KR20230148326A - 광학 적층체, 광학 장치 및 광학 적층체의 제조 방법 - Google Patents

광학 적층체, 광학 장치 및 광학 적층체의 제조 방법 Download PDF

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KR20230148326A
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KR
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슌야 와카야마
šœ야 와카야마
시게요시 키리베
나오유키 마츠오
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

광학 적층체(100A)는 요철 구조를 갖는 제 1 주면(12s) 및 제 1 주면과 반대측의 제 2 주면(18s)을 갖는 제 1 광학 시트(10a)와, 제 1 광학 시트의 제 1 주면측에 배치된 접착제층(20a)을 갖는다. 요철 구조는, 복수의 오목부(14)와, 복수의 오목부 중의 인접하는 오목부 사이의 평탄부(10s)를 포함한다. 접착제층은 평탄부와 접한다. 접착제층의 표면과 제 1 광학 시트의 제 1 주면이 복수의 오목부의 각각 내에 내부 공간(14a)을 획정한다. 제 1 광학 시트의 제 1 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 제 1 광학 시트의 면적에서 차지하는, 평탄부와 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률이 3% 이하이다. 복수의 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이가 2㎛ 이하이다.

Description

광학 적층체, 광학 장치 및 광학 적층체의 제조 방법
본 발명은 광학 적층체, 그러한 광학 적층체를 갖는 광학 장치, 및 그러한 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.
광학 시트(예를 들면, 마이크로 렌즈 시트, 프리즘 시트, 휘도 상승 필름(예를 들면, 3M사제의 Brightness Enhancement Film: BEF, (등록상표)))는 다양한 광학 장치(예를 들면, 표시 장치 및 조명 장치)에 사용되고 있다. 본 명세서에 있어서 「광학 시트」는, 상기 예시한 것에 한정되지 않고, 시트 형상의 광학 부재를 폭넓게 포함하고, 예를 들면 확산판 및 도광판을 추가로 포함한다. 광학 시트는, 예를 들면 접착제층을 사용하여, 다른 광학 시트 또는 광학 장치에 부착된다. 본 명세서에 있어서, 광학 시트와 접착제층을 포함하는 구성 또는 복수의 광학 시트를 포함하는 구성을 가리켜 「광학 적층체」라고 한다. 본 명세서에 있어서 「접착제」는 점착제(「감압 접착제」라고도 일컬어진다)를 포함하는 의미로 사용한다.
본 출원인은, 표시 장치나 조명 장치에 사용될 수 있는 광학 적층체(특허문헌 1에서는 「광학 적층 시트」라고 부르고 있다)를 특허문헌 1에 개시하고 있다. 특허문헌 1의 광학 적층체는, 요철 구조를 표면에 갖는 광학 시트(예를 들면 마이크로렌즈 시트)와, 요철 구조를 갖는 표면에 형성된 접착제층을 갖는다. 요철 구조의 볼록부의 높이의 5%~90%가 접착제층으로 메워져 있다. 접착제층은, (메타)아크릴계 폴리머에, 환상 에테르기 함유 모노머를 포함하는 쇄가 그래프트 중합되어 이루어지는 그래프트 폴리머 및 광 양이온계 중합 개시제 또는 열경화 촉매를 포함하는 접착제 조성물로 형성되어 있다.
또한, 특허문헌 2 및 3에는, 표시 장치나 조명 장치에 사용될 수 있는, 복수의 에어 캐비티의 계면에 의한 전반사를 이용하는 배광 구조가 개시되어 있다. 특허문헌 2 및 3에 개시되어 있는 배광 구조를 이용하면, 배광 제어의 자유도 및 정밀도를 향상시킬 수 있다. 특허문헌 2 및 3의 개시 내용 전부를 참조에 의해 본 명세서에 원용한다.
일본 특허공개 2012-007046호 공보 국제공개 제2011/124765호 국제공개 제2019/087118호
광학 시트의 요철 구조를 갖는 표면에 접착제층을 부착할 때, 접착제층이 요철 구조의 오목부에 침입하는(오목부를 메우는) 정도는 광학 시트의 기능에 영향을 준다. 따라서, 접착제층이 요철 구조의 오목부에 침입하는 정도(요철 구조의 오목부에 의해 획정되는 공간의 체적에 대한 상기 공간 내에 존재하는 접착제층의 체적의 비율)는 억제될 것이 요구된다.
또한, 본 발명자는, 요철 구조를 갖는 광학 시트의 표면과, 요철 구조를 갖는 광학 시트의 표면에 부착된 접착제층의 표면에 의해, 특허문헌 2 및 3에 기재된 배광 구조(배광 제어 구조)를 구성하는 복수의 에어 캐비티(내부 공간)를 형성하는 것을 검토했다. 특허문헌 2 및 3에는, 광학 시트의 요철 구조를 갖는 표면과 접착제층의 표면에 의해, 배광 구조를 구성하는 복수의 에어 캐비티(내부 공간)가 형성되는 것은 기재되어 있지 않다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 광학 시트의 요철 구조의 오목부에 침입하는 정도가 억제된 접착제층을 갖는 광학 적층체, 그러한 광학 적층체를 갖는 광학 장치, 및 그러한 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 실시형태에 의하면, 이하의 항목에 기재된 해결 수단이 제공된다.
[항목 1]
요철 구조를 갖는 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의 제 2 주면을 갖는 제 1 광학 시트와,
상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면측에 배치된 접착제층을 갖고,
상기 요철 구조는 복수의 오목부와, 상기 복수의 오목부 중 인접하는 오목부 사이의 평탄부를 포함하고,
상기 접착제층은 상기 평탄부와 접하고,
상기 접착제층의 표면과 상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면이 상기 복수의 오목부의 각각 내에 내부 공간을 획정하고,
상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 상기 제 1 광학 시트의 면적에서 차지하는, 상기 평탄부와 상기 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률이 3% 이하이며,
상기 복수의 오목부 내에 존재하는 상기 접착제층의 높이가 2㎛ 이하인, 광학 적층체.
[항목 2]
상기 접착제층은 이하의 접착제층 A, 접착제층 B 및 접착제층 C 중 어느 하나인, 항목 1에 기재된 광학 적층체:
회전식 레오미터를 사용한 크리프 시험에 있어서, 50℃에서 10000Pa의 응력을 1초간 인가했을 때의 크리프 변형률이 10% 이하이며, 또한 50℃에서 10000Pa의 응력을 30분간 인가했을 때의 크리프 변형률이 16% 이하이며,
PMMA 필름에 대한 180°필 접착력이 10mN/20mm 이상인, 접착제층 A;
중합체와 경화성 수지를 포함하는 접착제 조성물의 상기 경화성 수지를 경화시킴으로써 형성되어 있고,
상기 접착제 조성물의 상기 경화성 수지를 경화시키기 전의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은 0.35MPa 이상 8.00MPa 이하이며,
상기 접착제 조성물의 상기 경화성 수지를 경화시킨 후의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은 1.00MPa 이상인, 접착제층 B;
다가 카르복실산과 다가 알코올의 공중합체인 폴리에스테르 수지와, 가교제와, 유기 지르코늄 화합물, 유기 철 화합물 및 유기 알루미늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 가교 촉매를 포함하는 접착제 조성물을 가교시킴으로써 형성되어 있고,
온도 85℃ 또한 상대습도 85%에서 300시간 유지한 후의 겔분율이 40% 이상이며,
PMMA 필름에 대한 180°필 접착력이 100mN/20mm 이상인, 접착제층 C.
[항목 3]
상기 평탄부 상의 상기 접착제층의 두께가 2.0㎛ 이상 15.0㎛ 이하인, 항목 1 또는 2에 기재된 광학 적층체.
[항목 4]
상기 제 1 광학 시트를 상기 제 1 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 상기 제 1 광학 시트의 면적에서 차지하는 상기 복수의 오목부의 면적의 비율이 0.3% 이상 80% 이하인, 항목 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체.
[항목 5]
상기 복수의 오목부의 단면이 삼각형, 사각형 또는 적어도 일부가 곡선을 갖는 형상인, 항목 1 내지 4 중 어느 1 항에 기재된 광학 적층체.
[항목 6]
헤이즈값이 5.0% 이하인, 항목 1 내지 5 중 어느 1 항에 기재된 광학 적층체.
[항목 7]
상기 복수의 오목부의 각각은, 상기 접착제층 내를 전파하는 광의 일부를 내부 전반사에 의해 상기 제 1 광학 시트의 상기 제 2 주면측을 향하게 하는 제 1 경사면과, 상기 제 1 경사면과는 반대측의 제 2 경사면을 갖는, 항목 1 내지 6 중 어느 1 항에 기재된 광학 적층체.
[항목 8]
상기 제 1 경사면의 경사각도 θa는 상기 제 2 경사면의 경사각도 θb보다 작은, 항목 7에 기재된 광학 적층체.
[항목 9]
항목 1 내지 8 중 어느 1 항에 기재된 광학 적층체를 구비하는, 광학 장치.
[항목 10]
항목 1 내지 8 중 어느 1 항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법으로서,
(메타)아크릴계 중합체 및/또는 폴리에스테르계 중합체와, 가교제와, 용매를 갖는 접착제 조성물 용액을, 박리 처리된 주면을 갖는 기재의 상기 박리 처리된 주면 상에 부여하여, 접착제 조성물 용액층을 형성하는 공정 a와,
상기 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하여, 접착제 조성물층을 형성하는 공정 b와,
상기 접착제 조성물층의 상기 기재와 반대측의 주면 상에, 박리 처리된 주면을 갖는 다른 기재를, 상기 박리 처리된 주면이 접착제 조성물층과 접하도록 형성하는 공정 c와,
상기 접착제 조성물층의 상기 (메타)아크릴계 중합체 및/또는 폴리에스테르계 중합체를 상기 가교제로 가교시킴으로써, 상기 접착제층을 형성하는 공정 d와,
상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면과, 상기 접착제층의 상기 기재 또는 상기 다른 기재의 일방측의 주면을 접합하는 공정 e를 포함하고,
상기 기재 또는 상기 다른 기재의 상기 일방의 상기 박리 처리된 주면의 산술평균 거칠기 Ra는 0.05㎛ 미만인, 제조 방법.
[항목 11]
상기 기재 또는 상기 다른 기재의 상기 일방의 상기 박리 처리된 주면의 최대 높이 Rz는 0.5㎛ 미만인, 항목 10에 기재된 제조 방법.
[항목 12]
상기 공정 e는 롤 투 롤법으로 행하여지는, 항목 10 또는 11에 기재된 제조 방법.
본 발명의 실시형태에 의하면, 광학 시트의 요철 구조의 오목부에 침입하는 정도가 억제된 접착제층을 갖는 광학 적층체, 그러한 광학 적층체를 갖는 광학 장치, 및 그러한 광학 적층체의 제조 방법이 제공된다.
도 1a는 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체(100A)의 모식적인 단면도이다.
도 1b는 본 발명의 다른 실시형태에 의한 광학 적층체(101A)의 모식적인 단면도이다.
도 2는 광학 적층체(100A)의 모식적인 단면도이다.
도 3은 광학 적층체(100A)가 갖는 제 1 광학 시트(10a)의 모식적인 사시도이다.
도 4a는 광학 적층체(100A)를 구비하는 조명 장치(200A)의 모식적인 단면도이다.
도 4b는 광학 적층체(100A)를 구비하는 조명 장치(200B)의 모식적인 단면도이다.
도 5는 광학 적층체(100A)를 롤 투 롤 방식으로 제조하는 공정을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 광학 적층체(100A)를 롤 투 롤 방식으로 제조하는 공정을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 7a는 비교예의 광학 적층체를 롤 투 롤 방식으로 제조할 때의 문제를 설명하기 위한 모식적인 도면이다.
도 7b는 비교예의 광학 적층체를 롤 투 롤 방식으로 제조할 때의 문제를 설명하기 위한 모식적인 도면이다.
도 8은 광학 적층체(100A)를 롤 투 롤 방식으로 제조하는 공정을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 9a는 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체가 갖는 요철 부형 필름(70)의 모식적인 평면도이다.
도 9b는 요철 부형 필름(70)의 모식적인 단면도이다.
도 10은 실시예 및 비교예의 광학 적층체에 있어서의, 기포의 면적률(%)과 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이(㎛)의 평가 결과를 나타내는 그래프이다.
도 11a는 광학 적층체를 사용해서 접착제층의 오목부에의 침입 정도의 변화를 평가하는 방법을 설명하기 위한 모식적인 도면이다.
도 11b는 광학 적층체를 사용해서 접착제층의 오목부에의 침입 정도의 변화를 평가하는 방법을 설명하기 위한 모식적인 단면도이다.
도 12는 실시예 A의 광학 적층체(100S)를 갖는 샘플(1000A)의 광학상이며, 상단은 힘을 가하기 전의 샘플(1000A)의 광학상, 중단은 힘을 가하고 있을 때의 샘플(1000A)의 광학상, 하단은 힘이 제거된 후의 샘플(1000A)의 광학상을 나타내는 도면이다.
도 13은 실시예 B의 광학 적층체를 갖는 샘플의 광학상이며, 상단은 힘을 가하기 전의 샘플의 광학상, 중단은 힘을 가하고 있을 때의 샘플의 광학상, 하단은 힘이 제거된 후의 샘플의 광학상을 나타내는 도면이다.
도 14a는 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체가 갖는 요철 부형 필름(52)의 모식적인 평면도이다.
도 14b는 요철 부형 필름(52)의 모식적인 단면도이다.
도 15a는 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체가 갖는 요철 부형 필름(82)의 모식적인 평면도이다.
도 15b는 요철 부형 필름(82)이 갖는 오목부(84)의 모식적인 단면도이다.
도 15c는 요철 부형 필름(82)이 갖는 오목부(84)의 모식적인 평면도이다.
본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체 및 광학 적층체를 갖는 광학 장치를 설명한다. 본 발명의 실시형태는, 이하에서 예시하는 것에 한정되지 않는다.
본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체는, 요철 구조를 갖는 제 1 주면 및 제 1 주면과 반대측의 제 2 주면을 갖는 광학 시트와, 광학 시트의 제 1 주면측에 배치된 접착제층을 갖는다. 먼저, 도 1a, 도 1b, 도2, 도3, 도 4a 및 도 4b를 참조해서, 광학 시트의 요철 구조를 갖는 표면(제 1 주면)에 부착된 접착제층이, 요철 구조의 오목부에 침입하고 있지 않은 예를 설명한다.
도 1a에, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체(100A)의 모식적인 단면도를 나타낸다. 도 1b에, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체(101A)의 모식적인 단면도를 나타낸다. 도 2는, 광학 적층체(100A)의 일부를 확대해서 나타내는 모식적인 단면도이다. 도 3은, 광학 적층체(100A)가 갖는 광학 시트(10a)의 모식적인 사시도이다. 도 4a는, 광학 적층체(100A)를 구비하는 조명 장치(200A)의 모식적인 단면도이다.
도 1a에 나타내는 바와 같이, 광학 적층체(100A)는, 요철 구조를 갖는 제 1 주면(12s) 및 제 1 주면(12s)과 반대측의 제 2 주면(18s)을 갖는 제 1 광학 시트(10a)와, 제 1 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s)측에 배치된 접착제층(20a)을 갖는다. 제 1 주면(12s)의 요철 구조는, 복수의 오목부(14)와, 복수의 오목부(14) 중 인접하는 오목부(14) 사이의 평탄부(10s)를 포함한다. 접착제층(20a)은 평탄부(10s)와 접한다. 접착제층(20a)의 표면과 제 1 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s)이 복수의 오목부(14)의 각각 내에 내부 공간(14a)을 획정한다.
도 1b에 나타내는 바와 같이, 광학 적층체(101A)는 광학 적층체(100A)와, 접착제층(20a)의 제 1 광학 시트(10a)측과 반대측에 배치된 제 2 광학 시트(30)를 갖는다. 광학 적층체(100A)에 대한 설명은, 특별히 언급하지 않는 한 광학 적층체(101A)에 대해서도 적합하므로, 중복을 피하기 위해서 설명을 생략하는 경우가 있다.
광학 적층체(101A)가 갖는 제 2 광학 시트(30)는 접착제층(20a)측의 주면(38s)과, 주면(38s)과 반대측의 주면(32s)을 갖는다. 주면(38s)은 평탄한 면이다. 광학 적층체(101A)의 제 2 광학 시트(30)의 접착제층(20a)과 반대측에(즉 주면(32s) 상에), 적어도 1개의 다른 광학 부재(또는 광학 시트)가 배치되어 있어도 좋다. 다른 광학 부재(광학 시트)는, 예를 들면 확산판, 도광판 등을 포함하고, 접착제층을 개재해서 광학 시트(30)의 주면(32s) 상에 접착된다.
도 1a 및 도 2의 예에서는, 접착제층(20a)은 오목부(14) 내에 침입하고 있지 않다. 즉, 오목부(14)에 의해 획정되는 공간 내에 접착제층(20a)이 존재하지 않는다. 오목부(14)에 의해 획정되는 공간이란, 상기 오목부(14)와, 상기 오목부(14)에 인접하는 평탄부(10s)를 포함하는 시트면(XY면에 평행한 면)에 의해 획정되는 공간을 말한다. 따라서, 접착제층(20a)의 제 1 광학 시트(10a)측의 표면(28s)과, 제 1 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s)에 의해 획정되는 내부 공간(14a)은, 이 예에서는 오목부(14)에 의해 획정되는 공간과 일치한다. 내부 공간(14a)을 에어 캐비티 또는 광학 캐비티라고 부르는 경우가 있다. 내부 공간(14a)은 전형적으로는 내부에 공기가 충전된 공극부이다. 단, 내부 공간(14a)에는, 공기 대신에, 제 1 광학 시트(10a) 및 접착제층(20a)보다 굴절률이 낮은 재료가 충전되어 있어도 좋다. 복수의 내부 공간은, 광학 시트를 주면의 법선 방향으로부터 본 평면(XY면)으로 볼 때에 있어서, 도 3의 예와 같이, X 방향으로 연속하는 내부 공간(X 방향으로 연장되는 예를 들면 삼각기둥상의 홈)이 Y 방향으로 이산적으로 형성되어 있어도 좋고, 도 9a의 예와 같이, X 방향으로도 Y 방향으로도 이산적으로도 섬 형상으로 형성되어 있어도 좋다. 또한, 후술하는 도 4a 및 도 4b에 나타내는 바와 같이, 광학 적층체(100A)를 갖는 조명 장치에 있어서, 도광층(80)의 도광 방향은 -Y 방향이다. 또한, 도광층(80) 내에 있어서 광은 다양한 방향으로 전파되지만, -Y 방향을 도광 방향이라고 하고, -Y 방향의 성분(제로가 아니다)을 갖는 광은 -Y 방향으로 전파되고 있는 것으로 한다.
광학 적층체(100A)는, 특허문헌 2 및 3에 기재되어 있는 배광 구조로서 기능한다. 광학 적층체(100A)는, 내부 전반사에 의해 광을 Z 방향(도면 중 하측)을 향하게 하는 계면을 형성하는 복수의 내부 공간(14a)을 갖는다. 내부 공간(14a)은, 제 1 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s)의 일부인 표면(16s) 및 표면(17s)과, 접착제층(20a)의 제 1 광학 시트(10a)측의 표면(28s)에 의해 획정되어 있다. 여기서는, 내부 공간(14a)의 단면 형상(X 방향에 수직이고 YZ면에 평행한 단면의 형상)은 삼각형이다. 경사면(16s)에 의해 형성되는 계면이 내부 전반사에 의해 광을 Z 방향(도면 중 하측)을 향하게 하는 계면으로서 기능한다. 복수의 오목부(14)의 각각, 즉 복수의 내부 공간(14a)의 각각은, 광학 적층체(100A) 내를 전파하는 광의 일부를 내부 전반사에 의해 제 1 광학 시트(10a)의 제 2 주면(18s)측(도면의 Z 방향)을 향하게 하는 경사면(제 1 경사면)(16s)과, 경사면(16s)과는 반대측의 경사면(제 2 경사면)(17s)을 갖는다. 경사면(16s)의 경사각도 θa는, 예를 들면 10°이상 70°이하이다. 하한은 바람직하게는 30°이상, 보다 바람직하게는 45°이상이다. 경사각도 θa가 10°보다 작으면 배광의 제어성이 저하하고, 광인출 효율도 저하하는 경우가 있다. 한편, 경사각도 θa가 70°를 초과하면, 예를 들면 요철 부형 필름의 가공이 곤란해지는 경우가 있다. 또한, 경사면(17s)의 경사각도 θb는, 예를 들면 50°이상 100°이하이다. 하한은 바람직하게는 70°이상이다. 경사각도 θb가 50°보다 작으면, 의도하지 않은 방향으로 미광이 발생하는 경우가 있다. 한편, 경사각도 θb가 100°를 초과하면, 예를 들면 요철 부형 필름의 가공이 곤란해지는 경우가 있다. 경사면(16s)의 경사각도 θa 및 경사면(17s)의 경사각도 θb는, 오목부(14)의 단면(X 방향에 수직이고 YZ면에 평행한 단면)에 있어서, Y 방향에 평행한 방향에 대한 각도이다. 이 예에서는, 경사면(16s)의 경사각도 θa는 경사면(17s)의 경사각도 θb보다 작다. 광학 적층체(100A)를 갖는 조명 장치(도 4a, 도 4b 참조)에 있어서, 경사면(16s)은 경사면(17s)보다 광원(60)에 가깝게 배치된다. 내부 공간(14a)의 단면(X 방향에 수직이고 YZ면에 평행한 단면) 형상은, 경사면(16s)의 경사각도 θa 및 경사면(17s)의 경사각도 θb와, 폭 Wy와, 깊이 C에 의해 규정된다. 내부 공간(14a)(오목부(14))의 형상은 예시하는 것에 한정되지 않고, 다양하게 개변될 수 있다. 내부 공간(14a)(오목부(14))의 형상, 크기, 배치 밀도 등을 조정함으로써, 광학 적층체(100A)로부터 출사되는 광선의 분포(배광 분포)를 조정할 수 있다(예를 들면 특허문헌 2 및 3 참조).
배광 제어 구조로서 기능하는 광학 적층체는, 복수의 내부 공간을 갖는 도광층 및/또는 방향 변환층을 구성할 수 있다. 예를 들면, 도 4a에 나타내는 바와 같이, 광학 적층체(100A)는 조명 장치(200A)에 사용된다. 조명 장치(200A)는 광학 적층체(102A)와 광원(60)을 구비한다. 광학 적층체(102A)는 광학 적층체(100A)와, 광학 적층체(100A)의 접착제층(20a)의 제 1 광학 시트(10a)측과 반대측에 형성된 도광층(80)을 갖는다. 도광층(80)은, 예를 들면 접착제층(20a)의 제 1 광학 시트(10a)측과 반대측의 표면(22s)에 접착되어 있다. 도광층(80)은 제 1 주면(80a)과, 제 1 주면(80a)과는 반대측의 제 2 주면(80b)과, 광원(60)으로부터 출사된 광을 받는 수광부(80c)를 갖는다. 광원(60)은, 예를 들면 LED 장치이며, 복수의 LED 장치를 배열해서 사용해도 좋다. 도광층(80) 내로 유도된 광의 일부는, 도 4a 중에 화살표로 나타낸 바와 같이, 내부 공간(14a)이 만드는 계면(16s) 및 계면(14s)에서 내부 전반사(Total Internal Reflection: TIR)된다. 계면(14s)(접착제층(20a)의 제 1 광학 시트측의 표면(28s))에서 내부 전반사된 광은, 도광층(80) 및 접착제층(20a) 내를 전파하고, 경사면(16s)에서 내부 전반사된 광은, 제 1 광학 시트(10a)의 제 2 주면(18s)측으로부터 광학 적층체(102A)의 외부로 출사된다.
여기서, 도광층(80), 접착제층(20a) 및 제 1 광학 시트(10a)의 굴절률은 서로 대략 동일한 것이 바람직하다. 도광층(80)과 접착제층(20a)의 굴절률의 차(절대값), 및 접착제층(20a)과 제 1 광학 시트(10a)의 굴절률의 차(절대값)는 각각 독립적으로, 예를 들면 0.20 이하가 바람직하고, 0.15 이하가 보다 바람직하고, 0.10 이하인 것이 더욱 바람직하다.
접착제층(20a)의 두께는, 예를 들면 2.0㎛ 이상 15.0㎛ 이하이다. 하한값은 4.0㎛ 이상이 바람직하다. 상한값은 11.0㎛ 이하가 바람직하고, 9.0㎛ 이하가 보다 바람직하다. 특별히 언급하지 않는 한, 접착제층의 두께는 제 1 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s)의 평탄부(10s) 상의 두께를 말한다.
광학 적층체(100A)의 헤이즈값은, 예를 들면 5.0% 이하이다. 헤이즈값은, 예를 들면 헤이즈미터(장치명「HZ-1」, 스가 시켄키 가부시키가이샤제)를 사용하여, D65 광으로 측정할 수 있다.
도 4b에 나타내는 조명 장치(200B)와 같이, 도광층(80)은, 광학 적층체(100A)의 제 1 광학 시트(10a)측에(접착제층(20a)보다 제 1 광학 시트(10a)에 가깝게) 형성되어 있어도 좋다. 도광층(80)과 제 1 광학 시트(10a)는 접착제층을 개재해서 부착되어 있어도 좋다. 조명 장치(200B)에 있어서도, 계면(14s)(접착제층(20b)의 제 1 광학 시트측의 표면(28s))에서 내부 전반사된 광은 접착제층(20a) 내를 전파하고, 경사면(16s)에서 내부 전반사된 광은 제 1 광학 시트(10a)의 제 2 주면(18s)측으로부터 광학 적층체(102B)의 외부로 출사된다.
본 발명의 실시형태에 의한 조명 장치는 상술한 예에 한정되지 않고, 다양하게 개변될 수 있다. 예를 들면 조명 장치(200A)의, 광학 적층체(100A)의 도광층(80)과 반대측에 기재층을 형성해도 좋다. 기재층 대신에 반사 방지층을 형성해도 좋고, 기재층 대신에 하드 코트층(예를 들면 연필경도가 H 이상)을 형성해도 좋다. 기재층 상에 반사 방지층 및/또는 하드 코트층을 형성해도 좋다. 또한, 도광층(80)의 출사면과 반대측(도면 중 상측)에 반사 방지층 및/또는 하드 코트층을 형성해도 좋다. 반사 방지층 및 하드 코트층은 공지된 재료를 사용하여, 공지된 방법으로 형성할 수 있다. 광학 적층체(102A)와 기재층(또는, 반사 방지층 및/또는 하드 코트층) 사이에 저굴절률층을 형성해도 좋다.
조명 장치(200B)의 예에 있어서는, 광학 적층체(100A)의 도광층(80)과 반대측에 기재층을 형성해도 좋다. 기재층 대신에, 반사 방지층 및/또는 하드 코트층(예를 들면 연필경도가 H 이상)을 형성해도 좋고, 기재층 상에 반사 방지층 및/또는 하드 코트층을 형성해도 좋다. 또한, 도광층(80)의 출사면측(도면 중 하측)에 반사 방지층 및/또는 하드 코트층을 형성해도 좋다. 광학 적층체(102B)와 기재층(또는, 반사 방지층 및/또는 하드 코트층) 사이에 저굴절률층을 형성해도 좋다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 제 1 광학 시트(10a)는, 제 1 주면(12s)의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 복수의 오목부(14)의 각각은 X 방향으로 연장되고, X 방향으로 연속하고 있다. 복수의 오목부(14)는 Y 방향으로 이산적으로 배치되어 있고, 오목부(14)와 오목부(14) 사이에 평탄부(10s)가 형성되어 있다. Y 방향에 있어서, 오목부(14)는 Y 방향으로 주기적으로 배치되어 있는 것이 바람직하고, 그 피치 Py는 예를 들면 6㎛ 이상 120㎛ 이하이다. 오목부(14)의 폭 Wy는, 예를 들면 3㎛ 이상 20㎛ 이하이며, 평탄부(10s)의 폭 Dy는, 예를 들면 3㎛ 이상 100㎛ 이하이다. 오목부(14)의 폭 Wy와 평탄부(10s)의 폭 Dy의 비 Wy/Dy는, 예를 들면 0.3 이상 7 이하이다. 오목부(14)의 깊이 C(Z 방향의 깊이)는, 예를 들면 1㎛ 이상 100㎛ 이하이다. 오목부(14)의 깊이 C는 20㎛ 이하가 바람직하고, 12㎛ 이하가 보다 바람직하다. 오목부(14)의 깊이 C는 4㎛ 이상이 바람직하고, 6㎛ 이상이 보다 바람직하고, 8㎛ 이상이 보다 바람직하다.
복수의 오목부(14)의 밀도는, 제 1 광학 시트(10a)를 제 1 주면(12s)의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때에, 제 1 광학 시트(10a)의 면적에서 차지하는 복수의 오목부(14)의 면적의 비율(점유 면적률)은 양호한 휘도를 얻는 관점에서 0.3% 이상인 것이 바람직하다. 복수의 오목부(14)의 점유 면적률은 사용되는 용도에 따라 적절히 선택되고, 예를 들면 투명성이 요구되는 용도에서는 0.3% 이상 10% 이하인 것이 바람직하고, 0.5% 이상 4% 이하인 것이 보다 바람직하다. 보다 고휘도가 요구되는 용도에서는 30% 이상 80% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 복수의 오목부(14)의 점유 면적률은 균일하여도 좋고, 광원(예를 들면 도 4a 또는 도 4b의 광원(60))으로부터의 거리가 증대해도 휘도가 저하하지 않도록, 거리의 증대에 따라서 점유 면적률이 증대하도록 해도 좋다.
제 1 광학 시트(10a) 대신에, 예를 들면 도 9a 및 도 9b에 나타내는 요철 부형 필름(70)(광학 시트)을 사용해도 좋다. 요철 부형 필름(70)은 요철 구조를 갖는 주면을 갖고, 요철 구조는 복수의 오목부(74)와, 인접하는 오목부(74) 사이의 평탄부(72s)를 갖는다. 요철 부형 필름(70)을 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때(예를 들면 도 9a 참조), 복수의 오목부(74)는 X 방향으로도 Y 방향으로도 이산적으로도 섬 형상으로 배치되어 있다. 부형 필름(70)에 있어서, 오목부(74)의 크기(길이 L, 폭 W: 도 9a, 도 9b 참조)는, 예를 들면 길이 L은 10㎛ 이상 500㎛ 이하인 것이 바람직하고, 폭 W는 1㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 광인출 효율의 관점에서, 깊이 H는 1㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 오목부(74)의 깊이 H는 20㎛ 이하가 바람직하고, 12㎛ 이하가 보다 바람직하다. 오목부(74)의 깊이 H는 4㎛ 이상이 바람직하고, 6㎛ 이상이 보다 바람직하고, 8㎛ 이상이 보다 바람직하다. 복수의 오목부(74)를 이산적으로 균일하게 분포시키는 경우, 예를 들면 도 9a에 나타낸 바와 같이, 주기적으로 배치하는 것이 바람직하다. 피치 Px는, 예를 들면 10㎛ 이상 500㎛ 이하인 것이 바람직하고, 피치 Py는, 예를 들면 10㎛ 이상 500㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 도 9a의 예에 한정되지 않고, 복수의 오목부는, 조명 장치에 사용되었을 때, 도광층의 도광 방향 및 도광층의 도광 방향에 교차하는 방향으로 이산적으로 배치되어 있어도 좋다.
복수의 오목부(74)의 밀도는, 요철 부형 필름(70)을 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을(도 9a) 때에, 요철 부형 필름(70)의 면적에서 차지하는 복수의 오목부(74)의 면적의 비율(점유 면적률)은 양호한 휘도를 얻는 관점에서 0.3% 이상인 것이 바람직하다. 복수의 오목부(74)의 점유 면적률은 사용되는 용도에 따라 적절히 선택되고, 예를 들면 투명성이 요구되는 용도에서는, 양호한 가시광 투과율 및 헤이즈값을 얻는 데에 있어서 30% 이하인 것이 바람직하고, 양호한 휘도를 얻는 관점에서 1% 이상인 것이 바람직하다. 상한값은 25% 이하가 더욱 바람직하고, 높은 가시광 투과율을 얻기 위해서는 10% 이하가 바람직하고, 5% 이하가 더욱 바람직하다. 예를 들면, 0.3% 이상 10% 이하인 것이 바람직하고, 0.5% 이상 4% 이하인 것이 보다 바람직하다. 보다 고휘도가 요구되는 용도에서는 30% 이상 80% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 복수의 오목부(74)의 점유 면적률은 균일하여도 좋고, 광원(예를 들면 도 4a 또는 도 4b의 광원(60))으로부터의 거리가 증대해도 휘도가 저하하지 않도록, 거리의 증대에 따라서 점유 면적률이 증대하도록 해도 좋다.
오목부(14)의 단면 형상이 삼각형인 예를 나타냈지만, 오목부(14)의 단면 형상은 이것에 한정되지 않고, 내부 전반사에 의해 광을 Z 방향을 향하게 하는 계면을 형성할 수 있는 면을 갖고 있으면, 예를 들면 사각형(예를 들면 사다리꼴)이어도 좋다. 또한, 다각형에 한정되지 않고, 적어도 일부가 곡선을 포함하는 형상 등이어도 좋다. 적어도 일부가 곡선을 갖는 형상으로서는, 예를 들면 원 또는 타원의 원주의 일부, 또는 곡률이 상이한 복수의 곡선의 조합을 포함하는 형상이다.
제 1 광학 시트(10a) 대신에, 예를 들면 도 15a에 나타내는 요철 부형 필름(82)(광학 시트)을 사용해도 좋다. 도 15a에는 광원(60)을 합쳐서 표시하고 있다. 요철 부형 필름(82)은 요철 구조를 갖는 주면을 갖고, 요철 구조는 복수의 오목부(84)와, 인접하는 오목부(84) 사이의 평탄부(82s)를 갖는다. 복수의 오목부(84)의 각각은, 광학 적층체 내를 전파하는 광의 일부를 내부 전반사에 의해 Z 방향을 향하게 하는 제 1 경사면(86s)과, 제 1 경사면(86s)과는 반대측의 제 2 경사면(87s)을 갖는다. 도 15a에 나타내는 바와 같이, 요철 부형 필름(82)의 요철 구조를 갖는 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 오목부(84)가 갖는 제 1 경사면(86s)은 광원(60)측으로 볼록한 곡면을 형성하고 있다. 광원(60)으로서, X 방향으로 배열된 복수의 LED 장치가 사용되는 경우, 각 LED 장치로부터 출사되는 광은 Y 방향에 대하여 확산을 가지므로, 제 1 경사면(86s)이 광원 LS측으로 볼록한 곡면을 갖고 있는 편이, 제 1 경사면(86s)이 광에 대하여 균일하게 작용한다. 또한, 광원(60)과 도광층(80)의 수광부(80c) 사이에 결합 광학계를 설치하고, 평행도가 높은 광(Y 방향에 대한 확산이 작은 광)을 입사시키도록 한 경우는, 제 1 경사면(86s)은 X 방향에 평행해도 좋다. 오목부(84)의 크기(길이 L, 폭 W: 도 15b, 도 15c 참조) 및 깊이 H(도 15c 참조), 피치 Px, Py의 바람직한 범위는, 예를 들면 요철 부형 필름(70)의 오목부(74)의 그것과 동일해도 좋다.
광학 적층체(100A)는, 접착제층(20a)을, 예를 들면 롤 투 롤법을 이용하여, 제 1 광학 시트(10a)의 요철 구조를 갖는 표면(12s)에 부착함으로써 제조할 수 있다. 양산성의 관점에서는, 도 5에 나타내는 바와 같이 롤 투 롤 방식으로 광학 적층체(100A)를 제조하는 것이 바람직하다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 화살표 방향으로 회전하는 롤(Ra) 및 롤(Rb)에 의해 제 1 광학 시트(10a)와 접착제층(20a)을 접합한다. 예를 들면, 롤(Ra) 및 롤(Rb)의 일방이 구동롤이며, 타방이 종동롤이다. 이때, 롤(Ra) 및 롤(Rb) 사이의 제 1 광학 시트(10a)와 접착제층(20a)에 가해지는 압력(닙압, 접합 압력, 라미네이트압)이 광학 적층체(100A)의 TD(Transverse Direction) 방향(롤(Ra) 및 롤(Rb)의 축에 평행한 방향)의 위치에 따라 변할 수 있다. 전형적으로는, 도 6에 나타내는 바와 같이, TD 방향의 중앙부(Ac)에 비해서 TD 방향의 양 단부(Ae)에 있어서, 제 1 광학 시트(10a)와 접착제층(20a)에 가해지는 압력이 커진다. 도 6에서는, 백색 화살표의 크기로, 롤(Ra) 및 롤(Rb) 사이에서 제 1 광학 시트(10a)와 접착제층(20a)에 가해지는 압력의 크기를 모식적으로 나타내고 있다.
본 발명자의 검토에 의하면, 롤 투 롤 방식으로, 비교예의 접착제층(90)과 제 1 광학 시트(10a)를 사용해서 비교예의 광학 적층체를 제조할 때, 이하와 같은 문제가 발생하는 경우가 있다. 여기서는, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체(100A)가 갖는 접착제층(20a) 대신에, 비교예의 접착제층(90)을 사용해서 광학 적층체를 롤 투 롤 방식으로 제작하는 예를 설명한다.
예를 들면, 도 7a에 나타내는 바와 같이, TD 방향의 중앙부(Ac)에 있어서 적절한 압력이 광학 시트(10a) 및 접착제층(90)에 가해지도록, 즉 접착제층(90)이 광학 시트(10a)의 요철 구조를 갖는 표면(12s)에 대하여 양호한 접착성을 가지면서, 오목부(14) 내에 접착제층(90)이 침입하는 것이 억제되도록 압력을 조절하면, TD 방향의 양 단부(Ae)에서는 그것보다 큰 압력이 제 1 광학 시트(10a) 및 접착제층(90)에 가해지게 되고, 양 단부(Ae)에 있어서, 접착제층(90)이 오목부(14) 내에 과도하게 침입할 수 있다. 한편으로, 도 7b에 나타내는 바와 같이, TD 방향의 양 단부(Ae)에 있어서 적절한 압력이 광학 시트(10a) 및 접착제층(90)에 가해지도록 조절하면, 중앙부(Ac)에서 제 1 광학 시트(10a) 및 접착제층(90)에 가해지는 압력은 그것보다 작아지고, 제 1 광학 시트(10a)의 평탄부(10s)와 접착제층(90)의 계면에 기포(BA)가 과도하게 생겨, 제 1 광학 시트(10a)의 요철 구조를 갖는 표면(12s)에 대한 접착성이 충분하지 않은 경우가 있다. 이렇게, 종래의 접착제층을 사용하면, 접착제층이 요철 구조의 오목부(14) 내에 침입하는 것을 억제하는 것과, 요철 구조의 평탄부(10s)와 접착제층의 계면에 생기는 기포를 억제하는 것을 양립시키는 것이 어려운 경우가 있다. 롤 투 롤 방식으로 제작되는 광학 적층체의 TD 방향의 길이는 예를 들면 수m 정도이다. 광학 적층체의 TD 방향의 길이가 클수록 이러한 문제는 발생하기 쉽다.
본 발명자는, 도 8에 나타내는 바와 같이, 소정의 접착제층(20a)을 사용하면, 도 7a 및 도 7b를 참조해서 설명한 상기 문제를 해결할 수 있는 것을 알아냈다. 도 8의 좌측 화살표는 시계열을 나타낸다. 제 1 광학 시트(10a)와 접착제층(20)을 준비하고(도 8 상단), 제 1 광학 시트(10a)의 요철 구조를 갖는 표면과 접착제층(20)을 접합할 때, 요철 구조의 평탄부(10s)와 접착제층(20a)의 계면에 기포가 과도하게 생기지 않도록 충분히 압력을 가한다. 이때, 라미네이트 시에 접착제층(20a)이 오목부(14) 내에 일시적으로 과도하게 침입해도 좋다(도 8 중단). 왜냐하면, 라미네이트 시에 가해지고 있던 압력이 없어지면, 접착제층(20a)의 오목부(14) 내에의 침입(매립)의 정도가 감소하기 때문이다(도 8 하단). 이러한 접착제층(20a)의 예는 후술하는 실험예로 나타낸다. 얻어진 광학 적층체(100A)에 있어서는, 접착제층(20a)의 오목부(14) 내에의 침입이 억제되고, 또한 요철 구조의 평탄부(10s)와 접착제층(20a)의 계면에 존재하는 기포가 억제되어 있다. 본 발명의 어느 실시형태에 의한 광학 적층체에 있어서, 제 1 광학 시트의 제 1 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 제 1 광학 시트의 면적에서 차지하는, 평탄부(10s)와 접착제층(20a)의 계면에 존재하는 기포의 면적률이 3% 이하이며, 또한 복수의 오목부(14) 내에 존재하는 접착제층(20a)의 높이가 2㎛ 이하이다. 오목부(14) 내에 존재하는 접착제층(20a)의 높이는, 오목부(14)의 단면(도 1a에 있어서의 X 방향에 수직이고 YZ면에 평행인 단면)에 있어서, Z 방향에 있어서의 접착제층(20b)의 높이이며, 평탄부(10s)를 기준으로 해서 구한다. 오목부(14) 내에 존재하는 접착제층(20a)의 높이는, 예를 들면 후술하는 실시예에서 행한 바와 같이, 임의로 선택한 오목부(14)의 단면 SEM상으로부터, 그 오목부(14) 내에 존재하는 접착제층(20a)의 높이의 최대값을 측정함으로써 구할 수 있다. 기포의 면적률은, 예를 들면 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다. 기포의 면적률은, 바람직하게는 2.5% 이하이며, 보다 바람직하게는 1.5% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.1% 이하이다. 복수의 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이는, 바람직하게는 1㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.6㎛ 이하이다. 또한, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체는 롤 투 롤 방식으로 제작되는 것에 한정되지 않는다. 롤 투 롤 방식 이외의 제법으로 제작되는 광학 적층체에 있어서도, 접착제층의 오목부 내에의 침입이 억제되고, 또한 평탄부와 접착제층의 계면에 존재하는 기포가 억제된다.
또한, 요철 구조의 평탄부와 접착제층의 계면에 있어서의 기포의 발생 용이함은 접착제층의 표면 거칠기의 영향도 받으므로, 기포의 면적률은 접착제층의 표면 거칠기에 따라서도 변할 수 있다. 접착제층의 표면(제 1 광학 시트측의 표면)의 표면 거칠기가 크면, 기포가 발생하기 쉽다.
접착제층의 표면(제 1 광학 시트측의 표면)의 표면 거칠기를 작게 하는 방법의 하나로서, 이하를 들 수 있다. 접착제층은 예를 들면 이하의 방법으로 형성된다. 우선, (메타)아크릴계 중합체 및/또는 폴리에스테르계 중합체와, 가교제와, 용매를 갖는 접착제 조성물 용액을, 박리 처리된 주면을 갖는 기재(제 1 세퍼레이터)의 박리 처리된 주면 상에 부여하여, 접착제 조성물 용액층을 형성한다. 이어서, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하여, 접착제 조성물층을 형성한다. 계속해서, 접착제 조성물층의, 제 1 세퍼레이터측과 반대측의 주면 상에, 박리 처리된 주면을 갖는 다른 기재(제 2 세퍼레이터)를, 박리 처리된 주면이 접착제 조성물층과 접하도록 형성한다. 다음에, 접착제 조성물층의 (메타)아크릴계 중합체 및/또는 폴리에스테르계 중합체를 가교제로 가교시킴으로써 접착제층을 얻는다. 즉, 여기서, 기재(제 1 세퍼레이터)/접착제층/다른 기재(제 2 세퍼레이터)의 적층 구조를 갖는 적층체가 얻어진다. 박리 처리된 주면을 갖는 기재와, 접착제층을 포함하는 적층체를 접착제 시트라고 하는 경우가 있다. 이와 같이 얻어진 접착제층의, 제 1 세퍼레이터측의 주면 또는 제 2 세퍼레이터측의 주면 중 어느 하나를, 제 1 광학 시트(요철 부형 필름)의 요철 구조를 갖는 표면과 접합함으로써, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체를 얻을 수 있다. 예를 들면, 접착제층의, 제 2 세퍼레이터측의 주면을, 제 1 광학 시트(요철 부형 필름)의 요철 구조를 갖는 표면과 접합하는 경우, 제 2 세퍼레이터의 박리 처리된 주면(접착제층측의 표면)의 산술평균 거칠기 Ra가 예를 들면 0.05㎛ 미만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.03㎛ 미만이다. 산술평균 거칠기 Ra의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 0.001㎛이다. 또한, 제 2 세퍼레이터의 박리 처리된 주면(접착제층측의 표면)의 최대 높이 Rz는 예를 들면 0.5㎛ 미만이며, 바람직하게는 0.3㎛ 미만이다. 최대 높이 Rz의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 0.005㎛이다.
롤 투 롤 방식으로 광학 적층체를 제작할 때, 예를 들면 제 1 광학 시트(10a)의 y 방향 또는 -y 방향을 MD(Machine Direction) 방향이라고 할 수 있다. 예를 들면, 도 1에 나타낸 예에 있어서, 오목부(14)의 작은 쪽의 경사각도 θa를 갖는 경사면(16s)이 큰 쪽의 경사각도 θb를 갖는 경사면(17s)보다, 롤(Ra) 및 롤(Rb) 사이의 닙부에 가깝도록 배치되어 있어도 좋다. 단, 오목부(14) 내에 접착제층(20a)이 침입하는 정도는 접합 방향에 따라 크게 변화하지 않는다.
[접착제층의 바람직한 구성의 예]
본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체가 갖는 접착제층의 구체예를 이하에 든다. 이하의 접착제층 A, 접착제층 B 및 접착제층 C는 모두 광학 시트의 요철 구조를 갖는 표면에 부착되었을 때, 요철 구조의 오목부에 침입하는 것 및 그 경시 변화가 억제되므로, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체에 바람직하게 사용된다. 또한, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체가 갖는 접착제층은 이하의 예에 한정되지 않는다.
(1) 접착제층 A
본 출원인에 의한 국제공개 제2021/167090호에는, 회전식 레오미터를 사용한 크리프 시험에 있어서, 50℃에서 10000Pa의 응력을 1초간 인가했을 때의 크리프 변형률이 10% 이하이며, 또한 50℃에서 10000Pa의 응력을 30분간 인가했을 때의 크리프 변형률이 16% 이하이며, PMMA 필름에 대한 180° 필 접착력이 10mN/20mm 이상인 접착제층(이하, 「접착제층 A」라고 하는 경우가 있다)이 기재되어 있다. 본 출원인의 검토에 의하면, 접착제층을 광학 시트의 요철 구조를 갖는 표면에 부착할 때의 오목부에의 침입의 정도 및 그 경시 변화는, 접착제층의 크리프 변형률과의 간에 상관 관계가 있다. 구체적으로는, 회전식 레오미터를 사용한 크리프 시험에 있어서, 50℃에서 10,000Pa의 응력을 1초간 인가했을 때의 크리프 변형률이 10% 이하인 접착제층은, 요철 구조를 갖는 표면에 부착할 때, 요철 구조의 오목부에 침입하는 정도가 억제되고, 회전식 레오미터를 사용한 크리프 시험에 있어서, 50℃에서 10,000Pa의 응력을 30분간(1800초간) 인가했을 때의 크리프 변형률이 16% 이하인 접착제층은, 요철 구조의 오목부에의 침입의 정도의 경시 변화가 억제된다. 국제공개 제2021/167090호의 개시 내용 전부를 참조에 의해 본 명세서에 원용한다.
(2) 접착제층 B
본 출원인에 의한 국제공개 제2021/167091호에는, 적어도 1개의 (메타)아크릴레이트 모노머와, 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머 및 질소 함유 비닐 모노머로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1개의 공중합 가능한 관능기 함유 모노머의 공중합체를 포함하는 중합체와, 경화성 수지를 포함하는 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킴으로써 형성된 접착제층이며, 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시키기 전의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은 0.35MPa 이상 8.00MPa 이하이며, 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킨 후의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은 1.00MPa 이상인 접착제층(이하, 「접착제층 B」라고 하는 경우가 있다)이 기재되어 있다. 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시키기 전의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률이 0.35MPa 이상임으로써, 접착제층(20a)의 형성 시, 즉 접착제 조성물층을 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s) 상에 부여할 때에, 접착제 조성물이 복수의 오목부 내에 들어가는 것이 억제된다. 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시키기 전의 접착제 조성물의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률이 8.00MPa 이하임으로써, 접착제 조성물층은, 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s) 상에 부여되는 데에 필요한 유연함(변형 용이함)을 구비한다. 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킨 후의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률이 1.00MPa 이상임으로써, 접착제층(20a)이 형성된 후, 경시적으로 접착제층(20a)이 변형되어 복수의 오목부 내로 들어가는 것이 억제된다. 국제공개 제2021/167091호의 개시 내용 전부를 참조에 의해 본 명세서에 원용한다.
접착제 조성물에 포함되는 중합체는, 예를 들면 공중합체이며, 적어도 1개의 (메타)아크릴레이트 모노머(예를 들면 알킬(메타)아크릴레이트)와, 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머 및 질소 함유 비닐 모노머로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1개의 공중합 가능한 관능기 함유 모노머의 공중합체를 포함한다. 적어도 1개의 공중합 가능한 관능기 함유 모노머가 질소 함유 비닐 모노머를 포함하는 경우, (메타)아크릴레이트 모노머와 질소 함유 비닐 모노머의 질량비는, 예를 들면 95:5 내지 50:50 사이, 95:5 내지 55:45 사이, 95:5 내지 60:40 사이, 90:10 내지 50:50 사이, 90:10 내지 55:45 사이, 90:10 내지 60:40 사이, 85:15 내지 50:50 사이, 85:15 내지 55:45 사이, 85:15 내지 60:40 사이, 80:20 내지 50:50 사이, 80:20 내지 55:45 사이, 80:20 내지 60:40 사이, 75:25 내지 50:50 사이, 75:25 내지 55:45 사이 또는 75:25 내지 60:40 사이이며, 바람직하게는 90:10 내지 60:40 사이이다.
접착제층 B는 중합체와 경화성 수지를 포함하는 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킴으로써 형성된다. 우선, 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s) 상에, 접착제 조성물로 형성된 접착제 조성물층을 부여한다. 계속해서, 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s) 상에 접착제 조성물층을 부여한 상태에서, 접착제 조성물층에 열을 가하거나 또는 활성 에너지선을 조사함으로써, 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킨다. 경화성 수지(예를 들면 자외선 경화성 수지)는, 접착제 조성물층이 복수의 오목부 내로 들어가는 것을 억제하는 관점에서, 예를 들면 질량 평균 분자량이 4000 이상인 것이 바람직하다.
예를 들면, 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시키기 전의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은, 예를 들면 0.35MPa 이상, 0.40MPa 이상, 0.45MPa 이상 또는 0.50MPa 이상이며, 또한 8.00MPa 이하, 7.70MPa 이하, 7.50MPa 이하, 7.00MPa 이하, 6.50MPa 이하, 6.00MPa 이하, 5.50MPa 이하, 5.00MPa 이하, 4.50MPa 이하, 4.00MPa 이하, 3.50MPa 이하 또는 3.00MPa 이하이다. 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킨 후의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은, 예를 들면 1.00MPa 이상, 1.50MPa 이상, 2.00MPa 이상, 2.50MPa 이상, 3.00MPa 이상, 3.50MPa 이상, 4.00MPa 이상, 4.50MPa 이상 또는 5.00MPa 이상이다. 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킨 후의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 1000MPa 이하, 800MPa 이하, 600MPa 이하, 400MPa 이하 또는 200MPa 이하이다. 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시키기 전의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률이 0.40MPa 이상 7.70MPa 이하이며, 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킨 후의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률이 3.00MPa 이상인 것이 보다 바람직하다.
접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시키기 전의 겔분율은 예를 들면 75% 이상이며, 접착제 조성물의 경화성 수지를 경화시킨 후의 겔분율은 예를 들면 90% 이상이다. 이들 겔분율의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 100%이다.
(3) 접착제층 C
본 출원인에 의한 일본특허출원 2021-025496에는, 다가 카르복실산과 다가 알코올의 공중합체인 폴리에스테르 수지와, 가교제와, 유기 지르코늄 화합물, 유기 철 화합물 및 유기 알루미늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 가교 촉매를 포함하는 접착제 조성물을 가교시킴으로써 형성되어 있고, 온도 85℃ 또한 상대습도 85%에서 300시간 유지한 후의 겔분율이 40% 이상이며, PMMA 필름에 대한 180° 필 접착력이 100mN/20mm 이상인 접착제층(이하, 「접착제층 C」라고 하는 경우가 있다)이 기재되어 있다. 접착제층 C는 고온고습하에 있어서의 경시 변화도 억제할 수 있다. 일본특허출원 2021-025496의 개시 내용 전부를 참조에 의해 본 명세서에 원용한다.
접착제층 A 또는 접착제층 B를 형성하는 접착제는, 이하의 접착제를 바람직하게 사용할 수 있다.
접착제는, 예를 들면 (메타)아크릴계 중합체를 함유하고, (메타)아크릴계 중합체는, 예를 들면 질소 함유 (메타)아크릴 모노머와, 적어도 1종의 다른 모노머의 공중합체이다. 질소 함유 (메타)아크릴 모노머는, 예를 들면 질소 함유 환상 구조를 갖는다. 질소 함유 (메타)아크릴 모노머를 사용해서 (메타)아크릴계 중합체를 조제하면, 특히 질소 함유 (메타)아크릴 모노머가 질소 함유 환상 구조를 가지면, (메타)아크릴계 중합체의 탄성적인 특성을 향상시키는 효과가 얻어진다.
접착제가 (메타)아크릴계 중합체를 함유하는 경우, 상기 (메타)아크릴계 중합체는 가교되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 접착제가 (메타)아크릴계 중합체를 함유하는 경우, 상기 접착제는, 활성 에너지선 경화성 수지(예를 들면 자외선 경화성 수지)와 경화제(예를 들면 광중합 개시제)를 추가로 포함해도 좋고, 또는 활성 에너지선 경화성 수지의 경화물을 추가로 포함해도 좋다. 활성 에너지선은, 예를 들면 가시광 및 자외선이다. 접착제에 가교 구조를 도입함으로써, 접착제의 부착 시의 변형 및 경시 변형이 억제된다. 특히, 광학 시트(10a)에 (접착제층(20a)이 되는) 접착제 조성물층을 부여한 후에 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시킴으로써, 접착제층(20a)의 경시 변형을 억제할 수 있고, 접착제층(20a)이 오목부에 침입하는 정도의 경시 변화를 억제할 수 있다. 또한, 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시키면, 접착제층(20a)은 단단해진다. 접착제층(20a)이 지나치게 단단하면, 접착제층(20a)을 롤 투 롤법으로 광학 시트(10a)에 접합하는 것이 곤란해지는 경우가 있지만, 광학 시트(10a)에 접착제 조성물층을 부여한 후에 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시키면, 이 문제를 회피할 수 있다.
활성 에너지선 경화성 수지의 경화물을 포함하는 접착제층(20a)은, 예를 들면 이하의 방법으로 형성된다. 우선, (메타)아크릴계 중합체와, 가교제와, 활성 에너지선 경화성 수지와, 중합 개시제와, 용매를 포함하는 접착제 조성물 용액으로 접착제 조성물 용액층을 형성한다. 접착제 조성물 용액층은, 예를 들면 기재의 박리 처리된 주면 상에 형성된다. 이어서, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하고, 접착제 조성물 용액층의 (메타)아크릴계 중합체를 (예를 들면 가열함으로써) 가교제로 가교시킴으로써, 가교 구조를 갖는 접착제 조성물층을 얻는다. 접착제 조성물 용액층을 기재의 박리 처리된 주면 상에 형성한 경우는, 기재의 박리 처리된 주면 상에 접착제 조성물층이 형성되어, 기재와 접착제 조성물층을 갖는 적층체가 얻어진다. 여기서, (메타)아크릴계 중합체와 가교제로 형성되는 가교 구조를 제 1 가교 구조라고 한다. 후술하는, 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시킴으로써 형성되는 가교 구조(제 2 가교 구조)와 구별한다. 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하는 공정에 있어서 접착제 조성물 용액층의 중합체가 가교되어도 좋고, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하는 공정 후에, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하는 공정과는 별도로, 접착제 조성물 용액층의 중합체를 가교시키는 공정을 추가로 행해도 좋다. 그 후, 접착제 조성물층을 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s) 상에 부착하고, 접착제 조성물층을 광학 시트(10a)의 제 1 주면(12s) 상에 배치한 상태에서, 접착제 조성물층에 활성 에너지선을 조사하여 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시킴으로써, 제 1 가교 구조에 부가해서 제 2 가교 구조를 갖는 접착제층(20a)을 형성할 수 있다. 접착제층(20a)이 갖는 제 1 가교 구조 및 제 2 가교 구조는, 소위 상호 침입 망목 구조(IPN)를 형성하고 있다고 생각된다.
활성 에너지선 경화성 수지의 경화물을 포함하지 않는 접착제층(20a)은, 예를 들면 이하의 방법으로 형성된다. 우선, 중합체와 가교제와 용매를 포함하는 접착제 조성물 용액으로 접착제 조성물 용액층을 형성한다. 이 접착제 조성물 용액은, 활성 에너지선 경화성 수지 및 중합 개시제를 포함하지 않는다. 접착제 조성물 용액층은, 예를 들면 기재의 박리 처리된 주면 상에 형성된다. 이어서, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하고, 접착제 조성물 용액층의 중합체를 (예를 들면 가열함으로써) 가교제로 가교시킴으로써, 가교 구조를 갖는 접착제층(20a)을 얻는다. 접착제 조성물 용액층을 기재의 박리 처리된 주면 상에 형성한 경우는, 기재의 박리 처리된 주면 상에 접착제층이 형성되어, 기재와 접착제층을 갖는 적층체가 얻어진다. 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하는 공정에 있어서 접착제 조성물 용액층의 중합체가 가교되어도 좋고, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하는 공정 후에, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하는 공정과는 별도로, 접착제 조성물 용액층의 중합체를 가교시키는 공정을 추가로 행해도 좋다.
접착제는, 그래프트 폴리머를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 특허문헌 1에 기재된 접착제층과 같이 그래프트 폴리머를 포함하는 접착제 조성물로 형성하면, 재료의 설계 인자나 제어 인자가 많아져, 양산성이 열등한 경우가 있다. 그래프트 폴리머를 포함하지 않는 접착제는, 다양한 인자(예를 들면, 가교제의 종류, 양, 활성선 경화성 수지의 종류, 양)에 따라 크리프 특성을 조정할 수 있다.
접착제의 바람직한 구체예를 이하에 설명한다.
접착제는, 예를 들면 (메타)아크릴계 중합체를 포함한다. (메타)아크릴계 중합체의 제조에 사용되는 모노머로서는, 어느 (메타)아크릴레이트여도 사용할 수 있고, 특별히 한정은 되지 않는다. 예를 들면, 탄소수 4 이상의 알킬기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 이 경우, (메타)아크릴계 중합체의 제조에 사용되는 모노머의 총량에 대한, 탄소수 4 이상의 알킬기를 갖는 알킬(메타)아크릴레이트의 비율은, 예를 들면 50질량% 이상이다.
본 명세서에 있어서 「알킬(메타)아크릴레이트」는, 직쇄 또는 분기쇄의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 가리킨다. 알킬(메타)아크릴레이트가 갖는 알킬기의 탄소수는 4 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4 이상 9 이하이다. 또한, (메타)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말한다.
알킬(메타)아크릴레이트의 구체예로서는, n-부틸(메타)아크릴레이트, s-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, n-펜틸(메타)아크릴레이트, 이소펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 이소아밀(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, n-노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, n-데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, n-도데실(메타)아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, n-트리데실(메타)아크릴레이트, n-테트라데실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 조합해서 사용할 수 있다.
접착제는, 질소 함유 (메타)아크릴 모노머와 적어도 1종의 다른 모노머의 공중합체인 (메타)아크릴계 중합체를 포함해도 좋다. 이 경우, (메타)아크릴계 중합체는, 공중합에 사용되는 모노머의 합계량을 100질량부라고 했을 때에, 이하의 모노머를 이하의 양으로 사용해서 공중합한 공중합체인 것이 바람직하다.
질소 함유 (메타)아크릴 모노머: 10.0질량부 이상, 15.0질량부 이상, 20.0질량부 이상, 25.0질량부 이상, 30.0질량부 이상 또는 35.0질량부 이상이며, 또한 40.0질량부 이하, 35.0질량부 이하, 30.0질량부 이하, 25.0질량부 이하, 20.0질량부 이하 또는 15.0질량부 이하. 예를 들면, 10.0질량부 이상 40.0질량부 이하.
히드록실기 함유 아크릴 모노머: 0.05질량부 이상, 0.75질량부 이상, 1.0질량부 이상, 2.0질량부 이상, 3.0질량부 이상, 4.0질량부 이상, 5.0질량부 이상, 6.0질량부 이상, 7.0질량부 이상, 8.0질량부 이상 또는 9.0질량부 이상이며, 또한 10.0질량부 이하, 9.0질량부 이하, 8.0질량부 이하, 7.0질량부 이하, 6.0질량부 이하, 5.0질량부 이하, 4.0질량부 이하, 3.0질량부 이하, 2.0질량부 이하 또는 1.0질량부 이하. 예를 들면, 0.05질량부 이상 10.0질량부 이하.
카르복실기 함유 아크릴 모노머: 1.0질량부 이상, 2.0질량부 이상, 3.0질량부 이상, 4.0질량부 이상, 5.0질량부 이상, 6.0질량부 이상, 7.0질량부 이상, 8.0질량부 이상 또는 9.0질량부 이상이며, 또한 10.0질량부 이하, 9.0질량부 이하, 8.0질량부 이하, 7.0질량부 이하, 6.0질량부 이하, 5.0질량부 이하, 4.0질량부 이하, 3.0질량부 이하 또는 2.0질량부 이하. 예를 들면, 1.0질량부 이상 10.0질량부 이하.
알킬(메타)아크릴레이트 모노머: (100질량부)-(공중합에 사용되는, 알킬(메타)아크릴레이트 모노머 이외의 모노머의 합계량)
본 명세서에 있어서, 「질소 함유 (메타)아크릴 모노머」는 (메타)아크릴로일기의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 질소 원자를 갖는 모노머를 특별히 제한 없이 포함한다. 「질소 함유 (메타)아크릴 모노머」는, 예를 들면 질소 함유 환상 구조를 갖는다. 질소 함유 환상 구조를 갖는 질소 함유 (메타)아크릴 모노머의 예로서, 예를 들면 N-비닐-2-피롤리돈(NVP), N-비닐-ε-카프로락탐(NVC), 4-아크릴로일모르폴린(ACMO)을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 조합해서 사용할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 「히드록실기 함유 아크릴 모노머」는 (메타)아크릴로일기의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 수산기를 갖는 모노머를 특별히 제한 없이 포함한다. 예를 들면, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메타)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트; 4-히드록시메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸비닐에테르 등을 들 수 있다.
본 명세서에 있어서, 「카르복실기 함유 아크릴 모노머」는 (메타)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 카르복실기를 갖는 모노머를 특별히 제한 없이 포함한다. 불포화 카르복실산 함유 모노머로서, 예를 들면 (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 조합해서 사용할 수 있다.
접착제는, 카르복실기 함유 아크릴 모노머와 적어도 1종의 다른 모노머(단, 질소 함유 (메타)아크릴 모노머를 제외한다)의 공중합체인 (메타)아크릴계 중합체를 포함해도 좋다. 이 경우, (메타)아크릴계 중합체는, 공중합에 사용되는 모노머의 합계량을 100질량부로 했을 때에, 이하의 모노머를 이하의 양으로 사용해서 공중합한 공중합체인 것이 바람직하다.
카르복실기 함유 아크릴 모노머: 1.0질량부 이상, 2.0질량부 이상, 3.0질량부 이상, 4.0질량부 이상, 5.0질량부 이상, 6.0질량부 이상, 7.0질량부 이상, 8.0질량부 이상 또는 9.0질량부 이상이며, 또한 10.0질량부 이하, 9.0질량부 이하, 8.0질량부 이하, 7.0질량부 이하, 6.0질량부 이하, 5.0질량부 이하, 4.0질량부 이하, 3.0질량부 이하 또는 2.0질량부 이하. 예를 들면, 1.0질량부 이상 10.0질량부 이하.
알킬(메타)아크릴레이트 모노머: 90.0질량부 이상, 91.0질량부 이상, 92.0질량부 이상, 93.0질량부 이상, 94.0질량부 이상, 95.0질량부 이상, 96.0질량부 이상, 97.0질량부 이상 또는 98.0질량부 이상이며, 99.0질량부 이하, 98.0질량부 이하, 97.0질량부 이하, 96.0질량부 이하, 95.0질량부 이하, 94.0질량부 이하, 93.0질량부 이하, 92.0질량부 이하 또는 91.0질량부 이하. 예를 들면, 90.0질량부 이상 99.0질량부 이하.
(메타)아크릴계 중합체에 가교 구조를 도입하는 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 실리콘계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 실란계 가교제, 알킬에테르화멜라민계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 과산화물 등의 가교제가 포함된다. 가교제는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합할 수 있다.
이소시아네이트계 가교제는, 이소시아네이트기(이소시아네이트기를 블록제 또는 수량체화 등에 의해 일시적으로 보호한 이소시아네이트 재생형 관능기를 포함한다)를 1분자 중에 2개 이상 갖는 화합물을 말한다.
이소시아네이트계 가교제로서는, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트 등을 들 수 있다.
보다 구체적으로는, 예를 들면 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류, 트리메티롤프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물(토소 가부시키가이샤제, 상품명 코로네이트 L), 트리메티롤프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3량체 부가물(토소 가부시키가이샤제, 상품명 코로네이트 HL), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(토소 가부시키가이샤제, 상품명 코로네이트 HX) 등의 이소시아네이트 부가물, 크실릴렌디이소시아네이트의 트리메티롤프로판 부가물(미츠이 카가쿠 가부시키가이샤제, 상품명 D110N), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메티롤프로판 부가물(미츠이 카가쿠 가부시키가이샤제, 상품명 D160N); 폴리에테르폴리이소시아네이트, 폴리에스테르폴리이소시아네이트, 및 이들과 각종 폴리올의 부가물, 이소시아누레이트 결합, 뷰렛 결합, 알로파네이트 결합 등으로 다관능화한 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.
이소시아네이트계 가교제는 1종을 단독으로 사용해도 좋고, 또 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 이소시아네이트계 가교제의 배합량은 (메타)아크릴계 중합체 100질량부에 대하여, 예를 들면 0.01질량부 이상, 0.02질량부 이상, 0.05질량부 이상 또는 0.1질량부 이상이며, 또한 10질량부 이하, 9질량부 이하, 8질량부 이하, 7질량부 이하, 6질량부 이하 또는 5질량부 이하이며, 바람직하게는 0.01질량부 이상 10질량부 이하, 0.02질량부 이상 9질량부 이하, 0.05질량부 이상 8질량부 이하이다. 응집력, 내구성 시험에서의 박리의 저지 등을 고려하여, 배합량을 적절히 조정하면 좋다.
또한, 유화 중합으로 제조한 변성 (메타)아크릴계 중합체의 수분산액에서는, 이소시아네이트계 가교제를 사용하지 않아도 좋지만, 필요할 경우에는, 물과 반응하기 쉽기 때문에, 블록화한 이소시아네이트계 가교제를 사용할 수도 있다.
에폭시계 가교제는 에폭시기를 1분자 중에 2개 이상 갖는 다관능 에폭시 화합물이다. 에폭시계 가교제로서는, 예를 들면 비스페놀A, 에피클로르히드린형의 에폭시계 수지, 에틸렌글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 디글리시딜아닐린, 디아민글리시딜아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리스리톨폴리글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 소르비탄폴리글리시딜에테르, 트리메티롤프로판폴리글리시딜에테르, 아디프산디글리시딜에스테르, o-프탈산디글리시딜에스테르, 트리글리시딜-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 레조르신디글리시딜에테르, 비스페놀-S-디글리시딜에테르 외에, 분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 에폭시계 가교제로서는, 예를 들면 미츠비시 가스 카가쿠 가부시키가이샤제, 상품명 「테트라드 C」, 「테트라드 X」등을 사용할 수 있다.
에폭시계 가교제는 1종을 단독으로 사용해도 좋고, 또 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 에폭시계 가교제의 배합량은 (메타)아크릴계 중합체 100질량부에 대하여, 예를 들면 0.01질량부 이상, 0.02질량부 이상, 0.05질량부 이상 또는 0.1질량부 이상이며, 또한 10질량부 이하, 9질량부 이하, 8질량부 이하, 7질량부 이하, 6질량부 이하 또는 5질량부 이하이며, 바람직하게는 0.01질량부 이상 10질량부 이하, 0.02질량부 이상 9질량부 이하, 0.05질량부 이상 8질량부 이하이다. 응집력, 내구성 시험에서의 박리의 저지 등을 고려하여, 배합량을 적절히 조정하면 좋다.
과산화물의 가교제로서는, 가열에 의해 라디칼 활성종을 발생시켜 점착제의 베이스 중합체의 가교를 진행시키는 것이면 적절히 사용 가능하지만, 작업성이나 안정성을 감안하여, 1분간 반감기 온도가 80℃ 이상 160℃ 이하인 과산화물을 사용하는 것이 바람직하고, 90℃ 이상 140℃ 이하인 과산화물을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
과산화물로서는, 예를 들면 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기 온도: 90.6℃), 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기 온도: 92.1℃), 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기 온도: 92.4℃), t-부틸퍼옥시네오데카노에이트(1분간 반감기 온도: 103.5℃), t-헥실퍼옥시피발레이트(1분간 반감기 온도: 109.1℃), t-부틸퍼옥시피발레이트(1분간 반감기 온도: 110.3℃), 디라우로일퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 116.4℃), 디-n-옥타노일퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 117.4℃), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(1분간 반감기 온도: 124.3℃), 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 128.2℃), 디벤조일퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 130.0℃), t-부틸퍼옥시이소부티레이트(1분간 반감기 온도: 136.1℃), 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산(1분간 반감기 온도: 149.2℃) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 특히 가교 반응 효율이 우수한 점에서, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기 온도: 92.1℃), 디라우로일퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 116.4℃), 디벤조일퍼옥사이드(1분간 반감기 온도: 130.0℃) 등이 바람직하게 사용된다.
또한, 과산화물의 반감기란, 과산화물의 분해 속도를 나타내는 지표이며, 과산화물의 잔존량이 절반이 될 때까지의 시간을 말한다. 임의의 시간으로 반감기를 얻기 위한 분해 온도나, 임의의 온도에서의 반감기 시간에 관해서는 메이커 카탈로그 등에 기재되어 있고, 예를 들면 니치유 가부시키가이샤의 「유기 과산화물 카탈로그 제9판(2003년 5월)」등에 기재되어 있다.
과산화물은 1종을 단독으로 사용해도 좋고, 또 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 과산화물의 배합량은 (메타)아크릴계 중합체 100질량부에 대하여 0.02질량부 이상 2질량부 이하이며, 0.05질량부 이상 1질량부 이하가 바람직하다. 가공성, 리워크성, 가교 안정성, 박리성 등의 조정을 위하여, 이 범위 내에서 적절히 조정된다.
또한, 반응 처리 후의 잔존한 과산화물 분해량의 측정 방법으로서는, 예를 들면 HPLC(고속 액체 크로마토그래피)에 의해 측정할 수 있다.
보다 구체적으로는, 예를 들면 반응 처리 후의 점착제를 약 0.2g씩 인출하고, 아세트산에틸 10ml에 침지하고, 진탕기로 25℃하, 120rpm으로 3시간 진탕 추출한 후, 실온에서 3일간 정치한다. 이어서, 아세토니트릴 10ml 첨가하고, 25℃하, 120rpm으로 30분 진탕하고, 멤브레인 필터(0.45㎛)에 의해 여과해서 얻어진 추출액 약 10μl를 HPLC에 주입해서 분석하여, 반응 처리 후의 과산화물량으로 할 수 있다.
또한, 가교제로서, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 병용해도 좋다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로서는 Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유 결합 또는 배위 결합하는 유기 화합물 중의 원자로서는 산소 원자를 들 수 있고, 유기 화합물로서는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물을 들 수 있다.
활성 에너지선 경화성 수지의 배합량은 (메타)아크릴계 중합체 100질량부에 대하여, 예를 들면 3질량부 이상 60질량부 이하이다. 경화 전의 질량 평균 분자량(Mw)은 4000 이상 50000 이하이다. 활성 에너지선 경화성 수지로서는, 예를 들면 아크릴레이트계, 에폭시계, 우레탄계, 또는 엔·티올계 자외선 경화성 수지를 바람직하게 사용할 수 있다.
활성 에너지선 경화성 수지로서는, 활성 에너지선에 의해 라디칼 중합 또는 양이온 중합하는 모노머 및/또는 올리고머가 사용된다.
활성 에너지선에 의해 라디칼 중합하는 모노머로서는 (메타)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 모노머를 들 수 있고, 특히 반응성이 우수한 이점으로부터 (메타)아크릴로일기를 갖는 모노머가 바람직하게 사용된다.
(메타)아크릴로일기를 갖는 모노머의 구체예로서는, 예를 들면 알릴(메타)아크릴레이트, 카프로락톤(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 헵타데카플로오데실(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 2-히드록실에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 모르폴린(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판에톡시트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
활성 에너지선에 의해 라디칼 중합하는 올리고머로서는, 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 모노머와 마찬가지의 관능기로서 (메타)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2개 이상 부가한 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트 등이 사용된다.
폴리에스테르(메타)아크릴레이트는 다가 알코올과 다가 카르복실산으로부터 얻어지는 말단 수산기의 폴리에스테르에 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 것이며, 구체예로서는 토아 고세이 가부시키가이샤제의 아로닉스 M-6000, 7000, 8000, 9000 시리즈 등을 들 수 있다.
에폭시(메타)아크릴레이트는 에폭시 수지에 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 것이며, 구체예로서는 쇼와 코분시 가부시키가이샤제의 리폭시 SP, VR 시리즈나 쿄에이샤 카가쿠 가부시키가이샤제의 에폭시에스테르 시리즈 등을 들 수 있다.
우레탄(메타)아크릴레이트는 폴리올, 이소시아네이트, 히드록시(메타)아크릴레이트를 반응시킴으로써 얻어지는 것이며, 구체예로서는 네가미 코교 가부시키가이샤제의 아트레진 UN 시리즈, 신나카무라 카가쿠 코교 가부시키가이샤제의 NK 올리고 U 시리즈, 미츠비시 케미컬 가부시키가이샤제의 세이코 UV 시리즈 등을 들 수 있다.
광중합 개시제는, 자외선을 조사함으로써 여기, 활성화해서 라디칼을 생성하고, 다관능 올리고머를 라디칼 중합에 의해 경화시키는 작용을 갖는다. 예를 들면, 4-페녹시디클로로아세토페논, 4-t-부틸디클로로아세토페논, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1 등의 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 등의 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논, 벤조일벤조산, 벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤, 2-클로르티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤계 광중합 개시제, α-아실옥심에스테르, 아실포스핀옥사이드, 메틸페닐글리옥실레이트, 벤질, 캠퍼 퀴논, 디벤조수베론, 2-에틸안트라퀴논, 4',4"-디에틸이소프탈로페논 등의 특수 광중합 개시제를 들 수 있다. 또한, 광중합 개시제로서, 알릴술포늄헥사플루오로포스페이트염, 술포늄헥사플루오로포스페이트염류, 및 비스(알킬페닐)요오도늄헥사플로오로포스페이트 등의 광 양이온계 중합 개시제도 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제에 대해서는, 2종 이상 병용하는 것도 가능하다. 중합 개시제는, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 100질량부에 대하여 통상 0.5질량부 이상 30질량부 이하, 나아가서는 1질량부 이상 20질량부 이하의 범위에서 배합하는 것이 바람직하다. 0.5질량부 미만이면 충분히 중합이 진행되지 않아, 경화 속도가 느려지고, 30질량부를 초과하면 경화 시트의 경도가 저하하는 경우가 있다는 문제가 발생하는 경우가 있다.
활성 에너지선은 특별히 한정은 되지 않지만, 바람직하게는 자외선, 가시광, 및 전자선이다. 자외선 조사에 의한 가교 처리는 고압 수은 램프, 저압 수은 램프, 엑시머 레이저, 메탈할라이드 램프, LED 램프 등의 적절한 자외선원을 사용해서 행할 수 있다. 그때, 자외선의 조사량으로서는, 필요로 되는 가교도에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 통상은, 자외선에서는 0.2J/㎠ 이상 10J/㎠ 이하의 범위 내에서 선택하는 것이 바람직하다. 조사 시의 온도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 지지체의 내열성을 고려해서 140℃정도까지가 바람직하다.
접착제가, (메타)아크릴계 중합체 대신에, 또는 (메타)아크릴계 중합체와 함께 폴리에스테르계 중합체를 포함하는 경우, 예를 들면 이하의 특징을 갖는 폴리에스테르계 중합체가 바람직하다.
카르복실산 성분의 종류(또는 골격의 특징 등): 적어도 카르복실기를 2개 포함하는 디카르복실산을 함유하는 것, 구체적으로는 디카르복실산. 상기 디카르복실산으로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 세바스산, 올레산 및 에루크산 등으로부터 유도되는 다이머산을 들 수 있다. 그 밖의 예로서는, 글루타르산, 수베르산, 아디프산, 아젤라산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 4-메틸-1,2-시클로헥산디카르복실산, 도데세닐 무수 숙신산, 푸마르산, 숙신산, 도데칸 2산, 헥사히드로 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 시트라콘산 등의 지방족 또는 지환족 디카르복실산이나, 테레프탈산, 이소프탈산, 오르토프탈산, 1,5-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 4,4'-디페닐디카르복실산, 2,2'-디페닐디카르복실산, 4,4'-디페닐에테르디카르복실산을 들 수 있다. 상기 디카르복실산에 부가해서, 카르복실기를 3개 이상 포함하는 트리카르복실산을 사용할 수도 있다.
디올 성분의 종류(또는 골격의 특징 등): 적어도 히드록실기를 분자 중에 2개 갖는 것을 함유하는 것, 구체적으로는 디올. 지방산 에스테르나, 올레산이나, 에루크산 등으로부터 유도되는 다이머 디올, 글리세롤모노스테아레이트 등. 기타로서는, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜 등의 지방족 글리콜이나, 지방족 글리콜 이외의 것으로서, 비스페놀A의 에틸렌옥사이드 부가물 및 프로필렌옥사이드 부가물, 수소화 비스페놀A의 에틸렌옥사이드 부가물 및 프로필렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.
폴리에스테르계 중합체에 가교 구조를 도입하는 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 실란계 가교제, 알킬에테르화멜라민계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제를 사용할 수 있다. 배합량은, 폴리에스테르계 중합체 100질량부에 대하여, 예를 들면 2.0질량부 이상 10.0질량부 이하이다.
접착제층 C의 조성의 구체예를 이하에서 설명한다.
<다가 카르복실산>
다가 카르복실산으로서는, 예를 들면,
테레프탈산, 이소프탈산, 벤질말론산, 디펜산, 4,4'-옥시디벤조산, 나프탈렌디카르복실산 등의 방향족 디카르복실산;
말론산, 디메틸말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 트리메틸아디프산, 피멜산, 2,2-디메틸글루타르산, 아젤라산, 세바스산, 푸마르산, 말레산, 이타콘산, 티오디프로피온산, 디글리콜산 등의 지방족 디카르복실산;
1,3-시클로펜탄디카르복실산, 1,2-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로펜탄디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 2,5-노르보르난디카르복실산, 아다만탄디카르복실산 등의 지환족 디카르복실산;
등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2종 이상 합쳐서 사용할 수 있다.
이들 중에서도, 응집력을 부여하는 관점에서, 방향족 디카르복실산을 포함하는 것이 바람직하고, 특히 테레프탈산 또는 이소프탈산을 포함하는 것이 바람직하다.
<다가 알코올>
다가 알코올로서는, 예를 들면,
에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 2,4-디메틸-2-에틸헥산-1,3-디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올(네오펜틸글리콜), 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-이소부틸-1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 폴리테트라메틸렌글리콜 등의 지방족 디올;
1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 스피로글리콜, 트리시클로데칸디메탄올, 아다만탄디올, 2,2,4,4-테트라메틸-1,3-시클로부탄디올 등의 지환족 디올;
4,4'-티오디페놀, 4,4'-메틸렌디페놀, 4,4'-디히드록시비페닐, o-, m- 및 p-디히드록시벤젠, 2,5-나프탈렌디올, p-크실렌디올 및 그들의 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 부가체 등의 방향족 디올;
등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2종 이상 합쳐서 사용할 수 있다.
이들 중에서도, 지방족 디올 또는 지환족 디올을 포함하는 것이 바람직하고, 폴리테트라메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜 또는 시클로헥산디메탄올을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
<가교제>
가교제로서는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 공지된 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 다가 이소시아누레이트, 다관능성 이소시아네이트, 다관능성 멜라민 화합물, 다관능성 에폭시 화합물, 다관능성 옥사졸린 화합물, 다관능성 아지리딘 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등을 사용할 수 있다. 특히, 얻어지는 접착제층의 투명성이나, 접착제층에 적합한 탄성률을 얻는다는 관점에서는 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 것이 바람직하다.
이소시아네이트계 가교제는, 이소시아네이트기(이소시아네이트기를 블록제 또는 수량체화 등에 의해 일시적으로 보호한 이소시아네이트 재생형 관능기를 포함한다)를 1분자 중에 2개 이상 갖는 화합물을 말한다.
이소시아네이트계 가교제로서는, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트 등을 들 수 있다.
보다 구체적으로는, 예를 들면 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류, 트리메티롤프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물(토소 가부시키가이샤제, 상품명 코로네이트 L), 트리메티롤프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3량체 부가물(토소 가부시키가이샤제, 상품명 코로네이트 HL), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(토소 가부시키가이샤제, 상품명 코로네이트 HX) 등의 이소시아네이트 부가물, 크실릴렌디이소시아네이트의 트리메티롤프로판 부가물(미츠이 카가쿠 가부시키가이샤제, 상품명 D110N), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메티롤프로판 부가물(미츠이 카가쿠 가부시키가이샤제, 상품명 D160N); 폴리에테르폴리이소시아네이트, 폴리에스테르폴리이소시아네이트, 및 이들과 각종 폴리올의 부가물, 이소시아누레이트 결합, 뷰렛 결합, 알로파네이트 결합 등으로 다관능화한 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 지방족계의 이소시아네이트를 사용하면, 가교제의 양이 소량으로 높은 겔분율의 접착제층이 얻어지기 때문에 보다 바람직하다.
이소시아네이트계 가교제는 1종을 단독으로 사용해도 좋고, 또 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 이소시아네이트계 가교제의 배합량의 하한은, 폴리에스테르 수지 100질량부에 대하여 6질량부 이상이며, 바람직하게는 7질량부 이상, 8질량부 이상, 9질량부 이상 또는 10질량부 이상이며, 이소시아네이트계 가교제의 배합량의 상한은 20질량부 이하이며, 바람직하게는 15질량부 이하이다. 이 범위 내로 함으로써, 요철 구조를 갖는 표면에 대한 양호한 접착력을 가지면서, 접착제층이 요철 구조의 오목부에 경시적으로 침입하는 것을 억제할 수 있다.
<가교 촉매>
유기 알루미늄 화합물로서는, 알루미늄트리스아세틸아세토네이트, 알루미늄트리스에틸아세토아세테이트, 디이소프로폭시알루미늄에틸아세토아세테이트 등을 들 수 있다.
유기 철 화합물로서는, 아세틸아세톤-철 착체 등을 들 수 있다.
유기 지르코늄 화합물로서는, 지르코늄테트라아세틸아세토네이트 등을 들 수 있다.
이들은 단독 또는 필요에 따라서 2종 이상 조합해서 사용된다.
가교 촉매를 사용함으로써 가교 속도를 높여, 생산 리드 타임을 단축할 수 있다.
접착제층 C의 형성 방법으로서는, 공지된 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 이하의 방법을 들 수 있다. 먼저, 접착제 조성물(또는 접착제 조성물을 포함하는 용액)을 지지체(기재) 상에 부여(도포)하고, 필요에 따라서 건조시킴으로써 접착제 조성물층을 형성한다. 전형적으로는, 폴리에스테르 수지와 가교제와 가교 촉매와 용매를 포함하는 접착제 조성물 용액을 기재 상에 부여함으로써, 기재 상에 접착제 조성물 용액층을 형성하고, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거함으로써 접착제 조성물층을 얻는다. 이어서, 접착제 조성물층에 가교 처리(예를 들면 가열 처리)를 실시함으로써 접착제 조성물층의 폴리에스테르 수지를 가교제로 가교시켜, 가교 구조를 갖는 접착제층을 형성한다. 이렇게 하여, 기재 상에 접착제층이 형성되어, 기재와 접착제층을 갖는 적층체가 얻어진다. 기재로서, 예를 들면 박리 라이너 등의, 박리 처리된 주면을 갖는 기재를 사용해도 좋다. 상기 방법으로 박리 라이너 상에 형성한 접착제층을 지지체(또는 다른 박리 라이너) 상에 이착(移着)(전사)해도 좋다. 접착제 조성물(접착제 조성물 용액)을 기재 상에 도포하는 방법으로서는, 공지된 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 롤 코트, 그라비어 코트, 리버스롤 코트, 롤브러시 코트, 에어나이프 코트, 스프레이 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트 등을 들 수 있다.
[도광층, 광학 시트, 기재층, 저굴절률층의 바람직한 구성의 예]
본 발명의 실시형태에 의한 조명 장치의 각 구성 요소의 바람직한 예를 설명한다.
도광층(80)은 가시광에 대한 투과율이 높은 공지된 재료로 형성될 수 있다. 도광층(80)은, 예를 들면 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등의 아크릴계 수지, 폴리카보네이트(PC)계 수지, 시클로올레핀계 수지, 유리(예를 들면, 석영 유리, 무알칼리 유리, 붕규산 유리)로 형성된다. 도광층(80)의 굴절률 nGP는, 예를 들면 1.40 이상 1.80 이하이다. 또한, 굴절률은, 특별히 언급하지 않는 한, 파장 550nm에 있어서 엘립소미터로 측정한 굴절률을 말한다. 도광층(80)의 두께는 용도에 따라서 적절히 설정될 수 있다. 도광층(80)의 두께는, 예를 들면 0.05mm 이상 50mm 이하이다.
제 1 광학 시트(10a)는, 예를 들면 일본 특허공표 2013-524288호 공보에 기재된 방법에 의해 제작할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 폴리메타크릴산메틸(PMMA) 필름의 표면을 래커(예를 들면 산요 카세이 코교사제 파인 큐어 RM-64: 아크릴레이트계의 광경화성 수지)로 코팅하고, 상기 래커를 포함하는 필름 표면 상에 광학 패턴을 엠보스 가공하고, 그 후 래커를 경화(예를 들면, 자외선 조사 조건: D 밸브, 1000mJ/㎠, 320mW/㎠)시킴으로써 제 1 광학 시트(10a)를 제작할 수 있다.
제 2 광학 시트(30)의 재료로서는, 예를 들면 광투과성을 갖는 열가소성 수지를 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 예를 들면 폴리메타크릴산메틸(PMMA) 등의 (메타)아크릴계 수지, 또는 폴리카보네이트(PC)계 수지 등에 의해 형성된 필름을 들 수 있다. 제 2 광학 시트(30)는 목적에 따라서 임의의 적절한 재료를 채용할 수 있다.
기재층의 두께는, 예를 들면 1㎛ 이상 1000㎛ 이하이며, 10㎛ 이상 100㎛ 이하가 바람직하고, 20㎛ 이상 80㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 기재층의 굴절률은 1.40 이상 1.70 이하가 바람직하고, 1.43 이상 1.65 이하가 더욱 바람직하다.
저굴절률층의 굴절률 nL1은, 각각 독립적으로, 예를 들면 1.30 이하인 것이 바람직하고, 1.20 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.15 이하가 더욱 바람직하다. 저굴절률층은 고체인 것이 바람직하고, 굴절률은, 예를 들면 1.05 이상인 것이 바람직하다. 도광층(80)의 굴절률과 저굴절률층의 굴절률층의 차는, 바람직하게는 0.20 이상이며, 보다 바람직하게는 0.23 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.25 이상이다. 굴절률이 1.30 이하인 저굴절률층은, 예를 들면 다공질 재료를 사용해서 형성될 수 있다. 저굴절률층의 두께는, 각각 독립적으로, 예를 들면 0.3㎛ 이상 5㎛ 이하이다.
저굴절률층이 내부에 공극을 갖는 다공질 재료인 경우, 그 공극률은 바람직하게는 35체적% 이상이며, 보다 바람직하게는 38체적% 이상이며, 특히 바람직하게는 40체적% 이상이다. 이러한 범위이면, 굴절률이 특히 낮은 저굴절률층을 형성할 수 있다. 저굴절률층의 공극률의 상한은, 예를 들면 90체적% 이하이며, 바람직하게는 75체적% 이하이다. 이러한 범위이면, 강도가 우수한 저굴절률층을 형성할 수 있다. 공극률은, 엘립소미터로 측정한 굴절률의 값으로부터, Lorentz-Lorenz's formula(로렌츠-로렌즈의 식)로부터 산출된 값이다.
저굴절률층에 대해서는, 예를 들면 국제공개 제2019/146628호에 개시된 공극을 갖는 저굴절률층을 사용할 수 있다. 국제공개 제2019/146628호의 개시 내용 전부를 참조에 의해 본원 명세서에 원용한다. 구체적으로는, 공극을 갖는 저굴절률층은, 실리카 입자, 미세구멍을 갖는 실리카 입자, 실리카 중공 나노 입자 등의 대략 구상 입자, 셀룰로오스 나노파이버, 알루미나 나노파이버, 실리카 나노파이버 등의 섬유상 입자, 벤토나이트로 구성되는 나노클레이 등의 평판상 입자 등을 포함한다. 하나의 실시형태에 있어서, 공극을 갖는 저굴절률층은, 입자(예를 들면 미세구멍 입자)끼리가 직접적으로 화학적으로 결합해서 구성되는 다공체이다. 또한, 공극을 갖는 저굴절률층을 구성하는 입자끼리는, 그 적어도 일부가, 소량(예를 들면, 입자의 질량 이하)의 바인더 성분을 개재해서 결합하고 있어도 좋다. 저굴절률층의 공극률 및 굴절률은, 상기 저굴절률층을 구성하는 입자의 입경, 입경 분포 등에 의해 조정할 수 있다.
공극을 갖는 저굴절률층을 얻는 방법으로서는, 예를 들면 일본 특허공개 2010-189212호 공보, 일본 특허공개 2008-040171호 공보, 일본 특허공개 2006-011175호 공보, 국제공개 제2004/113966호, 및 그들의 참고 문헌에 기재된 방법을 들 수 있다. 일본 특허공개 2010-189212호 공보, 일본 특허공개 2008-040171호 공보, 일본 특허공개 2006-011175호 공보, 국제공개 제2004/113966호의 개시 내용 전부를 참조에 의해 본 명세서에 원용한다.
공극을 갖는 저굴절률층으로서, 실리카 다공체를 바람직하게 사용할 수 있다. 실리카 다공체는, 예를 들면 이하의 방법으로 제조된다. 규소 화합물; 가수분해성 실란류 및/또는 실세스퀴옥산, 및 그 부분 가수분해물 및 탈수 축합물 중 적어도 어느 1개를 가수분해 및 중축합시키는 방법, 다공질 입자 및/또는 중공 미립자를 사용하는 방법, 및 스프링 백 현상을 이용해서 에어로겔층을 생성하는 방법, 졸겔법에 의해 얻어진 겔상 규소 화합물을 분쇄하고, 얻어진 분쇄체인 미세구멍 입자끼리를 촉매 등으로 화학적으로 결합시킨 분쇄 겔을 사용하는 방법 등을 들 수 있다. 단, 저굴절률층은, 실리카 다공체에 한정되지 않고, 제조 방법도 예시한 제조 방법에 한정되지 않고, 어떤 제조 방법에 의해 제조해도 좋다. 단, 다공질층은 실리카 다공체에 한정되지 않고, 제조 방법도 예시한 제조 방법에 한정되지 않고, 어떤 제조 방법에 의해 제조해도 좋다. 또한, 실세스퀴옥산은 (RSiO1.5, R은 탄화수소기)를 기본 구성 단위로 하는 규소 화합물이며, SiO2를 기본 구성 단위로 하는 실리카와는 엄밀하게는 상이하지만, 실록산 결합으로 가교된 네트워크 구조를 갖는 점에서 실리카와 공통되므로, 여기서는 실세스퀴옥산을 기본 구성 단위로서 포함하는 다공체도 실리카 다공체 또는 실리카계 다공체라고 한다.
실리카 다공체는, 서로 결합한 겔상 규소 화합물의 미세구멍 입자로 구성될 수 있다. 겔상 규소 화합물의 미세구멍 입자로서는, 겔상 규소 화합물의 분쇄체를 들 수 있다. 실리카 다공체는, 예를 들면 겔상 규소 화합물의 분쇄체를 포함하는 도포액을 기재에 도포해서 형성될 수 있다. 겔상 규소 화합물의 분쇄체는, 예를 들면 촉매의 작용, 광조사, 가열 등에 의해 화학적으로 결합(예를 들면, 실록산 결합)할 수 있다.
실시예
[실시예 1]
(1) 폴리에스테르 수지 A의 조제
4구 세퍼러블 플라스크에 교반기, 온도계, 질소 도입관, 및 트랩이 구비된 냉각관을 부착하고, 이 플라스크 내에, 카르복실산 성분으로서 테레프탈산 47g(분자량: 166) 및 이소프탈산 45g(분자량: 166)과, 알코올 성분으로서, 폴리테트라메틸렌글리콜 115g(분자량: 566), 에틸렌글리콜 4g(분자량: 62), 네오펜틸글리콜 16g(분자량: 104) 및 시클로헥산디메탄올 23g(분자량: 144)과, 촉매로서 테트라부틸티타네이트 0.1g을 투입하고, 플라스크 내를 질소 가스로 채운 상태에서 교반하면서, 240℃까지 승온하고, 240℃에서 4시간 유지했다.
그 후, 질소 도입관 및 트랩이 구비된 냉각관을 분리하고, 진공 펌프로 교체하고, 감압 분위기(0.002MPa)에서 교반하면서, 240℃까지 승온하고, 240℃로 유지했다. 약 6시간 반응을 계속하여, 폴리에스테르 수지 A를 얻었다. 폴리에스테르 수지 A는, 상기 모노머를 용매를 사용하지 않고 중합시켜서 얻었다. GPC로 측정한 폴리에스테르 수지 A의 질량 평균 분자량(Mw)은 59,200이었다. 조제한 폴리에스테르 수지 A를 아세트산에틸에 용해하면서 플라스크로부터 인출하여, 고형분 농도가 50질량%가 되는 폴리에스테르 수지 A 용액을 조제했다.
(2) 접착제 조성물 용액의 조제
상기에서 조제한 폴리에스테르 수지 A 용액의 고형분 100질량부에 대하여, 가교 촉매로서 지르코늄테트라아세틸아세토네이트(상품명 「오르가틱스 ZC-162」, 마츠모토 파인 케미칼 가부시키가이샤제. 「오르가틱스」는 등록상표. 이하, 「ZC-162」라고 부르는 경우가 있다.)를 0.07질량부, 가교제로서 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(상품명 「코로네이트 HX」, 토소 가부시키가이샤제.「코로네이트」는 등록상표. 이하, 「코로네이트 HX」라고 부르는 경우가 있다.)를 12질량부, 촉매 반응 억제제로서 아세틸아세톤을 20질량부 배합하고, 고형분 농도가 20질량%가 되도록 아세트산에틸을 추가로 첨가하여, 접착제 조성물 용액(「폴리에스테르 접착제 조성물 용액 A」라고 하는 경우가 있다.)을 조제했다.
(3) 접착제 시트의 제작
접착제 조성물 용액을, 실리콘 박리 처리한 기재(제 1 세퍼레이터)의 편면에 도포하여, 접착제 조성물 용액층을 형성했다. 제 1 세퍼레이터로서, 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(상품명 「MRF38」, 미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제)을 사용했다. 접착제 조성물 용액층의 두께는, 하기의 40℃에서 3일간 처리하는 공정 후의 접착제층의 두께가 10㎛가 되도록 도포했다. 접착제 조성물 용액층을 150℃에서 1분간 건조시킴으로써, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하여, 접착제 조성물층을 얻었다. 이어서, 실리콘 박리 처리한 다른 기재(제 2 세퍼레이터)의 박리 처리면에 접착제 조성물층을 접합하고, 40℃에서 3일간 방치했다. 제 2 세퍼레이터로서, 두께 75㎛의 2축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제, 상품명: 다이아포일 T302, 이하 「T302」라고 하는 경우가 있다.)을 사용했다. 접착제 조성물층을 40℃에서 3일간 처리함으로써, 접착제 조성물층의 폴리에스테르 수지 A를 가교제로 가교시켜, 접착제층을 형성했다. 이렇게 하여, 제 1 세퍼레이터(PET 필름)/접착제층/제 2 세퍼레이터(PET 필름)의 적층 구조를 갖는 접착제 시트(적층체)를 제작했다. 접착제 조성물 용액층을 150℃에서 1분간 처리하는 공정에 있어서도 폴리에스테르 수지 A의 가교 반응이 부분적으로 생길 수 있지만, 가교 반응의 대부분은 그 후의 40℃에서 3일간 가열 처리하는 공정에 있어서 생긴다.
(4) 요철 부형 필름 A의 제조
일본 특허공표 2013-524288호 공보에 기재된 방법에 따라서 요철 부형 필름 A를 제조했다. 구체적으로는, 폴리메타크릴산메틸(PMMA) 필름의 표면을 래커(산요 카세이 코교 가부시키가이샤제, 파인 큐어 RM-64)로 코팅하고, 상기 래커를 포함하는 필름 표면 상에 광학 패턴을 엠보스 가공하고, 그 후 래커를 경화시킴으로써 목적의 요철 부형 필름을 제조했다. 요철 부형 필름 A의 총두께는 130㎛이며, 헤이즈값은 0.8%였다.
제조된 요철 부형 필름 A의 일부에 대해서 요철면측으로부터 본 평면도를 요철 부형 필름(70)으로서 도 9a에 나타낸다. 또한, 도 9a의 요철 부형 필름(70)의 9B-9B' 단면도를 도 9b에 나타낸다. 길이 L이 86㎛, 폭 W가 9.2㎛, 깊이 H가 10㎛인, 단면이 삼각형인 복수의 오목부(74)가 X축 방향으로 폭 E(155㎛)의 간격을 두고 배치되었다. 또한 이러한 오목부(74)의 패턴이, Y축 방향으로 폭 D(100㎛)의 간격을 두고 배치되었다. 오목부(74)의 X축 방향의 피치 Px는 241㎛(Px=L+E), Y축 방향의 피치 Py는 109.2㎛(Py=W+D)였다. 요철 부형 필름 표면에 있어서의 오목부(74)의 밀도는 3612개/㎠였다. 도 9b에 있어서의 경사각도 θa는 49°, 경사각도 θb는 85°이며, 필름을 요철면측으로부터 평면으로 봤을 때의 오목부(74)의 점유 면적률은 4.05%였다.
(5) 광학 적층체의 제작
상기 (3)에서 얻어진 접착제 시트 및 상기 (4)의 요철 부형 필름 A를 사용하여, 이하와 같이 광학 적층체를 제작했다.
상기 (3)에서 얻어진 접착제 시트, 즉 제 1 세퍼레이터/접착제층/제 2 세퍼레이터의 적층 구조를 갖는 적층체에 있어서, 접착제층의 일방의 주면은 제 1 세퍼레이터의 박리 처리면과 접합되고, 접착제층의 타방의 주면은 제 2 세퍼레이터의 박리 처리면과 접합되어 있다. 먼저, 상기 (3)에서 얻어진 접착제 시트로부터 제 1 세퍼레이터를 박리하고, 노출시킨 접착제층의 표면(일방의 주면)을, 아크릴계 수지 필름(두께: 30㎛)에 구동 롤과 종동 롤을 포함하는 닙 롤러 사이에서 접합하여, 아크릴계 수지 필름/접착제층/제 2 세퍼레이터의 적층 구조를 갖는 적층체를 얻었다. 계속해서, 얻어진 적층체로부터 제 2 세퍼레이터를 박리하고, 노출시킨 접착제층의 표면(타방의 주면)을, (4)의 요철 부형 필름 A의 요철 구조를 갖는 표면에, 구동 롤과 종동 롤을 포함하는 닙 롤러 사이에서 접합하여, 아크릴계 수지 필름/접착제층/요철 부형 필름 A의 적층 구조를 갖는 광학 적층체를 얻었다. 접착제층 및 아크릴계 수지 필름의 적층체와, 요철 부형 필름 A의 접합에 있어서, 구동 롤과 종동 롤을 포함하는 닙 롤러 사이의 닙압을 표 1A~표 1C에 기재된 바와 같이 했다. 그 결과, 아크릴계 수지 필름/접착제층/요철 부형 필름 A의 적층 구조를 갖는 폭 300mm의 장척상의 광학 적층체를 얻었다.
광학 적층체에 있어서, 접착제층의, 제 2 세퍼레이터의 박리 처리면과 접합되어 있던 주면이, 요철 부형 필름 A의 요철 구조를 갖는 표면과 접합되어 있다. 제 2 세퍼레이터로서 사용한 T302의 박리 처리면의 산술평균 거칠기 Ra는 0.02㎛, 최대 높이 Rz는 0.15㎛였다.
[실시예 2]
접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 3]
닙 롤러 간의 닙압 및 제 2 세퍼레이터의 종류를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 2와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다. 실시예 3에서는, 제 2 세퍼레이터(PET 필름), 즉 접착제층의, 요철 부형 필름 A와 접합되게 되는 주면과 접합되는 세퍼레이터로서, 시판되는 두께 38㎛의 초고위상차 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제, 상품명: 다이아포일 MRF38CK)(이하, 「38CK」라고 하는 경우가 있다.)을 사용했다. 제 2 세퍼레이터로서 사용한 38CK의 박리 처리된 표면(접착제층과 접하는 표면)의 산술평균 거칠기 Ra는 0.01㎛, 최대 높이 Rz는 0.10㎛였다.
[실시예 4]
요철 부형 필름 A 대신에, 요철 부형 필름 B를 사용한 것 이외는 실시예 3과 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
요철 부형 필름 B는 필름을 요철면측으로부터 평면으로 봤을 때의 오목부의 점유 면적률은 66%였다. 요철 부형 필름 B는 요철 부형 필름 A보다 오목부의 점유 면적률이 높다. 사용된 요철 부형 필름 B의 일부에 대해서 요철면측으로부터 본 평면도를 도 14a에 요철 부형 필름(52)으로서 나타낸다. 또한, 도 14a 중의 14B-14B'를 따른 단면도를 도 14b에 나타낸다. 요철 부형 필름(52)을 요철면측으로부터 봤을 때에, 요철 부형 필름(52)의 면적 전체에서 차지하는, 오목부(54)의 면적의 비율은 66%였다. 요철 부형 필름(52)의 오목부(54)는 X 방향으로 연속적(X 방향으로 연장되는 홈)이며, Y 방향으로 소정의 간격을 두고 배치되어 있다. 오목부(54)의 단면 형상은, 깊이 H가 6.78㎛, 폭의 최대값이 6.5㎛, 경사각도 θa가 50°, 경사각도 θb가 85°인 삼각형이다. 오목부(54)의 폭은 주기 17㎛로 변화하고 있다. 요철 부형 필름(52)을 조명 장치에 사용할 때, 예를 들면 평면으로 볼 때에 있어서 오목부(54)가 광원측으로 볼록해지도록 배치된다.
[실시예 5]
접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 4와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 6]
이하의 접착제층을 사용한 것 이외는 실시예 2와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다. 접착제층은 이하와 같이 해서 제작했다.
(1) 아크릴계 중합체 용액의 조제
먼저, 아크릴계 중합체를 조제했다. 교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, n-부틸아크릴레이트(BA) 74.6질량부, 4-아크릴로일모르폴린(ACMO) 18.6질량부, 아크릴산(AA) 6.5질량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA) 0.3질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1질량부를 모노머의 합계가 50질량%가 되도록 아세트산에틸과 함께 플라스크에 주입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입해서 1시간 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 58℃ 부근으로 유지하고 8시간 중합 반응을 행하여, 아크릴계 중합체를 얻었다. 여기서, 중합 반응 개시로부터 2시간 경과한 후에, 아세트산에틸을 3시간에 걸쳐, 고형분이 35질량%가 되도록 적하했다. 즉, 아크릴계 중합체는, 고형분이 35질량%인 아크릴계 중합체 용액으로서 얻었다.
(2) 접착제 조성물 용액의 조제
계속해서, 얻어진 아크릴계 중합체 용액에, 중합체 100질량부에 대하여, 자외선 경화형 우레탄아크릴레이트 수지 A(질량 평균분자량 Mw: 5,500)를 고형분으로 10질량부, 광중합 개시제로서 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤(상품명 「Omnirad2959」, IGM 재팬 고도가이샤제)을 1.0질량부, 가교제로서 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산(상품명 「TETRAD-C」, 미츠비시 가스 카가쿠 가부시키가이샤제) 0.6질량부를 배합해서 접착제 조성물 용액(「아크릴계 접착제 조성물 용액 A」라고 하는 경우가 있다.)을 조제했다.
(3) 접착제 시트의 제작
실리콘 박리 처리한 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(상품명 「MRF38」, 미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제)의 편면에, 아크릴계 접착제 조성물 용액 A를 도포해서 접착제 조성물 용액층을 형성했다. 이때, 접착제 조성물 용액층의 두께는, 건조 후의 두께(즉 접착제 조성물층의 두께)가 5㎛가 되도록 도포했다. 접착제 조성물 용액층을 150℃에서 3분간 건조시킴으로써, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거함과 아울러 아크릴계 중합체를 가교제로 가교시켜, 아크릴계 중합체와 가교제로 형성되는 가교 구조를 갖는 접착제층을 얻었다. 여기서는, 접착제 조성물 용액의 자외선 경화성 수지를 경화시키지 않고 접착제층을 얻었다. 얻어진 접착제층은, 자외선 경화성 수지를 경화시킴으로써 형성되는 가교 구조를 갖지 않는다. 이어서, 실리콘 박리 처리한 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(상품명 「MRE38」, 미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제)의 박리 처리면에 접착제 조성물층을 접합하여, PET 필름/접착제층/PET 필름의 적층 구조를 갖는 접착제 시트를 제작했다.
상기 (3)에서 얻어진 접착제 시트를 사용하여, 실시예 2와 마찬가지로 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 7]
접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 6과 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 8]
닙 롤러 간의 닙압을 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 7과 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 9]
닙 롤러 간의 닙압을 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 6과 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 10]
접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 9와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 11]
요철 부형 필름 A 대신에, 요철 부형 필름 B를 사용한 것 이외는 실시예 9와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 12]
접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 11과 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 13]
(1) 아크릴계 중합체 용액의 조제
먼저, 아크릴계 중합체를 조제했다. 교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, n-부틸아크릴레이트(BA) 90.7질량부, 4-아크릴로일모르폴린(ACMO) 6.3질량부, 아크릴산(AA) 2.7질량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA) 0.3질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1질량부를 모노머의 합계가 50질량%가 되도록 아세트산에틸과 함께 플라스크에 주입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입해서 1시간 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 58℃ 부근으로 유지하고 8시간 중합 반응을 행하여, 아크릴계 중합체를 얻었다. 여기서, 중합 반응 개시로부터 2시간 경과한 후에, 아세트산에틸을 3시간에 걸쳐, 고형분이 35질량%가 되도록 적하했다. 즉, 아크릴계 중합체는, 고형분이 35질량%인 아크릴계 중합체 용액으로서 얻었다.
(2) 접착제 조성물 용액의 조제
얻어진 아크릴계 중합체 용액에, 고형분(중합체) 100질량부에 대하여, 가교제로서 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산(상품명 「TETRAD-C」, 미츠비시 가스 카가쿠 가부시키가이샤제) 0.1질량부를 배합한 접착제 조성물 용액(「아크릴계 접착제 조성물 용액 B」라고 하는 경우가 있다.)을 조제했다.
(3) 접착제 시트의 제작
실리콘 박리 처리한 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(상품명 「MRF38」, 미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제)의 편면에, 아크릴계 접착제 조성물 용액 B를 도포해서 접착제 조성물 용액층을 형성했다. 이때, 접착제 조성물 용액층의 두께는, 건조 후의 두께(즉 접착제 조성물층의 두께)가 5㎛가 되도록 도포했다. 접착제 조성물 용액층을 150℃에서 3분간 건조시킴으로써, 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거함과 아울러 아크릴계 중합체를 가교제로 가교시켜, 아크릴계 중합체와 가교제로 형성되는 가교 구조를 갖는 접착제층을 얻었다. 이어서, 실리콘 박리 처리한 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(상품명 「MRE38」, 미츠비시 케미칼 가부시키가이샤제)의 박리 처리면에 접착제 조성물층을 접합하여, PET 필름/접착제층/PET 필름의 적층 구조를 갖는 접착제 시트를 제작했다.
(4) 요철 부형 필름 A의 제조
실시예 1과 마찬가지로 행했다.
(5) 광학 적층체의 제작
상기 (3)에서 얻어진 접착제 시트 및 (4)의 요철 부형 필름 A를 사용하여, 닙 롤러 간의 닙압을 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 14]
(1) 아크릴계 중합체 용액의 조제
실시예 13과 마찬가지로 행했다.
(2) 접착제 조성물 용액의 조제
얻어진 아크릴계 중합체 용액에, 고형분 100질량부에 대하여, 가교제로서 디벤조일퍼옥사이드(1분간 반감기: 130℃) 0.25질량부, 및 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메티롤프로판 부가물로 이루어지는 폴리이소시아네이트계 가교제(닛폰폴리우레탄 코교사제, 코로네이트 L) 0.15질량부, 및 실란 커플링제(3-글리시독시프로필트리메톡시실란; 신에츠 카가쿠 코교 가부시키가이샤제, 제품명「KBM-403」) 0.075질량부를 배합한 접착제 조성물 용액(「아크릴계 접착제 조성물 용액 C」라고 하는 경우가 있다.)을 조제했다.
(3) 접착제 시트의 제작
상기 (2)에서 얻어진 아크릴계 접착제 조성물 용액 C를 사용하고, 접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 13과 마찬가지로 행했다.
(4) 요철 부형 필름 A의 제조
실시예 13과 마찬가지로 행했다.
(5) 광학 적층체의 제작
실시예 13과 마찬가지로 행했다.
[비교예 1]
접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 14와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 15]
닙 롤러간의 닙압을 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 14와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 16]
접착제층의 두께를 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 15와 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[실시예 17]
접착제층의 두께 및 닙 롤러 간의 닙압을 표 1A~표 1C와 같이 변경하고, 요철 부형 필름 A 대신에 요철 부형 필름 B를 사용한 것 이외는 실시예 13과 마찬가지로 해서 광학 적층체를 제작했다.
[비교예 2]
(1) 아크릴계 중합체 용액의 조제
실시예 13과 마찬가지로 행했다.
(2) 접착제 조성물 용액의 조제
얻어진 아크릴계 중합체 용액에, 중합체 100질량부에 대하여, 가교제로서 트리메티롤프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물(토소 가부시키가이샤제, 상품명 코로네이트 L) 0.15질량부와 디벤조일퍼옥사이드(니혼 유시 가부시키가이샤제: 나이퍼 BMT40(SV)) 0.075질량부를 배합해서 접착제 조성물 용액(「아크릴계 접착제 조성물 용액 D」라고 하는 경우가 있다.)을 조제했다.
닙 롤러 간의 닙압을 표 1A~표 1C와 같이 변경한 것 이외는 실시예 13과 마찬가지로 광학 적층체를 제작했다.
[측정 방법]
각 특성의 측정 조건은 이하와 같다.
<기포의 면적률>
실시예 및 비교예에서 제조한 광학 적층체를 10cm×10cm로 잘라내고, 그 중 5개소를 현미경으로 관찰했다. 그때의 관찰 방법은, 시야각 3.5mm×3.5mm의 범위를 광학현미경으로 화상 취득하고, 기포 부분 및 비기포 부분이 되도록 2치화함으로써 기포의 면적률을 산출했다(기포의 면적률=기포 부분의 면적/시야 면적 전체). 광학현미경으로 검출 가능한 기포의 최소 사이즈는 1.7㎛(1픽셀의 사이즈(화소 분해능)가 1.7㎛×1.7㎛의 정방형)였다.
<요철 부형 필름의 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이>
제작한 광학 적층체의 단면을 잘라내고, 임의의 하나의 오목부에 대해서, 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이를 SEM으로 측정했다. 구체적으로는, 먼저 각 실시예 및 비교예에서 제작된 광학 적층체로부터 5mm×5mm의 사이즈로 잘라냈다. 그 후, 잘라낸 시험편을 냉각 상태로 하고, FIB 가공(FEI제 Helios G4 UX DualBeam System)에 의해 단면을 조제하고, 단면 SEM상의 관찰을 행했다.
<접착제층의 표면의 거칠기 Ra, Rz>
실시예 및 비교예의 각각에서 얻어진 접착제 시트로부터 편측의 세퍼레이터(PET 필름)를 박리하고, 노출된 접착제층의 표면의 거칠기를 비접촉식 형상 측정기(ZYGO제, NewView7300)로 측정했다. 측정 방법은 JIS B0601-2001에 기재된 방법에 따르고, 접착제층의 표면의 산술평균 거칠기 Ra 및 최대 높이 Rz를 측정했다. 표 1A~표 1C 중의 「-」는 측정하지 않은 것을 나타낸다.
<닙압, 평탄부에 가해지는 압력>
롤 간의 닙압의 측정에는, 롤(폭 250mm, 직경 200mm)의 닙되는 폭 전역에 감압지(후지 필름 가부시키가이샤제, 프레스케일 3LW)를 부착하여, 압력(Mpa)을 측정했다. 표 1A~표 1C에는 닙되는 폭 전역의 평균값을 「닙압」으로서 기재하고 있다. 또한, 여기서 사용한 롤에서는, 도 6에 모식적으로 나타낸 TD 방향에 있어서의 압력의 불균일은 실질적으로 생기지 않았다. 도 6에 모식적으로 나타낸 TD 방향에 있어서의 압력의 불균일은, 롤의 폭(TD 방향에 있어서의 길이)의, 롤의 직경에 대한 비율이 크면 생기기 쉬운 경향이 있다.
평탄부에 가해지는 압력(즉, 오목부 이외의 부분에 가해지는 압력)은, 상기와 같이 측정한 롤 간의 닙압의 값을, 요철 부형 필름의 표면 중 오목부에는 압력이 가해지지 않는다고 하고, 하기 식과 같이, 오목부의 면적을 빼고 환산했다. 오목부의 면적 점유율은 요철 부형 필름의 설계상의 수치를 이용했다.
(평탄부에 가해지는 압력)=(닙압)/(1-오목부의 면적 점유율)
평가 결과를 표 1A, 표 1B, 표 1C 및 도 10에 나타낸다. 도 10에는, 실시예 및 비교예의 광학 적층체에 있어서의, 기포의 면적률(%)과 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이(㎛)의 평가 결과를 나타내는 그래프이다. 도 10에 있어서, 폴리에스테르 접착제 조성물 용액 A를 사용한 실시예 1~5는 사선으로 해칭한 원 또는 삼각으로, 아크릴계 접착제 조성물 용액 A를 사용한 실시예 6~12는 흑색의 원 또는 삼각으로, 아크릴계 접착제 조성물 용액 B 또는 C를 사용한 실시예 13~17 및 비교예 1은 백색의 원 또는 삼각으로 결과를 나타내고 있고, 요철 부형 필름 A를 사용한 것은 원으로, 요철 부형 필름 B를 사용한 것은 삼각으로 결과를 나타내고 있다. 또한, 도 10에는 비교예 2의 결과는 기재하고 있지 않다.
[표 1A]
[표 1B]
[표 1C]
실시예 1~실시예 17의 광학 적층체는, 평탄부와 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률이 3% 이하이며, 또한 복수의 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이가 2㎛ 이하이다. 이에 대하여, 비교예 1 및 2의 광학 적층체는, 평탄부와 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률이 3% 초과, 및/또는 복수의 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이가 2㎛ 초과이다. 실시예 14의 광학 적층체와 비교예 1의 광학 적층체는, 평탄부 상의 접착제층의 두께만 상이하게 해서 제작했지만, 평탄부와 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률이, 실시예 14의 광학 적층체에서는 3% 이하로 억제되어 있는 것에 대해, 비교예 1의 광학 적층체에서는 3% 초과이다. 이들 결과로부터, 평탄부 상의 접착제층의 두께는 예를 들면 2㎛ 이상인 것이 바람직하다. 단, 평탄부와 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률은, 평탄부 상의 접착제층의 두께뿐만 아니라, 접착제층과 광학 시트를 접합할 때에 접착제층 및 광학 시트에 가해지는 압력, 접착제층을 제작할 때에 사용되는 세퍼레이터의 표면의 표면 거칠기(구체적으로는, 광학 시트의 요철 구조를 갖는 표면과 접합되는 접착제층의 표면과 접합되는 세퍼레이터의 표면의 표면 거칠기), 접착제층의 겔분율 등에서도 기인해서 바뀔 수 있다. 요철 구조의 복수의 오목부 내에의 접착제층의 침입의 정도(오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이)도 상기 접착제층의 제작 조건이나 접착제층의 물성에 따라 바뀔 수 있다. 예를 들면, 동일한 접착제 조성물 용액을 사용해도 접착제층의 두께(평탄부 상의 접착제층의 두께)가 상이하면, 접착제층의 가교 밀도가 상이할 수 있으므로, 복수의 오목부 내에의 접착제층의 침입의 정도가 상이할 수 있다. 따라서, 상술한 실시예에 한정되지 않고, 접착제층의 제작 조건이나 접착제층의 물성을 적절히 조정함으로써, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체가 얻어질 수 있다.
아크릴계 접착제 조성물 용액 A를 사용한 실시예 6~12에서는, 상술한 바와 같이 아크릴계 접착제 조성물 용액 A에 포함되는 자외선 경화성 수지를 경화시키지 않고 접착제층을 제작했다. 이것에 한정되지 않고, 접착제층은, 자외선 경화성 수지의 경화물을 포함하고 있어도 좋다. 즉, 자외선 경화성 수지를 포함하는 아크릴계 접착제 조성물 용액을 사용하여, 자외선 경화성 수지를 경화시킨 접착제층을 사용해도 좋다. 자외선 경화성 수지를 경화시키는지 여부에 따라 얻어진 접착제층의 표면 거칠기는 크게 변화하지 않고, 광학 적층체의 기포의 면적률도 크게 변화하지 않는다.
<라미네이트 중 및 라미네이트 후의 접착제층의 오목부에의 침입 정도의 변화>
이하의 실시예 A 및 실시예 B의 광학 적층체를 사용해서 라미네이트 중 및 라미네이트 후의 접착제층의 오목부에의 침입 정도의 변화를 관찰했다.
실시예 A의 광학 적층체는, 실시예 1의 광학 적층체와 마찬가지로 하고, 단 접착제층의 두께가 300㎛가 되도록, 아크릴계 수지 필름/접착제층/요철 부형 필름 B의 적층 구조를 갖는 광학 적층체를 제작했다. 실시예 B의 광학 적층체는, 비교예 1과 마찬가지로 하고, 단 접착제층의 두께가 160㎛가 되도록, 아크릴계 수지 필름/접착제층/요철 부형 필름 B의 적층 구조를 갖는 광학 적층체를 제작했다. 여기서는, 오목부에의 접착제층의 침입(매립)이 관찰되기 쉽도록 접착제층을 두껍게 제작했다.
도 11a에 나타내는 바와 같이, 실시예 A의 광학 적층체(100S)의 일방의 주면측에 투명판(150A)을, 타방의 주면측에 투명판(150B)을 배치하여, 샘플(1000A)로 한다. 도 11b는, 샘플(1000A)의 단면을 모식적으로 나타내는 도면이다. 투명판(150B)은 광학 적층체(100S)보다 짧고, 투명판(150B)의 코너에 실시예 A의 광학 적층체(100S)가 닿도록 한다. 투명판(150B)의 코너에 실시예 A의 광학 적층체(100S)를 압박하고, 투명판(150A)을 개재해서 실시예 A의 광학 적층체(100S)에 손으로 힘을 가한다(도면 중 화살표). 힘을 가하고 있을 때 및 힘이 제거된 후의 광학 적층체(100S)(도면 중의 파선 타원 부분)를 관찰했다.
도 12에, 힘을 가하기 전의 샘플(1000A)(상단), 힘을 가하고 있을 때의 샘플(1000A)(중단), 및 힘이 제거된 후의 샘플(1000A)(하단)의 광학상을 나타낸다. 도 13에, 실시예 A의 광학 적층체 대신에 실시예 B의 광학 적층체를 사용해서 마찬가지의 평가를 행한 결과를 나타낸다. 도 13에, 힘을 가하기 전의 실시예 B의 광학 적층체를 갖는 샘플(상단), 힘을 가하고 있을 때의 실시예 B의 광학 적층체를 갖는 샘플(중단), 및 힘이 제거된 후의 실시예 B의 광학 적층체를 갖는 샘플(하단)의 광학상을 나타낸다.
도 12 및 도 13으로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 A의 광학 적층체 및 실시예 B의 광학 적층체 모두, 힘을 가하고 있을 때(도 12 및 도 13의 중단), 힘을 가하기 전(도 12 및 도 13의 상단)보다 투명도가 향상된 부분이 생겨 있다(도면 중 파선 타원 부분). 이것은, 힘을 가하기 전에는, 요철 부형 필름의 요철 표면과 접착제층에 의해 복수의 내부 공간이 형성되어 있는 데에 대해, 힘이 가해지면 요철 부형 필름의 오목부가 접착제층으로 메워져, 배광 제어 구조를 구성하는 복수의 내부 공간이 소실되기 때문이다. 가해지고 있었던 힘이 제거되면(도 12 및 도 13의 하단), 실시예 A의 광학 적층체에서는, 투명도가 원래로 돌아가는 데에 대해, 실시예 B의 광학 적층체에서는 투명도가 향상된 채 돌아가지 않았다. 광학 적층체를 광학현미경으로 관찰하면, 투명도가 향상된 부분에서는 복수의 내부 공간의 패턴이 관찰되지 않고, 내부 공간이 형성되어 있지 않은 것이 확인되었다. 즉, 실시예 A의 광학 적층체에서는, 힘이 가해짐으로써 오목부에 침입하여 있었던 접착제층이, 힘이 제거되면, 오목부에 침입하지 않은 상태(또는 오목부에의 침입이 억제된 상태)로 돌아가는 데에 대해, 실시예 B의 광학 적층체에서는, 힘이 가해짐으로써 오목부에 침입한 접착제층은, 힘이 제거되어도 오목부에 침입한 채였다고 생각된다. 단, 여기서는, 오목부에의 접착제층의 침입(매립)이 관찰되기 쉽도록 접착제층을 두껍게 제작해서 평가했으므로, 이 평가 결과는, 본 발명의 실시형태에 의한 광학 적층체가 갖는 접착제층을 한정하는 것이 아니다. 상술한 바와 같이, 실시예 B의 광학 적층체와 동일한 조성의 접착제층을 사용한 실시예 14~16의 광학 적층체에 있어서, 평탄부와 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률이 3% 이하이며, 또한 복수의 오목부 내에 존재하는 접착제층의 높이가 2㎛ 이하라는 결과가 얻어지고 있다.
본 발명의 광학 적층체는, 표시 장치나 조명 장치 등의 광학 장치에 널리 사용된다.
10a: 제 1 광학 시트
12s, 18s: 주면(표면)
20a: 접착제층
60: 광원
80: 도광층
100A, 102A, 102B: 광학 적층체
200A, 200B: 조명 장치

Claims (12)

  1. 요철 구조를 갖는 제 1 주면 및 상기 제 1 주면과 반대측의 제 2 주면을 갖는 제 1 광학 시트와,
    상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면측에 배치된 접착제층을 갖고,
    상기 요철 구조는 복수의 오목부와, 상기 복수의 오목부 중 인접하는 오목부 사이의 평탄부를 포함하고,
    상기 접착제층은 상기 평탄부와 접하고,
    상기 접착제층의 표면과 상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면이 상기 복수의 오목부의 각각 내에 내부 공간을 획정하고,
    상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 상기 제 1 광학 시트의 면적에서 차지하는, 상기 평탄부와 상기 접착제층의 계면에 존재하는 기포의 면적률이 3% 이하이며,
    상기 복수의 오목부 내에 존재하는 상기 접착제층의 높이가 2㎛ 이하인, 광학 적층체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 접착제층은 이하의 접착제층 A, 접착제층 B 및 접착제층 C 중 어느 하나인, 광학 적층체:
    회전식 레오미터를 사용한 크리프 시험에 있어서, 50℃에서 10000Pa의 응력을 1초간 인가했을 때의 크리프 변형률이 10% 이하이며, 또한 50℃에서 10000Pa의 응력을 30분간 인가했을 때의 크리프 변형률이 16% 이하이며,
    PMMA 필름에 대한 180°필 접착력이 10mN/20mm 이상인, 접착제층 A;
    중합체와 경화성 수지를 포함하는 접착제 조성물의 상기 경화성 수지를 경화시킴으로써 형성되어 있고,
    상기 접착제 조성물의 상기 경화성 수지를 경화시키기 전의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은 0.35MPa 이상 8.00MPa 이하이며,
    상기 접착제 조성물의 상기 경화성 수지를 경화시킨 후의 23℃에 있어서의 초기 인장탄성률은 1.00MPa 이상인, 접착제층 B;
    다가 카르복실산과 다가 알코올의 공중합체인 폴리에스테르 수지와, 가교제와, 유기 지르코늄 화합물, 유기 철 화합물 및 유기 알루미늄 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 가교 촉매를 포함하는 접착제 조성물을 가교시킴으로써 형성되어 있고,
    온도 85℃ 또한 상대습도 85%에서 300시간 유지한 후의 겔분율이 40% 이상이며,
    PMMA 필름에 대한 180°필 접착력이 100mN/20mm 이상인, 접착제층 C.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 평탄부 상의 상기 접착제층의 두께가 2.0㎛ 이상 15.0㎛ 이하인, 광학 적층체.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 광학 시트를 상기 제 1 주면의 법선 방향으로부터 평면으로 봤을 때, 상기 제 1 광학 시트의 면적에서 차지하는 상기 복수의 오목부의 면적의 비율이 0.3% 이상 80% 이하인, 광학 적층체.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 오목부의 단면이 삼각형, 사각형 또는 적어도 일부가 곡선을 갖는 형상인, 광학 적층체.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    헤이즈값이 5.0% 이하인, 광학 적층체.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 오목부의 각각은, 상기 접착제층 내를 전파하는 광의 일부를 내부 전반사에 의해 상기 제 1 광학 시트의 상기 제 2 주면측을 향하게 하는 제 1 경사면과, 상기 제 1 경사면과는 반대측의 제 2 경사면을 갖는, 광학 적층체.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 경사면의 경사각도 θa는 상기 제 2 경사면의 경사각도 θb보다 작은, 광학 적층체.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체를 구비하는, 광학 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법으로서,
    (메타)아크릴계 중합체 및/또는 폴리에스테르계 중합체와, 가교제와, 용매를 갖는 접착제 조성물 용액을, 박리 처리된 주면을 갖는 기재의 상기 박리 처리된 주면 상에 부여하여, 접착제 조성물 용액층을 형성하는 공정 a와,
    상기 접착제 조성물 용액층의 용매를 제거하여, 접착제 조성물층을 형성하는 공정 b와,
    상기 접착제 조성물층의 상기 기재와 반대측의 주면 상에, 박리 처리된 주면을 갖는 다른 기재를, 상기 박리 처리된 주면이 접착제 조성물층과 접하도록 형성하는 공정 c와,
    상기 접착제 조성물층의 상기 (메타)아크릴계 중합체 및/또는 폴리에스테르계 중합체를 상기 가교제로 가교시킴으로써 상기 접착제층을 형성하는 공정 d와,
    상기 제 1 광학 시트의 상기 제 1 주면과, 상기 접착제층의 상기 기재 또는 상기 다른 기재의 일방측의 주면을 접합하는 공정 e를 포함하고,
    상기 기재 또는 상기 다른 기재의 상기 일방의 상기 박리 처리된 주면의 산술평균 거칠기 Ra는 0.05㎛ 미만인, 제조 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 기재 또는 상기 다른 기재의 상기 일방의 상기 박리 처리된 주면의 최대 높이 Rz는 0.5㎛ 미만인, 제조 방법.
  12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 공정 e는 롤 투 롤법으로 행하여지는, 제조 방법.
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