KR20230094037A - 표시 장치 - Google Patents

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KR20230094037A
KR20230094037A KR1020210183180A KR20210183180A KR20230094037A KR 20230094037 A KR20230094037 A KR 20230094037A KR 1020210183180 A KR1020210183180 A KR 1020210183180A KR 20210183180 A KR20210183180 A KR 20210183180A KR 20230094037 A KR20230094037 A KR 20230094037A
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이은형
한영훈
김광종
이지훈
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 개시의 실시예들은, 표시 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 제1 캐핑층이 제1 광학 영역 및 일반 영역에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이함으로써, 제1 광학 영역이 더욱 높은 투과도를 가지는 표시 장치를 제공할 수 있다.

Description

표시 장치{DISPLAY DEVICE}
본 개시의 실시예들은 표시 장치에 관한 것이다.
기술 발전에 따라, 표시 장치는 화상 표시 기능 이외에도, 촬영 기능 및 각종 감지 기능 등을 제공할 수 있다. 이를 위해, 표시 장치는 카메라 및 감지 센서 등의 광학 전자 장치(수광 장치 또는 센서라고도 함)를 구비해야 한다.
광학 전자 장치는 표시 장치의 전면에서의 빛을 수광 해야 하기 때문에, 수광이 유리한 곳에 설치되어야 한다. 따라서, 종래, 표시 장치의 전면에 카메라(카메라 렌즈) 및 감지 센서가 노출되도록 설치될 수 밖에 없었다. 이로 인해, 표시 패널의 베젤이 넓어지거나 표시 패널의 표시 영역에 노치부 또는 물리적인 홀이 형성되어 이곳에 카메라 또는 감지 센서가 설치되고 있다.
따라서, 전면의 빛을 수광하여 정해진 기능을 수행하는 카메라, 감지 센서 등의 광학 전자 장치가 표시 장치에 구비됨에 따라, 표시 장치의 전면부에 베젤이 커지거나 표시 장치의 전면 디자인에 제약이 발생할 수 있다.
디스플레이 기술 분야에서, 표시 패널의 표시 영역의 면적을 줄이지 않고 카메라 및 감지 센서 등의 광학 전자 장치를 구비하기 위한 기술이 연구되고 있다. 이에, 본 명세서의 발명자들은 표시 패널의 표시 영역 아래에 광학 전자 장치가 구비되어 표시 장치의 전면에서 광학 전자 장치가 노출되지 않으면서도, 광학 전자 장치가 정상적으로 빛을 수신할 수 있는 광 투과 구조를 갖는 표시 장치를 발명하였다.
본 개시의 실시예들은 제1 광학 영역 및 제1 광학 영역의 외곽에 위치하는 일반 영역을 포함하는 표시 영역을 구비함으로써, 표시 영역이 투과율이 우수한 제1 광학 영역을 포함하는 표시 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 개시의 실시예들은 발광 소자 상에 위치하고, 제1 광학 영역 및 일반 영역에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이한 제1 캐핑층을 구비함으로써, 제1 광학 영역에 위치하는 발광 소자를 구성하는 전극의 두께를 얇게 하지 않아도 제1 광학 영역이 우수한 투과율을 가질 수 있는 표시 장치를 제공할 수 있다.
본 개시의 실시예들은 표시 영역, 발광 소자 및 발광 소자 상에 위치하는 제1 캐핑층을 포함하는 표시 장치를 제공할 수 있다.
표시 영역은 제1 광학 영역 및 제1 광학 영역의 외곽에 위치하는 일반 영역을 포함한다.
제1 캐핑층은 제1 광학 영역 및 일반 영역에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이한 표시 장치를 제공한다.
본 개시의 실시예들에 의하면, 제1 광학 영역 및 일반 영역에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이한 제1 캐핑층을 포함함으로써, 제1 광학 영역에 위치하는 발광 소자의 전극의 두께를 얇게 하지 않아도 제1 광학 영역이 우수한 광 투과율을 가질 수 있는 표시 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치는 제1 광학 영역에 위치하는 발광 소자의 전극의 두께를 얇게 하지 않아도 제1 광학 영역이 우수한 투과율을 가질 수 있으므로, 발광 소자의 전극의 두께가 얇아져 발광 소자가 낮은 효율을 갖거나 짧은 수명을 갖는 것을 예방할 수 있다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 평면도들이다.
도 2는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 시스템 구성도이다.
도 3은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치에서 서브 픽셀의 등가 회로이다.
도 4는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 표시 영역에 포함된 3가지 영역에서의 서브 픽셀들의 배치도이다.
도 5a는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치에서, 제1 광학 영역 및 일반 영역 각각에서의 신호 라인들의 배치도이다.
도 5b는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치에서, 제2 광학 영역 및 일반 영역 각각에서의 신호 라인들의 배치도이다.
도 6 및 도 7은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 표시 영역에 포함된 일반 영역, 제1 광학 영역 및 제2 광학 영역 각각의 단면도들이다.
도 8은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널의 외곽에서의 단면도이다.
도 9는 본 개시의 비교예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 10 및 도 11은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 12는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 제1 광학 영역의 단면도이다.
도 13은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 일반 영역의 단면도이다.
도 14는 본 개시의 비교예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 15는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 16은 본 개시의 실시예 및 비교예에 따른 표시 장치의 투과율을 비교한 것이다.
도 17은 본 개시의 실시예에 따른 표시 장치의 신뢰성을 비교한 것이다.
이하, 본 개시의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성 요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 개시를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 개시의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다. 본 명세서 상에서 언급된 "포함한다", "갖는다", "이루어진다" 등이 사용되는 경우 "~만"이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별한 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함할 수 있다.
또한, 본 개시의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다.
구성 요소들의 위치 관계에 대한 설명에 있어서, 둘 이상의 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속" 등이 된다고 기재된 경우, 둘 이상의 구성 요소가 직접적으로 "연결", "결합" 또는 "접속" 될 수 있지만, 둘 이상의 구성 요소와 다른 구성 요소가 더 "개재"되어 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 여기서, 다른 구성 요소는 서로 "연결", "결합" 또는 "접속" 되는 둘 이상의 구성 요소 중 하나 이상에 포함될 수도 있다.
구성 요소들이나, 동작 방법이나 제작 방법 등과 관련한 시간적 흐름 관계에 대한 설명에 있어서, 예를 들어, "~후에", "~에 이어서", "~다음에", "~전에" 등으로 시간적 선후 관계 또는 흐름적 선후 관계가 설명되는 경우, "바로" 또는 "직접"이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.
한편, 구성 요소에 대한 수치 또는 그 대응 정보(예: 레벨 등)가 언급된 경우, 별도의 명시적 기재가 없더라도, 수치 또는 그 대응 정보는 각종 요인(예: 공정상의 요인, 내부 또는 외부 충격, 노이즈 등)에 의해 발생할 수 있는 오차 범위를 포함하는 것으로 해석될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 개시의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)의 평면도들이다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c를 참조하면, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 영상을 표시하는 표시 패널(PNL) 및 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)를 포함할 수 있다.
표시 패널(PNL)은 영상이 표시되는 표시 영역(DA)과 영상이 표시되지 않는 비 표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다.
표시 영역(DA)에는 다수의 서브 픽셀이 배치되고, 다수의 서브 픽셀을 구동하기 위한 각종 신호 라인들이 배치될 수 있다.
비 표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 바깥 영역일 수 있다. 비 표시 영역(NDA)에는 각종 신호 라인이 배치될 수 있고 각종 구동 회로가 연결될 수 있다. 비 표시 영역(NDA)은 벤딩 되어 전면에서 보이지 않거나 케이스(미 도시)에 의해 가려질 수 있다. 비 표시 영역(NDA)은 베젤(Bezel) 또는 베젤 영역이라고도 한다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c를 참조하면, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)에서, 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)는 표시 패널(PNL)의 아래(시청 면의 반대 편)에 위치하는 전자 부품이다.
빛은 표시 패널(PNL)의 전면(시청 면)으로 들어가서 표시 패널(PNL)을 투과하여 표시 패널(PNL)의 아래(시청 면의 반대편)에 위치하는 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)로 전달될 수 있다.
하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)는 표시 패널(PNL)을 투과한 빛을 수신하여, 수신된 빛에 따라 정해진 기능을 수행하는 장치일 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)는 카메라(이미지 센서) 등의 촬영 장치, 근접 센서 및 조도 센서 등의 감지 센서 등 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c를 참조하면, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널(PNL)에서, 표시 영역(DA)은 일반 영역(NA)과 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)을 포함할 수 있다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c를 참조하면, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)와 중첩되는 영역일 수 있다.
도 1a의 예시에 따르면, 표시 영역(DA)은 일반 영역(NA) 및 제1 광학 영역(OA1)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 광학 영역(OA1)의 적어도 일부는 제1 광학 전자 장치(11)와 중첩될 수 있다.
도 1b의 예시에 따르면, 표시 영역(DA)은 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 포함할 수 있다. 도 1b의 예시에서, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 사이에는 일반 영역(NA)이 존재한다. 여기서, 제1 광학 영역(OA1)의 적어도 일부는 제1 광학 전자 장치(11)와 중첩될 수 있고, 제2 광학 영역(OA2) 의 적어도 일부는 제2 광학 전자 장치(12)와 중첩될 수 있다.
도 1c의 예시에 따르면, 표시 영역(DA)은 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 포함할 수 있다. 도 1c의 예시에서, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 사이에는 일반 영역(NA)이 존재하지 않는다. 즉, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)은 서로 접하고 있다. 여기서, 제1 광학 영역(OA1)의 적어도 일부는 제1 광학 전자 장치(11)와 중첩될 수 있고, 제2 광학 영역(OA2)의 적어도 일부는 제2 광학 전자 장치(12)와 중첩될 수 있다.
하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 영상 표시 구조 및 광 투과 구조가 모두 형성되어 있어야 한다. 즉, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 표시 영역(DA)의 일부 영역이므로, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)에는 영상 표시를 위한 서브 픽셀들이 배치되어야 한다. 그리고, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)에는 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)로 빛을 투과해주기 위한 광 투과 구조가 형성되어야 한다.
하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)는 광 수신이 필요한 장치이지만, 표시 패널(PNL)의 뒤(아래, 시청 면의 반대편)에 위치하여, 표시 패널(PNL)을 투과한 빛을 수신하게 된다.
하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)는 표시 패널(PNL)의 전면(시청 면)에 노출되지 않는다. 따라서, 사용자가 표시 장치(100)의 전면을 볼 때, 광학 전자 장치(11, 12)가 사용자에게 보이지 않는다.
예를 들어, 제1 광학 전자 장치(11)는 카메라일 수 있고, 제2 광학 전자 장치(12)는 근접 센서, 조도 센서 등의 감지 센서일 수 있다. 예를 들어, 감지 센서는 적외선을 감지하는 적외선 센서일 수 있다.
이와 반대로, 제1 광학 전자 장치(11)가 감지 센서이고, 제2 광학 전자 장치(12)가 카메라일 수 있다.
아래에서는, 설명의 편의를 위하여, 제1 광학 전자 장치(11)가 카메라이고, 제2 광학 전자 장치(12)가 감지 센서인 것으로 예를 든다. 여기서, 카메라는 카메라 렌즈 또는 이미지 센서일 수 있다.
제1 광학 전자 장치(11)가 카메라인 경우, 이 카메라는 표시 패널(PNL)의 뒤(아래)에 위치하지만, 표시 패널(PNL)의 전면 방향을 촬영하는 전면 카메라(Front camera)일 수 있다. 따라서, 사용자는 표시 패널(PNL)의 시청 면을 보면서, 시청 면에 보이지 않는 카메라를 통해 촬영을 할 수 있다.
표시 영역(DA)에 포함된 일반 영역(NA) 및 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 영상 표시가 가능한 영역들이지만, 일반 영역(NA)은 광 투과 구조가 형성될 필요가 없는 영역이고, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 광 투과 구조가 형성되어야 하는 영역이다.
따라서, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 일정 수준 이상의 투과율을 가져야 하고, 일반 영역(NA)은 광 투과성을 가지지 않거나 일정 수준 미만의 낮은 투과율을 가질 수 있다.
예를 들어, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)과 일반 영역(NA)은, 해상도, 서브픽셀 배치 구조, 단위 면적당 서브픽셀 개수, 전극 구조, 라인 구조, 전극 배치 구조, 또는 라인 배치 구조 등이 서로 다를 수 있다.
예를 들어, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)에서의 단위 면적당 서브 픽셀 개수는 일반 영역(NA)에서의 단위 면적당 서브 픽셀 개수보다 작을 수 있다. 즉, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)의 해상도는 일반 영역(NA)의 해상도보다 낮을 수 있다. 여기서, 단위 면적당 서브 픽셀 개수는 해상도를 측정하는 단위이고, 1 인치(inch) 내 픽셀 개수를 의미하는 PPI (Pixels Per Inch)라고도 할 수 있다.
예를 들어, 제1 광학 영역(OA1) 내 단위 면적당 서브 픽셀 개수는 일반 영역(NA) 내 단위 면적당 서브 픽셀 개수보다 작을 수 있다. 제2 광학 영역(OA2) 내 단위 면적당 서브 픽셀 개수는 제1 광학 영역(OA1) 내 단위 면적당 서브 픽셀 개수 이상일 수 있다.
제1 광학 영역(OA1)은 원형, 타원형, 사각형, 육각형, 또는 팔각형 등 다양한 모양을 가질 수 있다. 제2 광학 영역(OA2)은 원형, 타원형, 사각형, 육각형, 또는 팔각형 등 다양한 모양을 가질 수 있다. 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)은 동일한 모양을 가질 수도 있고 다른 모양을 가질 수 있다.
도 1c를 참조하면, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)이 접해 있는 경우, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 포함하는 전체 광학 영역 또한 원형, 타원형, 사각형, 육각형, 또는 팔각형 등 다양한 모양을 가질 수 있다.
아래에서는, 설명의 편의를 위하여, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 각각은 원형인 것을 예로 든다.
본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)에서, 외부로 노출되지 않고 표시 패널(100)의 하부에 숨겨져 있는 제1 광학 전자 장치(11)가 카메라인 경우, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 UDC(Under Display Camera) 기술이 적용된 디스플레이라고 할 수 있다.
이에 따르면, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)의 경우, 표시 패널(PNL)에 카메라 노출을 위한 노치(Notch) 또는 카메라 홀이 형성되지 않아도 되기 때문에, 표시 영역(DA)의 면적 감소가 발생하지 않는다.
이에 따라, 표시 패널(PNL)에 카메라 노출을 위한 노치(Notch) 또는 카메라 홀이 형성되지 않아도 되기 때문에, 베젤 영역의 크기가 줄어들 수 있고, 디자인 제약 사항이 없어져 디자인 설계의 자유도가 높아질 수 있다.
본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)에, 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)가 표시 패널(PNL)의 뒤에 숨겨져 위치함에도 불구하고, 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)는 정상적으로 빛을 수신하여 정해진 기능을 정상적으로 수행할 수 있어야 한다.
또한, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)에서, 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)가 표시 패널(PNL)의 뒤에 숨겨져 위치하고 표시 영역(DA)과 중첩되어 위치함에도 불구하고, 표시 영역(DA)에서 하나 이상의 광학 전자 장치(11, 12)와 중첩되는 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)에서 정상적인 영상 표시가 가능해야 한다.
도 2는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)의 시스템 구성도이다.
도 2를 참조하면, 표시 장치(100)는, 영상 표시를 위한 구성 요소들로서, 표시 패널(PNL) 및 디스플레이 구동 회로를 포함할 수 있다.
디스플레이 구동 회로는 표시 패널(PNL)을 구동하기 위한 회로로서, 데이터 구동 회로(DDC), 게이트 구동 회로(GDC), 및 디스플레이 컨트롤러(DCTR) 등을 포함할 수 있다.
표시 패널(PNL)은 영상이 표시되는 표시 영역(DA)과 영상이 표시되지 않는 비 표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 비 표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 외곽 영역일 수 있으며, 베젤(Bezel) 영역이라고도 할 수 있다. 비 표시 영역(NDA)의 전체 또는 일부는 표시 장치(100)의 앞면에서 보이는 영역이거나, 벤딩되어 표시 장치(100)의 앞면에서 보이지는 않는 영역일 수도 있다.
표시 패널(PNL)은 기판(SUB)과 기판(SUB) 상에 배치된 다수의 서브 픽셀들(SP)을 포함할 수 있다. 또한, 표시 패널(PNL)은 다수의 서브 픽셀들(SP)을 구동하기 위하여, 여러 가지 종류의 신호 라인들을 더 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 액정 표시 장치 등일 수도 있고, 표시 패널(PNL)이 자체적으로 발광하는 자체 발광 표시 장치일 수 있다. 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)가 자체 발광 표시 장치인 경우, 다수의 서브 픽셀들(SP) 각각은 발광 소자를 포함할 수 있다.
예를 들어, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 발광 소자가 유기 발광 다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)로 구현된 유기 발광 표시 장치일 수 있다. 다른 예를 들어, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 발광 소자가 무기물 기반의 발광 다이오드로 구현된 무기 발광 표시 장치일 수 있다. 또 다른 예를 들어, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 발광 소자가 스스로 빛을 내는 반도체 결정인 퀀텀닷(Quantum Dot)으로 구현된 퀀텀닷 디스플레이 장치일 수 있다.
표시 장치(100)의 타입에 따라 다수의 서브 픽셀들(SP) 각각의 구조가 달라질 수 있다. 예를 들어, 표시 장치(100)가 서브 픽셀(SP)이 빛을 스스로 내는 자체 발광 표시 장치인 경우, 각 서브 픽셀(SP)은 스스로 빛을 내는 발광 소자, 하나 이상의 트랜지스터 및 하나 이상의 캐패시터를 포함할 수 있다.
예를 들어, 여러 가지 종류의 신호 라인들은 데이터 신호들(데이터 전압들 또는 영상 신호들이라고도 함)을 전달하는 다수의 데이터 라인들(DL) 및 게이트 신호들(스캔 신호들이라고도 함)을 전달하는 다수의 게이트 라인들(GL) 등을 포함할 수 있다.
다수의 데이터 라인들(DL) 및 다수의 게이트 라인들(GL)은 서로 교차할 수 있다. 다수의 데이터 라인들(DL) 각각은 제1 방향으로 연장되면서 배치될 수 있다. 다수의 게이트 라인들(GL) 각각은 제2 방향으로 연장되면서 배치될 수 있다.
여기서, 제1 방향은 열(Column) 방향이고 제2 방향은 행(Row) 방향일 수 있다. 또는 제1 방향은 행 방향이고 제2 방향은 열 방향일 수 있다.
데이터 구동 회로(DDC)는 다수의 데이터 라인들(DL)을 구동하기 위한 회로로서, 다수의 데이터 라인들(DL)로 데이터 신호들을 출력할 수 있다. 게이트 구동 회로(GDC)는 다수의 게이트 라인들(GL)을 구동하기 위한 회로로서, 다수의 게이트 라인들(GL)로 게이트 신호들을 출력할 수 있다.
디스플레이 컨트롤러(DCTR)는 데이터 구동 회로(DDC) 및 게이트 구동 회로(GDC)를 제어하기 위한 장치로서, 다수의 데이터 라인들(DL)에 대한 구동 타이밍과 다수의 게이트 라인들(GL)에 대한 구동 타이밍을 제어할 수 있다.
디스플레이 컨트롤러(DCTR)는 데이터 구동 회로(DDC)를 제어하기 위하여 데이터 구동 제어 신호(DCS)를 데이터 구동 회로(DDC)에 공급하고, 게이트 구동 회로(GDC)를 제어하기 위하여 게이트 구동 제어 신호(GCS)를 게이트 구동 회로(GDC)에 공급할 수 있다.
디스플레이 컨트롤러(DCTR)는 호스트 시스템(HSYS)으로부터 입력 영상 데이터를 수신하여, 입력 영상 데이터를 토대로 영상 데이터(Data)를 데이터 구동 회로(DDC)로 공급할 수 있다.
데이터 구동 회로(DDC)는 디스플레이 컨트롤러(DCTR)의 구동 타이밍 제어에 따라 다수의 데이터 라인들(DL)로 데이터 신호들을 공급할 수 있다.
데이터 구동 회로(DDC)는 디스플레이 컨트롤러(DCTR)로부터 디지털 형태의 영상 데이터들(Data)을 수신하고, 수신된 영상 데이터들(Data)을 아날로그 형태의 데이터 신호들로 변환하여 다수의 데이터 라인들(DL)로 출력할 수 있다.
게이트 구동 회로(GDC)는 디스플레이 컨트롤러(DCTR)의 타이밍 제어에 따라 다수의 게이트 라인들(GL)로 게이트 신호들을 공급할 수 있다. 게이트 구동 회로(GDC)는 각종 게이트 구동 제어 신호(GCS)와 함께 턴-온 레벨 전압에 해당하는 제1 게이트 전압 및 턴-오프 레벨 전압에 해당하는 제2 게이트 전압을 공급받아, 게이트 신호들을 생성하고, 생성된 게이트 신호들을 다수의 게이트 라인들(GL)로 공급할 수 있다.
예를 들어, 데이터 구동 회로(DDC)는 테이프 오토메티드 본딩(TAB: Tape Automated Bonding) 방식으로 표시 패널(PNL)과 연결되거나, 칩 온 글래스(COG: Chip On Glass) 또는 칩 온 패널(COP: Chip On Panel) 방식으로 표시 패널(PNL)의 본딩 패드에 연결되거나, 칩 온 필름(COF: Chip On Film) 방식으로 구현되어 표시 패널(PNL)과 연결될 수 있다.
게이트 구동 회로(GDC)는 테이프 오토메티드 본딩(TAB) 방식으로 표시 패널(PNL)과 연결되거나, 칩 온 글래스(COG) 또는 칩 온 패널(COP) 방식으로 표시 패널(PNL)의 본딩 패드(Bonding Pad)에 연결되거나, 칩 온 필름(COF) 방식에 따라 표시 패널(PNL)과 연결될 수 있다. 또는, 게이트 구동 회로(GDC)는 게이트 인 패널(GIP: Gate In Panel) 타입으로 표시 패널(PNL)의 비 표시 영역(NDA)에 형성될 수 있다. 게이트 구동 회로(GDC)는 기판 상에 배치되거나 기판에 연결될 수 있다. 즉, 게이트 구동 회로(GDC)는 GIP 타입인 경우 기판의 비 표시 영역(NDA)에 배치될 수 있다. 게이트 구동 회로(GDC)는 칩 온 글래스(COG) 타입, 칩 온 필름(COF) 타입 등인 경우 기판에 연결될 수 있다.
한편, 데이터 구동 회로(DDC) 및 게이트 구동 회로(GDC) 중 적어도 하나의 구동 회로는 표시 패널(PNL)의 표시 영역(DA)에 배치될 수도 있다. 예를 들어, 데이터 구동 회로(DDC) 및 게이트 구동 회로(GDC) 중 적어도 하나의 구동 회로는 서브 픽셀들(SP)과 중첩되지 않게 배치될 수도 있고, 서브 픽셀들(SP)과 일부 또는 전체가 중첩되게 배치될 수도 있다.
데이터 구동 회로(DDC)는 표시 패널(PNL)의 일 측(예: 상측 또는 하측)에 연결될 수도 있다. 구동 방식, 패널 설계 방식 등에 따라, 데이터 구동 회로(DDC)는 표시 패널(PNL)의 양 측(예: 상측과 하측)에 모두 연결되거나, 표시 패널(PNL)의 4 측면 중 둘 이상의 측면에 연결될 수도 있다.
게이트 구동 회로(GDC)는 표시 패널(PNL)의 일 측(예: 좌측 또는 우측)에 연결될 수도 있다. 구동 방식, 패널 설계 방식 등에 따라, 게이트 구동 회로(GDC)는 표시 패널(PNL)의 양 측(예: 좌측과 우측)에 모두 연결되거나, 표시 패널(PNL)의 4 측면 중 둘 이상의 측면에 연결될 수도 있다.
디스플레이 컨트롤러(DCTR)는, 데이터 구동 회로(DDC)와 별도의 부품으로 구현될 수도 있고, 또는 데이터 구동 회로(DDC)와 함께 통합되어 집적 회로로 구현될 수 있다.
디스플레이 컨트롤러(DCTR)는 통상의 디스플레이 기술에서 이용되는 타이밍 컨트롤러(Timing Controller)이거나, 타이밍 컨트롤러를 포함하여 다른 제어 기능도 더 수행할 수 있는 제어 장치일 수 있으며, 또는 타이밍 컨트롤러와 다른 제어 장치일 수도 있으며, 또는 제어 장치 내 회로일 수도 있다. 디스플레이 컨트롤러(DCTR)는, IC(Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array), ASIC(Application Specific Integrated Circuit), 또는 프로세서(Processor) 등의 다양한 회로나 전자 부품으로 구현될 수 있다.
디스플레이 컨트롤러(DCTR)는 인쇄 회로 기판, 연성 인쇄 회로 등에 실장 되고, 인쇄 회로 기판, 연성 인쇄 회로 등을 통해 데이터 구동 회로(DDC) 및 게이트 구동 회로(GDC)와 전기적으로 연결될 수 있다.
디스플레이 컨트롤러(DCTR)는, 미리 정해진 하나 이상의 인터페이스에 따라 데이터 구동 회로(DDC)와 신호를 송수신할 수 있다. 여기서, 예를 들어, 인터페이스는 LVDS(Low Voltage Differential Signaling) 인터페이스, EPI 인터페이스, SP(Serial Peripheral Interface) 등을 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 영상 표시 기능뿐만 아니라 터치 센싱 기능을 더 제공하기 위하여, 터치 센서와, 터치 센서를 센싱하여 손가락 또는 펜 등의 터치 오브젝트에 의해 터치가 발생했는지를 검출하거나 터치 위치를 검출하는 터치 센싱 회로를 포함할 수 있다.
터치 센싱 회로는 터치 센서를 구동하고 센싱하여 터치 센싱 데이터를 생성하여 출력하는 터치 구동 회로(TDC)와, 터치 센싱 데이터를 이용하여 터치 발생을 감지하거나 터치 위치를 검출할 수 있는 터치 컨트롤러(TCTR) 등을 포함할 수 있다.
터치 센서는 다수의 터치 전극들을 포함할 수 있다. 터치 센서는 다수의 터치 전극들과 터치 구동 회로(TDC)를 전기적으로 연결해주기 위한 다수의 터치 라인을 더 포함할 수 있다.
터치 센서는 표시 패널(PNL)의 외부에 터치 패널 형태로 존재할 수도 있고 표시 패널(PNL)의 내부에 존재할 수도 있다. 터치 센서가 터치 패널 형태로 표시 패널(PNL)의 외부에 존재하는 경우, 터치 센서는 외장형이라고 한다. 터치 센서가 외장형인 경우, 터치 패널과 표시 패널(PNL)은, 별도로 제작되어, 조립 과정에서 결합될 수 있다. 외장형의 터치 패널은 터치 패널용 기판 및 터치 패널용 기판 상의 다수의 터치 전극들 등을 포함할 수 있다.
터치 센서는 표시 패널(PNL)의 내부에 존재하는 경우, 표시 패널(PNL)의 제작 공정 중에 디스플레이 구동과 관련된 신호 라인들 및 전극들 등과 함께 기판(SUB) 상에 터치 센서가 형성될 수 있다.
터치 구동 회로(TDC)는 다수의 터치 전극들 중 적어도 하나로 터치 구동 신호를 공급하고, 다수의 터치 전극들 중 적어도 하나를 센싱하여 터치 센싱 데이터를 생성할 수 있다.
터치 센싱 회로는 셀프-캐패시턴스(Self-Capacitance) 센싱 방식 또는 뮤추얼-캐패시턴스(Mutual-Capacitance) 센싱 방식으로 터치 센싱을 수행할 수 있다.
터치 센싱 회로가 셀프-캐패시턴스 센싱 방식으로 터치 센싱을 수행하는 경우, 터치 센싱 회로는 각 터치 전극과 터치 오브젝트(예: 손가락, 펜 등) 사이의 캐패시턴스를 토대로 터치 센싱을 수행할 수 있다.
셀프-캐패시턴스 센싱 방식에 따르면, 다수의 터치 전극들 각각은 구동 터치 전극의 역할도 하고 센싱 터치 전극의 역할도 할 수 있다. 터치 구동 회로(TDC)는 다수의 터치 전극들의 전체 또는 일부를 구동하고 다수의 터치 전극들의 전체 또는 일부를 센싱할 수 있다.
터치 센싱 회로가 뮤추얼-캐패시턴스 센싱 방식으로 터치 센싱을 수행하는 경우, 터치 센싱 회로는 터치 전극들 사이의 캐패시턴스를 토대로 터치 센싱을 수행할 수 있다.
뮤추얼-캐패시턴스 센싱 방식에 따르면, 다수의 터치 전극들은 구동 터치 전극들과 센싱 터치 전극들로 나뉜다. 터치 구동 회로(TDC)는 구동 터치 전극들을 구동하고 센싱 터치 전극들을 센싱할 수 있다.
터치 센싱 회로에 포함된 터치 구동 회로(TDC) 및 터치 컨트롤러(TCTR)는 별도의 장치로 구현될 수도 있고, 하나의 장치로 구현될 수도 있다. 또한, 터치 구동 회로(TDC)와 데이터 구동 회로(DDC)는 별도의 장치로 구현될 수도 있고, 하나의 장치로 구현될 수도 있다.
표시 장치(100)는 디스플레이 구동 회로 및/또는 터치 센싱 회로로 각종 전원을 공급하는 전원 공급 회로 등을 더 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)는 스마트 폰, 태블릿 등의 모바일 단말기이거나 다양한 크기의 모니터나 텔레비전(TV) 등일 수 있으며, 이에 제한되지 않고, 정보나 영상을 표출할 수 있는 다양한 타입, 다양한 크기의 디스플레이일 수 있다.
전술한 바와 같이, 표시 패널(PNL)에서 표시 영역(DA)은 일반 영역(NA) 및 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)을 포함할 수 있다.
일반 영역(NA) 및 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 영상 표시가 가능한 영역들이다. 하지만, 일반 영역(NA)은 광 투과 구조가 형성될 필요가 없는 영역이고, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)은 광 투과 구조가 형성되어야 하는 영역이다.
전술한 바와 같이, 표시 패널(PNL)에서 표시 영역(DA)은 일반 영역(NA)과 함께, 하나 이상의 광학 영역(OA1, OA2)을 포함할 수 있지만, 설명의 편의를 위하여, 표시 영역(DA)이 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 모두 포함하는 경우(도 1b, 도 1c)를 가정한다.
도 3은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널(PNL)에서 서브 픽셀(SP)의 등가 회로이다.
표시 패널(PNL)의 표시 영역(DA)에 포함된 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)에 배치된 서브 픽셀들(SP) 각각은, 발광 소자(ED)와, 발광 소자(ED)를 구동하기 위한 구동 트랜지스터(DRT)와, 구동 트랜지스터(DRT)의 제1 노드(N1)로 데이터 전압(VDATA)을 전달해주기 위한 스캔 트랜지스터(SCT)와, 한 프레임 동안 일정 전압을 유지해주기 위한 스토리지 캐패시터(Cst) 등을 포함할 수 있다.
구동 트랜지스터(DRT)는 데이터 전압이 인가될 수 있는 제1 노드(N1), 발광 소자(ED)와 전기적으로 연결되는 제2 노드(N2) 및 구동 전압 라인(DVL)으로부터 구동 전압(ELVDD)이 인가되는 제3 노드(N3)를 포함할 수 있다. 구동 트랜지스터(DRT)에서, 제1 노드(N1)는 게이트 노드이고, 제2 노드(N2)는 소스 노드 또는 드레인 노드일 수 있고, 제3 노드(N3)는 드레인 노드 또는 소스 노드일 수 있다.
발광 소자(ED)는 애노드 전극(AE), 발광층(EL) 및 캐소드 전극(CE)을 포함할 수 있다. 애노드 전극(AE)은 각 서브 픽셀(SP)에 배치되는 픽셀 전극일 수 있으며, 각 서브 픽셀(SP)의 구동 트랜지스터(DRT)의 제2 노드(N2)와 전기적으로 연결될 수 있다. 캐소드 전극(CE)은 다수의 서브 픽셀(SP)에 공통으로 배치되는 공통 전극일 수 있으며, 기저 전압(ELVSS)이 인가될 수 있다.
예를 들어, 애노드 전극(AE)은 픽셀 전극일 수 있고, 캐소드 전극(CE)은 공통 전극일 수 있다. 이와 반대로, 애노드 전극(AE)은 공통 전극일 수 있고, 캐소드 전극(CE)은 픽셀 전극일 수 있다. 아래에서는, 설명의 편의를 위하여, 애노드 전극(AE)은 픽셀 전극이고, 캐소드 전극(CE)은 공통 전극인 것으로 가정한다.
예를 들어, 발광 소자(ED)는 유기 발광 다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode), 무기 발광 다이오드, 또는 퀀텀닷 발광 소자 등일 수 있다. 이 경우, 발광 소자(ED)가 유기 발광 다이오드인 경우, 발광 소자(ED)에서 발광층(EL)은 유기물이 포함된 유기 발광층을 포함할 수 있다.
스캔 트랜지스터(SCT)는, 게이트 라인(GL)을 통해 인가되는 게이트 신호인 스캔 신호(SCAN)에 의해 온-오프가 제어되며, 구동 트랜지스터(DRT)의 제1 노드(N1)와 데이터 라인(DL) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다.
스토리지 캐패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DRT)의 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 전기적으로 연결될 수 있다.
각 서브 픽셀(SP)은 도 3에 도시된 바와 같이 2개의 트랜지스터(DRT, SCT)와 1개의 캐패시터(Cst)를 포함하는 2T(Transistor)1C(Capacitor) 구조를 가질 수 있으며, 경우에 따라서, 1개 이상의 트랜지스터를 더 포함하거나, 1개 이상의 캐패시터를 더 포함할 수도 있다.
스토리지 캐패시터(Cst)는, 구동 트랜지스터(DRT)의 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 존재할 수 있는 내부 캐패시터(Internal Capacitor)인 기생 캐패시터(예: Cgs, Cgd)가 아니라, 구동 트랜지스터(DRT)의 외부에 의도적으로 설계한 외부 캐패시터(External Capacitor)일 수 있다.
구동 트랜지스터(DRT) 및 스캔 트랜지스터(SCT) 각각은 n 타입 트랜지스터이거나 p 타입 트랜지스터일 수 있다.
각 서브 픽셀(SP) 내 회로 소자들(특히, 발광 소자(ED))은 외부의 수분이나 산소 등에 취약하기 때문에, 외부의 수분이나 산소가 회로 소자들(특히, 발광 소자(ED))로 침투되는 것을 방지하기 위한 봉지층(ENCAP)이 표시 패널(PNL)에 배치될 수 있다. 봉지층(ENCAP)은 발광 소자들(ED)을 덮는 형태로 배치될 수 있다.
한편, 제1 광학 영역(OA1)과 제2 광학 영역(OA2) 중 적어도 하나의 투과율을 높여주기 위한 하나의 방법으로서, 전술한 바와 같이 픽셀 밀집도 차등 설계 방식이 적용될 수 있다. 픽셀 밀집도 차등 설계 방식에 따르면, 제1 광학 영역(OA1)과 제2 광학 영역(OA2) 중 적어도 하나의 단위 면적 당 서브 픽셀 개수가 일반 영역(NA)의 단위 면적 당 서브 픽셀 개수보다 많도록, 표시 패널(PNL)이 설계될 수 있다.
하지만, 경우에 따라서는, 이와 다르게, 제1 광학 영역(OA1)과 제2 광학 영역(OA2) 중 적어도 하나의 투과율을 높여주기 위한 다른 방법으로서, 픽셀 크기 차등 설계 방식이 적용될 수 있다. 픽셀 크기 차등 설계 방식에 따르면, 제1 광학 영역(OA1)과 제2 광학 영역(OA2) 중 적어도 하나의 단위 면적 당 서브 픽셀 개수가 일반 영역(NA)의 단위 면적 당 서브 픽셀 개수와 동일 또는 유사하되, 제1 광학 영역(OA1)과 제2 광학 영역(OA2) 중 적어도 하나에 배치된 각 서브 픽셀(SP)의 크기(즉, 발광 영역 크기)가 일반 영역(NA)에 배치된 각 서브 픽셀(SP)의 크기(즉, 발광 영역 크기)보다 작아지도록, 표시 패널(110)이 설계될 수 있다.
이하에서는, 설명의 편의를 위하여, 제1 광학 영역(OA1)과 제2 광학 영역(OA2) 중 적어도 하나의 투과율을 높여주기 위한 2가지 방법(픽셀 밀집도 차등 설계 방식, 픽셀 크기 차등 설계 방식) 중 픽셀 밀집도 차등 설계 방식이 적용된 것을 가정하여 설명한다.
도 4는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널(PNL)의 표시 영역(DA)에 포함된 3가지 영역(NA, OA1, OA2)에서의 서브 픽셀들(SP)의 배치도이다.
도 4를 참조하면, 표시 영역(DA)에 포함된 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 각각에는 다수의 서브 픽셀들(SP)이 배치될 수 있다.
예를 들어, 다수의 서브 픽셀들(SP)은 적색 빛을 발광하는 적색 서브 픽셀(Red SP), 녹색 빛을 발광하는 녹색 서브 픽셀(Green SP) 및 청색 빛을 발광하는 청색 서브 픽셀(Blue SP)을 포함할 수 있다.
이에 따라, 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 각각은, 적색 서브 픽셀들(Red SP)의 발광 영역들(EA), 녹색 서브 픽셀들(Green SP)의 발광 영역들(EA) 및 청색 서브 픽셀들(Blue SP)의 발광 영역들(EA)을 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 일반 영역(NA)은 광 투과 구조를 포함하지 않고, 발광 영역들(EA)을 포함할 수 있다.
하지만, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)은 발광 영역들(EA)을 포함할 뿐만 아니라, 광 투과 구조도 포함하고 있어야 한다.
따라서, 제1 광학 영역(OA1)은 발광 영역들(EA)과 제1 투과 영역들(TA1)을 포함할 수 있고, 제2 광학 영역(OA2)은 발광 영역들(EA)과 제2 투과 영역들(TA2)을 포함할 수 있다.
발광 영역들(EA)과 투과 영역들(TA1, TA2)은 광 투과 가능 여부에 따라 구별될 수 있다. 즉, 발광 영역들(EA)은 광 투과가 불가능한 영역일 수 있고, 투과 영역들(TA1, TA2)은 광 투과가 가능한 영역일 수 있다.
또한, 발광 영역들(EA)과 투과 영역들(TA1, TA2)은 특정 메탈 층(CE)의 형성 유무에 따라 구별될 수 있다. 예를 들어, 발광 영역들(EA)에는 캐소드 전극(CE)이 형성되어 있고, 투과 영역들(TA1, TA2)에는 캐소드 전극(CE)이 형성되지 않을 수 있다. 발광 영역들(EA)에는 라이트 쉴드층(Light Shield Layer)이 형성되어 있고, 투과 영역들(TA1, TA2)에는 라이트 쉴드층이 형성되지 않을 수 있다.
제1 광학 영역(OA1)은 제1 투과 영역들(TA1)을 포함하고, 제2 광학 영역(OA2)은 제2 투과 영역들(TA2)을 포함하기 때문에, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 모두는 빛이 투과할 수 있는 영역들이다.
제1 광학 영역(OA1)의 투과율(투과 정도)과 제2 광학 영역(OA2)의 투과율(투과 정도)는 동일할 수 있다.
이 경우, 제1 광학 영역(OA1)의 제1 투과 영역(TA1)과 제2 광학 영역(OA2)의 제2 투과 영역(TA2)은 모양 또는 크기가 동일할 수 있다. 또는, 제1 광학 영역(OA1)의 제1 투과 영역(TA1)과 제2 광학 영역(OA2)의 제2 투과 영역(TA2)은 모양이나 크기가 다르더라도, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 비율과 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 비율이 동일할 수 있다.
이와 다르게, 제1 광학 영역(OA1)의 투과율(투과 정도)과 제2 광학 영역(OA2)의 투과율(투과 정도)는 서로 다를 수 있다.
이 경우, 제1 광학 영역(OA1)의 제1 투과 영역(TA1)과 제2 광학 영역(OA2)의 제2 투과 영역(TA2)은 모양 또는 크기가 다를 수 있다. 또는, 제1 광학 영역(OA1)의 제1 투과 영역(TA1)과 제2 광학 영역(OA2)의 제2 투과 영역(TA2)은 모양이나 크기가 동일하더라도, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 비율과 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 비율이 서로 다를 수 있다.
예를 들어, 제1 광학 영역(OA1)이 중첩되는 제1 광학 전자 장치(11)가 카메라이고, 제2 광학 영역(OA2)이 중첩되는 제2 광학 전자 장치(12)가 감지 센서인 경우, 카메라는 감지 센서보다 더 큰 광량을 필요로 할 수 있다.
따라서, 제1 광학 영역(OA1)의 투과율(투과 정도)은 제2 광학 영역(OA2)의 투과율(투과 정도)보다 높을 수 있다.
이 경우, 제1 광학 영역(OA1)의 제1 투과 영역(TA1)은 제2 광학 영역(OA2)의 제2 투과 영역(TA2)보다 더 큰 크기를 가질 수 있다. 또는, 제1 광학 영역(OA1)의 제1 투과 영역(TA1)과 제2 광학 영역(OA2)의 제2 투과 영역(TA2)은 크기가 동일하더라도, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 비율이 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 비율보다 클 수 있다.
아래에서는, 설명의 편의를 위하여, 제1 광학 영역(OA1)의 투과율(투과 정도)이 제2 광학 영역(OA2)의 투과율(투과 정도)보다 큰 경우를 예로 들어 설명한다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예들에서는, 투과 영역(TA1, TA2)은 투명 영역이라고도 할 수 있으며, 투과율은 투명도라고도 할 수 있다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 개시의 실시예들에서는, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)이 표시 패널(PNL)의 표시 영역(DA)의 상단에 위치하고, 좌우로 나란히 배치되는 경우를 가정한다.
도 4를 참조하면, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)이 배치되는 가로 표시 영역을 제1 가로 표시 영역(HA1)이라고 하고, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)이 배치되지 않는 가로 표시 영역을 제2 가로 표시 영역(HA2)이라고 한다.
도 4를 참조하면, 제1 가로 표시 영역(HA1)은 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 포함할 수 있다. 제2 가로 표시 영역(HA2)은 일반 영역(NA)만을 포함할 수 있다.
도 5a는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널(PNL)에서, 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA) 각각에서의 신호 라인들의 배치도이고, 도 5b는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널(PNL)에서, 제2 광학 영역(OA2) 및 일반 영역(NA) 각각에서의 신호 라인들의 배치도이다.
도 5a 및 도 5b에 도시된 제1 가로 표시 영역(HA1)은 표시 패널(PNL)에서의 제1 가로 표시 영역(HA1)의 일부이고, 제2 가로 표시 영역(HA2)은 표시 패널(PNL)에서의 제2 가로 표시 영역(HA2)의 일부이다.
도 5a에 도시된 제1 광학 영역(OA1)은 표시 패널(PNL)에서의 제1 광학 영역(OA1)의 일부이고, 도 5b에 도시된 제2 광학 영역(OA2)은 표시 패널(PNL)에서의 제2 광학 영역(OA2)의 일부이다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 제1 가로 표시 영역(HA1)은 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 포함할 수 있다. 제2 가로 표시 영역(HA2)은 일반 영역(NA)을 포함할 수 있다.
표시 패널(11)에는, 다양한 종류의 가로 라인들(HL1, HL2)이 배치되고, 다양한 종류의 세로 라인들(VLn, VL1, VL2)이 배치될 수 있다.
본 개시의 실시예들에서, 가로 방향과 세로 방향은 교차하는 2개의 방향을 의미하는 것으로서, 가로 방향과 세로 방향은 보는 방향에 따라서 다를 수 있다. 예를 들어, 본 개시에서의 실시예들에서, 가로 방향은 하나의 게이트 라인(GL)이 연장되면서도 배치되는 방향을 의미하고, 세로 방향은 하나의 데이터 라인(DL)이 연장되면서 배치되는 방향을 의미할 수 있다. 이와 같이, 가로와 세로를 예로 든다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 표시 패널(PNL)에 배치되는 가로 라인들은 제1 가로 표시 영역(HA1)에 배치되는 제1 가로 라인들(HL1) 및 제2 가로 표시 영역(HA2)에 배치되는 제2 가로 라인들(HL2)을 포함할 수 있다.
표시 패널(PNL)에 배치되는 가로 라인들은 게이트 라인들(GL)일 수 있다. 즉, 제1 가로 라인들(HL1)과 제2 가로 라인들(HL2)은 게이트 라인들(GL)일 수 있다. 게이트 라인들(GL)은 서브 픽셀(SP)의 구조에 따라 다양한 종류의 게이트 라인들을 포함할 수 있다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 표시 패널(PNL)에 배치되는 세로 라인들은, 일반 영역(NA)에만 배치되는 일반 세로 라인들(VLn), 제1 광학 영역(OA1)과 일반 영역(NA)을 모두 지나가는 제1 세로 라인들(VL1), 및 제2 광학 영역(OA2)과 일반 영역(NA)을 모두 지나가는 제2 세로 라인들(VL2)을 포함할 수 있다.
표시 패널(PNL)에 배치되는 세로 라인들은 데이터 라인들(DL), 구동 전압 라인들(DVL) 등을 포함할 수 있으며, 이뿐만 아니라, 기준 전압 라인들, 초기화 전압 라인들 등을 더 포함할 수 있다. 즉, 일반 세로 라인들(VLn), 제1 세로 라인들(VL1) 및 제2 세로 라인들(VL2)은 데이터 라인들(DL), 구동 전압 라인들(DVL) 등을 포함할 수 있으며, 이뿐만 아니라, 기준 전압 라인들, 초기화 전압 라인들 등을 더 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예들에서, 제2 가로 라인(HL2)에서 "가로"라는 용어는 신호가 좌측(또는 우측)에서 우측(또는 좌측)으로 전달된다는 의미일 뿐, 제2 가로 라인(HL2)이 정확한 가로 방향으로만 직선 형태로 연장된다는 의미는 아닐 수 있다. 즉, 도 5a 및 도 5b에서, 제2 가로 라인(HL2)은 일직선 형태로 도시되어 있지만, 이와 다르게, 제2 가로 라인(HL2)은 꺾이거나 구부려진 부분들을 포함할 수 있다. 마찬가지로, 제1 가로 라인(HL1) 또한 꺾이거나 구부려진 부분들을 포함할 수 있다.
본 개시의 실시예들에서, 일반 세로 라인(VLn)에서 "세로"라는 용어는 신호가 상측(또는 하측)에서 하측(또는 상측)으로 전달된다는 의미일 뿐, 일반 세로 라인(VLn)이 정확한 세로 방향으로만 직선 형태로 연장된다는 의미는 아니다. 즉, 도 5a 및 도 5b에서, 일반 세로 라인(VLn)은 일직선 형태로 도시되어 있지만, 이와 다르게, 일반 세로 라인(VLn)은 꺾이거나 구부려진 부분들을 포함할 수 있다. 마찬가지로, 제1 세로 라인(VL1) 및 제2 세로 라인(VL2) 또한 꺾이거나 구부려진 부분들을 포함할 수 있다.
도 5a를 참조하면, 제1 가로 영역(HA1)에 포함되는 제1 광학 영역(OA1)은 발광 영역들(EA)과 제1 투과 영역들(TA1)을 포함할 수 있다. 제1 광학 영역(OA1) 내에서, 제1 투과 영역들(TA1)의 바깥 영역이 발광 영역들(EA)을 포함할 수 있다.
도 5a를 참조하면, 제1 광학 영역(OA1)의 투과율 개선을 위하여, 제1 광학 영역(OA1)을 지나가는 제1 가로 라인들(HL1)은 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역들(TA1)을 회피하여 지나갈 수 있다.
따라서, 제1 광학 영역(OA1)을 지나가는 제1 가로 라인들(HL1) 각각은 각 제1 투과 영역(TA1)의 외곽 테두리 밖을 우회하는 곡선 구간 또는 벤딩 구간 등을 포함할 수 있다.
이에 따라, 제1 가로 영역(HA1)에 배치되는 제1 가로 라인(HL1)과 제2 가로 영역(HA2)에 배치되는 제2 가로 라인(HL2)은 모양 또는 길이 등이 서로 다를 수 있다. 즉, 제1 광학 영역(OA1)을 지나가는 제1 가로 라인(HL1)과 제1 광학 영역(OA1)을 지나가지 않는 제2 가로 라인(HL2)은 모양 또는 길이 등이 서로 다를 수 있다.
또한, 제1 광학 영역(OA1)의 투과율 개선을 위하여, 제1 광학 영역(OA1)을 지나가는 제1 세로 라인들(VL1)은 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역들(TA1)을 회피하여 지나갈 수 있다.
따라서, 제1 광학 영역(OA1)을 지나가는 제1 세로 라인들(VL1) 각각은 각 제1 투과 영역(TA1)의 외곽 테두리 밖을 우회하는 곡선 구간 또는 벤딩 구간 등을 포함할 수 있다.
이에 따라, 제1 광학 영역(OA1)을 지나가는 제1 세로 라인(VL1)과 제1 광학 영역(OA1)을 지나가지 않고 일반 영역(NA)에 배치되는 일반 세로 라인(VLn)은 모양 또는 길이 등이 서로 다를 수 있다.
도 5a를 참조하면, 제1 가로 영역(HA1) 내 제1 광학 영역(OA1)에 포함된 제1 투과 영역들(TA1)은 사선 방향으로 배열될 수 있다.
도 5a를 참조하면, 제1 가로 영역(HA1) 내 제1 광학 영역(OA1)에서, 좌우로 인접한 2개의 제1 투과 영역들(TA1) 사이에는 발광 영역들(EA)이 배치될 수 있다. 제1 가로 영역(HA1) 내 제1 광학 영역(OA1)에서, 상하로 인접한 2개의 제1 투과 영역들(TA1) 사이에는 발광 영역들(EA)이 배치될 수 있다.
도 5a를 참조하면, 제1 가로 영역(HA1)에 배치되는 제1 가로 라인들(HL1), 즉, 제1 광학 영역(OA1)을 지나가는 제1 가로 라인들(HL1)은 모두 제1 투과 영역(TA1)의 외곽 테두리 밖을 우회하는 곡선 구간 또는 벤딩 구간을 적어도 하나는 포함할 수 있다.
도 5b를 참조하면, 제1 가로 영역(HA1)에 포함되는 제2 광학 영역(OA2)은 발광 영역들(EA)과 제2 투과 영역들(TA2)을 포함할 수 있다. 제2 광학 영역(OA2) 내에서, 제2 투과 영역들(TA2)의 바깥 영역이 발광 영역들(EA)을 포함할 수 있다.
제2 광학 영역(OA2) 내 발광 영역들(EA) 및 제2 투과 영역들(TA2)의 위치 및 배열 상태는, 도 5a에서의 제1 광학 영역(OA1) 내 발광 영역들(EA) 및 제2 투과 영역들(TA2)의 위치 및 배열 상태와 동일할 수도 있다.
이와 다르게, 도 5b에 도시된 바와 같이, 제2 광학 영역(OA2) 내 발광 영역들(EA) 및 제2 투과 영역들(TA2)의 위치 및 배열 상태는, 도 5a에서의 제1 광학 영역(OA1) 내 발광 영역들(EA) 및 제2 투과 영역들(TA2)의 위치 및 배열 상태와 다를 수 있다.
예를 들어, 도 5b를 참조하면, 제2 광학 영역(OA2) 내에서, 제2 투과 영역들(TA2)은 가로 방향(좌우 방향)으로 배열될 수 있다. 가로 방향(좌우 방향)으로 인접한 2개의 제2 투과 영역들(TA2) 사이에는 발광 영역(EA)이 배치 되지 않을 수 있다. 또한, 제2 광학 영역(OA2) 내 발광 영역들(EA)은 세로 방향(상하 방향)으로 인접한 제2 투과 영역들(TA2) 사이에 배치될 수 있다. 즉, 2개의 제2 투과 영역 행 사이에 발광 영역들(EA)이 배치될 수 있다.
제1 가로 라인들(HL1)은 제1 가로 영역(HA1) 내 제2 광학 영역(OA2)과 그 주변의 일반 영역(NA)을 지나갈 때, 도 5a에서와 동일한 형태로 지나갈 수 있다.
이와 다르게, 도 5b에 도시된 바와 같이, 제1 가로 라인들(HL1)은 제1 가로 영역(HA1) 내 제2 광학 영역(OA2)과 그 주변의 일반 영역(NA)을 지나갈 때, 도 5a에서와 다른 형태로 지나갈 수 있다.
이는, 도 5b의 제2 광학 영역(OA2) 내 발광 영역들(EA) 및 제2 투과 영역들(TA2)의 위치 및 배열 상태와, 도 5a에서의 제1 광학 영역(OA1) 내 발광 영역들(EA) 및 제2 투과 영역들(TA2)의 위치 및 배열 상태와 다르기 때문이다.
도 5b를 참조하면, 제1 가로 라인들(HL1)은 제1 가로 영역(HA1) 내 제2 광학 영역(OA2)과 그 주변의 일반 영역(NA)을 지나갈 때, 곡선 구간이나 벤딩 구간 없이, 상하로 인접한 제2 투과 영역들(TA2) 사이를 직선 형태로 지나갈 수 있다.
다시 말해, 하나의 제1 가로 라인(HL1)은 제1 광학 영역(OA1) 내에서 곡선 구간 또는 벤딩 구간을 갖지만, 제2 광학 영역(OA2) 내에서는 곡선 구간 또는 벤딩 구간을 갖지 않을 수 있다.
제2 광학 영역(OA2)의 투과율 개선을 위하여, 제2 광학 영역(OA2)을 지나가는 제2 세로 라인들(VL2)은 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역들(TA2)을 회피하여 지나갈 수 있다.
따라서, 제2 광학 영역(OA2)을 지나가는 제2 세로 라인들(VL2) 각각은 각 제2 투과 영역(TA2)의 외곽 테두리 밖을 우회하는 곡선 구간 또는 벤딩 구간 등을 포함할 수 있다.
이에 따라, 제2 광학 영역(OA2)을 지나가는 제2 세로 라인(VL2)과 제2 광학 영역(OA2)을 지나가지 않고 일반 영역(NA)에 배치되는 일반 세로 라인(VLn)은 모양 또는 길이 등이 서로 다를 수 있다.
도 5a에 도시된 바와 같이, 제1 광학 영역(OA1)을 통과하는 제1 가로 라인(HL1)은 제1 투과 영역들(TA1)의 외곽 테두리 바깥을 우회하는 곡선 구간들 또는 벤딩 구간들을 가질 수 있다.
따라서, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하는 제1 가로 라인(HL1)의 길이는, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하지 않고 일반 영역(NA)에만 배치되는 제2 가로 라인(HL2)의 길이보다 조금은 더 길 수 있다.
이에 따라, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하는 제1 가로 라인(HL1)의 저항(이하, 제1 저항이라고도 함)은, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하지 않고 일반 영역(NA)에만 배치되는 제2 가로 라인(HL2)의 저항(이하, 제2 저항이라고도 함)보다 약간 클 수 있다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 광 투과 구조에 따라, 제1 광학 전자 장치(11)와 적어도 일부가 중첩되는 제1 광학 영역(OA1)은 다수의 제1 투과 영역들(TA1)을 포함하고, 제2 광학 전자 장치(12)와 적어도 일부가 중첩되는 제2 광학 영역(OA2)은 다수의 제2 투과 영역들(TA2)을 포함하기 때문에, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)은 일반 영역(NA)에 비해 단위 면적당 서브 픽셀 개수가 적을 수 있다.
제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하는 제1 가로 라인(HL1)이 연결되는 서브 픽셀들(SP)의 개수와, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하지 않고 일반 영역(NA)에만 배치되는 제2 가로 라인(HL2)이 연결되는 서브 픽셀들(SP)의 개수는 서로 다를 수 있다.
제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하는 제1 가로 라인(HL1)이 연결되는 서브 픽셀들(SP)의 개수(제1 개수)는, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하지 않고 일반 영역(NA)에만 배치되는 제2 가로 라인(HL2)이 연결되는 서브 픽셀들(SP)의 개수(제2 개수)보다 적을 수 있다.
제1 개수와 제2 개수 간의 차이는 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 각각의 해상도와 일반 영역(NA)의 해상도의 차이에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 각각의 해상도와 일반 영역(NA)의 해상도의 차이가 커질수록, 제1 개수와 제2 개수 간의 차이는 커질 수 있다.
전술한 바와 같이, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하는 제1 가로 라인(HL1)이 연결되는 서브 픽셀들(SP)의 개수(제1 개수)가 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하지 않고 일반 영역(NA)에만 배치되는 제2 가로 라인(HL2)이 연결되는 서브 픽셀들(SP)의 개수(제2 개수)보다 적기 때문에, 제1 가로 라인(HL1)이 주변의 다른 전극들이나 라인들과 중첩되는 면적이 제2 가로 라인(HL2)이 주변의 다른 전극들이나 라인들과 중첩되는 면적보다 작을 수 있다.
따라서, 제1 가로 라인(HL1)이 주변의 다른 전극들이나 라인들과 형성하는 기생 캐패시턴스(이하 제1 캐패시턴스라고 함)는 제2 가로 라인(HL2)이 주변의 다른 전극들이나 라인들과 형성하는 기생 캐패시턴스(이하 제2 캐패시턴스)보다 크게 작을 수 있다.
제1 저항 및 제2 저항 간의 대소 관계(제1 저항≥제2 저항) 및 제1 캐패시턴스 및 제2 캐패시턴스 간의 대소 관계(제1 캐패시턴스≪제2 캐패시턴스)를 고려할 때, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하는 제1 가로 라인(HL1)의 RC(Resistance-Capacitance) 값(이하, 제1 RC 값이라고도 함)은, 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)을 통과하지 않고 일반 영역(NA)에만 배치되는 제2 가로 라인(HL2)의 RC(Resistance-Capacitance) 값(이하, 제2 RC 값이라고도 함)보다 휠씬 작을 수 있다(제1 RC 값≪제2 RC 값).
제1 가로 라인(HL1)의 제1 RC 값과 제2 가로 라인(HL2)의 제2 RC 값 간의 차이(아래에서, RC 로드(RC Load) 편차라고 함)로 인해, 제1 가로 라인(HL1)을 통한 신호 전달 특성과 제2 가로 라인(HL2)을 통한 신호 전달 특성이 달라질 수 있다.
도 6 및 도 7은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널(PNL)의 표시 영역(DA)에 포함된 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2) 각각의 단면도들이다.
도 6은 터치 센서가 터치 패널 형태로 표시 패널(PNL)의 외부에 존재하는 경우에 대한 표시 패널(PNL)의 단면도들이고, 도 7은 터치 센서(TS)가 표시 패널(PNL)의 내부에 존재하는 경우에 대한 표시 패널(PNL)의 단면도들이다.
도 6 및 도 7 각각은, 표시 영역(DA)에 포함된 일반 영역(NA), 제1 광학 영역(OA1) 및 제2 광학 영역(OA2)에 대한 단면도들이다.
먼저, 도 6 및 도 7을 참조하여, 일반 영역(NA1)의 적층 구조를 설명한다. 제1 광학 영역(OA1)과 제2 광학 영역(OA2) 각각에 포함된 발광 영역(EA)은 일반 영역(NA1) 내 발광 영역(EA)과 동일한 적층 구조를 가질 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 기판(SUB)은 제1 기판(SUB1), 층간 절연막(IPD) 및 제2 기판(SUB2)을 포함할 수 있다. 층간 절연막(IPD)은 제1 기판(SUB1)과 제2 기판(SUB2) 사이에 위치할 수 있다. 기판(SUB)을 제1 기판(SUB1), 층간 절연막(IPD) 및 제2 기판(SUB2)으로 구성함으로써, 수분 침투를 방지할 수 있다. 예를 들어, 제1 기판(SUB1) 및 제2 기판(SUB2)은 폴리이미드(polyimide, PI) 기판일 수 있다. 제1 기판(SUB1)을 1차 PI 기판이라고 하고, 제2 기판(SUB2)을 2차 PI 기판이라고 할 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 기판(SUB) 상에는, 구동 트랜지스터(DRT) 등의 트랜지스터를 형성하기 위한 각종 패턴들(ACT, SD1, GATE), 각종 절연막들(MBUF, ABUF1, ABUF2, GI, ILD1, ILD2, PAS0) 및 각종 금속 패턴(TM, GM, ML1, ML2)이 배치될 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 제2 기판(SUB2) 상에 멀티 버퍼층(MBUF)이 배치될 수 있고, 멀티 버퍼층(MBUF) 상에 제1 액티브 버퍼층(ABUF1)이 배치될 수 있다.
제1 액티브 버퍼층(ABUF1) 상에 제1 금속층(ML1) 및 제2 금속층(ML2)이 배치될 수 있다. 여기서, 제1 금속층(ML1) 및 제2 금속층(ML2)은 빛을 쉴딩하는 라이트 쉴드 층(Light Shield Layer, LS)일 수 있다.
제1 금속층(ML1) 및 제2 금속층(ML2) 상에 제2 액티브 버퍼층(ABUF2)이 배치될 수 있다. 제2 액티브 버퍼층(ABUF2) 상에 구동 트랜지스터(DRT)의 액티브 층(ACT)이 배치될 수 있다.
게이트 절연막(GI)이 액티브 층(ACT)을 덮으면서 배치될 수 있다.
게이트 절연막(GI) 상에 구동 트랜지스터(DRT)의 게이트 전극(GATE)이 배치될 수 있다. 이때, 구동 트랜지스터(DRT)의 형성 위치와 다른 위치에서, 구동 트랜지스터(DRT)의 게이트 전극(GATE)과 함께, 게이트 물질 층(GM)이 게이트 절연막(GI) 상에 배치될 수 있다.
제1 층간 절연막(ILD1)이 게이트 전극(GATE) 및 게이트 물질 층(GM)을 덮으면서 배치될 수 있다. 제1 층간 절연막(ILD1) 상에 금속패턴(TM)이 배치될 수 있다. 금속패턴(TM)은 구동 트랜지스터(DRT)의 형성 위치와 다른 곳에 위치할 수 있다. 제2 층간 절연막(ILD2)이 제1 층간 절연막(ILD1) 상의 금속패턴(TM)을 덮으면서 배치될 수 있다.
제2 층간 절연막(ILD2) 상에 2개의 제1 소스-드레인 전극 패턴(SD1)이 배치될 수 있다. 2개의 제1 소스-드레인 전극 패턴(SD1 중 하나는 구동 트랜지스터(DRT)의 소스 노드이고, 나머지 하나는 구동 트랜지스터(DRT)의 드레인 노드이다.
2개의 제1 소스-드레인 전극 패턴(SD1)은, 제2 층간 절연막(ILD2), 제1 층간 절연막(ILD1) 및 게이트 절연막(GI)의 컨택홀을 통해, 액티브 층(ACT)의 일측과 타측에 전기적으로 연결될 수 있다.
액티브 층(ACT)에서 게이트 전극(GATE)과 중첩되는 부분은 채널 영역이다. 2개의 제1 소스-드레인 전극 패턴(SD1) 중 하나는 액티브 층(ACT)에서 채널 영역의 일 측과 연결될 수 있고, 2개의 제1 소스-드레인 전극 패턴(SD1) 중 나머지 하나는 액티브 층(ACT)에서 채널 영역의 타 측과 연결될 수 있다.
패시베이션층(PAS0)이 2개의 제1 소스-드레인 전극 패턴(SD1)을 덮으면서 배치된다. 패시베이션층(PAS0) 상에 평탄화층(PLN)이 배치될 수 있다. 평탄화층(PLN)은 제1 평탄화층(PLN1) 및 제2 평탄화층(PLN2)을 포함할 수 있다.
패시베이션층(PAS0) 상에 제1 평탄화층(PLN1)이 배치될 수 있다.
제1 평탄화층(PLN1) 상에 제2 소스-드레인 전극 패턴(SD2)이 배치될 수 있다. 제2 소스-드레인 전극 패턴(SD2)은 제1 평탄화층(PLN1)의 컨택홀을 통해 2개의 제1 소스-드레인 전극 패턴(SD1) 중 하나(도 3의 서브 픽셀(SP) 내 구동 트랜지스터(DRT)의 제2 노드(N2)와 대응됨)와 연결될 수 있다.
제2 평탄화층(PLN2)은 제2 소스-드레인 전극 패턴(SD2)을 덮으면서 배치될 수 있다. 제2 평탄화층(PLN2) 위에 발광 소자(ED)가 배치될 수 있다.
발광 소자(ED)의 적층 구조를 살펴보면, 애노드 전극(AE)이 제2 평탄화층(PLN2) 상에 배치될 수 있다. 애노드 전극(AE)이 제2 평탄화층(PLN2)의 컨택홀을 통해 제2 소스-드레인 전극 패턴(SD2)과 전기적으로 연결될 수 있다.
뱅크(BANK)가 애노드 전극(AE)의 일부를 덮으면서 배치될 수 있다. 서브 픽셀(SP)의 발광 영역(EA)에 대응되는 뱅크(BANK)의 일부가 오픈될 수 있다.
애노드 전극(AE)의 일부가 뱅크(BANK)의 개구부(오픈 된 부분)로 노출될 수 있다. 발광층(EL)이 뱅크(BANK)의 측면과 뱅크(BANK)의 개구부(오픈 된 부분)에 위치할 수 있다. 발광층(EL)의 전체 또는 일부는 인접한 뱅크(BANK) 사이에 위치할 수 있다.
뱅크(BANK)의 개구부에서, 발광층(EL)은 애노드 전극(AE)와 접촉할 수 있다. 발광층(EL) 상에 캐소드 전극(CE)이 배치될 수 있다.
애노드 전극(AE), 발광층(EL) 및 캐소드 전극(CE)에 의해 발광 소자(ED)가 형성될 수 있다. 발광층(EL)은 유기막을 포함할 수 있다.
전술한 발광 소자(ED) 상에 봉지층(ENCAP)이 배치될 수 있다.
봉지층(ENCAP)은 단일층 구조 또는 다층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 봉지층(ENCAP)은 제1 봉지층(PAS1), 제2 봉지층(PCL) 및 제3 봉지층(PAS2)을 포함할 수 있다.
예를 들어, 제1 봉지층(PAS1) 및 제3 봉지층(PAS2)은 무기막이고, 제2 봉지층(PCL)은 유기막일 수 있다. 제1 봉지층(PAS1), 제2 봉지층(PCL) 및 제3 봉지층(PAS2) 중에서 제2 봉지층(PCL)은 가장 두껍고 평탄화 층 역할을 수 있다.
제1 봉지층(PAS1)은 캐소드 전극(CE) 상에 배치되고, 발광 소자(ED)와 가장 인접하게 배치될 수 있다. 제1 봉지층(PAS1)은 저온 증착이 가능한 무기 절연 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 봉지층(PAS1)은 질화실리콘(SiNx), 산화 실리콘(SiOx), 산화질화실리콘(SiON) 또는 산화 알루미늄(Al2O3) 등일 수 있다. 제1 봉지층(PAS1)이 저온 분위기에서 증착되기 때문에, 증착 공정 시, 제1 봉지층(PAS1)은 고온 분위기에 취약한 유기물을 포함하는 발광층(EL)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
제2 봉지층(PCL)은 제1 봉지층(PAS1)보다 작은 면적으로 형성될 수 있다. 이 경우, 제2 봉지층(PCL)은 제1 봉지층(PAS1)의 양 끝단을 노출시키도록 형성될 수 있다. 제2 봉지층(PCL)은 표시 장치(100)의 휘어짐에 따른 각 층들 간의 응력을 완화시키는 완충 역할을 하며, 평탄화 성능을 강화하는 역할을 할 수도 있다. 예를 들어, 제2 봉지층(PCL)은 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드, 폴리에틸렌, 또는 실리콘옥시카본(SiOC) 등일 수 있으며, 유기 절연 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제2 봉지층(PCL)은 잉크젯 방식을 통해 형성될 수도 있다.
제3 무기 봉지층(PAS2)은 제2 봉지층(PCL)이 형성된 기판(SUB) 상에 제2 봉지층(PCL) 및 제1 봉지층(PAS1) 각각의 상부면 및 측면을 덮도록 형성될 수 있다. 제3 봉지층(PAS2)은 외부의 수분이나 산소가 제1 무기 봉지층(PAS1) 및 유기 봉지층(PCL)으로 침투하는 것을 최소화하거나 차단할 수 있다. 예를 들어, 제3 봉지층(PAS2)은 질화실리콘(SiNx), 산화 실리콘(SiOx), 산화질화실리콘(SiON) 또는 산화 알루미늄(A(Al2O3) 등과 같은 무기 절연 재질로 형성된다.
도 7을 참조하면, 터치 센서(TS)가 표시 패널(PNL)에 내장되는 타입인 경우, 봉지층(ENCAP) 상에 터치 센서(TS)가 배치될 수 있다. 터치 센서 구조에 대하여 상세하게 설명하면 아래와 같다.
봉지층(ENCAP) 상에 터치 버퍼막(T-BUF)이 배치될 수 있다. 터치 버퍼막(T-BUF) 상에 터치 센서(TS)가 배치될 수 있다.
터치 센서(TS)는 서로 다른 층에 위치하는 터치 센서 메탈들(TSM)과 브릿지 메탈(BRG)을 포함할 수 있다.
터치 센서 메탈들(TSM)과 브릿지 메탈(BRG) 사이에는 터치 층간 절연막(T-ILD)이 배치될 수 있다.
예를 들어, 터치 센서 메탈들(TSM)이 서로 인접하게 배치되는 제1 터치 센서 메탈(TSM), 제2 터치 센서 메탈(TSM) 및 제3 터치 센서 메탈(TSM)을 포함할 수 있다. 제1 터치 센서 메탈(TSM) 및 제2 터치 센서 메탈(TSM) 사이에 제3 터치 센서 메탈(TSM)이 있고, 제1 터치 센서 메탈(TSM) 및 제2 터치 센서 메탈(TSM)은 서로 전기적으로 연결되어야 할 때, 제1 터치 센서 메탈(TSM) 및 제2 터치 센서 메탈(TSM)은 다른 층에 있는 브릿지 메탈(BRG)을 통해 전기적으로 서로 연결될 수 있다. 브릿지 메탈(BRG)은 터치 층간 절연막(T-ILD)에 의해 제3 터치 센서 메탈(TSM)과 절연될 수 있다.
표시 패널(PNL)에 터치 센서(TS)가 형성될 때, 공정에 이용되는 약액(현상액 또는 식각액 등등) 또는 외부로부터의 수분 등이 발생할 수 있다. 터치 버퍼막(T-BUF) 상에 터치 센서(TS)가 배치됨으로써, 터치 센서(TS)의 제조 공정 시 약액이나 수분 등이 유기물을 포함하는 발광층(EL)으로 침투되는 것이 방지될 수 있다. 이에 따라, 터치 버퍼막(T-BUF)은 약액 또는 수분에 취약한 발광층(EL)의 손상을 방지할 수 있다.
터치 버퍼막(T-BUF)은 고온에 취약한 유기물을 포함하는 발광층(EL)의 손상을 방지하기 위해, 일정 온도(예: 100도(℃)) 이하의 저온에서 형성 가능하고 1~3의 저유전율을 가지는 유기 절연 재질로 형성된다. 예를 들어, 터치 버퍼막(T-BUF)은 아크릴 계열, 에폭시 계열 또는 실록산(Siloxan) 계열의 재질로 형성될 수 있다. 표시 장치(100)의 휘어짐에 따라, 봉지층(ENCAP)이 손상될 수 있고, 터치 버퍼막(T-BUF) 상에 위치하는 터치 센서 메탈이 깨질 수 있다. 표시 장치(100)가 휘어지더라도, 유기 절연 재질로 평탄화 성능을 가지는 터치 버퍼막(T-BUF)은 봉지층(ENCAP)의 손상 및/또는 터치 센서(TS)를 구성하는 메탈(TSM, BRG)의 깨짐 현상을 방지해줄 수 있다.
보호층(PAC)이 터치 센서(TS)를 덮으면서 배치될 수 있다. 보호층(PAC)은 유기 절연막일 수 있다.
다음으로, 도 6 및 도 7을 참조하여 제1 광학 영역(OA1)에 대한 적층 구조를 설명한다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 제1 광학 영역(OA1) 내 발광 영역(EA)은 일반 영역(EA)의 적층 구조와 동일한 적층 구조를 가질 수 있다. 따라서, 아래에서는, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 적층 구조에 대하여 상세하게 설명한다.
일반 영역(NA) 및 제1 광학 영역(OA1)에 포함된 발광 영역(EA)에는 캐소드 전극(CE)이 배치되지만, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)에는 캐소드 전극(CE)이 배치되지 않을 수 있다. 즉, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)은 캐소드 전극(CE)의 개구부와 대응될 수 있다.
또한, 일반 영역(NA) 및 제1 광학 영역(OA1)에 포함된 발광 영역(EA)에는 제1 금속층(ML1) 및 제2 금속층(ML2) 중 적어도 하나를 포함하는 라이트 쉴드층(LS)이 배치되지만, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)에는 라이트 쉴드층(LS)이 배치되지 않을 수 있다. 즉, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)은 라이트 쉴드층(LS)의 개구부와 대응될 수 있다.
일반 영역(NA) 및 제1 광학 영역(OA1)에 포함된 발광 영역(EA)에 배치된 기판(SUB)과 각종 절연막들(MBUF, ABUF1, ABUF2, GI, ILD1, ILD2, PAS0, PLN(PLN1, PLN2), BANK, ENCAP(PAS1, PCL, PAS2), T-BUF, T-ILD, PAC)은 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)에도 동일하게 배치될 수 있다.
하지만, 일반 영역(NA) 및 제1 광학 영역(OA1)에 포함된 발광 영역(EA)에서 절연 물질 이외에, 전기적인 특성을 갖는 물질 층(예: 금속 물질 층, 반도체 층 등)은 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)에 배치되지 않을 수 있다.
예를 들어, 도 6 및 도 7을 참조하면, 트랜지스터와 관련된 금속 물질 층(ML1, ML2, GATE, GM, TM, SD1, SD2)과 반도체 층(ACT)은 제1 투과 영역(TA1)에 배치되지 않을 수 있다.
또한, 도 6 및 도 7을 참조하면, 발광 소자(ED)에 포함된 애노드 전극(AE) 및 캐소드 전극(CE)은 제1 투과 영역(TA1)에 배치되지 않을 수 있다. 다만, 발광층(EL)은 제1 투과 영역(TA1)에 배치될 수도 있고 배치되지 않을 수도 있다.
또한, 도 7을 참조하면, 터치 센서(TS)에 포함된 터치 센서 메탈(TSM) 및 브릿지 메탈(BRG)도 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)에 배치되지 않을 수 있다.
따라서, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)에 전기적인 특성을 갖는 물질 층(예: 금속 물질 층, 반도체 층 등)이 배치되지 않음으로써, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 광 투과성이 제공될 수 있다. 따라서, 제1 광학 전자 장치(11)는 제1 투과 영역(TA1)을 통해 투과된 빛을 수신하여 해당 기능(예: 이미지 센싱)을 수행할 수 있다.
제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 전체 또는 일부는 제1 광학 전자 장치(11)와 중첩되기 때문에, 제1 광학 전자 장치(11)의 정상적인 동작을 위해서는, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 투과율은 더욱더 높아질 필요가 있다.
이를 위해, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치(100)의 표시 패널(PNL)에서, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)은 투과율 향상 구조(TIS: Transmittance Improvement Structure)를 가질 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 표시 패널(PNL)에 포함된 다수의 절연막들은, 기판(SUB1, SUB2)과 트랜지스터(DRT, SCT) 사이의 버퍼층(MBUF, ABUF1, ABUF2), 트랜지스터(DRT)와 발광 소자(ED) 사이의 평탄화층(PLN1, PLN2), 및 발광소자(ED) 상의 봉지층(ENCAP) 등을 포함할 수 있다.
도 7을 참조하면, 표시 패널(PNL)에 포함된 다수의 절연막들은, 봉지층(ENCAP) 상의 터치 버퍼막(T-BUF) 및 터치 층간 절연막(T-ILD) 등을 더 포함할 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)은, 투과율 향상 구조(TIS)로서, 제1 평탄화층(PLN1) 및 패시배이션층(PAS0)이 아래로 함몰된 구조를 가질 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 다수의 절연막들 중에서 제1 평탄화층(PLN1)은, 적어도 하나의 요철 부(또는 함몰 부)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 평탄화층(PLN1)은 유기 절연막일 수 있다.
제1 평탄화층(PLN1)이 아래로 함몰된 경우, 제2 평탄화층(PLN2)이 실질적인 평탄화 역할을 할 수 있다. 한편, 제2 평탄화층(PLN2)도 아래로 함몰될 수 있다. 이 경우, 제2 봉지층(PCL)이 실질적인 평탄화 역할을 할 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 제1 평탄화층(PLN1) 및 패시배이션층(PAS0)의 함몰된 부분은, 트랜지스터(DRT)를 형성하기 위한 절연막들(ILD2, IDL1, GI)과 그 아래에 위치하는 버퍼층들(ABUF1, ABUF2, MBUF)을 관통하고, 제2 기판(SUB2)의 상부까지 내려올 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 기판(SUB)은 투과율 향상 구조(TIS)로서 적어도 하나의 오목부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 투과 영역(TA1)에서, 제2 기판(SUB1)의 상면이 아래로 함몰되거나 뚫릴 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 봉지층(ENCAP)을 구성하는 제1 봉지층(PAS1) 및 제2 봉지층(PCL)도 아래로 함몰된 형태의 투과율 향상 구조(TIS)를 가질 수 있다. 여기서, 제2 봉지층(PCL)은 유기 절연막일 수 있다.
도 7을 참조하면, 보호층(PAC)은 봉지층(ENCAP) 상의 터치 센서(TS)를 덮으면서 배치되어, 터치 센서(TS)를 보호할 수 있다.
도 7을 참조하면, 보호층(PAC)은 제1 투과 영역(TA1)과 중첩되는 부분에서 투과율 향상 구조(TIS)로서 적어도 하나의 요철부를 가질 수 있다. 여기서, 보호층(PAC)은 유기 절연막일 수 있다.
도 7을 참조하면, 터치 센서(TS)는 메쉬 타입의 터치 센서 메탈(TSM)로 구성될 수 있다. 터치 센서 메탈(TSM)이 메쉬 타입으로 형성된 경우, 터치 센서 메탈(TSM)에는 다수의 오픈 영역이 존재할 수 있다. 다수의 오픈 영역 각각은 서브 픽셀(SP)의 발광 영역(EA)과 위치가 대응될 수 있다.
제1 광학 영역(OA1)의 투과율이 일반 영역(NA)의 투과율보다 더욱 높아지도록, 제1 광학 영역(OA1)내에서 단위 영역 당 터치 센서 메탈(TSM)의 면적은 일반 영역(NA) 내에서 단위 영역 당 터치 센서 메탈(TSM)의 면적보다 작을 수 있다.
도 7을 참조하면, 제1 광학 영역(OA1) 내 발광 영역(EA)에 터치 센서(TS)가 배치되고, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)에는 터치 센서(TS)가 미 배치될 수 있다.
다음으로, 도 6 및 도 7을 참조하여 제2 광학 영역(OA2)에 대한 적층 구조를 설명한다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 제2 광학 영역(OA2) 내 발광 영역(EA)은 일반 영역(EA)의 적층 구조와 동일한 적층 구조를 가질 수 있다. 따라서, 아래에서는, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 적층 구조에 대하여 상세하게 설명한다.
일반 영역(NA) 및 제2 광학 영역(OA2)에 포함된 발광 영역(EA)에는 캐소드 전극(CE)이 배치되지만, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에는 캐소드 전극(CE)이 배치되지 않을 수 있다. 즉, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)은 캐소드 전극(CE)의 개구부와 대응될 수 있다.
또한, 일반 영역(NA) 및 제2 광학 영역(OA2)에 포함된 발광 영역(EA)에는 제1 금속층(ML1) 및 제2 금속층(ML2) 중 적어도 하나를 포함하는 라이트 쉴드층(LS)이 배치되지만, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에는 라이트 쉴드층(LS)이 배치되지 않을 수 있다. 즉, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)은 라이트 쉴드층(LS)의 개구부와 대응될 수 있다.
제2 광학 영역(OA2)의 투과율과 제1 광학 영역(OA1)의 투과율이 동일한 경우, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 적층 구조는, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 적층 구조와 완전히 동일할 수 있다.
제2 광학 영역(OA2)의 투과율과 제1 광학 영역(OA1)의 투과율이 다른 경우, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 적층 구조는, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 적층 구조와 일부 다를 수 있다.
예를 들어, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 제2 광학 영역(OA2)의 투과율이 제1 광학 영역(OA1)의 투과율보다 낮은 경우, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)은 투과율 향상 구조(TIS)를 가지지 않을 수 있다. 그 일환으로서, 제1 평탄화층(PLN1) 및 패시베이션층(PAS0)이 함몰되지 않을 수 있다. 또한, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 폭은, 제1 광학 영역(OA1) 내 제1 투과 영역(TA1)의 폭보다 좁을 수 있다.
일반 영역(NA) 및 제2 광학 영역(OA2)에 포함된 발광 영역(EA)에 배치된 기판(SUB)과 각종 절연막들(MBUF, ABUF1, ABUF2, GI, ILD1, ILD2, PAS0, PLN(PLN1, PLN2), BANK, ENCAP(PAS1, PCL, PAS2), T-BUF, T-ILD, PAC)은 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에도 동일하게 배치될 수 있다.
하지만, 일반 영역(NA) 및 제2 광학 영역(OA2)에 포함된 발광 영역(EA)에서 절연 물질 이외에, 전기적인 특성을 갖는 물질 층(예: 금속 물질 층, 반도체 층 등)은 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에 배치되지 않을 수 있다.
예를 들어, 도 6 및 도 7을 참조하면, 트랜지스터와 관련된 금속 물질 층(ML1, ML2, GATE, GM, TM, SD1, SD2)과 반도체 층(ACT)은 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에 배치되지 않을 수 있다.
또한, 도 6 및 도 7을 참조하면, 발광 소자(ED)에 포함된 애노드 전극(AE) 및 캐소드 전극(CE)은 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에 배치되지 않을 수 있다. 다만, 발광층(EL)은 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에 배치될 수도 있고 배치되지 않을 수도 있다.
또한, 도 7을 참조하면, 터치 센서(TS)에 포함된 터치 센서 메탈(TSM) 및 브릿지 메탈(BRG)도 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에 배치되지 않을 수 있다.
따라서, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)에 전기적인 특성을 갖는 물질 층(예: 금속 물질 층, 반도체 층 등)이 배치되지 않음으로써, 제2 광학 영역(OA2) 내 제2 투과 영역(TA2)의 광 투과성이 제공될 수 있다. 따라서, 제2 광학 전자 장치(12)는 제2 투과 영역(TA2)을 통해 투과된 빛을 수신하여 해당 기능(예: 물체나 인체의 접근 감지, 외부의 조도 감지 등)을 수행할 수 있다.
도 8은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 패널(PNL)의 외곽에서의 단면도이다.
도 8에서는, 제1 기판(SUB1) 및 제2 기판(SUB2)이 합쳐진 형태의 기판(SUB)이 표시되고, 뱅크(BANK)의 아래 부분은 간략하게 나타내었다. 도 8에서는, 제1 평탄화층(PLN1) 및 제2 평탄화층(PLN2)은 하나의 평탄화층(PLN)으로 도시되고, 평탄화층(PLN) 아래의 제2 층간 절연막(ILD2) 및 제1 층간 절연막(ILD1)은 하나의 층간 절연막(INS)으로 도시된다.
도 8을 참조하면, 제1 봉지층(PAS1)은 캐소드 전극(CE) 상에 배치되고, 발광 소자(ED)와 가장 인접하게 배치될 수 있다. 제2 봉지층(PCL)은 제1 봉지층(PAS1)보다 작은 면적으로 형성될 수 있다. 이 경우, 제2 봉지층(PCL)은 제1 봉지층(PAS1)의 양 끝 단을 노출시키도록 형성될 수 있다.
제3 무기 봉지층(PAS2)은 제2 봉지층(PCL)이 형성된 기판(SUB) 상에 제2 봉지층(PCL) 및 제1 봉지층(PAS1) 각각의 상부면 및 측면을 덮도록 형성될 수 있다.
제3 봉지층(PAS2)은 외부의 수분이나 산소가 제1 무기 봉지층(PAS1) 및 유기 봉지층(PCL)으로 침투하는 것을 최소화하거나 차단한다.
도 8을 참조하면, 표시 패널(PNL)은 봉지층(ENCAP)이 무너지는 것을 방지해주기 위하여, 봉지층(ENCAP)의 경사면(SLP)의 끝 지점 또는 그 근방에 하나 이상의 댐(DAM1, DAM2)이 존재할 수 있다. 하나 이상의 댐(DAM1, DAM2)은 표시 영역(DA)과 비 표시 영역(NDA)의 경계 지점에 존재하거나 경계 지점의 근방에 존재할 수 있다.
하나 이상의 댐(DAM1, DAM2)은 뱅크(BANK)와 동일한 물질(DFP)을 포함할 수 있다.
도 8을 참조하면, 유기물을 포함하는 제2 봉지층(PCL)은 가장 안쪽에 있는 1차 댐(DAM1)의 내 측면에만 위치할 수 있다. 즉, 제2 봉지층(PCL)은 모든 댐(DAM1, DAM2)의 상부에 존재하지 않을 수 있다. 이와 다르게, 유기물을 포함하는 제2 봉지층(PCL)은 1차 댐(DAM1) 및 2차 댐(DAM2) 중 적어도 1차 댐(DAM1)의 상부에 위치할 수 있다.
제2 봉지층(PCL)은 1차 댐(DAM1)의 상부까지만 확장되어 위치할 수 있다. 또는 제2 봉지층(PCL)은 1차 댐(DAM1)의 상부를 지나 2차 댐(DAM2)의 상부까지 확장되어 위치할 수 있다.
도 8을 참조하면, 하나 이상의 댐(DAM1, DAM2)의 외곽에는, 터치 구동 회로(TDC)이 전기적으로 연결되는 터치 패드(TP)가 기판(SUB)에 배치될 수 있다.
터치 라인(TL)은 표시 영역(DA)에 배치된 터치 전극을 구성하는 터치 센서 메탈(TSM) 또는 브릿지 메탈(BRG)을 터치 패드(TP)에 전기적으로 연결해줄 수 있다.
터치 라인(TL)의 일단은 터치 센서 메탈(TSM) 또는 브릿지 메탈(BRG)과 전기적으로 연결되고, 터치 라인(TL)의 타단은 터치 패드(TP)와 전기적으로 연결될 수 있다.
터치 라인(TL)은 봉지층(ENCAP)의 경사면(SLP)을 따라 내려와서 댐(DAM1, DAM2)의 상부를 지나고, 외곽에 배치된 터치 패드(TP)까지 연장될 수 있다.
도 8을 참조하면, 터치 라인(TL)은 브릿지 메탈(BRG)일 수 있다. 이와 다르게, 터치 라인(TL) 터치 센서 메탈(TSM)일 수도 있다.
도 9는 본 개시의 비교예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 9를 참조하면, 비교예에 따른 표시 장치는 일반 영역(NA) 및 제1 광학 영역(OA1)을 포함하고, 뱅크(BANK), 정공수송층(HTL), 발광층(EL), 전자수송층(ETL), 캐소드 전극(CE), 제1 캐핑층(CPL1) 및 제2 캐핑층(CPL2)을 포함할 수 있다.
애노드 전극(AE)은 평탄화층(PLN) 상에 위치하고, 애노드 전극(AE) 상에는 뱅크(BANK)가 위치할 수 있다. 뱅크(BANK) 상에는 유기층(EL)이 위치하고, 유기층(EL) 상에는 캐소드 전극(CE)이 위치할 수 있다.
따라서, 제1 캐핑층(CPL1) 및 제2 캐핑층(CPL2)은 애노드 전극(AE), 발광층(EL) 및 캐소드 전극(CE)을 포함하는 발광 소자들 상에 위치할 수 있다. 제1 캐핑층(CPL1) 및 제2 캐핑층(CPL2)은 발광 소자를 보호하는 한편, 마이크로 캐비티(Micro Cavity)에 의하여 발광 소자의 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.
비교예에 따른 표시 장치에 있어서, 제1 캐핑층(CPL1) 및 제2 캐핑층(CPL2)이 각각 일반 영역(NA) 및 제1 광학 영역(OA1)에서 동일한 하나의 층으로 형성될 수 있다. 제1 광학 영역(OA1)에 위치하는 제1 캐핑층(CPL1) 및 제2 캐핑층(CPL2)이 일반 영역(NA)에 위치하는 제1 캐핑층(CPL1) 및 제2 캐핑층(CPL2)과 각각 동일할 경우, 제1 캐핑층(CPL1) 및 제2 캐핑층(CPL2)은 낮은 광투과율을 가진다.
도 10은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 10을 참조하면, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치는, 제1 광학 영역(OA1) 및 제1 광학 영역(OA1)의 외곽에 위치하는 일반 영역(NA)을 포함하는 표시 영역과, 발광 소자와, 발광 소자 상에 위치하는 제1 캐핑층(1010a, 1010b)을 포함한다.
발광 소자는 뱅크(BANK) 상에 위치할 수 있다. 뱅크(BANK)는, 화소 영역을 정의하는 막일 수 있으며, 뱅크(BANK)에 의하여 서브 픽셀의 발광 영역이 정의될 수 있다.
발광 소자는, 정공수송층(HTL), 발광층(EL), 전자수송층(ETL), 제1 전극(1030) 및 제2 전극(1040)을 포함할 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 전극(1030) 상에 위치할 수 있다. 제1 캐핑층(1010a, 1010b) 상에는 제2 캐핑층(1020)이 위치할 수 있다.
제1 전극(1030)은, 공통 전극일 수 있다. 또한, 제1 전극(1030)은 캐소드 전극 또는 애노드 전극일 수 있으나, 도 10에 도시한 실시예들에서, 제1 전극(1030)은 캐소드 전극일 수 있다.
제2 전극(1040)은, 픽셀 전극일 수 있다. 또한, 제2 전극(1040)은 캐소드 전극 또는 애노드 전극일 수 있으나, 도 10에 도시한 실시예들에서, 제2 전극(1040)은 애노드 전극일 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이하다. 제1 캐핑층(1010a, 1010b)은, 예를 들어, 두께 및 굴절률을 용이하게 조절할 수 있는 유기 캐핑층일 수 있다. 제1 캐핑층(1010a, 1010b)을 구성하는 유기 재료의 종류는 특별히 제한되지 않는다.
제1 캐핑층(1010a)이 유기 캐핑층이고, 제1 캐핑층(1010a)이 제1 광학 영역(OA1)에서 가지는 굴저률이 제1 캐핑층(1010b)이 일반 영역(NA)에서 가지는 굴절률보다 큰 굴절률을 가지는 경우, 더욱 용이하게 큰 투과율을 구현할 수 있다. 예를 들어, 제1 캐핑층이 무기물을 주요 구성 성분으로 하는 무기 캐핑층일 경우 큰 굴절률을 구현하면서 헤이즈 현상이 발생할 수 있는 문제점이 있다. 제1 캐핑층이 증착 공정으로 형성되는 무기 캐핑층일 경우, 제1 캐핑층(1010)의 두께를 조절하는 것이 곤란할 수 있다. 특히, 증착 공정에 의해 형성되는 무기 캐핑층의 두께를 두껍게 형성하는 것은 증착 공정의 특성상 많은 비용과 시간이 소요될 수 있다.
제1 캐핑층(1010a)이 제1 광학 영역(OA1)에서 갖는 굴절률은 제1 캐핑층(1010b)이 일반 영역(NA)에서 갖는 굴절률과 상이할 수 있다. 예를 들면, 제1 캐핑층(1010a)은 제1 광학 영역(OA1)에서의 굴절률이 일반 영역(NA)에서의 굴절률보다 높을 수 있다. 제1 캐핑층(1010a)의 제1 광학 영역(OA1)에서의 굴절률이 일반 영역(NA)에서의 굴절률보다 높을 경우, 제1 광학 영역(OA1)이 더욱 큰 투과율을 가질 수 있다. 따라서, 제1 광학 영역(OA1)에 광학 전자 장치가 위치할 경우 광학 전자 장치가 더욱 많은 양의 빛을 받아들일 수 있으므로 광학 전자 장치가 더욱 효과적으로 작동할 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 서로 상이한 재료로 구성될 수 있다. 이러한 예시들에서, 제1 캐핑층(1010a)이 제1 광학 영역(OA1)에서 갖는 굴절률이 제1 캐핑층(1010b)이 일반 영역(NA)에서 갖는 굴절률과 상이할 수 있으며, 제1 캐핑층(1010a)이 제1 광학 영역(OA1)에서 갖는 굴절률이 제1 캐핑층(1010b)이 일반 영역(NA)에서 갖는 굴절률보다 클 수 있다.
제2 캐핑층(1020)은 제1 캐핑층(1010a, 1010b) 상에 위치할 수 있다. 제2 캐핑층(1020)은 무기물을 포함하는 무기 캐핑층일 수 있다. 예를 들면, 제2 캐핑층(1020)은 SiOx, SiONx 및 Si3N4 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제2 캐핑층(1020)보다 두께가 두꺼울 수 있다. 예를 들어, 제1 캐핑층(1010a, 1010b)이 유기 캐핑층이고, 제2 캐핑층(1020)이 무기 캐핑층일 경우, 유기 캐핑층의 두께를 두껍게 하는 것이 무기 캐핑층의 두께를 두껍게 하는 것보다 용이하므로, 마이크로 캐비티 현상에 의한 효율 향상을 고려하여 캐핑층 전체의 두께를 설계할 때 제1 캐핑층(1010a, 1010b)의 두께를 제2 캐핑층(1020)의 두께보다 두껍게 할 수 있다. 유기 캐핑층인 제1 캐핑층(1010a, 1010b)의 두께를 무기 캐핑층인 제2 캐핑층(1020)보다 두껍게 할 경우, 표시 장치 제작에 소요되는 비용과 시간을 줄일 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 두께가 실질적으로 동일할 수 있다. 예를 들면, 제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 두께가 실질적으로 동일하고, 제1 광학 영역(OA1)에서 가지는 굴절률이 일반 영역(NA)에서 가지는 굴절률보다 클 수 있다. 이러한 실시예들에서 표시 장치는 제1 광학 영역(OA1)에서 보다 높은 투과율을 가질 수 있다.
도 11은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 11을 참조하면, 제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1)에서의 두께가 일반 영역(NA)에서의 두께보다 얇을 수 있다. 제1 캐핑층(1010a)의 두께가 위와 같이 제1 광학 영역(OA1)에서 보다 얇아질 경우, 표시 장치가 제1 광학 영역(OA1)에서 보다 큰 투과율을 가질 수 있다.
제1 캐핑층(1010a)이 제1 광학 영역(OA1)에서 가지는 두께가 제1 캐핑층(1010b)이 일반 영역(NA)에서 가지는 두께보다 얇은 실시예들에 있어서 제1 캐핑층(1010a, 1010b)을 제조하는 방법은, 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 공통된 두께만큼 제1 캐핑층(1010a, 1010b)을 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 공통으로 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 상술한 단계를 포함할 경우 제1 광학 영역(OA1)에 위치하는 캐핑층을 하나의 마스크를 사용하여 제조하고, 일반 영역(NA)에 위치하는 캐핑층을 또 다른 마스크를 사용하여 제조하는 것과 비교할 때 더욱 적은 마스크를 사용할 수 있으므로, 공정 비용을 줄일 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 동일한 재료로 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 동일한 재료로 구성되고, 제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1)에서 일반 영역(NA)보다 얇은 두께를 가질 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1)과 일반 영역(NA)에서 두께 및 굴절률이 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1)에서 일반 영역(NA)보다 얇은 두께를 가지고, 더욱 높은 굴절률을 가질 수 있다. 제1 캐핑층(1010a, 1010b)이 제1 광학 영역(OA1)에서 보다 얇은 두께와 높은 굴절률을 가질 경우, 제1 광학 영역(OA1)이 보다 높은 투과도를 가질 수 있다.
도 12는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 제1 광학 영역의 단면도이다.
도 12를 참조하면, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치는 제1 광학 영역(OA1)에서 뱅크(BANK) 부분의 투과율이 개선된다. 이러한 투과율 개선은 상술하였듯이 제1 캐핑층(1010a)이 제1 광학 영역(OA1)에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 일반 영역(NA)에서와 상이할 경우 달성될 수 있다. 따라서, 제1 광학 영역(OA1)에서 카메라 등의 광학 전자 장치가 위치할 경우 광학 전자 장치가 더욱 효과적으로 광을 수광할 수 있다.
발광 소자는 제1 전극(1030), 제2 전극(1040) 및 제1 전극(1030)과 제2 전극(1040) 사이에 위치하는 발광층(EL)을 포함할 수 있다. 제1 전극(1030)은 공통 전극일 수 있으며, 제2 전극(1040)은 픽셀 전극일 수 있다.
제1 전극(1030)은 제2 전극(1040) 보다 제1 캐핑층(1010a)에 인접하여 위치할 수 있다. 즉, 제2 전극(1040)이 발광층(EL) 하부에 위치하고, 제1 전극(1030)이 발광층(EL) 상에 위치하며, 제1 캐핑층(1010a)이 제1 전극(1030) 상에 위치할 수 있다.
제1 전극(1030)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역에서 두께가 실질적으로 동일할 수 있다. 본 개시의 실시예들은, 제1 광학 영역(OA1)의 투과도를 높이기 위해 제1 전극(1030)의 두께를 일반 영역에서보다 얇게 하지 않고, 제1 전극(1030)의 두께를 일반 영역에서의 두께와 실질적으로 동일하게 할 수 있다. 본 개시의 실시예들은 제1 전극(1030)의 두께를 얇게 하지 않더라도 제1 캐핑층(1010a)의 두께 및 굴절률 중 적어도 하나를 제1 광학 영역(OA1)과 일반 영역에서 서로 상이하도록 함으로써 제1 광학 영역(OA1)이 높은 투과도를 갖게 할 수 있다. 따라서, 본 개시의 실시예들은 제1 광학 영역(OA1)에서 제1 전극(1030)의 두께를 얇게 하여 발광 소자의 자외선에 대한 내구성이 떨어지는 것을 예방할 수 있다.
도 13은 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 일반 영역의 단면도이다.
도 13을 참조하면, 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치는 일반 영역(NA)에서 뱅크(BANK) 부분의 투과율이 제1 광학 영역에서의 투과율보다 상대적으로 낮다. 이는 일반 영역(NA)에 위치하는 제1 캐핑층(1010b)이 광학 영역에 위치하는 제1 캐핑층과 서로 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 상이하기 때문일 수 있다. 일반 영역(NA)은 하부에 카메라 등의 광학 전자 장치가 위치하지 않으므로, 제1 광학 영역보다 투과율이 높더라도 문제되지 않는다.
도 14는 본 개시의 비교예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 14를 참고하면, 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에는 복수의 발광 소자가 위치할 수 있다. 발광 소자는, 제1 발광 소자(ED1), 제2 발광 소자(ED2), 제3 발광 소자(ED3)를 포함할 수 있다.
발광 소자 각각은 서브 픽셀을 구성할 수 있다. 제1 서브 픽셀(SP1)은 제1 발광 소자(ED1)를 포함할 수 있고, 제2 서브 픽셀(SP2)은 제2 발광 소자(ED2)를 포함할 수 있으며, 제3 서브 픽셀(SP3)은 제3 발광 소자를 포함할 수 있다.
도 14에 도시한 비교예는 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)이 모두 동일한 캐핑층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 비교예의 제1 캐핑층(CPL1)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 두께 및 굴절률이 동일할 수 있다.
도 15는 본 개시의 실시예들에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 15를 참고하면, 각각의 서브 픽셀에는 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이한 제1 캐핑층(1010a)이 위치할 수 있다. 예를 들어, 제1 발광 소자(ED1)가 위치하는 제1 서브 픽셀(SP1)의 제1 캐핑층(1010a)과, 제2 발광 소자(ED2)가 위치하는 제2 서브 픽셀(SP2)의 제1 캐핑층(1010a)과, 제3 발광 소자(ED3)가 위치하는 제3 서브 픽셀(SP3)의 제1 캐핑층(1010a)은 서로 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이할 수 있다. 이러한 실시예들에서는, 제1 캐핑층(1010a) 이 제1 발광 소자(ED1), 제2 발광 소자(ED2) 및 제3 발광 소자(ED3)가 방출하는 광에 대하여 마이크로 캐비티에 의해 광 효율을 최대화할 수 있는 굴절률 및 두께를 가질 수 있다. 또한, 이러한 실시예들에서 제1 광학 영역(OA1)에 위치하는 제1 캐핑층(1010a)은 일반 영역(NA)에 위치하는 제1 캐핑층(1010b)과 두께 및 굴절률 중 적어도 하나 이상이 상이할 수 있다.
제1 발광 소자(ED1)는 레드 발광 소자일 수 있고, 제2 발광 소자(ED2)는 그린 발광 소자일 수 있으며, 제3 발광 소자(ED3)는 블루 발광 소자일 수 있다.
도 16은 본 개시의 실시예 및 비교예에 따른 표시 장치의 투과율을 비교한 것이다. 비교예는 도 9에 도시한 것과 같은 구조를 가지며, 실시예는 제1 광학 영역에서 제1 캐핑층의 두께가 비교예보다 더욱 얇고, 굴절률이 더욱 높은 것을 제외하고 비교예와 동일하다.
도 16을 참고하면, 레드 발광 소자, 그린 발광 소자 및 블루 발광 소자 모두에서 비교예(ref.) 보다 실시예(example)가 더욱 우수한 투과도를 가지는 것을 알 수 있다.
도 17은 본 개시의 실시예에 따른 표시 장치의 신뢰성을 비교한 것이다. 도 17은 본 개시의 일 실시예에 따른 표시 장치에 있어서, 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)의 자외선에 대한 내구성을 테스트한 결과이다.
도 17을 참고하면, 레드 발광 소자, 그린 발광 소자 및 블루 발광 소자 모두 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 자외선에 대한 신뢰성 차이가 크지 않은 것을 알 수 있다. 이는 상술하였듯이 본 개시의 실시예들은 제1 광학 영역에서 높은 투과도를 확보하기 위하여 발광층 상에 위치하는 공통 전극인 제1 전극의 두께를 일반 영역에서보다 얇게 형성하지 않고, 실질적으로 동일한 두께로 형성하기 때문에 발광 소자가 제1 광학 영역에서도 우수한 내구성을 가지는 것으로 보인다.
이상에서 설명한 본 개시의 실시예들을 간략하게 설명하면 아래와 같다.
본 개시의 실시예들은 표시 영역(DA), 발광 소자(ED) 및 제1 캐핑층(1010a, 1010b)을 포함하는 표시 장치(100)를 제공한다.
표시 영역(DA)은 제1 광학 영역(OA1) 및 제1 광학 영역(OA1)의 외곽에 위치하는 일반 영역(NA)을 포함한다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 발광 소자(ED) 상에 위치한다. 제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이하다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 유기 캐핑층일 수 있다.
표시 장치(100)는 제1 캐핑층(1010a, 1010b) 상에 위치하고 무기 캐핑층인 제2 캐핑층(1020)을 포함할 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제2 캐핑층(1020)보다 두께가 두꺼울 수 있다.
발광 소자(ED)는 제1 전극(1030), 제2 전극(1040) 및 제1 전극(1030)과 제2 전극(1040) 사이에 위치하는 발광층(EL)을 포함할 수 있다.
제1 전극(1030)은 제2 전극(1040)보다 제1 캐핑층(1010a, 1010b)에 인접하여 위치할 수 있다. 제1 전극(1030)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 두께가 실질적으로 동일할 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1)에서의 두께가 일반 영역(NA)에서의 두께보다 얇을 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 동일한 재료로 구성될 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역에서의 굴절률이 일반 영역에서의 굴절률보다 클 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 서로 상이한 재료로 구성될 수 있다.
제1 캐핑층(1010a, 1010b)은 제1 광학 영역(OA1) 및 일반 영역(NA)에서 두께가 실질적으로 동일할 수 있다.
발광 소자(ED)는 서로 상이한 색을 표시하고 제1 광학 영역(OA1)에 위치하는 제1 발광 소자(ED1) 및 제2 발광 소자(ED2)를 포함할 수 있다.
제1 캐핑층(1010a)은 제1 발광 소자(ED1) 대응하는 영역 및 제2 발광 소자에 대응하는 영역에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이할 수 있다.
이상의 설명은 본 개시의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 개시의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 또한, 본 개시에 개시된 실시예들은 본 개시의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이므로 이러한 실시예에 의하여 본 개시의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 개시의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 개시의 권리 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
100: 표시 장치
1010a, 1010b: 제1 캐핑층
1020: 제2 캐핑층
OA1: 제1 광학 영역
NA: 일반 영역
ED: 발광 소자

Claims (11)

  1. 제1 광학 영역 및 상기 제1 광학 영역의 외곽에 위치하는 일반 영역을 포함하는 표시 영역;
    발광 소자; 및
    상기 발광 소자 상에 위치하는 제1 캐핑층;을 포함하고,
    상기 제1 캐핑층은 제1 광학 영역 및 상기 일반 영역에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이한 표시 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층은 유기 캐핑층인 표시 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층 상에 위치하고, 무기 캐핑층인 제2 캐핑층을 포함하는 표시 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층은 상기 제2 캐핑층보다 두께가 두꺼운 표시 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 발광 소자는 제1 전극; 제2 전극 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 위치하는 발광층을 포함하고,
    상기 제1 전극은 상기 제2 전극보다 상기 제1 캐핑층에 인접하여 위치하고, 상기 제1 광학 영역 및 상기 일반 영역에서 두께가 실질적으로 동일한 표시 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층은 상기 제1 광학 영역에서의 두께가 상기 일반 영역에서의 두께보다 얇은 표시 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층은 상기 제1 광학 영역 및 상기 일반 영역에서 동일한 재료로 구성되는 표시 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층은 상기 제1 광학 영역에서의 굴절률이 상기 일반 영역에서의 굴절률보다 큰 표시 장치.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층은 상기 제1 광학 영역 및 상기 일반 영역에서 서로 상이한 재료로 구성되는 표시 장치.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 캐핑층은 상기 제1 광학 영역 및 상기 일반 영역에서 두께가 실질적으로 동일한 표시 장치.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 발광 소자는 서로 상이한 색을 표시하고, 제1 광학 영역에 위치하는 제1 발광 소자 및 제2 발광 소자를 포함하고,
    상기 제1 캐핑층은 상기 제1 발광 소자에 대응하는 영역 및 상기 제2 발광 소자에 대응하는 영역에서 두께 및 굴절률 중 적어도 하나가 서로 상이한 표시 장치.
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