CN116322194A - 显示装置 - Google Patents
显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116322194A CN116322194A CN202211548503.3A CN202211548503A CN116322194A CN 116322194 A CN116322194 A CN 116322194A CN 202211548503 A CN202211548503 A CN 202211548503A CN 116322194 A CN116322194 A CN 116322194A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- area
- optical
- display device
- cover layer
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K59/879—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
- H10K50/8445—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/60—OLEDs integrated with inorganic light-sensitive elements, e.g. with inorganic solar cells or inorganic photodiodes
- H10K59/65—OLEDs integrated with inorganic image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/858—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
- H10K59/353—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels characterised by the geometrical arrangement of the RGB subpixels
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/351—Thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本公开涉及一种显示装置,该显示装置包括第一覆盖层并通过设计第一光学区域以便第一覆盖层在第一光学区域和普通区域中的相应部分的厚度和折射率中的至少一个彼此不同而使得第一光学区域能够具有较高透射率。
Description
技术领域
本公开涉及电子装置,并且更具体地,涉及显示装置。
背景技术
随着显示技术的进步,除图像显示功能之外,显示装置还可以提供诸如图像捕获功能、感测功能等这样的增加的功能。为了提供这些功能,显示装置可能需要包括诸如相机、用于检测图像的传感器等这样的光学电子装置。
为了接收穿过显示装置前表面的光,可能期望的是,光学电子装置位于显示装置的其中可以有利地接收或检测来自前表面的入射光的区域中。因此,在这种显示装置中,光学电子装置可以位于显示装置的前部部分中,以允许光学电子装置有效地暴露于入射光。为了在这种实现方式中安装光学电子装置,可以设计显示装置的增加的边框,或者可以在显示装置的显示面板的显示区域中形成凹口或孔。
因此,由于显示装置需要光学电子装置接收或检测入射光并执行预期的功能,因此显示装置的前部部分中的边框的大小可能增加,或者在设计显示装置的前部部分时可能遇到明显的限制。
发明内容
发明人已经开发出用于在不减小显示装置的显示面板的显示区域的面积的情况下在显示装置中提供或布设一个或更多个光学电子装置的技术。通过该开发,发明人发明出一种包括光透射结构的显示装置,其中即使当光学电子装置位于显示面板的显示区域下方并因此未暴露于显示装置的前表面中时,光学电子装置也可以正常且正确地接收或检测光。
本公开的一个或更多个实施方式可以提供包括包含下述第一光学区域的显示区域的显示装置,通过将显示区域设计为包括第一光学区域和位于第一光学区域外部的普通区域,所述第一光学区域具有优异的透射率。
本公开的一个或更多个实施方式可以通过包括定位在位于第一光学区域中的发光元件上方的第一覆盖层并允许第一覆盖层的位于第一光学区域和普通区域NA中的相应部分的厚度和折射率中的一个或更多个彼此不同来提供即使当该发光元件的电极不具有小的厚度时也能够使得第一光学区域能够具有优异透射率的显示装置。
根据本公开的方面,提供了一种显示装置,该显示装置包括显示区域、发光元件和位于发光元件上的第一覆盖层。
显示区域可以包括第一光学区域和位于第一光学区域外部的普通区域。
显示装置中所包括的第一覆盖层允许第一覆盖层的位于第一光学区域和普通区域NA中的相应部分的厚度和折射率中的一个或更多个彼此不同。
根据本公开的一个或更多个实施方式,可以通过包括定位在位于第一光学区域中的发光元件上方的第一覆盖层并允许第一覆盖层的位于第一光学区域和普通区域NA中的相应部分的厚度和折射率中的一个或更多个彼此不同来提供即使当该发光元件的电极不具有小的厚度时也能够使得第一光学区域能够具有优异透射率的显示装置。
根据本公开的一个或更多个实施方式,可以提供即使当位于第一光学区域中的发光元件的电极不具有小的厚度时也能够使得第一光学区域也能够具有优异透射率并由此能够防止因为发光元件的电极的厚度减小而发光元件的效率降低或者其寿命缩短的显示装置。
附图说明
被包括以提供对本公开的进一步理解并且被并入本公开中并构成本公开的部分的附图例示了本公开的方面并且与说明书一起用来说明本公开的原理。在附图中:
图1A、图1B和图1C是例示了根据本公开的方面的示例显示装置的平面图;
图2例示了根据本公开的方面的显示装置的示例系统配置;
图3例示了根据本公开的方面的显示装置中的子像素的示例等效电路;
图4例示了根据本公开的方面的显示装置的显示区域中所包括的三个区域中的子像素的示例布置;
图5A例示了根据本公开的方面的显示装置中的第一光学区域和普通区域中的每一个中的信号线的示例布置;
图5B例示了根据本公开的方面的显示装置中的第二光学区域和普通区域中的每一个中的信号线的示例布置;
图6和图7是根据本公开的方面的显示装置的显示区域中所包括的第一光学区域、第二光学区域和普通区域中的每一个的示例截面图;
图8是根据本公开的方面的显示面板的边缘的示例截面图;
图9是根据比较例的显示装置的截面图;
图10和图11是根据本公开的实施方式的显示装置的示例截面图;
图12是根据本公开的方面的显示装置的第一光学区域的示例截面图;
图13是根据本公开的方面的显示装置的普通区域的示例截面图;
图14是根据比较例的显示装置的平面图;
图15是根据本公开的实施方式的显示装置的平面图;
图16例示了根据本公开的实施方式的显示装置和根据比较例的显示装置的相应透射率;并且
图17例示了根据本公开的方面的与显示装置的可靠性相关的测量。
具体实施方式
现在,将详细参照本公开的实施方式,在附图中可以例示这些实施方式的示例。
在以下描述中,本文中描述的结构、实施方式、实现方式、方法和操作不限于本文中阐述的一个具体示例或多个具体示例,并可以如本领域已知地改变,除非另有指定。类似的参考标号始终指定类似的元素,除非另有指定。以下说明中使用的相应元素的名称仅仅是为了方便撰写说明书而选择的,因此可以不同于实际产品中使用的名称。将通过参考附图描述的以下示例实施方式来阐明本公开的优点和特征及其实现方法。然而,本公开可以按不同形式来实施并且不应该被理解为限于本文中阐述的示例实施方式。相反,提供这些示例实施方式以使得本公开可以足够彻底和完整,以辅助本领域的技术人员充分理解本公开的范围。另外,本公开的保护范围由权利要求书及其等同物限定。在下面的描述中,在对相关已知功能或配置的详细描述可能不必要地模糊本公开的方面的情况下,可以省略对这种已知功能或配置的详细描述。在附图中例示的用于描述本公开的各种示例实施方式的形状、大小、比率、角度、数目等仅通过示例的方式给出。因此,本公开不限于图中的例示。在使用术语“包括”、“具有”、“包含”、“含有”、“构成”、“由...组成”、“由...形成”等的情况下,可以添加一个或更多个其它元素,除非使用了诸如“仅”这样的术语。除非上下文另有清楚指示,否则以单数形式描述的元素旨在包括多个元素,反之亦然,
虽然在本文中可以使用术语“第一”、“第二”、A、B、(a)、(b)等来描述各种元素,但这些元素不应该被解释为受这些术语限制,因为它们并不用于限定特定顺序或优先级。这些术语只是用于将一个元素与另一个区分开。例如,在不脱离本公开的范围的情况下,第一元素可以被称为第二元素,并且类似地,第二元素可以被称为第一元素。
对于元件或层“连接”、“联接”或“粘附”到另一元件或层的表述,该元件或层不仅可以直接连接、联接或粘附到另一元件或层,而且可以间接地连接、联接或粘附到另一元件或层,使一个或更多个中间元件或层“设置”或“插置”在这些元件或层之间,除非另有指定。对于元件或层与另一元件或层“接触”、“交叠”等的表述,该元件或层不仅可以与另一元件或层直接接触、交叠等,而且可以与另一元件或层间接接触、交叠等,使一个或更多个中间元件或层“设置”或“插置”在这些元件或层之间,除非另有指定。
在描述位置关系的情况下,例如,在使用“在……上”、“在……上方”、“在……下方”、“在……之上”、“在……之下”、“在……旁边”、“紧接着……”等来描述两个部分之间的位置关系的情况下,一个或更多个其它部分可以位于这两个部分之间,除非使用了诸如“紧靠(地)”、“直接(地)”或“紧密(地)”这样的更限制性的术语。例如,在元件或层设置在另一元件或层“上”的情况下,在其间可以插置第三元件或层。此外,术语“左”、“右”、“顶”、“底”、“向下”、“向上”、“上”、“下”等是指任意的参照系。
在描述位置关系的情况下,例如,在使用“在……上”、“在……上方”、“在……下方”、“在……之上”、“在……之下”、“在……旁边”、“紧接着……”等来描述两个部分之间的位置关系的情况下,一个或更多个其它部分可以位于这两个部分之间,除非使用了诸如“紧靠(地)”、“直接(地)”或“紧密(地)”这样的更限制性的术语。例如,在元件或层设置在另一元件或层“上”的情况下,在其间可以插置第三元件或层。此外,术语“左”、“右”、“顶”、“底”、“向下”、“向上”、“上”、“下”等是指任意的参照系。在描述时间关系时,当时间顺序被描述为例如“之后”、“随后”、“接着”或“之前”时,可以包括不连续的情况,除非使用了诸如“正”、“正好(地)”或“直接(地)”这样的更限制性的术语。另外,术语“可以”完全涵盖了术语“能够”的所有含义。
术语“至少一个”应该被理解为包括关联所列项中的一个或更多个的任意或全部组合。例如,“第一元素、第二元素和第三元素中的至少一个”的含义涵盖了所有三个所列元素的组合、三个元素中的任何两个的组合以及每个单独元素——第一元素、第二元素和第三元素。
第一元素、第二元素“和/或”第三元素的表述应该被理解为第一元素、第二元素和第三元素中的一个或者第一元素、第二元素和第三元素中的任意或全部组合。举例来说,A、B和/或C可以是指:仅A、仅B或仅C;A、B和C的任意或某种组合;或A、B和C的全部。
下文中,参考附图,将详细地描述本公开的各种实施方式。
图1A、图1B和图1C是例示了根据本公开的方面的示例显示装置的平面图。
参照图1A、图1B和图1C,根据本公开的方面的显示装置100可以包括用于显示图像的显示面板PNL以及一个或更多个光学电子装置(11和/或12)。本文中,光学电子装置可以被称为光检测器、光接收器或光感测装置。光学电子装置可以包括相机、相机镜头、传感器、用于检测图像的传感器等中的一个或更多个。
显示面板PNL可以包括其中显示图像的显示区域DA和其中不显示图像的非显示区域NDA。
多个子像素可以布置在显示区域DA中,并且用于驱动多个子像素的若干类型的信号线可以布置在其中。
非显示区域NDA可以是指显示区域DA外部的区域。若干类型的信号线可以布置在非显示区域NDA中,并且若干类型的驱动电路可以与其连接。非显示区域NDA的至少一部分可以被弯折成从显示面板的前方不可见,或者可以被显示面板PNL或显示装置100的壳体(未示出)覆盖。非显示区域NDA也可以被称为边框或边框区域。
参照图1A、图1B和图1C,在根据本公开的方面的显示装置100中,一个或更多个光学电子装置(11和/或12)可以位于显示面板PNL的下方或下部部分(其观察表面的相对侧)中。
光可以进入显示面板PNL的前表面(观察表面),经过显示面板PNL,到达位于显示面板PNL的下方或下部部分(观察表面的相对侧)中的一个或更多个光学电子装置(11和/或12)。
一个或更多个光学电子装置(11和/或12)可以接收或检测透过显示面板PNL的光,并基于接收到的光执行预定义功能。例如,一个或更多个光学电子装置(11和/或12)可以包括以下中的一个或更多个:诸如相机(图像传感器)和/或类似物这样的图像捕获装置;或者诸如接近传感器、照度传感器和/或类似物这样的传感器。
参照图1A、图1B和图1C,在根据本公开的方面的显示面板PNL中,显示区域DA可以包括一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)和普通区域NA。本文中,术语“普通区域”NA是在存在于显示区域DA中时不与一个或更多个光学电子装置(11和/或12)交叠的区域,并还可以被称为非光学区域。
参照图1A、图1B和图1C,一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)可以是与一个或更多个光学电子装置(11和/或12)交叠的一个或更多个区域。
根据图1A的示例,显示区域DA可以包括第一光学区域OA1和普通区域NA。在该示例中,第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠。
根据图1B的示例,显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和普通区域NA。在图1B的示例中,普通区域NA的至少一部分可以存在于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2之间。在该示例中,第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠,并且第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。
根据图1C的示例,显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和普通区域NA。在图1C的示例中,普通区域NA可以不存在于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2之间。例如,第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以彼此接触(例如,直接彼此接触)。在该示例中,第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠,并且第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。
在一些实施方式中,期望在一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中形成图像显示结构和光透射结构。例如,由于一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是显示区域DA的一部分,因此需要在一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中设置用于显示图像的子像素。另外,为了使得光能够透过一个或更多个光学电子装置(11和/或12),需要光透射结构,因此在一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中形成光透射结构。
即使需要一个或更多个光学电子装置(11和/或12)接收或检测光,一个或更多个光学电子装置(11和/或12)也可以位于显示面板PNL的背面(例如,在观察表面的相对侧)。在该实施方式中,一个或更多个光学电子装置(11和/或12)位于例如显示面板PNL的下方或下部部分中,并被配置为接收已透过显示面板PNL的光。
例如,一个或更多个光学电子装置(11和/或12)没有暴露在显示面板PNL的前表面(观察表面)中。相应地,当用户面对显示装置100的前表面时,一个或更多个光学电子装置(11和/或12)被定位为使得它们对于用户是不可见的。
在一个实施方式中,第一光学电子装置11可以是相机,并且第二光学电子装置12可以是诸如接近传感器、照度传感器、红外传感器和/或类似物这样的传感器。例如,相机可以是相机镜头、图像传感器或包括相机镜头和图像传感器中的至少一个的单元。传感器可以例如是能够检测红外线的红外传感器。
在另一实施方式中,第一光学电子装置11可以是传感器,并且第二光学电子装置12可以是相机。
下文中,仅仅为了方便,下面的讨论将参照其中第一光学电子装置11是相机并且第二光学电子装置12是传感器的实施方式。然而,应该理解,本公开的范围包括其中第一光学电子装置11是传感器并且第二光学电子装置12是相机的实施方式。例如,相机可以是相机镜头、图像传感器或包括相机镜头和图像传感器中的至少一个的单元。
在第一光学电子装置11是相机的示例中,该相机可以位于显示面板PNL的背面(例如,在其下方或下部部分中),并且是能够捕获显示面板PNL的前方方向上的对象或图像的前置相机。相应地,用户可以在看着显示面板PNL的观察表面的同时通过相机捕获在观察表面上不可见的图像或对象。
尽管在图1A、图1B和图1C中的每一个中的显示区域DA中所包括的普通区域NA和一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是其中可以显示图像的区域,但普通区域NA是其中不需要形成光透射结构的区域,而一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是其中需要形成光透射结构的区域。因此,在一些实施方式中,普通区域NA是其中未实现或包括光透射结构的区域,并且一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是其中实现或包括光透射结构的区域。
相应地,一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)可以具有大于或等于预定水平的透射率,即,相对高的透射率,并且普通区域NA可以没有透光率或具有小于预定水平的透射率,即,相对低的透射率。
例如,一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)可以具有与普通区域NA的分辨率、子像素排列结构、每单位面积的子像素数目、电极结构、线结构、电极排列结构、线排列结构、或/和类似物不同的分辨率、子像素排列结构、每单位面积的子像素数目、电极结构、线结构、电极排列结构、线排列结构、或/和类似物。
在一个实施方式中,一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中每单位面积的子像素的数目可以小于普通区域NA中每单位面积的子像素的数目。例如,一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)的分辨率可以低于普通区域NA的分辨率。这里,每单位面积的子像素数目可以是用于测量分辨率的单元,例如,被称为表示1英寸内的像素数目的每英寸像素(或子像素)(PPI)。
在一个实施方式中,在图1A、图1B和图1C中的每一个中,第一光学区域OA1中每单位面积的子像素的数目可以小于普通区域NA中每单位面积的子像素的数目。在一个实施方式中,在图1B和图1C中的每一个中,第二光学区域OA2中每单位面积的子像素的数目可以大于或等于第一光学区域OA1中每单位面积的子像素的数目。
在图1A、图1B和图1C中的每一个中,第一光学区域OA1可以具有诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等这样的各种形状。在图1B和图1C中的每一个中,第二光学区域OA2可以具有诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等这样的各种形状。第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以具有相同的形状或不同的形状。
参照图1C,在第一光学区域OA1与第二光学区域OA2彼此接触的示例中,包括第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的整个光学区域还可以具有诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八角形等这样的各种形状。
下文中,为了便于描述,将基于其中第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个具有圆形形状的实施方式提供讨论。然而,应该理解,本公开的范围包括其中第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的一者或二者具有除圆形形状之外的形状的实施方式。
在根据本公开的方面的显示装置100具有诸如相机等这样的第一光学电子装置11位于显示面板PNL的下方或下部部分中而没有暴露于外部的结构的示例中,根据本公开的方面的这样的显示装置100可以被称为其中实现了屏下相机(UDC)技术的显示器。
根据这些示例,根据本公开的方面的显示装置100由于不需要在显示面板PNL中形成用于暴露相机的凹口或相机孔而可以具有防止显示区域DA的大小减小的优点。
由于不需要在显示面板PNL中形成用于暴露相机的凹口或相机孔,因此显示装置100可以具有减小边框区域的大小并由于消除了对设计的这种限制而提高了设计自由度的其它优点。
尽管一个或更多个光学电子装置(11和/或12)被定位为覆盖在根据本公开的方面的显示装置100中的显示面板PNL的背面(下方或下部部分中),即,被隐藏从而没有暴露于外部,但需要一个或更多个光学电子装置(11和/或12)能够接收或检测用于正常执行预定义功能的光。
另外,在根据本公开的方面的显示装置100中,尽管一个或更多个光学电子装置(11和/或12)被定位为覆在显示面板PNL的背面(下方或下部部分中)并定位为与显示区域DA交叠,但有必要在区域DA中的与一个或更多个光学电子装置(11和/或12)交叠的一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中正常地执行图像显示。
图2例示了根据本公开的方面的显示装置100的示例系统配置。
参照图2,显示装置100可以包括显示面板PNL和显示驱动电路作为用于显示图像的部件。
显示驱动电路是用于驱动显示面板PNL的电路,并可以包括数据驱动电路DDC、选通驱动电路GDC、显示控制器DCTR和其它部件。
显示面板PNL可以包括其中显示图像的显示区域DA和其中不显示图像的非显示区域NDA。非显示区域NDA可以是显示区域DA外部的区域,也可以被称为边缘区域或边框区域。非显示区域NDA的全部或一部分可以是从显示装置100的前表面可见的区域或被弯折并且从显示装置100的前表面不可见的区域。
显示面板PNL可以包括基板SUB和设置在基板SUB上的多个子像素SP。显示面板PNL还可以包括用于驱动多个子像素SP的各种类型的信号线。
在一些实施方式中,本文中的显示装置100可以是液晶显示装置等或其中从显示面板PNL本身发射光的自发射显示装置。在一些实施方式中,当显示装置100是自发射显示装置时,多个子像素SP中的每一个可以包括发光元件。
在一个实施方式中,根据本公开的方面的显示装置100可以是其中使用有机发光二极管(OLED)实现发光元件的有机发光显示装置。在另一实施方式中,根据本公开的方面的显示装置100可以是其中使用基于无机材料的发光二极管实现发光元件的无机发光显示装置。在又另一实施方式中,根据本公开的方面的显示装置100可以是其中使用作为自发射半导体晶体的量子点来实现发光元件的量子点显示装置。
多个子像素SP中的每一个的结构可以根据显示装置100的类型而变化。例如,当显示装置100是包括自发射子像素SP的自发射显示装置时,每个子像素SP可以包括自发射发光元件、一个或更多个晶体管和一个或更多个电容器。
布置在显示装置100中的各种类型的信号线可以包括例如用于携带数据信号(可以被称为数据电压或图像信号)的多条数据线DL、用于携带选通信号(可以被称为扫描信号)的多条选通线GL等。
多条数据线DL和多条选通线GL可以彼此相交。多条数据线DL中的每一条可以在第一方向上延伸。多条选通线GL中的每一条可以在第二方向上延伸。
例如,第一方向可以是列或垂直方向,并且第二方向可以是行或水平方向。在另一示例中,第一方向可以是行方向,并且第二方向可以是列方向。
数据驱动电路DDC是用于驱动多条数据线DL的电路,并可以将数据信号供应到多条数据线DL。选通驱动电路GDC是用于驱动多条选通线GL的电路,并可以将选通信号供应到多条选通线GL。
显示控制器DCTR可以是用于控制数据驱动电路DDC和选通驱动电路GDC的装置,并可以控制多条数据线DL的驱动定时和多条选通线GL的驱动定时。
显示控制器DCTR可以将数据驱动控制信号DCS供应到数据驱动电路DDC以控制数据驱动电路DDC,并将选通驱动控制信号GCS供应到选通驱动电路GDC以控制选通驱动电路GDC。
显示控制器DCTR可以从主机系统HSYS接收输入图像数据,并基于输入图像数据将图像数据Data供应到数据驱动电路DDC。
数据驱动电路DDC可以根据显示控制器DCTR的驱动定时控制将数据信号供应到多条数据线DL。
数据驱动电路DDC可以从显示控制器DCTR接收数字图像数据Data,将接收到的图像数据Data转换为模拟数据信号,并将所得的模拟数据信号供应到多条数据线DL。
选通驱动电路GDC可以根据显示控制器DCTR的定时控制将选通信号供应到多条选通线GL。选通驱动电路GDC可以将对应于导通电平电压的第一选通电压和对应于截止电平电压的第二选通电压连同各种选通驱动控制信号GCS一起接收,生成选通信号,并将所生成的选通信号供应到多条选通线GL。
在一些实施方式中,数据驱动电路DDC可以以载带自动键合(TAB)类型连接到显示面板PNL,或者以玻上芯片(COG)类型或板上芯片(COP)类型连接到显示面板PNL的诸如键合焊盘这样的导电焊盘,或者以膜上芯片(COF)类型连接到显示面板PNL。
在一些实施方式中,选通驱动电路GDC可以以载带自动键合(TAB)类型连接到显示面板PNL,或者以玻上芯片(COG)类型或板上芯片(COP)类型连接到显示面板PNL的诸如键合焊盘这样的导电焊盘,或者以膜上芯片(COF)类型连接到显示面板PNL。在另一实施方式中,选通驱动电路GDC可以以面板内选通(GIP)类型设置在显示面板PNL的非显示区域NDA中。选通驱动电路GDC可以设置在基板上或上方,或者连接到基板。即,在GIP类型的情况下,选通驱动电路GDC可以设置在基板的非显示区域NDA中。在玻上芯片(COG)类型、膜上芯片(COF)类型等的情况下,选通驱动电路GDC可以连接到基板。
在一些实施方式中,数据驱动电路DDC和选通驱动电路GDC中的至少一个可以设置在显示面板PNL的显示区域DA中。例如,数据驱动电路DDC和选通驱动电路GDC中的至少一个可以被设置为不与子像素SP交叠,或者被设置为与子像素SP中的一个或更多个或全部交叠。
数据驱动电路DDC还可以(但不限于)位于显示面板PNL的仅一个侧面或部分(例如,上边缘或下边缘)上。在一些实施方式中,数据驱动电路DDC可以(但不限于)根据驱动方案、面板设计方案等而位于显示面板PNL的两个侧面或部分(例如,上边缘和下边缘)中或显示面板PNL的四个侧面或部分(例如,上边缘、下边缘、左边缘和右边缘)中的至少两个中。
选通驱动电路GDC可以位于显示面板PNL的仅一个侧面或部分(例如,左边缘或右边缘)中。在一些实施方式中,选通驱动电路GDC可以根据驱动方案、面板设计方案等而连接到面板PNL的两个侧面或部分(例如,左边缘和右边缘),或者连接到面板PNL的四个侧面或部分(例如,上边缘、下边缘、左边缘和右边缘)中的至少两个。
显示控制器DCTR可以在与数据驱动电路DDC分开的部件中实现,或者与数据驱动电路DDC集成并因此在集成电路中实现。
显示控制器DCTR可以是在典型显示技术中使用的定时控制器或除典型定时控制器的功能之外还能够执行其它控制功能的控制器或控制装置。在一些实施方式中,显示控制器DCTR可以是与定时控制器不同的控制器或控制装置或控制器或控制装置中所包括的电路或部件。显示控制器DCTR可以用诸如集成电路(IC)、现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)、处理器和/或类似物这样的各种电路或电子部件来实现。
显示控制器DCTR可以安装在印刷电路板、柔性印刷电路和/或类似物上,并通过印刷电路板、柔性印刷电路和/或类似物电连接到选通驱动电路GDC和数据驱动电路DDC。
显示控制器DCTR可以经由一个或更多个预定义接口向数据驱动电路DDC发送信号并从其接收信号。在一些实施方式中,这样的接口可以包括低压差分信令(LVDS)接口、嵌入式时钟点-点接口(EPI)、串行外围接口(SPI)等。
在一些实施方式中,为了除图像显示功能之外还提供触摸感测功能,显示装置100可以包括至少一个触摸传感器以及能够检测是否因诸如手指、笔等这样的触摸对象而出现触摸事件或者通过感测触摸传感器而检测相应触摸位置的触摸感测电路。
触摸感测电路可以包括能够通过驱动和感测触摸传感器而生成并提供触摸感测数据的触摸驱动电路TDC、能够检测触摸事件的出现或者使用触摸感测数据检测触摸位置的触摸控制器TCTR以及一个或更多个其它部件。
触摸传感器可以包括多个触摸电极。触摸传感器还可以包括用于将多个触摸电极电连接到触摸驱动电路TDC的多条触摸线。
触摸传感器可以在触摸面板中实现,或者在显示面板PNL的外部以触摸面板的形式实现,或者在显示面板PNL的内部实现。在触摸传感器在触摸面板中实现或者以触摸面板的形式在显示面板PNL的外部实现的示例中,这种触摸传感器被称为附加型(add-ontype)。在其中设置有附加型触摸传感器的示例中,触摸面板和显示面板PNL可以在组装工艺期间被单独制造和联接。附加型触摸面板可以包括触摸面板基板和在触摸面板基板上的多个触摸电极。
在触摸传感器在显示面板PNL的内部实现的示例中,制造显示面板PNL的处理可以包括将触摸传感器与和驱动显示装置100相关的信号线和电极一起设置在基板SUB上方。
触摸驱动电路TDC可以将触摸驱动信号供应到多个触摸电极中的至少一个,并感测多个触摸电极中的至少一个以生成触摸感测数据。
触摸感测电路可以使用自电容感测技术或互电容感测技术来执行触摸感测。
在触摸感测电路以自电容感测技术执行触摸感测的示例中,触摸感测电路可以基于每个触摸电极与触摸对象(例如,手指、笔等)之间的电容来执行触摸感测。
根据自电容感测方法,多个触摸电极中的每一个可以用作驱动触摸电极和感测触摸电极二者。触摸驱动电路TDC可以驱动多个触摸电极中的全部或一个或更多个,并感测多个触摸电极中的全部或一个或更多个。
在触摸感测电路以互电容感测技术执行触摸感测的示例中,触摸感测电路可以基于触摸电极之间的电容来执行触摸感测。
根据互电容感测方法,多个触摸电极被划分为驱动触摸电极和感测触摸电极。触摸驱动电路TDC可以驱动驱动触摸电极并感测感测触摸电极。
触摸感测电路中所包括的触摸驱动电路TDC和触摸控制器TCTR可以在分开的装置中或在单个装置中实现。另外,触摸驱动电路TDC和数据驱动电路DDC可以在分开的装置中或在单个装置中实现。
显示装置100还可以包括用于向显示驱动电路和/或触摸感测电路供应各种类型的电力的电源电路。
在一些实施方式中,显示装置100可以是诸如智能电话、平板等这样的移动终端、或监视器、电视机(TV)等。这种装置可以具有各种类型、大小和形状。根据本公开的实施方式的显示装置100不限于此,并包括用于显示信息或图像的各种类型、大小和形状的显示器。
如上所述,显示面板PNL的显示区域DA可以包括普通区域(例如,图1A、图1B和图1C的普通区域NA)和一个或更多个光学区域(例如,图1A、图1B和图1C的第一光学区域OA1和/或第二光学区域OA2)。
普通区域NA和一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是其中可以显示图像的区域。然而,普通NA是其中不需要实现光透射结构的区域,并且一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是其中需要实现光透射结构的区域。
如以上针对图1A、图1B和图1C的示例讨论的,尽管显示面板PNL的显示区域DA除普通区域NA之外还可以包括一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2),但为了便于描述,在下面的讨论中,假定显示区域DA包括第一光学区域和第二光学区域(OA1和OA2)以及普通区域NA;并且其普通区域NA包括图1A至图1C中的普通区域NA,并且其第一光学区域和第二光学区域(OA1、OA2)分别包括图1A、图1B和图1C中的第一光学区域OA1以及图1B和图1C中的第二光学区域OA2,除非另有明确阐述。
图3例示了根据本公开的方面的显示面板PNL中的子像素SP的示例等效电路。
设置在显示面板PNL的显示区域DA中所包括的普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的子像素SP中的每一个可以包括发光元件ED、用于驱动发光元件ED的驱动晶体管DRT、用于将数据电压Vdata传输到驱动晶体管DRT的第一节点N1的扫描晶体管SCT、用于在一帧期间将电压保持在近似恒定电平的存储电容器Cst等。
驱动晶体管DRT可以包括被施加数据电压的第一节点N1、电连接到发光元件ED的第二节点N2以及通过驱动电压线DVL被施加驱动电压ELVDD的第三节点N3。在驱动晶体管DRT中,第一节点N1可以是栅极节点,第二节点N2可以是源极节点或漏极节点,并且第三节点N3可以是漏极节点或源极节点。
发光元件ED可以包括阳极电极AE、发光层EL和阴极电极CE。阳极电极AE可以是设置在每个子像素SP中的像素电极,并且可以电连接到每个子像素SP的驱动晶体管DRT的第二节点N2。阴极电极CE可以是共同设置在多个子像素SP中的公共电极,并且诸如低电平电压这样的基电压ELVSS可以被施加到阴极电极CE。
例如,阳极电极AE可以是像素电极,并且阴极电极CE可以是公共电极。在另一示例中,阳极电极AE可以是公共电极,并且阴极电极CE可以是像素电极。为了便于描述,在下面的讨论中,假定阳极电极AE是像素电极,并且阴极电极CE是公共电极,除非另有明确阐述。
发光元件ED可以是例如有机发光二极管(OLED)、无机发光二极管、量子点发光元件等。在其中使用有机发光二极管作为发光元件ED的示例中,发光元件ED中所包括的发光层EL可以包括含有有机材料的有机发光层。
扫描晶体管SCT可以因作为通过选通线GL施加的选通信号的扫描信号SCAN而导通和截止,并电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1和数据线DL之间。
存储电容器Cst可以电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1和第二节点N2之间。
每个子像素SP可以包括两个晶体管(2T:DRT和SCT)和一个电容器(1C:Cst)(可以被称为“2T1C结构”),如图3中例示的,并且在某些情况下,还可以包括一个或更多个晶体管,或者还可以包括一个或更多个电容器。
在一些实施方式中,可以存在于驱动晶体管DRT的第一节点N1和第二节点N2之间的存储电容器Cst可以是并非诸如寄生电容器(例如,栅极-源极电容Cgs、栅极-漏极电容Cgd等)这样的内部电容器的被有意配置或设计为位于驱动晶体管DRT外部的外部电容器。
驱动晶体管DRT和扫描晶体管SCT中的每一个可以是n型晶体管或p型晶体管。
由于每个子像素SP中的电路元件(例如,特别地,发光元件ED)易受外部水分或氧气的影响,因此可以在显示面板PNL中设置封装层ENCAP,以便防止外部水分或氧气渗透到电路元件(例如,特别地,发光元件ED)中。封装层ENCAP可以被设置为覆盖发光元件ED。
在一些实施方式中,作为用于增加第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的至少一个的透射率的方法,可以应用一种技术(其可以被称为“像素密度区分设计方案”),使得像素(或子像素)的密度或像素(或子像素)的集成度可以如上所述地不同。根据像素密度区分设计方案,在一个实施方式中,显示面板PNL可以被设计成使得第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的至少一个的每单位面积的子像素的数目小于普通区域NA的每单位面积的子像素的数目。
在另一实施方式中,作为用于增加第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的至少一个的透射率的另一种方法,可以应用另一种技术(其可以被称为“像素大小区分设计方案”),使得像素(或子像素)的大小可以不同。根据像素大小区分设计方案,显示面板PNL可以被设计为使得第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的至少一个的每单位面积的子像素的数目等于普通区域NA的每单位面积的子像素的数目或与其相近;然而,设置在第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的至少一个中的每个子像素SP的大小(即,相应发光区域的大小)小于设置在普通区域NA中的每个子像素SP的大小(即,相应发光区域的大小)。
为了便于描述,基于用于增加第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的至少一个的透射率的两种方案(即,像素密度区分设计方案和像素大小区分设计方案)中的像素密度区分设计方案来提供下面的讨论,除非另有明确阐述。
图4例示了根据本公开的方面的显示面板PNL的显示区域DA中所包括的三个区域(NA、OA1和OA2)中的子像素SP的示例布置。
参照图4,在一些实施方式中,多个子像素SP可以设置在显示区域DA中所包括的普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个中。
多个子像素SP可以包括例如发射红光的红色子像素(红色SP)、发射绿光的绿色子像素(绿色SP)和发射蓝光的蓝色子像素(蓝色SP)。
相应地,普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个可以包括一个或更多个红色子像素(红色SP)的一个或更多个发光区域EA以及一个或更多个绿色子像素(绿色SP)的一个或更多个发光区域EA以及一个或更多个蓝色子像素(蓝色SP)的一个或更多个发光区域EA。
参照图4,在一些实施方式中,普通区域NA不可以包括光透射结构,但可以包括发光区域EA。
相比之下,在一些实施方式中,第一光学区域OA1和第二光学区域OA2需要包括发光区域EA和光透射结构二者。
相应地,第一光学区域OA1可以包括一个或更多个发光区域EA和一个或更多个第一透射区域TA1,并且第二光学区域OA2可以包括一个或更多个发光区域EA以及一个或更多个第二透射区域TA2。
发光区域EA和透射区域(TA1和/或TA2)可以根据是否允许光的透射而不同。例如,发光区域EA可以是不允许光透射的区域(例如,不允许光透射到显示面板的背面),并且透射区域(TA1和/或TA2)可以是允许光透射(例如,允许光线透射到显示面板的背面)的区域。
根据是否包括特定金属层,发光区域EA和透射区域(TA1和/或TA2)也可以是不同的。例如,如图3中例示的阴极电极CE可以设置在发光区域EA中,并且阴极电极CE可以不设置在透射区域(TA1和/或TA2)中。在一些实施方式中,遮光层可以设置在发光区域EA中,并且遮光层可以不设置在透射区域(TA1和/或TA2)中。
由于第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1并且第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2,因此第一光学区域OA1和第二光学区域OA2二者都是光可以透过的区域。
在一个实施方式中,第一光学区域OA1的透射率(透射度)和第二光学区域OA2的透射率(透射度)可以基本上相等。
例如,第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有基本上相同的形状或大小。在另一示例中,即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有不同的形状或大小时,第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率和第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率也可以基本上相等。在示例中,第一透射区域TA1中的每一个具有相同的形状和大小。在示例中,第二透射区域TA2中的每一个具有相同的形状和大小。
在另一实施方式中,第一光学区域OA1的透射率(透射度)和第二光学区域OA2的透射率(透射度)可以不同。
例如,第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有不同的形状或大小。在另一示例中,即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本上相同的形状或大小时,第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率和第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率也可以彼此不同。
例如,在如图1A、图1B和图1C中例示的与第一光学区域OA1交叠的第一光学电子装置11是相机并且如图1B和图1C中例示的与第二光学区域OA2交叠的第二光学电子装置12是用于检测图像的传感器的示例中,相机可能需要比传感器更大量的光。
因此,第一光学区域OA1的透射率(透射度)可以大于第二光学区域OA2的透射率(透射度)。
例如,第一光学区域OA1的第一透射区域TA1的大小可以大于第二光学区域OA2的第二透射区域TA2的大小。在另一示例中,即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本上相同的大小时,第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率也可以大于第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率。
为了便于描述,下面的讨论是基于其中第一光学区域OA1的透射率(透射度)大于第二光学区域OA2的透射率(透射度)的实施方式来提供的。
另外,如图4中所示的透射区域(TA1、TA2)可以被称为透明区域,并且术语透射率可以被称为透明度。
另外,在下面的讨论中,假定第一光学区域OA1和第二光学区域OA2位于显示面板PNL的显示区域DA的上边缘中并如图4中所示地被设置为彼此水平相邻,诸如设置在上边缘延伸的方向上,除非另有明确阐述。
参照图4,其中设置有第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的水平显示区域被称为第一水平区域HA1,并且其中没有设置第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的另一水平显示区域被称为第二水平区域HA2。
参照图4,第一水平区域HA1可以包括普通区域NA的一部分、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2。第二水平区域HA2可以仅包括普通区域NA的另一部分。
图5A例示了根据本公开的方面的显示面板PNL的第一光学区域(例如,在以上讨论的图中,第一光学区域OA1)和普通区域(例如,在以上讨论的图中,普通区域NA)中的每一个中的信号线的示例布置。图5B例示了根据本公开的方面的显示面板PNL的第二光学区域(例如,在以上讨论的图中,第二光学区域OA2)和普通区域NA中的每一个中的信号线的示例布置。
图5A和图5B中示出的第一水平区域HA1是显示面板PNL的第一水平显示区域(例如,图4的第一水平区域HA1)的一部分,并且第二水平区域HA2是显示面板PNL的第二水平区域(例如,图4的第二水平区域HA2)的一部分。
图5A中示出的第一光学区域OA1是显示面板PNL的第一光学区域(例如,在以上讨论的图中,第一光学区域OA1)的一部分,并且图5B中示出的第二光学区域OA2是显示面板PNL的第二光学区域(例如,在以上讨论的图中,第二光学区域OA2)的一部分。
参照图5A和图5B,第一水平区域HA1可以包括普通区域NA的一部分、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2。第二水平区域HA2可以包括普通区域NA的另一部分。
各种类型的水平线(HL1和HL2)和各种类型的垂直线(VLn、VL1和VL2)可以设置在显示面板PNL中。
在一些实施方式中,术语“水平”和术语“垂直”用于表示与显示面板相交的两个方向;然而,应该注意,水平方向和垂直方向可以根据观察方向而改变。水平方向可以是指例如一条选通线GL延伸的方向,并且垂直方向可以是指例如一条数据线DL延伸的方向。如此,术语水平和术语垂直用于表示两个方向。
参照图5A和图5B,设置在显示面板PNL中的水平线可以包括设置在第一水平区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平区域HA2中的第二水平线HL2。
设置在显示面板PNL中的水平线可以是选通线GL(可以被称为扫描线)。即,第一水平线HL1和第二水平线HL2可以是选通线GL。根据一个或更多个子像素SP的结构,选通线GL可以包括各种类型的选通线。
参照图5A和图5B,设置在显示面板PNL中的垂直线可以包括仅设置在普通区域NA中的普通垂直线VLn、延伸通过第一光学区域OA1和普通区域NA二者的第一垂直线VL1以及延伸通过第二光学区域OA2和普通区域NA二者的第二垂直线VL2。
设置在显示面板PNL中的垂直线可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等,并且还可以包括参考电压线、初始化电压线等。即,普通垂直线VLn、第一垂直线VL1和第二垂直线VL2可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等,并且还可以包括参考电压线、初始化电压线等。
在一些实施方式中,应该注意,第二水平线HL2中的术语“水平”可以仅意指信号被从显示面板的左侧运送到右侧(或从右侧运送到左侧),并可能并不意味着第二水平线HL2仅在直接水平方向上沿直线延伸。例如,在图5A和图5B中,尽管第二水平线HL2以直线例示,但第二水平线HL2中的一条或更多条可以包括与图5A和图5B中示出的配置不同的一个或更多个弯折或折叠部分。同样地,第一水平线HL1中的一条或更多条还可以包括一个或更多个弯折或折叠部分。
在一些实施方式中,应该注意,普通垂直线VLn中的术语“垂直”可以仅意指信号被从显示面板的上部部分运送到下部部分(或从下部部分运送到上部部分),并可能并不意味着普通垂直线VLn仅在直接垂直方向上沿直线延伸。例如,在图5A和图5B中,尽管普通垂直线VLn以直线例示,但普通垂直线VLn中的一条或更多条可以包括与图5A和图5B中示出的配置不同的一个或更多个弯折或折叠部分。同样地,第一垂直线VL1中的一条或更多条和第二垂直线VL2中的一条或更多条还可以包括一个或更多个弯折或折叠部分。
参照图5A,第一水平区域HA1中所包括的第一光学区域OA1可以包括如图4中所示的发光区域EA和第一透射区域TA1。在第一光学区域OA1中,第一透射区域TA1的相应外部区域可以包括发光区域EA。
参照图5A,为了提高第一光学区域OA1的透射率,第一水平线HL1可以延伸通过第一光学区域OA1,同时避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1。
相应地,延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每一条可以包括围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
相应地,设置在第一水平区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平区域HA2中的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。例如,延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1和未延伸通过第一光学区域OA1的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。
另外,为了提高第一光学区域OA1的透射率,第一垂直线VL1可以延伸通过第一光学区域OA1,同时避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1。
相应地,延伸通过第一光学区域OA1的第一垂直线VL1中的每一条可以包括围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此,延伸通过第一光学区域OA1的第一垂直线VL1和设置在普通区域NA中而未延伸通过第一光学区域OA1的普通垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。
参照图5A,第一水平区域HA1中的第一光学区域OA1中所包括的第一透射区域TA1可以布置在对角线方向上。
参照图5A,在第一水平区域HA1中的第一光学区域OA1中,一个或更多个发光区域EA可以设置在两个水平相邻的第一透射区域TA1之间。在第一水平区域HA1中的第一光学区域OA1中,一个或更多个发光区域EA可以设置于在上下方向上彼此相邻的两个第一透射区域TA1(例如,垂直相邻的两个第一透射区域TA1)之间。
参照图5A,设置在第一水平区域HA1中的第一水平线HL1中的每一条(例如,延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每一条)可以包括围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
参照图5B,第一水平区域HA1中所包括的第二光学区域OA2可以包括发光区域EA和第二透射区域TA2。在第二光学区域OA2中,第二透射区域TA2的相应外部区域可以包括发光区域EA。
在一个实施方式中,第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1基本上相同的位置和布置。
在另一实施方式中,如图5B中所示,第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。
例如,参照图5B,第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以在水平方向(左到右或右到左方向)上布置。在该示例中,在左右方向(例如,水平方向)上彼此相邻的两个第二透射区域TA2之间可以不设置发光区域EA。另外,在上下方向(例如,垂直方向)上彼此相邻的第二透射区域TA2之间可以设置第二光学区域OA2中的发光区域EA中的一个或更多个。例如,一个或更多个发光区域EA可以设置在两行第二透射区域之间。
当在第一水平区域HA1中第一水平线HL1延伸通过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的普通区域NA时,在一个实施方式中,第一水平线HL1可以具有与图5A的第一水平线HL1基本上相同的布置。
在另一实施方式中,如图5B中所示,当在第一水平区域HA1中延伸通过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的普通区域NA时,第一水平线HL1可以具有与图5A的第一水平线HL1不同的布置。
这是因为,图5B的第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。
参照图5B,当在第一水平区域HA1中第一水平线HL1延伸通过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的普通区域NA时,第一水平线HL1可以在垂直相邻的第二透射区域TA2之间沿直线延伸,而没有弯曲或弯折部分。
例如,一条第一水平线HL1可以在第一光学区域OA1中具有一个或更多个弯曲或弯折部分,但可以在第二光学区域OA2中没有弯曲或弯折部分。
为了提高第二光学区域OA2的透射率,第二垂直线VL2可以延伸通过第二光学区域OA2,同时避开第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2。
相应地,延伸通过第二光学区域OA2的第二垂直线VL2中的每一条可以包括围绕第二透射区域TA2中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此,延伸通过第二光学区域OA2的第二垂直线VL2和设置在普通区域NA中而未延伸通过第二光学区域OA2的普通垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。
如图5A中所示,延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条可以具有围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
相应地,延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的长度可以略长于仅设置在普通区域NA中而未延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的长度。
相应地,被称为第一电阻的延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的电阻可以略大于被称为第二电阻的仅设置在普通区域NA中而未延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的电阻。
参照图5A和图5B,根据光透射结构,由于与第一光学电子装置11至少部分交叠的第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1并且与第二光学电子装置12至少部分交叠的第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2,因此,第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的每单位面积的子像素数目可以小于普通区域NA。
相应地,与延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条连接的子像素的数目可以不同于与仅设置在普通区域NA中而未延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条连接的子像素的数目。
被称为第一数目的与延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条连接的子像素的数目可以小于被称为第二数目的与仅设置在普通区域NA中而未延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条连接的子像素的数目。
第一数目与第二数目之间的差值可以根据第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个的分辨率与普通区域NA的分辨率之间的差值而变化。例如,随着第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个的分辨率与普通区域NA的分辨率之间的差值增大,第一数目与第二数目之间的差值可以增大。
如上所述,由于与延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条连接的子像素的数目(第一数目)小于与仅设置在普通区域NA中而未延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条连接的子像素的数目(第二数目),因此其中第一水平线HL1与和第一水平线HL1相邻的一个或更多个其它电极或线交叠的面积可以小于第二水平线HL2与和第二水平线HL2相邻的一个或更多个其它电极或线交叠的面积。
相应地,被称为第一电容的在第一水平线HL1和与第一水平线HL1相邻的一个或更多个其它电极或线之间形成的寄生电容可以大大小于被称为第二电容的在第二水平线HL2和与第二水平线HL2相邻的一个或更多个其它电极或线之间形成的寄生电容。
考虑到第一电阻与第二电阻之间的大小关系(第一电阻≥第二电阻)以及第一电容与第二电容之间的大小关系(第一电容<<第二电容),被称为第一RC值的延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的电阻-电容(RC)值可以大大小于被称为第二RC值的仅设置在普通区域NA中而未延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的RC值。因此,在该示例中,第一RC值大大小于第二RC值(即,第一RC值<<第二RC值)。
由于被称为RC负载差的第一水平线HL1的第一RC值与第二水平线HL2的第二RC值之间的这种差异,通过第一水平线HL1的信号传输特性可以不同于通过第二水平线HL2的信号传输特性。
图6和图7是根据本公开的方面的显示面板PNL的显示区域DA中所包括的第一光学区域(在以上讨论的图中,第一光学区域OA1)、第二光学区域(例如,在以上讨论的图中,第二光学区域OA2)和普通区域(例如,在以上讨论的图中,普通区域NA)中的每一个的示例截面图。
图6例示了其中触摸传感器以触摸面板的形式存在于显示面板PNL外部的示例中的显示面板PNL。图7例示了其中触摸传感器TS存在于显示面板PNL内部的示例中的显示面板PNL。
图6和图7中的每一个示出了显示区域DA中所包括的普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的示例截面图。
首先,将参考图6和图7描述普通区域NA的堆叠结构。第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的相应发光区域EA可以具有与普通区域NA的发光区域EA相同的堆叠结构。
参照图6和图7,基板SUB可以包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2。层间绝缘层IPD可以插置在第一基板SUB1和第二基板SUB2之间。由于基板SUB包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2,因此基板SUB可以防止或减少水分的渗透。第一基板SUB1和第二基板SUB2可以是例如聚酰亚胺(PI)基板。第一基板SUB1可以被称为主PI基板,并且第二基板SUB2可以被称为辅助PI基板。
参照图6和图7,用于设置诸如驱动晶体管DRT等这样的一个或更多个晶体管的各种类型的图案ACT、SD1、GATE、各种类型的绝缘层MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0和各种类型的金属图案TM、GM、ML1、ML2可以设置在基板SUB上或上方。
参照图6和图7,多缓冲层MBUF可以设置在第二基板SUB2上,并且第一有源缓冲层ABUF1可以设置在多缓冲层MBUF上。
第一金属层ML1和第二金属层ML2可以设置在第一有源缓冲层ABUF1上。第一金属层ML1和第二金属层ML2可以是例如用于遮光的遮光层LS。
第二有源缓冲层ABUF2可以设置在第一金属层ML1和第二金属层ML2上。驱动晶体管DRT的有源层ACT可以设置在第二有源缓冲层ABUF2上。
栅极绝缘层GI可以被设置为覆盖有源层ACT。
驱动晶体管DRT的栅电极GATE可以设置在栅极绝缘层GI上。另外,栅极材料层GM可以在与驱动晶体管DRT所处位置不同的位置处与驱动晶体管DRT的栅电极GATE一起设置在栅极绝缘层GI上。
第一层间绝缘层ILD1可以被设置为覆盖栅电极GATE和栅极材料层GM。金属图案TM可以设置在第一层间绝缘层ILD1上。金属图案TM可以位于与形成驱动晶体管DRT的位置不同的位置处。第二层间绝缘层ILD2可以被设置为覆盖第一层间绝缘层ILD1上的金属图案TM。
两个第一源极-漏极图案SD1可以设置在第二层间绝缘层ILD2上。两个第一源极-漏极图案SD1中的一个可以是驱动晶体管DRT的源极节点,而另一个可以是驱动晶体管DRT的漏极节点。
两个第一源极-漏极图案SD1可以通过形成在第二层间绝缘层ILD2、第一层间绝缘层ILD1和栅极绝缘层GI中的接触孔分别电连接到有源层ACT的第一侧和第二侧。
有源层ACT的与栅电极GATE交叠的部分可以用作沟道区。两个第一源极-漏极图案SD1中的一个可以连接到有源层ACT的沟道区的第一侧,并且两个第一源极-漏极图案SD1中的另一个可以连接到有源层ACT的沟道区的第二侧。
钝化层PAS0可以被设置为覆盖两个第一源极-漏极图案SD1。平整层PLN可以设置在钝化层PAS0上。平整层PLN可以包括第一平整层PLN1和第二平整层PLN2。
第一平整层PLN1可以设置在钝化层PAS0上。
第二源极-漏极图案SD2可以设置在第一平整层PLN1上。第二源极-漏极图案SD2可以通过形成在第一平整层PLN1中的接触孔连接到两个第一源极-漏极图案SD1中的(对应于图3的子像素SP中的驱动晶体管DRT的第二节点N2的)一个。
第二平整层PLN2可以被设置为覆盖第二源极-漏极图案SD2。发光元件ED可以设置在第二平整层PLN2上。
根据发光元件ED的示例堆叠结构,阳极电极AE可以设置在第二平整层PLN2上。阳极电极AE可以通过形成在第二平整层PLN2中的接触孔而电连接到第二源极-漏极图案SD2。
堤BANK可以被设置为覆盖阳极电极AE的一部分。堤BANK的与子像素SP的发光区域EA对应的部分可以敞开。
阳极电极AE的一部分可以通过堤BANK的开口(敞开部分)暴露。发光层EL可以设置在堤BANK的侧表面上和堤BANK的开口(敞开部分)中。发光层EL的全部或至少一部分可以位于相邻的堤之间。
在堤BANK的开口中,发光层EL可以接触阳极电极AE。阴极电极CE可以设置在发光层EL上。
发光元件ED可以通过包括如上所述的阳极电极AE、发光层EL和阴极电极CE来形成。发光层EL可以包括有机材料层。
封装层ENCAP可以设置在发光元件ED的堆叠体上。
封装层ENCAP可以具有单层结构或多层结构。例如,如图6和图7中所示,封装层ENCAP可以包括第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2。
第一封装层PAS1和第三封装层PAS2可以例如是无机材料层,并且第二封装层PCL可以例如是有机材料层。在第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2当中,第二封装层PCL可以是最厚的并用作平整层。
第一封装层PAS1可以设置在阴极电极CE上并且可以被设置为最靠近发光元件ED。第一封装层PAS1可以包括能够使用低温沉积来沉积的无机绝缘材料。例如,第一封装层PAS1可以但不限于包括硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、硅氮氧化物(SiON)、氧化铝(Al2O3)等。由于第一封装层PAS1可以在低温气氛中沉积,因此在沉积工艺期间,第一封装层PAS1可以防止包括易受高温气氛影响的有机材料的发光层EL受损。
第二封装层PCL可以具有比第一封装层PAS1小的面积或大小。例如,第二封装层PCL可以被设置为暴露第一封装层PAS1的两个端部或边缘。第二封装层PCL可以用作在显示装置100弯曲或弯折时缓解相应层之间的应力的缓冲器,并还用于增强平整性能。例如,第二封装层PCL可以包括诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯、碳氧化硅(SiOC)等这样的有机绝缘材料。第二封装层PCL可以例如使用喷墨方案来设置。
第三封装层PAS2可以设置在其上方设置有第二封装层PCL的基板SUB上方,使得第三封装层PAS2覆盖第二封装层PCL和第一封装层PAS1的相应顶表面和侧表面。第三封装层PAS2可以使渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中的外部水分或氧气最小化或者防止外部水分或氧气渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中。例如,第三封装层PAS2可以包括诸如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)、硅氮氧化物(SiON)、氧化铝(Al2O3)等这样的无机绝缘材料。
参照图7,在触摸传感器TS嵌入显示面板PNL中的示例中,触摸传感器TS可以设置在封装层ENCAP上。将如下详细地描述触摸传感器的结构。
触摸缓冲层T-BUF可以设置在封装层ENCAP上。触摸传感器TS可以设置在触摸缓冲层T-BUF上。
触摸传感器TS可以包括位于不同层中的触摸传感器金属TSM和至少一个桥接金属BRG。
触摸层间绝缘层T-ILD可以设置在触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG之间。
例如,触摸传感器金属TSM可以包括彼此相邻设置的第一触摸传感器金属TSM、第二触摸传感器金属TSM和第三触摸传感器金属TSM。在第三触摸传感器金属TSM设置在第一触摸传感器金属TSM和第二触摸传感器金属TSM之间并且第一触摸传感器金属TSM和第二触摸传感器金属TSM需要彼此电连接的实施方式中,第一触摸传感器金属TSM和第二触摸传感器金属TSM可以通过位于不同层中的桥接金属BRG彼此电连接。桥接金属BRG可以通过触摸层间绝缘层T-ILD与第三触摸传感器金属TSM电绝缘。
当触摸传感器TS设置在显示面板PNL上时,可以生成或引入在相应中使用的化学溶液(例如,显影剂或蚀刻剂)或来自外部的水分。在一些实施方式中,通过将触摸传感器TS设置在触摸缓冲层T-BUF上,可以在触摸传感器TS的制造工艺期间防止化学溶液或水分渗透到包括有机材料的发光层EL中。相应地,触摸缓冲层T-BUF可以防止易受化学溶液或水分影响的发光层EL受损。
为了防止包括易受高温影响的有机材料的发光层EL受损,触摸缓冲层T-BUF可以在低于或等于预定温度(例如,100度(℃))的低温下形成,并使用具有1至3的低介电常数的有机绝缘材料形成。例如,触摸缓冲层T-BUF可以包括亚克力基、环氧基或硅氧烷基材料。在显示装置100弯折时,封装层ENCAP可能受损,并且位于触摸缓冲层T-BUF上的触摸传感器金属可能断裂或破裂。即使当显示装置100弯折时,使用有机绝缘材料具有平整性能的触摸缓冲层T-BUF也可以防止封装层ENCAP损坏和/或触摸传感器TS中所包括的金属(TSM、BRG)断裂或破裂。
保护层PAC可以被设置为覆盖触摸传感器TS。保护层PAC可以是例如有机绝缘层。
接下来,将参考图6和图7描述第一光学区域OA1的堆叠结构。
参照图6和图7,第一光学区域OA1的发光区域EA可以具有与普通区域NA中的堆叠结构相同的堆叠结构。相应地,在下面的讨论中,下面将详细地描述第一光学区域OA1的第一透射区域TA1的堆叠结构而非重复描述第一光学区域OA1的发光区域EA。
在一些实施方式中,阴极电极CE可以设置在普通区域NA和第一光学区域OA1中所包括的发光区域EA中,但不可以设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。例如,第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以对应于阴极电极CE的开口。
另外,在一些实施方式中,包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一个的遮光层LS可以设置在普通区域NA和第一光学区域OA1中所包括的发光区域EA中,但不可以设置在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1中。例如,第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以对应于遮光层LS的开口。
设置在普通区域NA和第一光学区域OA1中所包括的发光区域EA中的各种类型的绝缘层(MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)、T-BUF、T-ILD、PAC)以及基板SUB可以同等地、基本上同等地或类似地设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。
然而,在一些实施方式中,除绝缘材料或层之外,设置在普通区域NA和第一光学区域OA1中所包括的发光区域EA中的具有电特性的一个或更多个材料层(例如,一个或更多个金属材料层和/或一个或更多个半导体层)中的全部或一个或更多个不可以设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。
例如,参照图6和图7,与至少一个晶体管相关的金属材料层(ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2)和半导体层ACT中的全部或一个或更多个不可以设置在第一透射区域TA1中。
参照图6和图7,在一些实施方式中,发光元件ED中所包括的阳极电极AE和阴极电极CE不可以设置在第一透射区域TA1中。在一些实施方式中,根据设计需要,发光元件ED的发光层EL可以设置或者可以不设置在第一透射区域TA1中。
另外,参照图7,在一些实施方式中,触摸传感器TS中所包括的触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG不可以设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。
相应地,因为具有电特性的材料层(例如,一个或更多个金属材料层和/或一个或更多个半导体层)未设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中,所以可以提供或提高第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的透光率。因此,第一光学电子装置11可以通过接收透过第一透射区域TA1的光来执行预定义功能(例如,图像感测)。
在一些实施方式中,由于第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中的全部或一个或更多个与第一光学电子装置11交叠以使得第一光学电子装置11能够正常操作,因此期望进一步增大第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的透射率。
为了实现以上,在根据本公开的方面的显示装置100的显示面板PNL中,可以为第一光学区域OA1的第一透射区域TA1提供透射率提高结构TIS。
参照图6和图7,显示面板PNL中所包括的多个绝缘层可以包括在至少一个基板(SUB1和/或SUB2)和至少一个晶体管(DRT和/或SCT)之间的至少一个缓冲层(MBUF、ABUF1和/或ABUF2)、在晶体管DRT和发光元件ED之间的至少一个平整层(PLN1和/或PLN2)、在发光元件ED上的至少一个封装层ENCAP等。
参照图7,显示面板PNL中所包括的多个绝缘层还可以包括触摸缓冲层T-BUF以及位于封装层ENCAP上的触摸层间绝缘层T-ILD等。
参照图6和图7,第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以具有以下结构:第一平整层PLN1和钝化层PAS0具有从其相应表面向下延伸的凹陷部分作为透射率提高结构TIS。
参照图6和图7,在多个绝缘层当中,第一平整层PLN1可以包括至少一个凹陷(例如,凹部、沟槽、凹入部分、突出部等)。第一平整层PLN1可以是例如有机绝缘层。
在第一平整层PLN1具有从其表面向下延伸的凹陷部分的示例中,第二平整层PLN2可以基本上用于提供平整化。在一个实施方式中,第二平整层PLN2也可以具有从其表面向下延伸的凹陷部分。在该实施方式中,第二封装层PCL可以基本上用于提供平整化。
参照图6和图7,第一平整层PLN1和钝化层PAS0的凹陷部分可以穿过用于形成晶体管DRT的诸如第一层间绝缘层ILD1、第二层间绝缘层ILD2、栅极绝缘层GI等这样的绝缘层和位于绝缘层下方的诸如第一有源缓冲层ABUF1、第二有源缓冲层ABUF2、多缓冲层MBUF等这样的缓冲层,并延伸直至第二基板SUB2的上部部分。
参照图6和图7,基板SUB可以包括作为透射率提高结构TIS的至少一个凹入部分或凹陷部分。例如,在第一透射区域TA1中,第二基板SUB2的上部部分可以向下凹进或凹陷,或者第二基板SUB2可以被穿孔。
参照图6和图7,封装层ENCAP中所包括的第一封装层PAS1和第二封装层PCL还可以具有其中第一封装层PAS1和第二封装层PCL具有从其相应表面向下延伸的凹陷部分的透射率提高结构TIS。第二封装层PCL可以例如是有机绝缘层。
参照图7,为了保护触摸传感器TS,保护层PAC可以被设置为覆盖封装层ENCAP上的触摸传感器TS。
参照图7,保护层PAC可以在与第一透射区域TA1交叠的部分中具有至少一个凹陷(例如,凹部、沟槽、凹入部分、突出部等)作为透射率提高结构TIS。保护层PAC可以例如是有机绝缘层。
参照图7,触摸传感器TS可以包括具有网格类型的一个或更多个触摸传感器金属TSM。在其中触摸传感器金属TSM形成为网格类型的示例中,可以在触摸传感器金属TSM中形成多个开口。多个开口中的每一个可以被定位为对应于子像素SP的发光区域EA。
为了使第一光学区域OA1具有大于普通区域NA的透射率,第一光学区域OA1中每单位面积的触摸传感器金属TSM的面积或大小可以小于普通区域NA中每单位面积的触摸传感器金属TSM的面积或大小。
参照图7,在一些实施方式中,触摸传感器TS可以设置在第一光学区域OA1中的发光区域EA中,但不可以设置在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1中。
接下来,将参考图6和图7描述第二光学区域OA2的堆叠结构。
参照图6和图7,第二光学区域OA2的发光区域EA可以具有与普通区域NA的堆叠结构相同的堆叠结构。相应地,在下面的讨论中,下面将详细描述第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的堆叠结构而非重复描述第二光学区域OA2中的发光区域EA。
在一些实施方式中,阴极电极CE可以设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中所包括的发光区域EA中,但不可以设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。例如,第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以对应于阴极电极CE的开口。
在实施方式中,包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一个的遮光层LS可以设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中所包括的发光区域EA中,但不可以设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。例如,第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以对应于遮光层LS的开口。
在其中第二光学区域OA2的透射率与第一光学区域OA1的透射率相同的示例中,第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的堆叠结构可以与第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的堆叠结构相同。
在其中第二光学区域OA2的透射率与第一光学区域OA1的透射率不同的另一示例中,第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的堆叠结构可以至少部分地与第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的堆叠结构不同。
例如,如图6和图7中所示,在一些实施方式中,当第二光学区域OA2的透射率低于第一光学区域OA1的透射率时,第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以没有透射率提高结构TIS。结果,第一平整层PLN1和钝化层PAS0可以不凹进或凹陷。在实施方式中,第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的宽度可以小于第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的宽度。
设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中所包括的发光区域EA中的各种类型的绝缘层(MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)、T-BUF、T-ILD、PAC)以及基板SUB可以同等地、基本上同等地或类似地设置在第二光学区域OA2的第二透射区域TA2中。
然而,在一些实施方式中,除绝缘材料或层之外,设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中所包括的发光区域EA中的具有电特性的一个或更多个材料层(例如,一个或更多个金属材料层和/或半导体层)中的全部或一个或更多个不可以设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。
例如,参照图6和图7,与至少一个晶体管相关的金属材料层(ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2)和半导体层ACT中的全部或一个或更多个不可以设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。
另外,参照图6和图7,在一些实施方式中,发光元件ED中所包括的阳极电极AE和阴极电极CE不可以设置在第二透射区域TA2中。在一些实施方式中,发光元件ED的发光层EL可以设置或者可以不设置在第二光学区域OA2的第二透射区域TA2中。
另外,参照图7,在一些实施方式中,触摸传感器TS中所包括的触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG不可以设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。
相应地,因为具有电特性的材料层(例如,一个或更多个金属材料层和/或一个或更多个半导体层)未设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中,所以可以提供或提高第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的透光率。结果,第二光学电子装置12可以通过接收透过第二透射区域TA2的光来执行预定义功能(例如,检测对象或人体或外部照明检测)。
图8是根据本公开的方面的显示面板PNL的边缘的示例截面图。
为了简洁起见,在图8中,例示了包括第一基板SUB1和第二基板SUB2的单个基板SUB,并且以简化的结构例示了位于堤BANK下方的层或部分。以相同的方式,图8例示了包括第一平整层PLN1和第二平整层PLN2的单个平整层PLN以及位于平整层PLN下方的包括第二层间绝缘层ILD2和第一层间绝缘层ILD1的单个层间绝缘层INS。
参照图8,第一封装层PAS1可以设置在阴极电极CE上并被设置为最靠近发光元件ED。第二封装层PCL可以具有比第一封装层PAS1小的面积或大小。例如,第二封装层PCL可以被设置为暴露第一封装层PAS1的两个端部或边缘。
第三封装层PAS2可以设置在其上方设置有第二封装层PCL的基板SUB上方,使得第三封装层PAS2覆盖第二封装层PCL和第一封装层PAS1的相应顶表面和侧表面。
第三封装层PAS2可以使渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中的外部水分或氧气最小化或者防止外部水分或氧气渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中。
参照图8,为了防止封装层ENCAP塌陷,显示面板PNL可以在封装层ENCAP的倾斜表面SLP的端部或边缘处或在其附近包括一个或更多个坝部(DAM1和/或DAM2)。一个或更多个坝部(DAM1和/或DAM2)可以存在于显示区域DA与非显示区域NDA之间的边界点处或在其附近。
一个或更多个坝部(DAM1和/或DAM2)可以包括与堤BANK相同的材料DFP。
参照图8,在一个实施方式中,包括有机材料的第二封装层PCL可以仅位于坝部当中的最靠近封装层ENCAP的倾斜表面SLP定位的第一坝部DAM1的内侧。例如,第二封装层PCL可以不位于所有坝部(DAM1和DAM2)上。在另一实施方式中,包括有机材料的第二封装层PCL可以位于第一坝部DAM1和第二坝部DAM2中的至少第一坝部DAM1上。
例如,第二封装层PCL可以仅延伸直至第一坝部DAM1的上部部分的全部或至少一部分。在其它另外的实施方式中,第二封装层PCL可以延伸经过第一坝部DAM1的上部部分,并延伸直至第二坝部DAM2的上部部分的全部或至少一部分。
参照图8,如图2中所示的触摸驱动电路TDC电连接到的触摸焊盘TP可以设置在一个或更多个坝部(DAM1和/或DAM2)外部的基板SUB的一部分上。
触摸线TL可以将设置在显示区域DA中的触摸电极中所包括的或者用作该触摸电极的触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG电连接到触摸焊盘TP。
触摸线TL的一个端部或边缘可以电连接到触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG,并且触摸线TL的另一个端部或边缘可以电连接到触摸焊盘TP。
触摸线TL可以沿着封装层ENCAP的倾斜表面SLP向下延伸,沿着一个或更多个坝部(DAM1和/或DAM2)的相应上部部分延伸,并且延伸直至设置在一个或更多个坝部(DAM1和/或DAM2)外部的触摸焊盘TP。
参照图8,在一个实施方式中,触摸线TL可以是桥接金属BRG。在另一实施方式中,触摸线TL可以是触摸传感器金属TSM。
图9是根据比较例的显示装置的截面图。
参照图9,根据比较例的显示装置可以包括普通区域NA和第一光学区域OA1,并包括堤BANK、空穴传输层HTL、发光层EL和电子传输层ETL、阴极电极CE、第一覆盖层CPL1和第二覆盖层CPL2。
阳极电极AE可以位于平整层PLN上,并且堤BANK可以位于阳极电极AE上。发光层EL可以位于堤BANK上,并且阴极电极CE可以位于发光层EL上。
相应地,第一覆盖层CPLl和第二覆盖层CPL2可以设置在包括阳极电极AE、发光层EL和阴极电极CE的诸如发光二极管这样的发光元件上。第一覆盖层CPL1和第二覆盖层CPL2可以保护发光元件,并通过微腔进一步提高发光元件的效率。
在根据比较例的显示装置中,第一覆盖层CPL1和第二覆盖层CPL2中的每一个可以在普通区域NA和第一光学区域OA1二者中形成为同一单层。当位于第一光学区域OA1中的第一覆盖层CPL1和第二覆盖层CPL2分别与位于普通区域NA中的第一覆盖层CPL1和第二覆盖层CPL2相同时,第一覆盖层CPL1和第二覆盖层CPL2可能降低透光率。
图10是根据本公开的实施方式的显示装置(例如,在以上讨论的图中,显示装置100)的截面图。
参照图10,根据本公开的实施方式的显示装置可以包括包含第一光学区域OA1和位于第一光学区域OA1外部的普通区域NA的显示区域、诸如发光二极管这样的至少一个发光元件以及位于发光元件上的第一覆盖层(1010a和1010b)。
发光元件可以位于堤BANK上。堤BANK可以是限定像素区域的层,并且子像素的发光区域可以由堤BANK限定。
发光元件可以包括空穴传输层HTL、发光层EL、电子传输层ETL、第一电极1030和第二电极1040。
第一覆盖层(1010a和1010b)可以位于第一电极1030上。第二覆盖层1020可以位于第一覆盖层(1010a和1010b)上。
第一电极1030可以是公共电极。第一电极1030可以是阴极电极或阳极电极。在图10中例示的实施方式中,第一电极1030可以是阴极电极。
第二电极1040可以是像素电极。第二电极1040可以是阴极电极或阳极电极。在图10中例示的实施方式中,第二电极1040可以是阳极电极。
第一覆盖层(1010a和1010b)的分别位于第一光学区域OA1和普通区域NA中的部分的厚度和折射率中的一个或更多个可以彼此不同。第一覆盖层(1010a和1010b)可以是例如其厚度和折射率可以被容易地调节的有机覆盖层。第一覆盖层(1010a和1010b)中所包括的有机材料的类型不受特别限制。
在第一覆盖层(1010a和1010b)是有机覆盖层并且第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率高于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的折射率的情形下,可以在第一光学区域OA1中更容易地实现高透射率。在第一覆盖层是包括无机材料作为主要成分的无机覆盖层的示例中,可能引起在实现较高折射率的同时可能出现雾度现象的问题。在第一覆盖层是通过沉积工艺形成的无机覆盖层的示例中,可能难以控制第一覆盖层1010的厚度。特别地,通过沉积工艺形成厚的无机覆盖层可能花费时间,并由于沉积工艺的特性而造成成本增加。
第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率可以不同于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的折射率。例如,第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率可以高于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的折射率。在第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率高于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的折射率的示例中,第一光学区域OA1可以具有更高的透射率。相应地,在光学电子装置位于第一光学区域OA1中的示例中,光学电子装置可以接收更大量的光,这造成光学电子装置更有效地操作。
第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a可以包括与第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b不同的一种或更多种材料。在这些示例中,第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率可以不同于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的折射率。例如,第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率可以高于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的折射率。
第二覆盖层1020可以位于第一覆盖层(1010a和1010b)上。第二覆盖层1020可以是包括无机材料的无机覆盖层。例如,第二覆盖层1020可以包括SiOx、SiONx和Si3N4中的一种或更多种。
第一覆盖层(1010a和1010b)可以具有比第二覆盖层1020大的厚度。在其中第一覆盖层(1010a和1010b)是有机覆盖层并且第二覆盖层1020是无机覆盖层的示例中,由于与增加无机覆盖层的厚度相比,增加有机覆盖层的厚度更有利,因此为了在考虑到微腔现象的情况下提高相应发光元件的效率,当设计覆盖层的整个厚度时,第一覆盖层(1010a和1010b)可以被设计为具有比第二覆盖层1020大的厚度。当作为有机覆盖层的第一覆盖层(1010a和1010b)被配置为具有比作为无机覆盖层的第二覆盖层1020大的厚度时,制造显示装置所需的成本和时间可以减少。
第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a可以具有与第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b基本上相同的厚度。例如,第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度可以与第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的厚度基本上相同,并且第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率可以高于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的折射率。在这些实施方式中,显示装置可以在第一光学区域OA1中具有更高的透射率。
图11是根据本公开的实施方式的显示装置(例如,在以上讨论的图中,显示装置100)的截面图。
参照图11,第一覆盖层(1010a和1010b)的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度可以小于第一覆盖层(1010a和1010b)的位于普通区域NA中的部分1010b的厚度。如此,在第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度小于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的厚度的示例中,显示装置可以在第一光学区域OA1中具有更高的透射率。
在第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度小于第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的厚度的实施方式中,制造第一覆盖层(1010a和1010b)的方法可以包括以下步骤:以第一覆盖层(1010a和1010b)在第一光学区域OA1和普通区域NA中具有共同的厚度的方式,在第一光学区域OA1和普通区域NA中共同地形成第一覆盖层(1010a和1010b)。通过以上步骤,与使用一个掩模制造覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a并使用另一掩模制造覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b的示例相比,所使用掩模的数目可以减少,由此制造过程的成本可以降低。
第一覆盖层的位于第一光学区域OA1中的部分1010a可以包括与第一覆盖层的位于普通区域NA中的部分1010b基本上相同的一种或更多种材料。例如,第一覆盖层(1010a和1010b)可以在其在第一光学区域OA1中的部分1010a和其在普通区域NA中的部分1010b中包括相同的材料,并且其在第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度可以小于其在普通区域NA中的部分1010b的厚度。
第一覆盖层的在第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度和折射率可以与第一覆盖层的在普通区域NA中的部分1010b的厚度和折射率分别不同。例如,第一覆盖层的在第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度可以小于第一覆盖层的在普通区域NA中的部分1010b的厚度,并且第一覆盖层的在第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率可以高于第一覆盖层的在普通区域NA中的部分1010b的折射率。如此,在第一覆盖层(1010a和1010b)与普通区域NA相比在第一光学区域OA1中具有更薄的厚度和更高的折射率的示例中,第一光学区域OA1可以具有更高的透射率。
图12是根据本公开的方面的显示装置的第一光学区域(例如,在以上讨论的图中,第一光学区域OA1)的示例截面图。
参照图12,在根据本公开的方面的显示装置中,第一光学区域OA1中的堤BANK的透射率可以提高。如上所述,当第一覆盖层的分别位于第一光学区域OA1和普通区域NA中的部分(1010a和1010b)的厚度和折射率中的一个或更多个彼此不同时,可以实现这种透射率提高。因此,在诸如相机这样的光学电子装置位于第一光学区域OA1中的示例中,光学电子装置可以更有效地接收光。
设置在显示装置中的一个或更多个发光元件中的每一个可以包括第一电极1030、第二电极1040和位于第一电极1030和第二电极1040之间的发光层EL。第一电极1030可以是公共电极,并且第二电极1040可以是像素电极。
第一电极1030可以比第二电极1040更靠近第一覆盖层1010a定位。例如,第二电极1040可以位于发光层EL的下方,第一电极1030可以位于发光层EL上,并且第一覆盖层1010a可以位于第一电极1030上。
第一电极1030的位于第一光学区域OA1中的部分可以具有与第一电极1030的位于普通区域NA中的部分基本上相同的厚度。在一些实施方式中,为了在不将第一电极1030的位于第一光学区域OA1中的部分配置为具有比第一电极1030的位于普通区域NA中的部分小的厚度的情况下增加第一光学区域OA1的透射率,第一电极1030的位于第一光学区域OA1中的部分可以被设计为具有与第一电极1030的位于普通区域NA中的部分基本上相同的厚度。在一些实施方式中,即使第一电极1030的厚度不小,第一光学区域OA1也可以通过允许第一覆盖层的分别位于第一光学区域和普通区域NA中的部分(1010a和1010b)的厚度和折射率中的一个或更多个彼此不同而具有高透射率。根据本公开的实施方式,显示装置可以通过减小第一电极1030在第一光学区域OA1中的厚度来防止发光元件针对UV射线的耐久性劣化。
图13是根据本公开的方面的显示装置的普通区域(例如,在以上讨论的图中,普通区域NA)的示例截面图。
参照图13,在根据本公开的方面的显示装置中,堤BANK的位于普通区域NA中的部分的透射率可以相对低于堤BANK的位于第一光学区域OA1中的部分的透射率。这可能是因为第一覆盖层的分别位于第一光学区域OA1和普通区域NA中的部分(1010a和1010b)的厚度和折射率中的一个或更多个彼此不同。由于诸如相机这样的光学电子装置没有设置在普通区域NA的下方或下部部分中,因此即使普通区域NA的透射率低于第一光学区域的透射率,普通区域NA的透射率也不成问题。
图14是根据比较例的显示装置的平面图。
参照图14,多个发光元件可以位于第一光学区域OA1和普通区域NA中。多个发光元件可以包括第一发光元件ED1、第二发光元件ED2和第三发光元件ED3。
发光元件中的每一个可以包括子像素。第一子像素SP1可以包括第一发光元件ED1,第二子像素SP2可以包括第二发光元件ED2,并且第三子像素SP3可以包括第三发光元件。
在图14中例示的比较例中,第一光学区域OA1和普通区域NA二者可以包括相同的覆盖层。例如,比较例的第一覆盖层CPL1可以在第一光学区域OA1和普通区域NA二者中具有相同的厚度和折射率。
图15是根据本公开的实施方式的显示装置(例如,在以上讨论的图中,显示装置100)的平面图。
参照图15,被配置为允许位于第一光学区域OA1和普通区域NA中的相应部分(1010a和1010b)的厚度和折射率中的一个或更多个彼此不同的第一覆盖层(1010a和1010b)可以位于每个子像素中。例如,第一发光元件ED1位于其中的第一子像素SP1的第一覆盖层1010a、第二发光元件ED2位于其中的第二子像素SP2的第一覆盖层1010a和第三发光元件ED3位于其中的第三子像素SP3的第一覆盖层1010a的相应厚度和折射率中的一个或更多个可以彼此不同。在这些实施方式中,对于由第一发光元件ED1、第二发光元件ED2和第三发光元件ED3发射的光,第一覆盖层(1010a和1010b)可以具有能够通过微腔来最大化光效率的折射率和厚度。另外,在这些实施方式中,位于第一光学区域OA1中的第一覆盖层1010a的厚度和折射率中的至少一个可以分别与位于普通区域NA中的第一覆盖层1010b的厚度和折射率中的至少一个不同。
第一发光元件ED1可以是红色发光元件,第二发光元件ED2可以是绿色发光元件,并且第三发光元件ED3可以是蓝色发光元件。
图16例示了根据本公开的实施方式的显示装置(例如,在以上讨论的图中,显示装置100)和根据比较例的显示装置的相应透射率。比较例具有如图9中例示的结构,并且实施方式包括与比较例相同的构造,不同之处在于,第一覆盖层在第一光学区域中的厚度比比较例中的第一覆盖层的厚度薄并且第一覆盖层在第一光学区域中的折射率高于比较例中的第一覆盖层的折射率。
参照图16,可以看出,与比较例相比,本实施方式在红色发光元件、绿色发光元件和蓝色发光元件的全部中具有更优异的透射率。
图17例示了根据本公开的方面的与显示装置的可靠性相关的测量。图17例示了根据本公开的方面的测量显示装置中的第一光学区域OA1和普通区域NA针对UV光的耐久性的结果。
参照图17,可以看出,在第一光学区域OA1和普通区域NA中,红色发光元件、绿色发光元件和蓝色发光元件的全部针对UV光的可靠性没有显著差异。如上所述,在本公开的实施方式中,为了在不以第一电极在第一光学区域中的作为公共电极并位于发光层上的部分具有比第一电极在普通区域中的部分小的厚度的方式形成第一电极的情况下实现高透射率,由于第一电极在各个部分中以基本相同的厚度形成,因此这造成发光元件即使在第一光学区域中也具有优异的耐久性。
将如下简要描述上述的实施方式。
本公开的实施方式提供了包括显示区域DA、至少一个发光元件ED和第一覆盖层(1010a和1010b)的显示装置(例如,在以上讨论的图中,显示装置100)。
显示区域DA包括第一光学区域OA1和位于第一光学区域OA1外部的普通区域NA。
第一覆盖层(1010a和1010b)设置在发光元件ED上。第一覆盖层(1010a和1010b)的分别位于第一光学区域OA1和普通区域NA中的部分的厚度和折射率中的一个或更多个可以彼此不同。
第一覆盖层(1010a和1010b)可以是例如有机覆盖层。
显示装置100可以包括位于第一覆盖层(1010a和1010b)上并且是无机覆盖层的第二覆盖层1020。
第一覆盖层(1010a和1010b)可以具有比第二覆盖层1020大的厚度。
发光元件ED可以包括第一电极1030、第二电极1040和位于第一电极1030和第二电极1040之间的发光层EL。
第一电极1030可以比第二电极1040更靠近第一覆盖层(1010a和1010b)定位。第一电极1030位于第一光学区域OA1中的部分可以具有与第一电极1030位于普通区域NA中的部分基本上相同的厚度。
第一覆盖层(1010a和1010b)位于第一光学区域OA1中的部分1010a的厚度可以小于第一覆盖层(1010a和1010b)位于普通区域NA中的部分1010b的厚度。
第一覆盖层位于第一光学区域OA1中的部分1010a可以包括与第一覆盖层位于普通区域NA中的部分1010b基本上相同的一种或更多种材料。
第一覆盖层位于第一光学区域OA1中的部分1010a的折射率可以高于第一覆盖层位于普通区域NA中的部分1010b的折射率。
第一覆盖层位于第一光学区域OA1中的部分1010a可以包括与第一覆盖层位于普通区域NA中的部分1010b不同的一种或更多种材料。
第一覆盖层位于第一光学区域OA1中的部分1010a可以具有与第一覆盖层位于普通区域NA中的部分1010b基本上相同的厚度。
发射不同颜色的光的第一发光元件ED1和第二发光元件ED2可以设置在第一光学区域OA1中。
第一覆盖层(1010a和/或1010b)可以包括对应于第一发光元件ED1的第一区域和对应于第二发光元件ED2的第二区域,并且第一区域和第二区域的相应厚度和折射率中的一个或更多个可以彼此不同。
以上描述已被提出,以使得本领域的任何技术人员能够形成、使用和实践本发明的技术特征,并且已在特定应用及其要求的背景下作为示例提供。对于本领域的技术人员来说,对所描述的实施方式的各种修改、添加和替换将容易显而易见,并且在不脱离本发明的范围的情况下,本文中描述的原理可以应用于其它实施方式和应用。仅仅出于例示目的,以上描述和附图提供了本发明的技术特征的示例。即,所公开的实施方式旨在例示本发明的技术特征的范围。因此,本发明的范围不限于所示出的实施方式,而是被赋予与权利要求一致的最宽范围。本发明的保护范围应该基于所附权利要求书进行理解,并且其等同范围内的所有技术思路应该被解释为被包括在本发明的范围内。
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年12月20日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2021-0183180的优先权权益,该专利申请的全部内容以引用方式并入本文中。
Claims (15)
1.一种显示装置,该显示装置包括:
显示区域,所述显示区域包括第一光学区域和位于所述第一光学区域外部的普通区域;
至少一个发光元件;以及
第一覆盖层,所述第一覆盖层位于所述至少一个发光元件上,
其中,所述第一覆盖层的位于所述第一光学区域和所述普通区域中的相应部分的厚度和折射率中的至少一个彼此不同。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一覆盖层是有机覆盖层。
3.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括位于所述第一覆盖层上并且是无机覆盖层的第二覆盖层。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述第一覆盖层具有比所述第二覆盖层大的厚度。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述至少一个发光元件包括第一电极、第二电极以及在所述第一电极和所述第二电极之间的发光层,并且
其中,所述第一电极比所述第二电极更靠近所述第一覆盖层定位,并且所述第一电极在所述第一光学区域中的部分具有与所述第一电极在所述普通区域中的部分相同的厚度。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一覆盖层在所述第一光学区域中的部分具有比所述第一覆盖层在所述普通区域中的部分小的厚度。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其中,所述第一覆盖层在所述第一光学区域中的部分具有与所述第一覆盖层在所述普通区域中的部分相同的材料。
8.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一覆盖层在所述第一光学区域中的部分具有比所述第一覆盖层在所述普通区域中的部分高的折射率。
9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一覆盖层在所述第一光学区域中的部分具有与所述第一覆盖层在所述普通区域中的部分不同的材料。
10.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述第一覆盖层在所述第一光学区域中的部分具有与所述第一覆盖层在所述普通区域中的部分相同的厚度。
11.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述至少一个发光元件包括发射不同颜色的光的第一发光元件和第二发光元件,并且
其中,对应于所述第一发光元件的第一区域和对应于所述第二发光元件的第二区域的相应厚度和折射率中的至少一个彼此不同。
12.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一光学区域的分辨率、子像素排列结构、每单位面积的子像素数目、电极结构、线结构、电极排列结构、线排列结构不同于所述普通区域的分辨率、子像素排列结构、每单位面积的子像素数目、电极结构、线结构、电极排列结构、线排列结构。
13.根据权利要求12所述的显示装置,其中,所述第一光学区域中的每单位面积的子像素的数目小于所述普通区域中的每单位面积的子像素的数目。
14.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一光学区域中设置的每个子像素的大小小于所述普通区域中设置的每个子像素的大小。
15.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述显示区域中设置有延伸通过所述第一光学区域同时避开所述第一光学区域中的透射区域的水平线和垂直线。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210183180A KR20230094037A (ko) | 2021-12-20 | 2021-12-20 | 표시 장치 |
KR10-2021-0183180 | 2021-12-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116322194A true CN116322194A (zh) | 2023-06-23 |
Family
ID=86769638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202211548503.3A Pending CN116322194A (zh) | 2021-12-20 | 2022-12-05 | 显示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230200185A1 (zh) |
KR (1) | KR20230094037A (zh) |
CN (1) | CN116322194A (zh) |
-
2021
- 2021-12-20 KR KR1020210183180A patent/KR20230094037A/ko active Search and Examination
-
2022
- 2022-11-23 US US17/993,100 patent/US20230200185A1/en active Pending
- 2022-12-05 CN CN202211548503.3A patent/CN116322194A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230200185A1 (en) | 2023-06-22 |
KR20230094037A (ko) | 2023-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20230083578A1 (en) | Substrate, display panel and display device comprising the same | |
US12075672B2 (en) | Display panel and display device | |
US12045423B2 (en) | Display device | |
US20230172017A1 (en) | Display panel and display device | |
CN116390599A (zh) | 显示装置和显示面板 | |
CN116156944A (zh) | 显示装置和显示面板 | |
US20230200185A1 (en) | Display Device | |
US11903280B2 (en) | Display device | |
US11869448B2 (en) | Display device and display driving method | |
TWI838847B (zh) | 顯示裝置 | |
US20230157129A1 (en) | Display device | |
US20230217705A1 (en) | Display device | |
US20230217704A1 (en) | Display device | |
TWI853361B (zh) | 顯示裝置以及顯示面板 | |
US20230172029A1 (en) | Display device and display panel | |
US20230157128A1 (en) | Display panel and display device comprising the same | |
EP4145970A1 (en) | Display device and display panel | |
KR20230095405A (ko) | 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
CN116266453A (zh) | 显示装置及其驱动方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |