KR20230062826A - 점착 시트 첩부품의 제조 방법 - Google Patents

점착 시트 첩부품의 제조 방법 Download PDF

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다이스케 미즈노
다케시 나카노
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 점착 시트 첩부품의 제조 방법은, 점착 시트(S)를 피착체에 첩합하는 공정을 포함한다. 점착 시트(S)의 점착제층(10)은, 제 1 활성 광선의 조사에 의해 변색과 경화가 가능하고, 제 2 활성 광선의 조사에 의해 경화 가능하다. 본 방법은, 제 2 활성 광선의 조사에 의해 점착제층(10)을 경화시키는 공정과, 점착제층(10)의 적어도 일부에 대한 제 1 활성 광선의 조사에 의해 점착제층(10)에 변색 부분을 형성하는 공정을 포함하거나, 제 1 활성 광선의 조사에 의해 점착제층(10)을 변색 및 경화시키는 공정을 포함하거나, 또는 제 1 활성 광선의 조사에 의해 점착제층(10)의 제 1 부분을 변색 및 경화시키는 공정과, 제 2 활성 광선의 조사에 의해 점착제층(10)의 제 2 부분을 경화시키는 공정을 포함한다.

Description

점착 시트 첩부품의 제조 방법
본 발명은, 점착 시트 첩부품의 제조 방법에 관한 것이다.
유기 EL 패널 등의 디스플레이 패널은, 화소 패널 및 커버 부재 등을 포함하는 적층 구조를 갖는다. 그와 같은 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 적층 구조에 포함되는 요소끼리의 첩합(貼合)을 위해서, 예를 들면, 투명한 점착 시트가 이용된다.
또한, 디스플레이 패널에 있어서의 화소 패널의 광출사 측(화상 표시 측)에 배치되는 투명 점착 시트로서, 동 시트의 소정 개소에 의장성, 차폐성, 반사 방지성 등을 부여하기 위한 착색 부분이 미리 형성되어 있는 점착 시트를 이용하는 것이, 제안되어 있다. 그와 같은 점착 시트는, 예를 들면 하기의 특허문헌 1에 기재되어 있다. 특허문헌 1에는, 구체적으로는, 카본 블랙 안료를 함유하는 착색 부분을 갖는 점착 시트가 기재되어 있다.
일본 특허공개 2017-203810호 공보
그러나, 디스플레이 패널 등의 물품의 제조 과정에 있어서, 착색 부분이 미리 형성되어 있는 점착 시트를 이용하는 경우, 피착체에 대한 당해 점착 시트의 첩합 후에, 피착체와 점착 시트의 착색 부분 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 적절히 검사할 수 없다. 물품의 제조 과정에 있어서의 점착 시트의 첩합에는, 당해 첩합 후에 피착체와 점착 시트 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 적절히 검사할 수 있을 것이 요구된다.
한편, 예를 들면 디스플레이 패널용의 투명 점착 시트에 마련되는 착색 부분(변색 부분)의 기능 확보의 관점에서는, 착색 부분의 열화가 억제될 것이 요구된다. 착색 부분의 열화로서는, 예를 들면, 점착제층의 변형에 의한 착색 부분의 변형을 들 수 있다. 변색 부분의 열화로서는, 예를 들면, 착색 부분에 포함되는 착색 성분의 확산에 기인하는 착색 부분의 번짐, 퇴색, 및 색감의 불균일화도 들 수 있다.
본 발명은, 피착체에 대한 첩합 후의 점착 시트의 적어도 일부를 변색 가능하고, 당해 변색 부분의 열화를 억제하는 데 적합한, 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 제공한다.
본 발명 [1]은, 제 1 활성 광선의 조사에 의해 변색 가능 및 경화 가능하고, 또한 제 2 활성 광선의 조사에 의해 경화 가능한 점착제층을, 구비하는 점착 시트를, 피착체에 첩합하는 첩합 공정을 포함하는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법으로서, 상기 피착체 위의 상기 점착제층에 대한 상기 제 2 활성 광선의 조사에 의해 당해 점착제층을 경화시키는 제 1 경화 공정과, 당해 경화 공정보다 후의, 상기 점착제층의 적어도 일부에 대한 상기 제 1 활성 광선의 조사에 의해 상기 점착제층에 변색 부분을 형성하는 변색 공정을 더 포함하거나, 또는 상기 피착체 위의 상기 점착제층에 대한 상기 제 1 활성 광선의 조사에 의해 상기 점착제층을 변색시키고 또한 경화시키는 제 1 변색 경화 공정을 더 포함하거나, 또는 상기 피착체 위의 상기 점착제층에 있어서의 제 1 부분에 대한 상기 제 1 활성 광선의 조사에 의해 상기 제 1 부분을 변색시키고 또한 경화시키는 제 2 변색 경화 공정과, 당해 변색 경화 공정보다 후의, 상기 점착제층에 있어서의 제 2 부분에 대한 상기 제 2 활성 광선의 조사에 의해 당해 제 2 부분을 경화시키는 제 2 경화 공정을 더 포함하는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 포함한다.
본 발명 [2]는, 상기 점착제층은, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산발생제를 함유하는, 상기 [1]에 기재된 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 포함한다.
본 발명 [3]은, 상기 점착제층은, 상기 광산발생제의 흡광도 X에 대한 상기 광중합 개시제의 흡광도 Y의 비율이 2 이상인 파장 영역을, 파장 300nm 이상 500nm 이하의 범위 내에 갖는, 상기 [2]에 기재된 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 포함한다.
본 발명 [4]는, 상기 경화 공정에 있어서의 상기 제 2 활성 광선은, 300nm 미만의 파장의 광을 실질적으로 포함하지 않는, 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 포함한다.
본 발명 [5]는, 상기 경화 공정에서는, 상기 제 2 활성 광선의 광원으로서, UV-LED 램프, 블랙 라이트, 고압 수은 램프, 및 메탈 할라이드 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 광원이 사용되고, 또한 상기 광원으로부터의 광이 파장 컷 필터를 개재시켜 상기 점착제층에 조사되는, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 포함한다.
본 발명 [6]은, 상기 변색 공정 및/또는 상기 변색 경화 공정에 있어서의 상기 제 1 활성 광선은, 300nm 미만의 파장의 광을 포함하는, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 포함한다.
본 발명 [7]은, 상기 변색 공정 및/또는 상기 변색 경화 공정에서는, 상기 제 1 활성 광선의 광원으로서, UV-LED 램프, 블랙 라이트, 고압 수은 램프, 및 메탈 할라이드 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 광원이 사용되는, 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 점착 시트 첩부품의 제조 방법을 포함한다.
본 발명의 점착 시트 첩부품의 제조 방법에서는, 첩합 공정에 있어서, 제 1 활성 광선의 조사에 의해 변색 가능한 점착제층을 구비하는 점착 시트가, 피착체에 첩합된다. 그 때문에, 당해 첩합 공정보다 후에, 점착제층에 있어서의 변색 예정 부분에 대한 제 1 활성 광선의 조사에 의해, 당해 점착제층의 적어도 일부를 변색시킬 수 있다(변색 공정, 제 1 변색 경화 공정, 또는 제 2 변색 경화 공정). 이와 같은 제조 방법에 의하면, 피착체에 대한 점착 시트의 첩합 후이며, 점착제층의 변색 부분 형성 전에, 점착 시트와 피착체 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 검사할 수 있다.
또한, 본 제조 방법에 있어서, 제 1 경화 공정과 그 후의 변색 공정을 실시하는 상기 구성은, 점착제층의 변색을 억제하면서 점착제층을 경화시키고, 또한 점착제층에 원하는 패턴 형상의 변색 부분을 형성하는 데 적합하다. 제 1 변색 경화 공정을 실시하는 상기 구성은, 점착제층의 전체를 효율 좋게 변색 및 경화시키는 데 적합하다. 제 2 변색 경화 공정과 그 후의 제 2 경화 공정을 실시하는 상기 구성은, 점착제층에 원하는 패턴 형상의 변색 부분을 형성하고, 또한 점착제층에 있어서의 변색 부분 이외의 변색을 억제하면서 점착제층을 경화시키는 데 적합하다. 그리고, 첩합 공정 후에, 점착제층의 적어도 일부에 변색 부분을 형성하고 또한 점착제층의 전체를 경화시키는 데 적합한 이들 구성은, 피착체에 대한 첩합에 적합한 부드러움을 점착제층(경화 전)에 있어서 첩합 시에 확보하면서, 제조되는 점착 시트 첩부품의 점착제층(경화 후)에 있어서, 변색 부분의 열화를 억제하는 데 적합하다.
도 1은 본 발명의 점착 시트 첩부품의 제조 방법의 일 실시형태에 있어서의 일부의 공정을 나타낸다. 도 1A는, 점착 시트 및 제 1 부재를 준비하는 공정을 나타내고, 도 1B는, 점착 시트를 제 1 부재에 첩합하는 공정(첩합 공정)을 나타내며, 도 1C는, 제 1 부재와 제 2 부재를 점착 시트를 개재시켜 접합하는 공정(접합 공정)을 나타낸다.
도 2는 도 1C에 나타내는 공정 후에 계속되는 공정을 나타낸다. 도 2A는, 점착 시트의 점착제층을 경화시키는 공정(제 1 경화 공정)을 나타내고, 도 2B는, 점착 시트의 점착제층의 일부를 변색시키는 공정(변색 공정)을 나타낸다.
도 3은 도 1C에 나타내는 공정 후에 계속되는 다른 공정을 나타낸다. 구체적으로는, 점착제층을 변색 및 경화시키는 공정(제 1 변색 경화 공정)을 나타낸다.
도 4는 도 1C에 나타내는 공정 후에 계속되는 다른 공정을 나타낸다. 도 4A는, 점착 시트의 점착제층의 일부를 변색 및 경화시키는 공정(제 2 변색 경화 공정)을 나타내고, 도 4B는, 점착 시트의 점착제층을 경화시키는 공정(제 2 경화 공정)을 나타낸다.
도 5는 본 발명의 점착 시트 첩부품의 제조 방법에 이용되는 점착 시트의 단면 모식도이다.
도 6은 본 발명의 점착 시트 첩부품의 제조 방법에 이용되는 점착 시트의 변형예(점착 시트가 기재 부착 편면 점착 시트인 경우)의 단면 모식도이다.
도 7은 도 6에 나타내는 점착 시트를 이용하여 제조되는 점착 시트 첩부품을 나타낸다.
도 1A 내지 도 2B는, 본 발명의 점착 시트 첩부품의 제조 방법의 일 실시형태를 나타낸다. 본 제조 방법은, 준비 공정과, 첩합 공정과, 제 1 경화 공정과, 변색 공정을 포함한다.
우선, 준비 공정에서는, 도 1A에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(S)와, 제 1 부재(M1)(피착체)를 준비한다.
점착 시트(S)는, 점착제층(10)을 구비한다. 점착 시트(S)는, 소정의 두께의 시트 형상을 갖고, 두께 방향과 직교하는 방향(면 방향)으로 연장된다. 점착제층(10)은, 점착성 조성물로 형성된 감압 접착제층이다. 점착제층(10)은, 투명성(가시광 투과성)을 갖는다. 또한, 점착제층(10)은, 후술하는 제 1 활성 광선의 조사에 의해 변색 가능 및 경화 가능하고, 또한 제 1 활성 광선과는 상이한 후술하는 제 2 활성 광선의 조사에 의해 경화 가능하다. 점착성 조성물은, 본 실시형태에서는, 베이스 폴리머와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 함유한다. 광중합 개시제는, 제 2 활성 광선을 받아 중합성 화합물의 중합 반응을 개시시킨다. 또한, 본 실시형태에서는, 점착성 조성물에 있어서, 광산발생제와, 발색성 화합물이 이용된다. 광산발생제는, 제 1 활성 광선을 받아 산을 발생시킨다. 발색성 화합물은, 산과의 반응에 의해 발색한다. 점착성 조성물의 성분은, 보다 구체적으로는, 예를 들면 후술하는 바와 같다.
제 1 부재(M1)는, 예를 들면, 유기 EL 패널 등의 디스플레이 패널이다. 제 1 부재(M1)는, 다른 전자 디바이스, 및 광학 디바이스여도 된다.
다음으로, 첩합 공정에서는, 도 1B에 나타내는 바와 같이, 제 1 부재(M1)에 점착 시트(S)를 첩합한다. 본 실시형태에서는, 제 1 부재(M1)의 두께 방향 일방면에 점착 시트(S)를 첩합한다. 이에 의해, 제 1 부재(M1)의 두께 방향 타방면 위에 점착 시트(S)가 배치된다.
첩합 공정 후, 필요에 따라서, 부재(M1)와 점착 시트(S) 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 검사한다.
본 실시형태에서는, 다음으로, 도 1C에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(S)를 개재시켜 제 1 부재(M1) 및 제 2 부재(M2)를 접합한다(접합 공정). 제 2 부재(M2)는, 예를 들면 투명 기재이다. 투명 기재로서는, 투명 플라스틱 기재 및 투명 유리 기재를 들 수 있다. 본 공정에 의해, 적층체(W)가 얻어진다. 적층체(W)에 있어서, 점착 시트(S)는, 제 1 부재(M1)의 두께 방향 일방면에 접촉하도록 배치되고, 제 2 부재(M2)는, 그 점착 시트(S)의 두께 방향 일방면에 접촉하도록 배치되어 있다.
접합 공정 후, 필요에 따라서, 부재(M1, M2)와 점착 시트(S) 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 검사한다.
다음으로, 제 1 경화 공정에서는, 도 2A에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(S)의 점착제층(10)을 경화시킨다. 구체적으로는, 적층체(W)에 있어서의 점착제층(10)에 제 2 활성 광선을 조사하여 점착제층(10)을 경화시킨다. 제 2 활성 광선은, 투명한 제 2 부재(M2) 측으로부터 점착제층(10)에 대해서 조사된다. 제 2 활성 광선 조사용의 광원으로서는, 예를 들면, 자외선 LED 램프(UV-LED 램프), 블랙 라이트, 고압 수은 램프, 및 메탈 할라이드 램프를 들 수 있다. 또한, 제 2 활성 광선의 조사에 있어서는, 광원으로부터 출사되는 광선에 있어서의 일부의 파장 영역을 커팅하기 위한 파장 컷 필터를, 필요에 따라서 이용해도 된다. 제 2 활성 광선의 광원의 종류, 및 제 2 활성 광선 조사 시의 파장 컷 필터의 이용에 대해서는, 후술하는 제 2 경화 공정에 있어서도 마찬가지이다.
제 2 활성 광선은, 제 1 활성 광선과는 파장 범위가 상이하다. 제 2 활성 광선은, 본 실시형태에서는, 광산발생제에 있어서 실질적으로 산을 발생시키지 않는 파장을 갖는다. 제 2 활성 광선은, 바람직하게는, 300nm 미만의 파장의 광을 실질적으로 포함하지 않는다. 제 2 활성 광선의 파장 범위의 하한은, 바람직하게는 300nm, 보다 바람직하게는 320nm, 한층 바람직하게는 340nm, 보다 한층 바람직하게는 360nm, 더 바람직하게는 380nm, 더더욱 바람직하게는 390nm, 특히 바람직하게는 395nm이다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는, 이와 같은 파장의 광조사를 받는 것에 의해 중합성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 광중합 개시제가, 점착성 조성물에 있어서 이용된다. 제 2 활성 광선의 파장에 관한 이상의 구성에 대해서는, 후술하는 제 2 경화 공정에서 이용되는 제 2 활성 광선에 있어서도 마찬가지이다.
본 공정에서는, 제 2 활성 광선의 조사를 받은 점착제층(10)에 있어서, 광중합 개시제에 의해 중합성 화합물의 중합 반응이 개시되어, 당해 중합 반응이 진행된다. 이에 의해, 점착제층(10)의 탄성률이 상승한다.
점착제층(10)은, 이용되는 광산발생제의 흡광도 X에 대한 광중합 개시제의 흡광도 Y의 비율이 2 이상인 파장 영역(파장 영역 R)을, 파장 300nm 이상 500nm 이하의 범위 내에 갖는 것이 바람직하다. 파장 영역 R에 있어서의 상기 비율(Y/X)은, 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 10 이상, 더 바람직하게는 100 이상이다. 바람직하게는, 제 2 활성 광선의 파장의 적어도 일부가 파장 영역 R 내에 있다. 보다 바람직하게는, 제 2 활성 광선의 파장의 전부가 파장 영역 R 내에 있다. 이와 같은 파장 영역 내의 파장을 갖는 제 2 활성 광선을 점착제층(10)에 조사하는 구성은, 경화 공정에 있어서, 점착제층(10)에서의 변색을 억제하면서 점착제층(10)을 경화시키는 데 적합하다. 경화 공정에 있어서, 점착제층(10)에서의 변색을 억제하면서 점착제층(10)을 경화시키는 관점에서는, 광산발생제의 흡광도 X에 대한 광중합 개시제의 흡광도 Y의 상기 비율은, 보다 큰 편이 바람직하다.
경화 후의 점착제층(10)이, 주파수 1Hz 및 승온 속도 5℃/분의 조건에서의 동적 점탄성 측정에서 나타내는, 25℃에서의 전단 저장 탄성률(제 1 전단 저장 탄성률)은, 바람직하게는 0.2×105Pa 이상, 보다 바람직하게는 2×105Pa 이상, 더 바람직하게는 5×105Pa 이상이다. 당해 전단 저장 탄성률은, 바람직하게는 100×105Pa 이하, 보다 바람직하게는 50×105Pa 이하, 더 바람직하게는 25×105Pa 이하이다. 또한, 경화 전의 점착제층(10)이, 주파수 1Hz 및 승온 속도 5℃/분의 조건에서의 동적 점탄성 측정에서 나타내는, 25℃에서의 전단 저장 탄성률(제 2 전단 저장 탄성률)은, 바람직하게는 0.1×105Pa 이상, 보다 바람직하게는 0.2×105Pa 이상, 더 바람직하게는 0.3×105Pa 이상이다. 제 1 전단 저장 탄성률은, 바람직하게는 10×105Pa 이하, 보다 바람직하게는 5×105Pa 이하, 더 바람직하게는 3×105Pa 이하이다. 제 2 전단 저장 탄성률에 대한 제 1 전단 저장 탄성률의 비율은, 바람직하게는 2 이상, 보다 바람직하게는 5 이상, 더 바람직하게는 10 이상이다. 동 비율은, 바람직하게는 100 이하, 보다 바람직하게는 50 이하, 더 바람직하게는 30 이하이다. 전단 저장 탄성률에 관한 이상의 구성은, 점착제층(10)에 형성되는 변색 부분의 후술하는 열화를 억제하는 데 적합하다.
다음으로, 변색 공정에서는, 도 2B에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(S)의 점착제층(10)의 적어도 일부를 변색시킨다. 구체적으로는, 적층체(W)에 있어서의 점착제층(10)의 적어도 일부에 대한 제 1 활성 광선의 조사에 의해, 점착제층(10)에 변색 부분(11)을 형성한다(도 2B에는, 점착제층(10)의 일부에 변색 부분(11)을 형성하는 경우를 예시적으로 도시한다). 본 공정에 있어서, 점착제층(10)의 일부에 변색 부분(11)을 형성하는 경우, 투명한 제 2 부재(M2) 측으로부터, 점착제층(10)에 있어서의 소정 영역을 마스크하기 위한 마스크 패턴(도시 생략)을 개재시켜, 점착제층(10)에 대해서 제 1 활성 광선을 조사한다. 이에 의해, 점착제층(10)에 있어서의 당해 마스크 패턴으로 마스크되어 있지 않은 부분을 변색시킨다.
제 1 활성 광선 조사용의 광원으로서는, 예를 들면, 자외선 LED 램프(UV-LED 램프), 블랙 라이트, 고압 수은 램프, 및 메탈 할라이드 램프를 들 수 있다. 또한, 제 1 활성 광선의 조사에 있어서는, 광원으로부터 출사되는 제 1 활성 광선에 있어서의 일부의 파장 영역을 커팅하기 위한 파장 컷 필터를, 필요에 따라서 이용해도 된다. 제 1 활성 광선의 광원의 종류, 및 제 1 활성 광선 조사 시의 파장 컷 필터의 이용에 대해서는, 후술하는 제 1 변색 경화 공정 및 제 2 변색 경화 공정에 있어서도 마찬가지이다.
제 1 활성 광선은, 제 2 활성 광선과는 파장 범위가 상이하다. 제 1 활성 광선의 파장 범위는, 바람직하게는, 적어도 제 2 활성 광선의 파장 범위보다 작은 범위(단파장 측의 파장 범위)를 포함한다(제 1 활성 광선의 파장 범위는, 제 2 활성 광선의 파장 범위와 중복되는 범위를 포함해도 된다). 즉, 제 1 활성 광선은, 바람직하게는, 제 2 활성 광선에는 포함되지 않는 고에너지의 광선을 포함한다. 예를 들면, 제 1 활성 광선은, 300nm 미만의 파장의 광을 포함한다.
제 1 활성 광선이 파장 범위에 하한을 갖는 경우, 또는 예를 들면 파장 컷 필터를 이용하여 제 1 활성 광선의 파장 범위에 하한을 마련하는 경우, 당해 제 1 활성 광선의 파장 범위의 하한은, 바람직하게는 200nm, 보다 바람직하게는 220nm, 한층 바람직하게는 240nm, 보다 한층 바람직하게는 250nm, 더 바람직하게는 260nm, 더더욱 바람직하게는 270nm, 특히 바람직하게는 280nm이다. 혹은, 제 1 활성 광선에는, 파장 200nm 미만의 광이 포함되어도 된다. 그와 같은 광의 광원으로서는, 예를 들면, 고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프를 들 수 있다. 제 1 활성 광선이 파장 범위에 상한을 갖는 경우, 또는 예를 들면 파장 컷 필터를 이용하여 제 1 활성 광선의 파장 범위에 상한을 마련하는 경우, 당해 제 1 활성 광선의 파장 범위의 상한은, 바람직하게는 400nm, 보다 바람직하게는 395nm, 한층 바람직하게는 390nm, 보다 한층 바람직하게는 385nm, 더 바람직하게는 380nm, 더더욱 바람직하게는 375nm, 특히 바람직하게는 370nm이다. 본 실시형태에서는, 바람직하게는, 이와 같은 파장의 활성 에너지선 조사를 받는 것에 의해 산을 발생시키는 광산발생제가, 점착성 조성물에 있어서 이용된다. 제 1 활성 광선의 파장에 관한 이상의 구성에 대해서는, 후술하는 제 1 변색 경화 공정 및 제 2 변색 경화 공정에서 이용되는 제 1 활성 광선에 있어서도 마찬가지이다.
본 공정에서는, 점착제층(10)에 있어서 제 1 활성 광선이 조사된 부분에서, 광산발생제로부터 산이 발생하고, 당해 산과의 반응에 의해 발색성 화합물이 발색한다. 이에 의해, 점착제층(10)에 변색 부분(11)이 형성된다. 변색 부분(11)은, 예를 들면 암색(暗色)을 나타낸다.
이상과 같이 하여, 점착 시트 첩부품(Z)을 제조할 수 있다. 제 1 부재(M1)가 유기 EL 패널 등의 디스플레이 패널인 경우, 당해 패널이 구비하는 화소 패널 위에 형성된 금속 배선에 대응하는(즉 대면하는) 패턴 형상으로 변색 부분(11)을 마련하는 것에 의해, 당해 금속 배선에서의 외광 반사를 억제할 수 있다.
본 제조 방법에서는, 도 1C에 나타내는 공정 후, 도 2A 및 도 2B에 나타내는 공정 대신에, 이하와 같은 제 1 변색 경화 공정을 실시해도 된다.
제 1 변색 경화 공정에서는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(S)의 점착제층(10)을 변색 및 경화시킨다. 구체적으로는, 적층체(W)에 있어서의 점착제층(10)에 대한 제 1 활성 광선의 조사에 의해, 점착제층(10)의 전체를 경화시킴과 함께 변색시킨다. 제 1 활성 광선은, 투명한 제 2 부재(M2) 측으로부터 점착제층(10)에 대해서 조사된다.
본 공정에서는, 제 1 활성 광선의 조사를 받은 점착제층(10)에 있어서, 광산발생제로부터 산이 발생하고, 당해 산과의 반응에 의해 발색성 화합물이 발색한다. 이에 의해, 점착제층(10)이 변색된다(점착제층(10)의 전체에 변색 부분(11)이 형성된다). 또한, 본 공정에서는, 제 1 활성 광선의 조사를 받은 점착제층(10)에 있어서, 광중합 개시제에 의해 중합성 화합물의 중합 반응이 개시되어, 당해 중합 반응이 진행된다. 이에 의해, 점착제층(10)의 탄성률이 상승한다.
이상의 방법에 의해서도, 점착 시트 첩부품(Z)을 제조할 수 있다.
본 제조 방법에서는, 도 1C에 나타내는 공정 후, 도 2A 및 도 2B에 나타내는 공정 대신에, 이하와 같은 제 2 변색 경화 공정과, 제 2 경화 공정을 실시해도 된다.
제 2 변색 경화 공정에서는, 도 4A에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(S)의 점착제층(10)의 일부를 변색 및 경화시킨다. 구체적으로는, 적층체(W)에 있어서의 점착제층(10)의 일부(제 1 부분)에 대한 제 1 활성 광선의 조사에 의해, 점착제층(10)의 일부에 변색 부분(11)을 형성하고 또한 당해 일부를 경화시킨다. 본 공정에서는, 투명한 제 2 부재(M2) 측으로부터, 점착제층(10)에 있어서의 소정 영역을 마스크하기 위한 마스크 패턴(도시 생략)을 개재시켜, 점착제층(10)에 대해서 제 1 활성 광선을 조사한다.
본 공정에서는, 점착제층(10)에 있어서 제 1 활성 광선의 조사를 받은 부분에서, 광산발생제로부터 산이 발생하고, 당해 산과의 반응에 의해 발색성 화합물이 발색한다. 이에 의해, 점착제층(10)에 변색 부분(11)이 형성된다. 또한, 본 공정에서는, 점착제층(10)에 있어서 제 1 활성 광선의 조사를 받은 부분에서, 광중합 개시제에 의해 중합성 화합물의 중합 반응이 개시되어, 당해 중합 반응이 진행된다. 이에 의해, 당해 부분의 탄성률이 상승한다.
제 2 경화 공정에서는, 도 4B에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(S)의 점착제층(10)을 경화시킨다. 구체적으로는, 적층체(W)에 있어서의 점착제층(10)의 적어도 일부에 제 2 활성 광선을 조사하여 점착제층(10)을 경화시킨다. 점착제층(10)에 있어서 제 2 활성 광선이 조사되는 영역은, 점착제층(10)의 변색 부분(11) 이외의 어느 부분(제 2 부분)을 포함하고, 바람직하게는 점착제층(10)의 전체이다. 제 2 활성 광선은, 투명한 제 2 부재(M2) 측으로부터 점착제층(10)에 대해서 조사된다.
본 공정에서는, 제 2 활성 광선의 조사를 받은 점착제층(10)에 있어서, 광중합 개시제에 의해 중합성 화합물의 중합 반응이 개시되어, 당해 중합 반응이 진행된다. 이에 의해, 점착제층(10)의 탄성률이 상승한다(도 4B에는, 점착제층(10)의 전체가 경화되는 경우를 예시적으로 도시한다).
이상의 제조 방법에서는, 제 1 활성 광선의 조사에 의해 사후적으로 변색 가능한 점착제층(10)을 구비하는 점착 시트(S)가, 피착체로서의 제 1 부재(M1)에 첩합된다(첩합 공정). 또한, 당해 점착 시트(S)를 개재시켜, 피착체로서의 제 1 부재(M1)와 제 2 부재(M2)가 접합된다(접합 공정). 이와 같은 제조 방법에 의하면, 첩합 공정 후에 있어서, 또한 접합 공정 후에 있어서, 점착제층(10)의 변색 부분(11)의 형성 전에, 점착 시트(S)와 피착체 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 검사할 수 있다.
또한, 본 제조 방법에 있어서, 제 1 경화 공정과 그 후의 변색 공정을 실시하는 상기 구성(도 2A 및 도 2B에 나타낸다)은, 점착제층(10)의 변색을 억제하면서 점착제층(10)을 경화시키고, 또한 점착제층(10)에 원하는 패턴 형상의 변색 부분(11)을 형성하는 데 적합하다. 제 1 변색 경화 공정을 실시하는 상기 구성(도 3에 나타낸다)은, 점착제층(10)의 전체를 효율 좋게 변색 및 경화시키는 데 적합하다. 제 2 변색 경화 공정과 그 후의 제 2 경화 공정을 실시하는 상기 구성(도 4A 및 도 4B에 나타낸다)은, 점착제층(10)에 원하는 패턴 형상의 변색 부분(11)을 형성하고, 또한 점착제층(10)에 있어서의 변색 부분(11) 이외의 변색을 억제하면서 점착제층(10)을 경화시키는 데 적합하다. 그리고, 첩합 공정 후에, 점착제층(10)에 변색 부분(11)을 형성하고 또한 점착제층(10)의 전체를 경화시키는 데 적합한 이들 구성은, 피착체에 대한 첩합에 적합한 부드러움을 점착제층(10)(경화 전)에 있어서 확보하면서, 점착제층(10)(경화 후)에 있어서, 변색 부분(11)의 열화를 억제하는 데 적합하다. 변색 부분(11)의 열화로서는, 예를 들면, 점착제층(10)의 변형에 의한 변색 부분(11)의 변형을 들 수 있다. 변색 부분(11)의 열화로서는, 예를 들면, 변색 부분(11)에 포함되는 발색성 화합물의 확산에 기인하는 변색 부분(11)의 번짐, 퇴색, 및 색감의 불균일화도 들 수 있다.
점착 시트(S)의 점착제층(10)을 형성하는 점착성 조성물은, 예를 들면, 베이스 폴리머와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 광산발생제와, 발색성 화합물을 포함한다.
베이스 폴리머는, 점착제층(10)에 있어서 점착성을 발현시키기 위한 점착 성분이다. 베이스 폴리머는, 실온역에서 고무 탄성을 나타낸다. 베이스 폴리머로서는, 예를 들면, 아크릴 폴리머, 고무 폴리머, 폴리에스터 폴리머, 유레테인 폴리머, 폴리에터 폴리머, 실리콘 폴리머, 폴리아마이드 폴리머, 및 불소 폴리머를 들 수 있다. 점착제층(10)에 있어서의 양호한 투명성 및 점착성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머로서는, 바람직하게는 아크릴 폴리머가 이용된다.
점착제층(10)에 있어서의 베이스 폴리머의 함유 비율은, 점착제층(10)에서의 베이스 폴리머의 기능을 적절히 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 50질량% 이상, 보다 바람직하게는 60질량% 이상, 더 바람직하게는 70질량% 이상이다.
아크릴 폴리머는, 예를 들면, (메트)아크릴산 에스터를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분을 중합하는 것에 의해 얻어지는 폴리머이다. 「(메트)아크릴산」은, 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 의미한다.
(메트)아크릴산 에스터로서는, (메트)아크릴산 알킬 에스터 및 (메트)아크릴산 알콕시알킬 에스터를 들 수 있다.
(메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들면, 직쇄상 또는 분기상의 탄소수 1∼20의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 알킬 에스터를 들 수 있다. 그와 같은 (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 n-뷰틸, (메트)아크릴산 아이소프로필, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 s-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 아이소펜틸, (메트)아크릴산 네오펜틸, (메트)아크릴산 헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 아이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 아이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 아이소데실, (메트)아크릴산 운데실, (메트)아크릴산 도데실, (메트)아크릴산 아이소트라이데실, (메트)아크릴산 테트라데실, (메트)아크릴산 아이소테트라데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 헥사데실, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실, (메트)아크릴산 아이소옥타데실, (메트)아크릴산 노나데실, 및 (메트)아크릴산 에이코실을 들 수 있다. (메트)아크릴산 알킬 에스터로서는, 바람직하게는, 탄소수 1∼12의 알킬기를 갖는 아크릴산 알킬 에스터가 이용되고, 보다 바람직하게는, 아크릴산 메틸과, 탄소수 2∼12의 알킬기를 갖는 아크릴산 알킬 에스터가 병용되며, 더 바람직하게는, 아크릴산 메틸과, 아크릴산 2-에틸헥실이 병용된다.
(메트)아크릴산 알콕시알킬 에스터로서는, 예를 들면, 탄소수 1∼4의 알콕시기 및 탄소수 1∼4의 알킬렌기를 갖는 (메트)아크릴산 알콕시알킬 에스터를 들 수 있다. 그와 같은 (메트)아크릴산 알콕시알킬 에스터로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 2-메톡시메틸, (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산 2-에톡시메틸, (메트)아크릴산 2-에톡시에틸, (메트)아크릴산 3-메톡시프로필, (메트)아크릴산 3-에톡시프로필, (메트)아크릴산 4-메톡시뷰틸, 및 (메트)아크릴산 4-에톡시뷰틸을 들 수 있다. (메트)아크릴산 알콕시알킬 에스터로서는, 바람직하게는 (메트)아크릴산 2-에톡시메틸이 이용되고, 보다 바람직하게는 아크릴산 2-에톡시메틸이 이용된다.
(메트)아크릴산 에스터는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
모노머 성분에 있어서의 (메트)아크릴산 에스터의 비율은, 점착제층(10)에 있어서 점착성 등의 기본 특성을 적절히 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 50질량% 이상, 보다 바람직하게는 60질량% 이상, 더 바람직하게는 70질량% 이상이다. 동 비율은, 예를 들면 99질량% 이하이다.
모노머 성분은, (메트)아크릴산 에스터와 공중합 가능한 공중합성 모노머를 포함해도 된다. 공중합성 모노머로서는, 예를 들면, 극성기를 갖는 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 수산기 함유 모노머, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머, 및 카복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머는, 아크릴 폴리머로의 가교점의 도입, 아크릴 폴리머의 응집력의 확보 등, 아크릴 폴리머의 개질에 도움이 된다.
공중합성 모노머는, 바람직하게는, 수산기 함유 모노머, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머, 및 카복시기 함유 모노머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함한다. 보다 바람직하게는, 공중합성 모노머는, 수산기 함유 모노머 및/또는 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머를 포함한다.
수산기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 2-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 3-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 4-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산 8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산 10-하이드록시데실, (메트)아크릴산 12-하이드록시라우릴, 및 (4-하이드록시메틸사이클로헥실)메틸 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 수산기 함유 모노머로서는, 바람직하게는 (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸이 이용되고, 보다 바람직하게는 아크릴산 2-하이드록시에틸이 이용된다.
모노머 성분에 있어서의 수산기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머로의 가교 구조의 도입, 및 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보의 관점에서는, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 3질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머 중합 시의 중합 반응 용액의 점도 조정, 및 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(10)에 있어서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련된다)의 조정의 관점에서는, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.
질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서는, 예를 들면, N-바이닐-2-피롤리돈, N-메틸바이닐피롤리돈, N-바이닐피리딘, N-바이닐피페리돈, N-바이닐피리미딘, N-바이닐피페라진, N-바이닐피라진, N-바이닐피롤, N-바이닐이미다졸, N-바이닐옥사졸, N-(메트)아크릴로일-2-피롤리돈, N-(메트)아크릴로일피페리딘, N-(메트)아크릴로일피롤리딘, N-바이닐모폴린, N-바이닐-3-모폴린온, N-바이닐-2-카프로락탐, N-바이닐-1,3-옥사진-2-온, N-바이닐-3,5-모폴린다이온, N-바이닐피라졸, N-바이닐아이소옥사졸, N-바이닐싸이아졸, 및 N-바이닐아이소싸이아졸을 들 수 있다. 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서는, 바람직하게는 N-바이닐-2-피롤리돈이 이용된다.
모노머 성분에 있어서의, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 비율은, 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보, 및 점착제층(10)에 있어서의 대(對)피착체 밀착력의 확보의 관점에서는, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 3질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(10)에 있어서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련된다)의 조정의 관점에서는, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.
카복시기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 카복시에틸 아크릴레이트, 카복시펜틸 아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 및 아이소크로톤산을 들 수 있다.
모노머 성분에 있어서의 카복시기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머로의 가교 구조의 도입, 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보, 및 점착제층(10)에 있어서의 대피착체 밀착력의 확보의 관점에서는, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 3질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및 산에 의한 피착체의 부식 리스크의 회피의 관점에서는, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.
모노머 성분은, 다른 공중합성 모노머를 포함하고 있어도 된다. 다른 공중합성 모노머로서는, 예를 들면, 산 무수물 모노머, 설폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, 사이아노기 함유 모노머, 아마이드기 함유 모노머, 석신이미드 골격을 갖는 모노머, 말레이미드류, 이타콘이미드류, 알콕시기 함유 모노머, 바이닐 에스터류, 바이닐 에터류, 및 방향족 바이닐 화합물을 들 수 있다.
산 무수물 모노머로서는, 예를 들면, 무수 말레산 및 무수 이타콘산을 들 수 있다.
설폰산기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 스타이렌설폰산, 알릴설폰산, 바이닐설폰산 나트륨, 2-(메트)아크릴아마이드-2-메틸프로페인설폰산, (메트)아크릴아마이드프로페인설폰산, 설포프로필 (메트)아크릴레이트, 및 (메트)아크릴로일옥시나프탈렌설폰산을 들 수 있다.
인산기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸아크릴로일포스페이트를 들 수 있다.
에폭시기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 글라이시딜 및 (메트)아크릴산-2-에틸 글라이시딜 에터 등의 에폭시기 함유 아크릴레이트, 알릴 글라이시딜 에터, 및 (메트)아크릴산 글라이시딜 에터를 들 수 있다.
사이아노기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴로나이트릴 및 메타크릴로나이트릴을 들 수 있다.
아마이드기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴아마이드, N,N-다이알킬 (메트)아크릴아마이드, N-알킬 (메트)아크릴아마이드, N-바이닐아세트아마이드 등의 N-바이닐카복실산 아마이드류, N-하이드록시알킬 (메트)아크릴아마이드, N-알콕시알킬 (메트)아크릴아마이드, N,N-다이메틸아미노프로필 (메트)아크릴아마이드, 및 N-(메트)아크릴로일모폴린을 들 수 있다. N,N-다이알킬 (메트)아크릴아마이드로서는, 예를 들면, N,N-다이메틸 (메트)아크릴아마이드, N,N-다이에틸 (메트)아크릴아마이드, N,N-다이프로필 (메트)아크릴아마이드, N,N-다이아이소프로필 (메트)아크릴아마이드, N,N-다이(n-뷰틸) (메트)아크릴아마이드, 및 N,N-다이(t-뷰틸) (메트)아크릴아마이드를 들 수 있다. N-알킬 (메트)아크릴아마이드로서는, 예를 들면, N-에틸 (메트)아크릴아마이드, N-아이소프로필 (메트)아크릴아마이드, N-뷰틸 (메트)아크릴아마이드, 및 N-n-뷰틸 (메트)아크릴아마이드를 들 수 있다. N-하이드록시알킬 (메트)아크릴아마이드로서는, 예를 들면, N-(2-하이드록시에틸) (메트)아크릴아마이드, N-(2-하이드록시프로필) (메트)아크릴아마이드, N-(1-하이드록시프로필) (메트)아크릴아마이드, N-(3-하이드록시프로필) (메트)아크릴아마이드, N-(2-하이드록시뷰틸) (메트)아크릴아마이드, N-(3-하이드록시뷰틸) (메트)아크릴아마이드, 및 N-(4-하이드록시뷰틸) (메트)아크릴아마이드를 들 수 있다. N-알콕시알킬 (메트)아크릴아마이드로서는, 예를 들면, N-메톡시메틸 (메트)아크릴아마이드, N-메톡시에틸 (메트)아크릴아마이드, 및 N-뷰톡시메틸 (메트)아크릴아마이드를 들 수 있다.
석신이미드 골격을 갖는 모노머로서는, 예를 들면, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌석신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌석신이미드, 및 N-(메트)아크릴로일-8-옥시헥사메틸렌석신이미드를 들 수 있다.
말레이미드류로서는, 예를 들면, N-사이클로헥실말레이미드, N-아이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, 및 N-페닐말레이미드를 들 수 있다.
이타콘이미드류로서는, 예를 들면, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-뷰틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-사이클로헥실이타콘이미드, 및 N-라우릴이타콘이미드를 들 수 있다.
알콕시기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 알콕시알킬류 및 (메트)아크릴산 알콕시알킬렌 글라이콜류를 들 수 있다. (메트)아크릴산 알콕시알킬류로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산 3-메톡시프로필, (메트)아크릴산 2-에톡시에틸, (메트)아크릴산 프로폭시에틸, (메트)아크릴산 뷰톡시에틸, 및 (메트)아크릴산 에톡시프로필을 들 수 있다. (메트)아크릴산 알콕시알킬렌 글라이콜류로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 메톡시에틸렌 글라이콜, 및 (메트)아크릴산 메톡시폴리프로필렌 글라이콜을 들 수 있다.
바이닐 에스터류로서는, 예를 들면, 아세트산 바이닐 및 프로피온산 바이닐을 들 수 있다.
바이닐 에터류로서는, 예를 들면, 메틸 바이닐 에터 및 에틸 바이닐 에터를 들 수 있다.
방향족 바이닐 화합물로서는, 예를 들면, 스타이렌, α-메틸스타이렌, 및 바이닐톨루엔을 들 수 있다. 올레핀류로서는, 예를 들면, 에틸렌, 뷰타다이엔, 아이소프렌, 및 아이소뷰틸렌을 들 수 있다.
공중합성 모노머는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
아크릴 폴리머는, 전술한 모노머 성분을 중합시키는 것에 의해 형성할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예를 들면 용액 중합, 괴상 중합, 및 유화 중합을 들 수 있고, 바람직하게는 용액 중합을 들 수 있다. 용액 중합에서는, 예를 들면, 모노머 성분과 중합 개시제를 용매에 배합하여 반응 용액을 조제한 후, 그 반응 용액을 가열한다. 그리고, 반응 용액 중에서의 모노머 성분의 중합 반응을 거치는 것에 의해, 아크릴 폴리머를 포함하는 아크릴 폴리머 용액을 얻을 수 있다. 중합 개시제로서는, 예를 들면 열중합 개시제가 이용된다. 중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들면 0.05질량부 이상이고, 또한 예를 들면 1질량부 이하이다.
열중합 개시제로서는, 예를 들면, 아조 중합 개시제 및 과산화물 중합 개시제를 들 수 있다. 아조 중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스-2-메틸뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산) 다이메틸, 4,4'-아조비스-4-사이아노발레리안산, 아조비스아이소발레로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로페인) 다이하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로페인] 다이하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 이황산염, 및 2,2'-아조비스(N,N'-다이메틸렌아이소뷰틸아미딘) 다이하이드로클로라이드를 들 수 있다. 과산화물 중합 개시제로서는, 예를 들면, 다이벤조일 퍼옥사이드, t-뷰틸 퍼말레에이트, 및 과산화 라우로일을 들 수 있다.
아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은, 점착제층(10)에 있어서의 응집력의 확보의 관점에서는, 바람직하게는 100000 이상, 보다 바람직하게는 300000 이상, 더 바람직하게는 500000 이상이다. 동 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 5000000 이하, 보다 바람직하게는 3000000 이하, 더 바람직하게는 2000000 이하이다. 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래프(GPC)에 의해 측정되고 폴리스타이렌 환산에 의해 산출된다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 바람직하게는 0℃ 이하, 보다 바람직하게는 -10℃ 이하, 더 바람직하게는 -20℃ 이하이다. 동 유리 전이 온도는, 예를 들면 -80℃ 이상이다.
폴리머의 유리 전이 온도(Tg)에 대해서는, 하기의 Fox의 식에 기초하여 구해지는 유리 전이 온도(이론치)를 이용할 수 있다. Fox의 식은, 폴리머의 유리 전이 온도 Tg와, 당해 폴리머를 구성하는 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도 Tgi의 관계식이다. 하기의 Fox의 식에 있어서, Tg는 폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타내고, Wi는 당해 폴리머를 구성하는 모노머 i의 중량 분율을 나타내며, Tgi는, 모노머 i로 형성되는 호모폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타낸다. 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는 문헌치를 이용할 수 있고, 예를 들면, 「Polymer Handbook」(제4판, John Wiley & Sons, Inc., 1999년) 및 「신(新)고분자 문고 7 도료용 합성 수지 입문」(기타오카 교조 저, 고분자 간행회, 1995년)에는, 각종의 호모폴리머의 유리 전이 온도가 열거되어 있다. 한편, 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는, 일본 특허공개 2007-51271호 공보에 구체적으로 기재되어 있는 방법에 의해 구하는 것도 가능하다.
Fox의 식 1/(273+Tg)=Σ[Wi/(273+Tgi)]
점착성 조성물은, 베이스 폴리머로의 가교 구조의 도입의 관점에서, 가교제를 함유해도 된다. 가교제로서는, 예를 들면, 아이소사이아네이트 가교제, 에폭시 가교제, 옥사졸린 가교제, 아지리딘 가교제, 카보다이이미드 가교제, 및 금속 킬레이트 가교제를 들 수 있다. 가교제는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
아이소사이아네이트 가교제로서는, 예를 들면, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 수첨 자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 수첨 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 테트라메틸자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 나프탈린 다이아이소사이아네이트, 트라이페닐메테인 트라이아이소사이아네이트, 및 폴리메틸렌 폴리페닐 아이소사이아네이트를 들 수 있다. 또한, 아이소사이아네이트 가교제로서는, 이들 아이소사이아네이트의 유도체도 들 수 있다. 당해 아이소사이아네이트 유도체로서는, 예를 들면, 아이소사이아누레이트 변성체 및 폴리올 변성체를 들 수 있다. 아이소사이아네이트 가교제의 시판품으로서는, 예를 들면, 코로네이트 L(톨릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체, 도소제), 및 타케네이트 D110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 미쓰이 화학제)을 들 수 있다.
에폭시 가교제로서는, 비스페놀 A, 에피클로로하이드린형의 에폭시 수지, 에틸렌 글라이시딜 에터, 폴리에틸렌 글라이콜 다이글라이시딜 에터, 글리세린 다이글라이시딜 에터, 글리세린 트라이글라이시딜 에터, 1,6-헥세인다이올 글라이시딜 에터, 트라이메틸올프로페인 트라이글라이시딜 에터, 다이글라이시딜아닐린, 다이아민글라이시딜아민, N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일릴렌다이아민, 및 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인을 들 수 있다.
가교제의 배합량은, 점착제층(10)의 응집력을 확보하는 관점에서는, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면 0.01질량부 이상이고, 바람직하게는 0.05질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.07질량부 이상이다. 점착제층(10)에 있어서 양호한 택성을 확보하는 관점에서는, 베이스 폴리머 100질량부에 대한 가교제의 배합량은, 예를 들면 10질량부 이하이고, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 3질량부 이하이다.
베이스 폴리머에 가교 구조가 도입되는 경우, 가교 반응을 효과적으로 진행시키기 위해서 가교 촉매가 이용되어도 된다. 가교 촉매로서는, 예를 들면, 다이라우르산 다이뷰틸주석, 테트라-n-뷰틸 타이타네이트, 테트라아이소프로필 타이타네이트, 나셈 제2철, 및 뷰틸주석 옥사이드를 들 수 있고, 바람직하게는 다이라우르산 다이뷰틸주석이 이용된다. 가교 촉매의 사용량은, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서 예를 들면 0.0001질량부 이상이고, 또한 1질량부 이하이다.
가교 촉매가 이용되는 경우, 점착성 조성물로부터 사후적으로 제거 가능한 가교 억제제가 점착성 조성물에 배합되어도 된다. 가교 촉매로서 다이라우르산 다이뷰틸주석이 이용되는 경우, 가교 억제제로서는, 바람직하게는 아세틸아세톤이 이용된다. 이 경우, 점착성 조성물에 있어서는, 아세틸아세톤이 다이라우르산 다이뷰틸주석에 배위되어, 베이스 폴리머에 대한 가교제의 가교 반응은 억제된다. 점착 시트(S)의 후술하는 제조 과정에 있어서, 박리 필름 위에 점착성 조성물이 도포되어 도막이 형성된 후, 원하는 타이밍에서의 가열에 의해, 아세틸아세톤을 휘발시켜 도막으로부터 제거할 수 있다. 이에 의해, 가교제의 가교 반응을 진행시킬 수 있다.
가교 억제제의 배합량은, 가교 촉매 100질량부에 대해서, 예를 들면 100질량부 이상, 바람직하게는 1000질량부 이상이다. 또한, 동 배합량은, 예를 들면 5000질량부 이하이다.
중합성 화합물은, 중합성 작용기를 갖는 화합물이다. 당해 중합성 작용기는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는다. 중합성 작용기로서는, 예를 들면, (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 및 프로펜일기를 들 수 있다. 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 하나의 중합성 작용기를 갖는 모노머(단작용 모노머), 및 복수의 중합성 작용기를 갖는 모노머(다작용 모노머)를 들 수 있다. 또한, 중합성 화합물로서는, 반응성의 관점에서, 중합성 작용기로서 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 이용된다. (메트)아크릴로일기는, 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 의미한다. 중합성 화합물은, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
단작용 모노머로서는, 예를 들면, 에틸 (메트)아크릴레이트, n-뷰틸 (메트)아크릴레이트, ter-뷰틸 (메트)아크릴레이트, 아이소뷰틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 아이소데실 (메트)아크릴레이트, 뷰톡시다이에틸렌 글라이콜 (메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌 글라이콜 (메트)아크릴레이트, 글라이시딜 (메트)아크릴레이트, 라우릴 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 (메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라하이드로퍼퓨릴 (메트)아크릴레이트, 사이클로헥실 (메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일 (메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일 (메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일옥시 (메트)아크릴레이트, 아이소보닐 (메트)아크릴레이트, 아다만틸 (메트)아크릴레이트, 벤질 (메트)아크릴레이트, 페닐 (메트)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 페녹시다이에틸렌 글라이콜 (메트)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌 글라이콜 (메트)아크릴레이트, 노닐페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 뷰톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-하이드록시뷰틸 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 (메트)아크릴레이트, 트라이플루오로에틸 (메트)아크릴레이트, 메타크릴옥시옥시에틸 애시드 포스페이트, 2-하이드록시에틸 메타크릴산 포스페이트, γ-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, γ-아크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, 아크릴로일모폴린, 모폴리노에틸 (메트)아크릴레이트, 다이메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 다이에틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 및 N,N-다이메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
다작용 모노머로서는, 2작용 모노머, 3작용 모노머, 및 4작용 이상의 다작용 모노머를 들 수 있다.
2작용 모노머로서는, 예를 들면, 에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 트라이에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌 글라이콜 다이메타크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 글리세린 다이(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 스테아르산 변성 펜타에리트리톨 다이(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일 다이아크릴레이트, 다이(메트)아크릴로일 아이소사이아누레이트, 및 알킬렌 옥사이드 변성 비스페놀 다이(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
3작용 모노머로서는, 예를 들면, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 및 트리스(아크릴로일옥시에틸) 아이소사이아누레이트를 들 수 있다.
4작용 이상의 다작용 모노머로서는, 예를 들면, 다이트라이메틸올프로페인 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 모노하이드록시펜타(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 다이펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 및 아이소사이아누르산 EO 변성 다이 및 트라이아크릴레이트를 들 수 있다.
점착제층(10)의 속(速)경화성의 관점에서, 중합성 화합물로서는, 바람직하게는 다작용 모노머, 보다 바람직하게는 4작용 이상의 다작용 모노머, 더 바람직하게는 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 특히 바람직하게는 다이펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트가 이용된다.
중합성 화합물의 배합량은, 경화 후의 점착제층(10)에 있어서 충분한 경도를 확보하는 관점에서는, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 5질량부 이상, 보다 바람직하게는 7질량부 이상, 더 바람직하게는 9질량부 이상, 특히 바람직하게는 10질량부 이상이다. 경화 후의 점착제층(10)에 있어서 충분한 점착력을 확보하는 관점에서는, 베이스 폴리머 100질량부에 대한 중합성 화합물의 배합량은, 바람직하게는 50질량부 이하, 보다 바람직하게는 45질량부 이하, 더 바람직하게는 43질량부 이하이다.
광중합 개시제는, 중합성 화합물의 중합 반응을 개시시킨다. 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조인 에터 광중합 개시제, 아세토페논 광중합 개시제, α-케톨 광중합 개시제, 방향족 설폰일 클로라이드 광중합 개시제, 광활성 옥심 광중합 개시제, 벤조인 광중합 개시제, 벤질 광중합 개시제, 벤조페논 광중합 개시제, 케탈 광중합 개시제, 싸이오잔톤 광중합 개시제, 및 아실포스핀 옥사이드 광중합 개시제를 들 수 있다.
광산발생제(제 1 광산발생제)로서는, 예를 들면, 자외선 조사(제 1 활성 광선)에 의해 산을 발생시키는 오늄 화합물을 들 수 있다. 오늄 화합물은, 예를 들면, 오늄 양이온과 음이온의 오늄염의 형태로 제공된다. 오늄 양이온으로서는, 예를 들면, 아이오도늄 및 설포늄을 들 수 있다. 음이온으로서는, 예를 들면, Cl-, Br-, I-, ZnCl3 -, HSO3 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, CH3SO3 -, CF3SO3 -, C4F9HSO3 -, (C6F5)4B-, 및 (C4H9)4B-를 들 수 있다. 광산발생제는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 점착성 조성물은, 바람직하게는, 설포늄과 C4F9HSO3 -로 이루어지는 오늄염(오늄 화합물)을 광산발생제로서 포함한다.
베이스 폴리머 100질량부에 대한 광산발생제의 배합량은, 바람직하게는 1질량부 이상, 보다 바람직하게는 2질량부 이상, 더 바람직하게는 5질량부 이상, 특히 바람직하게는 7질량부 이상이다. 동 배합량은, 바람직하게는 20질량부 이하, 보다 바람직하게는 15질량부 이하, 더 바람직하게는 12질량부 이하이다.
또한, 발색성 화합물 100질량부에 대한 광산발생제의 배합량은, 예를 들면 100질량부 이상, 바람직하게는 200질량부 이상, 보다 바람직하게는 300질량부 이상, 더 바람직하게는 330질량부 이상이다. 동 배합량은, 바람직하게는 1000질량부 이하, 보다 바람직하게는 700질량부 이하, 더 바람직하게는 500질량부 이하이다.
발색성 화합물(제 1 발색성 화합물)로서는, 예를 들면, 류코 색소, 트라이아릴메테인 색소, 다이페닐메테인 색소, 플루오란 색소, 스파이로피란 색소, 및 로다민 색소를 들 수 있다. 발색성 화합물은, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
류코 색소로서는, 예를 들면, 2'-아닐리노-6'-(N-에틸-N-아이소펜틸아미노)-3'-메틸스파이로[프탈라이드-3,9'-[9H]잔텐], 3-다이뷰틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-다이프로필아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-다이에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-다이메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-다이에틸아미노-6-메틸-7-자일리디노플루오란, 및 3-(4-다이에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-4-아자프탈라이드를 들 수 있다.
트라이아릴메테인 색소로서는, 예를 들면, p,p',p"-트리스-다이메틸아미노트라이페닐메테인을 들 수 있다. 다이페닐메테인 색소로서는, 예를 들면, 4,4-비스-다이메틸아미노페닐벤즈하이드릴벤질에터를 들 수 있다. 플루오란 색소로서는, 예를 들면, 3-다이에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란을 들 수 있다. 스파이로피란 색소로서는, 예를 들면, 3-메틸스파이로다이나프토피란을 들 수 있다. 로다민 색소로서는, 예를 들면, 로다민-B-아닐리노락탐을 들 수 있다.
점착제층(10)에 있어서 양호한 착색성을 확보하는 관점에서는, 발색성 화합물로서는, 바람직하게는 류코 색소, 보다 바람직하게는 2'-아닐리노-6'-(N-에틸-N-아이소펜틸아미노)-3'-메틸스파이로[프탈라이드-3,9'-[9H]잔텐]이 이용된다.
베이스 폴리머 100질량부에 대한 발색성 화합물의 배합량은, 바람직하게는 0.5질량부 이상, 보다 바람직하게는 1질량부 이상이다. 동 배합량은, 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 7질량부 이하이다.
점착성 조성물에 있어서는, 중합성 작용기를 갖는 광산발생제, 및/또는 중합성 작용기를 갖는 발색성 화합물을 이용해도 된다. 예를 들면, 이하와 같다.
베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분은, 중합성 작용기를 갖는 발색성 화합물(제 2 발색성 화합물)을 포함해도 된다. 즉, 발색성 화합물은, 베이스 폴리머에 혼입된 상태를 채용해도 된다. 이와 같은 발색성 화합물은, 점착제층(10) 내에서의 이동이 억제된다.
점착성 조성물에 베이스 폴리머와 함께 배합되는 중합성 화합물은, 중합성 작용기를 갖는 발색성 화합물(제 2 발색성 화합물)을 포함해도 된다. 즉, 발색성 화합물은, 중합성 화합물로서 공중합 가능한 상태로 점착성 조성물에 함유되어 있어도 된다. 이와 같은 발색성 화합물은, 제 2 활성 광선의 조사에 의해 경화된 후(즉, 중합성 화합물의 중합 반응이 진행된 후), 폴리머 네트워크에 혼입되어, 점착제층(10) 내에서의 이동이 억제된다.
베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분이, 중합성 작용기를 갖는 발색성 화합물을 포함하고, 또한 중합성 화합물이, 중합성 작용기를 갖는 발색성 화합물을 포함해도 된다.
발색성 화합물(제 2 발색성 화합물)의 이동이 억제되는 이들 구성은, 점착제층(10)에 형성된 변색 부분(11)에 있어서, 발색된 발색성 화합물의 확산을 억제하는 데 적합하고, 따라서, 변색 부분(11)의 열화(번짐, 퇴색, 색감의 불균일화 등)를 억제하는 데 적합하다.
제 2 발색성 화합물(중합성 작용기를 갖는다)로서는, 예를 들면, 중합성 작용기를 갖는 류코 색소, 중합성 작용기를 갖는 트라이아릴메테인 색소, 중합성 작용기를 갖는 다이페닐메테인 색소, 중합성 작용기를 갖는 플루오란 색소, 중합성 작용기를 갖는 스파이로피란 색소, 및 중합성 작용기를 갖는 로다민 색소를 들 수 있다. 중합성 작용기는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는다. 중합성 작용기로서는, 예를 들면, 바이닐기, 프로펜일기, 및 (메트)아크릴로일기를 들 수 있다. (메트)아크릴로일기는, 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 의미한다. 바이닐기로서는, 예를 들면 스타이렌기를 들 수 있다. 제 2 발색성 화합물은, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 제 2 발색성 화합물로서는, 바람직하게는, 중합성 작용기를 갖는 류코 색소가 이용되고, 보다 바람직하게는 (메트)아크릴로일기를 갖는 류코 색소가 이용되며, 더 바람직하게는 아크릴로일기를 갖는 류코 색소가 이용된다. 중합성 작용기를 갖는 류코 색소로서는, 예를 들면, 국제공개 제2013/048993호에 기재된 아크릴로일기 함유 류코 색소를 들 수 있다.
제 2 발색성 화합물은, 제 1 발색성 화합물과 함께 이용되어도 되고, 제 1 발색성 화합물 대신에 이용되어도 된다.
제 1 발색성 화합물 및 제 2 발색성 화합물의 합계 사용량은, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.5질량부 이상, 보다 바람직하게는 1질량부 이상이고, 또한 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 7질량부 이하이다.
베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분은, 중합성 작용기를 갖는 광산발생제(제 2 광산발생제)를 포함해도 된다. 즉, 광산발생제는, 베이스 폴리머에 혼입된 상태를 채용해도 된다. 이와 같은 광산발생제는, 점착제층(10) 내에서의 이동이 억제된다. 이와 같은 광산발생제가 생기는 산과의 상호작용에 의해 발색하는 발색성 화합물의 점착제층(10) 내에서의 이동도, 억제된다.
점착성 조성물에 베이스 폴리머와 함께 배합되는 중합성 화합물은, 중합성 작용기를 갖는 광산발생제(제 2 광산발생제)를 포함해도 된다. 즉, 광산발생제는, 중합성 화합물로서 공중합 가능한 상태로 점착성 조성물에 함유되어 있어도 된다. 이와 같은 광산발생제는, 제 2 활성 광선의 조사에 의해 경화된 후(즉, 중합성 화합물의 중합 반응이 진행된 후), 폴리머 네트워크에 혼입되어, 점착제층(10) 내에서의 이동이 억제된다. 이와 같은 광산발생제가 생기는 산과의 상호작용에 의해 발색하는 발색성 화합물의 점착제층(10) 내에서의 이동도, 억제된다.
베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분이, 중합성 작용기를 갖는 광산발생제를 포함하고, 또한 중합성 화합물이, 중합성 작용기를 갖는 광산발생제를 포함해도 된다.
광산발생제(제 2 광산발생제)의 이동이 억제되는 이들 구성은, 점착제층(10)에 형성된 변색 부분(11)에 있어서, 발색한 광산발생제의 확산을 억제하는 데 적합하고, 따라서, 변색 부분(11)의 열화(번짐, 퇴색, 색감의 불균일화 등)를 억제하는 데 적합하다.
제 2 광산발생제로서는, 예를 들면, 자외선 조사에 의해 산을 발생시키고 또한 중합성 작용기를 갖는 오늄 화합물을 들 수 있다. 중합성 작용기로서는, 제 2 발색성 화합물에 관해서 전술한 중합성 작용기를 들 수 있다. 오늄 화합물은, 예를 들면, 오늄 양이온과 음이온의 오늄염의 형태로 제공된다. 오늄 양이온으로서는, 예를 들면, 아이오도늄 및 설포늄을 들 수 있다. 음이온으로서는, 예를 들면, 설폰산 유도체 음이온, 설포이미드 유도체 음이온, 및 설폰메티드 유도체 음이온을 들 수 있다. 바람직하게는, 음이온이 중합성 작용기를 갖는다. 제 2 광산발생제로서는, 바람직하게는, 중합성 작용기를 갖는 설폰산 유도체 음이온과 설포늄의 오늄염이 이용되고, 보다 바람직하게는, (메트)아크릴로일기를 갖는 설폰산 유도체 음이온과 설포늄의 오늄염이 이용되며, 더 바람직하게는, 트라이페닐설포늄·4-바이닐벤젠 설포네이트가 이용된다. 이 광산발생제의 합성 방법은, 예를 들면, "Novel polymeric anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding polymers for 193 nm lithography"(Journal of Materials Chemistry, 2006, Vol. 16, p 3701-3707)에 기재되어 있다. 제 2 광산발생제는, 단독으로 이용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
제 2 광산발생제는, 제 1 광산발생제와 함께 이용되어도 되고, 제 1 광산발생제 대신에 이용되어도 된다.
발색성 화합물 100질량부에 대한, 제 1 광산발생제 및 제 2 광산발생제의 사용량은, 바람직하게는 100질량부 이상, 보다 바람직하게는 200질량부 이상, 더 바람직하게는 300질량부 이상이다. 동 사용량은, 바람직하게는 1000질량부 이하, 보다 바람직하게는 700질량부 이하, 더 바람직하게는 500질량부 이하이다.
점착성 조성물은, 필요에 따라서 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들면, 실레인 커플링제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 산화 방지제, 계면활성제, 및 대전 방지제를 들 수 있다.
점착 시트(S)는, 예를 들면, 전술한 점착성 조성물을 박리 필름(제 1 박리 필름) 위에 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시키는 것에 의해, 제조할 수 있다(도 5에서는, 가상선으로 나타내는 박리 필름(L) 위에 점착 시트(S)가 배치되어 있다).
박리 필름으로서는, 예를 들면, 가요성을 갖는 플라스틱 필름을 들 수 있다. 당해 플라스틱 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 및 폴리에스터 필름을 들 수 있다. 박리 필름의 두께는, 예를 들면 3μm 이상이고, 또한 예를 들면 200μm 이하이다. 박리 필름의 표면은, 바람직하게는 이형 처리되어 있다.
점착성 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비어 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 및 다이 코팅을 들 수 있다. 도막의 건조 온도는, 예를 들면 50℃∼200℃이다. 건조 시간은, 예를 들면 5초∼20분이다.
점착성 조성물이 가교제를 포함하는 경우, 전술한 건조와 동시에 또는 그 후의 에이징에 의해, 가교 반응이 진행된다. 에이징 조건은, 가교제의 종류에 따라 적절히 설정된다. 에이징 온도는, 예를 들면 20℃∼160℃이다. 에이징 시간은, 예를 들면, 1분 내지 7일이다.
또한, 에이징 전 또는 후에, 제 1 박리 필름 위의 점착제층(10) 위에 추가로 박리 필름(제 2 박리 필름)을 적층해도 된다. 제 2 박리 필름은, 표면 이형 처리가 실시된 가요성의 플라스틱 필름이고, 제 1 박리 필름에 관해서 전술한 것과 마찬가지의 것을 이용할 수 있다.
이상과 같이 하여, 박리 필름에 의해 점착면이 피복 보호된 점착 시트(S)를 제조할 수 있다. 각 박리 필름은, 점착 시트(S)를 사용할 때에 필요에 따라서 점착 시트(S)로부터 벗겨진다.
점착제층(10)의 두께는, 피착체에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 15μm 이상이다. 점착 시트(S)의 핸들링성의 관점에서는, 점착제층(10)의 두께는, 바람직하게는 300μm 이하, 보다 바람직하게는 200μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하, 특히 바람직하게는 50μm 이하이다.
점착제층(10)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 보다 바람직하게는 1% 이하이다. 이와 같은 구성은, 점착 시트(S)를 피착체에 첩합한 후에 점착 시트(S)와 피착체 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 검사하는 데 적합하다. 점착제층(10)의 헤이즈는, JIS K7136(2000년)에 준거하여, 헤이즈미터를 사용하여 측정할 수 있다. 헤이즈미터로서는, 예를 들면, 닛폰 덴쇼쿠 공업사제의 「NDH2000」, 및 무라카미 색채 기술 연구소사제의 「HM-150형」을 들 수 있다.
점착제층(10)의 파장 400∼700nm에서의 평균 투과율(점착제층(10)에 제 1 활성 광선을 조사하기 전의 평균 투과율)은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 90% 이상이다. 이와 같은 구성은, 점착 시트(S)를 피착체에 첩합한 후에 점착 시트(S)와 피착체 사이에 있어서의 이물 및 기포의 유무를 검사하는 데 적합하다.
점착 시트(S)가, 유리판에 대한 첩합을 거친 후에 23℃, 박리 각도 180° 및 박리 속도 300mm/분의 박리 조건에서의 박리 시험에 있어서 당해 스테인리스판에 대해서 나타내는 점착력은, 예를 들면 1N/25mm 이상이고, 또한 예를 들면 50N/25mm 이하이다.
점착 시트(S)는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 점착제층(10)에 더하여 기재(20)를 구비하는 기재 부착 편면 점착 시트여도 된다. 이 경우, 점착 시트(S)는, 구체적으로는, 점착제층(10)과, 그 두께 방향의 일방면 측에 배치되는 기재(20)를 구비한다. 바람직하게는, 기재(20)는, 점착제층(10)의 두께 방향의 일방면에 접촉한다.
기재(20)는, 투명한 지지체로서 기능하는 요소이다. 기재(20)는, 예를 들면, 가요성을 갖는 플라스틱 필름이다. 플라스틱 필름의 구성 재료로서는, 예를 들면, 폴리올레핀, 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리염화 바이닐, 폴리염화 바이닐리덴, 셀룰로스, 폴리스타이렌, 및 폴리카보네이트를 들 수 있다. 폴리올레핀으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리-1-뷰텐, 폴리-4-메틸-1-펜텐, 에틸렌·프로필렌 공중합체, 에틸렌·1-뷰텐 공중합체, 에틸렌·아세트산 바이닐 공중합체, 에틸렌·에틸 아크릴레이트 공중합체, 및 에틸렌·바이닐 알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리에스터로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 및 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트를 들 수 있다. 폴리아마이드로서는, 예를 들면, 폴리아마이드 6, 폴리아마이드 6,6, 및 부분 방향족 폴리아마이드를 들 수 있다. 기재(20)에 있어서, 그 투명성과 기계적 강도를 양립시키는 관점에서는, 기재(20)의 플라스틱 재료는, 바람직하게는 폴리에스터이며, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트이다.
기재(20)는 투명성을 갖는다. 기재(20)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 더 바람직하게는 1% 이하이다. 기재(20)의 헤이즈는, JIS K7136(2000년)에 준거하여, 헤이즈미터를 사용하여 측정할 수 있다.
기재(20)에 있어서의 점착제층(10) 측의 표면은, 점착제층(10)과의 밀착성을 높이기 위한 물리적 처리, 화학적 처리, 또는 하도(下塗) 처리가 실시되어 있어도 된다. 물리적 처리로서는, 예를 들면, 코로나 처리 및 플라즈마 처리를 들 수 있다. 화학적 처리로서는 예를 들면, 산 처리 및 알칼리 처리를 들 수 있다.
기재(20)의 두께는, 기재(20)가 지지체로서 기능하기 위한 강도를 확보하는 관점에서는, 바람직하게는 5μm 이상, 보다 바람직하게는 10μm 이상, 보다 바람직하게는 20μm 이상이다. 또한, 점착 시트(S)에 있어서 적당한 가요성을 실현하는 관점에서는, 기재(20)의 두께는, 바람직하게는 200μm 이하, 보다 바람직하게는 150μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하이다.
도 6에 나타내는 점착 시트(S)는, 예를 들면, 제 1 박리 필름 대신에 기재(20)를 이용하는 것 이외에는 전술한 점착 시트 제조 방법과 마찬가지의 방법에 의해, 제조할 수 있다.
도 6에 나타내는 점착 시트(S)에 의하면, 도 1C를 참조하여 전술한 접합 공정을 실시하지 않는 것 이외에는 전술한 점착 시트 첩부품의 제조 방법과 마찬가지의 제조 방법을 실시할 수 있다(도 6에 나타내는 점착 시트(S)를 이용한 점착 시트 첩부품의 제조 방법에서는, 전술한 제 2 부재(M2) 대신에 기재(20)가 배치된다). 그 결과, 도 6에 나타내는 점착 시트(S)에 의하면, 도 7에 나타내는 바와 같이 점착 시트 첩부품(Z')를 제조할 수 있다.
전술한 실시형태는 본 발명의 예시이며, 당해 실시형태에 의해 본 발명을 한정적으로 해석해서는 안 된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는, 후기의 청구범위에 포함된다.
본 발명의 점착 시트 첩부품의 제조 방법은, 예를 들면, 디스플레이 패널의 제조 과정에 적용할 수 있다.
M1 제 1 부재
M2 제 2 부재
S 점착 시트
10 점착제층
11 변색 부분
20 기재
Z, Z' 점착 시트 첩부품

Claims (7)

  1. 제 1 활성 광선의 조사에 의해 변색 가능 및 경화 가능하고, 또한 제 2 활성 광선의 조사에 의해 경화 가능한 점착제층을, 구비하는 점착 시트를, 피착체에 첩합(貼合)하는 첩합 공정을 포함하는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법으로서,
    상기 피착체 위의 상기 점착제층에 대한 상기 제 2 활성 광선의 조사에 의해 당해 점착제층을 경화시키는 제 1 경화 공정과, 당해 제 1 경화 공정보다 후의, 상기 점착제층의 적어도 일부에 대한 상기 제 1 활성 광선의 조사에 의해 상기 점착제층에 변색 부분을 형성하는 변색 공정을 더 포함하거나, 또는
    상기 피착체 위의 상기 점착제층에 대한 상기 제 1 활성 광선의 조사에 의해 상기 점착제층을 변색시키고 또한 경화시키는 제 1 변색 경화 공정을 더 포함하거나, 또는
    상기 피착체 위의 상기 점착제층에 있어서의 제 1 부분에 대한 상기 제 1 활성 광선의 조사에 의해 상기 제 1 부분을 변색시키고 또한 경화시키는 제 2 변색 경화 공정과, 당해 변색 경화 공정보다 후의, 상기 점착제층에 있어서의 제 2 부분에 대한 상기 제 2 활성 광선의 조사에 의해 당해 제 2 부분을 경화시키는 제 2 경화 공정을 더 포함하는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 점착제층은, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 산과의 반응에 의해 발색하는 화합물과, 광산발생제를 함유하는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 점착제층은, 상기 광산발생제의 흡광도 X에 대한 상기 광중합 개시제의 흡광도 Y의 비율이 2 이상인 파장 영역을, 파장 300nm 이상 500nm 이하의 범위 내에 갖는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 경화 공정에 있어서의 상기 제 2 활성 광선은, 300nm 미만의 파장의 광을 실질적으로 포함하지 않는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 경화 공정에서는, 상기 제 2 활성 광선의 광원으로서, UV-LED 램프, 블랙 라이트, 고압 수은 램프, 및 메탈 할라이드 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 광원이 사용되고, 또한 상기 광원으로부터의 광이 파장 컷 필터를 개재시켜 상기 점착제층에 조사되는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 변색 공정 및/또는 상기 변색 경화 공정에 있어서의 상기 제 1 활성 광선은, 300nm 미만의 파장의 광을 포함하는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 변색 공정 및/또는 상기 변색 경화 공정에서는, 상기 제 1 활성 광선의 광원으로서, UV-LED 램프, 블랙 라이트, 고압 수은 램프, 및 메탈 할라이드 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 광원이 사용되는, 점착 시트 첩부품의 제조 방법.
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