KR20230041724A - 스피로 고리 화합물 및 이의 응용 - Google Patents

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샤오푸 천
레이 다이
리페이 차이
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쓰추안 에이쥐-레이 뉴 머터리얼즈 컴퍼니 리미티드
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Abstract

식 (1)로 표시되는 스피로 고리 화합물 및 이의 응용에 관한 것이다. 상기 스피로 고리 화합물은 높은 광학적 및 전기적 안정성, 낮은 승화 온도, 낮은 구동 전압, 작은 캐리어 횡방향 이동도, 높은 발광 효율, 긴 소자 수명 등의 장점을 가지며, 유기 전계 발광 소자에 사용될 수 있다. 특히 정공 주입, 수송류 재료로서 AMOLED 산업에서 응용 가능성이 높다.
Figure pct00045

Description

스피로 고리 화합물 및 이의 응용
본 발명은 유기 전계 발광 기술 분야에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유기 전계 발광 소자에 적합한 유기 발광 재료, 특히 스피로 고리 화합물 및 유기 전계 발광 소자 상에서 이의 응용에 관한 것이다.
현재, 차세대 디스플레이 기술인 유기 전계 발광 소자(OLED)는 디스플레이 및 조명 기술 측면에서 점점 더 주목 받고 있으며 응용 가능성이 매우 넓다. 그러나 시장 응용 요구 사항과 비교할 때, OLED 소자의 발광 효율, 구동 전압, 사용 수명 등 성능도 지속적으로 강화되고 개선되어야 한다.
일반적으로, OLED 소자의 기본 구조는 샌드위치 구조와 같이 금속 전극 중간에 각종 상이한 기능의 유기 기능 재료 박막이 혼합되어 있으며, 전류의 구동 하에서, 음극과 양극으로부터 각각 정공과 전자가 주입되고, 정공과 전자는 일정 거리를 이동한 후, 발광층에서 복합되어, 빛 또는 열의 형태로 방출되어 OLED의 발광을 구현한다. 그러나, 유기 기능 재료는 유기 전계 발광 소자의 핵심 구성 부분으로, 물질의 열적 안정성, 광화학적 안정성, 전기화학적 안정성, 양자 수율, 성막 안정성, 결정화도, 색포화도 등이 모두 소자 성능에 영향을 미치는 중요한 요소이다.
우수한 성능의 유기 발광 소자를 얻기 위해서는, 재료의 선택이 특히 중요하다. 여기에는 발광 작용을 하는 에미터 재료뿐만 아니라, 소자에서 캐리어 주입 및 수송에 주로 사용되는 정공 주입 재료, 정공 수송 재료, 호스트 재료, 전자 수송 재료, 전자 주입 재료 등의 기능성 재료도 포함된다. 이들의 선택과 최적화는 정공과 전자의 수송 효율을 향상시키고, 소자에서 정공과 전자의 균형을 맞춰 소자 전압, 발광 효율 및 수명을 개선시킬 수 있다.
특허 문헌 1(CN103108859B)에는
Figure pct00001
스피로플루오렌 아릴아민 구조가 정공 수송 재료로 사용된다고 기재되어 있다. 이러한 유형의 재료는 비교적 우수한 소자 성능을 제공하지만 소자 수명, 특히 청색 발광의 소자 수명은 여전히 개선의 여지가 있으며, 또한 이러한 유형의 재료는 횡방향 정공 이동도도 더 우수한 낮은 그레이스케일 색순도를 가진 OLED 제품을 제공하기 위해 더욱 개선되어야 한다. 특허 문헌 2(CN103641726B)는
Figure pct00002
스피로플루오렌 아릴아민 구조가 제2 정공 수송 재료로 사용된다고 기재되어 있다. 이러한 유형의 재료는 소자 성능, 특히 소자 효율이 크게 개선되어야 한다. 특허문헌 3(CN111548278A)에는
Figure pct00003
스피로플루오렌 아릴아민이 아릴아민 상에 알킬, 듀테륨, 시클로알킬 등과 같은 치환기가 함유된 구조가 정공 수송 재료로 사용된다고 기재되어 있다. 이러한 유형의 재료는 소자 성능, 특히 소자 수명이 더욱 개선되어야 한다. Jiun Yi Shen 등은 비특허 문헌 1(J. Mater. Chem., 2005, 15, 2455-2463)에서 스피로플루오렌 구조 기반으로 구축된
Figure pct00004
와 같은 청색 발광 재료를 개시하였다. 이러한 유형의 재료가 청색 발광층으로 사용되면, 소자의 발광 효율과 수명이 모두 개선되어야 하며, 정공 수송 재료로 사용될 때에도 마찬가지 문제가 있어 최적화하여 개선할 필요가 있다.
본 발명은 상술한 결함을 해결하기 위해, 고성능의 유기 전계 발광 소자 및 이러한 유기 전계 발광 소자 구현이 가능한 스피로 고리 화합물 재료를 제공한다.
본 발명에 따른 스피로 고리 화합물은 식 (1)의 구조를 갖는다. 본 발명에서 제공하는 스피로 고리 화합물은 높은 광학적 및 전기적 안정성, 낮은 승화 온도, 낮은 구동 전압, 작은 캐리어 횡방향 이동도, 높은 발광 효율, 긴 소자 수명 등의 장점을 가지며, 유기 전계 발광 소자에 사용될 수 있다. 특히 정공 주입, 수송류 재료로서 AMOLED 산업에서 응용 가능성이 높다.
스피로 고리 화합물은 식 (1)의 구조를 갖는다.
Figure pct00005
(1)
여기에서, R1-R10은 독립적으로 수소, 듀테륨, 할로겐, 시아노, 히드록실, 머캅토, 아민, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 트리 C1-C10 알킬실릴, 치환 또는 비치환된 트리 C6-C12 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 디 C1-C10 알킬 C6-C30 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬 디 C6-C30 아릴실릴로부터 선택되거나, R1-R8 및 R9-R10의 두 인접한 기 사이는 서로 연결되어 지방족 고리 또는 방향족 고리 형태 구조를 형성할 수 있다.
여기에서, 상기 R1-R8 중 적어도 2개는 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬이다.
여기에서, L은 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴렌, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴렌으로부터 선택된다.
여기에서, Ar1 및 Ar2는 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴로부터 선택된다.
여기에서, m, n, h, p는 독립적으로 0 또는 1-4의 정수로부터 선택되고, m+n=4, p+k=4이고, m, p는 동시에 0이 아니다.
여기에서, 상기 헤테로알킬 및 헤테로아릴은 적어도 하나의 O, N 또는 S 헤테로원자를 포함한다.
상기 치환은 듀테륨, F, Cl, Br, C6-C10 아릴, C1-C6 알킬, C3-C6 시클로알킬, C1-C6 알킬에 의해 치환된 아민, 시아노, 이소니트릴 또는 포스피노에 의한 치환이고, 여기에서 치환 수는 단일 치환 내지 최대 수 치환이다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, m+p=1이다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 이는 식 (2) 내지 식 (9)로 표시되는 구조이다.
Figure pct00006
여기에서, R2, R3, R4, R5, R6, R7은 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬이다.
나머지 부호의 정의는 전술한 바와 같다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 이는 식 (2) 또는 식 (6)으로 표시되는 구조이며, R2와 R7은 같거나 다르고, Ar1과 Ar2는 같거나 다르다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 여기에서 식 (2) 내지 식 (9)에서 상기 L은 바람직하게는 단일 결합이다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 여기에서 상기 스피로 고리 화합물은 바람직하게는 식 (10) 내지 식 (11)로 표시되는 구조이다.
Figure pct00007
여기에서, X는 독립적으로 C(R0)2, O, S, NRO로부터 선택된다.
여기에서, j는 독립적으로 0 또는 1 내지 7의 정수이고, j=0일 때, 형성된 고리는 3원 고리이고, j≥2일 때 각각의 X는 같거나 다르다.
여기에서, R, R0 및 Ra-Rh는 독립적으로 수소, 듀테륨, 할로겐, 시아노, 히드록실, 머캅토, 아민, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 트리 C1-C10 알킬실릴, 치환 또는 비치환된 트리 C6-C12 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 디 C1-C10 알킬 C6-C30 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬 디 C6-C30 아릴실릴로부터 선택되거나, Ra, Rb, Rc 및 Rd의 4개 사이 및/또는 Re, Rf, Rg 및 Rh의 4개 사이 및/또는 복수의 R0 사이 및/또는 R과 기타 치환기 사이는 서로 연결되어 고리 형태 구조를 형성한다.
상기 치환은 듀테륨, F, Cl, Br, C6-C10 아릴, C1-C6 알킬, C3-C6 시클로알킬, C1-C6 알킬에 의해 치환된 아민, 시아노, 이소니트릴 또는 포스피노에 의한 치환이고, 여기에서 치환 수는 단일 치환 내지 최대 수 치환이다.
여기에서 R은 수소, 듀테륨, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬이다.
R0 및 Ra-Rh는 독립적으로 수소, 듀테륨, 할로겐, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬로부터 선택되거나, Ra, Rb, Rc, Rd의 4개 사이 및/또는 Re, Rf, Rg, Rh의 4개 사이 및/또는 복수의 R0 사이는 서로 연결되어 고리 형태 구조를 형성한다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 여기에서 R은 수소, 듀테륨, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬이다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 여기에서 j은 바람직하게는 2 이상의 값이다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 여기에서 2 이상의 X에서, 최대 1개는 O, S, Se, NR0이다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 여기에서 바람직하게는 복수의 R0 사이 및/또는 R과 R0 사이는 서로 연결되어 고리 형태 구조를 형성한다.
여기에서, R2는 R7과 동일하고, Ar1은 Ar2와 상이하며, Ar1과 Ar2는 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐, 비페닐, 나프틸, 플루오레닐, 디벤조푸릴 또는 카르바졸릴로부터 선택되고, 상기 치환은 듀테륨, F, Cl, Br, C6-C10 아릴, C1-C6 알킬, C3-C6 시클로알킬에 의한 치환이다.
바람직한 스피로 고리 화합물에 있어서, 바람직하게는 하기 구조식 중 하나, 또는 대응하는 부분 또는 완전 듀테륨화 또는 플루오르화이다.
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
본 발명의 목적 중 하나는 유기 전계 발광 소자에서 상술한 스피로 고리 화합물의 응용에 있다.
본 발명의 다른 목적 중 하나는 상술한 스피로 고리 화합물을 유기 전계 발광 소자의 정공 주입층 및/또는 정공 수송층으로 사용하는 데에 있다.
본 발명의 재료는 높은 광학적 및 전기적 안정성, 낮은 승화 온도, 낮은 구동 전압, 작은 캐리어 횡방향 이동도, 높은 발광 효율, 긴 소자 수명 등의 장점을 가지며, 유기 전계 발광 소자에 사용될 수 있다. 특히 정공 주입, 수송류 재료로서 AMOLED 산업에서 응용 가능성이 높다.
도 1은 화합물 CPD001의 1HNMR 스펙트럼이다.
이하에서는 실시예를 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 스피로 고리 화합물은 식 (1)의 구조를 갖는다.
Figure pct00015
(1)
여기에서, R1-R10은 독립적으로 수소, 듀테륨, 할로겐, 시아노, 히드록실, 머캅토, 아민, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 트리 C1-C10 알킬실릴, 치환 또는 비치환된 트리 C6-C12 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 디 C1-C10 알킬 C6-C30 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬 디 C6-C30 아릴실릴로부터 선택되거나, R1-R8 및 R9-R16의 두 인접한 기 사이는 서로 연결되어 지방족 고리 또는 방향족 고리 형태 구조를 형성할 수 있다. 상기 치환은 듀테륨, F, Cl, Br, C1-C6 알킬, C3-C6 시클로알킬, C1-C6 알킬에 의해 치환된 아민, 니트릴, 이소니트릴 또는 포스피노에 의한 치환이고, 여기에서 치환 수는 단일 치환 내지 최대 수 치환이다.
여기에서, L은 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴렌, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴렌으로부터 선택된다.
여기에서, Ar1 및 Ar2는 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴로부터 선택된다.
여기에서, m, n, h, p는 독립적으로 0 또는 1-4의 정수로부터 선택되고, m+n=4, p+k=4이다.
여기에서, 상기 헤테로알킬 및 헤테로아릴은 적어도 하나의 O, N 또는 S 헤테로원자를 포함한다.
여기에서, 상기 R1-R8 중 적어도 2개는 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬이다.
이하에서는 식 (1)로 표시되는 화합물의 각 기의 예시에 대해 설명한다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된 탄소수 a~b의 X기"라는 표현에서 "탄소수 a~b"는 X기가 비치환된 경우의 탄소수를 나타내며, X기가 치환된 경우의 치환기의 탄소수는 포함되지 않음에 유의한다.
C1-C10 알킬로서, 직쇄형 또는 분지쇄형의 알킬이며, 구체적으로 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸 및 이의 이성질체, n-헥실 및 이의 이성질체, n-헵틸 및 이의 이성질체, n-옥틸 및 이의 이성질체, n-노닐 및 이의 이성질체, n-데실 및 이의 이성질체 등이다. 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸이고, 보다 바람직하게는 프로필, 이소프로필, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸이다.
C3-C20 시클로알킬로서, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 1-아다만틸, 2-아다만틸, 1-노르보르닐, 2-노르보르닐 등을 예로 들 수 있으며, 바람직하게는 시클로펜틸 및 시클로헥실이다.
C2-C10 알케닐로서, 비닐, 프로페닐, 알릴, 1-부타디에닐, 2-부타디에닐, 1-헥사트리에닐, 2-헥사트리에닐, 3-헥사트리에닐 등을 예로 들 수 있으며, 바람직하게는 프로페닐 및 알릴이다.
C1-C10 헤테로알킬로서, 탄소 및 수소 이외의 원자로 구성된 직쇄형 또는 분지쇄형의 알킬, 시클로알킬 등이 있으며, 메르캅토메틸메탄, 메톡시메탄, 에톡시메탄, tert-부톡시메탄, N,N-디메틸메탄, 에폭시부틸, 에폭시펜틸, 에폭시헥실 등을 예로 들 수 있고, 바람직하게는 메톡시메탄, 에폭시펜틸이다.
아릴의 구체적인 예로는 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 페난트레닐, 나프타세닐, 피레닐, 크리세닐, 벤조[c]페난트레닐, 벤조[g]크리세닐, 플루오레닐, 벤조플루오레닐, 디벤조플루오레닐, 비페닐, 터페닐, 쿼터페닐, 플루오란테닐 등이 있고, 바람직하게는 페닐 및 나프틸이다.
헤테로아릴의 구체적인 예로는 피롤릴, 피라지닐, 피리딜, 피리미디닐, 트리아지닐, 인돌릴, 이소인돌릴, 이미다졸릴, 푸릴, 벤조푸릴, 이소벤조푸릴, 디벤조푸릴, 디벤조티에닐, 아자디벤조푸릴, 아자디벤조티에닐, 디아자디벤조푸릴, 디아자디벤조티에닐, 퀴놀리닐, 이소퀴놀리닐, 퀴녹살리닐, 카르바졸릴, 페난트리디닐, 아크리디닐, 페난트롤리닐, 페나지닐, 페노티아지닐, 페녹사지닐, 옥사졸리닐, 옥사디아졸릴, 푸라자닐, 티에닐, 벤조티에닐, 디히드로아크리디닐, 아자카르바졸릴, 디아자카르바졸릴, 퀴나졸리닐 등이 있고, 바람직하게는 피리딜, 피리미디닐, 트리아지닐, 디벤조푸릴, 디벤조티에닐, 아자디벤조푸릴, 아자디벤조티에닐, 디아자디벤조푸릴, 디아자디벤조티에닐, 카르바졸릴, 아자카르바졸릴, 디아자카르바졸릴이다.
하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명을 구체적으로 제한하는 것으로 이해될 수 없다.
본 발명 중의 화합물 합성에 언급된 원료와 용매 등은 모두 Alfa, Acros 등 당업자가 익히 알고 있는 공급업체에서 구매하였다.
화합물 CPD001 합성
Figure pct00016
화합물 CPD001-1의 합성
화합물 4,4'-디브로모비페닐(18.00g, 57.69mmol), 시클로펜텐-1-일보론산(16.14g, 144.23mmol), 비스(4-디메틸아미노페닐)디-tert-부틸포스핀 팔라듐 디클로라이드(0.41g, 0.57mmol), 탄산칼륨(31.89g, 230.77mmol), 테트라히드로푸란(270ml) 및 탈이온수(90ml)를 1000ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 질소를 4회 치환한 후, 온도를 60℃로 올려 밤새 반응시켰다. TLC(n-헥산은 현상제)로 원료 4,4'-디브로모비페닐의 소모가 완료되는 것을 모니터링하였다.
계를 실온으로 냉각시키고, 탈이온수(100ml) 및 메탄올(200ml)을 첨가하고, 실온에서 2시간 동안 교반하고, 흡인 여과하고, 고체를 메탄올 및 물로 세척하고, 90℃에서 밤새 베이킹하여 회색 고체 화합물 CPD001-1(16.18g, 순도: 99.99%, 수율: 97.94%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 287.26(M+H).
화합물 CPD001-2의 합성
화합물 CPD001-1(28.23g, 98.56mmol)과 테트라히드로푸란(1400ml)을 2000ml 4구 둥근 바닥 플라스크에 넣은 후, 10% 질량분율의 팔라듐탄소(5.65g)를 넣고, 수소를 4회 치환한 후 실온에서 교반하여 밤새 반응시켰다. 모든 흰색 고체가 용해되면 원료 CPD001-1 소모가 완료되므로 반응을 중지시킨다.
반응액을 200 내지 300 메쉬 실리카겔을 통해 직접 여과하고, 필터 케이크가 명백한 형광을 나타내지 않을 때까지 디클로로메탄으로 세척한 다음, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(200 내지 300 메쉬 실리카겔, 용출제는 석유 에테르)를 수행하고, 용출 후 흰색 고체 화합물 CPD001-2(27.42g, 순도: 99.99%, 수율: 95.77%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 291.37(M+H).
화합물 CPD001-3의 합성
CPD001-2(25.00g, 86.07mmol) 및 디클로로메탄(450ml)을 1000ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 넣은 다음, 계를 -8℃로 냉각하고 요오드(1.09g, 4.30mmol)를 넣는다. 브롬(16.47g, 103.29mmol)을 디클로로메탄(120ml)에 용해시킨 후 반응계에 천천히 점적한 다음 -8℃에서 5시간 동안 보온하고 TLC(n-헥산은 현상제)로 원료 CPD001-2 소모가 완료되는 것을 모니터링하고 반응을 중지시켰다.
요오드화칼륨 전분 시험지가 청색이 되지 않을 때까지 포화 티오황산나트륨 수용액을 점적하여 반응을 소광시키고, 포화 중탄산나트륨 수용액을 첨가하여 계의 pH를 8로 조정하고, 액을 분리하며, 유기상은 탈이온수로 세척하고(3*100ml), 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(200-300 메쉬 실리카겔, 석유 에테르는 용출제)를 수행하고, 용출한 후 농축하여 황색 유상 액체 화합물 CPD001-3(31.31g, 순도 99%, 수율: 98.5%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 369.15(M+H).
화합물 CPD001-4의 합성
CPD001-3(25.00g, 67.69mmol), 건조 테트라히드로푸란(375ml)을 1000ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 질소를 4회 교체한 다음, -78℃로 냉각시키고, 2.5mol/l n-부틸리튬의 n-헥산 용액(35.20ml, 87.99mmol)을 점적하고, 1시간 후에 점적을 완료하며, -78℃에서 1시간 동안 보온시켰다. 계를 -50℃까지 승온시키면 계가 투명한 액체가 되고, 곧바로 2-브로모플루오레논 고체(21.05g, 81.23mmol)를 첨가하며, 계를 -30℃로 승온시키면 적갈색으로 변하고, 다시 천천히 상온으로 승온시켜 밤새 교반하였다. TLC(에틸 아세테이트:n-헥산=1:50은 현상제)로 반응을 모니터링하였고, 원료 CPD001-3 및 2-브로모플루오레논이 모두 소모되었다.
포화 염화암모늄 수용액(200ml)을 넣어 반응을 소광시키고 상온으로 승온시킨 후 농축하여 테트라히드로푸란을 제거하고, 디클로로메탄(500ml)과 탈이온수(300ml)를 첨가하고, 추출 및 분액한 후, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 정제를 수행하고(200 내지 300메쉬 실리카겔, 테트라히드로푸란:석유 에테르=1:20은 용출제), 농축하여 회백색 고체 화합물 CPD001-4(22.85g, 순도: 99%, 수율: 61.43%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 547.27(M-H).
화합물 CPD001-5의 합성
CPD001-4(14.70g, 25.94mmol), 아세트산(160ml) 및 36 내지 38% 진한 염산(16ml)을 250ml 1구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 90℃로 가열하여 2시간 동안 교반하고, TLC(에틸 아세테이트:석유 에테르=1:40은 현상제)로 원료 CPD001-4의 소모가 완료되었음을 모니터링하였다.
60℃로 냉각하고, 에탄올(160ml)을 첨가하며, 흡입 여과하고, 필터 케이크를 에탄올로 헹구어 14.35g 회백색 고체를 수득하였다. 톨루엔(70ml)을 넣고 100℃로 가열하여 용해시킨 후 60℃로 식힌 다음 메탄올(110ml)을 점적하고, 실온으로 식힌 후 2시간 동안 교반하여 흡인 여과하고, 건조시켜 회백색 고체 화합물 CPD001-5(13.60g, 순도: 99.88%, 수율: 70.02%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 531.27(M+H).
화합물 CPD001의 합성
CPD001-5(7.65g, 14.39mmol), N-[1,1'-비페닐]-2-일-9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-아민(5.40g, 14.97mmol), 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐(0.04g, 0.43mmol), 소듐 tert-부톡시드(2.07g, 21.59mmol) 및 건조 톨루엔(115ml)을 250ml 1구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 실온에서 교반하면서 질소를 4회 치환한 다음, 질소 보호 하에 50% 트리-tert-부틸포스핀의 크실렌 용액(0.35g, 0.86mmol)을 첨가하고, 이어서 온도를 110℃로 올려 2시간 동안 반응시키고, TLC(톨루엔:석유 에테르=1:7은 현상제)로 반응을 모니터링하였으며, 원료 CPD001-5 소모가 완료되었다.
상온으로 식힌 후, 톨루엔(250ml)과 탈이온수(150ml)를 넣고 분액 추출하여 농축시키고, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 정제를 수행하며(200 내지 300 메쉬 실리카겔, 톨루엔:석유 에테르=1:20은 용출제), 용출 후 농축하여 백색 고체 CPD001(10.31g, 순도: 99.78%, 수율: 88.19%)을 수득하였다. 10.31g CPD001 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD001(8.8g, 순도: 99.94%, 수율: 85.35%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 834.01(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.72(d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.60 (d, J=8.3 Hz, 1H), 7.56 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.50 (d, J= 7.3 Hz, 1H), 7.35-7.26 (m, 6H), 7.24-7.15 (m, 7H), 7.03-6.97 (m, 4H), 6.88 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 6.76 (s, 1H), 6.65 (d, J =7.6 Hz, 1H), 6.60 (m, 4H), 2.93-2.85 (m, 2H), 2.00 (m, 4H), 1.78 (m, 4H), 1.67-1.64(m, 4H), 1.52 (m, 4H), 1.00 (s, 6H).
화합물 CPD003 합성
Figure pct00017
화합물 CPD003-1의 합성
4,4'-디브로모비페닐(20g, 64.10mmol), 건조된 테트라히드로푸란(300ml)을 1000ml의 3구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 질소를 4회 교체한 다음, 액체 질소를 사용해 온도를 -78℃로 식히고, 2.5mol/l n-부틸리튬의 n-헥산 용액(64.10ml, 160.25mmol)을 점적하고, 1시간 후에 점적을 완료하며, -78℃로 보온하여 1시간 동안 반응시켰다. 시클로펜타논(13.48g, 160.25mmol)을 직접 투입하여 15분 동안 점적을 완료하고, TLC 모니터링(에틸 아세테이트:석유에테르=1:5)을 1시간 동안 수행하며, 원료 4,4'-디브로모비페닐 소모가 완료되면 대부분의 CPD003-1이 생성된다.
-78℃를 유지하며 포화 염화암모늄 수용액(200ml)을 넣어 반응을 소광시키고 상온으로 승온시킨 후 농축하여 테트라히드로푸란을 제거하고, 디클로로메탄(500ml)과 탈이온수(300ml)를 첨가하고, 추출 및 분액한 후, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 정제를 수행하고(200 내지 300메쉬 실리카겔, 아세테이트:석유 에테르=1:40은 용출제), 농축하여 백색 고체 화합물 CPD003-1(13.44g, 순도: 99.5%, 수율: 65.00%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 323.08(M+H).
화합물 CPD003-2의 합성
건조된 500ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 사염화티타늄(23.65, 124.67mmol), 건조된 디클로로메탄(200ml)을 넣고, 질소를 4회 치환한 후, 교반하면서 계를 0℃로 식힌 다음 2mol/l 디메틸 아연의 톨루엔 용액(11.90g, 124.67mmol)을 점적하고, 20분 동안 점적을 완료하고, 0℃를 유지하며 30분 동안 반응시켰다.
건조된 디클로로메탄(268ml)으로 CPD003-1(13.40g, 41.56mmol)을 용해시킨 후, 상기 0℃의 계에 점적하고, 30분 동안 점적을 완료하며, 자연적으로 상온으로 승온시켜 밤새 교반하고, TLC(에틸 아세테이트:석유 에테르=1:9) 원료 CPD003-1 소모가 완료된 것을 모니터링하였다.
계를 0℃로 낮추고, 탈이온수(100ml)를 첨가하여 반응을 소광시키며, 분액하여 유기상은 탈이온 세척하고(3*150ml), 실리카겔 컬럼 크로마토그래피를 수행하며(200 내지 300 메쉬 실리카겔, 석유 에테르를 용출제), 용출 후 농축시켜 흰색 고체 화합물 CPD003-2(9.58g, 순도: 99.9%, 수율: 72.38%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 319.54(M+H).
화합물 CPD003-3의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD003-3(20.87g, 순도: 99.20%, 수율: 78.05%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 397.84(M+H).
화합물 CPD003-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD003-4(17.50g, 순도: 99.10%, 수율: 68.01%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 575.19(M-H).
화합물 CPD003-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD003-5(15.30g, 순도: 99.75%, 수율: 75.05%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 559.23(M+H).
화합물 CPD003의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD003(11.80g, 순도: 99.90%, 수율: 83.20%)을 수득할 수 있다. 11.8g CPD003 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD003(9.20g, 순도: 99.94%, 수율: 77.96%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 862.55(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.71(d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.58 (d, J=8.2 Hz, 1H), 7.53 (d, J= 7.7 Hz, 2H), 7.48-7.41 (m, 1H), 7.34-7.26 (m, 6H), 7.23-7.12 (m, 6H), 7.00-6.90 (m, 6H), 6.80-6.66 (m, 6H), 2.04 (m, 4H), 1.76(m, 4H), 1.68-1.66(m, 4H), 1.54 (m, 4H), 1.35(s, 6H), 1.02 (s, 6H).
화합물 CPD005 합성
Figure pct00018
화합물 CPD005-1의 합성
CPD001-2(50g, 172.14mmol), 듀테륨화 디메틸설폭시드(250ml), 포타슘 tert-부톡시드(57.95g, 516.44mmol)를 500ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 질소를 4회 치환한 다음, 온도를 90℃로 올려 24시간 동안 반응시키고, NMR 및 질량 분석법으로 벤질 듀테륨화 비율이 99% 이상인지 모니터링하고 가열을 중지하였다.
계에 탈이온수(500ml)를 첨가하고, 고체를 석출하여 흡인 여과하고, 탈이온수(300ml)를 사용하여 필터 케이크를 세척하고, 80℃에서 건조하여 흰색 고체 CPD005-1(45.91g, 순도: 99.9%, 듀테륨화 비율: 99%, 수율: 91.20%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 293.43(M+H).
화합물 CPD005-2의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD005-2(43.72g, 순도: 99.42%, 수율: 75.05%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 371.23(M+H).
화합물 CPD005-3의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD005-3(42.59g, 순도: 99.12%, 수율: 65.61%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 549.26(M-H).
화합물 CPD005-4의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD005-4(40.11g, 순도: 99.76%, 수율: 75.17%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 533.28(M+H).
화합물 CPD005의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD005(32.12g, 순도: 99.92%, 수율: 83.20%)를 수득할 수 있다. 32.12g CPD005 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD005(24.16g, 순도: 99.95%, 듀테륨화 비율 99% 이상, 수율: 75.23%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 836.15(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.67-7.42 (m, 2H), 7.58 (d, J=7.4 Hz, 1H), 7.54-7.47 (m, 4H), 7.36-7.27 (m, 1H), 7.24-7.13 (m, 2H), 7.04-6.94 (m, 11H), 6.87-6.76 (m, 5H) , 6.72-6.62 (m, 3H), 2.00 (m, 4H), 1.77 (m, 4H), 1.67-1.63 (m, 4H), 1.52 (m, 4H), 1.01 (s, 6H).
화합물 CPD007 합성
Figure pct00019
화합물 CPD007-1의 합성
화합물 CPD001-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD007-1(45.83g, 순도: 99.83%, 수율: 93.31%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 315.23(M+H).
화합물 CPD007-2의 합성
화합물 CPD001-2의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD007-2(44.14g, 순도: 99.9%, 수율: 95.11%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 319.49(M+H).
화합물 CPD007-3의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD007-3(53.70g, 순도: 99.30%, 수율: 97.52%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 397.28(M+H).
화합물 CPD007-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD007-4(47.33g, 순도: 99.00%, 수율: 62.82%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 575.21(M-H).
화합물 CPD007-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD007-5(31.43g, 순도: 99.9%, 수율: 68.56%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 560.57(M+H).
화합물 CPD007의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD007(37.22g, 순도: 99.91%, 수율: 78.88%)을 수득할 수 있다. 37.22g CPD007 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD007(29.85g, 순도: 99.98%, 수율: 80.20%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 863.07(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.71-7.58 (m, 2H), 7.55 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.50 (d, J= 7.3 Hz, 1H), 7.35-7.26 (m, 6H), 7.24-7.15 (m, 6H), 7.03-6.88 (m, 6H), 6.76-6.60 (m, 6H), 2.67-2.6(m,2H), 1.97-1.81 (m, 8H), 1.68-1.55 (m, 12H), 1.03 (s, 6H).
화합물 CPD008의 합성
Figure pct00020
화합물 CPD008-1의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD008-1(26.23g, 순도: 98.1%, 수율: 65.10%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 497.28(M-H).
화합물 CPD008-2의 합성:
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD008-2(18.02g, 순도: 99.57%, 수율: 68.73%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 560.58(M+H).
화합물 CPD008의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD008(21.90g, 순도: 99.97%, 수율: 80.97%)을 수득할 수 있다. 21.90g CPD008 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD008(16.56g, 순도: 99.97%, 수율: 75.63%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 863.07(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.71-7.68 (m, 2H), 7.52-7.51(m, 2H), 7.49-7.48 (m, 2H), 7.24-7.13 (m, 4H), 7.06-6.94 (m, 9H), 6.91-6.80 (m, 6H), 6.77-6.60 (m, 4H), 2.68-2.57(m,2H), 1.92- 1.78 (m, 8H), 1.70-1.60 (m, 12H), 1.04 (s, 6H).
화합물 CPD019의 합성
Figure pct00021
화합물 CPD019-1의 합성
화합물 CPD001-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD019-1(38.52g, 순도: 99.75%, 수율: 92.81%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 371.38(M+H).
화합물 CPD019-2의 합성
화합물 CPD001-2의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD019-2(33.79g, 순도: 99.91%, 수율: 93.34%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 375.31(M+H).
화합물 CPD019-3의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD019-3(36.82g, 순도: 99.14%, 수율: 90.01%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 453.43(M+H).
화합물 CPD019-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD019-4(31.26g, 순도: 99.00%, 수율: 60.76%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 631.74(M-H).
화합물 CPD019-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD019-5(19.90g, 순도: 99.91%, 수율: 65.55%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 615.25(M+H).
화합물 CPD019의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD019(24.15g, 순도: 99.93%, 수율: 83.37%)를 수득할 수 있다. 24.15g CPD019 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD019(18.96g, 순도: 99.96%, 수율: 78.53%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 919.05(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.72-7.58 (m, 2H), 7.55-7.51 (m, 3H), 7.36-7.27 (m, 6H), 7.25-7.16 (m, 6H), 7.03-6.98 (m, 6H), 6.86-6.70 (m, 6H), 2.80-2.73(m,2H), 1.96-1.82 (m, 8H), 1.65-1.60 (m, 8H), 1.10(s, 12H), 1.03 (s, 6H).
화합물 CPD039의 합성
Figure pct00022
화합물 CPD039-1의 합성
화합물 CPD003-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD039-1(21.22g, 순도: 99.31%, 수율: 68.01%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 487.25(M+H).
화합물 CPD039-2의 합성
화합물 CPD003-2의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD039-2(15.79g, 순도: 99.80%, 수율: 75.13%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 483.28(M+H).
화합물 CPD039-3의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD039-3(17.46g, 순도: 99.23%, 수율: 95.42%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 561.63(M+H).
화합물 CPD039-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD039-4(15.07g, 순도: 98.90%, 수율: 65.35%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 739.35(M-H).
화합물 CPD039-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD039-5(11.04g, 순도: 99.61%, 수율: 75.07%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 723.25(M+H).
화합물 CPD039의 합성:
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD039(13.58g, 순도: 99.96%, 수율: 88.65%)를 수득할 수 있다. 13.58g CPD039 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD039(10.21g, 순도: 99.96%, 수율: 75.22%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 1026.86(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.70(d, J = 7.56 Hz, 1H), 7.57 (d, J=8.3 Hz, 1H), 7.53-7.42 (m, 3H), 7.35-7.24 (m, 6H), 7.23-7.12 (m, 6H), 7.00-6.90 (m, 8H), 6.80-6.66 (m, 4H), 2.08(s, 6H), 1.83(m, 16H), 1.65(m, 4H), 1.52-1.5(m, 10H), 1.50-41.42(m, 6H), 1.04 (s, 6H).
화합물 CPD049의 합성
Figure pct00023
화합물 CPD049-1의 합성
3-브로모디벤조푸란(40.00g, 161.88mmol), o-아미노비페닐(32.87g, 194.26mmol), 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐(1.48g, 1.62mmol), 소듐 tert-부톡시드(23.34g, 242.88mmol), 건조 톨루엔( 400ml)을 1000ml 1구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 상온에서 교반하며 질소를 4회 치환한 후, 질소 보호 하에서 50% 트리-tert-부틸포스핀의 크실렌 용액(1.31g, 3.24mmol)을 첨가하고, 이어서 온도를 90℃로 올리고 1시간 동안 반응시키며, TLC(에틸 아세테이트:석유 에테르=1:8은 현상제)로 반응을 모니터링하여, 원료 3-브로모디벤조푸란이 완전히 소모되었다.
상온으로 온도를 강하시킨 후, 탈이온수를 넣어 세척하고(3*150ml), 분액 및 농축하여, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 정제를 수행하며(200 내지 300 메쉬 실리카겔, 에틸 아세테이트:석유 에테르=1:20는 용출제), 용출 후 농축하여 백색 고체 CPD049-1(48.98g, 순도: 99.56%, 수율: 90.21%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 336.42(M+H).
화합물 CPD049의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD049(31.65g, 순도: 99.97%, 수율: 82.33%)를 수득할 수 있다. 31.65g CPD049 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD049(23.00g, 순도: 99.98%, 수율: 72.67%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 809.13(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.93(d, J= 7.86 Hz, 2H), 7.75-7.72(m, 2H), 7.68-7.53 (m, 4H), 7.37-7.22 (m, 6H), 7.20-7.12 (m, 8H), 7.03-6.97 (m, 4H), 6.75(m, 3H), 3.10-2.93 (m, 2H), 2.10 (m, 4H), 1.78 (m, 4H), 1.68 (m, 4H), 1.52 (m, 4H).
화합물 CPD061의 합성
Figure pct00024
화합물 CPD061-1의 합성
4-디벤조푸란보론산(30.00g, 141.50mmol), p-브로모요오도벤젠(48.04g, 169.80mmol), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(8.18g, 7.08mmol), 탄산나트륨(29.99g, 283.00mmol), 탈이온수(141ml), 테트라히드로푸란(500ml)을 1000ml 1구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 상온에서 교반하면서 질소로 4회 치환한 후, 60℃에서 밤새 반응시키고, TLC(에틸 아세테이트:석유 에테르=1:20은 현상제)로 반응을 모니터링하며, 원료 4-디벤조푸란보론산이 완전히 소모되었다.
상온으로 온도를 강하시키고, 탈이온수를 넣어 세척하고(3*120ml), 분액 및 농축하여, 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 정제를 수행하며(200 내지 300 메쉬 실리카겔, 에틸 아세테이트:석유 에테르=1:50는 용출제), 용출 후 농축하여 백색 고체 CPD061-1(32.01g, 순도: 99.51%, 수율: 70.00%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 323.02(M+H).
화합물 CPD061-2의 합성
화합물 CPD049-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD061-2(34.77g, 순도: 99.70%, 수율: 85.54%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 411.19(M+H).
화합물 CPD061의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD061(31.20g, 순도: 99.93%, 수율: 81.73%)을 수득할 수 있다. 31.20g CPD061 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD061(23.62g, 순도: 99.93%, 수율: 75.72%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 884.56(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.02(d, J= 7.86 Hz, 2H), 7.86-7.72(m, 2H), 7.63-7.42 (m, 8H), 7.37-7.22 (m, 6H), 7.20-7.12 (m, 6H), 7.03-6.97 (m, 6H), 6.75 (m, 3H), 3.15-3.02 (m, 2H), 2.21 (m, 4H), 1.88 (m, 4H), 1.78 (m, 4H), 1.62 (m, 4H).
화합물 CPD073의 합성
Figure pct00025
화합물 CPD073-2의 합성:
화합물 CPD049-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD073-2(22.70g, 순도: 99.63%, 수율: 83.45%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 335.45(M+H).
화합물 CPD073의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD073(27.98g, 순도: 99.94%, 수율: 85.14%)을 수득할 수 있다. 27.98g CPD073 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD073(20.22g, 순도: 99.95%, 수율: 72.27%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 808.05(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.14(d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.79(m, 2H), 7.50-7.46 (m, 8H), 7.28 (m, 2H), 7.17-7.09 (m, 6H), 7.03-6.94 (m, 6H), 6.74(m, 4H),2.90-3.87 (m, 2H), 2.32-1.98 (m, 8H), 1.86-1.62 (m, 8H).
화합물 CPD097의 합성
Figure pct00026
화합물 CPD097-2의 합성
비페닐(20.00g, 129.69mmol), 무수염화제이철(2.10g, 12.97mmol), 디클로로메탄(200ml)을 2000ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 넣고, 상온에서 교반한 후, 디클로로메탄(580ml)을 사용해 1-브로모아다만탄(58.59g, 272.35mmol)을 용해시켜 상기 반응계에 점적하고, 45분 동안 점적을 완료하며, 상온을 유지하며 밤새 계속 교반하고, TLC(석유 에테르는 현상제)로 반응을 모니터링하였으며, 원료 비페닐 소모가 완료되었다.
탈이온수를 넣어 세척(3*300ml)하고 분액 및 추출하고 농축하여 실리카겔 컬럼 크로마토그래피 정제를 수행하며(200 내지 300메쉬 실리카겔, 석유 에테르=1:20는 용출제), 용출 후 농축하여 CPD097-2(44.05g, 순도: 99.73%, 수율: 80.37%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 423.21(M+H).
화합물 CPD097-3의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD097-3(46.18g, 순도: 99.18%, 수율: 88.35%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 501.52(M+H).
화합물 CPD097-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD097-4(39.81g, 순도: 99.3%, 수율: 63.42%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 679.26(M-H).
화합물 CPD097-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD097-5(30.23g, 순도: 99.72%, 수율: 78.00%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 663.15(M+H).
화합물 CPD097의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD097(21.76g, 순도: 99.93%, 수율: 76.46%)을 수득할 수 있다. 21.76g CPD097 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD097(14.97g, 순도: 99.94%, 수율: 68.83%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 967.24(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ7.73(d, J = 7.7 Hz, 2H), 7.69-7.60 (m, 3H), 7.48 (m, 2H), 7.32-7.19 (m, 6H), 7.18-6.93 (m, 10H),6.88-6.63 (m, 6H), 1.81-1.78 (m, 15H), 1.51-1.48 (m, 15H), 1.03(s, 6H).
화합물 CPD106의 합성
Figure pct00027
화합물 CPD106-1의 합성
화합물 CPD049-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD106-1(37.32g, 순도: 99.70%, 수율: 90.21%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 322.24(M+H).
화합물 CPD106-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD106-4(17.67g, 순도: 99.45%, 수율: 65.00%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 679.26(M-H).
화합물 CPD106-5의 합성:
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD106-5(12.96g, 순도: 99.80%, 수율: 75.35%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 663.15(M+H).
화합물 CPD106의 합성:
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD106(27.59g, 순도: 99.95%, 수율: 78.25%)을 수득할 수 있다. 27.596g CPD106 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD106(19.13g, 순도: 99.95%, 수율: 69.37%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 926.78(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.75(m, 4H), 7.19-6.99(m, 11H), 6.91-6.78 (m, 10H), 6.72 (m, 6H), 1.83-1.78 (m, 15H), 1.54-1.50 (m, 15H).
화합물 CPD117의 합성
Figure pct00028
화합물 CPD117-1의 합성
화합물 CPD001-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD117-1(19.89g, 순도: 99.33%, 수율: 85.51%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 291.23(M+H).
화합물 CPD117-2의 합성
화합물 CPD001-2의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD117-2(19.49g, 순도: 99.85%, 수율: 96.63%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 295.17(M+H).
화합물 CPD117-3의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD117-3(23.54g, 순도: 99.01%, 수율: 95.25%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 373.06(M+H).
화합물 CPD117-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD117-4(23.83g, 순도: 99.13%, 수율: 68.26%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 551.50(M-H).
화합물 CPD117-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD117-5(16.95g, 순도: 99.87%, 수율: 73.53%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 535.21(M+H).
화합물 CPD117의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD117(18.01g, 순도: 99.97%, 수율: 78.80%)을 수득할 수 있다. 18.01g CPD117 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD117(11.84g, 순도: 99.97%, 수율: 65.75%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 839.01(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.71(d, J = 7.62 Hz, 1H), 7.58 (d, J=8.33 Hz, 1H), 7.56 (d, J= 7.9 Hz, 2H), 7.51-7.25 (m, 7H), 7.24-7.15 (m, 6H), 7.03-6.97 (m, 5H), 6.88-6.65 (m, 3H), 6.62 (m, 4H), 3.80(m, 4H), 3.77(m, 4H), 2.93-2.85 (m, 2H), 1.94-1.72 (m, 4H), 1.00 (s, 6H).
화합물 CPD123의 합성
Figure pct00029
화합물 CPD123-1의 합성
화합물 CPD001-1의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD123-1(22.10g, 순도: 99.42%, 수율: 90.21%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 319.25(M+H).
화합물 CPD123-2의 합성
화합물 CPD001-2의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD123-2(20.97g, 순도: 99.91%, 수율: 93.71%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 323.25(M+H).
화합물 CPD123-3의 합성
화합물 CPD001-3의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD123-3(24.42g, 순도: 99.16%, 수율: 93.55%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 401.01(M+H).
화합물 CPD123-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD123-4(22.76g, 순도: 99.00%, 수율: 64.33%)을 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 579.26(M-H).
화합물 CPD123-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD123-5(15.58g, 순도: 99.78%, 수율: 70.62%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 563.36(M+H).
화합물 CPD123의 합성:
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD123(19.27g, 순도: 99.92%, 수율: 82.56%)을 수득할 수 있다. 19.27g CPD123 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD123(13.57g, 순도: 99.92%, 수율: 70.44%)을 수득하였다. 질량 스펙트럼: 867.33(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.72(d, J = 7.61 Hz, 1H), 7.57 (d, J=8.32 Hz, 1H), 7.55 (m, 3H), 7.50-7.24 (m, 7H), 7.23-7.14 (m, 6H), 7.03-6.97 (m, 5H), 6.86-6.62 (m, 6H), 3.74(m, 8H), 2.93-2.85 (m, 2H), 2.48-2.11 (m, 8H), 1.01 (s, 6H).
화합물 CPD124의 합성
Figure pct00030
화합물 CPD124-4의 합성
화합물 CPD001-4의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD124-4(23.37g, 순도: 99.10%, 수율: 65.73%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 579.26(M-H).
화합물 CPD124-5의 합성
화합물 CPD001-5의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 표적 화합물 CPD124-5(16.60g, 순도: 99.78%, 수율: 73.30%)를 수득할 수 있다. 질량 스펙트럼: 563.36(M+H).
화합물 CPD124의 합성
화합물 CPD001의 합성 및 정제 방법을 참조하며, 대응하는 원료만 변경하면 백색 고체 표적 화합물 CPD124(20.16g, 순도: 99.93%, 수율: 81.07%)를 수득할 수 있다. 20.16g CPD124 조 생성물을 승화 정제한 후 승화된 순수 CPD124(14.60g, 순도: 99.93%, 수율: 72.43%)를 수득하였다. 질량 스펙트럼: 867.33(M+Na).
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.71-7.68 (m, 2H), 7.52-7.51(m, 2H), 7.49-7.48 (m, 2H), 7.24-7.13 (m, 4H), 7.06-6.94 (m, 9H), 6.91-6.80 (m, 6H), 6.77-6.60 (m, 4H), 3.74(m, 8H), 2.93-2.85 (m, 2H), 2.48-2.11 (m, 8H), 1.01 (s, 6H).
응용예: 유기 전계 발광 소자의 제작
50mm*50mm*1.0mm이고 ITO(100nm) 투명 전극을 가진 유리 기판을 에탄올에서 10분 동안 초음파 세척한 다음 150도에서 건조한 후 30분 동안 N2 플라즈마 처리를 수행한다. 세척한 유리 기판을 진공 증착 장치의 기판 홀더 상에 장착한다. 먼저 다시 투명 전극선 일측이 있는 면 상에 투명 전극 코팅 방식에 따라 화합물 HATCN을 증착하여, 막 두께가 5nm인 박막을 형성하고, 이어서 한 층의 HTM1를 증착하여 60nm 두께의 박막을 HTL1으로 형성한 후, HTM1 박막 상에 한 층의 HTM2를 증착하여 두께가 10nm인 박막을 HTL2로 형성한다. 그 다음 HTM2 막층 상에 다시 공증착의 모드를 채택하여 호스트 재료와 도핑 재료(도핑 비율은 2%)를 증착하며, 막 두께는 25nm이고, 호스트 재료와 도핑 재료 비율은 90%:10%이다. 발광층 상에서 다시 순차적으로 아래 표의 매칭에 따라 정공 차단층 재료로 HBL(5nm), 전자 수송 재료로 ETL(30nm)을 증착하고, 이어서 전자 수송 재료층 상에 전자 주입 재료로 LiQ(1nm)를 증착한다. 이어서 공증착의 모드를 채택하여 Mg/Ag(100nm, 1:9)를 음극 재료로 사용하여 증착한다.
Figure pct00031
평가:
상기 소자에 대한 소자 성능 시험을 실시하였으며, 본 발명 중 실시예 화합물과 비교예 1 내지 3을 각각 HTL층으로 비교하였으며, 정전류 전원(Keithley 2400)을 사용하고, 고정된 전류 밀도가 발광 소자를 흐르게 하고, 분광 방사 시스템(CS 2000)을 사용하여 발광 파장 스펙트럼을 테스트하였다. 동시에 전압값과 테스트 휘도가 초기 휘도(LT90)의 90%가 되는 시간을 측정하였다. 결과는 표 1과 같다.
Figure pct00032
승화 온도 비교: 승화 온도는 진공도 10-7 Torr에서 초당 1옹스트롬의 증착 속도에 대응하는 온도로 정의된다. 테스트 결과는 하기와 같다.
Figure pct00033
상기 표의 데이터를 비교하면 본 발명의 정공 수송 재료는 승화 온도가 비교적 낮아 산업적 응용에 유리함을 알 수 있다.
캐리어 횡방향 이동도 비교:
50mm*50mm*1.0mm 유리 기판을 양단에 ITO(100nm) 투명 전극과 Mg/Ag(100nm, 1:9) 음극재가 있고 중간에 5mm*5mm mm의 홈이 있도록 개조하고, 에탄올에서 10분간 초음파 세척 후 150도에서 건조한 다음 N2 Plasma로 30분간 처리하였다. 세척된 유리기판을 진공 증착 장치의 기판 지지대 상에 설치하고, 먼저 투명 전극 일측면 상에 투명 전극을 덮는 방식으로 막 두께 10nm의 HTL1층(3%의 HATCN를 각각 CPD001, 비교 1-3 화합물, HTM1에 도핑)을 증착한 다음, 막 두께 100nm의 HTL2층(각각 CPD001, 비교 1-3 화합물, HTM1)을 증착하며, 패키징 후 이의 전압-전류 곡선을 테스트하여, 횡방향 투과 전류 데이터를 획득하였다. 전압이 20v로 점진 증가함에 따라, CPD001 횡방향 누화 전류가 가장 작아 2.96×10-5mA에 불과하여, 비교 화합물 1-3 및 HTM1보다 우수하므로, 캐리어 횡방향 이동도가 작으면 비교적 우수한 낮은 그레이스케일 색순도에 도움이 되는 것을 관찰할 수 있다.
Figure pct00034
본 발명의 재료는 높은 광학적 및 전기적 안정성, 낮은 승화 온도, 낮은 구동 전압, 작은 캐리어 횡방향 이동도, 높은 발광 효율, 긴 소자 수명 등의 장점을 가지며, 유기 전계 발광 소자에 사용될 수 있다. 특히 정공 주입, 수송류 재료로서 AMOLED 산업에서 응용 가능성이 높다.

Claims (14)

  1. 스피로 고리 화합물에 있어서,
    식 (1)의 구조를 갖고,
    Figure pct00035

    여기에서, R1-R10은 독립적으로 수소, 듀테륨, 할로겐, 시아노, 히드록실, 머캅토, 아민, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 트리 C1-C10 알킬실릴, 치환 또는 비치환된 트리 C6-C12 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 디 C1-C10 알킬 C6-C30 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬 디 C6-C30 아릴실릴로부터 선택되거나, R1-R8, R9, R10의 두 인접한 기 사이는 서로 연결되어 지방족 고리 또는 방향족 고리 형태 구조를 형성할 수 있고;
    여기에서, 상기 R1-R8 중 적어도 2개는 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬이고;
    여기에서, L은 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴렌, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴렌으로부터 선택되고;
    여기에서, Ar1 및 Ar2는 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴로부터 선택되고;
    여기에서, m, n, h, p는 독립적으로 0 또는 1-4의 정수로부터 선택되고, m+n=4, p+k=4이고, m, p는 동시에 0이 아니고;
    여기에서, 상기 헤테로알킬, 헤테로시클로알킬 및 헤테로아릴은 적어도 하나의 O, N 또는 S 헤테로원자를 포함하고;
    상기 치환은 듀테륨, F, Cl, Br, C6-C10 아릴, C1-C6 알킬, C3-C6 시클로알킬, C1-C6 알킬에 의해 치환된 아민, 시아노, 이소니트릴 또는 포스피노에 의한 치환이고, 여기에서 치환 수는 단일 치환 내지 최대 수 치환인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  2. 제1항에 있어서,
    m+p=1인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  3. 제2항에 있어서,
    이는 식 (2) 내지 식 (9)로 표시되는 구조이며,
    Figure pct00036

    여기에서, R2, R3, R4, R5, R6, R7은 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 헤테로시클로알킬이고; Ar1, Ar2, L의 정의는 전술한 바와 같은 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  4. 제3항에 있어서,
    이는 식 (2) 또는 식 (6)으로 표시되는 구조이며, R2와 R7은 같거나 다르고, Ar1과 Ar2는 같거나 다른 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  5. 제4항에 있어서,
    여기에서 식 (2) 내지 식 (9)에서 상기 L은 단일 결합인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  6. 제5항에 있어서,
    이는 식 (10) 내지 식 (11)로 표시되는 구조이고;
    Figure pct00037

    여기에서, X는 독립적으로 C(R0)2, O, S, NRO로부터 선택되고;
    여기에서, j는 독립적으로 0 또는 1 내지 7의 정수이고, j=0일 때, 형성된 고리는 3원 고리이고, j≥2일 때 각각의 X는 같거나 다르고;
    여기에서, R, R0 및 Ra-Rh는 독립적으로 수소, 듀테륨, 할로겐, 시아노, 히드록실, 머캅토, 아민, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2-C10 알키닐, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 트리 C1-C10 알킬실릴, 치환 또는 비치환된 트리 C6-C12 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 디 C1-C10 알킬 C6-C30 아릴실릴, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬 디 C6-C30 아릴실릴로부터 선택되거나, Ra, Rb, Rc 및 Rd의 4개 사이 및/또는 Re, Rf, Rg 및 Rh의 4개 사이 및/또는 복수의 R0 사이 및/또는 R과 기타 치환기 사이는 서로 연결되어 고리 형태 구조를 형성하고;
    상기 치환은 듀테륨, F, Cl, Br, C6-C10 아릴, C1-C6 알킬, C3-C6 시클로알킬, C1-C6 알킬에 의해 치환된 아민, 시아노, 이소니트릴 또는 포스피노에 의한 치환이고, 여기에서 치환 수는 단일 치환 내지 최대 수 치환인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  7. 제6항에 있어서,
    여기에서 R은 수소, 듀테륨, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬이고;
    R0 및 Ra-Rh는 독립적으로 수소, 듀테륨, 할로겐, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬, 치환 또는 비치환된 C1-C10 헤테로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬로부터 선택되거나, Ra, Rb, Rc, Rd의 4개 사이 및/또는 Re, Rf, Rg, Rh의 4개 사이 및/또는 복수의 R0 사이는 서로 연결되어 고리 형태 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  8. 제7항에 있어서,
    여기에서 j은 2 이상의 값인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  9. 제8항에 있어서,
    여기에서 2 이상의 X에서, 최대 1개는 O, S, NR0 중 하나인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  10. 제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    복수의 R0 사이 및/또는 R과 R0 사이는 서로 연결되어 고리 형태 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  11. 제10항에 있어서,
    R2는 R7과 동일하고, Ar1은 Ar2와 상이하며, Ar1과 Ar2는 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐, 비페닐, 나프틸, 플루오레닐, 디벤조푸릴 또는 카르바졸릴로부터 선택되고, 상기 치환은 듀테륨, F, Cl, Br, C6-C10 아릴, C1-C6 알킬, C3-C6 시클로알킬에 의한 치환인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
  12. 제1항에 잇어서,
    하기 구조식 중 하나, 또는 대응하는 부분 또는 완전 듀테륨화 또는 플루오르화인 것을 특징으로 하는 스피로 고리 화합물.
    Figure pct00038

    Figure pct00039

    Figure pct00040

    Figure pct00041

    Figure pct00042

    Figure pct00043

    Figure pct00044
  13. 유기 전계 발광 소자에서 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항의 스피로 고리 화합물의 응용.
  14. 제13항에 있어서,
    제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 스피로 고리 화합물을 유기 전계 발광 소자의 정공 주입층 및/또는 정공 수송층의 재료로 사용하는 응용.
KR1020237004177A 2021-07-01 2022-06-11 스피로 고리 화합물 및 이의 응용 KR20230041724A (ko)

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