)은 무선 전력 송신/수신(WPC; Wireless Power Consortium), 근거리 통신(NFC; Near Field Communication), 전자결제(MST; Magnetic Secure Transmission) 등을 위한 안테나로 동작할 수 있다.Through the above-described process, the antenna pattern manufacturing method according to an embodiment of the present invention can manufacture the antenna pattern 100 having a line spacing of 80% or more and 120% or less of the thickness of the metal sheet 110. The antenna pattern 100 manufactured through the above-described process is used as an antenna for wireless power transmission/reception (WPC; Wireless Power Consortium), near field communication (NFC; Near Field Communication), electronic payment (MST; Magnetic Secure Transmission), etc. It can work.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely an illustrative explanation of the technical idea of the present invention, and various modifications and variations will be possible to those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but are for illustrative purposes, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted in accordance with the claims below, and all technical ideas within the equivalent scope should be construed as being included in the scope of rights of the present invention.

100: 안테나 패턴 110: 금속 시트
111: 금속 패턴 112: 관통 홀
113: 도금층 114: 제1 하프 홈
115: 제2 하프 홈 120: 캐리어 시트
130: 커버레이 시트
100: antenna pattern 110: metal sheet
111: metal pattern 112: through hole
113: plating layer 114: first half groove
115: second half groove 120: carrier sheet
130: Coverlay sheet

Claims (13)

루프 형상의 안테나 패턴에 있어서,
상기 안테나 패턴의 수직 단면은,
제1 금속 패턴;
상기 제1 금속 패턴과 이격된 제2 금속 패턴;
상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴 사이에 개재되어 상기 제1 금속 패턴과 상기 제2 금속 패턴 사이에 이격 공간을 형성하도록 구성된 관통 홀; 및
상기 관통 홀의 내벽면에 형성된 도금층을 포함하는 안테나 패턴.
In the loop-shaped antenna pattern,
The vertical cross section of the antenna pattern is,
first metal pattern;
a second metal pattern spaced apart from the first metal pattern;
a through hole disposed between the first metal pattern and the second metal pattern to form a space between the first metal pattern and the second metal pattern; and
An antenna pattern including a plating layer formed on an inner wall of the through hole.
제1항에 있어서,
상기 관통 홀은,
상기 안테나 패턴의 상면 방향으로 배치된 제1 하프 홀; 및
상기 안테나 패턴의 하면 방향으로 배치된 제2 하프 홀을 포함하고,
상기 제1 하프 홀 및 상기 제2 하프 홀은 적어도 일부가 중첩되어 상기 안테나 패턴을 수직으로 관통하는 상기 관통 홀을 형성하도록 구성된 안테나 패턴.
According to paragraph 1,
The through hole is,
a first half hole disposed toward the top of the antenna pattern; and
It includes a second half hole disposed toward the bottom of the antenna pattern,
At least a portion of the first half hole and the second half hole overlap to form the through hole that vertically penetrates the antenna pattern.
제1항에 있어서,
상기 도금층은
상기 제2 금속 패턴과 마주하는 상기 제1 금속 패턴의 제1 단부와 상기 제1 금속 패턴과 마주하는 상기 제2 금속 패턴의 제1 단부 중에서 적어도 하나의 단부에 형성된 안테나 패턴.
According to paragraph 1,
The plating layer is
An antenna pattern formed on at least one end of the first end of the first metal pattern facing the second metal pattern and the first end of the second metal pattern facing the first metal pattern.
제1항에 있어서,
상기 제2 금속 패턴과 마주하는 상기 제1 금속 패턴의 제1 단부에는 요홈이 형성되고, 상기 도금층은 상기 요홈에 도금되어 상기 제1 금속 패턴의 제1 단부를 평탄화하도록 구성된 안테나 패턴.
According to paragraph 1,
An antenna pattern in which a groove is formed in a first end of the first metal pattern facing the second metal pattern, and the plating layer is plated in the groove to flatten the first end of the first metal pattern.
제1항에 있어서,
상기 제1 금속 패턴과 마주하는 상기 제2 금속 패턴의 제1 단부에는 요홈이 형성되고, 상기 도금층은 상기 요홈에 도금되어 상기 제2 금속 패턴의 제1 단부를 평탄화하도록 구성된 안테나 패턴.
According to paragraph 1,
An antenna pattern in which a groove is formed in a first end of the second metal pattern facing the first metal pattern, and the plating layer is plated in the groove to flatten the first end of the second metal pattern.
금속 시트의 제1 면에 캐리어 시트를 합지하는 단계;
상기 금속 시트의 제2 면에 제1 하프 홈을 형성하는 단계;
상기 금속 시트의 제2 면에 커버레이 시트를 합지하는 단계;
상기 금속 시트의 제1 면에 합지된 상기 캐리어 시트를 제거하는 단계;
상기 금속 시트의 제1 면에 제2 하프 홈을 형성하는 단계; 및
상기 제1 하프 홈 및 상기 제2 하프 홈 중에서 적어도 하나의 내벽면에 도금층을 형성하는 단계를 포함하는 안테나 패턴 제조 방법.
laminating a carrier sheet to the first side of the metal sheet;
forming a first half groove on the second side of the metal sheet;
Laminating a coverlay sheet on the second side of the metal sheet;
removing the carrier sheet laminated to the first side of the metal sheet;
forming a second half groove on the first side of the metal sheet; and
An antenna pattern manufacturing method comprising forming a plating layer on an inner wall surface of at least one of the first half groove and the second half groove.
제6항에 있어서,
상기 제1 하프 홈을 형성하는 단계에서는,
하프 에칭 및 펀칭 공정을 통해 상기 금속 시트의 제2 면에서 상기 금속 시트의 내부 방향으로 파여진 제1 하프 홈을 형성하는 안테나 패턴 제조 방법.
According to clause 6,
In the step of forming the first half groove,
A method of manufacturing an antenna pattern in which a first half groove is formed on the second side of the metal sheet toward the inside of the metal sheet through a half etching and punching process.
제6항에 있어서,
상기 제2 하프 홈을 형성하는 단계에서는,
하프 에칭 및 펀칭 공정을 통해 상기 금속 시트의 제1 면에서 상기 금속 시트의 내부 방향으로 파여진 제2 하프 홈을 형성하는 안테나 패턴 제조 방법.
According to clause 6,
In the step of forming the second half groove,
A method of manufacturing an antenna pattern in which a second half groove is formed on the first side of the metal sheet toward the inside of the metal sheet through a half etching and punching process.
제6항에 있어서,
상기 제2 하프 홈을 형성하는 단계에서는 상기 제1 하프 홈과 적어도 일부가 중첩되도록 상기 제2 하프 홈을 형성하고,
상기 제1 하프 홈 및 상기 제2 하프 홈은 상기 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 관통하는 관통 홀을 형성하는 안테나 패턴 제조 방법.
According to clause 6,
In forming the second half groove, the second half groove is formed so that at least a portion overlaps the first half groove,
The first half groove and the second half groove form a through hole penetrating the first and second surfaces of the metal sheet.
제6항에 있어서,
상기 제1 하프 홈을 형성하는 단계에서 형성된 상기 제1 하프 홈은 상기 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 수직으로 관통하는 제1 중심 축을 갖고,
상기 제2 하프 홈을 형성하는 단계에서 형성된 상기 제2 하프 홈은 상기 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 수직으로 관통하는 제2 중심 축을 갖고,
상기 제1 중심 축과 상기 제2 중심 축은 이격된 안테나 패턴 제조 방법.
According to clause 6,
The first half groove formed in the step of forming the first half groove has a first central axis vertically penetrating the first and second surfaces of the metal sheet,
The second half groove formed in the step of forming the second half groove has a second central axis vertically penetrating the first and second surfaces of the metal sheet,
The first central axis and the second central axis are spaced apart from each other.
제6항에 있어서,
상기 제1 하프 홈을 형성하는 단계에서 형성된 상기 제1 하프 홈은 상기 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 수직으로 관통하는 제1 중심 축을 갖고,
상기 제2 하프 홈을 형성하는 단계에서 형성된 상기 제2 하프 홈은 상기 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 수직으로 관통하는 제2 중심 축을 갖고,
상기 제1 중심 축과 상기 제2 중심 축은 동일 선상에 배치된 안테나 패턴 제조 방법.
According to clause 6,
The first half groove formed in the step of forming the first half groove has a first central axis vertically penetrating the first and second surfaces of the metal sheet,
The second half groove formed in the step of forming the second half groove has a second central axis vertically penetrating the first and second surfaces of the metal sheet,
The first central axis and the second central axis are disposed on the same line.
제6항에 있어서,
상기 제1 하프 홈 및 상기 제2 하프 홈은 상기 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 관통하는 관통 홀을 형성하고,
상기 도금층을 형성하는 단계에서는,
상기 제1 하프 홈 및 상기 제2 하프 홈 중에서 적어도 하나의 내벽면에 도금층을 형성하여 상기 관통 홀의 내벽면을 평탄화하는 안테나 패턴 제조 방법.
According to clause 6,
The first half groove and the second half groove form a through hole penetrating the first and second sides of the metal sheet,
In the step of forming the plating layer,
A method of manufacturing an antenna pattern that flattens the inner wall of the through hole by forming a plating layer on the inner wall of at least one of the first half groove and the second half groove.
제6항에 있어서,
상기 제1 하프 홈 및 상기 제2 하프 홈은 상기 금속 시트의 제1 면 및 제2 면을 관통하는 관통 홀을 형성하고,
상기 도금층을 형성하는 단계에서는 상기 관통 홀의 내벽면에 도금층을 형성하는 안테나 패턴 제조 방법.
According to clause 6,
The first half groove and the second half groove form a through hole penetrating the first and second sides of the metal sheet,
In the step of forming the plating layer, the antenna pattern manufacturing method includes forming a plating layer on the inner wall of the through hole.
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