CN116156946A - 显示面板和包括该显示面板的显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种显示面板和包括该显示面板的显示装置，所述显示装置包括第一光学电子装置，所述第一光学电子装置位于所述显示面板下方并且与包括在显示区域中的第一光学区域的至少一部分交叠，并且所述显示面板被配置为使得：第一绝缘层在普通区域和所述第一光学区域中的相应厚度能够小于第二绝缘层在所述普通区域和所述第一光学区域中的相应厚度；设置在所述普通区域中的所述第一绝缘层的厚度能够大于设置在所述第一光学区域中的所述第一绝缘层的厚度；并且设置在所述普通区域中的所述第二绝缘层的厚度能够大于设置在所述第一光学区域中的所述第二绝缘层的厚度。

Description

显示面板和包括该显示面板的显示装置

技术领域

本公开涉及一种电子装置，更特别是涉及一种能够改善设置有光学装置的区域的透射率的显示面板以及包括该显示面板的显示装置。

背景技术

随着显示技术的进步，显示装置可以提供增加的功能，诸如，图像拍摄功能、感测功能等以及图像显示功能。为了提供这些功能，显示装置可能需要包括光学电子装置，诸如，相机、用于检测图像的传感器等。

为了接收穿过显示装置的前表面的光，可能期望光学电子装置位于显示装置的可以有利地接收或检测来自前表面的入射光的区域中。因此，在这样的显示装置中，光学电子装置可以位于显示装置的前部，以允许光学电子装置有效地暴露于入射光。为了在这样的实现方式中安装光学电子装置，可以设计显示装置的增加的边框，或者可以在显示装置的显示面板的显示区域中形成凹口或孔。

因此，期望即使当接收或检测入射光并执行预定义功能的光学电子装置(诸如，相机、传感器等)被附接到显示装置时，显示装置也具有更高的透射率以执行预期功能。

发明内容

发明人已经开发了用于在显示装置中提供或放置一个或更多个光学电子装置而不减小显示装置的显示面板的显示区域的面积的技术。通过开发，发明人已经发明了具有光透射结构的显示面板和显示装置，在该光透射结构中，即使当光学电子装置位于显示面板的显示区域下方并且因此未暴露在显示装置的前表面中时，光学电子装置也可以正常且适当地接收或检测光。

此外，发明人已经发明了一种如下显示面板和显示装置：其具有设置有光学电子装置的区域被配置为具有高透射率的结构并且能够通过简单的工艺形成该结构。

本公开的一个或更多个实施方式可以提供如下显示面板和显示装置：其能够减小显示面板的非显示区域，并且通过将光学电子装置设置在显示面板的显示区域下方或显示面板的下部，使得诸如相机、传感器等的光学电子装置能够不暴露在显示面板的前表面中。

本公开的一个或更多个实施方式可以提供具有光透射结构的显示面板和显示装置，该光透射结构用于使得显示面板的显示区域下方或显示面板的下部中的光学电子装置能够正常地接收或检测透射显示面板的光。

本公开的一个或更多个实施方式可以提供如下显示面板和显示装置：其能够在显示面板的显示区域中包括的并且与光学电子装置交叠的光学区域中正常地执行显示驱动。

根据本公开的方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：显示面板，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，显示区域包括第一光学区域和位于第一光学区域之外的普通区域，其中，第一光学区域包括多个发光区域和多个第一透射区域，并且普通区域包括多个发光区域；以及第一光学电子装置，所述第一光学电子装置位于显示面板下方或显示面板的下部中，并且与显示区域中包括的第一光学区域的至少一部分交叠。显示面板包括：有机发光元件，所述有机发光元件被设置在第一光学区域和普通区域中；封装层，所述封装层被设置在有机发光元件中的至少一者上；第一绝缘层，所述第一绝缘层被设置在封装层上；触摸传感器，所述触摸传感器被设置在第一绝缘层上；以及第二绝缘层，所述第二绝缘层被设置在触摸传感器上。第一绝缘层在普通区域和第一光学区域中的相应厚度可以小于第二绝缘层在普通区域和第一光学区域中的相应厚度。设置在普通区域中的第一绝缘层的厚度可以大于设置在第一光学区域中的第一绝缘层的厚度。设置在普通区域中的第二绝缘层的厚度可以大于设置在第一光学区域中的第二绝缘层的厚度。

根据本公开的方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：基板，所述基板包括显示区域和非显示区域；有机发光元件，所述有机发光元件被设置在第一光学区域和普通区域中的基板上方；封装层，所述封装层被设置在有机发光元件中的至少一者上；第一绝缘层，所述第一绝缘层被设置在封装层上；触摸传感器，所述触摸传感器被设置在第一绝缘层上；以及第二绝缘层，所述第二绝缘层被设置在触摸传感器上。显示区包括与位于基板下方的第一光学电子装置至少部分交叠的第一光学区域以及位于第一光学区域之外的普通区域。第一绝缘层在普通区域和第一光学区域中的相应厚度可以小于第二绝缘层在普通区域和第一光学区域中的相应厚度。设置在普通区域中的第一绝缘层的厚度可以大于设置在第一光学区域中的第一绝缘层的厚度。设置在普通区域中的第二绝缘层的厚度可以大于设置在第一光学区域中的第二绝缘层的厚度。

根据本公开的一个或更多个实施方式，可以提供如下显示面板和显示装置：其能够减小显示面板的非显示区域，并且通过将光学电子装置设置在显示面板的显示区域下方或显示面板的下部中而使得光学电子装置不暴露在显示面板的前表面中。

根据本公开的一个或更多个实施方式，可以提供具有光透射结构的显示面板和显示装置，在该光透射结构中，位于显示面板的显示区域下方或显示面板的下部中的光学电子装置具有正常接收或检测光的能力。

根据本公开的一个或更多个实施方式，可以提供如下显示面板和显示装置：其能够正常地在显示面板的显示区域中包括的并且与光学电子装置交叠的光学区域中执行显示驱动。

根据本公开的一个或更多个实施方式，可以提供如下显示面板和显示装置：其具有设置有光学电子装置的区域被配置为具有高透射率的结构，并且能够通过简单的工艺形成该结构。

附加特征和方面将部分地在以下描述中阐述，并且部分地将从描述中变得显而易见，或者可以通过实践本文提供的发明构思来学习。本发明构思的其他特征和方面可以通过在书面描述、其权利要求和附图中特别指出或可从其导出的结构来实现和获得。

在研究以下附图和详细描述之后，其他系统、方法、特征和优点对于本领域技术人员将是或将变得显而易见。所有这样的附加系统、方法、特征和优点旨在被包括在本说明书内，在本公开的范围内，并且由所附权利要求保护。本部分中的任何内容都不应被视为对那些权利要求的限制。

应当理解，本公开的前述一般描述和以下详细描述都是示例性和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的发明构思的进一步解释。

附图说明

被包括以提供对本公开的进一步理解并且并入本公开中并构成本公开的一部分的附图例示了本公开的方面，并且与说明书一起用于解释本公开的原理。在附图中：

图1A、图1B、图1C和图1D是例示根据本公开的方面的示例显示装置的平面图；

图2例示了根据本公开的方面的显示装置的示例系统配置；

图3例示了根据本公开的方面的显示面板中的子像素的示例性等效电路；

图4A例示了根据本公开的方面的包括在显示面板的显示区域中的三个区域中的子像素的示例布置；

图4B例示了根据本公开的方面的显示面板的第一光学区域的另一示例结构；

图5A例示了根据本公开的方面的显示面板中的第一光学区域和普通区域中的每一者中的信号线的示例布置；

图5B例示了根据本公开的方面的显示面板中的第二光学区域和普通区域中的每一者中的信号线的示例布置；

图6和图7是根据本公开的方面的包括在显示面板的显示区域中的第一光学区域、第二光学区域和普通区域中的每一者的示例截面图；

图8、图9、图10和图11示意性地例示了用于形成包括在图6的显示装置中的第一绝缘层和第二绝缘层的示例工艺；

图12是根据本公开的方面的显示面板的边缘的示例截面图；以及

图13是表示比较示例1和2与实施方式1和2之间的显示装置在短波长下的黄色指数和透射率的表。

具体实施方式

现在将详细参考本公开的实施方式，其示例可以在附图中示出。在以下描述中，除非另有说明，否则本文描述的结构、实施方式、实现方式、方法和操作不限于本文阐述的一个或多个具体示例，并且可以如本领域已知的那样改变。在以下解释中使用的相应元件的名称仅为了便于编写说明书而选择，并且因此可以与实际产品中使用的那些不同。

在附图中例示以描述本公开的各种示例实施方式的形状、尺寸、比率、角度、数量等仅通过示例的方式给出。因此，本公开不限于附图中的图示。除非另有说明，否则相同的附图标记始终表示相同的元件。将通过参考附图描述的以下示例实施方式来阐明本公开的优点和特征及其实现方法。然而，本公开可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文阐述的示例实施方式。相反，提供这些示例实施方式使得本公开可以足够彻底和完整以帮助本领域技术人员完全理解本公开的范围。此外，本公开的保护范围由权利要求及其等同物限定。在以下描述中，在相关已知功能或配置的详细描述可能不必要地模糊本公开的方面的情况下，可以省略这种已知功能或配置的详细描述。在使用术语“包括”、“具有”、“包含”、“含有”、“构成”、“组成”、“由……形成”等的情况下，可以添加一个或更多个其他元件，除非使用诸如“仅”的术语。以单数形式描述的元件旨在包括多个元件，反之亦然，除非上下文另有明确说明。本文使用的单数形式旨在包括复数形式，除非上下文另有明确说明。

在构造元件时，元件将被解释为包括误差或公差范围，即使没有提供这种误差或公差范围的明确描述。

在描述位置关系的情况下，例如，在使用“上”、“上面”、“下方”、“上方”、“下方”、“旁边”、“下一个”等描述两个部分之间的位置关系的情况下，除非使用更限制性的术语，诸如，“紧接”、“直接”或“接近”，否则一个或更多个其他部分可以位于两个部分之间。例如，在元件或层被设置在另一元件或层“上”的情况下，第三元件或层可以被插入其间。此外，术语“左”、“右”、“顶部”、“底部”、“向下”、“向上”、“上部”、“下部”等是指任意参考系。用于描述事件、操作等之间的时间关系的时间相对术语(诸如，“之后”、“随后”、“接下来”、“之前”等)通常旨在包括不连续发生的事件、情况、情况、操作等，除非使用诸如“直接”、“立即”等的术语。

在描述时间关系时，当将时间次序描述为例如“之后”、“随后”、“接下来”或“之前”时，可包含非连续的情况，除非使用更有限制性的术语，例如，“仅”、“立即”或“直接”。

虽然术语“第一”、“第二”、A、B、(a)、(b)等可以在本文中用于描述各种元件，但是这些元件不应被解释为受这些术语限制，因为它们不用于定义特定的顺序或优先级。这些术语在本文中仅用于区分元件与其他元件。第一元件、第二元件“和/或”第三元件的表述应理解为第一元件、第二元件和第三元件中的一个或者第一元件、第二元件和第三元件中的任一个或所有组合。

举例来说，A、B和/或C可以指代仅A、仅B或仅C；A、B和C中的任一个或一些组合；或A、B和C中的全部。因此，以下提及的第一元件可以是本公开的技术概念中的第二元件。

此外，术语“可以”完全涵盖术语“能够”的所有含义。

术语“至少一个”应被理解为包括一个或更多个相关所列项目的任一个或所有组合。例如，“第一元件、第二元件和第三元件中的至少一个”的含义涵盖所有三个列出的元件的组合、三个元件中的任两个的组合以及每个单独的元件、第一元件、第二元件和第三元件。

在下文中，参照附图，将详细描述本公开的各种实施方式。

图1A、图1B、图1C和图1D是例示根据本公开的方面的示例显示装置100的平面图。

参照图1A、图1B、图1C和图1D，根据本公开的方面的显示装置100可以包括用于显示图像的显示面板110以及一个或更多个光学电子装置(11和/或12)。

显示面板110可以包括显示图像的显示区域DA和不显示图像的非显示区域NDA。

多个子像素可以被布置在显示区域DA中，并且用于驱动多个子像素的几种类型的信号线可以被布置在其中。

非显示区域NDA可以指显示区域DA之外的区域。多种类型的信号线可以被布置在非显示区域NDA中，并且多种类型的驱动电路可以与其连接。非显示区域NDA的至少一部分可以被弯曲以从显示面板的前部不可见，或者可以被显示面板110或显示装置100的壳体(未示出)覆盖。非显示区域NDA也可以被称为边框或边框区域。

参照图1A、图1B、图1C和图1D，在根据本公开的方面的显示装置100中，一个或更多个光学电子装置(11和/或12)可以位于显示面板110下方或显示面板110的下部(与其观看表面的相对侧)中。

光可以进入显示面板110的前表面(观看表面)，穿过显示面板110，到达位于显示面板110下方或显示面板110的下部(观看表面的相对侧)中的一个或更多个光学电子装置(11和/或12)。

一个或更多个光学电子装置(11和/或12)可以接收或检测透射通过显示面板110的光，并且基于所接收的光执行预定义的功能。例如，一个或更多个光学电子装置(11和/或12)可以包括以下中的一个或更多个：图像拍摄设备，诸如，相机(图像传感器)等；或传感器，诸如，接近传感器、照度传感器等。

参照图1A、图1B、图1C和图1D，在根据本公开的方面的显示面板110中，显示区域DA可以包括一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)和普通区域NA。在本文中，术语“普通区域”NA是当存在于显示区域DA中时不与一个或更多个光学电子装置(11和/或12)交叠并且也可以被称为非光学区域的区域。

参照图1A、图1B、图1C和图1D，一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)可以是与一个或更多个光学电子装置(11和/或12)交叠的一个或更多个区域。

根据图1A的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1和普通区域NA。在该示例中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠。

虽然图1A例示了第一光学区域OA1具有圆形形状的结构，但是根据本公开的实施方式的第一光学区域OA1的形状不限于此。

例如，如图1B所示，第一光学区域OA1可以具有八边形形状或各种多边形形状。

根据图1C的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和普通区域NA。在图1C的示例中，普通区域NA的至少一部分可以存在于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2之间。在该示例中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠，并且第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。

根据图1D的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和普通区域NA。在图1D的示例中，普通区域NA可以不存在于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2之间。例如，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以彼此接触(例如，彼此直接接触)。在该示例中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠，并且第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。

在一些实施方式中，期望在一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中形成图像显示结构和光透射结构。例如，由于一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是显示区域DA的一部分，因此，需要将用于显示图像的子像素设置在一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中。此外，为了使光能够透射一个或更多个光学电子装置(11和/或12)，需要光透射结构，并且因此在一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中形成光透射结构。

即使需要一个或更多个光学电子装置(11和/或12)来接收或检测光，一个或更多个光学电子装置(11和/或12)也可以位于显示面板110的背面上(例如，在观看表面的相对侧上)。在该实施方式中，一个或更多个光学电子装置(11和/或12)位于例如显示面板110下方或显示面板110的下部中，并且被配置为接收已经透射显示面板110的光。

例如，一个或更多个光学电子装置(11和/或12)不暴露在显示面板110的前表面(观看表面)中。因此，当用户观看显示装置100的前面时，一个或更多个光学电子装置(11和/或12)被定位为对用户不可见。

在一个实施方式中，第一光学电子装置11可以是相机，并且第二光学电子装置12可以是诸如接近传感器、照度传感器、红外传感器等的传感器。例如，相机可以是摄像头、图像传感器或包括摄像头和图像传感器中的至少一个的单元。传感器可以是例如能够检测红外线的红外线传感器。

在另一实施方式中，第一光学电子装置11可以是传感器，并且第二光学电子装置12可以是相机。

在下文中，仅为了方便起见，下面的讨论将参考第一光学电子装置11是相机并且第二光学电子装置12是传感器的实施方式。然而，应当理解，本公开的范围包括第一光学电子装置11是传感器并且第二光学电子装置12是相机的实施方式。例如，相机可以是摄像头、图像传感器或包括摄像头和图像传感器中的至少一个的单元。

在第一光学电子装置11是相机的示例中，该相机可以位于显示面板110的背面上(例如，下方或下部中)，并且可以是能够在显示面板110的前方拍摄对象或图像的前置相机。因此，用户可以在观看显示面板110的观看表面时通过在观看表面上不可见的相机拍摄图像或对象。

虽然在图1A、图1B、图1C和图1D中的每一者中的显示区域DA中包括的普通区域NA和一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是可以显示图像的区域，但是普通区域NA是不需要形成光透射结构的区域，而一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是需要形成光透射结构的区域。因此，在一些实施方式中，普通区域NA是未实现或包括光透射结构的区域，而一个或更多个光学区域(OA1及/或OA2)是实现或包括光透射结构的区域。

因此，一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)可以具有大于或等于预定水平的透射率，即，相对高的透射率，并且普通区域NA可以不具有光透射或具有小于预定水平的透射率，即，相对低的透射率。

例如，一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)可以具有不同于普通区域NA的分辨率、子像素布置结构、每单位面积的子像素的数量、电极结构、线结构、电极布置结构、线布置结构等。

在一个实施方式中，一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中的每单位面积的子像素的数量可以小于普通区域NA中的每单位面积的子像素的数量。例如，一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)的分辨率可以低于普通区域NA的分辨率。这里，每单位面积的子像素的数量可以是用于测量分辨率的单位，例如，称为每英寸像素(或子像素)(PPI)，其表示1英寸内的像素的数量。

在一个实施方式中，在图1A、图1B、图1C和图1D中的每一者中，第一光学区域OA1中的每单位面积的子像素的数量可以小于普通区域NA中的每单位面积的子像素的数量。在一个实施方式中，在图1C和图1D中的每一者中，第二光学区域OA2中的每单位面积的子像素的数量可以大于或等于第一光学区域OA1中的每单位面积的子像素的数量。

在图1A、图1B、图1C和图1D中的每一者中，第一光学区域OA1可以具有各种形状，诸如，圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等。在图1C和图1D中的每一者中，第二光学区域OA2可以具有各种形状，诸如，圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等。第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以具有相同的形状或不同的形状。

参照图1C，在第一光学区域OA1和第二光学区域OA2彼此接触的示例中，包括第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的整个光学区域也可以具有各种形状，诸如，圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等。

在下文中，为了便于描述，将基于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者具有圆形形状的实施方式来提供讨论。然而，应该理解，本发明的范围包括第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的一者或两者具有不同于圆形形状的形状的实施方式。

在本文中，根据本公开的方面的具有第一光学电子装置11被定位成覆盖在显示面板110下方或显示面板110的下部中而不暴露于外部的结构的显示装置100可以被称为屏下摄像头(UDC)技术所应用于的显示器(或显示装置)。

根据该配置的显示装置100可以具有防止显示区域DA的尺寸减小的优点，因为不需要在显示面板110中形成用于暴露相机的凹口或相机孔。

由于用于相机暴露的凹口或相机孔不需要形成在显示面板110中，因此显示装置100可以具有减小边框区域的尺寸以及改进设计自由度的其他优点(因为对设计的这种限制被去除)。

尽管根据本公开的方面，一个或更多个光学电子装置(11和/或12)被定位成覆盖在显示装置100中的显示面板110的背面上(下方或下部中)，即，隐藏成不暴露于外部，但是一个或更多个光学电子装置(11和/或12)需要能够接收或检测用于正常执行预定义功能的光。

此外，在根据本公开的方面的显示装置100中，尽管一个或更多个光学电子装置(11和/或12)被定位成覆盖在显示面板110的背面(下方或下部中)并且被定位成与显示区域DA交叠，但是通常需要在区域DA中的与一个或更多个光学电子装置(11和/或12)交叠的一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)中执行图像显示。

图2例示了根据本公开的方面的显示装置100的示例系统配置。

参照图2，显示装置100可以包括作为用于显示图像的部件的显示面板110和显示驱动电路。

显示驱动电路是用于驱动显示面板110的电路，并且可以包括数据驱动电路220、选通驱动电路230、显示控制器240和其他部件。

显示面板110可以包括显示图像的显示区域DA和不显示图像的非显示区域NDA。非显示区域NDA可以是显示区域DA之外的区域，并且还可以被称为边缘区域或边框区域。非显示区域NDA的全部或一部分可以是从显示装置100的前表面可见的区域，或者当对应部分弯曲时从显示装置100的前表面不可见的区域。

显示面板110可以包括基板SUB和设置在基板SUB上的多个子像素SP。显示面板110还可包括各种信号线以驱动多个子像素SP。

在一些实施方式中，本文的显示装置100可以是液晶显示装置等，或者从显示面板110本身发射光的自发射显示装置。在根据本公开的方面的显示装置100是自发射显示装置的示例中，多个子像素SP中的每一者可以包括发光元件。

在一个实施方式中，根据本公开的方面的显示装置100可以是有机发光显示装置，其中，发光元件使用有机发光二极管(OLED)来实现。在另一实施方式中，根据本公开的方面的显示装置100可以是无机发光显示装置，其中，发光元件使用基于无机材料的发光二极管来实现。在另一实施方式中，根据本公开的方面的显示装置100可以是量子点显示装置，其中，发光元件使用作为自发射半导体晶体的量子点来实现。

多个子像素SP中的每一者的结构可以根据显示装置100的类型而变化。在显示装置100是包括自发射子像素SP的自发射显示装置的示例中，每个子像素SP可以包括自发射发光元件、一个或更多个晶体管以及一个或更多个电容器。

布置在显示装置100中的各种类型的信号线可以包括例如用于承载数据信号(可以称为数据电压或图像信号)的多条数据线DL、用于承载选通信号(可以称为扫描信号)的多条选通线GL等。

多条数据线DL和多条选通线GL可以彼此相交。多条数据线DL中的每一条可以在第一方向上延伸。多条选通线GL中的每一条可以在第二方向上延伸。

例如，第一方向可以是列或垂直方向，并且第二方向可以是行或水平方向。在另一示例中，第一方向可以是行方向，并且第二方向可以是列方向。

数据驱动电路220可以是用于驱动多条数据线DL的电路，并且可以向多条数据线DL提供数据信号。选通驱动电路230可以是用于驱动多条选通线GL的电路，并且可以向多条选通线GL提供选通信号。

显示控制器240可以是用于控制数据驱动电路220和选通驱动电路230的装置，并且可以控制多条数据线DL的驱动定时和多条选通线GL的驱动定时。

显示控制器240可以提供数据驱动控制信号DCS至数据驱动电路220以控制数据驱动电路220，并提供选通驱动控制信号GCS至选通驱动电路230以控制选通驱动电路230。

显示控制器240可以从主机系统250接收输入图像数据并且基于输入图像数据将图像数据Data供应到数据驱动电路220。

数据驱动电路220可以根据显示控制器240的驱动定时控制提供数据信号至多条数据线DL。

数据驱动电路220可以从显示控制器240接收数字图像数据Data，将所接收的图像数据Data转换成模拟数据信号，并将所得到的模拟数据信号提供给多条数据线DL。

选通驱动电路230可以根据显示控制器240的定时控制提供选通信号至多条选通线GL。选通驱动电路230可以接收对应于导通电平电压的第一选通电压和对应于截止电平电压的第二选通电压以及各种选通驱动控制信号GCS，生成选通信号，并将所生成的选通信号提供给多条选通线GL。

在一些实施方式中，数据驱动电路220可以以带式自动接合(TAB)类型连接到显示面板110，或者以玻璃上芯片(COG)类型或面板上芯片(COP)类型连接到诸如显示面板110的接合焊盘的导电焊盘，或者以薄膜上芯片(COF)类型连接到显示面板110。

在一些实施方式中，选通驱动电路230可以以带式自动接合(TAB)类型连接到显示面板110，或者以玻璃上芯片(COG)类型或面板上芯片(COP)类型连接到诸如显示面板110的接合焊盘的导电焊盘，或者以薄膜上芯片(COF)类型连接到显示面板110。在另一实施方式中，选通驱动电路230可以以面板内选通(GIP)类型设置在显示面板110的非显示区域NDA中。选通驱动电路230可以设置在基板上或上方，或者连接至基板。也就是说，在GIP类型的情况下，选通驱动电路230可以被设置在基板的非显示区域NDA中。在玻璃上芯片(COG)类型、薄膜上芯片(COF)类型等的情况下，选通驱动电路230可以连接到基板。

在一些实施方式中，数据驱动电路220和选通驱动电路230中的至少一者可以被设置在显示面板110的显示区域DA中。例如，数据驱动电路220和选通驱动电路230中的至少一者可以被设置成不与子像素SP交叠，或者被设置成与子像素SP中的一者或更多者或全部交叠。

数据驱动电路220也可以位于但不限于仅显示面板110的一侧或一部分(例如，上边缘或下边缘)上。在一些实施方式中，根据驱动方案、面板设计方案等，数据驱动电路220可以位于但不限于显示面板110的两个侧面或部分(例如，上边缘和下边缘)或显示面板110的四个侧面或部分(例如，上边缘、下边缘、左边缘和右边缘)中的至少两者。

选通驱动电路230可以仅位于显示面板110的一侧或一部分(例如，左边缘或右边缘)。在一些实施方式中，根据驱动方案、面板设计方案等，选通驱动电路230可以连接到显示面板110的两个侧面或部分(例如，左边缘和右边缘)，或者连接到显示面板110的四个侧面或部分(例如，上边缘、下边缘、左边缘和右边缘)中的至少两者。

显示控制器240可以在与数据驱动电路220分离的部件中实现，或者与数据驱动电路220集成并且因此在集成电路中实现。

显示控制器240可以是在典型显示技术中使用的定时控制器或能够执行除典型定时控制器的功能之外的其他控制功能的控制器或控制装置。在一些实施方式中，显示控制器140可以是与定时控制器不同的控制器或控制装置或者包括在控制器或控制装置中的电路或部件。显示控制器240可以用各种电路或电子部件来实现，诸如集成电路(IC)、现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)、处理器等。

显示控制器240可以被安装在印刷电路板、柔性印刷电路等上，并且通过印刷电路板、柔性印刷电路等电连接到选通驱动电路230和数据驱动电路220。

显示控制器240可以经由一个或更多个预定义接口向数据驱动电路220发送信号以及从数据驱动电路220接收信号。在一些实施方式中，这样的接口可以包括低电压差分信号(LVDS)接口、嵌入式时钟点对点接口(EPI)、串行外围接口(SPI)等。

在一些实施方式中，为了进一步提供触摸感测功能以及图像显示功能，显示装置100可以包括至少一个触摸传感器，以及能够检测触摸对象(例如，手指、笔等)是否发生触摸事件或能够通过感测触摸传感器检测对应触摸位置的触摸感测电路。

触摸感测电路可以包括：触摸驱动电路260，其能够通过驱动并感测触摸传感器而产生并提供触摸感测数据；触摸控制器270，其能够使用触摸感测数据检测触摸事件的发生或检测触摸位置；以及一个或更多个其他部件。

触摸传感器可以包括多个触摸电极。触摸传感器还可以包括用于将多个触摸电极电连接到触摸驱动电路260的多条触摸线。

触摸传感器可以在显示面板110外部在触摸面板中或以触摸面板的形式实现，或者在显示面板110内部实现。在触摸传感器在显示面板110外部在触摸面板中或以触摸面板的形式实现的示例中，这种触摸传感器被称为附加类型。在设置附加类型的触摸传感器的示例中，触摸面板和显示面板110可以在组装过程期间单独制造和联接。附加类型的触摸面板可以包括触摸面板基板以及位于触摸面板基板上的多个触摸电极。

在触摸传感器被实现在显示面板110内部的示例中，制造显示面板110的过程可以包括将触摸传感器连同与驱动显示装置100有关的信号线和电极一起设置在基板SUB上方。

触摸驱动电路260可以将触摸驱动信号提供至多个触摸电极中的至少一个，并感测多个触摸电极中的至少一个以产生触摸感应数据。

触摸感测电路可以使用自电容感测技术或互电容感测技术来执行触摸感测。

在触摸感测电路以自电容感测技术执行触摸感测的示例中，触摸感测电路可以基于每个触摸电极和触摸对象(例如，手指、笔等)之间的电容来执行触摸感测。

根据自电容感测技术，多个触摸电极中的每一者可以同时用作驱动触摸电极和感测触摸电极二者。触摸驱动电路260可以驱动多个触摸电极中的全部或一个或更多个，并且感测多个触摸电极中的全部或一个或更多个。

在触摸感测电路以互电容感测技术执行触摸感测的示例中，触摸感测电路可以基于触摸电极之间的电容来执行触摸感测。

根据互电容感测技术，多个触摸电极被分成驱动触摸电极和感测触摸电极。触摸驱动电路260可以对驱动触摸电极进行驱动并对感测触摸电极进行感测。

触摸感测电路中所包含的触摸驱动电路260和触摸控制器270可以在分开的装置中或单个装置中实现。此外，触摸驱动电路260和数据驱动电路220可以在分开的装置或单个装置中实现。

显示装置100还可以包括用于向显示驱动电路和/或触摸感测电路提供各种类型的电力的电源电路。

在一些实施方式中，显示装置100可以是移动终端(诸如，智能电话、平板电脑等)，或者监视器、电视(TV)等。此类装置可以具有各种类型、尺寸和形状。根据本公开的实施方式的显示装置100不限于此，并且包括用于显示信息或图像的各种类型、尺寸和形状的显示器。

如上所述，显示面板110的显示区域DA可以包括普通区域NA和一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)，例如，如图1A、图1B、图1C和图1D所示。

普通区域NA和一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是可以显示图像的区域。然而，正常NA是不需要实现光透射结构的区域，并且一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)是需要实现光透射结构的区域。

如上面关于图1A、图1B、图1C和图1D的示例所讨论的，尽管为了便于描述，显示面板110的显示区域DA可以包括除了普通区域NA之外的一个或更多个光学区域(OA1和/或OA2)，但是在下面的讨论中，假设显示区域DA包括第一光学区域(OA1)和第二光学区域(OA2)以及普通区域NA，如图1C和图1D所示；并且其普通区域NA包括图1A、图1B、图1C和图1D中的普通区域NA，并且其第一光学区域(OA1)和第二光学区域(OA2)分别包括图1A、图1B、图1C和图1D中的第一光学区域OA1和图1C和图1D的第二光学区域OA2，除非另有明确说明。

图3例示了根据本公开的方面的显示面板110中的子像素SP的示例等效电路。

设置在显示面板110的显示区域DA中包括的普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每个子像素SP可以包括发光元件ED、用于驱动发光元件ED的驱动晶体管DRT、用于将数据电压Vdata传输到驱动晶体管DRT的第一节点N1的扫描晶体管SCT、用于在一帧期间将电压保持在近似恒定电平的存储电容器Cst等。

驱动晶体管DRT可以包括施加数据电压的第一节点N1、电连接到发光元件ED的第二节点N2以及通过驱动电压线DVL施加驱动电压ELVDD的第三节点N3。在驱动晶体管DRT中，第一节点N1可以是栅极节点，第二节点N2可以是源极节点或漏极节点，第三节点N3可以是漏极节点或源极节点。

发光元件ED可以包括阳极AE、发光层EL以及阴极CE。阳极AE可以是设置在每个子像素SP中的像素电极，并且可以电连接到每个子像素SP的驱动晶体管DRT的第二节点N2。阴极CE可以是通常设置在多个子像素SP中的公共电极，并且诸如低电平电压的基极电压ELVSS可以被施加到阴极CE。

例如，阳极AE可以是像素电极，而阴极CE可以是公共电极。在另一示例中，阳极AE可以是公共电极，而阴极CE可以是像素电极。为了便于描述，在下面的讨论中，除非另有明确说明，否则假设阳极AE是像素电极，而阴极CE是公共电极。

发光元件ED可以是例如有机发光二极管(OLED)、无机发光二极管、量子点发光元件等。在使用有机发光二极管作为发光元件ED的实施方式中，发光元件ED中包括的发光层EL可以包括包含有机材料的有机发光层。

扫描晶体管SCT可以通过扫描信号SCAN导通和截止，扫描信号SCAN是通过选通线GL施加的选通信号，并且扫描晶体管SCT电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1和数据线DL之间。

存储电容器Cst可以电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1和第二节点N2之间。

每个子像素SP可以包括两个晶体管(2T：DRT和SCT)和一个电容器(1C：Cst)(其可以被称为“2T1C结构”)，如图3所示，并且在一些情况下，还可以包括一个或更多个晶体管，或者还包括一个或更多个电容器。

在一些实施方式中，可以存在于驱动晶体管DRT的第一节点N1和第二节点N2之间的存储电容器Cst可以是有意配置或设计为位于驱动晶体管DRT外部的外部电容器，而不是内部电容器，诸如，寄生电容器(例如，栅极到源极电容Cgs、栅极到漏极电容Cgd等)。

驱动晶体管DRT和扫描晶体管SCT中的每一者可以是n型晶体管或p型晶体管。

由于每个子像素SP中的电路元件(例如，具体地，发光元件ED)易受外部水分或氧气影响，因此可在显示面板110中设置封装层ENCAP以便防止外部水分或氧气穿透到电路元件(例如，具体地，发光元件ED)中。封装层ENCAP可以被设置为覆盖发光元件ED。

图4A例示了根据本公开的方面的显示面板110的显示区域DA中包括的三个区域(NA、OA1和OA2)中的子像素SP的示例布置。

图4B例示了根据本公开的方面的显示面板110的第一光学区域的另一示例性结构。

参照图4A，在一些实施方式中，多个子像素SP可以被设置在显示区域DA中包括的普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者中。

多个子像素SP可以包括(例如)发射红光的红色子像素(红SP)、发射绿光的绿色子像素(绿SP)及发射蓝光的蓝色子像素(蓝SP)。

因此，普通区域NA、第一光学区域OA1及第二光学区域OA2中的每一者可以包括一个或更多个红色子像素(红SP)的一个或更多个发光区域EA以及一个或更多个绿色子像素(绿SP)的一个或更多个发光区域EA以及一个或更多个蓝色子像素(蓝SP)的一个或更多个发光区域EA。

参照图4A，在一些实施方式中，普通区域NA可以不包括光透射结构，但可以包括发光区域EA。

相比之下，在一些实施方式中，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2需要包括发光区域EA和光透射结构二者。

因此，第一光学区域OA1可以包括一个或更多个发光区域EA和一个或更多个第一透射区域TA1，并且第二光学区域OA2可以包括一个或更多个发光区域EA和一个或更多个第二透射区域TA2。

发光区域EA和透射区域(TA1和/或TA2)可以根据是否允许光透射而不同。例如，发光区域EA可以是不允许光透射(例如，不允许光透射到显示面板的背面)的区域，并且透射区域(TA1和/或TA2)可以是允许光透射(例如，允许光透射到显示面板的背面)的区域。

发光区域EA和透射区域(TA1和/或TA2)也可以根据是否包括特定金属层而不同。例如，如图3所示的阴极CE可以被设置在发光区域EA中，并且阴极CE可以不被设置在透射区域(TA1和/或TA2)中。在一些实施方式中，光屏蔽层可以被设置在发光区域EA中，并且光屏蔽层可以不被设置在透射区域(TA1和/或TA2)中。

由于第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1并且第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2，因此第一光学区域OA1和第二光学区域OA2二者皆为光可以透射穿过的区域。

在一个实施方式中，第一光学区域OA1的透射率(透射程度)与第二光学区域OA2的透射率(透射程度)基本相等。

例如，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有基本相同的形状或尺寸。在另一示例中，即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有不同的形状或尺寸，第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率和第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率也可以基本上相等。在一个示例中，第一透射区域TA1中的每一者具有相同形状和尺寸。在一个示例中，第二透射区域TA2中的每一者具有相同形状和尺寸。

在另一实施方式中，第一光学区域OA1的透射率(透射程度)与第二光学区域OA2的透射率(透射程度)可以彼此不同。

例如，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有不同的形状或尺寸。在另一示例中，即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本相同的形状或尺寸时，第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率和第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率也可以彼此不同。

例如，在如图1A、图1B和图1C所示的与第一光学区域OA1交叠的第一光学电子装置11是相机，并且如图1C和图1D所示与第二光学区域OA2交叠的第二光学电子装置12是用于检测图像的传感器的示例中，相机可能需要比传感器更大量的光。

因此，第一光学区域OA1的透射率(透射程度)可以大于第二光学区域OA2的透射率(透射程度)。

例如，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以具有大于第二光学区域OA2的第二透射区域TA2的尺寸。在另一示例中，即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本相同的尺寸时，第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率也可以大于第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率。

在一个实施方式中，如图4A所示，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1在截面图中可以具有圆形形状，但根据本公开的实施方式的第一透射区域TA1的结构不限于此。

在另一实施方式中，如图4B所示，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以具有八边形形状。在一些实施方式中，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以具有椭圆形或多边形形状。

以此方式，通过改变第一透射区域TA1的形状，可以调整第一透射区域TA1的透射率且可以调整第一光学区域OA1的发光区域的面积或尺寸。

为了便于描述，基于第一光学区域OA1的透射率(透射程度)大于第二光学区域OA2的透射率(透射程度)的实施方式提供以下讨论。

此外，如图4A所示的透射区域(TA1和/或TA2)可以被称为透明区域，并且术语透射率可以被称为透明度。

此外，在下面的讨论中，假设第一光学区域OA1和第二光学区域OA2位于显示面板110的显示区域DA的上边缘中，并且被设置为彼此水平相邻，诸如，沿上边缘延伸的方向设置，如图4A所示，除非另有明确说明。

参照图4A，设置有第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的水平显示区域被称为第一水平显示区域HA1，并且未设置第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的另一水平显示区域被称为第二水平显示区域HA2。

参照图4A，第一水平显示区域HA1可以包括普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的一部分。第二水平显示区域HA2可以仅包括普通区域NA的另一部分。

图5A例示了根据本公开的方面的显示面板110的第一光学区域OA1和普通区域NA中的每一者中的信号线的示例布置，并且图5B例示了根据本公开的方面的显示面板110的第二光学区域OA2和普通区域NA中的每一者中的信号线的示例布置。

图5A和图5B中所示的第一水平显示区域HA1是显示面板110的第一水平显示区域HA1的部分。图5A和图5B中所示的第二水平显示区域HA2是显示面板110的第二水平显示区域HA2的部分。

图5A中所示的第一光学区域OA1是显示面板110的第一光学区域OA1的一部分，而图5B中所示的第二光学区域OA2是显示面板110的第二光学区域OA2的一部分。

参照图5A和图5B，第一水平显示区域HA1可以包括普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的一部分。第二水平显示区域HA2可以包括普通区域NA的另一部分。

各种类型的水平线(HL1和HL2)和各种类型的垂直线(VLn、VL1和VL2)可以被设置在显示面板110中。

在一些实施方式中，术语“水平”和术语“垂直”用于指代与显示面板相交的两个方向；然而，应注意，水平方向和垂直方向可取决于观看方向而改变。水平方向可以指例如一条选通线GL延伸的方向，并且垂直方向可以指例如一条数据线DL延伸的方向。因此，术语“水平”和术语“垂直”用于表示两个方向。

参照图5A和图5B，设置在显示面板110中的水平线可以包括设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2上的第二水平线HL2。

设置在显示面板110中的水平线可以是选通线GL。也就是说，第一水平线HL1和第二水平线HL2可以是选通线GL。根据一个或更多个子像素SP的结构，选通线GL可以包括各种类型的选通线。

参照图5A和图5B，设置在显示面板110中的垂直线可以包括仅设置在普通区域NA中的垂直线VLn、延伸穿过第一光学区域OA1和普通区域NA二者的第一垂直线VL1以及延伸穿过第二光学区域OA2和普通区域NA二者的第二垂直线VL2。

设置在显示面板110中的垂直线可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等，并且还可以包括参考电压线、初始化电压线等。也就是说，典型的垂直线VLn、第一垂直线VL1和第二垂直线VL2可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等，并且还可以包括参考电压线、初始化电压线等。

在一些实施方式中，应注意，第二水平线HL2中的术语“水平”可仅意味着信号从显示面板的左侧携载到右侧(或从右侧携载到左侧)，并且可不意味着第二水平线HL2仅在直接水平方向上沿直线行进。例如，在图5A和图5B中，尽管第二水平线HL2以直线例示，但是第二水平线HL2中的一条或更多条可以包括与图5A和图5B中所示的配置不同的一个或更多个弯曲或折叠部分。同样，第一水平线HL1中的一条或更多条也可以包括一个或更多个弯曲或折叠部分。

在一些实施方式中，应注意，典型的垂直线VLn中的术语“垂直”可仅意味着信号从显示面板的上部携载到下部(或从下部携载到上部)，并且可不意味着典型的垂直线VLn仅在直接垂直方向上沿直线延伸。例如，在图5A和图5B中，尽管典型的垂直线VLn以直线例示，但是一个或更多个典型的垂直线VLn可以包括与图5A和图5B所示的配置不同的一个或更多个弯曲或折叠部分。同样，第一垂直线VL1中的一条或更多条和第二垂直线VL2中的一条或更多条也可以包括一个或更多个弯曲或折叠部分。

参照图5A，包括在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1可以包括如图4A所示的发光区域EA和第一透射区域TA1。在第一光学区域OA1中，第一透射区域TA1的相应外部区域可以包括对应发光区域EA。

参照图5A，为了提高第一光学区域OA1的透射率，第一水平线HL1可以延伸穿过第一光学区域OA1，同时避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1。

因此，延伸穿过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每一者可以包括围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。

因此，设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2中的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。例如，延伸穿过第一光学区域OA1的第一水平线HL1和不延伸穿过第一光学区域OA1的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。

此外，为了改善第一光学区域OA1的透射率，第一垂直线VL1可以延伸穿过第一光学区域OA1，同时避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1。

因此，延伸穿过第一光学区域OA1的第一垂直线VL1中的每一者可以包括围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。

因此，延伸穿过第一光学区域OA1的第一垂直线VL1和设置在普通区域NA中而不延伸穿过第一光学区域OA1的典型垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。

参照图5A，包括在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以被布置在对角线方向上。

参照图5A，在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1中，一个或更多个发光区域EA可以被设置在两个水平相邻的第一透射区域TA1之间。在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1中，一个或更多个发光区域EA可以被设置在两个垂直相邻的第一透射区域TA1之间。

参照图5A，设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1中的每一者(例如，延伸穿过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每一者)可以包括围绕一个或更多个第一透射区域TA1的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。

参照图5B，包括在第一水平显示区域HA1中的第二光学区域OA2可以包括发光区域EA和第二透射区域TA2。在第二光学区域OA2中，第二透射区域TA2的相应外部区域可以包含对应发光区域EA。

在一个实施方式中，第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1基本相同的位置和布置。

在另一实施方式中，如图5B所示，第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。

例如，参照图5B，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以沿水平方向(从左到右或从右到左的方向)布置。在该示例中，发光区域EA可以不被设置在水平方向上彼此相邻的两个第二透射区域TA2之间。此外，第二光学区域OA2中的发光区域EA中的一个或更多个可以被设置在垂直方向(顶部到底部或底部到顶部方向)上彼此相邻的第二透射区域TA2之间。例如，一个或更多个发光区域EA可以被设置在两行第二透射区域之间。

当在延伸穿过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的普通区域NA的第一水平显示区域HA1中时，在一个实施方式中，第一水平线HL1可以具有与图5A的第一水平线HL1基本相同的布置。

在另一实施方式中，如图5B所示，当在延伸穿过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的普通区域NA的第一水平显示区域HA1中时，第一水平线HL1可以具有与图5A的第一水平线HL1不同的布置。

这是因为图5B的第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。

参照图5B，当在第一水平显示区域HA1中，第一水平线HL1延伸穿过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2相邻的普通区域NA时，第一水平线HL1可以在不具有弯曲或弯折部分的情况下以直线在垂直相邻的第二透射区域TA2之间延伸。

例如，一条第一水平线HL1可以在第一光学区域OA1中具有一个或更多个弯曲或弯折部分，但是在第二光学区域OA2中可以不具有弯曲或弯折部分。

为了改善第二光学区域OA2的透射率，第二垂直线VL2可以延伸穿过第二光学区域OA2，同时避开第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2。

因此，延伸穿过第二光学区域OA2的第二垂直线VL2中的每一者可以包括围绕第二透射区域TA2中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。

因此，延伸穿过第二光学区域OA2的第二垂直线VL2和设置在普通区域NA中而不延伸穿过第二光学区域OA2的典型垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。

如图5A所示，延伸穿过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条可以具有围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。

因此，延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的长度可以略长于仅设置在普通区域NA中而不延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的长度。

因此，延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的电阻(称为第一电阻)可以略大于仅设置在普通区域NA中而不延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的电阻(称为第二电阻)。

参照图5A和图5B，根据光透射结构，由于至少部分地与第一光学电子装置11交叠的第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1，并且至少部分地与第二光学电子装置12交叠的第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2，因此，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的子像素的数量可以小于普通区域NA的每单位面积的子像素的数量。

因此，连接到延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条的子像素的数量可以与连接到仅设置在普通区域NA中而不延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条的子像素的数量不同。

连接到延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(称为第一数量)可以小于连接到仅设置在普通区域NA中而不延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(称为第二数量)。

第一数量与第二数量之间的差可以根据第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个的分辨率与普通区域NA的分辨率之间的差而变化。例如，随着第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一个的分辨率与普通区域NA的分辨率之间的差增加，第一数量和第二数量之间的差可以增加。

如上所述，由于连接到延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(第一数量)小于连接到仅设置在普通区域NA中而不延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每一条或一条或更多条的子像素的数量(第二数量)，因此第一水平线HL1与邻近第一水平线HL1的一个或更多个其他电极或线交叠的区域可以小于第二水平线HL2与邻近第二水平线HL2的一个或更多个其他电极或线交叠的区域。

因此，在第一水平线HL1和与第一水平线HL1相邻的一个或更多个其他电极或线之间形成的寄生电容(称为第一电容)可以比在第二水平线HL2和与第二水平线HL2相邻的一个或更多个其他电极或线之间形成的寄生电容(称为第二电容)小得多。

考虑到第一电阻和第二电阻之间的大小关系(第一电阻≥第二电阻)以及第一电容和第二电容之间的大小关系(第一电容<<第二电容)，延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的电阻-电容(RC)值(称为第一RC值)可以大大小于仅设置在普通区域NA中而不延伸穿过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的RC值(称为第二RC值)。因此，在该示例中，第一RC值大大小于第二RC值(即，第一RC值<<第二RC值)。

由于第一水平线HL1的第一RC值与第二水平线HL2的第二RC值之间的这种差(被称为RC负载差)，通过第一水平线HL1的信号传输特性可以与通过第二水平线HL2的信号传输特性不同。

图6和图7是根据本公开的方面的包括在显示面板110的显示区域DA中的第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和普通区域NA中的每一个的示例性截面图。

图6和图7中的每一个示出了包括在显示区域DA中的普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的示例截面图。

首先，将参照图6和图7描述普通区域NA的堆叠结构。第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的相应发光区域EA可以具有与普通区域NA的发光区域EA相同的堆叠结构。

参照图6和图7，基板SUB可以包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2。层间绝缘层IPD可以被插入在第一基板SUB1和第二基板SUB2之间。由于基板SUB包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2，所以基板SUB可以防止或减少水分的渗透。例如，第一基板SUB1和第二基板SUB2可以是聚酰亚胺(PI)基板。第一基板SUB1可以被称为主PI基板，并且第二基板SUB2可以被称为辅PI基板。

参照图6和图7，用于设置诸如驱动晶体管DRT等的一个或更多个晶体管的各种类型的图案ACT、SD1、GATE、各种类型的绝缘层MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0和各种类型的金属图案TM、GM、ML1、ML2可以被设置在基板SUB上或上方。

参照图6和图7，可以在第二基板SUB2上设置多缓冲层MBUF，并且可以在多缓冲层MBUF上设置第一有源缓冲层ABUF1。

第一金属层ML1和第二金属层ML2可以被设置在第一有源缓冲层ABUF1上。第一金属层ML1和第二金属层ML2可以是例如用于屏蔽光的光屏蔽层LS。

第二有源缓冲层ABUF2可以被设置在第一金属层ML1和第二金属层ML2上。驱动晶体管DRT的有源层ACT可以被设置在第二有源缓冲层ABUF2上。

可以设置选通绝缘层GI以覆盖有源层ACT。

驱动晶体管DRT的栅极GATE可以被设置在栅极绝缘层GI上。此外，栅极材料层GM可以与驱动晶体管DRT的栅极GATE一起被设置在栅极绝缘层GI上与设置驱动晶体管DRT的位置不同的位置处。

第一层间绝缘层ILD1可以被设置为覆盖栅极GATE和栅极材料层GM。金属图案TM可以被设置在第一层间绝缘层ILD1上。金属图案TM可以位于与形成驱动晶体管DRT位置不同的位置。第二层间绝缘层ILD2可以被设置成覆盖第一层间绝缘层ILD1上的金属图案TM。

两个第一源极-漏极电极图案SD1可以被设置在第二层间绝缘层ILD2上。两个第一源极-漏极电极图案SD1中的一个可以是驱动晶体管DRT的源极节点，而另一个可以是驱动晶体管DRT的漏极节点。

两个第一源极-漏极电极图案SD1可以通过形成在第二层间绝缘层ILD2、第一层间绝缘层ILD1和栅极绝缘层GI中的接触孔分别电连接到有源层ACT的第一侧部和第二侧部。

有源层ACT的与栅极GATE交叠的部分可以用作沟道区。两个第一源极-漏极电极图案SD1中的一个可以连接到有源层ACT的沟道区的第一侧部分，而两个第一源极-漏极电极图案SD1中的另一个可以连接到有源层ACT的沟道区的第二侧部分。

可以设置钝化层PAS0以覆盖两个第一源极-漏极电极图案SD1。平坦化层PLN可以被设置在钝化层PAS0上。平坦化层PLN可以包括第一平坦化层PLN1和第二平坦化层PLN2。

第一平坦化层PLN1可以被安置在钝化层PAS0上。

第二源极-漏极电极图案SD2可以被设置在第一平坦化层PLN1上。第二源极-漏极电极图案SD2可以通过形成在第一平坦化层PLN1中的接触孔连接到两个第一源极-漏极电极图案SD1中的一个(对应于图3的子像素SP中的驱动晶体管DRT的第二节点N2)。

第二平坦化层PLN2可以被设置为覆盖第二源极-漏极电极图案SD2。发光元件ED可以被设置在第二平坦化层PLN2上。

根据发光元件ED的示例堆叠结构，阳极AE可以被设置在第二平坦化层PLN2上。阳极AE可以通过形成在第二平坦化层PLN2中的接触孔电连接到第二源极-漏极电极图案SD2。

堤部BANK可以被布置成覆盖阳极AE的一部分。可以打开与子像素SP的发光区域EA相对应的堤部BANK的一部分。

阳极AE的一部分可以通过堤部BANK的开口(开口部分)暴露。发光层EL可以位于堤部BANK的侧表面上和堤部BANK的开口(开口部分)中。发光层EL的全部或至少一部分可以位于相邻的堤部之间。

在堤部BANK的开口中，发光层EL可以接触阳极AE。阴极CE可以被设置在发光层EL上。

如上所述，发光元件ED可以通过包括阳极AE、发光层EL和阴极CE而形成。发光层EL可以包括有机材料层。

封装层ENCAP可以被设置在发光元件ED的堆叠上。

封装层ENCAP可以具有单层结构或多层结构。例如，如图6和图7所示，封装层ENCAP可以包括第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2。

第一封装层PAS1和第三封装层PAS2可以是例如无机材料层，而第二封装层PCL可以是例如有机材料层。在第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2当中，第二封装层PCL可以是最厚的并且用作平坦化层。

第一封装层PAS1可以被设置在阴极CE上，并且可以被设置为最靠近发光元件ED。第一封装层PAS1可以包括能够使用低温沉积来沉积的无机绝缘材料。例如，第一封装层PAS1可以包括但不限于氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)等。由于第一封装层PAS1可以在低温气氛中沉积，因此在沉积工艺期间，第一封装层PAS1可以防止包括易受高温气氛影响的有机材料的发光层EL被损坏。

第二封装层PCL可以具有比第一封装层PAS1更小的面积或尺寸。例如，第二封装层PCL可以被设置为暴露第一封装层PAS1的两端或边缘。第二封装层PCL可以用作用于在显示装置100弯曲或弯折时减轻对应层之间的应力的缓冲器，并且还用于增强平坦化性能。例如，第二封装层PCL可以包括有机绝缘材料，诸如，丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯、碳氧化硅(SiOC)等。第二封装层PCL可以例如使用喷墨方案来设置。

第三封装层PAS2可以被设置在第二封装层PCL设置在其上方的基板SUB上方，使得第三封装层PAS2覆盖第二封装层PCL和第一封装层PAS1的相应顶表面和侧表面。第三封装层PAS2可以最小化或防止外部水分或氧气渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中。例如，第三封装层PAS2可以包括无机绝缘材料，诸如，氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)等。

在示例中，触摸传感器TS可以被设置在封装层ENCAP上。将如下详细描述触摸传感器的结构。

第一绝缘层610(触摸缓冲层)可以被设置在封装层ENCAP上。触摸传感器TS可以被设置在第一绝缘层610上。

触摸传感器TS可以包括位于不同层中的触摸传感器金属TSM和至少一个桥接金属BRG。

第二绝缘层620(触摸层间绝缘层)可以被设置在触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG之间。

例如，触摸传感器金属TSM可以包括彼此相邻设置的第一触摸传感器金属TSM、第二触摸传感器金属TSM和第三触摸传感器金属TSM。在第三触摸传感器金属TSM被设置在第一触摸传感器金属TSM与第二触摸传感器金属TSM之间，并且第一触摸传感器金属TSM与第二触摸传感器金属TSM需要彼此电连接的实施方式中，第一触摸传感器金属TSM与第二触摸传感器金属TSM可以通过位于不同层的桥接金属BRG彼此电连接。桥接金属BRG可以通过第二绝缘层620与第三触摸传感器金属TSM电绝缘。

当触摸传感器TS被设置在显示面板110上时，可以产生或引入在相应工艺中使用的化学溶液(例如，显影剂或蚀刻剂)或来自外部的水分。在一些实施方式中，通过在第一绝缘层610上设置触摸传感器TS，可以防止化学溶液或水分在触摸传感器TS的制造工艺期间渗透到包括有机材料的发光层EL中。因此，第一绝缘层610可以防止对发光层EL的损坏，发光层EL易受化学溶液或水分的影响。

为了防止对包括易受高温影响的有机材料的发光层EL的损坏，第一绝缘层610可以在小于或等于预定温度(例如，100度)的低温下形成，并且可以使用具有1至3的低介电常数的有机绝缘材料形成。例如，第一绝缘层610可以包括丙烯酸基、环氧基或硅氧烷基材料。当显示装置100弯曲时，封装层ENCAP可能被损坏，并且位于第一绝缘层610上的触摸传感器金属可能破裂或断裂。即使当显示装置100弯曲时，包括有机绝缘材料并具有平坦化性能的第一绝缘层610也可以防止封装层ENCAP的损坏和/或包括在触摸传感器TS中的金属(TSM、BRG)的破裂或断裂。

保护层PAC可以被设置为覆盖触摸传感器TS。保护层PAC可以是例如有机绝缘层。

在普通区域NA中，第一绝缘层610的厚度T1小于第二绝缘层620的厚度T2。

接下来，将参照图6和图7描述第一光学区域OA1的堆叠结构。

参照图6和图7，第一光学区域OA1的发光区域EA可以具有与普通区域NA中的堆叠结构相同的堆叠结构。因此，在下面的讨论中，代替重复描述第一光学区域OA1的发光区域EA，下面将详细描述第一光学区域OA1的第一透射区域TA1的堆叠结构。

在一些实施方式中，阴极CE可以被设置在包括在普通区域NA和第一光学区域OA1中的发光区域EA中，但可以不被设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。例如，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以对应于阴极CE的开口。

此外，在一些实施方式中，包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一者的光屏蔽层LS可以被设置在包括在普通区域NA和第一光学区域OA1中的发光区域EA中，但是可以不被设置在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1中。例如，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以对应于光屏蔽层LS的开口。

设置在普通区域NA和第一光学区域OA1中包括的发光区域EA中的基板SUB和各种类型的绝缘层(MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)、610、620、PAC)可以相等地、基本上相等地或类似地设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。

然而，在一些实施方式中，设置在普通区域NA和第一光学区域OA1中包括的发光区域EA中的除了绝缘材料或层之外的具有电特性的一个或更多个材料层(例如，一个或更多个金属材料层和/或一个或更多个半导体层)中的全部或一个或更多个可以不被设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。

例如，参照图6和图7，与至少一个晶体管和有源层ACT相关的金属材料层(ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2)中的全部或一个或更多个可以不被设置在第一透射区域TA1中。

参照图6和图7，在一些实施方式中，发光元件ED中包括的阳极AE和阴极CE可以不被设置在第一透射区域TA1中。在一些实施方式中，根据设计需求，发光元件ED的发光层EL可以被设置或可以不被设置在第一透射区域TA1中。

参考图6和图7，在一些实施方式中，触摸传感器TS中包括的触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG可以不被设置在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1中。

因此，可以提供或改善第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的光透射率，因为具有电特性的材料层(例如，一个或更多个金属材料层及/或一个或更多个半导体层)未被设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。因此，第一光学电子装置11可以通过接收透射穿过第一透射区域TA1的光来执行预定义功能(例如，图像感测)。

在一些实施方式中，由于第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的全部或一个或更多个与第一光学电子装置11交叠，以使第一光学电子装置11能够正常操作，因此需要进一步增加第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的透射率。

为了实现上述，在根据本公开的方面的显示装置100的显示面板110中，可以向第一光学区域OA1的第一透射区域TA1提供透射率改进结构TIS。

参照图6和图7，包括在显示面板110中的多个绝缘层可以包括在至少一个基板(SUB1、SUB2)与至少一个晶体管(DRT、SCT)之间的至少一个缓冲层(MBUF、ABUF1、ABUF2)、在晶体管DRT和发光元件ED之间的至少一个平坦化层(PLN1、PLN2)、在发光元件ED上的至少一个封装层ENCAP等。

显示面板110中包括的多个绝缘层还可以包括第一绝缘层610、位于封装层ENCAP上的第二绝缘层620等。

参照图6和图7，第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以具有第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0具有从其相应表面向下延伸的凹陷部分作为透射率改进结构TIS的结构。

参照图6和图7，在多个绝缘层当中，第一平坦化层PLN1可以包括至少一个凹陷(例如，凹槽、沟槽、凹部、突起等)。第一平坦化层PLN1可以是例如有机绝缘层。

在第一平坦化层PLN1具有从其表面向下延伸的凹陷部分的示例中，第二平坦化层PLN2可以基本上用于提供平坦化。在一个实施方式中，第二平坦化层PLN2也可以具有从其表面向下延伸的凹陷部分。在该实施方式中，第二封装层PCL可以基本上用于提供平坦化。

参照图6和图7，第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0的凹陷部分可以穿过用于形成晶体管DRT的绝缘层(诸如，第一层间绝缘层ILD、第二层间绝缘层ILD2、栅极绝缘层GI等)和位于绝缘层下方的缓冲层(诸如，第一有源缓冲层ABUF1、第二有源缓冲层ABUF2、多缓冲层MBUF等)，并且延伸至第二基板SUB2的上部。

参照图6和图7，基板SUB可以包括作为透射率改进结构TIS的至少一个凹部或凹陷部分。例如，在第一透射区域TA1中，第二基板SUB2的上部可以向下缩进或凹陷，或者第二基板SUB2可以被穿孔。

参照图6和图7，封装层ENCAP中包括的第一封装层PAS1和第二封装层PCL也可以具有透射率改进结构TIS，在该透射率改进结构TIS中，第一封装层PAS1和第二封装层PCL具有从其相应表面向下延伸的凹陷部分。第二封装层PCL可以是例如有机绝缘层。

在一些实施方式中，基板SUB可以不包括第一透射区域TA1中的凹部，并且封装层ENCAP中包括的第一封装层PAS1和第二封装层PCL也可以具有平坦表面或平坦形状。

为了保护触摸传感器TS，可以设置保护层PAC以覆盖封装层ENCAP上的触摸传感器TS。

保护层PAC可以在与第一透射区域TA1交叠的部分中具有至少一个凹陷(例如，凹槽、沟槽、凹部、突起等)作为透射率改进结构TIS。保护层PAC可以是例如有机绝缘层。

触摸传感器TS可以包括具有网格类型的一种或更多种触摸传感器金属TSM。在触摸传感器金属TSM以网格类型形成的示例中，可以在触摸传感器金属TSM中形成多个开口。多个开口中的每一者可以被定位成与子像素SP的发光区域EA相对应。

为了使第一光学区域OA1具有大于普通区域NA的透射率，第一光学区域OA1中每单位面积的触摸传感器金属TSM的面积或尺寸可以小于普通区域NA中每单位面积的触摸传感器金属TSM的面积或尺寸。

在一些实施方式中，触摸传感器TS可以被设置在第一光学区域OA1的发光区域EA中，但可以不被设置在第一光学区域OA1的第一透射区域TA1中。

在一些实施方式中，如图6和图7所示，为了使第一光学区域OA1的透射率可以高于普通区域NA的透射率，设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610的厚度T3可以小于设置在普通区域NA中的第一绝缘层610的厚度T1，并且设置在第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4可以小于设置在普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2。

第一绝缘层610和第二绝缘层620中的每一者可以包括氮化硅(SixNy)。

与其他可见光波长带中的光相比，包括氮化硅(SixNy)的第一绝缘层610和第二绝缘层620对于具有短波长(例如，440nm至470nm)的光具有更高的吸收率，因此，可以以淡黄色观看包括具有高透射率所需的第一透射区域TA1的第一光学区域OA1。

在一些情况下，包括触摸传感器TS的显示装置100可以包括第一绝缘层610和第二绝缘层620中的至少一者。在显示装置100包括第一绝缘层610和第二绝缘层620中的至少一者的示例中，期望提高第一光学区域OA1的透射率，或者提高第一光学区域OA1和除了显示区域DA中的第一光学区域OA1之外的剩余区域的至少一部分的透射率。

在一些实施方式中，为了增加第一光学区域OA1对于具有短波长的光的透射率，使得第一光学区域OA1的透射率可以高于普通区域NA的透射率，设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610的厚度T3可以小于设置在普通区域NA中的第一绝缘层610的厚度T1，并且设置在第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4可以小于设置在普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2。

位于普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2可以是其中的第一绝缘层610的厚度T1的两倍。例如，在普通区域NA中，第二绝缘层620的厚度T2可以为4000埃，并且第一绝缘层610的厚度T1可以为2000埃。然而，根据本公开的实施方式的普通区域NA中的第一绝缘层610和第二绝缘层620的厚度不限于此。

位于第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4可以大于其中的第一绝缘层610的厚度T3的2倍，并且小于或等于其中的第一绝缘层610的厚度T3的2.5倍。例如，在第一光学区域OA1中，第二绝缘层620的厚度T4可以为3000埃，并且第一绝缘层610的厚度T2可以为1300埃。然而，根据本公开的实施方式的第一光学区域OA1中的第一绝缘层610和第二绝缘层620的厚度不限于此。

如上所述，设置在普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的第一绝缘层610和第二绝缘层620可以包括氮化硅(SixNy)。

为了增加普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的透射率，第一绝缘层610和第二绝缘层620中的每一者的原子数的组成比(原子％)可以由等式1表示。

[等式1]

N≥Si

例如，包括在第一绝缘层610和第二绝缘层620中的每一者中的氮(N)的原子数的组成比(原子％)可以大于或等于硅(Si)的原子数的组成比(原子％)。

例如，包括在第一绝缘层610和第二绝缘层620中的每一者中的氮(N)的原子数的组成比(原子％)可以是50％至52％，并且包括在第一绝缘层610和第二绝缘层620中的每一者中的硅(Si)的原子数的组成比可以是48％至50％。然而，本公开的实施方式不限于此。

在形成第一绝缘层610和第二绝缘层620的工艺中使用的气体可以包括NH3气体和SiH4气体。在形成第一绝缘层610和第二绝缘层620以获得满足等式1的原子数的组成比的工艺中使用的气体的流速(NH3/SiH4)可以是0.85至1.2。

如上所述，通过调整包括在第一绝缘层610和第二绝缘层620中的氮(N)的原子数的组成比和硅(Si)的原子数的组成比，不仅可以提高第一光学区域OA1的透射率，而且还可以提高普通区域NA和第二光学区域OA2的透射率。

接下来，将参照图6和图7描述第二光学区域OA2的堆叠结构。

参照图6和图7，第二光学区域OA2的发光区域EA可以具有与普通区域NA的堆叠结构相同的堆叠结构。因此，在下面的讨论中，代替重复描述第二光学区域OA2中的发光区域EA，将在下面详细描述第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的堆叠结构。

在一些实施方式中，阴极CE可以被设置在包括在普通区域NA和第二光学区域OA2中的发光区域EA中，但可以不被设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。例如，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以与阴极CE的开口相对应。

在实施方式中，包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一者的光屏蔽层LS可以被设置在包括在普通区域NA和第二光学区域OA2中的发光区域EA中，但可以不被设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。例如，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以与光屏蔽层LS的开口相对应。

在第二光学区域OA2的透射率与第一光学区域OA1的透射率相同的示例中，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的堆叠结构可以与第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的堆叠结构相同。

在第二光学区域OA2的透射率与第一光学区域OA1的透射率不同的另一示例中，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的堆叠结构可以至少部分不同于第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的堆叠结构。

例如，如图6和图7所示，在一些实施方式中，当第二光学区域OA2的透射率低于第一光学区域OA1的透射率时，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以不具有透射率改善结构TIS。结果，第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0可以不缩进或凹陷。在实施方式中，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的宽度可以小于第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的宽度。

设置在普通区域NA和第一光学区域OA1中包括的发光区域EA中的基板SUB和各种类型的绝缘层(MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)、610、620、PAC)可以相等地、基本上相等地或类似地设置在第二光学区域OA2的第二透射区域TA2中。

然而，在一些实施方式中，设置在包括在普通区域NA和第二光学区域OA2中的发光区域EA中的除了绝缘材料或层之外的具有电特性的一个或更多个材料层(例如，一个或更多个金属材料层和/或光学区域半导体层)中的全部或一个或更多个可以不被设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。

例如，参考图6和图7，与至少一个晶体管和有源层ACT相关的金属材料层(ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2)中的全部或一个或更多个可以不被设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。

此外，参照图6和图7，在一些实施方式中，发光元件ED中包括的阳极AE和阴极CE可以不被设置在第二透射区域TA2中。在一些实施方式中，发光元件ED的发光层EL可以根据设计需求设置或不设置在第二透射区域TA2上。

包括在触摸传感器TS中的触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG可以不被设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。

因此，可以提供或改善第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的光透射率，因为具有电特性的材料层(例如，一个或更多个金属材料层和/或一个或更多个半导体层)未被设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。因此，第二光学电子装置12可以通过接收透射通过第二透射区域TA2的光来执行预定义功能(例如，检测物体或人体，或外部照明检测)。

如图6所示，位于第二光学区域OA2中的第一绝缘层610的厚度T5可以与位于普通区域NA中的第一绝缘层610的厚度T1相对应。位于第二光学区域OA2中的第二绝缘层620的厚度T6可以与位于普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2相对应。

在该示例中，第一光学区域OA1对于具有短波长(例如，440nm至470nm)的光的透射率可以高于第二光学区域OA2对于具有短波长的光的透射率。

然而，本公开的实施方式不限于此。例如，如图7所示，位于第二光学区域OA2中的第一绝缘层610的厚度T5可以与位于第一光学区域OA1中的第一绝缘层610的厚度T3相对应。位于第二光学区域OA2中的第二绝缘层620的厚度T6可以与位于第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4相对应。

在该示例中，第一光学区域OA1对于具有短波长(例如，440nm至470nm)的光的透射率可以与第二光学区域OA2对于具有短波长的光的透射率相对应。因此，当第二光学区域OA2也需要对具有短波长的光具有第一光学区域OA1的透射率时，如图7所示，设置在第二光学区域OA2中的第一绝缘层610和第二绝缘层620的厚度T5和T6可以被配置为分别与设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610和第二绝缘层620的厚度T3和T4相对应。

如图6和图7所示，可以使用第一掩模和第二掩模形成对于每个区域具有不同厚度的第一绝缘层610和第二绝缘层620，从而可以简化形成这些绝缘层的工艺。

在下文中，将参照图8至图11讨论本公开的与前述内容相关的实施方式。

图8、图9、图10和图11示意性地例示了用于形成包括在图6的显示装置中的第一绝缘层和第二绝缘层的示例性工艺。

首先参照图8，在普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中，第一绝缘层材料910可以被设置在第二封装层PCL和第三封装层PAS2设置在其上方的基板上方。

光刻胶可以被设置在第一绝缘层材料910上。

将基于设置在第一绝缘层材料910上的光刻胶是在照射光时固化的光刻胶的示例来提供讨论。

第一掩模950可以被设置成面向设置有光刻胶的基板。

第一掩模950可以包括第一区域951和第二区域952。在光刻工艺中，第一区域951可以是光不能透射通过的区域，并且透射第二区域952的光的量可以大于透射第一区域951的光的量。在该示例中，透射第二区域952的光的量可以小于入射光的量(即，小于100％)。

普通区域NA和第二光学区域OA2可以与第一掩模950的第一区域951相对应，并且第一光学区域OA1可以与第一掩模950的第二区域952相对应。

可以通过朝向第一掩模950照射光来使光刻胶图案化。

如图8所示，可以在与第一掩模950的第一区域951相对应的区域中形成第一光刻胶，并且可以在与第一掩模950的第二区域952相对应的区域中形成高度低于第一光刻胶的第二光刻胶。

此后，可以去除第二光刻胶。在该工艺中，第一光刻胶的高度可以被降低第二光刻胶的高度。

在光刻工艺之后，第二光刻胶可以不存在于设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层材料910上方，并且第一光刻胶可以存在于设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第一绝缘层材料910上方。

此后，可以使用第一光刻胶作为掩模来蚀刻第一绝缘层材料910。

例如，由于第一光刻胶存在于设置有第一光刻胶的普通区域NA和第二光学区域OA2中，所以可以不蚀刻第一绝缘层材料910。可以部分蚀刻不存在光刻胶的第一光学区域OA1中的第一绝缘层材料910。

此后，可以去除设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第一光刻胶。

因此，如图9所示，第一绝缘层610可以被设置在普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者中。

设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第一绝缘层610的相应高度T1和T5可以彼此相对应。

在实施方式中，设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610的厚度T3可以小于设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第一绝缘层610的相应厚度T1和T5。

如图10所示，桥接金属BRG可以被设置在第一绝缘层610上。

第二绝缘层材料1020可以被设置在桥接金属BRG和第一绝缘层610上。

第二绝缘层材料1020可以被设置在普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中。

光刻胶可以被设置在第二绝缘层材料1020上。

将基于设置在第二绝缘层材料1020上的光刻胶是在照射光时固化的光刻胶的示例来提供讨论。

第二掩模1050可以被设置成面向设置有光刻胶的基板。

第二掩模1050可以包括第三区域1051和第四区域1052。在光刻工艺中，第三区域1051可以是光不能透射通过的区域，并且透射第四区域1052的光的量可以大于透射第三区域1051的光的量。在该示例中，透射第四区域1052的光的量可以小于入射光的量(即，小于100％)。

普通区域NA和第二光学区域OA2可以与第二掩模1050的第三区域1051相对应，并且第一光学区域OA1可以与第二掩模1050的第四区域1052相对应。

可以通过朝向第二掩模1050照射光来使光刻胶图案化。

如图10所示，可以在与第二掩模1050的第三区域1051相对应的区域中形成第三光刻胶，并且可以在与第二掩模1050的第四区域1052相对应的区域中形成高度低于第三光刻胶的第四光刻胶。

此后，可以去除第四光刻胶。在该工艺中，第三光刻胶的高度可以被降低第四光刻胶的高度。

在光刻工艺之后，第四光刻胶可以不存在于设置在第一光学区域OA1中的第二绝缘层材料1020上方，并且第三光刻胶可以存在于设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第二绝缘层材料1020上方。

此后，可以使用第三光刻胶作为掩模来蚀刻第二绝缘层材料1020。

例如，由于第三光刻胶存在于设置有第三光刻胶的普通区域NA和第二光学区域OA2中，所以可以不蚀刻第二绝缘层材料1020。可以部分蚀刻不存在光刻胶的第一光学区域OA1中的第二绝缘层材料1020。

伺候，可以去除设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第一光刻胶。

因此，如图11所示，第二绝缘层620可以被设置在普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者中。

设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第二绝缘层620的相应高度T2和T6可以彼此相对应。

在实施方式中，设置在第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4可以小于设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第二绝缘层620的相应厚度T2和T6。

虽然在图11中未示出，但是桥接金属BRG和触摸传感器金属彼此接触的接触孔可以被形成在第二绝缘层620中。

通过此工艺，如图6中所示的结构中所示，设置在普通区域NA和第二光学区域OA2中的第一绝缘层610和第二绝缘层620的相应厚度可以大于设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610和第二绝缘层620的相应厚度。

此外，通过使用包括第一区域951和第二区域952的一个第一掩模950形成第一绝缘层610，并且使用包括第三区域1051和第四区域1052的一个第二掩模1050形成第二绝缘层620，可以简化用于形成设置在普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的第一绝缘层610和第二绝缘层620的工艺。

图12是根据本公开的方面的显示面板110的边缘的示例截面图。

为了简洁起见，在图12中，例示了包括第一基板SUB1和第二基板SUB2的单个基板SUB，并且以简化的方式例示了位于堤部BANK下方的层或部分。以相同的方式，图12例示了包括第一平坦化层PLN1和第二平坦化层PLN2的单个平坦化层PLN以及包括位于平坦化层PLN下方的第二层间绝缘层ILD2和第一层间绝缘层ILD1的单个层间绝缘层INS。

参照图12，第一封装层PAS1可以被设置在阴极CE上并且被设置为最靠近发光元件ED。第二封装层PCL可以具有比第一封装层PAS1更小的面积或尺寸。例如，第二封装层PCL可以被设置为暴露第一封装层PAS1的两端或边缘。

第三封装层PAS2可以被设置在第二封装层PCL被设置在其上方的基板SUB上方，使得第三封装层PAS2覆盖第二封装层PCL和第一封装层PAS1的相应顶表面和侧表面。

第三封装层PAS2可以最小化或防止外部水分或氧气渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中。

参照图12，为了防止封装层ENCAP塌陷，显示面板110可以包括在封装层ENCAP的倾斜表面SLP的端部或边缘处或附近的一个或更多个隔障(DAM1和/或DAM2)。一个或更多个隔障(DAM1和/或DAM2)可以存在于显示区域DA与非显示区域NDA之间的边界点处或附近。

一个或更多个隔障(DAM1和/或DAM2)可以包括与堤部BANK相同的材料DFP。

参照图12，在一个实施方式中，包括有机材料的第二封装层PCL可以仅位于第一隔障DAM1的内侧上，该第一隔障DAM1在隔障当中最靠近封装层ENCAP的倾斜表面SLP。例如，第二封装层PCL可以不位于所有隔障(DAM1和DAM2)上。在另一个实施方式中，包括有机材料的第二封装层PCL可以位于第一隔障DAM1和第二隔障DAM2中的至少第一隔障DAM1上。

例如，第二封装层PCL可以仅延伸到第一隔障DAM1的上部的全部或至少一部分。在另一个实施方式中，第二封装层PCL可以延伸超过第一隔障DAM1的上部并且延伸直到第二隔障DAM2的上部的全部或至少一部分。

参照图12，触摸驱动电路260电连接到的触摸板TP可以被设置在基板SUB的一个或更多个隔障(DAM1和/或DAM2)外部的一部分中。

触摸线TL可以电连接至设置在显示区域DA中的触摸电极中包括的触摸板TP、触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG，或电连接至用作设置在显示区域DA中的触摸电极的触摸板TP、触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG。

触摸线TL的一端或边缘可以电连接至触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG，而触摸线TL的另一端或边缘可以电连接至触摸板TP。

触摸线TL可以沿着封装层ENCAP的倾斜表面SLP向下延伸，沿着一个或更多个隔障(DAM1和/或DAM2)的相应上部延伸，并且向上延伸到设置在一个或更多个隔障(DAM1和/或DAM2)外部的触摸板TP。

参照图12，在一个实施方式中，触摸线TL可以是桥接金属BRG。在另一个实施方式中，触摸线TL可以是触摸传感器金属TSM。

接下来，参照图13，讨论了比较示例和实施方式之间的显示装置的短波长下的黄色指数和透射率。

图13是表示比较示例1和2与根据本公开的示例1和2之间的显示装置的短波长下的黄色指数和透射率的表。

在图13中，根据比较示例1和2的显示装置可以包括在普通区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中具有均匀厚度的第一绝缘层和具有均匀厚度的第二绝缘层。在比较示例1和2中，第一绝缘层的厚度可以是

而第二绝缘层的厚度可以是/>

在图13中，根据示例1和2的显示装置可以具有图6的结构。在普通区域NA和第二光学区域OA2中，第一绝缘层的厚度可以为2000埃，而第二绝缘层的厚度可为4000埃。在第一光学区域OA1中，第一绝缘层的厚度可以为1300埃，而第二绝缘层的厚度可以为3000埃。

在根据比较示例1和示例2的显示装置中，用于形成第一绝缘层和第二绝缘层的工艺的气体的流速(NH3/SiH4)可以是0.93，并且在根据比较示例2和示例2的显示装置中，用于形成第一绝缘层和第二绝缘层的工艺的气体的流速(NH3/SiH4)可以是1.19。

根据图13的示例1和2的显示装置的黄色指数可以低于根据比较示例1和2的显示装置的黄色指数。

根据比较示例1的显示装置对于波长为430nm和470nm的光的透射率可以低于根据示例1的显示装置对于波长为430nm和470nm的光的透射率。

根据比较示例2的显示装置对于波长为430nm和470nm的光的透射率可以低于根据示例2的显示装置对于波长为430nm和470nm的光的透射率。

因此，由于第一光学区域OA1中的第二绝缘层的厚度可以大于第一绝缘层的厚度的两倍且小于或等于第一绝缘层的厚度的2.5倍，因此可以实现对短波长上的入射光的高透射率。

本公开的实施方式提供了一种显示装置，所述显示装置包括：显示面板，所述显示面板包括显示区域DA和非显示区域NDA，所述显示区域DA包括第一光学区域OA1和位于第一光学区域OA1之外的普通区域NA，其中，第一光学区域OA1包括多个发光区域EA和多个第一透射区域TA1，并且普通区域NA包括多个发光区域EA；以及第一光学电子装置11，所述第一光学电子装置11位于显示面板下方或显示面板的下部中，并且与包括在显示区域DA中的第一光学区域OA1的至少一部分交叠。显示面板包括设置在第一光学区域OA1和普通区域NA中的有机发光元件ED、设置在有机发光元件ED中的至少一个上的封装层ENCAP、设置在封装层ENCAP上的第一绝缘层610、设置在第一绝缘层610上的触摸传感器(例如，包括在触摸传感器中的桥接金属BRG)以及设置在触摸传感器上的第二绝缘层620(例如，包括在触摸传感器中的桥接金属BRG)。第一绝缘层610在普通区域NA和第一光学区域OA1中的相应厚度(T1和T3)可以小于第二绝缘层620在普通区域NA和第一光学区域OA1中的相应厚度(T2和T4)。设置在普通区域NA中的第一绝缘层610的厚度T1可以大于设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610的厚度T3。设置在普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2可以大于设置在第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4。

第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4可以大于其中的第一绝缘层610的厚度T3的2倍，并且小于或等于其中的第一绝缘层610的厚度T3的2.5倍。

普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2可以是其中的第一绝缘层610的厚度T1的两倍。

显示区域DA还可以包括不同于第一光学区域OA1和普通区域NA的第二光学区域OA2。显示装置还可以包括第二光学电子装置12，所述第二光学电子装置12位于显示面板110下方或显示面板110的下部中，并且与第二光学区域OA2的至少一部分交叠。普通区域NA可以设置在或可以不设置在第一光学区域OA1和第二光学区域OA2之间。

设置在普通区域NA中的第一绝缘层610的厚度T1可以大于设置在第二光学区域OA2中的第一绝缘层610的厚度T5，并且设置在普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2可以大于设置在第二光学区域OA2中的第二绝缘层620的厚度T6。

设置在第二光学区域OA2中的第一绝缘层610的厚度T5可以与设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610的厚度T3相对应，并且设置在第二光学区域OA2中的第二绝缘层620的厚度T6可以与设置在第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4相对应。

设置在第二光学区域OA2中的第一绝缘层610的厚度T5可以与设置在普通区域NA中的第一绝缘层610的厚度T1相对应，并且设置在第二光学区域OA2中的第二绝缘层620的厚度T6可以与设置在普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2相对应。

在一个实施方式中，第一光学电子装置11可以是相机，并且第二光学电子装置12可以是诸如接近传感器、照度传感器等的传感器。

第一绝缘层610和第二绝缘层620中的每一者可以包括氮化硅(SixNy)。

第一绝缘层610和第二绝缘层620中的每一者的原子数的组成比可以由下面的等式1表示。

[等式1]

N≥Si

第一光学区域OA1中的每单位面积的子像素的数量可以小于普通区域NA中的每单位面积的子像素的数量，并且第二光学区域OA2中的每单位面积的子像素的数量可以大于或等于第一光学区域OA1中的每单位面积的子像素的数量。

显示面板还可以包括阴极CE，所述阴极CE被设置在包括在普通区域NA和第一光学区域OA1中的多个发光区域EA中，而不被设置在第一光学区域OA1中的多个第一透射区域TA1中。

显示面板还可以包括设置在多个发光区域EA中的晶体管下方并且不被设置在多个透射区域(TA1和/或TA2)中的光屏蔽层LS。

本公开的实施方式提供了一种显示面板，所述显示面板包括：基板SUB，所述基板SUB包括显示区域DA和非显示区域NDA；有机发光元件ED，所述有机发光元件ED被设置在第一光学区域OA1和普通区域NA中的基板SUB上方；封装层ENCAP，所述封装层ENCAP被设置在有机发光元件ED中的至少一个上；第一绝缘层610，所述第一绝缘层610被设置在封装层ENCAP上；触摸传感器(例如，包括在触摸传感器中的桥接金属BRG)，所述触摸传感器被设置在第一绝缘层610上；以及第二绝缘层620，所述第二绝缘层620被设置在触摸传感器上(例如，包括在触摸传感器中的桥接金属BRG)。显示区域DA包括与位于基板SUB下方的第一光学电子装置11至少部分交叠的第一光学区域OA1以及位于第一光学区域OA1外部的普通区域。第一绝缘层610在普通区域NA和第一光学区域OA1中的相应厚度(T1和T3)可以小于第二绝缘层620在普通区域NA和第一光学区域OA1中的相应厚度(T2和T4)。设置在普通区域NA中的第一绝缘层610的厚度T1可以大于设置在第一光学区域OA1中的第一绝缘层610的厚度T3。设置在普通区域NA中的第二绝缘层620的厚度T2可以大于设置在第一光学区域OA1中的第二绝缘层620的厚度T4。

已经呈现以上描述以使得本领域技术人员能够制造和使用本发明，并且已经在特定应用及其要求的上下文中提供以上描述。对所描述的实施方式的各种修改、添加和替换对于本领域技术人员将是显而易见的，并且在不脱离本发明的精神和范围的情况下，本文定义的一般原理可以应用于其他实施方式和应用。尽管已经出于说明性目的描述了示例性实施方式，但是本领域技术人员将理解，在不脱离本公开的基本特征的情况下，各种修改和应用是可能的。例如，示例性实施方式的特定部件可以被不同地修改。以上描述和附图仅出于说明性目的提供了本发明的技术思想的示例。也就是说，所公开的实施方式旨在说明本公开的技术构思的范围。因此，本公开的范围不限于所示出的实施方式，而是要符合与权利要求一致的最宽范围。本公开的保护范围应根据权利要求来解释，并且权利要求范围内的所有技术思想应被解释为包括在本发明的范围内。

相关申请的交叉引用

本申请要求2021年11月15日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10-2021-0156795的优先权权益，其全部内容通过引用并入本文中。

Claims (20)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：

显示面板，所述显示面板包括多个发光区域；以及

第一光学电子装置，所述第一光学电子装置位于所述显示面板下方，

其中，所述显示面板的与所述第一光学电子装置交叠的第一光学区域除了包括所述多个发光区域之外还包括多个第一透射区域，

其中，所述显示面板的不与所述第一光学电子装置交叠的第三光学区域包括所述多个发光区域，而不包括所述第一透射区域，并且

其中，所述显示面板包括：

有机发光元件，所述有机发光元件被设置在所述第一光学区域和所述第三光学区域中；

封装层，所述封装层被设置在所述有机发光元件中的至少一个上；

第一绝缘层，所述第一绝缘层被设置在所述封装层上；

触摸传感器，所述触摸传感器被设置在所述第一绝缘层上；以及

第二绝缘层，所述第二绝缘层被设置在所述触摸传感器上，

其中，所述第一绝缘层在所述第三光学区域中的厚度小于所述第二绝缘层在所述第三光学区域中的厚度，并且所述第一绝缘层在所述第一光学区域中的厚度小于所述第二绝缘层在所述第一光学区域中的厚度，并且

其中，设置在所述第三光学区域中的所述第一绝缘层的厚度大于设置在所述第一光学区域中的所述第一绝缘层的厚度，并且设置在所述第三光学区域中的所述第二绝缘层的厚度大于设置在所述第一光学区域中的所述第二绝缘层的厚度。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二绝缘层在所述第一光学区域中的厚度大于所述第一绝缘层在所述第一光学区域中的厚度的2倍，并且小于或等于所述第一绝缘层在所述第一光学区域中的厚度的2.5倍。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二绝缘层在所述第三光学区域中的厚度是所述第一绝缘层在所述第三光学区域中的厚度的2倍。

4.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括：

第二光学电子装置，所述第二光学电子装置位于所述显示面板下方，

其中，所述显示面板的与所述第二光学电子装置交叠的第二光学区域除了包括所述多个发光区域之外还包括多个第二透射区域，

其中，所述第三光学区域被设置在所述第一光学区域和所述第二光学区域之间或不被设置在所述第一光学区域和所述第二光学区域之间。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，设置在所述第三光学区域中的所述第一绝缘层的厚度大于设置在所述第二光学区域中的所述第一绝缘层的厚度，并且设置在所述第三光学区域中的所述第二绝缘层的厚度大于设置在所述第二光学区域中的所述第二绝缘层的厚度。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，设置在所述第二光学区域中的所述第一绝缘层的厚度与设置在所述第一光学区域中的所述第一绝缘层的厚度相对应，并且设置在所述第二光学区域中的所述第二绝缘层的厚度与设置在所述第一光学区域中的所述第二绝缘层的厚度相对应。

7.根据权利要求4所述的显示装置，其中，设置在所述第二光学区域中的所述第一绝缘层的厚度与设置在所述第三光学区域中的所述第一绝缘层的厚度相对应，并且设置在所述第二光学区域中的所述第二绝缘层的厚度与设置在所述第三光学区域中的所述第二绝缘层的厚度相对应。

8.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述第一光学电子装置是相机，并且所述第二光学电子装置是传感器。

9.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述第一光学区域中的每单位面积的子像素的数量小于所述第三光学区域中的每单位面积的子像素的数量，并且所述第二光学区域中的每单位面积的子像素的数量大于或等于所述第一光学区域中的每单位面积的子像素的数量。

10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一绝缘层和所述第二绝缘层中的每一者包括氮化硅SixNy。

11.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述第一绝缘层和所述第二绝缘层中的每一者的原子数的组成比由等式1表示：

N≥Si。

12.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示面板还包括阴极，所述阴极被设置在所述第三光学区域和所述第一光学区域中包括的相应发光区域中，并且不被设置在所述第一光学区域的所述第一透射区域中。

13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示面板还包括光屏蔽层，所述光屏蔽层被设置在所述第三光学区域和所述第一光学区域的相应发光区域中的晶体管下方，并且不被设置在所述第一透射区域中。

14.一种显示面板，所述显示面板包括：

基板，所述基板包括显示区域，所述显示区域具有与多个发光区域相对应的多个有机发光元件，其中，所述显示区域的第一光学区域与设置在所述显示面板下方的第一光学电子装置交叠，并且所述第一光学区域除了包括所述多个发光区域之外还包括多个第一透射区域，并且其中，所述显示面板的不与所述第一光学电子装置交叠的第三光学区域包括所述多个发光区域，而不包括所述第一透射区域；

封装层，所述封装层被设置在所述有机发光元件上；

第一绝缘层，所述第一绝缘层被设置在所述封装层上；

触摸传感器，所述触摸传感器被设置在所述第一绝缘层上；以及

第二绝缘层，所述第二绝缘层被设置在所述触摸传感器上，

其中，所述第一绝缘层在所述第三光学区域中的厚度小于所述第二绝缘层在所述第三光学区域中的厚度，并且所述第一绝缘层在所述第一光学区域中的厚度小于所述第二绝缘层在所述第一光学区域中的厚度，并且

其中，设置在所述第三光学区域中的所述第一绝缘层的厚度大于设置在所述第一光学区域中的所述第一绝缘层的厚度，并且设置在所述第三光学区域中的所述第二绝缘层的厚度大于设置在所述第一光学区域中的所述第二绝缘层的厚度。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其中，所述第二绝缘层在所述第一光学区域中的厚度大于所述第一绝缘层在所述第一光学区域中的厚度的2倍，并且小于或等于所述第一绝缘层在所述第一光学区域中的厚度的2.5倍。

16.根据权利要求14所述的显示面板，其中，所述第二绝缘层在所述第三光学区域中的厚度是所述第一绝缘层在所述第三光学区域中的厚度的2倍。

17.根据权利要求14所述的显示面板，

其中，所述显示面板的与位于所述显示面板下方的第二光学电子装置交叠的第二光学区域除了包括所述多个发光区域之外还包括多个第二透射区域，并且

其中，所述第三光学区域被设置在所述第一光学区域和所述第二光学区域之间。

18.一种显示面板，所述显示面板包括：

基板，所述基板包括显示区域和非显示区域，其中，所述显示区域包括与位于所述基板下方的第一光学电子装置至少部分交叠的第一光学区域以及位于所述第一光学区域之外的普通区域；以及

有机发光元件，所述有机发光元件在所述第一光学区域和所述普通区域中被设置在所述基板上方；

封装层，所述封装层被设置在所述有机发光元件中的至少一个上；

第一绝缘层，所述第一绝缘层被设置在所述封装层上；

触摸传感器，所述触摸传感器被设置在所述第一绝缘层上；以及

第二绝缘层，所述第二绝缘层被设置在所述触摸传感器上，

其中，所述第一绝缘层在所述普通区域和所述第一光学区域中的相应厚度不一致，并且所述第二绝缘层在所述普通区域和所述第一光学区域中的相应厚度不一致以增加预定波长上的入射光的透射率。

19.根据权利要求18所述的显示面板，

其中，所述显示面板的与位于所述显示面板下方的第二光学电子装置交叠的第二光学区域除了包括多个发光区域之外还包括多个第二透射区域，并且

其中，所述普通区域被设置在所述第一光学区域和所述第二光学区域之间。

20.根据权利要求19所述的显示面板，其中，设置在所述普通区域中的所述第一绝缘层的厚度大于设置在所述第二光学区域中的所述第一绝缘层的厚度，并且设置在所述普通区域中的所述第二绝缘层的厚度大于设置在所述第二光学区域中的所述第二绝缘层的厚度。

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