KR20230054304A - 편광판 및 그의 용도 - Google Patents
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Abstract
본 출원은 편광판 및 그의 용도에 관한 것이다. 본 출원은 OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타낼 수 있는 편광판 및 상기 편광판을 포함하는 OLED 표시장치를 제공한다.
Description
본 출원은 편광판 및 그의 용도에 관한 것이다.
OLED(Organic light emitting diode) 표시장치의 휘도를 개선하기 위해, OLED 표시패널의 성능을 개선하는 다양한 방법이 시도되고 있다. 그러나, OLED 표시패널의 휘도 상승 시 기존에 발생하지 않은 레인보우 얼룩 현상이 심화되어 상기 얼룩 현상으로 인해 OLED 표시장치의 외관 시감이 떨어지는 문제가 발생할 수 있다.
본 출원은 OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타낼 수 있는 편광판 및 상기 편광판을 포함하는 OLED 표시장치를 제공한다.
본 출원은 편광판에 관한 것이다. 상기 편광판은 편광자 및 상기 편광자의 일면에 존재하는 산란 점착제층을 포함할 수 있다.
본 명세서에서 점착제층은, 예를 들면, 점착제 조성물의 층일 수 있다. 본 명세서에서 용어 「점착제 또는 접착제 조성물의 층」은, 점착제 또는 접착제 조성물을 코팅하거나 경화시켜서 형성된 층을 의미할 수 있다. 용어 「점착제 또는 접착제 조성물의 경화」는, 점착제 또는 접착제 조성물에 포함되어 있는 성분의 물리적 또는 화학적 작용 내지는 반응을 통하여 점착제 또는 접착제 조성물 내에 가교 구조를 구현하는 것을 의미할 수 있다. 경화는, 예를 들면, 상온에서의 유지, 습기의 인가, 열의 인가, 활성 에너지선의 조사 또는 상기 중 2종 이상의 공정을 함께 진행시켜 유도할 수 있고, 각각의 경우에 따라서 경화가 유도되는 유형의 점착제 또는 접착제 조성물은, 예를 들면, 상온 경화형 점착제 또는 접착제 조성물, 습기 경화형 점착제 또는 접착제 조성물, 열경화형 점착제 또는 접착제 조성물, 활성 에너지선 경화형 점착제 또는 접착제 조성물 또는 혼성 경화형 점착제 또는 접착제 조성물로 호칭될 수 있다.
본 명세서에서 산란 점착제층은 점착제층에 헤이즈를 유발할 수 있는 산란 입자를 포함하는 점착제층을 의미할 수 있다. 상기 산란 입자는 예를 들어 후술하는 비드일 수 있다.
상기 산란 점착제층을 포함하는 편광판은 헤이즈가 15% 이상일 수 있다. 상기 헤이즈는 산란 점착제층 자체의 헤이즈를 의미하는 것은 아니며, 산란 점착제층 및 편광자를 포함하는 편광판의 헤이즈를 의미할 수 있다. 편광판이 후술하는 바와 같이 보호필름, 위상차층, 하드층 등의 기능층을 더 포함하는 경우에는 산란 점착제층, 편광자 및 상기 기능층들을 포함하는 편광판의 헤이즈를 의미할 수 있다. 상기 헤이즈는 구체적으로, 15% 이상, 16% 이상, 17% 이상, 18% 이상, 19% 이상, 20% 이상, 21% 이상, 22% 이상, 23% 이상, 24% 이상, 25 이상, 26% 이상, 27% 이상, 28% 이상, 29% 이상, 30% 이상, 31% 이상, 32% 이상, 33% 이상, 34% 이상, 35% 이상, 36% 이상, 37% 이상, 38% 이상, 39% 이상 또는 40% 이상일 수 있고, 50% 이하, 48% 이하, 46% 이하, 44% 이하, 42% 이하, 40% 이하, 38% 이하, 36% 이하, 34% 이하, 32% 이하, 30% 이하, 28% 이하, 26% 이하, 24% 이하, 22% 이하 또는 20% 이하일 수 있다. 상기 편광판의 헤이즈는 D65 광원을 기준으로 측정된 값일 수 있다. 상기 편광판의 헤이즈는 약 380 nm 내지 780 nm 파장의 광에 대해 측정된 값일 수 있다. 상기 헤이즈는 약 380 nm 내지 780 nm 파장의 광에 대해 측정된 평균 헤이즈 값일 수 있다. 편광판의 헤이즈가 상기 범위 내인 경우, OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타내는데 유리할 수 있다.
상기 산란 점착제층은 25℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서 저장 탄성률이 70,000 Pa 이상일 수 있다. 상기 저장 탄성률은 구체적으로 72,000 Pa 이상, 74,000 Pa 이상, 76,000 Pa 이상, 78,000Pa 이상, 80,000 Pa 이상, 81,000 Pa 이상, 82,000 Pa 이상, 83,000 Pa 이상, 84,000 Pa 이상, 85,000 Pa 이상, 86,000 Pa 이상, 87,000 Pa 이상, 88,000 Pa 이상 또는 89,000 Pa 이상일 수 있다. 상기 저장 탄성률의 상한은 예를 들어, 100,000 Pa 이하, 95,000 Pa 이하 또는 90,000 Pa 이하일 수 있다. 산란 점착제층의 저장 탄성률이 상기 범위 내인 경우 OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선할 수 있고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타내는데 유리할 수 있다.
상기 산란 점착제층은 점착성 수지를 포함할 수 있다. 하나의 예시에서, 점착성 수지는 아크릴계 수지일 수 있다. 상기 아크릴계 수지는 아크릴 단량체를 주성분으로 포함하면서, 가교 전 또는 후에 점착성을 나타낼 수 있는 고분자일 수 있다. 본 명세서에서 아크릴 단량체를 주성분으로 포함한다는 것은, 점착성 수지를 구성하는 전체 단량체 중에서 아크릴 단량체를 80 wt% 이상, 85 wt% 이상, 90 wt% 이상, 95 wt% 이상 또는 99 wt% 이상 포함하는 것을 의미할 수 있다.
하나의 예시에서, 점착성 수지는 (메타)아크릴산 에스테르 단량체로부터 유래된 중합 단위를 포함하는 아크릴 중합체일 수 있다. 본 명세서에서 용어 「단량체」는 중합 반응을 통해 중합체를 형성할 수 있는 모든 종류의 화합물을 의미하고, 어떤 단량체로부터 유도된 중합된 단위를 포함하는 중합체는 상기 어떤 단량체가 중합되어 형성된 중합체를 의미할 수 있다.
상기 (메타)아크릴산 에스테르 화합물로는, 예를 들면, 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 상기 알킬 (메타)아크릴레이트로는, 예를 들어, 응집력, 유리전이온도 및 점착성의 조절 등을 고려하여, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 14, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 상기에서 알킬기는, 예를 들면, 직쇄형 알킬기, 분지쇄형 알킬기 또는 고리형 알킬기일 수 있다. 이러한 단량체의 예로는 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, n-프로필 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, sec-부틸 아크릴레이트, 2-메틸 헵실 아크릴레이트, 펜틸 아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸부틸 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소보르닐 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트 및 라우릴 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 상기 중 일종 또는 이종 이상을 적절히 선택하여 사용할 수 있다.
아크릴 중합체는 가교성 관능기를 가지는 공중합성 단량체(이하, 가교성 단량체로 간단하게 호칭할 수 있다.)로부터 유래된 중합 단위를 더 포함할 수 있다. 본 명세서에서 가교성 관능기를 가지는 공중합성 단량체는, 예를 들면, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 단량체와 같이 중합체에 포함되는 다른 단량체와 공중합될 수 있는 부위를 가지고, 또한 가교성 관능기를 가져서 중합체에 가교성 관능기를 부여할 수 있는 화합물을 의미할 수 있다. 가교성 관능기는, 예를 들어, 카복실기일 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 가교성 단량체는 아크릴산(acrylic acid)일 수 있다. 아크릴 중합체는 가교성 단량체로서 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트는 포함하지 않을 수 있다.
하나의 예시에서, 아크릴 중합체는, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 단량체 80 중량부 내지 99 중량부 및 상기 가교성 단량체 1 중량부 내지 20 중량부로부터 유도된 중합 단위를 포함할 수 있다. 다른 하나의 예시에서, 아크릴 중합체는, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 단량체 90 중량부 내지 99 중량부 및 상기 가교성 단량체 1 중량부 내지 10 중량부로부터 유도된 중합 단위를 포함할 수 있다. 이러한 범위에서 점착제층은 적절한 가교 구조를 구현할 수 있다.
아크릴 중합체는, 필요한 경우, 예를 들면, 적절한 물성의 조절 등을 위하여 다른 임의의 공단량체를 추가로 포함할 수 있다. 상기 공단량체로는, 알콕시 알킬렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르, 알콕시 디알킬렌글리콜(메타)아크릴산 에스테르, 알콕시 트리알킬렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르, 알콕시 테트라알킬렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르, 알콕시 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르, 페녹시 알킬렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르, 페녹시 디알킬렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르, 페녹시 트리알킬렌글리콜 (메타)아크릴산에스테르, 페녹시 테트라알킬렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르 또는 페녹시 폴리알킬렌글리콜 (메타)아크릴산 에스테르 등과 같은 알킬렌옥시드기 함유 단량체; 스티렌 또는 메틸 스티렌과 같은 스티렌계 단량체; 글리시딜 (메타)아크릴레이트와 같은 글리시딜기 함유 단량체; 또는 비닐 아세테이트와 같은 카르복실산 비닐 에스테르 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이러한 공단량체들은 필요에 따라 적정한 종류가 일종 또는 이종 이상 선택되어 중합체에 포함될 수 있다. 이러한 공단량체는, 예를 들면, 중합체 내에서 중합단위로 사용되는 다른 화합물들의 전체 중량 대비 20 중량부 이하, 또는 0.1 중량부 내지 15 중량부의 비율로 중합체에 포함될 수 있다.
아크릴 중합체는, 상기 기술한 단량체 중에서 필요한 단량체를 선택하고, 선택된 단량체를 목적하는 비율로 배합한 단량체의 혼합물을 용액 중합(solution polymerization), 광중합(photo polymerization), 괴상 중합(bulk polymerization), 현탁 중합(suspension polymerization) 또는 유화 중합(emulsion polymerization)과 같은 중합 방식에 적용하여 제조할 수 있다.
점착제층은 다관능성 가교제(경화제)를 더 포함할 수 있다. 상기 다관능성 가교제는 상기 아크릴 중합체와 반응하여 가교 구조를 구현할 수 있다. 본 명세서에서 다관능성 가교제는 가교성 관능기를 2개 이상 포함하는 가교제를 의미할 수 있다.
본 출원에서 사용될 수 있는 구체적인 가교제의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 아크릴 중합체에 포함되는 가교성 관능기의 종류를 고려하여 선택될 수 있다. 가교제로는, 예를 들면 이소시아네이트 가교제, 에폭시 가교제, 아지리딘 가교제 및 금속 킬레이트 가교제와 같은 일반적인 가교제를 사용할 수 있다. 예를 들면, 이소시아네이트 가교제를 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이소시아네이트 가교제의 구체적인 예로는 톨리렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소보론 디이소시아네이트, 테트라메틸크실렌 디이소시아네이트, 나프탈렌 디이소시아네이트 및 상기 중 어느 하나의 폴리올(ex. 트리메틸롤 프로판)과의 반응물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 들 수 있고; 에폭시 가교제의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜 에틸렌디아민 및 글리세린 디글리시딜에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 들 수 있으며; 아지리딘 가교제의 구체적인 예로는 N,N'-톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복사미드), N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리에틸렌 멜라민, 비스이소프로탈로일-1-(2-메틸아지리딘) 및 트리-1-아지리디닐포스핀옥시드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기에서 금속 킬레이트 가교제의 구체적인 예로는, 알루미늄, 철, 아연, 주석, 티탄, 안티몬, 마그네슘 및/또는 바나듐과 같은 다가 금속이 아세틸 아세톤 또는 아세토초산 에틸 등에 배위하고 있는 화합물 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
가교제는 아크릴 중합체 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부 또는 0.01 중량부 내지 5 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 가교제의 함량이 0.01 중량부 미만이면, 점착제층의 응집력이 떨어질 우려가 있고, 10 중량부를 초과하면, 층간 박리나 들뜸 현상이 발생하는 등 내구신뢰성이 저하될 우려가 있다.
상기 산란 점착제층은 상기 아크릴 중합체와 다관능성 가교제의 가교 반응에 의해 형성되는 가교 구조를 가질 수 있다. 상기 점착제층은 라디칼 중합성 화합물의 중합 반응에 의해 형성되는 가교 구조는 갖지 않을 수 있다. 이에 따라, 상기 점착제층은 중합 개시제는 포함하지 않을 수 있다.
상기 산란 점착제층은, 필요한 경우에 전술한 성분에 추가로 공지의 대전 방지제, 실란 커플링제, 점착성 부여 수지, 에폭시 수지, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제 및 가소제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다
상기 산란 점착제층은 비드를 더 포함할 수 있다. 상기 산란 점착제층의 저장 탄성률 및 편광판의 헤이즈는 비드를 포함한 상태의 점착제층의 저장 탄성률 및 편광판의 헤이즈를 의미할 수 있다. 상기 비드의 굴절률은 상기 점착성 수지의 굴절률과 상이할 수 있다. 상기 점착제층은 비드를 포함함으로써 점착제층에 헤이즈를 부여하여 OLED 표시장치의 제조상 발생할 수 있는 무지개 얼룩 시인성을 개선할 수 있다.
하나의 예시에서, 점착성 수지의 굴절률(A)과 비드의 굴절률(B)의 차이(A-B)는 0.04 이상일 수 있다. 점착성 수지와 비드의 굴절률 차이가 클수록 헤이즈를 구현하기에 상대적으로 더 유리하므로, 적은 양으로도 높은 헤이즈를 구현할 수 있다. 상기 굴절률의 차이(A-B)의 상한은 예를 들어 0.1 이하일 수 있다. 상기 굴절률은 Abbe 굴절계를 사용하여, 25℃ 온도에서 파장이 350 nm 내지 1450 nm인 광원에 대하여 측정된 값이다. 상기 굴절률의 차이가 지나치게 작은 경우 목적하는 수준의 헤이즈 발현이 어렵고, 상기 굴절률의 차이가 지나치게 큰 경우 직진하는 빛의 손실로 광학특성이 저하될 수 있으므로, 굴절률의 차이는 상기 범위 내인 것이 적절할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 비드의 굴절률은 1.415 내지 1.425 범위 내일 수 있다.
비드의 함량은 본 출원의 목적을 손상시키지 않는 범위 내에서 적절히 선택될 수 있다. 하나의 예시에서, 비드는, 산란 점착제층의 전체 성분의 중량을 100 중량부로 할 때, 1 중량부 내지 3 중량부 범위 내로 포함될 수 있다. 본 명세서에서 산란 점착제층의 전체 성분의 중량은 산란 점착제에 포함되는 모든 점착성 수지, 가교제, 첨가제 및 비드의 중량 합을 의미할 수 있다. 또는, 본 명세서에서 산란 점착제층의 전체 성분의 중량은 점착제 조성물에서 용매를 제외한 모든 성분의 중량의 합을 의미할 수 있다. 보다 구체적으로, 비드는 산란 점착제층의 전체 성분 100 중량부 대비 1 중량부 이상, 1.2 중량부 이상, 1.4 중량부 이상, 1.5 중량부 이상, 1.6 중량부 이상 또는 1.8 중량부 이상으로 포함될 수 있고, 3 중량부 이하, 2.8 중량부 이하, 2.6 중량부 이하, 2.4 중량부 이하 또는 2.2 중량부 이하로 포함될 수 있다. 다른 하나의 예시에서, 비드는, 점착성 수지 100 중량부에 대하여, 2 중량부 이상으로 포함될 수 있다. 구체적으로, 비드는 점착성 수지 100 중량부에 대하여 2.2 중량부 이상, 2.4 중량부 이상, 2.6 중량부 이상, 2.8 중량부 이상, 3.0 중량부 이상, 3.2 중량부 이상, 3.4 중량부 이상, 3.6 중량부 이상, 3.8 중량부 이상, 4.0 중량부 이상, 4.2 중량부 이상, 4.4 중량부 이상, 4.6 중량부 이상, 4.8 중량부 이상, 5.0 중량부 이상, 5.2 중량부 이상, 5.4 중량부 이상, 5.6 중량부 이상, 5.8 중량부 이상, 6.0 중량부 이상, 6.5 중량부 이상, 7.0 중량부 이상, 7.5 중량부 이상 또는 8.0 중량부 이상으로 포함될 수 있고, 10 중량부 이하, 9.5 중량부 이하, 9 중량부 이하, 8.5 중량부 이하, 8 중량부 이하, 7.5 중량부 이하, 7 중량부 이하, 6.5 중량부 이하, 6 중량부 이하, 5.5 중량부 이하, 5 중량부 이하, 4.5 중량부 이하, 4 중량부 이하, 3.5 중량부, 3.0 중량부 이하, 2.5 중량부 이하 또는 2.0 중량부 이하로 포함될 수 있다. 비드의 함량이 상기 범위 내인 경우 OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타내는데 유리할 수 있다. 한편, 비드의 함량이 너무 지나치게 많은 경우, 부착 공정 시 카메라가 비드를 인식하여 기준 라인을 잘못 잡아 부착 오류가 발생할 수 있으므로, 비드의 함량을 상기 범위 내인 것이 유리할 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 비드는 유기 비드일 수 있다. 상기 유기 비드는 예를 들어 실리콘 수지를 포함할 수 있다. 상기 실리콘 수지는 예를 들어 실세스퀴옥산을 포함할 수 있다. 상기 실세스퀴옥산은 [RSiO3/2]n의 화학식을 갖는 화합물일 수 있고, R = H, 알킬, 아릴 또는 알콕시일 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 실리콘 수지는 폴리메틸실세스퀴옥산일 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 비드는 구형 입자일 수 있다. 비드의 크기는 본 출원의 목적을 손상시키지 않는 범위 내에서 적절히 선택될 수 있다. 하나의 예시에서, 비드의 평균 입경(D50)은 6㎛ 이하일 수 있다. 상기 비드의 평균 입경(D50)은 구체적으로, 5.8㎛ 이하, 5.6㎛ 이하, 5.4㎛ 이하, 5.2㎛ 이하, 5.0㎛ 이하, 4.8㎛ 이하, 4.6㎛ 이하, 4.4㎛ 이하, 4.2㎛ 이하, 4.0㎛ 이하, 3.8㎛ 이하, 3.6㎛ 이하, 3.4㎛ 이하, 3.2㎛ 이하, 3.0㎛ 이하, 2.9㎛ 이하, 2.8㎛ 이하, 2.7㎛ 이하, 2.6㎛ 이하 또는 2.5㎛ 이하일 수 있다. 비드의 평균 입경(D50)은 예를 들어 1 ㎛ 이상, 1.5 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이상 또는 2.2 ㎛ 이상일 수 있다. 비드의 평균 입경이 상기 범위 내인 경우, OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타내는데 유리할 수 있다. 한편, 스파클링 현상 및/또는 부착 공정 시 카메라의 인식 오류를 방지한다는 측면에서 비드의 평균 입경(D50)은 3㎛ 이하, 2.5㎛ 이하 또는 2.0㎛ 이하일 수 있다.
상기 산란 점착제층의 두께는 15㎛ 내지 25㎛ 범위 내일 수 있다. 상기 산란 점착제층의 두께는 구체적으로, 16㎛ 이상, 17㎛ 이상 또는 18㎛ 이상일 수 있고, 24㎛ 이하, 23㎛ 이하 또는 22㎛ 이하일 수 있다. 산란 점착제층의 두께가 상기 범위 내인 경우, OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타내는데 유리할 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 산란 점착제층은 800 gf로 1000 초 동안 측정한 유리 밀림 거리가 250㎛ 이하일 수 있다. 본 명세서에서 유리 밀림 거리는 유리판에 대한 산란 점착제층의 밀림 거리를 의미할 수 있다. 상기 산란 점착제층의 밀림 거리는 편광판을 산란 점착제층이 유리판에 닿도록 부착한 후에 측정된 값일 수 있다. 상기 유리 밀림 거리는 구체적으로, 240 ㎛ 이하, 230㎛ 이하, 220㎛ 이하 또는 210㎛ 이하일 수 있다. 유리 밀림 거리가 낮을수록 샘플의 경도가 높은 것을 의미한다. 비드는 점착제 자체와 화학적 반응을 하지 않기 때문에 점착제층의 경도에 영향을 미칠 가능성이 있고, 경도 저하가 발생한다면 점착제층의 신뢰성에 영향을 줄 수 있다. 점착제층의 경도가 높을 시 외부 변형에 대한 저항이 크기 때문에 점착제층의 변형이 최소화되는 장점이 있다. 상기 유리 밀림 거리의 하한은 예를 들어 150㎛ 이상, 160㎛ 이상, 170㎛ 이상, 180㎛ 이상, 190㎛ 이상 또는 200㎛ 이상일 수 있다. 산란 점착제층의 유리 밀림 거리가 상기 범위 내인 경우, OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타내는데 유리할 수 있다.
본 명세서에서 용어 「편광자」는 편광 기능을 가지는 필름, 시트 또는 소자를 의미한다. 편광자는 여러 방향으로 진동하는 입사광으로부터 한쪽 방향으로 진동하는 광을 추출할 수 있는 기능성 소자이다.
상기 편광자는 흡수형 편광자일 수 있다. 본 명세서에서 흡수형 편광자는 입사 광에 대하여 선택적 투과 및 흡수 특성을 나타내는 소자를 의미한다. 상기 흡수형 편광자는 여러 방향으로 진동하는 입사 광으로부터 어느 한쪽 방향으로 진동하는 광은 투과하고, 나머지 방향으로 진동하는 광은 흡수할 수 있다.
상기 편광자는 선 편광자일 수 있다. 본 명세서에서 선 편광자는 선택적으로 투과하는 광이 어느 하나의 방향으로 진동하는 선 편광이고 선택적으로 흡수하는 광이 상기 선 편광의 진동 방향과 직교하는 방향으로 진동하는 선 편광인 편광자를 의미한다.
상기 편광자로는, 예를 들어, PVA 연신 필름 등과 같은 고분자 연신 필름에 요오드를 염착한 편광자 또는 배향된 상태로 중합된 액정을 호스트로 하고, 상기 액정의 배향에 따라 배열된 이방성 염료를 게스트로 하는 게스트-호스트형 편광자를 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 PVA계 편광자를 형성하기 위한 폴리비닐알코올 수지 또는 그 유도체의 종류는 특히 제한되지 않으며, 이전부터 PVA계 편광자를 형성할 수 있는 것으로 알려진 임의의 PVA 수지 또는 그 유도체를 별다른 제한 없이 모두 사용할 수 있다. 다만, 상기 PVA계 수지 유도체의 대표적인 예로는, 폴리비닐포르말수지 또는 폴리비닐아세탈수지 등을 들 수 있다. 추가로, 상기 PVA계 편광자는 당해 기술분야에 있어서 편광자 제조에 일반적으로 사용되는 PVA계 시판 필름, 예컨대, 구라레社의 P30, PE30, PE60, 일본합성사의 M2000, M3000 M6000 등을 사용하여 형성할 수도 있다.
상기 PVA계 편광자에 포함되는 수지는, 예를 들어, 중합도가 1,000 내지 10,000 정도 또는 1,500 내지 5,000 범위 내일 수 있다. 중합도가 상기 범위 내인 경우, 분자 움직임이 자유롭고, 요오드 또는 이색성 염료 등과 유연하게 혼합되는데 유리할 수 있다.
본 출원의 일 실시예에 의하면 상기 편광자로는 PVA 연신 필름을 사용할 수 있다. 상기 편광자의 투과율 내지 편광도는 본 출원의 목적을 고려하여 적절히 조절될 수 있다. 예를 들어 상기 편광자의 투과율은 42.5% 내지 55%일 수 있고, 편광도는 65% 내지 99.9997% 일 수 있다. 상기 투과율 및 편광도는 약 550 nm 파장의 광에 대해 측정된 값일 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 편광자의 일면 또는 양면에 존재하는 편광자의 보호필름을 더 포함할 수 있다. 상기 보호필름은 접착제층을 매개로 편광자에 부착될 수 있다.
상기 편광자의 보호 필름으로는 트리아세틸셀룰로오스(TAC)계 필름, 고리형 올레핀계 중합체(COP) 필름, 고리형 올레핀계 공중합체(COC) 필름 또는 아크릴계 필름을 사용할 수 있다. 이러한 편광자의 보호 필름은 표시 장치의 우수한 시인성 및 광학 특성 등을 고려하여, 광 투과율이 85% 내지 100%로 되는 높은 투명성을 나타냄이 바람직하다.
상기 편광판은 표면 처리층을 더 포함할 수 있다. 상기 표면 처리층은 편광자의 보호 필름의 일면에 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 표면 처리층은 편광자의 산란 점착제층이 형성된 반대 면에 위치하는 편광자의 보호필름의 일면에 형성될 수 있다. 상기 표면처리층으로는 예를 들어 하드코팅층, 저반사층, 눈부심방지층, 지문방지층 등을 예시할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 표면처리층은 편광판의 최외각에 배치될 수 있다.
상기 편광자의 보호 필름의 두께는 20㎛ 내지 100㎛ 범위 내일 수 있다. 편광자의 보호 필름의 두께가 상기 범위를 만족할 경우, 편광자를 보호할 수 있는 기계적 강도를 확보함과 동시에 롤(roll) 공정 작업성을 확보 할 수 있는 효과가 있다.
상기 편광자와 보호필름을 부착하는 접착제층의 조성이나 형성 방법은 특히 제한되지 않고, 이전부터 편광자와, 보호 필름을 접착하기 위해 사용되던 임의의 조성 등을 적용하여 접착제층을 형성할 수 있다. 하나의 예시에서 상기 접착제층은 UV 접착제일 수 있다. 또한, 상기 접착제층의 두께는 0.5㎛ 내지 4.0㎛ 범위 내일 있고, 상기 접착제층의 두께가 이러한 범위를 만족함에 따라 양호한 코팅 균일성을 확보할 수 있다.
상기 편광판은 편광자와 산란 점착제층 사이에 위상차층을 더 포함할 수 있다. 상기 위상차층은 예를 들어 액정층 또는 연신 고분자층일 수 있다. 액정층은 중합성 액정 화합물을 중합된 상태로 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 「중합성 액정 화합물」은, 액정성을 나타낼 수 있는 부위, 예를 들면, 메소겐(mesogen) 골격 등을 포함하고, 또한 중합성 관능기를 하나 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다. 중합성 관능기는 예를 들어, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기일 수 있다. 연신 고분자층으로는, 예를 들면, 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 폴리노르보넨 등의 고리형 올레핀 폴리머(COP: Cycloolefin polymer), 폴리염화비닐, 폴리아크릴로니트릴, 폴리설폰, 아크릴 수지, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐알코올 또는 TAC(Triacetyl cellulose) 등의 셀룰로오스 에스테르계 폴리머이나 상기 폴리머를 형성하는 단량체 중에서 2종 이상의 단량체의 공중합체 등을 포함하는 고분자층을 사용할 수 있다.
상기 위상차층은 예를 들어 1/4 파장 위상 지연 특성을 가질 수 있다. 본 명세서에서 용어 n 파장 위상 지연 특성은, 적어도 일부의 파장 범위 내에서, 입사 광을 그 입사 광의 파장의 n배 만큼 위상 지연시킬 수 있는 특성을 의미한다. 1/4 파장 위상 지연 특성은, 입사된 선편광을 타원편광 또는 원편광으로 변환시키고, 반대로 입사된 타원 편광 또는 원편광을 선편광으로 변환시키는 특성일 수 있다. 하나의 예시에서 위상차층은, 550 nm의 파장의 광에 대한 면상 위상차가 90 nm 내지 300 nm의 범위 내일 수 있다. 상기 면상 위상차는 다른 예시에서 100 nm 이상, 105 nm 이상, 110 nm 이상, 115 nm 이상, 120 nm 이상, 125 nm 이상 또는 130 nm 이상일 수 있다. 또한, 상기 면상 위상차는 290 nm 이하, 280 nm 이하, 270 nm 이하, 260 nm 이하, 250 nm 이하, 240 nm 이하, 230 nm 이하, 220 nm 이하, 210 nm 이하, 200 nm 이하, 190 nm 이하, 180 nm 이하, 170 nm 이하, 160 nm 이하, 150 nm 이하 또는 145 nm 이하일 수 있다.
상기 편광판은 편광자와 산란 점착제층 사이에 하드 층(Hard layer)을 더 포함할 수 있다. 상기 하드 층으로는 접착제층을 예시할 수 있다. 상기 접착제층으로는 UV 경화형 접착제층을 사용할 수 있다. 또한, 상기 접착제층의 두께는 0.5㎛ 내지 4.0㎛로 될 수 있고, 상기 접착제층의 두께가 이러한 범위를 만족함에 따라 양호한 코팅 균일성을 확보할 수 있다.
도 1 내지 도 3은 각각 본 출원의 편광판의 구조를 예시적으로 나타낸다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 편광판은 산란 점착제층(100), 위상차층(200), 편광자의 보호필름(300), 편광자(400), 편광자의 보호필름(500) 및 표면처리층(600)을 순차로 포함할 수 있다. 또는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 편광판은 산란 점착제층(100), 편광자의 보호필름(300), 편광자(400), 편광자의 보호필름(500) 및 표면처리층(600)을 순차로 포함할 수 있다. 또는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 산란 점착제층(100), 하드 층(700), 편광자(400), 편광자의 보호필름(500) 및 표면처리층(600)을 순차로 포함할 수 있다.
편광판은 산란 점착제층의 일면에 이형필름이 부착된 상태로 제공될 수 있으며, 디스플레이 패널에 점착될 때 이러한 이형필름이 제거될 수 있다. 상기 이형필름은 편광판이 디스플레이 패널에 접착되기 전까지 산란 점착제층을 보호하는 역할을 할 수 있다. 이형필름은 당해 기술분야에 잘 알려진 이형필름, 예를 들면 아크릴 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리노르보넨(PNB) 필름, 싸이클로올레핀폴리머(COP) 필름, 폴리카보네이트(PC) 필름 등이 사용될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원은 또한 OLED 표시장치에 관한 것이다. 상기 OLED 표시장치는 OLED 표시패널 및 상기 OLED 표시패널의 일면에 배치된 상기 편광판을 포함할 수 있다. 이때, 편광판의 산란 점착제층의 일면은 OLED 표시패널에 직접 접하고 있을 수 있다. 상기 편광판은 OLED 표시패널의 시인 측에 배치될 수 있다. 본 출원의 편광판을 OLED 표시장치에 적용하는 경우, OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타내는데 유리할 수 있다.
상기 OLED 표시패널은 기판, 하부 전극, 유기 발광층 및 상부 전극을 순차로 포함할 수 있다. 유기 발광층은 하부 전극과 상부 전극에 전압이 인가되었을 때 빛을 낼 수 있는 유기 물질을 포함할 수 있다. 상기 하부 전극과 상부 전극 중 어느 하나는 양극(anode)이고 다른 하나는 음극(cathode)일 수 있다. 양극은 정공(hole)이 주입되는 전극으로 일 함수(work function)가 높은 도전 물질로 만들어질 수 있으며 음극은 전자가 주입되는 전극으로 일 함수가 낮은 도전 물질로 만들어질 수 있다. 통상 양극으로는 일함수가 큰 ITO 또는 IZO 와 같은 투명 금속 산화물층을 사용할 수 있으며, 음극으로는 일함수가 낮은 금속 전극을 사용할 수 있다. 일반적으로 유기 발광층은 투명하기 때문에, 상부 및 하부 전극을 투명하게 하는 경우 투명 디스플레이를 구현할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 금속 전극의 두께를 매우 얇게 하는 경우 투명한 디스플레이를 구현할 수 잇다.
상기 OLED 표시패널은 상부 전극 상에 외부로부터 수분 및/또는 산소가 유입되는 것을 방지하는 기능을 하는 봉지 기판을 더 포함할 수 있다. 하부 전극과 유기 발광층 사이 및 상부 전극과 유기 발광층 사이에는 부대층을 더 포함할 수 있다. 부대층은 전자와 정공의 균형을 맞추기 위한 정공 전달층(hole transporting layer), 정공 주입층(hole injecting layer), 전자 주입층(electron injecting layer) 및 전자 전달층(electron transporting layer)을 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 편광판은 OLED 표시패널에서 빛이 나오는 측(광 출사 측)에 배치될 수 있다. 예컨대 베이스 기판 측으로 빛이 나오는 배면 발광(bottom emission) 구조인 경우 베이스 기판의 외측에 배치될 수 있고, 봉지 기판 측으로 빛이 나 오는 전면 발광(top emission) 구조인 경우 봉지 기판의 외측에 배치될 수 있다. 편광판이 위상차층을 포함하는 경우 외광이 OLED 패널의 전극 및 배선 등과 같이 금속으로 만들어진 반사층에 의해 반사되어 OLED 패널의 외측으로 나오는 것을 방지함으로써 시인성과 표시장치의 성능을 개선할 수 있다.
본 출원은 편광판 및 그의 용도에 관한 것이다. 본 출원은 OLED 표시장치의 외관에서 레인보우 얼룩이 발생하는 문제를 개선하고, 우수한 시감, 우수한 경도, 우수한 내열 및 내습열 내구성을 나타낼 수 있는 편광판 및 상기 편광판을 포함하는 OLED 표시장치를 제공한다.
도 1은 본 출원의 편광판의 구조를 예시적으로 나타낸다.
도 2는 본 출원의 편광판의 구조를 예시적으로 나타낸다.
도 3은 본 출원의 편광판의 구조를 예시적으로 나타낸다.
도 2는 본 출원의 편광판의 구조를 예시적으로 나타낸다.
도 3은 본 출원의 편광판의 구조를 예시적으로 나타낸다.
이하, 본 출원에 따른 실시예 및 본 출원에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 출원을 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
실시예 1
아크릴 중합체(LC-6BB, Soken) 100 중량부, 경화제(T-743L, Soken) 0.01 중량부, 경화제(T-706BB, Soken) 0.45 중량부, 실란커플링제(T-789J, Soken) 0.02 중량부, 대전방지제(FC4400, 3M) 0.29 중량부 및 비드(Tospearl 145, 모멘티브) 4.0 중량부를 반응 용기에 투입한 뒤, 용제(Ethyl acetate)를 아크릴 중합체(LC-6BB) 100 중량부 대비 20 중량부 투입하여 점착제 조성물을 준비하였다. 아크릴 중합체는 BA(butyl acrylate) 94 중량부 및 AA(acrylic acid) 4 중량부의 중합체이다. 비드는 실리콘 수지를 포함하며, 평균입경(D50)이 약 4.5㎛인 구형 입자이다. 아크릴 중합체의 굴절률은 1.46이고, 비드의 굴절률은 1.42이다. 상기 굴절률은 Abbe 굴절계를 사용하여, 25℃ 온도에서 파장이 350 nm 내지 1450 nm인 광원에 대하여 측정된 값이다.
점착제 조성물을 믹서(Stirrer)로 50분 동안 배합한 후, 두께가 38㎛인 제 1 이형 필름(MRP38, 미쓰비시 플라스틱)에 건조 후 두께가 약 22㎛이 되도록 도공하고, 80℃ 온도에서 3분 동안 건조하여 산란 점착제층을 형성하였다. 제 1 이형 필름에 형성된 산란 점착제층 상에 제 1 이형 필름과 박리력이 상이한 두께가 38㎛인 제 2 이형 필름(MRP38, 미쓰비시 플라스틱)을 적층하여 점착 필름을 제조하였다.
두께가 25㎛인 편광자(요오드 염착된 PVA계 연신 필름)의 일면에 두께가 65㎛인 제 1 보호필름(TAC 필름)을 적층하였고, 편광자의 다른 일면에 두께가 45㎛인 제 2 보호필름(TAC 필름)을 적층하였다. 제 1 보호필름의 일면에 380nm 내지 780nm 파장에 대한 평균 반사율이 약 2%인 저반사층을 형성하여 표면처리하였다. 제 2 보호필름의 일면에 1/4 파장판(액정층)을 형성하였다. 상기 점착 필름에서 제 2 이형 필름을 제거한 후, 산란 점착제층이 1/4 파장판에 부착되도록 적층하여 편광판을 제조하였다.
실시예 2
비드의 함량을 2 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
실시예 3
비드의 함량을 7 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
실시예 4
아크릴 중합체(LC-6BB, Soken) 100 중량부, 경화제(T-743L, Soken) 0.005 중량부, 경화제(T-706BB, Soken) 2.02 중량부, 실란커플링제(T-789J, Soken) 0.10 중량부, 대전방지제(FC4400, 3M) 2.00 중량부 및 비드(TSR, 모멘티브) 4.5 중량부를 반응 용기에 투입한 뒤, 용제(Ethyl acetate)를 투입하여 점착제 조성물을 준비하였다. 아크릴 중합체는 BA(butyl acrylate) 94 중량부 및 AA(acrylic acid) 4 중량부의 중합체이다. 비드는 실리콘 수지를 포함하며, 평균 입경(D50)이 2.2~2.5㎛인 구형 입자이다. 아크릴 중합체의 굴절률은 1.46이고, 비드의 굴절률은 1.42이다. 상기 굴절률은 Abbe 굴절계를 사용하여, 25℃ 온도에서 파장이 350 nm 내지 1450 nm인 광원에 대하여 측정된 값이다.
점착제 조성물을 믹서(Stirrer)로 50분 동안 배합한 후, 두께가 38㎛인 제 1 이형 필름(MRP38, 미쓰비시 플라스틱)에 건조 후 두께가 약 22㎛이 되도록 도공하고, 80℃ 온도에서 3분 동안 건조하여 산란 점착제층을 형성하였다. 제 1 이형 필름에 형성된 산란 점착제층 상에 제 1 이형 필름과 박리력이 상이한 두께가 38㎛인 제 2 이형 필름(MRP38, 미쓰비시 플라스틱)을 적층하여 점착 필름을 제조하였다.
두께가 25㎛인 편광자(요오드 염착된 PVA계 연신 필름)의 일면에 두께가 65㎛인 제 1 보호필름(TAC 필름)을 적층하였고, 편광자의 다른 일면에 두께가 45㎛인 제 2 보호필름(TAC 필름)을 적층하였다. 제 1 보호필름의 일면에 380nm 내지 780nm 파장에 대한 평균 반사율이 약 2%인 저반사층을 형성하여 표면처리하였다. 제 2 보호필름의 일면에 1/4 파장판(액정층)을 형성하였다. 상기 점착 필름에서 제 2 이형 필름을 제거한 후, 산란 점착제층이 1/4 파장판에 부착되도록 적층하여 편광판을 제조하였다.
실시예 5
비드의 함량을 6.0 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
실시예 6
비드의 함량을 7.0 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
실시예 7
비드를 평균 입경(D50)이 약 4.5㎛이고, 굴절률이 1.42인 구형 입자(Tospearl 145, 모멘티브)로 변경하고, 비드의 함량을 5.0 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
실시예 8
비드를 평균 입경(D50)이 약 4.5㎛이고, 굴절률이 1.42인 구형 입자(Tospearl 145, 모멘티브)로 변경하고, 비드의 함량을 8.0 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
비교예 1
비드를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다
비교예 2
아크릴 중합체(AD-701, LG화학) 100 중량부 중량부, 경화제(T-39, Soken) 0.04 중량부, 실란커플링제(T-789J, Soken) 0.06 중량부 및 대전방지제(HQ115, 3M) 0.27 중량부를 반응 용기에 투입한 뒤, 용제(Ethyl acetate)를 아크릴 중합체(AD-701) 100 중량부 대비 20 중량부 투입하여 점착제 조성물을 준비하였다. 아크릴 중합체는 BA(butyl acrylate) 99 중량부 및 4-HBA(4-hydroxybutyl acrylate) 1 중량부의 중합체이다. 아크릴 중합체의 굴절률은 1.468이다. 상기 굴절률은 Abbe 굴절계를 사용하여, 25℃ 온도에서 파장이 350 nm 내지 1450 nm인 광원에 대하여 측정된 값이다.
점착제 조성물을 믹서(Stirrer)로 50분 동안 배합한 후, 두께가 38㎛인 제 1 이형 필름(MRP38, 미쓰비시 플라스틱)에 건조 후 두께가 약 22㎛이 되도록 도공하고, 80℃ 온도에서 3분 동안 건조하여 산란 점착제층을 형성하였다. 제 1 이형 필름에 형성된 산란 점착제층 상에 제 1 이형 필름과 박리력이 상이한 두께가 38㎛인 제 2 이형 필름(MRP38, 미쓰비시 플라스틱)을 적층하여 점착 필름을 제조하였다.
두께가 25㎛인 편광자(요오드 염착된 PVA계 연신 필름)의 일면에 두께가 65㎛인 제 1 보호필름(TAC 필름)을 적층하였고, 편광자의 다른 일면에 두께가 45㎛인 제 2 보호필름(TAC 필름)을 적층하였다. 제 1 보호필름의 일면에 380nm 내지 780nm 파장에 대한 평균 반사율이 약 2%인 저반사층을 형성하여 표면처리하였다. 제 2 보호필름의 일면에 1/4 파장판(액정층)을 형성하였다. 상기 제조된 점착 필름에서 제 2 이형 필름을 제거한 후, 산란 점착제층이 1/4 파장판에 부착되도록 적층하여 편광판을 제조하였다.
비교예 3
비드를 4 중량부 더 첨가한 것을 제외하고는 비교예 2와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다. 비드는 실리콘 수지를 포함하며, 평균입경(D50)이 약 4.5㎛인 구형 입자이다. 또한, 비드의 굴절률은 1.42이다. 상기 굴절률은 Abbe 굴절계를 사용하여, 25℃ 온도에서 파장이 350 nm 내지 1450 nm인 광원에 대하여 측정된 값이다.
비교예 4
비드를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
비교예 5
비드를 평균 입경(D50)이 약 4.5㎛인 구형 입자(Tospearl 145, 모멘티브)로 변경하고, 비드의 함량을 2.0 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다. 상기 비드(Tospearl 145, 모멘티브)는 실리콘 수지를 포함하며, 굴절률이 1.42이다.
비교예 6
비드의 함량을 1.5 중량부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 6에 대하여 저장 탄성률 및 헤이즈를 측정한 후, 그 결과를 표 1에 기재하였다.
측정예 1. 헤이즈 측정
편광판을 가로×세로=5cm×5cm 사이즈로 재단하여 샘플을 제조한 후, 헤이즈미터(HM-150, Murakami color research laboratory)를 사용하여, 25℃에서 헤이즈를 측정하였다. 상기 헤이즈는 380 nm 내지 780 nm 파장의 광에 대해 측정된 값이다.
측정예 2. 저장 탄성률 측정
산란 점착제층을 접어 16층으로 적층하여, 가로×세로=15cm×20cm 사이즈가 되도록 샘플을 제조한 후, ARES-G2(TA Instruments) 장비를 이용하여, 25℃ 온도 및 스트레인 50% 조건에서 저장 탄성률을 측정하였고, 주파수 1 rad/sec의 값을 추출하였다.
헤이즈 (%) | 저장 탄성률 (Pa) | |
실시예 1 | 26% | 87,452 |
실시예 2 | 20% | 87,569 |
실시예 3 | 30% | 89,675 |
실시예 4 | 30.0% | 87569 |
실시예 5 | 35.0% | 89675 |
실시예 6 | 40.0% | 89883 |
실시예 7 | 30.0% | 88099 |
실시예 8 | 40.0% | 87305 |
비교예 1 | 1% | 88,293 |
비교예 2 | 1% | 51,230 |
비교예 3 | 26% | 50,284 |
비교예 4 | 0.5% | 88293 |
비교예 5 | 11.0% | 86772 |
비교예 6 | 10.0% | 87452 |
실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 6에 대하여, 유리 밀림 거리, 얼룩 발생 유무, 내열 신뢰성 및 내습열 신뢰성을 평가하고 그 결과를 표 2에 기재하였다.
측정예 3. 유리 밀림 거리(Creep) 측정
편광판을 가로x세로가 10mm x 100mm인 사이즈로 재단하였다. 편광판으로부터 제 1 이형 필름을 박리한 후, 가로×세로×두께가 30mm×40mm×0.8mm인 유리판(소다라임 글래스)의 중앙의 가로×세로가 10mm×10mm의 영역에, 상기 편광판의 점착제층이 유리판에 닿도록 부착하여 시편을 제조하였다. 상기 시편을 50℃ 및 5기압에서 15분 동안 탈포한 후, 밀림 거리를 측정하였다. 구체적으로, Texture analyzer(Stable micro system, XT plus)에 시편을 로딩하여 편광판 부분과 유리판 부분을 고정하였다. 800 gf의 힘으로 1000초 동안 일 방향으로 편광판을 잡아당겼을 때 편광판이 유리 기판으로부터 밀리는 거리(단위: ㎛)를 측정하였다. 일반적으로 1000초 내에서 saturation(밀림 거리가 더 늘어나지 않고 균일하게 나오는 상태)되며, 본 실험에서는 최종 1000초에서의 밀림 거리를 측정하여 아래 표 2에 기재하였다. 유리 밀림 거리가 낮을수록 샘플의 경도가 높은 것을 의미한다.
평가예 1. 얼룩 발생 유무
편광판을 A4 사이즈로 재단한 후, 편광판에서 제 1 이형 필름을 제거한 후, OLED 패널(Micro lens array OLED, LGD)에 부착하고, OLED 패널을 작동시킨 후, 얼룩 발생 여부를 목시로 관찰하였다.
평가예 2. 내열 신뢰성 및 내습열 신뢰성 평가
편광판을 가로×세로=160mm×90mm로 재단한 후, A4 사이즈의 유리판(소다라임글라스)에 부착하고 탈포함으로써 샘플을 제조하였다. 상기 샘플을 내열 신뢰성(온도 80℃) 및 내습열 신뢰성(온도 60℃, 상대습도 90%) 조건으로 유지되는 챔버에 투입한 후, 500 시간 유지하였다. 샘플에 기포 발생 여부를 관찰한 후, 아래 기준으로 신뢰성을 평가하였다.
◎: 기포 미발생
○: 기포 5개 미만
△: 기포 5개 이상
×: 편광판 들뜸 발생
유리 밀림 거리 (㎛) | 얼룩 발생 유무 | 내열 신뢰성 | 내습열 신뢰성 | |
실시예 1 | 212 | 미발생 | ◎ | ◎ |
실시예 2 | 210 | 약발생 | ◎ | ◎ |
실시예 3 | 224 | 미발생 | ◎ | ◎ |
실시예 4 | 210 | 미발생 | ◎ | ◎ |
실시예 5 | 224 | 미발생 | ◎ | ◎ |
실시예 6 | 209 | 미발생 | ◎ | ◎ |
실시예 7 | 220 | 미발생 | ◎ | ◎ |
실시예 8 | 216 | 미발생 | ◎ | ◎ |
비교예 1 | 209 | 강발생 | ◎ | ◎ |
비교예 2 | 434 | 강발생 | ◎ | ◎ |
비교예 3 | 455 | 미발생 | ○ | ○ |
비교예 4 | 209 | 발생 | ◎ | ◎ |
비교예 5 | 215 | 발생 | ◎ | ◎ |
비교예 6 | 212 | 발생 | ◎ | ◎ |
실시예 4 내지 8 및 비교예 4 내지 6에 대하여, 스파클링 현상 및 카메라 인식 평가를 하고 평가하고 그 결과를 표 3에 기재하였다.
평가예 3. 스파클링 현상 평가
편광판을 A4 사이즈로 재단한 후, 편광판에서 제 1 이형 필름을 제거한 후 녹색 바탕의 모니터에 부착한 후 상온의 암실 환경에서 스파클링(반짝임) 현상이 있는지 목시 관찰하였다. 스파클링 현상의 정도에 따라 등급을 아래와 같이 평가하였다.
Lv 0: 스파클링 현상 없음
Lv 1: 스파클링 현상 미약
Lv 2: 스파클링 현상 약
Lv 3: 스파클링 현상 중
Lv 4: 스파클링 현상 중강
Lv 5: 스파클링 현상 강
평가예 4. 카메라 인식 평가
편광판을 A4 사이즈로 재단한 후, 편광판에서 이형 필름 면에 붉은색의 임의의 선을 긋고, 광학 현미경(×50 배율)으로 상기 선을 기준으로 주변에 비드의 분포를 관찰하였다. 비드의 분포가 높은 경우, 부착 공정 시 카메라가 비드를 인식하여 기준 라인을 잘못 잡아서 부착 오류가 발생할 수 있다.
스파클링 정도 | 카메라 인식 | |
실시예 4 | Lv 1 | 미인식 |
실시예 5 | Lv 1 | 미인식 |
실시예 6 | Lv 1 | 미인식 |
실시예 7 | Lv 5 | 인식 |
실시예 8 | Lv 5 | 인식 |
비교예 4 | Lv 0 | 미인식 |
비교예 5 | Lv 4 | 인식 |
비교예 6 | Lv 1 | 미인식 |
100: 산란 점착제층, 200: 위상차층, 300: 편광자의 보호 필름, 400: 편광자, 500: 편광자의 보호 필름, 600: 표면처리층, 700: 하드 층
Claims (12)
- 편광자 및 상기 편광자의 일면에 존재하는 산란 점착제층을 포함하는 편광판으로서, 상기 산란 점착제층의 25℃ 온도 및 1 rad/sec 주파수에서의 저장 탄성률은 70,000 Pa 이상이고, 상기 편광판은 헤이즈가 15% 이상인 편광판.
- 제 1 항에 있어서, 산란 점착제층은 점착성 수지 및 비드를 포함하는 편광판.
- 제 2 항에 있어서, 점착성 수지는 아크릴계 수지인 편광판.
- 제 2 항에 있어서, 점착성 수지의 굴절률(A)과 비드의 굴절률(B)의 차이(A-B)는 0.04 내지 0.1 범위 내인 편광판.
- 제 2 항에 있어서, 비드는 실리콘 수지를 포함하는 편광판.
- 제 2 항에 있어서, 비드는 점착성 수지 100 중량부에 대하여 2 중량부 내지 10 중량부 범위 내로 포함되는 편광판.
- 제 1 항에 있어서, 산란 점착제층의 두께는 15㎛ 내지 25㎛ 범위 내인 편광판.
- 제 1 항에 있어서, 산란 점착제층은 800 gf로 1000 초 동안 측정한 유리 밀림 거리가 150㎛ 내지 250㎛ 범위 내인 편광판.
- 제 1 항에 있어서, 편광자의 일면 또는 양면에 존재하는 편광자의 보호필름을 더 포함하는 편광판.
- 제 1 항에 있어서, 편광자와 산란 점착제층 사이에 위상차층을 더 포함하는 편광판.
- OLED(Organic light emitting diode) 표시패널 및 상기 OLED 표시패널의 일면에 배치된 제 1 항의 편광판을 포함하는 OLED 표시장치.
- 제 11 항에 있어서, 편광판은 OLED 표시패널의 광 출사 측에 배치되는 OLED 표시장치.
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