KR20230031234A - 처리 스테이션, 처리 플랜트, 및 피가공물을 처리하기 위한 방법 - Google Patents
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Abstract
최적화된 피가공물 처리가 가능한, 피가공물(102)을 처리하는 디바이스 및 방법을 제공하기 위하여, 처리 스테이션(114)은 피가공물 처리를 위해 플러딩될 수 있는 처리 챔버(136)를 포함하도록 제안된다.
Description
본 발명은 피가공물 처리 분야에 관한 것으로, 특히 피가공물, 예를 들어 차체 또는 차량 부품을 세정 및 코팅하는 것에 관한 것이다.
처리를 위하여, 피가공물은 예를 들어 딥 탱크(dip tank)에 담겨질 수 있다. 이 경우, 피가공물은 예를 들어 딥 탱크 내로 내려지며 처리 단계 후에 딥 탱크에서 제거된다. 그렇게 함으로써, 접근하기 어려운 위치에서도 피가공물의 최적의 처리를 위한 피가공물의 회전이 또한 제공될 수 있다.
이러한 딥 처리 플랜트 설비에서, 상이한 크기 및/또는 형상의 피가공물이 처리되어야 하고 및/또는 다양한 피가공물에 대해 상이한 처리 기간이 제공되는 경우 이는 불리할 수 있다.
따라서 본 발명의 목적은 비용 효율적인 구성 요소를 사용함으로써 최적화된 피가공물 처리를 허용하는 디바이스 및 방법을 제공하는 것이다.
이 목적은 독립항에 따른 디바이스 및 방법에 의해 달성된다.
이 디바이스는 특히 피가공물을 처리하기 위한 처리 스테이션 또는 처리 플랜트이다.
처리 스테이션은 바람직하게는 피가공물을 수용하기 위한 처리 챔버를 둘러싸는 처리 컨테이너를 포함한다.
더욱이, 처리 스테이션이 여러 개의 이러한 처리 컨테이너를 포함하는 것이 제공될 수 있다.
처리 챔버가 유체로 플러딩될 수 있도록 하는 것이 바람직하게는 제공된다.
유체는 특히 처리 유체, 예를 들어 -특히 피가공물을 탈지하기 위한- 세정 유체이다. 더욱이, 유체가 -예를 들어 피가공물을 인산염 처리 페인팅하기 위한- 코팅 유체인 것이 제공될 수 있다.
처리 컨테이너가 피가공물을 처리 챔버 내로 도입하기 위한 및/또는 피가공물을 처리 챔버로부터 배출시키기 위한 적어도 하나의 접근 개구를 포함하는 것이 제공될 수 있다.
처리 컨테이너는 바람직하게는 적어도 하나의 접근 개구를 선택적으로 폐쇄 및 개방시키기 위한 폐쇄 디바이스를 포함한다.
처리 컨테이너가 피가공물을 처리 챔버 내로 도입하기 위한 그리고 피가공물을 처리 챔버로부터 배출시키기 위한 단일 접근 개구를 포함하는 것이 제공될 수 있다.
대안적으로, 처리 컨테이너가 피가공물을 처리 챔버 내로 도입하기 위한 접근 개구 그리고 피가공물을 처리 챔버로부터 배출시키기 위한 추가 접근 개구를 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 접근 개구들은 그러면 특히 처리 컨테이너의 대향하는 측면들 또는 종단들 또는 전방 벽들에 배열된다.
적어도 하나의 접근 개구가 처리 컨테이너의 하나 이상의 측벽에, 특히 처리 컨테이너의 하나 이상의 전방 벽에 배열 및/또는 형성되는 경우 유리할 수 있다.
처리 컨테이너는 특히 실질적으로 직육면체이며 바람직하게는 예를 들어 폐쇄된 천장 벽, 최하부 벽, 2개 또는 3개의 폐쇄된 측벽, 및 적어도 하나의 접근 개구를 구비한 2개의 추가 또는 1개의 추가 측벽을 포함하며, 여기서 적어도 하나의 접근 개구는 바람직하게는 폐쇄 디바이스에 의해 완전히 폐쇄 가능하다.
폐쇄 디바이스가 적어도 하나의 접근 개구의 유체-기밀 폐쇄 역할을 한다면 유리할 수 있다.
이 목적을 위하여, 폐쇄 디바이스는 특히 폐쇄 요소를 포함하며, 이 폐쇄 요소는 예를 들어 자기-록킹형이며 자기-록킹 메커니즘 및/또는 자기-록킹 시일을 구비한다.
더욱이, 폐쇄 디바이스의 밀봉 효과를 보장하기 위하여 -특히 폐쇄 요소를 밀봉 디바이스 상으로 누르기 위하여- 적어도 하나의 토글 레버가 삽입되거나 삽입될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
폐쇄 디바이스가 폐쇄 디바이스의 폐쇄 요소를 상승 및 하강시키기 위한, 특히 폐쇄 요소를 개방 위치로 가져오기 위하여 폐쇄 요소를 상승시키기 위한 및/또는 폐쇄 요소를 폐쇄 위치로 가져오기 위하여 폐쇄 요소를 하강시키기 위한 리프팅 디바이스를 포함하는 경우 유리할 수 있다.
더욱이, 리프팅 디바이스에 의하여 폐쇄 요소가 폐쇄 요소를 개방 위치로 가져오기 위하여 하강될 수 있는 것 및/또는 폐쇄 요소를 폐쇄 위치로 가져오기 위하여 상승될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
이러한 폐쇄 요소는, 예를 들어 게이트, 특히 록 게이트(lock gate)일 수 있다.
폐쇄 요소는, 예를 들어 단일 부재로 형성될 수 있으며 전체적으로 이동 가능할 수 있다. 대안적으로, 폐쇄 요소가 여러 부분으로 형성되는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 폐쇄 요소의 부분들은 바람직하게는 접근 개구를 폐쇄 또는 개방하기 위해 서로 독립적으로 이동 가능하거나 서로 다른 이동을 수행할 수 있다.
대안적으로 또는 부가적으로, 폐쇄 요소를 개방 위치로 또는 폐쇄 위치로 선택적으로 가져가기 위하여 폐쇄 디바이스가 예를 들어 폐쇄 요소의 측방향 변위를 위한 푸싱 디바이스(pushing device)를 포함하는 것이 제공될 수 있다.
더욱이, 폐쇄 디바이스가 폐쇄 디바이스의 폐쇄 요소를 선회시키기 위한 선회 디바이스를 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 폐쇄 요소는 특히 적어도 대략적으로 수평인 선회 축을 중심으로 선회될 수 있다. 대안적으로, 폐쇄 요소가 적어도 대략적으로 수직인 선회 축을 중심으로 선회될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
하나 이상의 폐쇄 요소, 특히 적어도 하나의 폴딩(folding) 요소가 운반 디바이스의 하나 이상의 운반 요소, 특히 운반 디바이스의 안내 디바이스의 하나 이상의 안내 요소를 포함하거나 형성하는 경우 유리할 수 있다. 특히, 롤러 컨베이어로 설계된 운반 디바이스의 하나 이상의 롤러 요소가 하나 이상의 폐쇄 요소 상에 배열되는 것이 제공될 수 있다.
폐쇄 디바이스의 하나 이상의 폐쇄 요소가 운반 디바이스의 일부를 형성하거나 운반 디바이스의 일부를 옮기거나 수용하는 경우 유리할 수 있다.
폐쇄 디바이스는 바람직하게는 -특히 폐쇄 요소를 자동으로 개방 위치로 및/또는 폐쇄 위치로 가져가기 위하여- 폐쇄 디바이스의 폐쇄 요소를 자동으로 이동시키기 위한 폐쇄 구동부를 포함한다.
폐쇄 요소를 선택적으로 개방 위치로 또는 폐쇄 위치로 가져가기 위하여, 폐쇄 구동부는, 예를 들어 전기적으로 또는 공압식으로 또는 유압식으로 폐쇄 요소에 작용할 수 있다. 이 경우, 하나 이상의 전기 모터 및/또는 스핀들 기어 및/또는 스러스트 체인 및/또는 로프 윈치가, 예를 들어 폐쇄 요소를 이동시키기 위해 제공될 수 있다.
더욱이, 중력이 사용되어, 예를 들어 2개의 폐쇄 요소의 기계적 결합에 의해 폐쇄 요소를 이동시키는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 하나의 폐쇄 요소는 하강하고 추가 폐쇄 요소는 그에 의하여 상승되며, 그에 의하여 적어도 폐쇄 요소의 상승이 단순화된다.
처리 스테이션이 유체, 특히 처리 유체를 수용하기 위한 유체 탱크를 포함한다면 유리할 수 있다.
처리 챔버를 플러딩하기 위하여, 유체는 바람직하게는 유체 가이드에 의하여 유체 탱크로부터 처리 챔버로 도입될 수 있다.
처리 챔버를 비우기 위하여, 유체는 바람직하게는 유체 가이드에 의하여 처리 챔버로부터 다시 유체 탱크 내로 안내될 수 있다.
플러딩과 비움 모두를 위하여 처리 챔버와 유체 탱크 사이에 직접 연결이 제공될 수 있다. 대안적으로, 하나 이상의 중간 스테이션 또는 흐르게 될 다른 디바이스가 제공될 수 있다.
피가공물을 운반하기 위하여, 특히 피가공물을 처리 챔버로 도입하기 위하여, 및/또는 피가공물을 처리 챔버로부터 배출하기 위하여 및/또는 피가공물을 하나의 처리 스테이션에서 다음 처리 스테이션으로 운반하기 위하여 처리 스테이션은 바람직하게는 운반 디바이스를 포함한다
피가공물 운반 및/또는 이동시키기 위하여, 특히 피가공물을 처리 챔버 내로 도입하기 위하여 및/또는 피가공물을 처리 챔버로부터 배출하기 위하여 및/또는 피가공물을 하나의 처리 스테이션으로부터 다음 처리 스테이션으로 운반하기 위하여 운반 디바이스가 하나 이상의 롤러 컨베이어, 리프팅 컨베이어, 푸시 컨베이어 및/또는 저장 및 회수 디바이스를 포함한다면 유리할 수 있다.
대안적으로 또는 부가적으로, 피가공물을 운반 및/또는 이동시기 위하여, 특히 피가공물을 처리 챔버 내로 도입하기 위하여, 및/또는 처리 챔버로부터 피가공물을 배출하기 위하여, 및/또는 하나의 처리 스테이션으로부터 다음 처리 스테이션으로 피가공물을 운반하기 위하여 운반 디바이스가 하나 이상의 무인 이송 시스템을 포함하는 것이 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 운반 디바이스가 구동 디바이스에 관하여 및/또는 피가공물의 수용 및 안내에 관하여 서로 다른 컨베이어 기술을 갖는 여러 운반 디바이스 부분을 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 피가공물은 바람직하게는 제1 운반 디바이스 부분에 의하여 처리 스테이션의 처리 컨테이너의 앞의 영역으로 운반될 수 있고, 여기서 피가공물은 제1 운반 디바이스 부분과 다른 제2 운반 디바이스 부분에 의하여 처리 스테이션의 처리 챔버 내로 도입될 수 있다.
예를 들어, 피가공물을 운반하기 위한 하나 이상의 롤러 컨베이어가 처리 챔버 외부에 제공되는 것 그리고 피가공물이 하나 이상의 푸시 컨베이어에 의해 처리 챔버 내로 밀려지고 및/또는 처리 챔버 밖으로 당겨질 수 있는 것이 제공될 수 있다.
하나 이상의 피가공물이 피가공물 캐리어 상에 배열된다면 유리할 수 있다. 피가공물 캐리어는 특히 -바람직하게는 차체로서 설계된 피가공물을 수용하기 위한- 스키드(skid)이다.
피가공물의 운반 및/또는 이동은 그러면 바람직하게는 피가공물 캐리어와 함께 발생하며, 따라서 단어 선택 "피가공물의 운반" 또는 "피가공물의 이동"은 또한 위에 배열된 적어도 하나의 피가공물과 함께 적어도 하나의 피가공물 캐리어의 운반 또는 이동을 의미하는 것으로 이해될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 피가공물이 처리 플랜트의 전체 처리 유닛을 통해 피가공물 캐리어 상에 배열되고 특히 고정되는 것이 제공될 수 있다.
대안적으로, 피가공물이 피가공물 캐리어 없이 처리 플랜트의 전체 처리 유닛을 통해 운반되는 것이 제공될 수 있다. 피가공물은 그후 -특히 처리 챔버 내에서 - 이 목적을 위해 제공된 고정 피가공물로 이송될 수 있거나 그 위에 놓여질 수 있고 및/또는 그에 고정될 수 있다.
피가공물은 바람직하게는 운반 디바이스에 의해 수평 평면을 따라 이동될 수 있으며, 특히 처리 챔버 내로 도입될 수 있고 및/또는 처리 챔버로부터 배출될 수 있다.
특히, 피가공물이 운반 디바이스에 의해 이동될 수 있는 것이, 특히 처리 챔버 내로 도입될 수 있는 것이 및/또는 처리 챔버로부터 배출될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
운반 디바이스가 피가공물을 이동시키기 위한 하나 이상의 구동 유닛을 포함한다면 유리할 수 있으며, 여기서 적어도 처리 단계 (피가공물 처리)의 수행 동안, 구동 유닛, 특히 운반 디바이스의 모든 구동 유닛은 바람직하게는 처리 챔버 외부에 배열된다.
운반 디바이스가 피가공물의 하중-지지 수용을 위한 안내 디바이스를 포함한다면 유리할 수 있으며, 여기서 안내 디바이스는 처리 챔버 외부로부터 처리 챔버 내로, 특히 적어도 하나의 접근 개구를 통해 연장된다.
이 경우, 처리 단계(피가공물 처리)가 수행될지라도, 안내 디바이스는 바람직하게는 처리 챔버 내의 적어도 부분에서 배열된다.
더욱이, 운반 디바이스가 피가공물의 하중-지지 수용을 위한 안내 디바이스를 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 안내 디바이스는 처리 챔버 외부에 배열된 적어도 하나의 안내 경로 부분 및 처리 챔버 내에 배열된 적어도 하나의 안내 경로 섹션 모두를 포함하고, 여기서 -특히 하나 이상의 구동 유닛에 의해 피가공물을 구동함으로써-피가공물은 접근 개구를 통해 처리 챔버 외부에 배열된 안내 경로 부분에서 처리 챔버 내에 배열된 안내 경로 부분으로 이송될 수 있다.
구동 유닛은, 예를 들어 푸싱(pushing) 디바이스, 그리핑(gripping) 디바이스 또는 롤러 디바이스일 수 있다.
바람직하게는, 처리 단계가 수행된 후에 피가공물이 동일한 구동 유닛 또는 다른 구동 유닛에 의하여 처리 챔버로부터 배출(제거)될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 운반 디바이스가 처리 챔버 외부로부터 운반 디바이스의 안내 경로 부분에 작용하는 하나 이상의 구동 유닛을 포함하는 것이 제공될 수 있다. 구동 유닛은, 예를 들어 전기 모터일 수 있거나, 전기 모터를 포함할 수 있다.
하나 이상의 구동 유닛은 바람직하게 안내 경로 부분에 전적으로 기계적으로 연결된다. 특히, 결합 디바이스가 한편으로는 하나 이상의 구동 유닛과 다른 한편으로는 운반 디바이스의 안내 경로 부분 사이에 기계적 연결을 생성하는 것이 제공될 수 있다. 처리 챔버 외부에 배열된 하나 이상의 구동 유닛에 의해, 처리 챔버 내에서 안내 경로 부분 상에서 안내되는 피가공물이 그러면 특히 구동, 바람직하게는 선형적으로 이동될 수 있다.
하나 이상의 구동 유닛이 처리 챔버의 최대 충전 레벨 위에 또는 최대 충전 높이 위에 및/또는 처리 챔버를 둘러싸는 처리 컨테이너의 측벽의 외측면에 배열된다면 유리할 수 있다.
바람직하게는, 하나 이상의 구동 유닛은 처리 컨테이너의 접근 개구로부터 떨어져 대향하는 처리 컨테이너의 종단 단부 영역에 및/또는 처리 컨테이너의 측벽의, 천장에 가까운 영역에 배열된다.
결합 디바이스는 바람직하게는 측벽을 통하여, 그리고 바람직하게는 하나 이상의 구동 유닛의 높이에서 안내된다. 결합 디바이스를 안내하기 위한 관통 개구는 바람직하게는 처리 챔버의 최대 충전 레벨 또는 최대 충전 높이 위에 배열 및/또는 형성된다. 결합 디바이스의, 측벽을 통해 안내되는 결합 요소는 바람직하게는 회전 샤프트 또는 결합 샤프트이다.
회전 샤프트 또는 결합 샤프트는 바람직하게는 당김 요소에 의하여, 특히 벨트 및/또는 체인, 예를 들어 듀플렉스 체인에 의하여 안내 경로 부분의 영역 내에 배열된 추가 회전 샤프트 또는 결합 샤프트에 연결되며, 궁극적으로 피가공물을 구동시키기 위하여 피가공물에 직접적으로 또는 간접적으로 작용한다.
대안적으로 또는 부가적으로, 본 발명의 일 실시예에서, 처리 스테이션이 처리 챔버 외부로부터 처리 챔버 내의 상태 및/또는 위치 검출을 가능하게 하는 하나 이상의 센서 디바이스를 포함한다는 것이 제공된다. 예를 들어, 처리 챔버 내의 피가공물의 정확한 위치는 센서 디바이스에 의해 결정되거나 모니터링될 수 있다.
하나 이상의 센서 디바이스는 처리 챔버 외부에 배열되고 바람직하게는 처리 챔버 내부의 하나 이상의 트랜스듀서 요소에 전적으로 기계적으로 연결된 하나 이상의 센서 요소를 포함하고 있다. 특히, 결합 디바이스가 한편으로는 하나 이상의 센서 요소와 다른 한편으로는 하나 이상의 트랜스듀서 요소 사이에 기계적 연결을 생성하는 것이 제공될 수 있다. 처리 챔버 외부에 배열된 하나 이상의 센서 요소에 의하여, 처리 챔버 내부에 배열된 피가공물은 그후 특히 검출될 수 있으며, 바람직하게는 그의 위치가 결정되거나 모니터링될 수 있다.
하나 이상의 센서 요소가 처리 챔버의 최대 충전 레벨 위 또는 최대 충전 높이 위 및/또는 처리 챔버를 둘러싸는 처리 컨테이너의 측벽의 외측면 상에 배열된다면 유리할 수 있다.
바람직하게는, 하나 이상의 센서 요소는 처리 컨테이너의 측벽의, 천장에 가까운 영역에 배열된다.
결합 디바이스는 바람직하게는 측벽을 통해, 그리고 바람직하게는 하나 이상의 센서 요소의 높이에서 안내된다. 결합 디바이스를 안내하기 위한 관통 개구는 바람직하게는 처리 챔버의 최대 충전 레벨 또는 최대 충전 높이 위에 배열 및/또는 형성된다. 결합 디바이스의, 측벽을 통해 안내되는 결합 요소는 바람직하게는 회전 샤프트 또는 결합 샤프트이다.
회전 샤프트 또는 결합 샤프트는 바람직하게는 당김 요소 또는 압력 요소에 의하여, 특히 결합 로드에 의하여, 예를 들어 최하부 영역에 및/또는 안내 경로 부분의 영역에 배열된 추가 회전 샤프트 또는 결합 샤프트에 결합되며, 그리고 트랜스듀서 요소에 연결된다. 트랜스듀서 요소를 작동시킴으로써, 예를 들어 트랜스듀서 요소를 회전시킴으로써, 추가 회전 샤프트 또는 결합 샤프트의 회전, 및 이에 의한 -예를 들어- 결합 로드의 수직 변위, 및 이에 의한 (상부) 회전 샤프트 또는 결합 샤프트의 회전이 바람직하게는 초래될 수 있으며, 여기서 처리 챔버(148) 밖으로 안내되는 (상부) 회전 샤프트 또는 결합 샤프트는 최종적으로 적어도 하나의 센서 요소에 의해 검출될 수 있는 이동을 수행하거나 초래한다. 결합 디바이스의 전적인 기계적 작동에 의하여, 트랜스듀서 요소의 방향 또는 또 다른 이동의 변화가 따라서 하나 이상의 센서 요소에 의해 검출될 수 있다.
처리 스테이션의 작동 동안 유체, 특히 처리 유체와 접촉하게 되는 모든 베어링 포인트가 무 윤활 및/또는 무 흑연 구성 요소로 설계되거나 무윤활 및/또는 무 흑연 구성 요소를 포함한다면 유리할 수 있다. 특히, 모든 플레인 베어링(plain bearing) 및/또는 롤링 베어링은 바람직하게는 무 윤활 및/또는 무 흑연이 되도록 설계된다.
본 발명의 일 실시예에서, 처리 스테이션의 작동 동안 유체, 특히 처리 유체와 접촉하게 되는 모든 베어링 포인트가 소결된 청동 부싱으로서 및/또는 플라스틱 요소로서 설계되는 것 또는 소결된 청동 부싱 및/또는 플라스틱 요소를 포함하는 것이 제공될 수 있다.
바람직하게는, 처리 스테이션의 작동 동안 유체, 특히 처리 유체와 접촉하게 되는 모든 구성 요소는 -예를 들어, 재료로서의 스테인리스 스틸, 특히 V4A의 선택에 의하여- 영구적으로 유체와 남아 있도록 및/또는 유체와 접촉하도록 설계된다.
바람직하게는, 처리 챔버 내에, 특히 처리 컨테이너의 내부 내에 전기 구성 요소가 배열되지 않는다.
피가공물을 운반하기 위한 운반 디바이스가 개방되도록 설계되거나 및/또는 운반 디바이스의 구성 요소를 적어도 부분적으로 덮기 위한 커버 요소가 적어도 처리 챔버 내에서 생략된다면 유리할 수 있다. 그 결과, 운반 디바이스를 통한 간단한 흐름 및/또는 운반 디바이스의 플러싱이 가능해질 수 있다. 또한, 이에 의하여 접근성이 바람직하게는 최적화된다.
운반 디바이스는 바람직하게는 처리 챔버 내의 처리 위치에 피가공물을 록킹하기 위한 록킹 디바이스를 포함한다.
록킹 디바이스에 의하여, 특히 중력 방향에 반대되는 피가공물의 이동이 차단될 수 있다.
이러한 록킹 디바이스를 사용함으로써, 처리 챔버의 플러딩 동안 피가공물이 부유하는 것 그렇지 않으면 이동하는 것 또는 그렇지 않으면 상승되는 것이 바람직하게는 방지될 수 있다.
록킹 디바이스는, 예를 들어 하나 이상의 피가공물을 수용하기 위해 하나 이상의 피가공물 또는 하나 이상의 피가공물 캐리어에 직접 맞물리는 하나 이상의 록킹 요소 또는 폴딩 요소 또는 유지 요소를 포함할 수 있다.
하나 이상의 피가공물은 바람직하게는 하나 이상의 피가공물 캐리어에 고정될 수 있으며, 특히 변위 및/또는 상승에 대해 처리 챔버 외부에서 및/또는 처리 챔버 내로 도입되기 전에 고정될 수 있다. 대안적으로 또는 부가적으로, 하나 이상의 피가공물이 고정, 특히 처리 챔버 내에서 및/또는 하나 이상의 피가공물 캐리어와 함께 서로에 대해 및/또는 처리 챔버에 대해 고정되는 것이 제공될 수 있다.
대안적으로 또는 부가적으로, 특히 적어도 하나의 피가공물 및 적용 가능한 경우 피가공물 캐리어가 처리 챔버 내로 도입될 때, 적어도 하나의 피가공물 또는 적어도 하나의 피가공물을 수용하기 위한 피가공물 캐리어가 (적어도 부분에서 그에 상보적이도록 설계된) 록킹 리셉터클 내로 운반된다는 점에서 록킹이 일어나는 것이 제공될 수 있다.
운반 디바이스가 피가공물을 기울이고 및/또는 회전시키기 위한, 특히 적어도 대략적인 수평 정상 위치에 대하여 위치를 일시적으로 변경하기 위한 이동 디바이스를 포함한다면 또한 유리할 수 있다.
수평 정상 위치는 특히 피가공물의 운반 및/또는 처리 동안 피가공물의 표준 방향이다. 이동 디바이스에 의해, 기울임(tilting) 공정 및/또는 회전(turning) 공정이 바람직하게는 수행될 수 있으며, 이에 의하여, 특히 피가공물로부터 유체의 보다 효율적인 배수가 달성될 수 있다.
처리 스테이션은, 특히 처리 플랜트, -예를 들어 페인팅 플랜트-의 일부일 수 있다.
특히, 피가공물을 처리하기 위한 방법은 처리 스테이션에 의하여 수행될 수 있다. 본 방법은 바람직하게는 다음의:
피가공물을 처리 컨테이너의 접근 개구를 통해 처리 컨테이너의 처리 챔버 내로 도입하는 단계;
폐쇄 디바이스에 의해 처리 컨테이너의 접근 개구를 폐쇄하는 단계;
피가공물 처리를 수행하기 위해 처리 챔버를 유체로 플러딩하는 단계를 포함한다.
피가공물 처리 (처리 단계)가 수행된 후, 유체는 바람직하게는 처리 챔버로부터 제거되고, 특히 배수된다.
또한, 피가공물은 그후 바람직하게는 하나의 접근 개구 또는 추가 접근 개구를 통해 처리 챔버로부터 제거된다.
본 발명의 일 실시예에서, 처리 스테이션이 폴딩 공정을 지원하기 위해 처리 챔버 내에 배열된 또는 배열될 수 있는 하나 이상의 설치 요소를 포함하는 것이 제공될 수 있다.
이러한 설치 요소는, 특히 피가공물을 운반하기 위한 운반 디바이스와는 다른 구성 요소이다.
바람직하게는, 이 설치 요소는 임의의 추가적인 기술적 효과를 나타내지 않거나 플러딩 공정을 지원하는 것 외에는 임의의 추가 목적을 제공하지 않는다. 그러나 대안적으로, 하나 이상의 설치 요소가 처리 스테이션의 기능적 구성 요소, 예를 들어 처리 챔버 내의 유체 분포를 위한 디바이스, 측정 디바이스 또는 기타 센서 유닛 등을 수용하는 역할을 하는 것이 또한 제공될 수 있다.
설치 요소에 의하여, 플러딩 공정은 바람직하게는 피가공물을 처리하기 위한 처리 단계의 시간 순서 및/또는 최적화와 관련하여 지원될 수 있다.
예를 들어 하나 이상의 설치 요소에 의하여 및/또는 하나 이상의 공급 라인에 의하여 및/또는 하나 이상의 배출 라인에 의하여 및/또는 하나 이상의 펌프 디바이스에 의하여 처리 챔버 내의 흐름이 생성 및/또는 최적화된다면 유리할 수 있다.
유체를 공급하고 및/또는 순환시키기 위한 하나 이상의 노즐이 처리 챔버 내에 배열된다면 유리할 수 있으며, 여기서 유체는 특히 추가 처리를 필요로 하고 및/또는 가스 축적물, 예를 들어 기포가 플러딩 동안에 형성될 수 있는 피가공물 또는 피가공물들의 영역으로 향한다. 하나 이상의 노즐에 의하여, 가스 축적물, 예를 들어 기포가 방출되는 방식으로 유체가 바람직하게는 적용될 수 있다.
이에 대안적으로 또는 부가적으로, 처리될 적어도 하나의 피가공물의 리프팅 및/또는 하강 이동 및/또는 기울임 이동 및/또는 회전 이동이 운반 디바이스에 의하여 및/또는 특히 가스 축적물, 예를 들어 기포를 방출하기 위해 운반 디바이스에 부가적으로 또는 대안적으로 제공되는 이동 구성 요소에 의하여 수행되게 할 수 있는 것이 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 하나 이상의 설치 요소가 변위 요소로 설계되는 것이 제공될 수 있으며, 각각의 설치 요소 없이 플러딩 공정 동안 자유롭게 남아 있는 처리 챔버 내의 자유 공간들은 특히 설치 요소에 의해 채워질 수 있으며 따라서 유체로 채워질 필요가 있을 것이다.
따라서 변위 요소로서 설계된 하나 이상의 설치 요소에 의하여, 플러딩 공정을 수행하기 위해 요구되는 유체 체적이 따라서 특히 감소될 수 있으며, 특히 플러딩 공정을 수행하기 위하여 전체적으로 요구되는 유체 체적의 적어도 5%, 바람직하게는 적어도 약 10%, 예를 들어 적어도 약 20%만큼 감소될 수 있다. 더욱이, 플러딩 공정을 수행하기 위한 총 지속 시간이 바람직하게 감소될 수 있다.
하나 이상의 설치 요소가 처리될 피가공물에 대한 그의 위치에 관하여 및/또는 그의 기능에 관하여 및/또는 그의 형상에 관하여 조정되거나 조정될 수 있다면 유리할 수 있다.
예를 들어, 하나 이상의 변위 요소가 처리될 피가공물의 형상에 대해 적어도 부분에서 또는 영역에서 조정되거나 조정될 수 있는 것이 제공될 수 있다. 특히, 처리 챔버 내의 자유 공간이 바람직하게 최소화될 수 있도록 하나 이상의 변위 요소가 적어도 부분에서 및/또는 피가공물 형상에 적어도 대략적으로 상보적으로 형성되는 것이 제공될 수 있다.
예를 들어, 하나 이상의 변위 요소가 차체로서 설계된 피가공물의 측벽 및/또는 최하부 영역 및/또는 전면 후드 영역 및/또는 후면 후드 영역에 대해 조정되도록 설계되는 것이 제공될 수 있다.
또한, 피가공물의 처리 동안 -특히 피가공물에 접촉하지 않고- 설치 요소가 피가공물의 내부로 돌출하거나 적어도 부분적으로 그 안에 배열되는 방식으로 하나 이상의 설치 요소가 배열되는 것 및/또는 이동될 수 있는 것이 제공될 수 있다. 예를 들어, 승합차(van) 또는 (소형) 버스 등의 차체로서 설계된 피가공물의 경우, 자유 내부 체적 및 따라서 플러딩 공정을 위하여 요구되는 유체 체적을 줄이기 위하여 하나 이상의 설치 요소는 테일게이트를 통해 각각의 피가공물의 내부로 도입될 수 있다.
하나 이상의 변위 요소가, 바람직하게는 플러딩 공정과 관계없이 채워질 수 있는 및/또는 채워지게 유지될 수 있는 및/또는 비워질 수 있는 중공체(hollow body)를 갖는 것이 제공될 수 있다.
특히, 하나 이상의 변위 요소는 중공체로서 설계되며 하나 이상의 폐쇄 가능한 충전 개구 및/또는 하나 이상의 배수 개구를 갖는다.
이러한 변위 요소는 특히 자체적으로 매우 쉽게 형성될 수 있으며, 따라서 처리 챔버 내에 쉽게 배열될 수 있다. 플러딩 공정 동안 변위 요소의 바람직하지 않은 부유 또는 다른 이동은 바람직하게는 변위 요소를 처리 컨테이너 내에 적절하게 고정시킴으로써 및/또는 이를 가중시킴으로써 - 예를 들어 중공체를 채움으로써 방지된다. 하나 이상의 변위 요소를 채우기 위해, 예를 들어 피가공물 처리를 수행하기 위한 유체와 다른 유체 또는 동일한 유체가 사용될 수 있다. 또한, 하나 이상의 변위 요소를 위한 충전 유체로서 물이 제공될 수 있다.
예를 들어 충전 및 비우기를 위하여 최적화된 캐비티들이 하나 이상의 변위 요소 내에 형성되도록 하나 이상의 변위 요소의 내부 및 외부 기하학적 구조들이 서로 다르다면 유리할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 처리 컨테이너가 하나 이상의 설치 요소 -특히 변위 요소-를 고정하기 위한 하나 이상의 리셉터클을 포함하는 것이 제공될 수 있다.
하나 이상의 설치 요소, 예를 들어 변위 요소, 특히 상이한 형상 및/또는 치수를 갖는 변위 요소들은 바람직하게는 이들이 바람직하게는 용이하게 고정 및/또는 교환될 수 있도록 리셉터클에 상보적이 되도록 형성된 고정 부분을 갖는다.
하나 이상의 변위 요소가 단단하도록 설계되는 것이 제공될 수 있다.
하나 이상의 설치 요소, 특히 변위 요소는 바람직하게는 처리 컨테이너 상에 및/또는 안에 확실한 록킹 및/또는 강제 록킹 및/또는 해제 가능한 방식으로 고정되거나 고정 가능할 수 있다.
하나 이상의 변위 요소가 유연하도록 및/또는 재성형 가능하도록 및/또는 크기 조절 가능하도록-예를 들어 팽창 가능하도록- 설계된다면 유리할 수 있다.
그 결과, 각각의 처리 단계 및/또는 플러딩 공정을 최적화하기 위하여 하나 이상의 변위 요소가 특히 상이한 피가공물 유형에 대해 조정될 수 있다.
처리 스테이션은 바람직하게는 하나 이상의 변위 요소의 형상 및/또는 크기를 변경하기 위한 - 특히, 처리 공정을 위해 플러딩될, 처리 챔버 내의 자유 공간을 줄이기 위한- 변경 디바이스를 포함한다.
변경 디바이스는, 예를 들어 펌프 디바이스일 수 있으며 플러딩 공정을 최적화하기 위하여 충전 유체는 펌프 디바이스에 의하여 하나 이상의 변위 요소 내의 캐비티로 공급될 수 있고, 여기서 제어 및/또는 조절은 특히, 공급되는 충전 유체의 양이 각 경우에 처리될 피가공물에 따라, 특히 자동적으로, 적절하게 설계된 그리고 구성된 제어 디바이스에 의해 선택되는 방식으로 제공된다.
하나 이상의 변위 요소가 처리 스테이션의 운반 디바이스의 영역에서 하나 이상의 자유 공간을 채우는 것이 제공될 수 있다.
대안적으로 또는 부가적으로, 하나 이상의 변위 요소가 차체로서 설계된 피가공물의 위의, 특히 차체의 차 전방 위의 및/또는 차 후방 위의 자유 공간을 채우는 것이 제공될 수 있다.
추가적인 보충적 또는 대안적 실시예에서, 하나 이상의 설치 요소가 플러딩 공정 동안 처리될 피가공물을 지지하기 위한 지지 요소로서 설계되는 것이 제공될 수 있다.
따라서 하나 이상의 지지 요소는 바람직하게는 플러딩 공정 동안 피가공물에 접하며 또한 바람직하게는 각각의 피가공물의 불룩해짐(bulging) 또는 좌굴(buckling) 또는 또 다른 변형을 방지한다. 이 목적을 위해, 하나 이상의 지지 요소는 바람직하게는 이동 가능하며 및/또는 재형성 가능하고 및/또는 크기 조정이 가능하다.
특히, 변위 요소로 설계된 하나 이상의 설치 요소는 동시에 지지 요소의 역할을 할 수 있다.
처리 단계를 수행하기 위하여 및/또는 플러딩이 일어난 후, -특히 유체, 특히 처리 유체로 피가공물의 완전한 습윤을 보장하기 위하여- 하나 이상의 지지 요소는 바람직하게는 피가공물로부터 제거된다. 이 목적을 위하여, 하나 이상의 지지 요소가 특히 피가공물에서 멀어지게 이동될 수 있다. 대안적으로 또는 부가적으로, 지지 요소의 형상 및/또는 크기를 변경시킴으로써 제거가 실현될 수 있다.
지지 요소들 중 하나 이상이 피가공물을 지지하기 위하여 피가공물에 대한 직접적인 어버트먼트(abutment) 역할을 하는 지지 부분을 갖는다면 유리할 수 있다.
특히, 지지부는 피가공물에 대한 손상을 방지하는 및/또는 탄력적으로 탄성적인 재료를 구비한다. 예를 들어, 지지 부분의 직물 표면이 제공될 수 있다.
본 발명의 개발 사항에서, 하나 이상의 설치 요소가 처리 컨테이너의 및/또는 유체의 온도를 제어하기 위한 온도 제어 요소로서 설계되는 것이 제공될 수 있다.
이 목적을 위하여, 하나 이상의 설치 요소는 특히 -가열 매체 또는 냉각 매체로 채워지거나 채워질 수 있으며 특히 이를 통해 흐를 수 있다.
온도 제어 요소로 설계된 하나 이상의 설치 요소가 열 전달을 최적화하기 위해 하나 이상의 리브(rib) 또는 기타 표면 확장부(enlargement)를 갖는다면 유리할 수 있다.
처리 챔버의 플러딩 동안 유체가 온도 제어 요소로 설계된 하나 이상의 설치 요소 위로 흐른다면 유리할 수 있다. 이는 또한 바람직하게는 열전달을 최적화시킬 수 있다.
특히, 상이하게 치수화된 피가공물에 대한 처리 스테이션의 가변적인 조정을 위하여, 하나 이상의 처리 공정 및/또는 플러딩 공정에 대해, 하나 이상의 설치 요소가 처리 챔버 내에 배열되거나 일시적으로 또는 그렇지 않으면 영구적으로 배열될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
특히, 처리 스테이션이 치수화된 설치 요소의 세트를 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서, 필요에 따라 개별 설치 요소, 특히 특정 피가공물 유형에 대해 조정된 설치 요소가 처리 챔버 내로 도입되고 그 안에서 고정된다. 피가공물 유형은 변경할 때 설치 요소는 그러면 바람직하게는 다르게 치수화된 또는 기능적으로 다른 설치 요소로 교체된다.
플러딩 공정 동안, 처리 공정 동안 및/또는 처리 챔버의 비움 동안 하나 이상의 설치 요소가 처리 챔버 내에 고정적으로 고정되는 것이 제공될 수 있다.
대안적으로, 이 목적을 위하여, 하나 이상의 설치 요소가 처리 챔버 내에서 이동 가능한 것이, 예를 들어 플러딩 공정 동안 처리 챔버의 자유 공간 내로 도입될 수 있는 것이 제공될 수 있으며, 이 처리 챔버는 플러딩될 것이며 및/또는 플러딩 공정 및/또는 처리 공정 (처리 단계)이 수행된 후에, -특히 자동적으로- 플러딩될 자유 공간으로부터 제거될 수 있다.
하나 이상의 설치 요소가 처리 컨테이너의 접근 개구를 폐쇄하기 위해 폐쇄 요소 상에 배열되거나 배열될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
특히 폐쇄 요소 자체를 이동시킴으로써, 그후 하나 이상의 설치 요소는 이동될 수 -특히 설치 요소가 플러딩 공정을 지원하는 위치로 가져가질 수- 있다.
하나 이상의 설치 요소는 바람직하게는 폐쇄 요소에 의해 변위 위치 또는 지지 위치로 가져가질 수 있다.
하나 이상의 설치 요소가 폐쇄 요소와 함께 이동 -특히 선형적으로 이동-및/ /또는 선회될 수 있다면 유리할 수 있다.
피가공물은 처리 스테이션에 의하여 처리될 수 있다; 특히 차체는 세정 및/또는 코팅될 수 있다.
이 목적을 위하여, 피가공물은 처리 컨테이너의 처리 챔버 내로 도입된다. 그 후, 처리 챔버는 피가공물 처리를 수행하기 위해 유체로 플러딩되며, 여기서 플러딩은 바람직하게는 처리 챔버 내에 배열된 또는 배열될 수 있는 하나 이상의 설치 요소에 의해 지원된다.
본 발명의 유리한 실시예에서, 처리 스테이션이 유체를 수용하기 위한 유체 탱크를 포함하는 것이 제공될 수 있다. 더욱이, 처리 스테이션은 바람직하게는 유체 가이드를 포함하며, 이 유체 가이드에 의하여 유체는 처리 챔버를 플러딩하기 위하여 유체 탱크로부터 처리 컨테이너 내로 및/또는 처리 챔버를 비우기 위하여 처리 컨테이너로부터 유체 탱크 내로 안내될 수 있다.
이 목적을 위하여, 유체 가이드는 바람직하게는 하나 이상의 유체 라인을 포함하며, 여기서 바람직하게는 유체를 유체 탱크로부터 처리 컨테이너로 공급하기 위한 하나의 유체 라인 및 유체를 처리 컨테이너로부터 유체 탱크로 공급하기 위한 추가 유체 라인-특히, 별도의 유체 라인-이 제공된다.
유체 탱크가 중력 방향에 대해 처리 컨테이너 위에 배열된다면 유리할 수 있다.
그 결과, 유체를 처리 컨테이너에 공급하기 위해 특히 중력이 사용될 수 있으며, 여기서 별도의 펌프 디바이스는 바람직하게는 불필요할 수 있다.
대조적으로, 유체를 처리 챔버로부터 유체 탱크로 다시 펌핑하기 위하여 펌프 디바이스가 유리할 수 있다.
대안적으로, 이 목적을 위하여, 처리 컨테이너가 중력 방향에 대해 유체 탱크 위에 배열되는 것이 제공될 수 있다. 그 결과, 유체는 그러면 펌프 디바이스를 사용하지 않고서도 처리 컨테이너로부터 유체 탱크로 안내될 수 있으며, 반면에 유체를 유체 탱크로부터 처리 컨테이너 내로 안내하기 위하여 펌프 디바이스가 바람직하게는 제공된다.
유체 가이드가 공급 라인으로서 설계된 유체 라인을 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 공급 라인에 의하여 유체는 처리 챔버로 공급될 수 있고, 여기서 공급 라인은 바람직하게는 처리 컨테이너의 최하부 영역에서 처리 컨테이너 내로 개방된다. 특히, 처리 컨테이너 내로의 유체의 공급 동안의 바람직하지 않은 거품 형성이 그에 의하여 감소되거나 완전히 방지될 수 있다.
처리 컨테이너의 최하부 영역은 특히 처리 챔버의 최대 충전 높이에 대하여 및/또는 최대 충전 높이에 대하여 처리 챔버의 하부 ⅓, 바람직하게는 하부 1/5이다.
처리 컨테이너는 바람직하게는 특히 처리 컨테이너의 접근 개구 아래에 배열된 유입 영역을 포함한다. 유입 영역은 또한 바람직하게는 피가공물을 교체하기 위해 제공된 처리 컨테이너의 비워진 상태에서 유체로 채워진다.
운반 디바이스 및/또는 기타 기능적 구성 요소 또는 탱크 피팅이 항상 처리 챔버 내에서 충전 레벨 아래에 유지되도록 2개의 플러딩 공정 사이 및/또는 2개의 피가공물의 처리들 사이의 최소 충전 높이가 바람직하게 선택되거나 선택 가능할 수 있다. 이는 - 특히 끈적거리는 또는 달라붙는 처리 유체가 사용될 때- 오염물의 건조를 방지할 수 있다.
더욱이, 끈적한 매체 또는 응고 및 건조 경향이 있는 매체의 결과로서의 오염을 방지하는 것에 대한 대안적으로 또는 부가적으로, - 특히 플러딩 공정 후, 그리고 특히 처리 컨테이너를 비운 후- 처리 컨테이너 내, 처리 챔버 내의 설치 요소 및 다른 구성 요소 상, 특히 제트 블록, 애노드 및 운반 디바이스와 같은 탱크 피팅(tank fittings) 상, 그리고 처리 스테이션을 작동시키기 위하여 필요한, 채움 및 비움을 위한 파이프 상에서 습윤이 유지되는 것 또는 세정이 일어나는 것이 제공될 수 있다. 이 목적을 위하여, 액체 및/또는 여과액이 세정을 위하여 사용할 수 있으며, 이는 견고하게 부착된 제트 블록 또는 가변적으로 이동 가능한 탱크 세정 노즐의 사용과 같은 적절한 조치를 통해 세정 성능을 제공한다. 바람직하게 규정된 배출구를 갖는 수중 시일(submersible seal)과 같은 자기-세정 방법은 또한 처리 컨테이너와 폐쇄 디바이스 사이의 시일과 같은, 도달하기 어려운 구성 요소를 위하여 선택적으로 사용될 수도 있다.
더욱이, 처리 컨테이너와 그 내부에 배열된 구성 요소가 기밀 밀봉에 의해 건조로부터 보호되는 것이 제공될 수 있다. 또한, 밀봉된 유닛 내의 공기 습도는 모니터링될 수 있으며 필요하다면 재습윤될 수 있다. 이는 밀폐되지 않은 유닛의 경우 선택적으로 제공될 수도 있다.
선택적으로, 접착 결합은 또한 사용된 매체 -특히 처리 용액-로 영구적인 습윤에 의해 대응될 수 있다. 이는 특히 운반 피팅의 경우뿐만 아니라 채우기 위한 그리고 비우기 위한 파이프의 경우에도 생각할 수 있다.
처리 챔버 내로의 최적화된 유체 공급을 가능하게 하기 위하여, 공급 라인은 바람직하게는 유입 영역으로, 특히 유입 영역의 유체 라인 아래로 개방된다.
더욱이, 유입 영역이 하나 이상의 유입 컨테이너 -특히 변위 요소-의 처리 챔버 내에 배열 및/또는 형성되는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 공급 라인은 특히 유입 컨테이너 내로 개방된다. 예를 들어, 유입 컨테이너는 특히 그의 상부 측에 유출 개구를 포함하며, 처리 챔버를 플러딩하기 위하여 유체는 이 유출 개구를 통하여 처리 챔버 내로 흐를 수 있다.
침강(sedimentation)을 방지하기 위하여, 유입 영역의 유체가 영구적으로 또는 정기적으로 순환 및/또는 처리되고 특히 세정되는 것이 제공될 수 있다.
유체 가이드가 여러 공급 라인을 포함한다면 유리할 수 있으며, 여기서 이 공급 라인들 중 하나 이상은 처리 컨테이너의 최하부 영역에서 처리 컨테이너 내로 개방되며 및/또는 하나 이상의 공급 라인은 하나 이상의 노즐 또는 다른 공급 개구 내에서 또는 상에서 끝나며, 이 노즐 또는 공급 개구에 의해 유체는, 예를 들어 제트 또는 스트림으로서 피가공물 상으로 지향 및/또는 도포될 수 있다.
처리 컨테이너의 비워진 상태는 바람직하게는 하나 이상의 접근 개구가 접근 개구를 통한 유체 누출에 영향을 미치거나 위험을 초래하지 않고 개방될 수 있는 처리 컨테이너의 상태이다. 따라서 빈 상태는 특히 임의의 잔류 유체가 처리 컨테이너에서 제거된 처리 컨테이너의 상태일 필요는 없다.
매체, 특히 가스, 예를 들어 처리 챔버의 플러딩 동안 처리 챔버로부터 옮겨진 공기는, 예를 들어 환경으로 배출될 수 있거나 처리 및/또는 예를 들어 배기 공기 정화 플랜트로, 및/또는 피가공물을 건조하기 위한 건조기 내로 전도될 수 있다.
더욱이, 변위된 매체가 유체 탱크 내로 도입되는 것이 제공될 수 있다.
특히, 공급 유형으로 인하여 및/또는 선택된 유체로 인하여 플러딩 공정 또는 충전 주기 동안 거품 형성이 예상되어야 하거나 예상될 때, 처리 스테이션이 거품 형성을 최소화하거나 방지하기 위한 보상 디바이스를 포함한다면 유리할 수 있다. 보상 디바이스는 특히 액체-특히 여과액-을 주입하기 위한 노즐 디바이스, 예를 들어 제트 블록을 포함한다. 노즐 디바이스는 특히 처리 챔버의 천장 영역에 배열된다. 대안적으로 또는 부가적으로, 보상 디바이스가 처리 챔버로부터 공기를 배기하기 위한 진공 디바이스를 포함하는 것이 제공될 수 있다. 또한, 대안적으로 또는 부가적으로, 화학적 매체, 특히 소포 매체가 유체에 공급될 수 있다.
사용된 유체가 탈기(degassing)를 필요로 하는 공기 혼재물(air inclusions)의 경향이 있는 매체인 경우, 이의 제거를 위한 디바이스가 이 목적을 위하여 처리 컨테이너에 추가로 제공될 수 있다. 배기 가능성에 더하여, 배치(batch) 공정 및 연속적인 흐름에서 기포들의 합체를 위한 처리 컨테이너에서의 초음파 생성이 대안적으로 또는 부가적으로 제공될 수 있으며, 여기서 이러한 목적을 위해 필요한 디바이스는, 예를 들어 부가적인 또는 이미 존재하는 회로에 통합되거나 통합될 수 있다. 대안적으로, 제형의 화학적 변형 및/또는 도입될 유체에 대한 첨가제의 첨가가 제공될 수 있다.
유체 가이드가 유체를 세정하기 위한 세정 디바이스를 포함한다면 유리할 수 있다.
세정 디바이스는 바람직하게는 처리 컨테이너 외부 및/또는 유체 탱크 외부에 배열된다.
바람직하게는, 세정 디바이스는 유체를 유체 탱크 내로 복귀시키기 위한 복귀 라인에 배열된다. 결과적으로, 유체가 복귀될 때 및/또는 사이클의 각 시작 전, 특히 새로운 플러딩 공정 전에 유체는 바람직하게는 하나 이상의 처리 컨테이너에서 세정 및/또는 처리될 수 있다.
처리 스테이션은 바람직하게는 제어 디바이스를 포함하며, 제어 디바이스에 의해 -특히 유체를 처리 챔버로 공급하기 위한 공급 라인을 개폐하기 위해 밸브 디바이스를 제어 및/또는 조절함으로써- 처리 챔버 내에서의 플러딩 공정이 제어 및/또는 조절될 수 있다.
하나 이상의 피가공물 매개변수, 특히 처리 챔버 내의 각각의 피가공물의 기하학적 구조 및/또는 크기 및/또는 위치는 바람직하게는 플러딩 공정의 제어 및/또는 조절에서 고려된다.
하나 이상의 피가공물 매개변수는 특히 기계 제어를 통해 및/또는 CAD 데이터, 바코드 인식, RFID 정보 또는 기타 피가공물-특정 데이터 세트를 통하여 제어 디바이스로 전송된다.
플러딩 동안의 처리 챔버 내의 유체의 충전 속도 및/또는 충전 레벨의 변화율이 변화되는, 특히 피가공물의 국부적 안정성 차이에 대해 조정되는 및/또는 중력의 방향에 따라 달라지는 수면의 표면에 대해 조정되는 방식으로 플러딩 공정이 바람직하게는 제어 디바이스에 의하여 제어된다.
예를 들어, 처리 챔버 내의 유체 레벨이 적어도 대략적으로 일정하게 상승하는 방식으로 플러딩 공정이 제어 디바이스에 의해 제어될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
대안적으로, 유체 레벨이 피가공물의 보다 안정적인 영역을 스윕(sweep)하면 공급된 유체의 체적 유량이 증가되는 방식으로 그리고, 유체의 유체 레벨이 피가공물의 덜 안정적인 영역을 스윕하면 공급된 유체의 체적 유량이 감소되는 방식으로 플러딩 공정이 제어 디바이스에 의하여 제어될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
처리 스테이션은, 예를 들어 하나 이상의 측정 디바이스를 포함할 수 있으며, 예를 들어 처리 챔버 내로 흐르는 유체의 체적 흐름 및/또는 처리 챔버 내의 충전 레벨 또는 충전 높이 및/또는 유체 탱크 내의 충전 레벨 또는 충전 높이는 이 측정 디바이스에 의해 결정될 수 있다.
하나 이상의 측정 디바이스의 하나 이상의 측정값은 바람직하게는 플러딩 공정의 제어 및/또는 조절에서 고려된다.
바람직하게는, 플러딩 공정 동안의 최대 충전 높이 (최대 충전 레벨)는 피가공물 기하학적 구조 및/또는 위치에 따라 선택된다. 예를 들어, 차체로서 설계된 피가공물의 경우, 충전 레벨이 차체의 루프 바로 위에 있는, 예를 들어 루프 위로 최대 약 10㎝, 바람직하게는 최대 약 5㎝, 예를 들어 최대 약 3㎝ 정도로 처리 챔버가 항상 유체로 채워진 것으로 제공될 수 있다.
하나 이상의 누설이 하나 이상의 측정 디바이스에 의해, 예를 들어 하나 이상의 측정 디바이스에 의한 충전 높이, 충전 레벨 또는 체적 흐름 모니터링에 의하여 결정되는 것이 제공될 수 있다. 바람직하게는, 하나 이상의 폐쇄 디바이스의 누설-기밀성이 이로부터 추론될 수 있다.
일 실시예에서, 처리 스테이션은 특히 중력 방향에 대해 처리 챔버 아래에 배열되고 처리 챔버로부터 배출될 유체가 공급될 수 있는 카운터 탱크를 가질 수 있다.
이 경우, 유체는 바람직하게는 중력만을 이용하여 유체 탱크에서 처리 챔버 내로 및/또는 처리 챔버에서 카운터 탱크 내로 안내될 수 있다.
예를 들어, 펌프 디바이스에 의하여, 유체는 바람직하게 카운터 탱크에서 다시 유체 탱크로 안내될 수 있다.
따라서 유체 탱크는 -특히 처리 공정을 수행할 준비가 된 유체 상태의- 유체를 제공하기 위한 저장 탱크이다. 이 목적을 위하여, 유체는 특히 카운터 탱크와 유체 탱크 사이의 운반 경로 상에서 - 특히, 세정 디바이스에 의하여- 세정 또는 처리될 수 있다.
처리 스테이션이 2개 또는 2개 이상의 처리 챔버, 특히 각각 하나의 처리 챔버를 갖는 2개 또는 2개 이상의 처리 컨테이너를 포함한다면 유리할 수 있다.
이 경우, 2개 또는 2개보다 많은 처리 챔버에 유체를 공급하기 위한 공통 유체 탱크가 제공될 수 있다.
대안적으로, 여러 유체 탱크가 특히 동일한 처리 챔버 내의 여러 유체를 위하여 제공될 수 있다.
예를 들어, -특히, 처리 챔버에 위치된 하나 이상의 피가공물에 대해 상이한 처리 단계들을 단계를 수행하기 위하여- 처리 스테이션의 처리 챔버가 선택적으로, 특히 교대로 다른 유체로 플러딩될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
더욱이, 이 목적을 위하여, 여러 카운터 탱크가 여러 유체를 위하여 제공되는 것이 제공될 수 있다.
또한, 2개보다 많은 처리 챔버를 위한 공통 카운터 탱크가 제공될 수 있다.
이 설명 및 첨부된 청구범위에서, 탱크는 특히 유체를 위한 일반적인 리셉터클(receptacle)이다; 예를 들어, 이는 개별적인 컨테이너들, 또는 서로 연결된 여러 컨테이너일 수 있다.
처리 스테이션이 처리 챔버를 플러싱 및/또는 세정하기 위한 플러싱 디바이스를 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 플러싱 매체는 처리 챔버 내로 도입, 특히 분사될 수 있으며, 처리 챔버로부터 제거, 특히 -특히 유체와 관계없이, 유체 탱크와 관계없이 및/또는 카운터 탱크와 관계없이- 플러싱 디바이스에 의하여 배출될 수 있다.
플러싱 디바이스는 특히 처리 챔버 내에 배열되고 및/또는 처리 챔버 내로 지향되는 스프레이 노즐을 포함할 수 있으며, 이 스프레이 노즐은 특히 벽 및/또는 처리 챔버 내에 배열된 운반 디바이스를 씻어내는(rinsing) 역할을 한다.
피가공물을 처리하기 위하여, 피가공물이 처리 컨테이너의 처리 챔버 내로 도입되는 것 그리고 피가공물 처리를 수행하기 위해 처리 챔버가 유체로 플러딩되는 것이 설명된 처리 스테이션에 특히 제공될 수 있으며, 여기서 유체는 처리 챔버를 플러딩하기 위하여 유체 탱크로부터 처리 컨테이너 내로 및/또는 처리 챔버를 비우기 위해 처리 컨테이너로부터 유체 탱크 내로 안내된다.
처리 스테이션은 특히 처리 플랜트에서 사용될 수 있다.
처리 플랜트는 특히 피가공물을 처리하는 역할을 한다.
처리 플랜트는 바람직하게는 피가공물을 처리하기 위한, 특히 차체를 세정 및/또는 코팅하기 위한 여러 처리 스테이션을 포함한다.
각 처리 스테이션은 바람직하게는 적어도 하나의 처리 컨테이너를 포함하며, 이 처리 컨테이너는 피가공물을 수용하기 위한 처리 챔버를 둘러싸고, 여기서 각 처리 스테이션은 개별적으로 또는 여러 처리 스테이션은 공동으로 유체를 수용하기 위한 유체 탱크를 포함하며, 처리 스테이션은 바람직하게는 유체 가이드를 포함하며, 이 유체 가이드에 의하여, 유체는 하나 이상의 처리 챔버를 플러딩하기 위하여 유체 탱크로부터 각각의 처리 컨테이너 내로 및/또는 처리 챔버를 비우기 위하여 각각의 처리 컨테이너로부터 유체 탱크 내로 안내될 수 있다.
하나 이상의 처리 챔버의 플러딩 동안, 처리 챔버 내부의 유체 레벨은 바람직하게는 적어도 10배, 바람직하게는 적어도 50배, 예를 들어 적어도 100배로 증가된다.
더욱이, 하나 이상의 처리 챔버가 플러딩될 때, 액체 레벨은 바람직하게는 최소 레벨에서 처리 챔버의 전체 내부 높이의 적어도 약 50%, 바람직하게는 적어도 약 70%, 예를 들어 적어도 약 90%로 상승된다.
하나 이상의 처리 챔버를 비우기 위해, 처리 챔버 내에 위치된 유체 -특히 처리 유체-의 바람직하게는 적어도 약 50%, 특히 적어도 약 80%, 예를 들어 적어도 약 90%가 처리 챔버로부터 제거된다..
플러딩 공정 및 비우기(emptying) 공정은 바람직하게는 처리 챔버 내로 별도로 도입되는 각 피가공물 또는 각 그룹의 피가공물들을 위하여 수행된다.
본 발명의 일 실시예에서, 처리 플랜트가 제1 처리 단계를 수행하기 위한 여러 개의 제1 처리 스테이션 및 제2 처리 단계를 수행하기 위한 여러 개의 제2 처리 스테이션을 포함하는 것을 제공하며, 여기서 하나 이상의 제1 처리 스테이션 및 하나 이상의 제2 처리 스테이션은 각각 바람직하게는, 처리 단계를 수행하기 위하여 피가공물이 통과하는 처리 플랜트의 처리 유닛의 일부이거나 이를 형성한다.
처리 유닛은 특히 피가공물을 운반하기 위한 운반 디바이스의 주 운반 방향을 따라서 여러 개의 연속적인 처리 스테이션을 포함한다. 피가공물 처리를 위해 연속적으로 수행될 수 있는 모든 처리 단계는 바람직하게는 처리 유닛에 의해 수행될 수 있다.
처리 플랜트가 특히 하나 이상의 제1 처리 스테이션 및 하나 이상의 제2 처리 스테이션을 각각 포함하고 및/또는 특히 처리 플랜트의 별개의 처리 라인을 형성하는 여러 처리 유닛을 포함하는 것이 제공될 수 있다.
별개의 처리 유닛의 하나 이상의 제1 처리 스테이션은 바람직하게는 공통 유체 가이드 및/또는 공통 유체 탱크를 갖는다. 대안적으로 또는 부가적으로, 별개의 처리 유닛의 하나 이상의 제2 처리 스테이션이 공통 유체 가이드 및/또는 공통 유체 탱크를 갖는 것이 제공될 수 있다.
더욱이, 별개의 처리 유닛의 하나 이상의 제1 처리 스테이션이 공통 카운터 탱크 및/또는 공통 세정 디바이스를 갖는 것이 대안적으로 또는 추가적으로 제공될 수 있다. 또한, 별개의 처리 유닛의 하나 이상의 제2 처리 스테이션이 공통 카운터 탱크 및/또는 공통 세정 디바이스를 갖는 것이 대안적으로 또는 추가적으로 제공될 수 있다.
유체, 특히 제1 처리 유체가 유체 가이드에 의해, 먼저
a) 제1 처리 유닛의 하나 이상의 처리 스테이션, 특히 제1 처리 스테이션의 하나 이상의 처리 챔버로, 그리고 그후
b) 제2 처리 유닛의 하나 이상의 처리 스테이션, 특히 제1 처리 스테이션의 하나 이상의 처리 챔버로 공급된다면 유리할 수 있다. 하나 이상의 임시 저장 탱크는 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이 및/또는 동일한 처리 유닛의 또는 별개의 처리 유닛의 2개의 처리 스테이션 사이에 배열될 수 있다.
유체, 특히 제2 처리 유체가 유체 가이드에 의해, 먼저
a) 먼저 제1 처리 유닛의 하나 이상의 처리 스테이션, 특히 제2 처리 스테이션의 하나 이상의 처리 챔버로, 그리고 그후
b) 제2 처리 유닛의 하나 이상의 처리 스테이션, 특히 제2 처리 스테이션의 하나 이상의 처리 챔버로 공급된다면 유리할 수 있다. 하나 이상의 임시 저장 탱크는 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이 및/또는 동일한 처리 유닛의 또는 별개의 처리 유닛의 2개의 처리 스테이션 사이에 배열될 수 있다.
유체가 유체 가이드에 의해 별개의 처리 유닛들의 처리 챔버들에 교대로 공급될 수 있다면 유리할 수 있다.
대안적으로 또는 부가적으로, 유체가 유체 가이드에 의해 동일한 처리 유닛들의 처리 챔버들에 교대로 공급될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
유체가 특히 처리 챔버들 중 하나로부터 제거된 후 및/또는 처리 챔버들 중 추가 처리 챔버로의 새로운 공급 전에 세정될 수 있도록 유체 가이드는 바람직하게는 세정 디바이스에 연결되거나 이러한 세정 디바이스를 포함한다.
유체의 세정은 바람직하게는 처리 챔버의 비움 동안 및/또는 플러딩 공정 및/또는 처리 단계에서 처리 챔버의 단일 또는 여러 번 사용 후에 일어난다.
유체 가이드에 전체적으로 포함되는 유체의 총량은 바람직하게는 처리 챔버에서 단일 플러딩 공정을 수행하기 위해 요구되는 유체의 양의 최대 약 2배, 특히 최대 약 3배이다.
유체 가이드는 바람직하게는 유체를 전도하고 수용하는 모든 구성 요소, 특히 하나 이상의 유체 탱크, 하나 이상의 처리 챔버, 하나 이상의 임시 저장 탱크 및/또는 하나 이상의 카운터 탱크 및 선택적으로 하나 이상의 세정 디바이스를 포함한다.
유체의 양은 특히 - 특히 정상 상태에서의- 유체의 질량 및/또는 유체의 부피이다.
세정 작업을 수행하기 위해, 유체는 바람직하게는 유체 가이드의 개별 또는 다수의 구성 요소로 선택적으로 가져가질 수 있으며, 특히 펌핑될 수 있으며 그 안에 저장될 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 유체 탱크를 세정하기 위해 유체가 하나 이상의 처리 컨테이너에 및/또는 하나 이상의 카운터 탱크에 완전히 수용될 수 있는 것이 제공될 수 있다. 더욱이, 하나 이상의 처리 컨테이너를 세정하기 위해, 예를 들어 유체가 하나 이상의 유체 탱크에 및/또는 하나 이상의 카운터 탱크에 완전히 수용될 수 있는 것이 제공될 수 있다. 또한, 예를 들어 하나 이상의 카운터 탱크를 세정하기 위해 유체가 하나 이상의 유체 탱크에 및/또는 하나 이상의 처리 컨테이너에 완전히 수용될 수 있는 것이 선택적으로 제공될 수 있다.
처리 유닛의 여러 처리 스테이션, 특히 모든 처리 스테이션, 특히 처리 유닛의 하나 이상의 또는 모든 제1 처리 스테이션과 하나 이상의 또는 모든 제2 처리 스테이션이 처리 플랜트의 공통 레벨에 배열된다. 이는 특히 처리 스테이션의 처리 챔버가 피가공물의 수평 이동을 통해서만, 특히 높이 변화 또는 레벨 변화없이 피가공물에 접근 가능하다는 것을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.
처리 플랜트의 여러 처리 유닛이 처리 플랜트의 별개의 레벨에 배열되어 있다면 유리할 수 있다.
여러 처리 스테이션이 중력 방향을 따라서 서로의 위에 배열되는 것이 제공될 수 있다. 이 경우 처리 스테이션은 처리 플랜트의 지지 구조체, 특히 강 구조물의 상이한 부분 또는 레벨에 배열되고 특히 지지될 수 있다. 더욱이, 하나 이상의 처리 스테이션이 그 위에 배열된 하나 이상의 추가 처리 스테이션을 하중 지지 방식으로 각각 수용하는 것이 제공될 수 있다. 부가적인 지지 구조체는 여기에서 불필요할 수 있다. 이 목적을 위하여, 처리 컨테이너는 바람직하게는 그 위에 배열된 하나 이상의 처리 스테이션의 중량을 수용할 수 있는 방식으로 치수화되고 및/또는 설계된다.
하나 이상의 유체 탱크 또는 카운터 탱크가 하나 이상의 처리 컨테이너 위에 또는 2개의 처리 컨테이너 사이에 배열되고, 특히 하나 이상의 처리 컨테이너에 의해 하중 지지 방식으로 유지된다면 유리할 수 있다. 하나 이상의 유체 탱크 또한 카운터 탱크를 위한 부가적인 지지 구조체는 그러면 바람직하게는 불필요하다.
더욱이, 하나 이상의 처리 컨테이너가 하나 이상의 유체 탱크 및/또는 카운터 탱크 상에 직접 배열되는 것, 그리고 하나 이상의 유체 탱크 및/또는 카운터 탱크가 하중 지지 방식으로 하나 이상의 처리 컨테이너를 수용하는 것이 제공될 수 있다.
공통 유체 가이드를 갖고 및/또는 동일한 처리 단계를 수행하는 역할을 하는, 처리 플랜트의 별개의 처리 유닛의 하나 이상의 처리 스테이션은 바람직하게는 중력 방향을 따라서 하나가 다른 것 위에 배열된다.
궁극적으로 단일 처리 유닛과 비교하여 처리 플랜트의 더 큰 처리 용량을 제공할 수 있도록 하기 위하여 특히 각 처리 유닛으로 동일한 처리 단계가 수행될 수 있도록 처리 플랜트의 상이한 레벨들에 배열된 여러 처리 유닛은 바람직하게는 기능적으로 동일하다
이 경우, 피가공물들은 바람직하게는 여러 처리 유닛 중 하나의 처리 유닛에 별도로 각각 할당되며 이 단일 처리 유닛만을 통과한다. 대조적으로, 하나 이상의 유체 가이드는 바람직하게는 여러 처리 유닛에 걸쳐 펼쳐지도록 설계되며 또한 특히 동일한 처리 단계를 수행하기 위해 여러 처리 유닛에 할당된다.
중력 방향을 따라 하나가 다른 것 위에 배열된 처리 스테이션들이 공통 유체 가이드에 의해 연결된다면 유리할 수 있으며, 따라서 특히 유체가 개별 처리 스테이션에 연속적으로 공급될 수 있고 플러딩 공정을 수행하기 위해 사용될 수 있으며, 여기서 유체는 특히 중력을 사용하여 처리 스테이션으로부터 중력 방향 아래에 위치된 추가 처리 스테이션으로 안내될 수 있다.
공통 카운터 탱크가 모든 처리 스테이션 아래에 배열된다면 및/또는 공통 유체 탱크가 모든 처리 스테이션 위에 배열된다면 유리할 수 있다.
그러면 유체는 특히 유체 탱크에서 상부 처리 스테이션으로, 그후 하부 처리 스테이션으로 (적용 가능한 경우, 중간의 중앙 처리 스테이션으로), 그리고 최종적으로 카운터 탱크로 안내될 수 있다. 유체는 바람직하게는 펌프 디바이스에 의해 카운터 탱크에서 다시 유체 탱크로 펌핑될 수 있다.
처리 플랜트가 별개의 처리 유체를 안내하기 위한 여러 유체 가이드를 포함한다면 유리할 수 있으며, 여기서 유체 가이드들은 상이한 처리 단계들을 수행하기 위해 별개의 처리 스테이션들에 할당된다.
대안적으로 또는 부가적으로, 처리 플랜트가 별개의 처리 유체를 안내하기 위하여 여러 유체 가이드를 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 상이한 처리 단계들을 선택적으로 수행하기 위하여 처리 유체들 중 하나가 처리 스테이션들에 선택적으로 공급될 수 있도록 유체 가이드는 동일한 처리 스테이션에 할당된다.
피가공물을 처리하기 위하여, 특히 다음의
적어도 하나의 피가공물을 하나 이상의 처리 스테이션의 하나 이상의 처리 챔버 내로 도입하는 것;
처리를 수행하기 위해 하나 이상의 처리 챔버를 유체로 플러딩하는 것의 방법 단계가 수행되는 방법이 특히 수행되며, 여기서, 유체 가이드에 의해, 유체는 하나 이상의 처리 챔버를 플러딩하기 위하여 유체 탱크로부터 각각의 처리 챔버 내로 및/또는 처리 챔버를 비우기 위해 각각의 처리 챔버로부터 유체 탱크 내로 안내된다.
유체가 유체 탱크로부터 연속적으로, 특히 완전히 시차를 두고 제거되고 하나 이상의 처리 챔버로 공급된다면 유리할 수 있다. 특히, 그 후, 예를 들어 이후에 또는 나중에, 유체는 바람직하게는 -선택적으로 세정 디바이스에서의 유체의 세정 후 유체 탱크 내로 다시 안내된다. 유체 탱크 및/또는 하나 이상의 처리 챔버는 따라서 바람직하게는 교대로 채워지고 비워진다.
더욱이, 유체가 연속적으로, 특히 완전히 시차를 두고 제1 처리 유닛의 처리 스테이션의 하나 이상의 처리 챔버에 공급되는 것이, 그리고 그 후, 특히 후속적으로 또는 나중에, 예를 들어 임시 저장 탱크 내에서의 임시 저장 후, 제2 처리 유닛의 처리 스테이션의 하나 이상의 처리 챔버에 공급되는 것이 제공될 수 있다.
처리 플랜트가 피가공물을 처리하기 위한, 특히 차체를 세정 및/또는 코팅하기 위한 여러 처리 스테이션을 포함한다면 유리할 수 있으며, 여기서 하나 이상의 처리 스테이션은 바람직하게는 피가공물을 수용하기 위한 처리 챔버를 둘러싸는 적어도 하나의 처리 컨테이너를 각각 포함한다.
처리 플랜트는 바람직하게는 유체 가이드를 포함하며, 유체 가이드에 의해 처리 챔버들 하나 이상은 선택적으로 플러딩되거나 비워질 수 있다.
처리 플랜트가 피가공물을 운반하기 위한 운반 디바이스를 포함한다면 유리할 수 있으며, 운반 디바이스에 의해 피가공물은 하나 이상의 처리 챔버 내로 도입될 수 있거나 처리 챔버의 비어있는 상태에서 처리 챔버로부터 배출될 수 있다. 피가공물이 운반 디바이스에 의해 수평 평면을 따라 이동될 수 있는 것이, 특히 처리 챔버 내로 도입될 수 있도록 및/또는 처리 챔버로부터 배출될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
특히, 피가공물은 접근 개구를 통해 처리 챔버 내로 도입될 수 있거나 추가 또는 동일한 접근 개구를 통해 처리 챔버로부터 배출될 수 있다.
처리 플랜트는 주 운반 방향으로 연장되는 주 운반 경로를 포함하며 피가공물이 운반 디바이스에 의하여 주 운반 경로를 따라서 처리 스테이션으로부터 추가 처리 스테이션으로 운반될 수 있으며, 여기서 별개의 처리 단계는 바람직하게는 처리 스테이션에서 수행되거나 수행될 수 있다.
피가공물은 바람직하게는 주 운반 방향을 따라서 및/또는 주 운반 경로를 따라서 피가공물의 횡방향으로 운반될 수 있다.
피가공물의 횡 방향은 특히, 피가공물이 이동 방향, 특히 주 운반 방향을 따라 운반될 때, 피가공물의 주 길이 방향 축, 특히 차체의 주 길이 방향 축이 이동 방향, 특히 주 운반 방향을 가로질러, 바람직하게는 주 운반 방향과 적어도 대략적으로 수직으로 배향되는 방식으로의 피가공물의 방향이다.
피가공물의 길이 방향은 특히, 피가공물이 이동 방향, 특히 주 운반 방향을 따라 운반될 때, 피가공물의 주 길이 방향 축, 특히 차체의 주 길이 방향 축이 이동 방향, 특히 주 운반 방향과 적어도 대략 평행하게 배향되는 방식으로의 피가공물의 방향이다.
피가공물이 그의 길이 방향으로 하나 이상의 처리 챔버로 도입되거나 처리 챔버로부터 배출될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
처리 챔버 내로의 도입 동안 및/또는 처리 챔버로부터 피가공물의 배출 동안 피가공물의 이동 방향은 주 운반 방향을 가로지르며, 특히 주 운반 방향에 적어도 대략적으로 수직이다.
특히, 피가공물이 도입 방향으로 처리 챔버 내로 도입될 수 있는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 도입 방향은 운반 디바이스의 주 운반 방향을 가로지르며, 특히 주 운반 방향에 대해 적어도 대략적으로 수직이다.
처리 플랜트는 바람직하게는 동일한 처리 단계들을 수행하기 위한 여러 처리 스테이션을 포함하며, 여기서 2개 이상의 이러한 처리 스테이션은 바람직하게는 운반 디바이스의 주 운반 경로의 대향 측부들 상에 배열된다.
운반 디바이스에 의하여, 운반된 피가공물들은 바람직하게는 대안적으로 처리 스테이션에 분배될 수 있다.
더욱이, 처리 플랜트가 동일한 처리 단계를 수행하기 위하여 여러 처리 스테이션을 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 2개 이상의 이러한 처리 스테이션은 이송 디바이스의 주 운반 방향을 따라 연속적으로 및/또는 서로 옆에 및/또는 주 운반 경로에 대해 동일한 측면에 배열된다. 운반 디바이스에 의해, -특히 처리 플랜트의 최적화된 이용을 가능하게 하기 위해, 피가공물이 이 처리 스테이션에 바람직하게 할당될 수도 있다.
여러 처리 스테이션이 하나의 처리 유닛을 형성하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 처리 유닛의 여러, 특히 모든 처리 스테이션, 특히 처리 유닛의 하나 이상의 또는 모든 제1 처리 스테이션 및 하나 이상의 또는 모든 제2 처리 스테이션은 처리 플랜트의 공통 레벨에 배열된다.
본 발명의 일 실시예에서, 처리 플랜트가 주 운반 방향으로 연장되는 주 운반 경로를 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 피가공물은 주 운반 경로를 따라서 운반 디바이스에 의해 처리 스테이션으로부터 추가 처리 스테이션으로 운반될 수 있고, 여기서 주 운반 경로는 주 운반 경로를 수용하기 위한 하나 이상의 터널 부분을 포함한다.
바람직하게는, 하나 이상의 터널 부분, 특히 2개의 처리 스테이션 사이에서 주 운반 방향을 따라 배열된 하나 이상의 터널 부분은 예를 들어 세정 유체, 예를 들어 탈지 유체를 적용하기 위한 세정 스테이션 및/또는 플러싱 스테이션 및/또는 분사 스테이션을 갖는다. 적용된 유체는 특히 피가공물 상으로 분사될 수 있거나 스트림(stream)과 같은 방식으로 피가공물에 전달될 수 있다.
피가공물의 운반 동안 피가공물에서 유체가 떨어지는 것이 일어날 수 있다. 따라서 운반 디바이스, 특히 주 운반 경로는 바람직하게는 하나 이상의 수집 요소를 포함하며, 이 수집 요소는 예를 들어 수집 트로프(collecting trough)로서 설계되고 피가공물로부터 떨어지는 유체를 수용하는 역할을 한다.
처리 컨테이너와 하나 이상의 수집 요소 사이 및/또는 처리 컨테이너와 터널 부분 사이의 전이 영역에서의 밀봉을 위하여, 예를 들어 플러시 종료부 (flush termination) 및/또는 하나 이상의 밀봉 요소, 예를 들어, 밀봉 플레이트, 밀봉 브러시, 밀봉 후드 및/또는 하나 이상의 흡입(suction) 디바이스가 제공될 수 있다.
처리 스테이션 및/또는 처리 플랜트가 피가공물로부터의 유체를 송풍하기 위하여 블로어(blower) 디바이스를 포함한다면 유리할 수 있다. 이러한 블로어 디바이스는, 예를 들어 처리 컨테이너 내부에 및/또는 터널 부분에 및/또는 이들 사이의 전이부(transition)에 배열될 수 있다. 예를 들어, 블로어 디바이스는 폐쇄 디바이스의 영역에서 처리 컨테이너 외부에 배열 및/또는 형성될 수 있다.
블로어 디바이스는 특히 피가공물의 전체적인 유입을 위하여 에어 커튼을 생성하기 위한 하나 이상의 에어 커튼 디바이스 및/또는 피가공물의 국부적인 유입을 위하여 개별 흐름 제트를 생성하기 위한, 특히 유체 축적물의 직접적인 분출을 위한 하나 이상의 노즐 디바이스, 예를 들어 제트 노즐을 포함한다.
처리 플랜트는 바람직하게는 처리 플랜트의 공통 레벨에 배열된 2개의 처리 유닛을 포함하며, 여기서 2개의 처리 유닛의 운반 디바이스는 주 운반 경로는 서로에 대해 역평행하게 배향되고 및/또는 연속하여 선형적으로 배열된다.
특히, 2개의 처리 유닛이 피가공물을 공급하기 위한, 서로로부터 떨어져 대향하도록 배열된 공급 스테이션들 및/또는 피가공물을 제거하기 위한, 서로로부터 떨어져 대향하도록 배열된 제거 스테이션들, 및/또는 특히 주 운반 경로들 사이의 중심적으로 배열되는, 피가공물을 제거하기 위한 공통 제거 스테이션을 갖는 것이 제공될 수 있다.
대안적으로, 2개의 처리 유닛이 피가공물을 제거하기 위한, 서로로부터 떨어져 대향하도록 배열된 제거 스테이션들 및/또는 피가공물을 공급하기 위한, 서로로부터 떨어져 대향하도록 배열된 공급 스테이션들, 및/또는 특히 주 운반 경로들 사이의 중심적으로 배열되는, 피가공물을 공급하기 위한 공통 공급 스테이션을 갖는 것이 제공될 수 있다.
운반 디바이스가 하나 이상의 분기 컨베이어(branching conveyors)를 포함한다면 유리할 수 있으며, 분기 컨베이어에 의해 피가공물은 주 운반 경로에서 제거될 수 있고 하나 이상의 처리 챔버 내로 도입될 수 있으며, 및/또한 분기 컨베이어에 의해 피가공물은 하나 이상의 처리 챔버에서 배출될 수 있고 주 운반 경로로 다시 가져가질 수 있다.
특히, 이러한 처리 플랜트의 경우에, 피가공물의 처리를 위하여, 특히 차체를 세정 및/또는 코팅하기 위하여, 다음의
운반 디바이스에 의해 하나 이상의 피가공물을 운반하는 단계;
처리 단계를 수행하기 위해 처리 스테이션의 처리 챔버 내로 하나 이상의 피가공물을 도입하는 단계;
처리 챔버를 유체로 플러딩하는 단계;
유체를 제거하고, 운반 디바이스에 의해 처리 챔버로부터 피가공물을 배출하는 단계가 수행되는 것이 제공될 수 있으며,
피가공물은 특히 적어도 대략 수평 방향으로 처리 챔버 내로 도입되고 처리 챔버로부터 배출된다.
피가공물이 주 운반 방향을 따라서 한 처리 스테이션에서 다음 처리 스테이션으로 운반되는 것 그리고 또한 횡 방향으로, 특히 주 운반 방향에 수직으로 연장되는 도입 방향으로 처리 스테이션의 처리 챔버 내로 도입되는 것이 바람직하게는 제공된다.
처리 플랜트의 추가 실시예에서, 처리 플랜트가 피가공물을 처리하기 위한, 특히 차체를 세정 및/또는 코팅하기 위한 여러 처리 스테이션을 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 하나 이상의 처리 스테이션은 피가공물을 수용하기 위한 처리 챔버를 둘러싸는 적어도 하나의 처리 컨테이너를 각각 포함하고, 처리 플랜트는 유체 가이드를 포함하며, 유체 가이드에 의하여 처리 챔버들 중 하나 이상은 선택적으로 플러딩되거나 비워질 수 있다.
처리 플랜트는 바람직하게는 피가공물을 운반하기 위한 운반 디바이스를 포함하며, 운반 디바이스에 의해, 각각의 처리 챔버의 비워진 상태에서, 피가공물은 도입 개구로서 설계된 접근 개구를 통해 처리 챔버 내로 도입될 수 있고, 그리고 운반 디바이스에 의해, 각각의 처리 챔버가 비워진 상태에서, 피가공물은 배출 개구로 설계된 접근 개구를 통해 처리 챔버로부터 배출될 수 있다.
도입 개구 및 배출 개구는 바람직하게는 별개의 접근 개구이며, 특히 처리 스테이션의 대향 측벽들에 있다.
피가공물이 운반 디바이스에 의해 수평 평면을 따라 이동될 수 있고, 특히 처리 챔버 내로 도입될 수 있고 및/또는 처리 챔버로부터 배출될 수 있다면 유리할 수 있다.
바람직하게는, 피가공물의 높이 위치는 처리 챔버 내로의 피가공물의 도입 동안 및/또는 처리 챔버로부터의 피가공물의 배출 동안 적어도 대략 변경되지 않은 상태로 유지된다.
처리 플랜트가 주 운반 방향으로 연장되는 주 운반 경로를 포함하고 피가공물이 운반 디바이스에 의해 주 운반 경로를 따라서 처리 스테이션에서 추가 처리 스테이션으로 운반될 수 있다면 유리할 수 있다.
또한, 피가공물이 그의 길이 방향으로, 주 운반 방향을 따라서 및/또는 주 운반 경로를 따라서 운반될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
피가공물은 바람직하게는 하나 이상의 처리 챔버를 통해 피가공물의 길이 방향으로 운반될 수 있다.
운반 디바이스가 하나 이상의 이송 스테이션을 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 이 이송 스테이션에서 또는 이송 스테이션에 의해 피가공물은 처리 플랜트의 동일한 처리 유닛의 및/또는 이와는 다른 처리 유닛의 처리 스테이션으로부터 (주 운반 방향을 따라 뒤따르는) 추가 처리 스테이션으로 선택적으로 이송될 수 있다. 이러한 이송 스테이션에 의해, 예를 들어 관련 처리 유닛의 작동을 완전히 중단하지 않고도 처리 유닛의, 결함이 있거나 유지 보수될 또는 세정될 처리 스테이션을 일시적으로 우회시킬 수 있도록, 처리 유닛에서 추가 처리 유닛으로의 피가공물의 이송이 특히 일어날 수 있다.
처리 플랜트가 동일한 처리 단계를 수행하기 위한 여러 처리 스테이션을 포함한다면 유리할 수 있으며, 여기서 2개 이상의 이러한 처리 스테이션은 바람직하게는 서로 인접하게 배열되고 및/또는 서로 평행하게 연장되는 처리 유닛들의 일부 또는 처리 플랜트의 그들의 처리 라인이다.
처리 라인은 특히 처리 유닛의 처리 스테이션들이 처리 방향, 특히 주 이송 운반 방향을 따라 연속적으로 배열되는 처리 유닛이다.
본 발명의 한 실시예에서, 처리 플랜트가 주 운반 방향으로 연장된 주 운반 경로-피가공물은 운반 디바이스에 의하여 주 운반 경로를 따라서 처리 스테이션에서 추가 처리 스테이션으로 운반될 수 있다- 포함하는 것이 제공될 수 있으며, 여기서 주 운반 경로는 주 운반 경로를 수용하기 위한 하나 이상의 터널 부분을 포함하고, 하나 이상의 터널 부분, 특히 2개의 처리 스테이션 사이의 주 운반 방향을 따라서 배열된 하나 이상의 터널 부분은 세정 스테이션 및/또는 플러싱 스테이션 및/또는 분사 스테이션을 갖는다.
하나 이상의 세정 스테이션 및/또는 플러싱 스테이션 및/또는 분사 스테이션은 바람직하게는 하나 이상의 이송 스테이션에 배열 및/또는 형성된다.
개별 터널 부분들 및/또는 하나 이상의 세정 스테이션 및/또는 플러싱 스테이션 및/또는 분사 스테이션을 분리하기 위하여, 기계적 게이트, 예를 들어 롤링 게이트 또는 고속 게이트가 제공될 수 있다.
처리 플랜트는 바람직하게는 동일한 처리 공정을 수행하기 위한 적어도 2개의 처리 스테이션을 포함하며, 여기서 분배기 디바이스 또는 결합 디바이스는 피가공물의 주 운반 방향에 대해 이 처리 스테이션의 앞에 및/또는 뒤에 배열된다.
분배기 디바이스에 의해, 운반 디바이스를 통해 공급되는 피가공물들은 바람직하게는 적어도 2개의 처리 스테이션에 할당하거나 분배될 수 있다. 그 결과, 운반 비용을 최적화하기 위해 피가공물의 공통 공급이 제공될 수 있다.
결합 디바이스에 의해, 적어도 2개의 처리 스테이션으로부터 배출된 피가공물들은 바람직하게는 결합되며 함께 더 운반될 수 있으며, 따라서 운반 비용도 바람직하게는 마찬가지로 최소화될 수 있다.
분배기 디바이스 및/또는 결합 디바이스는 바람직하게는 각각 횡 방향 변위 디바이스로 설계된다.
이러한 횡 방향 변위 디바이스의 경우에, 이후에 주 운반 방향에 평행한 추가 운반 오프셋, 특히 주 운반 경로에 평행한 추가 운반 오프셋을 가능하게 하기 위하여, 피가공물이 주 운반 방향을 가로지르는, 특히 주 운반 방향에 수직인 방향으로 변위되는 것이 특히 제공된다.
처리 플랜트는 바람직하게는 플러딩 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션 및 디핑 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션을 포함한다.
플러딩 공정을 수행하기 위한 처리 스테이션에서, 유체가 처리 챔버 내로 도입되고 따라서 플러딩 공정이 수행되는 동안 피가공물은 바람직하게는 정지 상태로 유지된다.
그에 반하여, 디핑 공정을 수행하기 위한 처리 스테이션에서, 예를 들어 각각의 피가공물을 안쪽 그리고 바깥쪽을 향하게 하거나 하강 및 상승시킴으로써 피가공물이 특히 위로부터 유체로 도입되고 처리 공정이 수행된 후 유체 밖으로 상향 이동되도록 유체는 바람직하게는 실질적으로 움직이지 않는다.
플러딩 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션은 피가공물을 전처리, 특히 세정, 탈지 및/또는 인산염 처리하기 위하여 각각 사용된다.
디핑 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션은 바람직하게는 피가공물을 코팅, 특히 페인팅하기 위하여 사용되며; 예를 들어 디핑 공정을 수행하기 위한 처리 스테이션 형태의 음극 딥-페인팅 플랜트는 플러딩 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션 다음에 제공될 수 있다.
피가공물을 처리하기 위하여, 다음의
운반 디바이스에 의해 하나 이상의 피가공물을 운반하는 것;
처리 단계를 수행하기 위해 처리 스테이션의 처리 챔버 내로 하나 이상의 피가공물을 도입하는 것;
처리 챔버를 유체로 플러딩하는 것;
유체를 제거하고 운반 디바이스에 의해 처리 챔버로부터 피가공물을 배출하는 것을 포함하는 방법이 특히 수행되며,
여기서, 각각의 처리 챔버의 비워진 상태에서, 운반 디바이스에 의해, 피가공물은 도입 개구로서 설계된 접근 개구를 통해 처리 챔버 내로 도입되고, 그리고 각각의 처리 챔버의 비워진 상태에서, 운반 디바이스에 의해, 피가공물은 배출 개구로 설계된 접근 개구를 통해 처리 챔버로부터 배출되며, 여기서 도입 개구와 배출 개구는 바람직하게는 별개의 접근 개구이다.
피가공물은 바람직하게는 하나의 처리 스테이션에서 다음 처리 스테이션으로 주 운반 방향을 따라서 피가공물의 길이 방향으로 운반되며, 처리 스테이션의 처리 챔버를 통해 피가공물 길이 방향으로 운반된다.
하나 이상의 처리 스테이션, 특히 하나 이상의 처리 컨테이너 및/또는 유체 탱크가 전체적으로 모듈식으로 및/또는 개별적으로 운송되도록 설계 및/또는 배열된다면 유리할 수 있다. 특히, 하나 이상의 처리 스테이션, 특히 하나 이상의 처리 컨테이너 및/또는 유체 탱크가 필요에 따라 주 운반 경로 상에 또는 그로부터 멀리 떨어져 배열되며 따라서 선택적으로 피가공물로 채워질(populated) 수 있는 것 또는 처리 순서에서 우회될 수 있는 것이 제공될 수 있다.
본 발명의 추가적인 바람직한 특징 및/또는 이점은 다음의 설명 및 예시적인 실시예를 도시하는 도면의 대상물이다.
도면에서;
도 1은 하나가 다른 하나 위에 배열된 2개의 처리 유닛이 각각의 경우에 여러 처리 스테이션을 구비하고 있는 처리 플랜트의 제1 실시예의 개략적인 사시 도면을 보여주고 있으며, 여기서 피가공물은 주 운반 방향을 따라서 횡 방향으로 운반 디바이스에 의하여 운반될 수 있다.
도 2는 도 1의 처리 플랜트를 관통한 개략적인 수직 횡단면도를 보여주고 있다.
도 3은 도 1의 처리 플랜트의 위로부터의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 4는 도 1의 처리 설비를 관통한 개략적인 수직 횡단면을 보여주고 있다.
도 5는 도 1의 처리 플랜트의 처리 스테이션의 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 6은 도 5의 처리 스테이션의 다른 개략 사시도를 보여주고 있으며, 여기서 처리 스테이션의 처리 컨테이너의 측벽은 숨겨져 있다.
도 7은 도 1에 대응하는, 피가공물이 주 운반 방향을 따라서 피가공물의 길이 방향으로 운반될 수 있는 처리 플랜트의 제2 실시예의 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 8은 도 7의 처리 플랜트의 개략적인 측면도를 보여주고 있다.
도 9는 도 7의 처리 플랜트의 위로부터의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 10은 도 7의 처리 플랜트를 관통한 개략적인 수직 횡단면을 보여주고 있다.
도 11은 도 7의 처리 플랜트의 처리 스테이션의, 도 5에 대응하는 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 12는 도 11에 대응하는, 도 7의 처리 플랜트의 처리 스테이션의 걔략적인 사시도를 보여주고 있으며, 여기서 처리 스테이션의 처리 컨테이너의 측벽은 숨겨져 있다.
도 13은 주 운반 경로의 양측에 처리 스테이션이 제공되는 처리 플랜트의 제3 실시예의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 14는 공통 주 운반 경로 또는 2개의 주 운반 경로의, 서로로부터 떨어져 대향하는 2개의 종단이 피가공물을 공급하기 위한 공급 스테이션에 인접하는 처리 플랜트의 제4 실시예의 개략적인 평면도를 보여주고 있으며, 여기서 피가공물을 제거하기 위한 공통 제거 스테이션이 기본적으로 중앙에 제공된다.
도 15는 피가공물들이 상이한 처리 스테이션들로 분배될 수 있고 운반 비용을 최소화하기 위해 결합될 수 있도록 운반 디바이스의 분배기 디바이스와 결합 디바이스가 제공되는 처리 플랜트의 제5 실시예의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 16은 플러딩 공정을 수행하기 위한 처리 스테이션과 디핑 공정을 수행하기 위한 처리 스테이션의 조합이 제공되는 처리 플랜트의 제6 실시예의 상부측의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 17은 도 16의 영역 XVII의 확대도를 수직 길이 방향 횡단면도 형태로 보여주고 있다.
도 18은 도 17의 영역 XVIII의 확대도를 보여주고 있다.
도 19는 도 18에 도시된 처리 스테이션의 대안적인 구성을 보여주고 있다.
도 20은 도 19에 따른 처리 스테이션을 관통한 개략적인 수직 단면도를 보여주고 있으며, 여기서 처리될 상이한 피가공물은 처리 스테이션의 처리 챔버 내부에 배열되어 있다.
도 21은 운반 디바이스의 외부 구동 유닛 및 센서 디바이스의 2개의 외부 센서 요소가 제공되는 처리 스테이션의 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 22는 도 21의 운반 디바이스 및 센서 디바이스의 개략적인 분리 사시도를 보여주고 있다.
도 23은 처리 챔버를 향하는 구동 유닛의 내부 측면과 결합 디바이스의 상부 부분의 도면과 함께, 도 22의 영역 XXIII의 확대도를 보여주고 있다.
도 24는 도 22의 영역 XXIV의 확대도를 보여주고 있다.
도 25는 도 22의 영역 XXV의 확대도를 보여주고 있다.
도 26은 도 22의 영역 XXVI의 확대도를 보여주고 있다.
도 27은 도 22의 영역 XXVI의, 다른 시야 방향으로 확대한 도면이다.
동일하거나 기능적으로 동등한 요소들은 모든 도면에서 동일한 참조 부호를 구비한다.
도 1은 하나가 다른 하나 위에 배열된 2개의 처리 유닛이 각각의 경우에 여러 처리 스테이션을 구비하고 있는 처리 플랜트의 제1 실시예의 개략적인 사시 도면을 보여주고 있으며, 여기서 피가공물은 주 운반 방향을 따라서 횡 방향으로 운반 디바이스에 의하여 운반될 수 있다.
도 2는 도 1의 처리 플랜트를 관통한 개략적인 수직 횡단면도를 보여주고 있다.
도 3은 도 1의 처리 플랜트의 위로부터의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 4는 도 1의 처리 설비를 관통한 개략적인 수직 횡단면을 보여주고 있다.
도 5는 도 1의 처리 플랜트의 처리 스테이션의 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 6은 도 5의 처리 스테이션의 다른 개략 사시도를 보여주고 있으며, 여기서 처리 스테이션의 처리 컨테이너의 측벽은 숨겨져 있다.
도 7은 도 1에 대응하는, 피가공물이 주 운반 방향을 따라서 피가공물의 길이 방향으로 운반될 수 있는 처리 플랜트의 제2 실시예의 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 8은 도 7의 처리 플랜트의 개략적인 측면도를 보여주고 있다.
도 9는 도 7의 처리 플랜트의 위로부터의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 10은 도 7의 처리 플랜트를 관통한 개략적인 수직 횡단면을 보여주고 있다.
도 11은 도 7의 처리 플랜트의 처리 스테이션의, 도 5에 대응하는 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 12는 도 11에 대응하는, 도 7의 처리 플랜트의 처리 스테이션의 걔략적인 사시도를 보여주고 있으며, 여기서 처리 스테이션의 처리 컨테이너의 측벽은 숨겨져 있다.
도 13은 주 운반 경로의 양측에 처리 스테이션이 제공되는 처리 플랜트의 제3 실시예의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 14는 공통 주 운반 경로 또는 2개의 주 운반 경로의, 서로로부터 떨어져 대향하는 2개의 종단이 피가공물을 공급하기 위한 공급 스테이션에 인접하는 처리 플랜트의 제4 실시예의 개략적인 평면도를 보여주고 있으며, 여기서 피가공물을 제거하기 위한 공통 제거 스테이션이 기본적으로 중앙에 제공된다.
도 15는 피가공물들이 상이한 처리 스테이션들로 분배될 수 있고 운반 비용을 최소화하기 위해 결합될 수 있도록 운반 디바이스의 분배기 디바이스와 결합 디바이스가 제공되는 처리 플랜트의 제5 실시예의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 16은 플러딩 공정을 수행하기 위한 처리 스테이션과 디핑 공정을 수행하기 위한 처리 스테이션의 조합이 제공되는 처리 플랜트의 제6 실시예의 상부측의 개략적인 평면도를 보여주고 있다.
도 17은 도 16의 영역 XVII의 확대도를 수직 길이 방향 횡단면도 형태로 보여주고 있다.
도 18은 도 17의 영역 XVIII의 확대도를 보여주고 있다.
도 19는 도 18에 도시된 처리 스테이션의 대안적인 구성을 보여주고 있다.
도 20은 도 19에 따른 처리 스테이션을 관통한 개략적인 수직 단면도를 보여주고 있으며, 여기서 처리될 상이한 피가공물은 처리 스테이션의 처리 챔버 내부에 배열되어 있다.
도 21은 운반 디바이스의 외부 구동 유닛 및 센서 디바이스의 2개의 외부 센서 요소가 제공되는 처리 스테이션의 개략적인 사시도를 보여주고 있다.
도 22는 도 21의 운반 디바이스 및 센서 디바이스의 개략적인 분리 사시도를 보여주고 있다.
도 23은 처리 챔버를 향하는 구동 유닛의 내부 측면과 결합 디바이스의 상부 부분의 도면과 함께, 도 22의 영역 XXIII의 확대도를 보여주고 있다.
도 24는 도 22의 영역 XXIV의 확대도를 보여주고 있다.
도 25는 도 22의 영역 XXV의 확대도를 보여주고 있다.
도 26은 도 22의 영역 XXVI의 확대도를 보여주고 있다.
도 27은 도 22의 영역 XXVI의, 다른 시야 방향으로 확대한 도면이다.
동일하거나 기능적으로 동등한 요소들은 모든 도면에서 동일한 참조 부호를 구비한다.
도 1 내지 도 6에서 보여지고 전체적으로 100으로 표기되는 처리 플랜트는 피가공물(102), 예를 들어 차체(104)를 처리하는 역할을 한다.
처리 플랜트(100)는 하나 이상의 처리 유닛(106), 예를 들어 2개의 처리 유닛(106)을 포함하고 있으며, 여러 처리 단계를 수행하기 위하여 피가공물(102)은 이 처리 유닛을 선택적으로 통과한다.
도 1 내지 도 6에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제1 실시예에서, 처리 유닛(106)에 공급하기 위한 공급 스테이션(108)이 제공된다.
공급 스테이션(108)은 처리 플랜트(100)의 운반 디바이스(110)의 일부이다.
바람직하게는, 공급 스테이션(108)은 피가공물(102)을 처리 유닛(106)에 분배하기 위한 분배기 디바이스(112)를 형성한다.
공급 스테이션(108)은 예를 들어 리프트로서 설계되며, 처리 플랜트(100)의 상이한 레벨에 배열된 처리 유닛(106)에 피가공물(102)을 공급하는 역할을 한다.
처리 플랜트(100), 특히 각 처리 유닛(106)은 피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 보다 상세하게 설명될 플러딩(flooding) 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션(114)을 포함하고 있다.
처리 스테이션(114)들은 운반 디바이스(110)의 주 운반 방향(116)을 따라서 연속적으로 배열되어 있다.
도 1 내지 도 6에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제1 실시예에서, 운반 디바이스(110)의 주 운반 경로(118)가 제공되며, 주 운반 경로는 모든 처리 스테이션(114)을 따라서 연장되고 피가공물(102)은 이로부터 개별 처리 스테이션(114)으로 공급될 수 있다. 주 운반 경로(118)는 특히 주 운반 경로(118)의 적어도 개별 부분을 수용하기 위한 하나 이상의 터널 부분(120)을 포함하고 있다.
또한, 주 운반 경로(118)는 바람직하게는 하나 이상의 세정 스테이션(122) 및/또는 분사 스테이션(124) 및/또는 플러싱 스테이션(126)을 포함한다.
세정 스테이션(122), 분사 스테이션(124) 및/또는 플러싱 스테이션(126)은 -특히 주 운반 방향(116)에 대해 - 하나 이상의 처리 스테이션(114)의 앞에, 여러 처리 스테이션(114) 사이, 및/또는 하나 이상의 처리 스테이션(114) 뒤에 배열 및/또는 형성된다.
피가공물(102)의 처리 후, 피가공물은 제거 스테이션(128)을 통해 추가로 운반될 수 있다.
제거 스테이션(128)은 특히, 상이한 처리 유닛(106)들에서 처리된 피가공물(102)들을 결합하기 위한 그리고 피가공물을 더 운반하는 조인트를 위한 결합 디바이스(130)를 형성한다.
도 1 내지 도 6에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제1 실시예에서. 피가공물(102)은 특히 횡 방향(132)으로 운반될 수 있으며, 특히 주 운반 방향(116)을 따라서 횡 방향(132)으로 운반될 수 있다.
특히 주 운반 경로(118)에 측 방향으로 인접한 처리 스테이션(114) 내로, 차체(104)는 바람직하게는 차체의 길이 방향 축을 따라서 도입된다.
특히 도 3에서 알 수 있는 바와 같이, 예를 들어 제1 처리 스테이션(114a), 제2 처리 스테이션(114b), 제3 처리 스테이션(114c) 및 제4 처리 스테이션(114d)이 각 처리 유닛(106)에 제공되어 있다.
유체 탱크(134)는 바람직하게는 각 처리 스테이션(114a, 114b, 114c, 114d)에 할당된다.
또한, 각 처리 스테이션(114a, 114b, 114c, 114d)은 피가공물 처리를 수행하기 위한 하나 이상의 처리 컨테이너(136)를 포함하고 있다.
피가공물(102)은 특히 액체로서 형성된 하나 이상의 유체로 처리될 수 있다.
피가공물(102)의 운반 동안, 따라서 특히 피가공물에서 액체가 떨어질 수 있다.
따라서 운반 디바이스(110), 특히 주 운반 경로(118)는 바람직하게는 하나 이상의 수집 요소(138)를 포함하고 있으며, 이 수집 요소는 예를 들어 수집 트로프(collecting trough)로서 설계되고 피가공물(102)로부터 떨어지는 액체를 수용하는 역할을 한다.
수집 요소(138)는 특히, 수집 요소로 수집된 액체를 재사용 또는 배출할 수 있도록 하기 위하여 설명될 처리 플랜트(100)의 유체 가이드에 통합된다.
특히 도 6에서 명백한 바와 같이, 각 처리 스테이션(114)은 예를 들어 처리 컨테이너(136) 위에 배열되고 예를 들어 액체 탱크인 유체 탱크(134)를 포함하고 있다.
유체 탱크(134)와 처리 컨테이너(136)는 유체 가이드(140)에 의해 서로 연결되거나 유체 가이드(140)의 일부를 형성한다.
유체 가이드(140)는 특히 유체 라인, 예를 들어 공급 라인(142)을 포함하고 있으며, 이에 의해 유체 탱크(134)로부터의 유체가 처리 컨테이너(136) 내로 도입될 수 있다.
밸브 디바이스(144)에 의하여, 공급은 특히 체적 흐름과 관련하여 제어 및/또는 조절될 수 있다.
공급 라인(142)은 특히 최하부 영역(146)에서 처리 컨테이너(136) 내부의 처리 챔버(148)로 개방된다.
처리 컨테이너(136)는 특히 폐쇄형 최하부 벽(150), 폐쇄형 최상부 벽(152), 2개의 폐쇄형 측벽(154) 및 폐쇄형 전면 벽(추가 측벽)(156)을 포함하고 있다.
추가 전면 벽(156), 즉 추가 및 따라서 제4 측벽(154)은 바람직하게는 접근 개구(158)를 구비한다.
접근 개구(158)는 바람직하게는 전면 벽(156)의 전체 면적의 적어도 약 60%, 바람직하게는 적어도 약 80%, 특히 적어도 약 95%에 걸쳐 연장된다.
접근 개구(158)는 특히 피가공물(102)을 도입하는 및/또는 피가공물(102)을 배출하는 역할을 한다.
따라서 접근 개구(158)는 특히 도입 개구(160) 및/또는 배출 개구(162)이다.
접근 개구(158)는 바람직하게는 처리 스테이션(114)의 폐쇄 디바이스(164)에 의해 폐쇄될 수 있다.
폐쇄 디바이스(164)는 특히 폐쇄 구동부(168)에 의해 개방 위치 또는 폐쇄 위치로 선택적으로 가져가질 수 있는 폐쇄 요소(166)를 포함하고 있다.
폐쇄 구동부(168)는, 예를 들어 리프팅 디바이스(170)이거나 이를 포함한다.
특히, 폐쇄 구동부(168)는 폐쇄 요소(166)를 구동, 특히 상승 및 하강시키기 위한 전기 모터 및 스핀들 구동부를 포함하고 있다.
이에 의하여 폐쇄 요소(166)는 바람직하게는 접근 개구(158)의 앞에서 이동될 수 있거나 그 위로 들어올려질 수 있다.
폐쇄 요소(166)는 특히 폐쇄 디바이스(164)의 록 게이트(lock gate)(172)를 형성한다.
폐쇄 요소(166)를 안내하기 위해 및/또는 처리 컨테이너(136)에서의 플러딩 공정 동안 폐쇄 요소(166)에 작용하는 유체 압력을 지지하기 위하여, 폐쇄 요소(166)의 변위 가능한 수용 및 안내를 위한 안내 디바이스(174)는 바람직하게는 처리 컨테이너(136) 상에 제공된다.
처리 컨테이너(136)의 유체 기밀성을 보장하기 위하여, 폐쇄 디바이스(164)는 바람직하게는 자기-록킹 및/또는 자체 밀봉되도록 설계된다.
운반 디바이스(110) 또는 운반 디바이스(110)의 적어도 일부분은 특히 처리 컨테이너(136)의 최하부 영역(146)에 배열 및/또는 형성된다.
특히, 피가공물(102)의 하중-지지 수용을 위한 운반 디바이스(110)의 안내 디바이스(176)는 최하부 영역(146)에 배열 및/또는 형성된다.
이러한 안내 디바이스(176)에 의하여, 수용 디바이스(178), 예를 들어 차체(104)로서 설계된 피가공물(102)을 수용하기 위한 스키드(skid)(180)가 특히 수용될 수 있으며 또한 처리 챔버(148) 내로 도입 및/또는 처리 챔버로부터 도입 방향(182)으로 특히 수평 방향(184)으로 배출될 수 있다. 운반 디바이스(110)는 바람직하게는 처리 컨테이너(136) 내부에 안내 디바이스(176)만을 갖고 있다. 운반 디바이스(110)의 구동 구성 요소는 바람직하게는 처리 컨테이너(136) 외부에 배열 및/또는 형성된다.
처리 컨테이너(136) 내에서 플러딩 공정을 수행하기 위하여, 유체는 공급 라인(142)을 통해 공급될 수 있다. 배출 라인(186)에 의하여, 유체는 바람직하게는 처리 컨테이너(136)로부터 배출될 수 있다.
피가공물(102) 주위에 완전히 유체 흐름을 가질 수 있기 위하여 또는 피가공물(102)이 유체 속으로 완전히 가라앉게 할 수 있도록 하기 위하여, 처리 컨테이너(136)의 내부 (처리 챔버(148))는 특정 충전 높이까지 유체로 채워져야 한다.
이러한 목적을 위하여 요구되는 유체의 양을 최소화하기 위하여, 하나 이상의 설치 요소(188), 특히 변위 요소(190)로서 설계된 설치 요소(188)가 바람직하게는 제공된다.
변위 요소(190)는 특히 처리 챔버(148 내의 자유 공간을 최소화하는 역할을 하며, 이 자유 공간은 불필요하게 유체로 채워져야 할 것이다.
이 경우에, 변위 요소(190)는 특히 처리될 피가공물(102)의 형상에 대해 적어도 부분에서 조정된다; 예를 들어, 피가공물(102)을 향하는 형상은 적어도 대략 피가공물(102)의 전면 영역의 형상을 따른다 (도 6 참조).
또한, 운반 디바이스(110)의 영역에서, 최하부 영역(146)의 자유 공간을 최소화하기 위하여 변위 요소(190)로 설계된 적어도 하나의 설치 요소(188)가 제공될 수 있다.
예를 들어, 하나 이상의 지지 요소(192)가 추가 설치 요소(188)로서 제공될 수 있다.
플러딩 공정 동안 이동 및/또는 변형에 대해 피가공물을 고정시키기 위하여, 특히 피가공물을 지지하기 위하여, 지지 요소(192)는 예를 들어 적어도 영역에서 피가공물(102)을 지지할 수 있다. 그 결과, 처리 챔버(148)의 가속된 플러딩이 바람직하게는 실현될 수 있다.
플러딩이 일어난 후, 유체로 피가공물(102)의 완전한 습윤 및/또는 피가공물 주위의 흐름을 보장하기 위하여 각각의 지지 요소(192)는 바람직하게는 피가공물(102)로부터 제거된다.
더욱이, 플러딩 공정을 향상시키기 위하여 플러딩 공정 전, 플러딩 공정 동안 및/또는 플러딩 공정 후에 하나 이상의 변위 요소(190)는 이동될 수 있다.
특히, 유체가 유체의 유입 동안 거품(foam) 형성의 경향이 있을 때, 유체가 영구적 및/또는 최소 유체 레벨 아래의 유입 영역(194) 내의 처리 챔버(148) 내로 흐르는 것이 제공될 수 있다. 폐쇄 디바이스(164)가 개방될 때 바람직하지 않은 유체의 유출을 방지하기 위하여 이 유입 영역(194)은 특히 접근 개구(158) 아래에 배열되어 있다.
특히, 도 4에서 알 수 있는 바와 같이, 별개의 처리 유닛(106)들의 처리 스테이션(114)들은 하나 이상의 공통 유체 가이드(140)에 의해 서로 연결될 수 있다.
유체 가이드(140)에 의하여, -중력 방향(g)에 대해- 상부 처리 유닛(106)의 유체 탱크(134)로부터의 유체가 먼저 이 상부 처리 유닛(106)의 처리 컨테이너(136) 내로 안내되도록 그후 처리 컨테이너(136)로부터 -중력 방향(g)에 대해- 하부 처리 유닛(106)의 유체 탱크(134) 내로 도입되도록, 따라서 하부 처리 유닛(106)의 처리 컨테이너(136)에서의 플러딩 공정을 위한 사용을 위하여 사용 가능할 수 있도록 특히 제공될 수 있다.
그 후, 유체는 예를 들어 하부 처리 유닛(106) 아래에 배열된 카운터 탱크(196) 내로 안내될 수 있으며, 하부 처리 유닛으로부터 유체는 예를 들어 펌프 디바이스(198)에 의하여 안내되고 및/또는 세정 디바이스(200)에 의한 유체의 세정 후 상부 처리 유닛(106)의 유체 탱크(134)로 뒤로 안내된다.
이러한 유체 가이드(140)는 원칙적으로 각 경우에 여러 처리 유닛(106) 내의 임의 유형의 처리 스테이션(114)을 위해 제공될 수 있다.
피가공물(102)이 처리 스테이션(114)의 처리 컨테이너(136)를 통해 주 운반 방향(116)을 따라서 길이 방향(202)으로 운반된다는 점에서 도 7 내지 도 12에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제2 실시예는 본질적으로 도 1 내지 도 6에서 보여지는 제1 실시예와 다르다.
특히 도 11 및 도 12에서 알 수 있는 바와 같이, 처리 스테이션(114)의 처리 컨테이너(136)는 이 목적을 위해 양측에 접근 개구(158)를 구비하며, 여기서 접근 개구(158)는 도입 개구(160)를 형성하고, 추가 접근 개구(158)는 배출 개구(162)를 형성한다.
이 경우에, 피가공물(102)은 특히 도입 방향(182)으로 처리 챔버(148)를 통해 운반될 수 있다.
양 접근 개구(158)는 처리 챔버(148)에서 플러딩 공정을 수행하기 위해 폐쇄되어야 한다. 이 목적을 위해, 개별 폐쇄 디바이스(164)가 각 접근 개구(158)에 할당된다.
도 7 내지 도 12에서 보여지는 실시예에서, 예를 들어, 하나가 다른 하나의 뒤에 배열되어 있는 처리 스테이션(114)들은 처리 라인을 형성한다.
각 처리 라인은 처리 유닛(106)일 수 있으며, 따라서 예를 들어 2개의 처리 유닛(106)이 동일한 레벨에 각각 배열될 수 있다.
최적화된 유체 안내 및/또는 유체 이용을 가능하게 하기 위하여 유체 가이드(140)들은 동일 레벨 또는 상이한 레벨 (특히 도 10 참조)에서 처리 스테이션(114)들에 할당될 수 있다.
그 외에는, 도 7 내지 도 12에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제2 실시예는 구조 및 기능에 관하여, 도 1 내지 도 6에서 보여지는 제1 실시예에 대응하며, 따라서 이 점에 있어서 이들의 위의 설명에 대한 참조가 이루어진다.
처리 스테이션(114)들이 주 운반 경로(118)의 양 측에 배열된다는 점에서 도 13에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제3 실시예는 도 1 내지 도 6에서 보여지는 제1 실시예와 본질적으로 다르다.
운반 디바이스(110)에 의해, 피가공물 처리를 수행하기 위하여 피가공물(102)은 처리 스테이션(114)의 처리 챔버(148) 내로 주 운반 경로(118)의 우측 또는 좌측으로 선택적으로 도입될 수 있다. 그 결과, 주 운반 경로(118)는 특히 짧고 콤팩트할 수 있다.
주 운반 경로(118)로의 최적화된 공급을 가능하도록 하기 위하여, 턴테이블(204)에 의하여, 피가공물(102)의 방향이 특히 공급 스테이션(108)의 앞에서 또는 공급 스테이션(108)에서 변경될 수 있다.
주 운반 경로(118)에 대해 서로 반대편에 배열되는 처리 스테이션(114)들이 항상 공통 유체 가이드(114)를 갖는 방식으로 (도 13에서는 보이지 않는) 유체 가이드(140)는, 예를 들어 도 13에 도시된 제3 실시예에서 제공되며, 따라서 동일한 처리 단계를 수행하는 역할을 한다.
도 13에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제3 실시예는 처리 유닛(106)을 형성할 수 있으며, 이 처리 유닛은 물론 여러 번 제공될 수 있으며, 특히 하나가 다른 하나의 위에 제공될 수 있다.
그 외에는, 도 13에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제3 실시예는 구조 및 기능에 관하여, 도 1 내지 도 6에서 보여지는 제1 실시예에 대응하며, 따라서 이 점에 있어서 이들의 위의 설명에 대한 참조가 이루어진다.
주 운반 경로(118)에 대하여 또는 2개의 주 운반 경로(118)에 대하여 중심적으로 배열되는 제거 스테이션(128)이 제공된다는 점에서 도 14에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제4 실시예는 도 1 내지 도 6에서 보여지는 제1 실시예와 본질적으로 다르다. 따라서 피가공물(102)은 처리 유닛(106)으로부터 중심적으로 제거되며 그에 따라 서로로부터 떨어져 대향하는 종단(206)들에서 주 운반 경로(118)로 공급된다. 이 목적을 위하여, 공급 스테이션(108)이 종단(206)들의 각각에 제공된다.
따라서 피가공물(102)은 2개의 공급 스테이션(108)에 의해 서로를 향하여 운반되며, 공통 제거 스테이션(128)에 의해 배출되고 추가로 운반된다.
그 외에는, 도 14에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제4 실시예는 구조 및 기능에 관하여, 도 1 내지 도 6에서 보여지는 제1 실시예에 대응하며, 따라서 이 점에 있어서 이들의 위의 설명에 대한 참조가 이루어진다.
처리 라인을 형성하는 처리 유닛(106)이 서로 평행하게 밀집될(populated) 수 있는 여러 처리 스테이션(114)을 포함하고 있다는 점에서 도 15에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제5 실시예는 도 7 내지 도 12에서 보여지는 제2 실시예와 본질적으로 다르다.
피가공물(102)을 공급 스테이션(108)을 통해, 서로 평행하게 배열된 처리 스테이션(114)들로 분배하기 위하여, 처리 플랜트(100)의 운반 디바이스(110)의 주 운반 경로(118)는 바람직하게는 이러한 목적을 위해 하나 이상의 분배기 디바이스(112)를 포함하고 있다.
분배기 디바이스(112)는 특히 횡 방향 변위 디바이스(208)이다.
추가 횡 방향 변위 디바이스(208)는 바람직하게는 결합 디바이스(130)를 형성하며, 결합 디바이스는 처리 스테이션(114) 뒤에 배열되고 피가공물(102)들을 결합하고 이들을 함께 더 운반하는 역할을 한다. 특히, 피가공물(102)은 그후 플러싱 스테이션(126) 또는 분사 스테이션(124)으로 공급될 수 있다.
하나 이상의 추가 분배기 디바이스(112), 서로 평행하게 배열된 처리 스테이션(114)들, 및/또는 결합 디바이스(130)가 그후 처리 플랜트(100)의 추가 처리 단계를 위하여 제공될 수 있다.
도 15에서 보여지는 처리 설비의 제5 실시예에서, 2개의 이러한 처리 단계는 각각 서로 평행하게 배열된 처리 스테이션(114)들을 구비한다.
그 외에는, 도 15에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제5 실시예는 구조 및 기능에 관하여, 도 7 내지 도 12에서 보여지는 제2 실시예에 대응하며, 따라서 이 점에 있어서 이들의 위의 설명에 대한 참조가 이루어진다.
피가공물(102) 교환이 한 레벨 상에 배열된 2개의 처리 유닛(106) 사이에서 가능하다는 점에서 도 16 내지 도 18에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제6 실시예는 도 7 내지 도 12에서 보여지는 제2 실시예와 본질적으로 다르다.
이 목적을 위해, 처리 유닛(106)의 운반 디바이스(110)는 하나 이상의 이송 스테이션(210)을 포함하며, 이송 스테이션에 의하여 피가공물(102)은 하나의 처리 유닛(106)의 운반 디바이스(110)로부터 추가 처리 유닛(106)의 운반 디바이스(110)로 이송될 수 있다.
특히, 피가공물(102)은 이송 스테이션(210)에 의하여 하나의 처리 유닛(106)의 주 운반 경로(118)로부터 추가 처리 유닛(106)의 주 운반 경로(118)로 이송될 수 있다.
그 결과, 유지 및/또는 세정 및/또는 수리될 처리 스테이션(114)은 전체 처리 유닛(106)을 일시적으로 정지시킬 필요 없이 분리된 방식(isolated manner)으로 우회될 수 있다.
특히 도 17에서 알 수 있는 바와 같이, 도 16 내지 도 18에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 제6 실시예에서, 플러딩에 의한 피가공물 처리에 더하여, 피가공물을 디핑시키는 것에 의한 피가공물 처리가 더 제공된다.
이 목적을 위하여, 딥 탱크(212)로 설계된 하나 이상의 처리 컨테이너(136)가 제공되며, 여기서 연관된 처리 스테이션(114)은 디핑 공정을 수행하는 역할을 한다.
이러한 딥 탱크(212)는 특히 피가공물(102), 예를 들어 음극 딥 코팅(cathodic dip coating)의 맥락에서 피가공물의 페인팅을 코팅하는 역할을 한다.
특히, 이러한 여러 딥 탱크(212)는 주 운반 방향(116)을 따라, 예를 들어 피가공물 전처리를 위한 플러딩 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션(114) 뒤에 연속적으로 배열될 수 있다.
특히, 도 17에서 알 수 있는 바와 같이, 동일한 처리 챔버(148)에서 상이한 처리 단계를 수행할 수 있도록 하기 위하여 여러 유체 탱크(134) 및/또는 여러 카운터 탱크(196)가 처리 스테이션(114)에 할당되는 것이 제공될 수 있다.
처리 챔버(148)는 그후 특히 교대로 또는 연속적으로 상이한 유체, 특히 처리 액체로 플러딩될 (flooded) 수 있다.
특히 도 18에서 알 수 있는 바와 같이, 록킹 게이트(172)로서 설계된 폐쇄 요소(166) 대신에, 폴딩 요소(folding elements)(214)가 또한 폐쇄 요소(166)로서 제공될 수 있다.
폴딩 요소(214)는 특히 실질적으로 수평축을 중심으로 선회 가능하도록 하기 위해 배열되며 또한 각각의 접근 개구(158)를 폐쇄하기 위해 수직 방향으로 가져가질 수 있고, 접근 개구(158)를 개방하기 위해 수평 방향으로 가져가질 수 있다 (양 상태가 도 18에서 보여지고 있다).
폐쇄 요소(166)는, 예를 들어 접근 개구(158)의 부분적인 덮힘(coverage), 그렇지 않으면 접근 개구(158)의 완전한 덮힘을 가져올 수 있다.
도 18에서 보여지는 실시예에서, 접근 개구(158)의 부분적인 덮힘만이 제공되며, 따라서 도 18에 따른 처리 스테이션(114)은 부분적인 플러딩 공정에만 적합하다.
폐쇄 요소(166)의 치수는 피가공물 처리를 수행하기 위한 요구되는 충전 레벨에 따라 선택될 수 있다.
적어도 하나의 폐쇄 요소(166), 특히 적어도 하나의 폴딩 요소(214)는, 예를 들어 운반 디바이스(110)의 하나 이상의 운반 요소, 특히 운반 디바이스(110)의 안내 디바이스(176)의 (도면에서는 보이지 않는) 하나 이상의 안내 요소를 포함하거나 형성할 수 있다. 폐쇄 요소(166)는 그러면 특히, 피가공물의 도입 동안, 처리 챔버(148) 내로 폐쇄 요소(166)를 가로질러 하중-지지 방식으로 하나 이상의 피가공물(102)을 안내하는 역할을 한다.
그 외에는, 도 16에서 보여지는 처리 플랜트(100)의 실시예는 구조 및 기능에 관하여, 도 7 내지 도 12에서 보여지는 제2 실시예에 대응하며, 따라서 이 점에 있어서 이들의 위의 설명에 대한 참조가 이루어진다.
도 19 및 도 20은 처리 스테이션(114)의 추가적인 대안적인 실시예를 보여주고 있으며, 이는 도 18에서 보여지는 처리 스테이션(114)의 실시예와 실질적으로 대응하지만, 처리 챔버(148) 아래에 수집 펀넬(collecting funnel)(216)로서 설계된 수집 컨테이너(218)를 포함하며, 처리 챔버(148)로부터 배출될 유체는 이 수집 컨테이너에 의하여 수집될 수 있다.
따라서 수집 컨테이너(218)는 특히 유체 가이드(140)의 카운터 탱크(196)를 형성한다.
그 외에는, 도 19 및 도 20에서 보여지는 처리 플랜트(114)의 실시예는 구조 및 기능에 관하여, 도 18에서 보여지는 실시예에 대응하며, 따라서 이 점에 있어서 이들의 위의 설명에 대한 참조가 이루어진다.
도 21 내지 27은 처리 스테이션(114)의 선택적 전개도를 보여주고 있다. 여기서, 운반 디바이스(110)가 처리 챔버(148) 외부로부터 운반 디바이스(110)의 안내 경로 부분(222)에 작용하는 하나 이상의 구동 유닛(220)을 포함하는 것이 제공된다. 구동 유닛(220)은, 예를 들어 전기 모터일 수 있거나, 전기 모터를 포함할 수 있다.
하나 이상의 구동 유닛(220)은 바람직하게는 안내 경로 부분(222)에 전적으로 기계적으로 연결된다. 특히, 결합 디바이스(224)가 한편으로는 하나 이상의 구동 유닛(220)과 다른 한편으로는 운반 디바이스(110)의 안내 경로 부분(222) 사이에 기계적인 연결부를 생성하는 것이 제공될 수 있다. 처리 챔버(148) 외부에 배열된 하나 이상의 구동 유닛(220)에 의해, 처리 챔버(148) 내에서 안내 경로 부분(222) 상에서 안내되는 피가공물(102)이 특히 구동될 수 있으며, 바람직하게는 선형으로 이동, 예를 들어 처리 챔버(148) 내로 도입 또는 그로부터 배출될 수 있다.
하나 이상의 구동 유닛(220)이 처리 챔버(148)의 최대 충전 레벨 위에 또는 최대 충전 높이 위에 및/또는 처리 챔버(148)를 둘러싸는 처리 컨테이너(136)의 측벽(228)의 외측면(226)에 배열된다면 유리할 수 있다..
바람직하게는, 하나 이상의 구동 유닛(220)은 처리 컨테이너(136)의 종단 영역 (이 종단 영역은 처리 컨테이너(136)의 접근 개구(158)에서 멀어지게 향한다) 상에, 및/또는 천장에 가까운, 처리 컨테이너(136)의 측벽(228)의 영역에 배열된다.
결합 디바이스(224)는 바람직하게는 측벽(228)을 통해, 그리고 바람직하게는 하나 이상의 구동 유닛(220)의 높이에서 안내된다. 결합 디바이스(224)를 안내하기 위한 관통 개구(230)는 바람직하게는 처리 챔버(148)의 최대 충전 레벨 위에 또는 최대 충전 높이 위에 배열 및/또는 형성된다. 결합 디바이스(224)의, 측벽(228)을 통해 안내되는 결합 요소(232)는 바람직하게는 회전 샤프트 또는 결합 샤프트이다.
회전 샤프트 또는 결합 샤프트는 바람직하게는 당김 요소(234)에 의하여, 특히 벨트 및/또는 체인, 예를 들어 듀플렉스 체인(duplex chain)에 의하여 안내 경로 부분(222)의 영역 내에 배열된 추가 회전 샤프트 또는 결합 샤프트에 연결되며, 궁극적으로 피가공물을 구동시키기 위하여 피가공물(102)에 직접적으로 또는 간접적으로 작용한다. 당김 요소(234)는 특히 하나 또는 2개의 인장 요소(236), 특히 인장 롤러에 의해 인장될 수 있다.
또한, 도 21 내지 도 27에서 보여지는 실시예에서 처리 스테이션(114)이 처리 챔버(148) 외부로부터 처리 챔버(148) 내의 상태 및/또는 위치 검출을 가능하게 하는 하나 이상의 센서 디바이스(238)를 포함한다는 것이 제공된다. 예를 들어, 처리 챔버(148) 내의 피가공물(102)의 정확한 위치는 센서 디바이스(238)에 의해 결정되거나 모니터링될 수 있다.
바람직하게는, 하나 이상의 센서 디바이스(238)는 처리 챔버(148) 외부에 배열되고 바람직하게는 처리 챔버(148) 내부의 하나 이상의 트랜스듀서 요소(242)에 전적으로 기계적으로 연결된 하나 이상의 센서 요소(240)를 각각 포함하고 있다 (특히 도 25 내지 도 27 참조). 특히, 결합 디바이스(224)가 한편으로는 하나 이상의 센서 요소(240)와 다른 한편으로는 하나 이상의 트랜스듀서 요소(242) 사이에 기계적 연결을 생성하는 것이 제공될 수 있다. 처리 챔버(148) 외부에 배열된 하나 이상의 센서 요소(240)에 의하여, 처리 챔버(148) 내부에 배열된 피가공물(102)은 그후 특히 검출될 수 있으며, 바람직하게는 그의 위치가 결정되거나 모니터링될 수 있다.
하나 이상의 센서 요소(240)가 처리 챔버(148)의 최대 충전 레벨 위 또는 최대 충전 높이 위 및/또는 처리 챔버(148)를 둘러싸는 처리 컨테이너(136)의 측벽(228)의 외측면(226) 상에 배열된다면 유리할 수 있다.
바람직하게는, 하나 이상의 센서 요소(240)는 처리 컨테이너(136)의 측벽(228)의, 천장에 가까운 영역 내에 배열되어 있다.
센서 디바이스(238)의 결합 디바이스(224)는 바람직하게는 측벽(228)을 통하여, 바람직하게는 하나 이상의 센서 요소(240)의 높이에서 안내된다. 결합 디바이스(224)를 안내하기 위한 관통 개구(230)는 바람직하게는 처리 챔버(148)의 최대 충전 레벨 또는 최대 충전 높이 위에 배열 및/또는 형성된다. 결합 디바이스(224)의, 측벽(228)을 통해 안내되는 결합 요소(232)는 바람직하게는 회전 샤프트 또는 결합 샤프트이다.
회전 샤프트 또는 결합 샤프트는 바람직하게는 당김 요소 또는 압력 요소에 의하여, 특히 결합 로드(244)에 의하여, 예를 들어 최하부 영역에 및/또는 안내 경로 부분(222)의 영역에 배열된 추가 회전 샤프트 또는 결합 샤프트에 결합되며, 그리고 트랜스듀서(transducer) 요소(242)에 연결된다. 트랜스듀서 요소(242)를 작동시킴으로써, 예를 들어 트랜스듀서 요소(242)를 회전시킴으로써, 추가 회전 샤프트 또는 결합 샤프트의 회전, 및 이에 의한 -예를 들어- 결합 로드(244)의 수직 변위, 및 이에 의한 (상부) 회전 샤프트 또는 결합 샤프트의 회전이 바람직하게는 초래될 수 있으며, 여기서 처리 챔버(148) 밖으로 안내되는 (상부) 회전 샤프트 또는 결합 샤프트는 최종적으로 적어도 하나의 센서 요소(240)에 의해 검출될 수 있는 이동을 수행하거나 초래한다. 결합 디바이스(224)의 전적인 기계적 작동에 의하여, 트랜스듀서 요소(242)의 방향 또는 또 다른 이동의 변화가 따라서 하나 이상의 센서 요소(240)에 의해 검출될 수 있다.
바람직한 실시예는 다음과 같다:
1. 피가공물을 처리하기 위한, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 처리 스테이션(114)에서,
처리 스테이션(114)은 피가공물(102)을 수용하기 위한 처리 챔버(148)를 둘러싸는 처리 컨테이너(136)를 포함한다.
2. 실시예 1에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 챔버(148)가 유체로 플러딩될 수 있는 것을 특징으로 하며,
처리 컨테이너(136)는 피가공물(102)을 처리 챔버(148) 내로 도입하기 위한 및/또는 피가공물(102)을 처리 챔버(148)로부터 배출시키기 위한 적어도 하나의 접근 개구(158)를 포함하고,
처리 컨테이너(136)는 적어도 하나의 접근 개구(158)를 선택적으로 폐쇄 및 개방하기 위한 폐쇄 디바이스(164)를 포함한다.
3. 실시예 2에 따른 처리 스테이션(114)은, 적어도 하나의 접근 개구(158)가 처리 컨테이너(136)의 하나 이상의 측벽(154)에, 특히 처리 컨테이너(136)의 전면 벽(156)에 배열 및/또는 형성되는 것을 특징으로 한다.
4. 실시예 2 또는 3에 따른 처리 스테이션(114)은, 폐쇄 디바이스(164)가 적어도 하나의 접근 개구(158)의 유체 기밀 폐쇄의 역할을 하는 것을 특징으로 한다.
5. 실시예 2 내지 4 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 폐쇄 디바이스(164)가 폐쇄 디바이스(164)의 폐쇄 요소(166)를 상승 및 하강시키기 위한, 특히 폐쇄 요소를 개방 위치로 이동시키기 위하여 폐쇄 요소(166)를 상승시키기 위한, 그리고 폐쇄 요소를 폐쇄 위치로 이동시키기 위하여 폐쇄 요소(166)를 낮추기 위한 리프팅 디바이스(170)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
6. 실시예 2 내지 5 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 폐쇄 디바이스(164)가 폐쇄 디바이스(164)의 폐쇄 요소(166)를 선회시키기 위한 선회 디바이스를 포함할 수 있으며, 폐쇄 요소(166)는 특히 적어도 대략적인 수평 선회 축을 중심으로 선회될 수 있다.
7. 실시예 2 내지 6 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 폐쇄 디바이스(164)가 폐쇄 디바이스(164)의 폐쇄 요소(166)를 자동으로 이동시키기 위한 폐쇄 구동부(168)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
8. 실시예 2 내지 7 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 유체, 특히 처리 유체를 수용하기 위한 유체 탱크(134)를 포함하는 것을 특징으로 하며, 처리 챔버(148)를 플러딩하기 위하여 유체는 유체 가이드(140)에 의해 유체 탱크(134)로부터 처리 챔버(148) 내로 도입될 수 있고, 및/또는 처리 챔버(148)를 비우기 위하여 유체는 유체 가이드(140)에 의해 처리 챔버(148)로부터 다시 유체 탱크(134) 내로 안내될 수 있다.
9. 실시예 2 내지 8 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 피가공물(102)을 운반하기 위한, 특히 피가공물(102)을 처리 챔버(148) 내로 도입하기 위한 및/또는 피가공물(102)을 처리 챔버(148)로부터 배출시키기 위한 운반 디바이스(110)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
10. 실시예 9에 따른 처리 스테이션(114)은, 피가공물(102)이 운반 디바이스(110)에 의해 수평 평면을 따라 이동, 특히 처리 챔버(148) 내로 도입 및/또는 처리 챔버(148)로부터 배출될 수 있는 것을 특징으로 한다.
11. 실시예 9 또는 10에 따른 처리 스테이션(114)은, 운반 디바이스(110)가 피가공물(102)을 이동시키기 위한 하나 이상의 구동 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하며, 적어도 피가공물 처리의 수행 동안 구동 유닛, 특히 운반 디바이스(110)의 모든 구동 유닛은 처리 챔버(148) 외부에 배열된다.
12. 실시예 9 내지 11 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 운반 디바이스(110)가 피가공물(102)의 하중-지지 수용을 위한 안내 디바이스(176)를 포함하는 것을 특징으로 하며, 안내 디바이스(176)는 처리 챔버(148)의 외부로부터 특히 적어도 하나의 접근 개구(158)를 통해 처리 챔버(148) 내로 연장된다.
13. 실시예 9 내지 12 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 운반 디바이스(110)가 피가공물(102)의 하중-지지 수용을 위한 안내 디바이스(176)를 포함하는 것을 특징으로 하며, 안내 디바이스(176)는 처리 챔버(148) 외부에 배열된 적어도 하나의 안내 경로 부분 및 처리 챔버(148) 내에 배열된 적어도 하나의 안내 경로 부분 모두를 포함하고, 피가공물(102)은 접근 개구(158)를 통해 처리 챔버(148) 외부에 배열된 안내 경로 부분에서 처리 챔버(148) 내에 배열된 안내 경로 부분으로, 특히 하나 이상의 구동 유닛에 의하여 피가공물(102)을 구동함으로써 이송될 수 있다.
14. 실시예 9 내지 13 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 운반 디바이스(110)가 처리 챔버(148) 내의 처리 위치에서 피가공물(102)을 록킹하기 위한 록킹 디바이스를 포함하는 것을 특징으로 하며, 여기서 중력 방향(g)에 대한 피가공물(102)의 이동은 특히 록킹 디바이스에 의하여 차단될 수 있다.
15. 실시예 9 내지 14 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 운반 디바이스(110)가 피가공물(102)을 기울이기 위한 및/또는 회전시키기 위한, 특히 적어도 대략적인 수평 정상 위치에 대한 위치를 일시적으로 변경하기 위한 이동 디바이스를 포함하는 것을 특징으로 한다.
16. 실시예 1 내지 15 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)에서,
처리 챔버(148)는 유체로 플러딩될 수 있으며,
처리 스테이션(114)은 플러딩 공정을 지원하기 위해 처리 챔버(148) 내에 배열된 또는 배열될 수 있는 하나 이상의 설치 요소(188)를 포함한다.
17. 실시예 16에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 설치 요소(188)가 처리될 피가공물(102)에 대한 그의 위치에 관하여 및/또는 그의 기능에 관하여 및/또는 그의 형상에 관하여 조정되거나 조정될 수 있는 것을 특징으로 한다.
18. 실시예 16 또는 17에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 설치 요소(188)가 변위 요소(190)로 설계되며, 각각의 설치 요소(188) 없이 플러딩 공정 동안 자유롭게 남아 있는 처리 챔버(148) 내의 자유 공간들은 특히 설치 요소에 의해 채워질 수 있으며 따라서 유체로 채워질 필요가 있는 것을 특징으로 한다.
19. 실시예 18에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 변위 요소(190)가 처리될 피가공물(102)의 형상에 대해 적어도 부분에서 또는 영역에서 조정되거나 조정될 수 있는 것을 특징으로 한다.
20. 실시예 18 또는 19에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 변위 요소(190)가 플러딩 공정과 관계없이 채워질 수 있는 및/또는 채워지게 유지될 수 있는 및/또는 비워질 수 있는 중공체를 갖는 것을 특징으로 한다.
21. 실시예 18 내지 20 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 변위 요소(190)가 재성형 가능하도록 및/또는 크기 조절 가능하도록, 예를 들어 팽창 가능하도록 설계된다는 것, 그리고 처리 스테이션(114)은 하나 이상의 변위 요소(190)의 형상 및/또는 크기를 변경하기 위한, 특히 처리 공정을 위해 플러딩될, 처리 챔버(148) 내의 자유 공간을 감소시키기 위한 변경 디바이스를 포함하는 것을 특징으로 한다.
22. 실시예 18 내지 21 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 변위 요소(190)가 처리 스테이션(114)의 운반 디바이스(110) 영역에서 하나 이상의 자유 공간을 채우는 것을 특징으로 한다.
23. 실시예 18 내지 22 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 변위 요소(190)가 차체(104)로 설계된 피가공물(102) 위의, 특히 차체(104)의 차 전방 위의 및/또는 차 후방 위의 자유 공간을 채우는 것을 특징으로 한다.
24. 실시예 16 내지 23 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 설치 요소(188)가 플러딩 공정 동안 처리될 피가공물(102)을 지지하기 위한 지지 요소(192)로서 설계된 것을 특징으로 한다.
25. 실시예 24에 따른 처리 스테이션(114)은, 지지 요소(192)들 중 하나 이상이 피가공물(102)을 지지하기 위하여 피가공물(102)에 대한 직접적인 어버트먼트(abutment) 역할을 하는 지지 부분을 갖는 것을 특징으로 한다.
26. 실시예 16 내지 25 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 설치 요소(188)가 처리 컨테이너(136) 및/또는 유체의 온도를 제어하기 위한 온도 제어 요소로서 설계된 것을 특징으로 한다.
27. 실시예 16 내지 26 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 설치 요소(188)가 처리 공정 및/또는 플러딩 공정을 위해 처리 챔버(148) 내에 일시적으로 또는 영구적으로 배열된 또는 배열될 수 있는 것을 특징으로 한다.
28. 실시예 16 내지 27 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 플러딩 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 설치 요소(188)가 플러딩될 처리 챔버(148)의 자유 공간 내로 자동적으로 도입될 수 있으며 또한 플러딩 공정이 수행된 후 플러딩될 자유 공간으로부터 자동적으로 제거될 수 있는 것을 특징으로 한다.
29. 실시예 28에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 설치 요소(188)가 처리 컨테이너(136)의 접근 개구(158)를 폐쇄하기 위해 폐쇄 요소(166)에 배열된 또는 배열될 수 있는 것을, 그리고 폐쇄 요소(166)를 폐쇄 위치로 이동시킴으로써 하나 이상의 설치 요소(188)가 그들이 플러딩 공정을 지원하는 위치로 가져가질 수 있다는 것을 특징으로 한다.
30. 실시예 1 내지 29 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 유체를 수용하기 위한 유체 탱크(134)를 포함한다는 것, 그리고 처리 스테이션(114)은 유체 가이드를 포함하며, 유체 가이드에 의하여 유체는
a) 처리 챔버(148)를 플러딩하기 위하여 유체 탱크(134)에서 처리 컨테이너(136) 내로; 및/또는
b) 처리 챔버(148)를 비우기 위하여 처리 컨테이너(136)에서 유체 탱크(134) 내로 안내될 수 있는 것을 특징으로 한다.
31. 실시예 30에 따른 처리 스테이션(114)은, 유체 탱크(134)가 중력 방향(g)에 대해 처리 컨테이너(136) 위에 배열된 것을 특징으로 한다.
32. 실시예 30 또는 31에 따른 처리 스테이션(114)은, 유체 가이드(140)가 펌프 디바이스(198)를 포함하며, 펌프 디바이스에 의하여 유체는 처리 챔버(148)로부터 유체 탱크(134) 내로 펌핑될 수 있는 것을 특징으로 한다.
33. 실시예 30 내지 32 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 유체 가이드(140)가 공급 라인(142)으로서 설계된 유체 라인을 포함하며, 공급 라인에 의하여 유체가 처리 챔버(148)로 공급될 수 있는 것을 특징으로 하며, 공급 라인(142)은 처리 컨테이너의 최하부 영역에서 처리 컨테이너(136) 내로 개방된다.
34. 실시예 33에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 컨테이너(136)가 유입 영역(194)을 포함하며, 유입 영역은 특히 처리 컨테이너(136)의 접근 개구(158) 아래에 위치되고 또한 피가공물(102)을 교환하기 위해 제공된 처리 컨테이너(136)의 비워진 상태에서도 유체로 채워지며, 공급 라인(142)은 유입 영역(194) 내로 개방된 것을 특징으로 한다.
35. 실시예 30 내지 34 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 유체 가이드(140)가 유체를 세정하기 위한 세정 디바이스(200)를 포함하고, 세정 디바이스(200)는 특히 유체를 유체 탱크(134) 내로 복귀시키기 위해 유체 가이드(140)의 복귀 라인 내에 배열된 것을 특징으로 한다.
36. 실시예 30 내지 35 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 제어 디바이스를 포함하며, 제어 디바이스에 의해 -특히 유체를 처리 챔버(148)로 공급하기 위한 공급 라인(142)을 개방 및 폐쇄하기 위해 밸브 디바이스(144)를 제어 및/또는 조절함으로써- 처리 챔버(148)에서의 플러딩 공정이 제어 및/또는 조절될 수 있는 것을 특징으로 한다.
37. 실시예 36에 따른 처리 스테이션(114)은, 하나 이상의 피가공물 매개변수, 특히 처리 챔버(148) 내의 각각의 피가공물(102)의 기하학적 구조 및/또는 크기 및/또는 위치가 플러딩 공정의 제어 및/또는 조절에서 고려되는 것을 특징으로 한다.
38. 실시예 36 또는 37에 따른 처리 스테이션(114)은, 플러딩 동안의 처리 챔버(148) 내의 유체의 충전 속도 및/또는 충전 레벨의 변화율이 변화되는, 특히 피가공물(102)의 국부적 안정성 차이에 대해 조정되는 방식으로 플러딩 공정이 제어 디바이스에 의하여 제어될 수 있는 것을 특징으로 한다.
39. 실시예 36 내지 38 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 하나 이상의 측정 디바이스를 포함하며, 처리 챔버(148) 내로 흐르는 유체의 체적 흐름 및/또는 처리 챔버(148) 내의 충전 레벨 또는 충전 높이 및/또는 유체 탱크(134) 내의 충전 레벨 또는 충전 높이가 상기 측정 디바이스에 의하여 결정될 수 있는 것을 특징으로 하며, 하나 이상의 측정 디바이스의 하나 이상의 측정값이 플러딩 공정의 제어 및/또는 조절에서 고려된다.
40. 실시예 30 내지 39 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 특히 중력 방향(g)에 대해 처리 챔버(148) 아래에 배열된 그리고 챔버(148)로부터 배출될 유체가 공급될 수 있는 카운터 탱크(196)를 갖는 것을 특징으로 한다.
41. 실시예 40에 따른 처리 스테이션(114)은, 유체가 중력(g)만을 이용하여 유체 탱크(134)에서 처리 챔버(148) 내로 및/또는 처리 챔버(148)에서 카운터 탱크(196) 내로 흐르는 것을 특징으로 한다.
42. 실시예 30 내지 41 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 2개 또는 2개보다 많은 처리 챔버(148), 특히 하나의 처리 챔버(148)를 각각 갖는 2개 또는 2개보다 많은 처리 컨테이너(136)를 포함하고, 유체를 2개 또는 2개보다 많은 처리 챔버(148)에 공급하기 위해 공통 유체 탱크(134)가 제공된 것을 특징으로 한다.
43. 실시예 30 내지 42 중 한 실시예에 따른 처리 스테이션(114)은, 처리 스테이션(114)이 처리 챔버(148)를 플러싱 및/또는 세정하기 위한 플러싱 디바이스를 포함하는 것을 특징으로 하며, -특히 유체와 관계없이, 유체 탱크(134)와 관계없이 및/또는 카운터 탱크(196)와 관계없이- 플러싱 매체는 처리 챔버(148) 내로 도입, 특히 분사될 수 있으며 플러싱 디바이스에 의해 처리 챔버(148)로부터 제거될 수 있다.
44. -특히 실시예 1 내지 43 중 한 실시예에 따른- 하나 이상의 처리 스테이션(114)을 포함하는 처리 플랜트(100)는,
각 처리 스테이션(114)이 피가공물(102)을 수용하기 위한 처리 챔버(148)를 둘러싸는 적어도 하나의 처리 컨테이너(136)를 포함하는 것을 특징으로 하며,
각 처리 스테이션(114)은 개별적으로, 또는 하나 이상의 처리 스테이션(114)은 공동으로 유체를 수용하기 위한 유체 탱크(134)를 포함하고,
처리 스테이션(114)은 유체 가이드(140)를 포함하며, 유체 가이드에 의하여 유체는
a) 하나 이상의 처리 챔버(148)를 플러딩하기 위하여 유체 탱크(134)에서 각각의 처리 컨테이너(136) 내로; 및/또는
b) 처리 챔버(148)를 비우기 위하여 처리 컨테이너(136)에서 유체 탱크(134) 내로 안내될 수 있다.
45. 실시예 44에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 제1 처리 단계를 수행하기 위한 여러 제1 처리 스테이션(114) 및 제2 처리 단계를 수행하기 위한 여러 제2 처리 스테이션(114)을 포함하는 것을 특징으로 하며, 하나 이상의 제1 처리 스테이션(114) 및 하나 이상의 제2 처리 스테이션(114)은 각각 처리 단계를 수행하기 위하여 피가공물(102)이 통과하는 처리 플랜트(100)의 처리 유닛(106)의 일부이거나 처리 유닛을 형성한다.
46. 실시예 45에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 여러 처리 유닛(106)을 포함하며, 처리 유닛들의 각각은 하나 이상의 제1 처리 스테이션(114) 및 하나 이상의 제2 처리 스테이션(114)을 포함하고 특히 처리 플랜트(100)의 별개의 처리 라인을 형성하는 것을 특징으로 하며,
a) 별개의 처리 유닛(106)들의 하나 이상의 제1 처리 스테이션(114)은 공통 유체 가이드(140) 및/또는 공통 유체 탱크(134)를 가지며; 및/또는
b) 별개의 처리 유닛(106)들의 하나 이상의 제2 처리 스테이션(114)은 공통 유체 가이드(140) 및/또는 공통 유체 탱크(134)를 갖는다.
47. 실시예 44 내지 46 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 유체, 특히 제1 처리 유체가 유체 가이드에 의해 먼저 a) 제1 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제1 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로, 그리고 그 후 b) 제2 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제1 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로 공급될 수 있는 것을 특징으로 한다.
48. 실시예 44 내지 47 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 유체, 특히 제2 처리 유체가 유체 가이드(140)에 의해 먼저 a) 제1 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제2 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로, 그리고 그 후 b) 제2 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제2 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로 공급될 수 있는 것을 특징으로 한다.
49. 실시예 44 내지 48 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 유체가 유체 가이드(140)에 의하여 별개의 처리 유닛(106)들의 처리 챔버(148)들로 교대로 공급될 수 있는 것을 특징으로 한다.
50. 실시예 44 내지 49 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 유체가 특히 처리 챔버(148)들 중 하나로부터의 제거 후 및/또는 처리 챔버(148)들 중 다른 하나로의 새로운 공급 전에 세정될 수 있도록 유체 가이드(140)가 세정 디바이스(200)에 연결된 것을 특징으로 한다.
51. 실시예 44 내지 50 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 유체 가이드(140)에 전체적으로 포함된 유체의 총량이 처리 챔버(148)에서 단일 플러딩 공정을 수행하기 위하여 요구되는 유체의 양의 최대 약 2배, 특히 최대 약 3배인 것을 특징으로 한다.
52. 실시예 44 내지 51 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 유닛(106)의 여러, 특히 모든 처리 스테이션(114), 특히 처리 유닛(106)의 하나 이상의 또는 모든 제1 처리 스테이션(114)과 하나 이상의 또는 모든 제2 처리 스테이션(114)은 처리 플랜트(100)의 공통 레벨에 배열된 것을 특징으로 한다.
53. 실시예 44 내지 52 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)의 여러 처리 유닛(106)이 처리 플랜트(100)의 별개의 레벨로 배열된 것을 특징으로 한다.
54. 실시예 44 내지 53 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 공통 유체 가이드(140)를 갖는 및/또는 동일한 처리 단계를 수행하는 역할을 하는, 처리 플랜트(100)의 별개의 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114)들이 중력 방향(g)을 따라서 서로 위에 배열된 것을 특징으로 한다.
55. 실시예 44 내지 54 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 별개의 처리 유체를 안내하기 위한 여러 유체 가이드(140)를 포함하는 것을 특징으로 하며, 유체 가이드(140)는 상이한 처리 단계들을 수행하기 위해 별개의 처리 스테이션(114)에 할당된다.
56. -특히 실시예 44 내지 55 중 한 실시예에 따른- 처리 플랜트(100)는,
피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 여러 처리 스테이션(114)을 포함하며,
하나 이상의 처리 스테이션(114)은 피가공물(102)을 수용하기 위한 처리 챔버(148)를 둘러싸는 적어도 하나의 처리 컨테이너(136)를 각각 포함하고,
처리 플랜트(100)는 유체 가이드(104)를 포함하며 -처리 챔버(148)들 중 하나 이상은 유체 가이드에 의하여 선택적으로 플리러딩되거나 비워질 수 있음-,
처리 플랜트(100)는 피가공물(102)을 운반하기 위한 운반 디바이스(110)를 포함하고, 하나 이상의 처리 챔버(148)가 비워진 상태에서 피가공물(102)은 운반 디바이스에 의하여 처리 챔버 내로 도입될 수 있으며 및/또는 처리 챔버로부터 배출될 수 있다.
57. 실시예 56에 따른 처리 플랜트(100)는, 피가공물(102)이 운반 디바이스(110)에 의해 수평 평면을 따라 이동, 특히 처리 챔버(148) 내로 도입될 수 있고 및/또는 처리 챔버(148)로부터 배출될 수 있는 것을 특징으로 한다.
58. 실시예 56 또는 57에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 주 운반 방향(116)으로 연장되는 주 운반 경로(118)를 포함하고 피가공물(102)이 운반 디바이스(110)에 의하여 주 운반 경로를 따라서 처리 스테이션(114)으로부터 추가 처리 스테이션(114)으로 운반될 수 있는 것을 특징으로 한다.
59. 실시예 56 내지 58 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 피가공물(102)이 주 운반 방향(116)을 따라서 및/또는 주 운반 경로(118)를 따라서 피가공물의 횡방향(132)으로 운반될 수 있는 것을 특징으로 한다.
60. 실시예 56 내지 59 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 피가공물(102)이 그의 길이 방향(202)으로 하나 이상의 처리 챔버(148) 내로 도입될 수 있고 및/또는 처리 챔버로부터 배출될 수 있는 것을 특징으로 한다.
61. 실시예 56 내지 60 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 피가공물(102)이 도입 방향(182)으로 처리 챔버(148) 내로 도입될 수 있는 것을 특징으로 하며, 도입 방향(182)은 운반 디바이스(110)의 주 운반 방향(116)을 가로지르는, 특히 수직이다.
62. 실시예 56 내지 61 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 동일한 처리 단계를 수행하기 위한 여러 처리 스테이션(114)을 포함하는 것을 특징으로 하며, 2개 이상의 이러한 처리 스테이션(114)은 운반 디바이스(110)의 주 운반 경로(118)의 대향 측부들에 배열된다.
63. 실시예 56 내지 62 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 동일한 처리 단계를 수행하기 위한 여러 처리 스테이션(114)을 포함하는 것을 특징으로 하며, 2개 이상의 이러한 처리 스테이션(114)은 운반 디바이스(110)의 주 운반 방향(116)을 따라서 연속적으로 및/또는 서로 옆에 배열된다.
64. 실시예 56 내지 63 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 여러 처리 스테이션(114)이 처리 유닛(106)을 형성하고, 처리 유닛(106)의 여러, 특히 모든 스테이션(114), 특히 처리 유닛(106)의 하나 이상의 또는 모든 제1 처리 스테이션(114)과 하나 이상의 또는 모든 제2 처리 스테이션(114)은 처리 플랜트(100)의 공통 레벨에 배열된 것을 특징으로 한다.
65. 실시예 56 내지 64 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 주 운반 방향(116)으로 연장된 주 운반 경로(118)를 포함하며, 피가공물(102)은 운반 디바이스(110)에 의하여 주 운반 경로를 따라서 처리 스테이션(114)으로부터 추가 처리 스테이션(114)으로 운반될 수 있는 것을 특징으로 하며, 주 운반 경로(118)는 주 운반 경로(118)를 수용하기 위한 하나 이상의 터널 부분(120)을 포함하고, 하나 이상의 터널 부분(120), 특히 2개의 처리 스테이션(114) 사이에서 주 운반 방향을 따라서 배열된 하나 이상의 터널 부분(120)은 세정 스테이션(122) 및/또는 플러싱 스테이션(126) 및/또는 분사 스테이션(124)을 갖는다.
66. 실시예 56 내지 65 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 처리 플랜트(100)의 공통 레벨에 배열된 2개의 처리 유닛(106)을 포함하는 것을 특징으로 하며, 2개의 처리 유닛(106)의 운반 디바이스(110)의 주 운반 경로(118)들은 역평행하게 배향 및/또는 연속적으로 선형으로 배열된다.
67. 실시예 66에 따른 처리 플랜트(100)는, 2개의 처리 유닛(106)이 a) 피가공물(102)을 공급하기 위한, 서로로부터 떨어져 대향하여 배열된 공급 스테이션(108)들, 및/또는 b) 피가공물을 제거하기 위한, 서로를 향하여 배열된 제거 스테이션(128)들, 및/또는 c) 피가공물(102)을 제거하기 위한 공통 제거 스테이션(128)을 갖는 것을 특징으로 한다.
68. 실시예 56 내지 67 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 운반 디바이스(110)가 하나 이상의 분기 컨베이어를 포함하며, 분기 컨베이어에 의하여 피가공물(102)은
a) 주 운반 경로(116)에서 제거될 수 있고 하나 이상의 처리 챔버(148) 내로 도입될 수 있으며; 및/또는
b) 하나 이상의 처리 챔버(148)에서 배출될 수 있고 주 운반 경로(116)로 다시 가져가질 수 있는 것을 특징으로 한다.
69. -특히 실시예 44 내지 68 중 한 실시예에 따른- 처리 플랜트(100)는,
피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 차체(114)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 여러 처리 스테이션(114)을 포함하며,
하나 이상의 처리 스테이션(114)은 피가공물(102)을 수용하기 위한 처리 챔버(148)를 둘러싸는 적어도 하나의 처리 컨테이너(136)를 각각 포함하고,
처리 플랜트(100)는 유체 가이드(140) -유체 가이드에 의하여 처리 챔버(148)들 중 하나 이상은 선택적으로 플러딩되거나 비워질 수 있음-를 포함하며,
처리 플랜트(100)는 피가공물(102)을 운반하기 위한 운반 디바이스(110)를 포함하고, 운반 디바이스에 의하여, 각각의 처리 챔버(148)의 비어 있는 상태에서 피가공물(102)은 도입 개구(160)로서 설계된 접근 개구(158)를 통해 처리 챔버 내로 도입될 수 있으며, 운반 디바이스에 의하여, 각각의 처리 챔버(148)의 비어 있는 상태에서, 피가공물(102)은 배출 개구(162)로서 설계된 접근 개구(158)를 통해 처리 챔버로부터 배출될 수 있고, 도입 개구(160)와 배출 개구(162)는 별개의 접근 개구(158)들이다.
70. 실시예 69에 따른 처리 플랜트(100)는, 피가공물(102)이 운반 디바이스(110)에 의해 수평 평면을 따라 이동, 특히 처리 챔버(148) 내로 도입될 수 있고 및/또는 처리 챔버(148)로부터 배출될 수 있는 것을 특징으로 한다.
71. 실시예 69 또는 70에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 주 운반 방향(116)으로 연장되는 주 운반 경로(118)를 포함하고 피가공물(102)이 운반 디바이스(110)에 의하여 주 운반 경로를 따라서 처리 스테이션(114)으로부터 추가 처리 스테이션(114)으로 운반될 수 있는 것을 특징으로 한다.
72. 실시예 69 내지 71 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 피가공물(102)이 주 운반 방향(116)을 따라서 및/또는 주 운반 경로(118)를 따라서 피가공물의 길이 방향(202)으로 운반될 수 있는 것을 특징으로 한다.
73. 실시예 69 내지 72 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 피가공물(102)이 그의 길이 방향(202)으로 하나 이상의 처리 챔버(148)를 통하여 운반될 수 있는 것을 특징으로 한다.
74. 실시예 69 내지 73 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 운반 디바이스(110)는 하나 이상의 이송 스테이션(210)을 포함하며, 이송 스테이션 상에서 또는 이에 의하여 피가공물(102)이 처리 스테이션(114)에서 추가 처리 스테이션(114)으로 선택적으로 이송될 수 있고, 추가 처리 스테이션은 처리 플랜트(100)의 동일한 처리 유닛(106)의 및/또는 그와 다른 처리 유닛(106)의 주 운반 방향(116)을 뒤따르는 것을 특징으로 한다.
75. 실시예 69 내지 74 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)는 동일한 처리 단계를 수행하기 위한 여러 처리 스테이션(114)을 포함하는 것을 특징으로 하며, 2개 이상의 이러한 처리 스테이션(114)은 서로 인접하게 배열되고 및/또는 이들은 서로 평행하게 연장되는 처리 유닛(106)들의 부분들, 또는 처리 플랜트(100)의 처리 라인들이다.
76. 실시예 69 내지 75 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 주 운반 방향(116)으로 연장된 주 운반 경로를 포함하고 피가공물(102)이 운반 디바이스(110)에 의하여 주 운반 경로를 따라서 처리 스테이션(114)으로부터 추가 처리 스테이션(114)으로 운반될 수 있는 것을 특징으로 하며, 주 운반 경로(118)는 주 운반 경로(118)를 수용하기 위한 하나 이상의 터널 부분(120)을 포함하고, 하나 이상의 터널 부분(120), 특히 2개의 처리 스테이션(114) 사이에 주 운반 방향(116)을 따라서 배열된 하나 이상의 터널 부분(120)은 세정 스테이션(122) 및/또는 플러싱 스테이션(126) 및/또는 분사 스테이션(124)을 갖는다.
77. 실시예 69 내지 76 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 하나 이상의 세정 스테이션(122) 및/또는 플러싱 스테이션(126) 및/또는 분사 스테이션(124)이 하나 이상의 이송 스테이션(210) 상에 배열되거나 형성된 것을 특징으로 한다.
78. 실시예 69 내지 77 중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 동일한 처리 공정을 수행하기 위한 적어도 2개의 처리 스테이션(114)을 포함하는 것, 그리고 분배기 디바이스(112) 또는 결합 디바이스(130)가 피가공물(102)의 주 운반 방향(116)에 대해 이 처리 스테이션(114)의 앞 및/또는 뒤에 배열된 것을 특징으로 한다.
79. 실시예 78에 따른 처리 플랜트(100)는, 분배기 디바이스(112) 및/또는 결합 디바이스(130)가 횡 방향 변위 디바이스(208)로서 각각 설계된 것을 특징으로 한다.
80. 실시예 69 내지 79중 한 실시예에 따른 처리 플랜트(100)는, 처리 플랜트(100)가 플러딩 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션(114) 및 디핑 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션(114)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
81. 실시예 80에 따른 처리 플랜트(100)는,
a) 플러딩 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션(114)이 피가공물(102)을 전처리, 특히 세정, 탈지 및/또는 인산염 처리하기 위하여 사용되며; 및/또는
b) 디핑 공정을 수행하기 위한 하나 이상의 처리 스테이션(114)이 피가공물(102)의 코팅, 특히 페인팅하기 위하여 사용되는 것을 특징으로 한다.
82. 피가공물(102)을 처리하는, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하는 방법이 제공되며, 특히 실시예 1 내지 43 중 한 실시예에 따른 하나 이상의 처리 스테이션(114) 및/또는 실시예 44 내지 81 중 한 실시예에 따른 하나 이상의 처리 플랜트(100)가 사용된다.
83. -특히 실시예 82에 따른- 방법은 다음의,
- 피가공물(102)을 처리 컨테이너(136)의 처리 챔버(148) 내로 도입하는 것;
- 피가공물 처리를 수행하기 위해 유체로 처리 챔버(148)를 플러딩하는 것을 포함하며, 유체는,
a) 처리 챔버(148)를 플러딩하기 위해 유체 탱크(134)에서 처리 컨테이너(136) 내로; 및/또는
b) 처리 챔버(148)를 비우기 위해 처리 컨테이너(136)에서 유체 탱크(134) 내로 안내된다.
84. -특히 실시예 82 또는 83에 따른- 방법은 다음의,
- 하나 이상의 피가공물(102)을 하나 이상의 스테이션(136)의 처리 챔버(148) 내로 도입하는 것;
- 처리를 수행하기 위해 유체로 하나 이상의 처리 챔버(148)를 플러딩하는 것을 포함하며,
유체 가이드(140)에 의해 유체는,
a) 하나 이상의 처리 챔버(148)를 플러딩하기 위해 유체 탱크(134)에서 각각의 처리 챔버(148) 내로; 및/또는
b) 처리 챔버(148)를 비우기 위해 각각의 처리 챔버(148)에서 유체 탱크(134) 내로 안내된다.
85. 실시예 82 내지 84 중 한 실시예에 따른 방법은, 유체가 연속적으로, 특히 완전히 시차를 두고,
a) 유체 탱크(134)에서 제거되고 하나 이상의 처리 챔버(148)로 공급되며, 그리고
b) 그 후, 특히 이후에 또는 나중에, 예를 들어 세정 디바이스(200)에서의 유체의 세정 후 유체 탱크(134) 내로 다시 안내되는 것을 특징으로 하며,
그에 의하여 유체 탱크(134) 및/또는 하나 이상의 처리 챔버(148)는 바람직하게는 교대로 채워지고 비워진다.
86. 실시예 82 내지 85 중 한 실시예에 따른 방법은, 유체가 연속적으로, 특히 완전히 시차를 두고,
a) 제1 처리 유닛(106)의 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)에 공급되고, 그리고
b) 그 후, 특히 후속적으로 또는 나중에, 예를 들어 임시 저장 탱크 내에서의 임시 저장 후, 제2 처리 유닛(106)의 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)에 공급되는 것을 특징으로 한다.
87. -특히, 실시예 82 내지 86 중 한 실시예에 따른 - 피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 방법으로서, 본 방법은 다음의;
- 피가공물(102)을 처리 컨테이너(136)의 접근 개구(158)를 통해 처리 컨테이너(136)의 처리 챔버(148) 내로 도입하는 것;
- 폐쇄 디바이스(164)에 의해 처리 컨테이너(136)의 접근 개구(158)를 폐쇄하는 것;
- 피가공물 처리를 수행하기 위해 처리 챔버(148)를 유체로 플러딩하는 것을 포함한다.
88. -특히, 실시예 82 내지 87 중 한 실시예에 따른- 피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 방법으로서, 본 방법은 다음의;
운반 디바이스(110)에 의해 하나 이상의 피가공물(102)을 운반하는 것;
처리 단계를 수행하기 위해 처리 스테이션(114)의 처리 챔버(148) 내로 하나 이상의 피가공물(102)을 도입하는 것;
처리 챔버(148)를 유체로 플러딩하는 것;
유체를 제거하고, 운반 디바이스(110)에 의해 처리 챔버(148)로부터 피가공물(102)을 배출하는 것을 포함하며,
피가공물(102)은 특히 적어도 대략 수평 방향으로 처리 챔버(148) 내로 도입되고 처리 챔버로부터 배출된다.
89. -특히, 실시예 82 내지 88 중 한 실시예에 따른 - 피가공물(102)을 처리하기 위한 방법은, 피가공물(102)이 주 운반 방향(116)을 따라서 한 처리 스테이션(114)에서 다음 처리 스테이션으로 운반되고 또한 횡 방향으로, 특히 주 운반 방향(116)에 수직으로 연장되는 도입 방향(182)으로 처리 스테이션(114)의 처리 챔버(148) 내로 도입되는 것을 특징으로 한다.
90. -특히, 실시예 82 내지 89 중 한 실시예에 따른 - 피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 방법으로서, 본 방법은 다음의;
- 피가공물(102)을 처리 컨테이너(136)의 처리 챔버(148) 내로 도입하는 것;
-피가공물 처리를 수행하기 위해 유체로 처리 챔버(148)를 플러딩하는 것을 포함하며,
플러딩은 처리 챔버(148) 내에 배열되거나 배열될 수 있는 하나 이상의 설치 요소(188)에 의해 지원된다.
91. -특히, 실시예 82 내지 90 중 한 실시예에 따른 - 피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 방법으로서, 본 방법은 다음의;
운반 디바이스(110)에 의해 하나 이상의 피가공물(102)을 운반하는 것;
처리 단계를 수행하기 위해 처리 스테이션(114)의 처리 챔버(148) 내로 하나 이상의 피가공물(102)을 도입하는 것;
처리 챔버(148)를 유체로 플러딩하는 것;
유체를 제거하고 운반 디바이스(110)에 의해 처리 챔버(148)로부터 피가공물(102)을 배출하는 것을 포함하며,
운반 디바이스(110)에 의해, 각각의 처리 챔버(148)의 비워진 상태에서, 피가공물(102)은 도입 개구(160)로서 설계된 접근 개구(158)를 통해 처리 챔버 내로 도입되고, 그리고 운반 디바이스에 의해, 각각의 처리 챔버(148)가 비워진 상태에서, 피가공물(102)은 배출 개구(162)로 설계된 접근 개구(158)를 통해 처리 챔버로부터 배출되며, 도입 개구(160)와 배출 개구(162)는 별개의 접근 개구(158)이다.
92. 실시예 91에 따른 방법은, 피가공물(102)이 하나의 처리 스테이션(114)에서 다음 처리 스테이션으로 주 운반 방향(116)을 따라서 피가공물의 길이 방향(202)으로 운반되고 또한 처리 스테이션(114)의 처리 챔버(148)를 통하여 동일한 길이 방향(202)으로 운반되는 것을 특징으로 한다.
100: 처리 플랜트
102: 피가공물
104: 차체
106: 처리 유닛
108: 공급 스테이션
110: 운반 디바이스
112: 분배기 디바이스
114: 처리 스테이션
116: 주 운반 방향
118: 주 운반 경로
120: 터널 부분
122: 세정 스테이션
124: 분사 스테이션
126: 플러싱 스테이션
128: 제거 스테이션
130: 결합 디바이스
132: 횡 방향
134: 유체 탱크
136: 처리 컨테이너
138: 수집 요소
140: 유체 가이드
142: 공급 라인
144: 밸브 디바이스
146: 최하부 영역
148: 처리 챔버
150: 최하부 벽
152: 천장 벽
154: 측벽
156: 전면 벽
158: 접근 개구
160: 도입 개구
162: 배출 개구
164: 폐쇄 디바이스
166: 폐쇄 요소
168: 폐쇄 구동부
170: 리프팅 디바이스
172: 록 게이트
174: 안내 디바이스
176: 안내 디바이스
178: 수용 디바이스
180: 스키드
182: 도입 방향
184: 수평 방향
186: 배출 라인
188: 설치 요소
190: 변위 요소
192: 지지 요소
194: 유입 영역
196: 카운터 탱크
198: 펌프 디바이스
200: 세정 디바이스
202: 길이 방향
204: 턴테이블
206: 종단
208: 횡 방향 변위 디바이스
210: 이송 스테이션
212: 딥 탱크
214: 폴딩 요소
216: 수집 펀넬
218: 수집 컨테이너
220: 구동 유닛
222: 안내 경로 부분
224: 결합 디바이스
226: 외측면
228: 측벽
230: 관통 개구
232: 연결 요소
234: 당김 요소
236: 인장 요소
238: 센서 디바이스
240: 센서 요소
242: 트랜스듀서 요소
244: 결합 로드
g: 중력 방향
102: 피가공물
104: 차체
106: 처리 유닛
108: 공급 스테이션
110: 운반 디바이스
112: 분배기 디바이스
114: 처리 스테이션
116: 주 운반 방향
118: 주 운반 경로
120: 터널 부분
122: 세정 스테이션
124: 분사 스테이션
126: 플러싱 스테이션
128: 제거 스테이션
130: 결합 디바이스
132: 횡 방향
134: 유체 탱크
136: 처리 컨테이너
138: 수집 요소
140: 유체 가이드
142: 공급 라인
144: 밸브 디바이스
146: 최하부 영역
148: 처리 챔버
150: 최하부 벽
152: 천장 벽
154: 측벽
156: 전면 벽
158: 접근 개구
160: 도입 개구
162: 배출 개구
164: 폐쇄 디바이스
166: 폐쇄 요소
168: 폐쇄 구동부
170: 리프팅 디바이스
172: 록 게이트
174: 안내 디바이스
176: 안내 디바이스
178: 수용 디바이스
180: 스키드
182: 도입 방향
184: 수평 방향
186: 배출 라인
188: 설치 요소
190: 변위 요소
192: 지지 요소
194: 유입 영역
196: 카운터 탱크
198: 펌프 디바이스
200: 세정 디바이스
202: 길이 방향
204: 턴테이블
206: 종단
208: 횡 방향 변위 디바이스
210: 이송 스테이션
212: 딥 탱크
214: 폴딩 요소
216: 수집 펀넬
218: 수집 컨테이너
220: 구동 유닛
222: 안내 경로 부분
224: 결합 디바이스
226: 외측면
228: 측벽
230: 관통 개구
232: 연결 요소
234: 당김 요소
236: 인장 요소
238: 센서 디바이스
240: 센서 요소
242: 트랜스듀서 요소
244: 결합 로드
g: 중력 방향
Claims (15)
- 피가공물(102)을 처리하기 위한 처리 플랜트(100)에 있어서,
상기 피가공물(102)을 처리하기 위한, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하기 위한 여러 처리 스테이션(114)을 포함하며,
각 처리 스테이션(114)은 상기 피가공물(102)을 수용하기 위한 처리 챔버(148)를 둘러싸는 적어도 하나의 처리 컨테이너(136)를 포함하고,
각 처리 스테이션(114)은 개별적으로, 또는 하나 이상의 처리 스테이션(114)은 공동으로 유체를 수용하기 위한 유체 탱크(134)를 포함하며,
상기 처리 스테이션(114)은 유체 가이드(140)를 포함하고,
상기 유체 가이드에 의하여 상기 유체는
a) 하나 이상의 처리 챔버(148)를 플러딩하기 위하여 상기 유체 탱크(134)로부터 상기 각각의 처리 컨테이너(136) 내로; 및/또는
b) 상기 처리 챔버(148)를 비우기 위하여 상기 각각의 처리 컨테이너(136)로부터 상기 유체 탱크(134)로 안내될 수 있는 처리 플랜트(100). - 제1항에 있어서, 처리 플랜트(100)는 제1 처리 단계를 수행하기 위한 여러 제1 처리 스테이션(114) 및 제2 처리 단계를 수행하기 위한 여러 제2 처리 스테이션(114)을 포함하며, 하나 이상의 제1 처리 스테이션(114) 및 하나 이상의 제2 처리 스테이션(114)은 각각 처리 단계를 수행하기 위하여 피가공물(102)이 통과하는 상기 처리 플랜트(100)의 처리 유닛(106)의 일부이거나 처리 유닛을 형성하는 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제2항에 있어서, 상기 처리 플랜트(100)는 여러 처리 유닛(106)을 포함하며, 처리 유닛들의 각각은 하나 이상의 제1 처리 스테이션(114) 및 하나 이상의 제2 처리 스테이션(114)을 포함하고 특히 처리 플랜트(100)의 별개의 처리 라인을 형성하며,
a) 별개의 처리 유닛(106)들의 하나 이상의 제1 처리 스테이션(114)은 공통 유체 가이드(140) 및/또는 공통 유체 탱크(134)를 가지며; 및/또는
b) 별개의 처리 유닛(106)들의 하나 이상의 제2 처리 스테이션(114)은 공통 유체 가이드(140) 및/또는 공통 유체 탱크(134)를 갖는 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100). - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 유체, 특히 제1 처리 유체는 유체 가이드에 의해 먼저 a) 제1 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제1 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로, 그리고 그 후 b) 제2 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제1 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로 공급될 수 있는 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 유체, 특히 제2 처리 유체는 유체 가이드(140)에 의해 먼저 a) 제1 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제2 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로, 그리고 그 후 b) 제2 처리 유닛(106)의 하나 이상의 처리 스테이션(114), 특히 제2 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)로 공급될 수 있는 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 유체는 상기 유체 가이드(140)에 의하여 별개의 처리 유닛(106)들의 처리 챔버(148)들로 교대로 공급될 수 있는 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 유체가 특히 상기 처리 챔버(148)들 중 하나로부터의 제거 후 및/또는 상기 챔버(148)들 중 다른 하나로의 새로운 공급 전에 세정될 수 있도록 상기 유체 가이드(140)가 세정 디바이스(200)에 연결된 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 가이드(140)에 전체적으로 포함된 유체의 총량은 처리 챔버(148)에서 단일 플러딩 공정을 수행하기 위하여 요구되는 유체의 양의 최대 약 2배, 특히 최대 약 3배인 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 처리 유닛(106)의 여러, 특히 모든 처리 스테이션(114), 특히 처리 유닛(106)의 하나 이상의 또는 모든 제1 처리 스테이션(114)과 하나 이상의 또는 모든 제2 처리 스테이션(114)은 상기 처리 플랜트(100)의 공통 레벨에 배열된 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리 플랜트(100)의 여러 처리 유닛(106)은 상기 처리 플랜트(100)의 별개의 레벨로 배열된 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 공통 유체 가이드(140)를 갖는 및/또는 동일한 처리 단계를 수행하는 역할을 하는, 상기 처리 플랜트(100)의 별개의 처리 유닛(106)들의 하나 이상의 처리 스테이션(114)은 중력 방향(g)을 따라서 서로 위에 배열된 것을 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리 플랜트(100)는 별개의 처리 유체를 안내하기 위한 여러 유체 가이드(140)를 포함하며, 상기 유체 가이드(140)는 상이한 처리 단계들을 수행하기 위해 별개의 처리 스테이션(114)에 할당된 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 처리 플랜트(100).
- 피가공물(102)을 처리하는, 특히 차체(104)를 세정 및/또는 코팅하는 방법에 있어서,
- 하나 이상의 피가공물(102)을 하나 이상의 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148) 내로 도입하는 것;
- 처리를 수행하기 위해 유체로 상기 하나 이상의 처리 챔버(148)를 플러딩하는 것을 포함하며,
유체 가이드(140)에 의하여 유체는,
a) 하나 이상의 처리 챔버(148)를 플러딩하기 위해 상기 유체 탱크(134)에서 상기 각각의 처리 챔버(148) 내로; 및/또는
b) 상기 처리 챔버(148)를 비우기 위해 상기 각각의 처리 챔버(148)에서 상기 유체 탱크(134) 내로 안내되는 방법. - 제13항에 있어서, 상기 유체는 연속적으로, 특히 완전히 시차를 두고,
a) 상기 유체 탱크(134)에서 제거되고 하나 이상의 처리 챔버(148)로 공급되며, 그리고
b) 그 후, 특히 이후에 또는 나중에, 예를 들어 세정 디바이스(200)에서의 유체의 세정 후 상기 유체 탱크(134)로 다시 안내되고,
그에 의하여 상기 유체 탱크(134) 및/또는 상기 하나 이상의 처리 챔버(148)는 바람직하게는 교대로 채워지고 비워지는 것을 특징으로 하는 방법. - 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 유체는 연속적으로, 특히 완전히 시차를 두고,
a) 제1 처리 유닛(106)의 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)에 공급되고, 그리고
b) 그 후, 특히 후속적으로 또는 나중에, 예를 들어 임시 저장 탱크 내에서의 임시 저장 후, 제2 처리 유닛(106)의 처리 스테이션(114)의 하나 이상의 처리 챔버(148)에 공급되는 것을 특징으로 하는 방법.
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