KR20230008800A - 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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유지 오키타
히데지 나오하라
히로아키 가쿠마
다쓰야 마스이
유이치 데바
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

제1 토출 공정에서, 공급관에 설치된 밸브에 열림 신호를 출력하여, 노즐(30)의 선단으로부터 기판(W)의 주면에 처리액을 토출한다. 이동 공정에서, 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에 있어서, 노즐(30)을 이동시킨다. 촬상 공정에서, 적어도 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에, 카메라가 순차적으로 촬상하여, 복수의 화상 데이터를 취득한다. 설정 공정에서, 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 노즐(30)의 위치를 검출하여, 노즐(30)의 위치 변화에 추종시켜, 노즐(30)의 선단보다 하측에 판정 영역(R11)을 설정한다. 액누출 감시 공정에서, 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 판정 영역(R11) 내의 화소에 의거하여, 노즐(30)의 선단으로부터 낙하하는 처리액의 유무를 감시한다.

Description

기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
본원은, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 디바이스 등의 제조 공정에 있어서는, 기판에 대해, 순수(純水), 포토레지스트액 및 에칭액 등의 다양한 처리액을 공급하고, 세정 처리, 레지스트 도포 처리 및 에칭 처리 등의 다양한 기판 처리를 행하고 있다. 이들 처리액을 사용한 기판 처리를 행하는 장치로는, 기판을 수평 자세로 회전시키면서, 그 기판의 표면에 노즐로부터 처리액을 토출하는 기판 처리 장치가 널리 이용되고 있다.
이 기판 처리 장치에 있어서, 노즐은 배관을 통하여 처리액 공급원에 접속되어 있고, 배관에는 밸브가 설치되어 있다. 밸브는 제어부에 의해 제어되고 있어, 제어부가 열림 신호를 출력함으로써 밸브가 열리고, 닫힘 신호를 출력함으로써 밸브가 닫힌다. 밸브가 열림으로써, 노즐로부터 처리액이 토출되고, 밸브가 닫힘으로써, 노즐로부터의 처리액의 토출이 정지한다.
이와 같은 기판 처리 장치에 있어서, 카메라 등의 촬상 수단을 설치하여 노즐로부터의 처리액의 토출을 감시하는 것이 제안되고 있다(특허 문헌 1, 2). 촬상 수단은, 노즐의 선단을 포함하는 촬상 영역을 순차적으로 촬상하여 화상 데이터를 취득한다. 화상 처리부는 당해 화상 데이터를 받아, 당해 화상 데이터 중, 노즐보다 하측에 설정된 판정 영역 내의 화소값에 의거하여, 노즐로부터의 처리액의 토출의 유무를 판정한다.
일본 특허 2008-135679호 공보 일본 특허 2015-173148호 공보
밸브가 닫힘으로써, 노즐로부터의 처리액의 토출이 정지한다. 이 토출 정지 시에, 노즐로부터 액적 형상의 처리액이 낙하하는 경우가 있다. 이와 같은 액적의 낙하는, 드리핑이라고도 불린다. 또, 밸브의 이상(異常) 등에 의해, 노즐로부터 가는 처리액이 계속 흘러내리는 경우도 있다. 이와 같은 처리액의 흘러내림은, 계속 흐름이라고도 불린다.
이와 같은 처리액의 액누출(드리핑 및 계속 흐름을 포함한다)를 검출하기 위해서는, 밸브에 닫힘 신호를 출력한 후에도, 노즐을 감시하는 것이 생각된다.
그런데, 밸브에 닫힘 신호를 출력한 후에, 노즐을 이동시키는 경우가 있다. 노즐이 이동하면, 촬상 수단에 의해 취득되는 화상 데이터 내에 있어서도 노즐의 위치가 변화한다. 화상 데이터 내에 있어서 노즐의 위치가 변화하면, 노즐로부터의 처리액이, 화상 데이터 내의 판정 영역으로부터 어긋날 수 있다. 이 경우, 판정 영역 내의 화소값에 의거하여, 드리핑 또는 계속 흐름 등의 토출 이상을 감시하지 못하여, 액누출을 검출할 수 없다.
또, 기판 처리 장치에는, 복수의 노즐이 설치되는 경우가 있다. 예를 들면 제1 노즐에 의한 처리액의 토출을 종료한 후에, 제1 노즐을 이동시키면서, 제2 노즐이 처리액을 토출하기 시작하는 경우도 있다. 이 경우, 제2 노즐로부터의 처리액이 화상 데이터 내의 판정 영역에 들어가면, 당해 처리액을 액누출로서 오검출하는 경우도 있을 수 있다.
이에, 본원은, 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 밸브로의 닫힘 신호를 출력한 후에도, 노즐로부터의 액누출을 적절히 감시할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
기판 처리 방법의 제1의 양태는, 기판을 유지하는 유지 공정과, 공급관에 설치된 밸브에 열림 신호를 출력하여, 상기 공급관에 접속된 제1 노즐의 선단으로부터 상기 기판의 주면에 처리액을 토출하는 제1 토출 공정과, 상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에 있어서, 상기 제1 노즐을 이동시키는 이동 공정과, 적어도 상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에, 상기 제1 노즐의 상기 선단을 포함하는 소정 영역을 카메라가 순차적으로 촬상하여, 복수의 화상 데이터를 취득하는 촬상 공정과, 상기 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 제1 노즐의 위치를 검출하여, 상기 복수의 화상 데이터 간에 있어서의 상기 제1 노즐의 위치 변화에 추종시켜, 상기 제1 노즐의 상기 선단보다 하측에 판정 영역을 설정하는 설정 공정과, 상기 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 판정 영역 내의 화소에 의거하여, 상기 제1 노즐의 상기 선단으로부터 낙하하는 처리액의 유무를 감시하는 액누출 감시 공정을 구비한다.
기판 처리 방법의 제2의 양태는, 제1의 양태에 따른 기판 처리 방법이며, 상기 이동 공정에 있어서 상기 제1 노즐을 상승시킨다.
기판 처리 방법의 제3의 양태는, 제2의 양태에 따른 기판 처리 방법이며, 상기 제1 노즐이 상승한 상태에서, 제2 노즐로부터 상기 기판의 상기 주면에 처리액을 토출하는 제2 토출 공정을 더 구비하고, 상기 액누출 감시 공정에 있어서, 상기 제2 토출 공정에서 상기 카메라에 의해 취득된 상기 화상 데이터에 있어서, 상기 제1 노즐의 상승에 추종하여 상기 판정 영역을 설정함으로써, 상기 제2 노즐의 상기 선단에서 상기 기판의 상기 주면에 이르기까지의 처리액을 피해 상기 판정 영역을 설정한다.
기판 처리 장치의 양태는, 기판을 유지하는 기판 유지부와, 밸브에 설치된 공급관에 접속되어, 상기 공급관을 통해서 공급되는 처리액을, 상기 기판 유지부에 의해 유지된 상기 기판의 주면에 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 이동시키는 이동 기구와, 상기 노즐의 선단을 포함하는 소정 영역을 촬상하는 카메라와, 상기 밸브에 열림 신호를 출력하여, 상기 노즐의 선단으로부터 상기 기판의 주면에 처리액을 토출하게 하고, 상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에 있어서, 상기 이동 기구로 하여금 상기 노즐을 이동하게 하고, 적어도 상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에, 상기 카메라에 의해 순차적으로 취득된 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 노즐의 위치를 검출하여, 상기 복수의 화상 데이터 간에 있어서의 상기 노즐의 위치 변화에 추종시켜, 상기 노즐의 상기 선단보다 하측에 판정 영역을 설정하고, 상기 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 판정 영역 내의 화소에 의거하여, 상기 노즐의 상기 선단으로부터 낙하하는 처리액의 유무를 감시하는 제어부를 구비한다.
기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에 의하면, 액누출을 적절히 검출할 수 있다.
도 1은 기판 처리 장치의 전체 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 2는 처리 유닛의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 3은 처리 유닛의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 측면도이다.
도 4는 노즐의 이동 경로의 일례를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 5는 제어부의 내부 구성의 일례를 나타내는 기능 블럭도이다.
도 6은 처리 유닛의 동작의 일례를 나타내는 플로차트이다.
도 7은 처리액 공정의 구체적인 공정의 일례를 나타내는 플로차트이다.
도 8은 감시 처리의 구체적인 일례를 나타내는 플로차트이다.
도 9는 촬상 화상 데이터의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 10은 촬상 화상 데이터의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 11은 촬상 화상 데이터의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 12는 촬상 화상 데이터의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 13은 처리액의 액적이 낙하하는 모습의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 14는 촬상 화상 데이터의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
이하, 첨부되는 도면을 참조하면서 실시의 형태에 대해서 설명한다. 또한, 도면은 개략적으로 나타나는 것이며, 설명의 편의를 위해, 적절히, 구성의 생략, 또는, 구성의 간략화가 이루어지는 것이다. 또, 도면에 나타나는 구성의 크기 및 위치의 상호 관계는, 반드시 정확하게 기재되는 것이 아니라, 적절히 변경될 수 있는 것이다.
또, 이하에 나타내는 설명에서는, 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 붙여 도시하고, 이들 명칭과 기능에 대해서도 동일한 것으로 한다. 따라서, 이들에 대한 상세한 설명을, 중복을 피하기 위해 생략하는 경우가 있다.
또, 이하에 기재되는 설명에 있어서, 「제1 」 또는 「제2 」 등의 서수가 이용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시의 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해 편의상 이용되는 것이며, 이들 서수에 의해 발생할 수 있는 순서 등에 한정되는 것은 아니다.
상대적 또는 절대적인 위치 관계를 나타내는 표현(예를 들면 「일 방향으로」 「일 방향을 따라」 「평행」 「직교」 「중심」 「동심」 「동축」 등)은, 특별히 언급하지 않는 한, 그 위치 관계를 엄밀하게 나타낼 뿐만 아니라, 공차 혹은 동일한 정도의 기능이 얻어지는 범위에서 상대적으로 각도 또는 거리에 관하여 변위된 상태도 나타내는 것으로 한다. 동일한 상태인 것을 나타내는 표현(예를 들면 「동일」 「같다」 「균질」 등)은, 특별히 언급하지 않는 한, 정량적으로 엄밀하게 같은 상태를 나타낼 뿐만 아니라, 공차 혹은 동일한 정도의 기능이 얻어지는 차가 존재하는 상태도 나타내는 것으로 한다. 형상을 나타내는 표현(예를 들면, 「사각형 형상」 또는 「원통 형상」 등)은, 특별히 언급하지 않는 한, 기하학적으로 엄밀하게 그 형상을 나타낼 뿐만 아니라, 동일한 정도의 효과가 얻어지는 범위에서, 예를 들면 요철이나 모따기 등을 갖는 형상도 나타내는 것으로 한다. 하나의 구성 요소를 「마련하다」 「갖추다」 「구비하다」 「포함하다」 또는 「갖는다」라는 표현은, 다른 구성 요소의 존재를 제외하는 배타적 표현은 아니다. 「A, B 및 C 중 적어도 어느 하나」라는 표현은, A만, B만, C만, A, B 및 C 중 임의의 2개, 및, A, B 및 C 모두를 포함한다.
＜기판 처리 장치의 전체 구성＞
도 1은, 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치(100)의 내부의 레이아웃의 일례를 설명하기 위한 도해적인 평면도이다. 도 1에 예를 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치(100)는, 처리 대상인 기판(W)을 1장씩 처리하는 매엽식의 처리 장치이다.
본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치(100)는, 원형 박판 형상인 실리콘 기판인 기판(W)에 대해, 약액 및 순수 등의 린스액을 이용하여 세정 처리를 행한 후, 건조 처리를 행한다.
상기의 약액으로는, 예를 들면, 암모니아와 과산화 수소수의 혼합액(SC1), 염산과 과산화 수소수의 혼합 수용액(SC2), 또는, DHF액(희불산)등이 이용된다.
이하의 설명에서는, 약액, 린스액 및 유기용제 등을 총칭하여 「처리액」이라고 한다. 또한, 세정 처리 뿐만 아니라, 불필요한 막을 제거하기 위한 약액, 또는, 에칭을 위한 약액 등도 「처리액」에 포함되는 것으로 한다.
기판 처리 장치(100)는, 복수의 처리 유닛(1)과, 로드 포트(LP)와, 인덱서 로봇(102)과, 주반송 로봇(103)과, 제어부(9)를 구비한다.
캐리어로는, 기판(W)을 밀폐 공간에 수납하는 FOUP(Front Opening Unified Pod), SMIF(Standard Mechanical InterFace) 포드, 또는, 기판(W)을 바깥 공기에 노출시키는 OC(Open Cassette)가 채용되어도 된다. 또, 이송 로봇은, 캐리어와 주반송 로봇(103) 사이에서 기판(W)을 이송한다.
처리 유닛(1)은, 1장의 기판(W)에 대해 액 처리 및 건조 처리를 행한다. 본 실시의 형태에 관한 기판 처리 장치(100)에는, 동일한 구성인 12개의 처리 유닛(1)이 배치되어 있다.
구체적으로는, 각각이 연직 방향으로 적층된 3개의 처리 유닛(1)을 포함하는 4개의 타워가, 주반송 로봇(103)의 주위를 둘러싸듯이 하여 배치되어 있다.
도 1에서는, 3단으로 겹쳐진 처리 유닛(1)의 1개가 개략적으로 나타나 있다. 또한, 기판 처리 장치(100)에 있어서의 처리 유닛(1)의 수량은, 12개로 한정되는 것이 아니라, 적절히 변경되어도 된다.
주반송 로봇(103)은, 처리 유닛(1)이 적층된 4개의 타워의 중앙에 설치되어 있다. 주반송 로봇(103)은, 인덱서 로봇(102)으로부터 받는 처리 대상의 기판(W)을 각각의 처리 유닛 내에 반입한다. 또, 주반송 로봇(103)은, 각각의 처리 유닛(1)으로부터 처리가 완료된 기판(W)을 반출하여 인덱서 로봇(102)에 건네준다. 제어부(9)는, 기판 처리 장치(100) 각각의 구성 요소의 동작을 제어한다.
이하, 기판 처리 장치(100)에 탑재된 12개의 처리 유닛(1) 중 하나에 대해서 설명하지만, 다른 처리 유닛(1)에 대해서도, 노즐의 배치 관계가 상이한 것 이외에는, 동일한 구성을 갖는다.
＜처리 유닛＞
다음에, 처리 유닛(1)에 대해서 설명한다. 이하, 기판 처리 장치(100)에 탑재된 12개의 처리 유닛(1) 중 1개를 설명한다. 도 2는, 처리 유닛(1)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 평면도이다. 또, 도 3은, 처리 유닛(1)의 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 종단면도이다.
처리 유닛(1)은, 챔버(10) 내에, 기판 유지부의 일례인 스핀 척(20)과, 노즐(30)과, 노즐(60)과, 노즐(65)과, 고정 노즐(80)과, 처리 컵(40)과, 카메라(70)를 포함한다.
챔버(10)는, 연직 방향을 따르는 측벽(11), 측벽(11)에 의해 둘러싸인 공간의 상측을 폐색하는 천정벽(12) 및 하측을 폐색하는 바닥벽(13)을 포함한다. 측벽(11), 천정벽(12) 및 바닥벽(13)에 의해 둘러싸인 공간이 처리 공간이 된다. 또, 챔버(10)의 측벽(11)의 일부에는, 주반송 로봇(103)이 기판(W)을 반출입하기 위한 반출입구 및 그 반출입구를 개폐하는 셔터가 설치되어 있다(모두 도시 생략).
챔버(10)의 천정벽(12)에는, 기판 처리 장치(100)가 설치되어 있는 클린 룸 내의 공기를 더 청정화하여 챔버(10) 내의 처리 공간에 공급하기 위한 팬 필터 유닛(FFU)(14)이 장착되어 있다. 팬 필터 유닛(14)은, 클린 룸 내의 공기를 도입하여 챔버(10) 내에 송출하기 위한 팬 및 필터(예를 들면 HEPA(High Efficiency Particulate Air) 필터)를 구비하고 있으며, 챔버(10) 내의 처리 공간에 청정 공기의 다운 플로우를 형성한다. 팬 필터 유닛(14)으로부터 공급된 청정 공기를 균일하게 분산하기 위해, 다수의 취출(吹出) 구멍을 형성한 펀칭 플레이트를 천정벽(12)의 바로 아래에 설치하도록 해도 된다.
스핀 척(20)은, 기판(W)을 수평 자세로 유지한다. 수평 자세란, 기판(W)의 법선이 연직 방향을 따르는 자세이다. 스핀 척(20)은, 연직 방향을 따라 연장되는 회전축(24)의 상단에 수평 자세로 고정된 원판 형상의 스핀 베이스(21)를 구비한다. 스핀 베이스(21)의 하방에는 회전축(24)을 회전시키는 스핀 모터(22)가 설치된다. 스핀 모터(22)는, 회전축(24)을 통하여 스핀 베이스(21)를 수평면 내에서 회전시킨다. 또, 스핀 모터(22) 및 회전축(24)의 주위를 둘러싸도록 통 형상의 커버 부재(23)가 설치되어 있다.
원판 형상의 스핀 베이스(21)의 외경은, 스핀 척(20)에 유지되는 원형의 기판(W)의 직경보다 약간 크다. 따라서, 스핀 베이스(21)는, 유지해야 할 기판(W)의 하면의 전체면과 대향하는 상면(21a)을 갖고 있다.
스핀 베이스(21)의 상면(21a)의 주연부에는 복수(본 실시 형태에서는 4개)의 척 핀(26)이 세워 설치되어 있다. 복수의 척 핀(26)은, 원형의 기판(W)의 주연에 대응하는 원주 상을 따라 균등한 간격을 두고(본 실시 형태와 같이 4개의 척 핀(26)이면 90°간격으로) 배치되어 있다. 각 척 핀(26)은, 기판(W)의 주연에 맞닿는 유지 위치와, 기판(W)의 주연으로부터 멀어진 개방 위치 사이에서 구동 가능하게 설치되어 있다. 복수의 척 핀(26)은, 스핀 베이스(21) 내에 수용된 도시 생략한 링크 기구에 의해 연동하여 구동된다. 스핀 척(20)은, 복수의 척 핀(26)을 각각의 맞닿음 위치에서 정지시킴으로써, 당해 기판(W)을 스핀 베이스(21)의 상방에서 상면(21a)에 근접한 수평 자세로 유지할 수 있음과 함께(도 3 참조), 복수의 척 핀(26)을 각각의 개방 위치에서 정지시킴으로써, 기판(W)의 유지를 해제할 수 있다.
스핀 모터(22)를 덮는 커버 부재(23)는, 그 하단이 챔버(10)의 바닥벽(13)에 고정되고, 상단이 스핀 베이스(21)의 바로 아래에까지 도달하고 있다. 커버 부재(23)의 상단부에는, 커버 부재(23)로부터 바깥쪽으로 거의 수평으로 돌출되고, 또한 하방으로 굴곡하여 연장되는 플랜지 형상 부재(25)가 설치되어 있다. 복수의 척 핀(26)에 의한 파지에 의해 스핀 척(20)이 기판(W)을 유지한 상태에서, 스핀 모터(22)가 회전축(24)을 회전시킴으로써, 기판(W)의 중심을 통과하는 연직 방향을 따른 회전축선(CX) 둘레로 기판(W)을 회전시킬 수 있다. 또한, 스핀 모터(22)의 구동은 제어부(9)에 의해 제어된다.
노즐(30)은, 노즐 아암(32)의 선단에 토출 헤드(31)를 장착하여 구성되어 있다. 노즐 아암(32)의 기단측은 노즐 기대(33)에 고정하여 연결되어 있다. 노즐 기대(33)는 도시를 생략하는 모터에 의해 연직 방향을 따른 축의 둘레로 회동 가능하게 되어 있다. 노즐 기대(33)가 회동함으로써, 도 2 중의 화살표 AR34로 나타내는 바와 같이, 노즐(30)은 스핀 척(20)의 상방의 공간 내에서 원호 형상으로 이동한다. 이들 노즐 아암(32), 노즐 기대(33) 및 모터는, 노즐(30)을 이동시키는 이동 기구(37)의 일례이다.
도 4는, 노즐(30)의 이동 경로의 일례를 개략적으로 나타내는 평면도이다. 도 4에 예시되는 바와 같이, 노즐(30)의 토출 헤드(31)는, 노즐 기대(33)의 회전에 의해, 노즐 기대(33)를 중심으로 한 둘레 방향을 따라 이동한다. 노즐(30)은 적절한 위치에서 정지할 수 있다. 도 4의 예에서는, 노즐(30)은 중앙 위치(P31), 주연 위치(P32) 및 대기 위치(P33) 각각에서 정지 가능하다.
중앙 위치(P31)는, 토출 헤드(31)가, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)의 중앙부와 연직 방향에 있어서 대향하는 위치이다. 중앙 위치(P31)에 위치하는 노즐(30)이 회전 중의 기판(W)의 주면(상면)에 처리액을 토출하면, 처리액은 기판(W)의 상면의 중앙부에 착액(着液)하여, 원심력을 받아 기판(W)의 상면의 전체면으로 퍼져, 기판(W)의 주연으로부터 외측으로 비산한다. 이에 따라, 기판(W)의 상면의 전체면에 처리액을 공급할 수 있어, 기판(W)의 상면의 전체면에 대해 처리를 실시할 수 있다.
주연 위치(P32)는, 토출 헤드(31)가, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)의 주연부와 연직 방향에 있어서 대향하는 위치이다. 주연 위치(P32)에 위치하는 노즐(30)이 회전 중의 기판(W)의 상면에 처리액을 토출하면, 처리액은 기판(W)의 상면의 주연부에 착액하여, 원심력을 받아 기판(W)의 주연측으로 이동하고, 기판(W)의 주연에서 외측으로 비산한다. 이에 따라, 기판(W)의 상면의 주연부에만 처리액을 공급할 수 있어, 기판(W)의 주연부 만을 처리할 수 있다(이른바 베벨 처리).
또, 노즐(30)은 중앙 위치(P31)와 주연 위치(P32) 사이에서 왕복 이동하면서, 회전 중의 기판(W)의 상면에 처리액을 토출하는 것도 가능하다. 이 경우에도, 기판(W)의 상면의 전체면을 처리할 수 있다.
또한, 노즐(30)은 주연 위치(P32)에 있어서 처리액을 토출하지 않아도 된다. 예를 들면, 주연 위치(P32)는, 노즐(30)이 중앙 위치(P31)에서 대기 위치(P33)로 이동할 때에, 일단 대기하는 중계 위치여도 된다.
대기 위치(P33)는, 토출 헤드(31)가, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)과 연직 방향에 있어서 대향하지 않는 위치이다. 대기 위치(P33)에는, 노즐(30)의 토출 헤드(31)를 수용하는 대기 포드가 설치되어 있어도 된다.
또, 노즐(30)은 승강 가능하다. 예를 들면 노즐 기대(63)에 내장된 도시하지 않은 노즐 승강 기구에 의해 노즐(30)이 승강한다. 노즐 승강 기구는 예를 들면 볼나사 구조를 포함한다. 노즐(30)은, 예를 들면, 중앙 위치(P31)보다도 연직 상방에 위치하는 중앙 상측 위치(P36)에도 정지 가능하다.
도 3에 예시되는 바와 같이, 노즐(30)은 공급관(34)을 통하여 처리액 공급원(36)에 접속된다. 공급관(34)에는 밸브(35)가 설치되어 있다. 밸브(35)는 공급관(34)의 유로를 개폐한다. 밸브(35)가 열림으로써, 처리액 공급원(36)으로부터의 처리액이 공급관(34)을 통해서 노즐(30)에 공급되고, 노즐(30)의 선단으로부터 토출된다.
또, 도 2에 예시되는 바와 같이, 본 실시 형태의 처리 유닛(1)에는, 상기 노즐(30)에 더하여 또한 노즐(60) 및 노즐(65)이 설치되어 있다. 본 실시 형태의 노즐(60) 및 노즐(65)은, 상기의 노즐(30)과 같은 구성을 갖는다. 즉, 노즐(60)은, 노즐 아암(62)의 선단에 토출 헤드 (61)를 장착하여 구성된다. 노즐(60)은, 노즐 아암(62)의 기단측에 연결된 노즐 기대(63)에 의해, 화살표 AR64로 나타내는 바와 같이, 스핀 척(20)의 상방의 공간을, 기판(W)의 중앙부와 대향하는 중앙 위치와, 기판(W)보다 외측의 대기 위치 사이에서 원호 형상으로 이동 가능하다.
마찬가지로, 노즐(65)은, 노즐 아암(67)의 선단에 토출 헤드(66)를 장착하여 구성된다. 노즐(65)은, 노즐 아암(67)의 기단측에 연결된 노즐 기대(68)에 의해, 화살표 AR69로 나타내는 바와 같이, 스핀 척(20)의 상방의 공간을, 기판(W)의 중앙부와 대향하는 중앙 위치와, 기판(W)보다 외측의 대기 위치 사이에서 원호 형상으로 이동 가능하다.
또, 노즐(60) 및 노즐(65)도 승강 가능하게 설치되어도 된다.
노즐(60) 및 노즐(65) 각각도, 노즐(30)과 마찬가지로, 공급관(도시 생략)을 통하여 처리액 공급원(도시 생략)에 접속된다. 각 공급관에는 밸브(도시하지 않음)가 설치되고, 밸브가 개폐함으로써 처리액의 공급/정지가 전환된다. 또한, 노즐(60) 및 노즐(65) 각각은, 적어도 순수를 포함하는 복수종의 처리액이 공급되도록 구성되어도 된다.
또, 노즐(30), 노즐(60) 및 노즐(65) 중 적어도 어느 하나는, 순수 등의 세정액과 가압한 기체를 혼합하여 액적을 생성하고, 그 액적과 기체의 혼합 유체를 기판(W)에 분사하는 이류체 노즐이어도 된다. 또, 처리 유닛(1)에 설치되는 노즐의 수는 3개로 한정되는 것이 아니라, 1개 이상이면 된다.
도 2 및 도 3의 예에서는, 처리 유닛(1)에는, 고정 노즐(80)도 설치되어 있다. 고정 노즐(80)은, 스핀 척(20)보다 상방, 또한, 스핀 척(20)의 주연보다 직경 방향 외측에 위치하고 있다. 보다 구체적인 일례로서, 고정 노즐(80)은 후술하는 처리 컵(40)과 연직 방향에 있어서 마주보는 위치에 설치되어 있다. 고정 노즐(80)의 토출구는 기판(W)측을 향하고 있고, 그 개구축은 예를 들면 수평 방향을 따르고 있다. 고정 노즐(80)도, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)의 상면에 처리액(예를 들면 순수)을 토출한다. 고정 노즐(80)로부터 토출된 처리액은, 예를 들면, 기판(W)의 상면의 중앙부에 착액한다.
도 3에 예시되는 바와 같이, 고정 노즐(80)은 공급관(81)을 통하여 처리액 공급원(83)에 접속된다. 공급관(81)에는 밸브(82)가 설치되어 있다. 밸브(82)는 공급관(81)의 유로를 개폐한다. 밸브(82)가 열림으로써, 처리액 공급원(83)으로부터의 처리액은 공급관(81)을 통해서 고정 노즐(80)에 공급되고, 고정 노즐(80)의 선단으로부터 토출된다.
스핀 척(20)을 둘러싸는 처리 컵(40)은, 서로 독립적으로 승강 가능한 내측 컵(41), 중간 컵(42) 및 외측 컵(43)을 포함한다. 내측 컵(41)은, 스핀 척(20)의 주위를 둘러싸고, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)의 중심을 통과하는 회전축선(CX)에 대해 거의 회전 대칭이 되는 형상을 갖고 있다. 이 내측 컵(41)은, 평면에서 보았을 때 원환상의 바닥부(44)와, 바닥부(44)의 내주연으로부터 상방으로 올라가는 원통 형상의 내벽부(45)와, 바닥부(44)의 외주연으로부터 상방으로 올라가는 원통 형상의 외벽부(46)와, 내벽부(45)와 외벽부(46)의 사이로부터 올라가고, 상단부가 매끄러운 원호를 그리면서 중심측(스핀 척(20)에 유지되는 기판(W)의 회전축선(CX)에 가까워지는 방향) 비스듬한 상방으로 연장되는 제1 안내부(47)와, 제1 안내부(47)와 외벽부(46)의 사이로부터 상방으로 올라가는 원통 형상의 중벽부(48)를 일체적으로 포함하고 있다.
내벽부(45)는, 내측 컵(41)이 가장 상승된 상태에서, 커버 부재(23)와 플랜지 형상 부재(25) 사이에 적당한 간극을 유지하여 수용되는 것 같은 길이로 형성되어 있다. 중벽부(48)는, 내측 컵(41)과 중간 컵(42)이 가장 근접한 상태에서, 중간 컵(42)의 후술하는 제2 안내부(52)와 처리액 분리벽(53) 사이에 적당한 간극을 유지하여 수용되는 것과 같은 길이로 형성되어 있다.
제1 안내부(47)는, 매끄러운 원호를 그리면서 중심측(기판(W)의 회전축선(CX)에 가까워지는 방향) 비스듬한 상방으로 연장되는 상단부(47b)를 갖고 있다. 또, 내벽부(45)와 제1 안내부(47) 사이는, 사용이 완료된 처리액을 모아 폐기하기 위한 폐기 홈(49)으로 되어 있다. 제1 안내부(47)와 중벽부(48) 사이는, 사용이 완료된 처리액을 모아 회수하기 위한 원환상의 내측 회수 홈(50)으로 되어 있다. 또한, 중벽부(48)와 외벽부(46) 사이는, 내측 회수 홈(50)과는 종류가 상이한 처리액을 모아 회수하기 위한 원환상의 외측 회수 홈(51)으로 되어 있다.
폐기 홈(49)에는, 이 폐기 홈(49)에 모아진 처리액을 배출함과 함께, 폐기 홈(49) 내를 강제적으로 배기하기 위한 도시 생략한 배기액 기구가 접속되어 있다. 배기액 기구는, 예를 들면, 폐기 홈(49)의 둘레 방향을 따라 등간격으로 4개 설치되어 있다. 또, 내측 회수 홈(50) 및 외측 회수 홈(51)에는, 내측 회수 홈(50) 및 외측 회수 홈(51)에 각각 모아진 처리액을 처리 유닛(1)의 외부에 설치된 회수 탱크로 회수하기 위한 회수 기구(모두 도시 생략)가 접속되어 있다. 또한, 내측 회수 홈(50) 및 외측 회수 홈(51)의 바닥부는, 수평 방향에 대해 미소 각도만큼 경사져 있고, 그 가장 낮아지는 위치에 회수 기구가 접속되어 있다. 이에 따라, 내측 회수 홈(50) 및 외측 회수 홈(51)에 유입된 처리액이 원활하게 회수된다.
중간 컵(42)은, 스핀 척(20)의 주위를 둘러싸고, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)의 중심을 통과하는 회전축선(CX)에 대해 거의 회전 대칭이 되는 형상을 갖고 있다. 이 중간 컵(42)은, 제2 안내부(52)와, 이 제2 안내부(52)에 연결된 원통 형상의 처리액 분리벽(53)을 일체적으로 포함하고 있다.
제2 안내부(52)는, 내측 컵(41)의 제1 안내부(47)의 외측에 있어서, 제1 안내부(47)의 하단부와 동축 원통 형상을 이루는 하단부(52a)와, 하단부(52a)의 상단으로부터 매끄러운 원호를 그리면서 중심측(기판(W)의 회전축선(CX)에 가까워지는 방향) 비스듬한 상방으로 연장되는 상단부(52b)와, 상단부(52b)의 선단부를 하방으로 꺽어 형성되는 꺾임부(52c)를 갖고 있다. 하단부(52a)는, 내측 컵(41)과 중간 컵(42)이 가장 근접한 상태에서, 제1 안내부(47)와 중벽부(48) 사이에 적당한 간극을 유지하여 내측 회수 홈(50) 내에 수용된다. 또, 상단부(52b)는, 내측 컵(41)의 제1 안내부(47)의 상단부(47b)와 상하 방향으로 겹쳐지도록 설치되고, 내측 컵(41)과 중간 컵(42)이 가장 근접한 상태에서, 제1 안내부(47)의 상단부(47b)에 대해 매우 미소한 간격을 유지하여 근접한다. 또한, 상단부(52b)의 선단을 하방으로 꺽어 형성되는 꺾임부(52c)는, 내측 컵(41)과 중간 컵(42)이 가장 근접한 상태에서, 꺾임부(52c)가 제1 안내부(47)의 상단부(47b)의 선단과 수평 방향으로 겹쳐지는 것 같은 길이로 되어 있다.
또, 제2 안내부(52)의 상단부(52b)는, 하방일수록 두께가 두꺼워지도록 형성되어 있고, 처리액 분리벽(53)은 상단부(52b)의 하단 외주연부로부터 하방으로 연장되도록 설치된 원통 형상을 갖고 있다. 처리액 분리벽(53)은, 내측 컵(41)과 중간 컵(42)이 가장 근접한 상태에서, 중벽부(48)와 외측 컵(43) 사이에 적당한 간극을 유지하여 외측 회수 홈(51) 내에 수용된다.
외측 컵(43)은, 중간 컵(42)의 제2 안내부(52)의 외측에 있어서, 스핀 척(20)의 주위를 둘러싸고, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)의 중심을 통과하는 회전축선(CX)에 대해 거의 회전 대칭이 되는 형상을 갖고 있다. 이 외측 컵(43)은, 제3 안내부로서의 기능을 갖는다. 외측 컵(43)은, 제2 안내부(52)의 하단부(52a)와 동축 원통 형상을 이루는 하단부(43a)와, 하단부(43a)의 상단으로부터 매끄러운 원호를 그리면서 중심측(기판(W)의 회전축선(CX)에 가까워지는 방향) 비스듬한 상방으로 연장되는 상단부(43b)와, 상단부(43b)의 선단부를 하방으로 꺽어 형성되는 꺾임부(43c)를 갖고 있다.
하단부(43a)는, 내측 컵(41)과 외측 컵(43)이 가장 근접한 상태에서, 중간 컵(42)의 처리액 분리벽(53)과 내측 컵(41)의 외벽부(46) 사이에 적당한 간극을 유지하여 외측 회수 홈(51) 내에 수용된다. 또, 상단부(43b)는, 중간 컵(42)의 제2 안내부(52)와 상하 방향으로 겹쳐지도록 설치되고, 중간 컵(42)과 외측 컵(43)이 가장 근접한 상태에서, 제2 안내부(52)의 상단부(52b)에 대해 매우 미소한 간격을 유지하여 근접한다. 또한, 상단부(43b)의 선단부를 하방으로 꺽어 형성되는 꺾임부(43c)는, 중간 컵(42)과 외측 컵(43)이 가장 근접한 상태에서, 꺾임부(43c)가 제2 안내부(52)의 꺾임부(52c)와 수평 방향으로 겹쳐지도록 형성되어 있다.
또, 내측 컵(41), 중간 컵(42) 및 외측 컵(43)은 서로 독립적으로 승강 가능하게 되어 있다. 즉, 내측 컵(41), 중간 컵(42) 및 외측 컵(43) 각각은 개별적으로 컵 승강 기구(도시 생략)가 설치되어 있고, 그에 따라 별개 독립적으로 승강된다. 이와 같은 컵 승강 기구로는, 예를 들면 볼나사 기구나 에어 실린더 등의 공지된 다양한 기구를 채용할 수 있다.
칸막이판(15)은, 처리 컵(40)의 주위에 있어서 챔버(10)의 내측 공간을 상하로 나누도록 설치되어 있다. 칸막이판(15)은, 처리 컵(40)을 둘러싸는 1장의 판 형상 부재여도 되고, 복수의 판 형상 부재를 이어 붙인 것이어도 된다. 또, 칸막이판(15)에는, 두께 방향으로 관통하는 관통 구멍이나 절결이 형성되어 있어도 되고, 본 실시 형태에서는 노즐(30)의 노즐 기대(33), 노즐(60)의 노즐 기대(63) 및 노즐(65)의 노즐 기대(68)를 지지하기 위한 지지축을 통하기 위한 관통 구멍이 형성되어 있다.
칸막이판(15)의 외주단은 챔버(10)의 측벽(11)에 연결되어 있다. 또, 칸막이판(15)의 처리 컵(40)을 둘러싸는 단연부(端緣部)는 외측 컵(43)의 외경보다 큰 직경의 원형 형상이 되도록 형성되어 있다. 따라서, 칸막이판(15)이 외측 컵(43)의 승강의 장해가 되지 않는다.
또, 챔버(10)의 측벽(11)의 일부이며, 바닥벽(13)의 근방에는 배기 덕트(18)가 설치되어 있다. 배기 덕트(18)는 도시 생략한 배기 기구에 연통 접속되어 있다. 팬 필터 유닛(14)으로부터 공급되어 챔버(10) 내를 흘러내린 청정 공기 중, 처리 컵(40)과 칸막이판(15) 사이를 통과한 공기는 배기 덕트(18)로부터 장치 밖으로 배출된다.
카메라(70)는, 챔버(10) 내이며 칸막이판(15)보다 상방에 설치되어 있다. 카메라(70)는, 예를 들면 고체 촬상 소자의 하나인 CCD(Charge Coupled Device)와, 렌즈 등의 광학계를 포함한다. 카메라(70)는, 예를 들면, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출 상태를 감시하기 위해 설치된다. 카메라(70)의 촬상 영역에는, 기판(W), 및, 기판(W)보다 상방의 공간이 포함되어 있다. 이 촬상 영역에는, 예를 들면, 중앙 위치(P31)에서 정지했을 때의 노즐(30)의 선단이 포함되고, 또, 중앙 상측 위치(P36)에서 정지했을 때의 노즐(30)의 선단도 포함된다. 카메라(70)는 촬상 영역을 촬상하여 촬상 화상 데이터를 취득하고, 취득한 촬상 화상 데이터를 순차적으로 제어부(9)에 출력한다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 챔버(10) 내이며 칸막이판(15)보다 상방의 위치에, 조명부(71)가 설치되어 있다. 챔버(10) 내가 암실인 경우, 카메라(70)가 촬상을 행할 때에 조명부(71)가 광을 조사하도록, 제어부(9)가 조명부(71)를 제어해도 된다.
기판 처리 장치(100)에 설치된 제어부(9)의 하드웨어로서의 구성은 일반적인 컴퓨터와 동일하다. 즉, 제어부(9)는, 각종 연산 처리를 행하는 CPU 등의 처리부와, 기본 프로그램을 기억하는 읽어내기 전용의 메모리인 ROM(Read Only Memory) 등의 일시적인 기억 매체와, 각종 정보를 기억하는 읽고쓰기 가능한 메모리인 RAM(Random Access Memory) 및 제어용 소프트웨어 또는 데이터 등을 기억해 두는 자기 디스크 등인 비일시적인 기억 매체를 구비하여 구성된다. 제어부(9)의 CPU가 소정의 처리 프로그램을 실행함으로써, 기판 처리 장치(100)의 각 동작 기구가 제어부(9)에 의해 제어되어, 기판 처리 장치(100)에 있어서의 처리가 진행된다. 또한, 제어부(9)는 그 기능의 실현에 소프트웨어가 불필요한 전용의 하드웨어 회로에 의해 실현되어도 된다.
도 5는, 제어부(9)의 내부 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 기능 블럭도이다. 제어부(9)는, 감시 처리부(91)와, 판정 영역 설정부(92)와, 처리 제어부(93)를 포함하고 있다.
처리 제어부(93)는 챔버(10) 내의 각 구성을 제어한다. 구체적으로는, 처리 제어부(93)는, 스핀 모터(22), 밸브(35, 82) 등의 각종 밸브, 노즐 기대(33, 63, 68)의 모터 및 노즐 승강 기구, 컵 승강 기구 및 팬 필터 유닛(14)을 제어한다. 처리 제어부(93)가 이들 구성을 소정의 순서를 따라 제어함으로써, 처리 유닛(1)은 기판(W)에 대한 처리를 행할 수 있다.
감시 처리부(91)는, 카메라(70)가 챔버(10) 내를 촬상하여 취득한 촬상 화상 데이터에 의거하여 감시 처리를 행한다. 구체적으로는, 예를 들면, 카메라(70)는, 노즐(30)의 선단을 포함하는 소정 영역을 촬상하여 촬상 화상 데이터를 취득하고, 감시 처리부(91)는 당해 촬상 화상 데이터에 의거하여, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출 상태를 감시한다.
판정 영역 설정부(92)는, 촬상 화상 데이터 중, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출 상태를 판정하기 위해 이용되는 판정 영역을 설정한다. 판정 영역에 대해서는 나중에 상세히 서술한다.
＜기판 처리의 흐름의 일례＞
＜전체의 흐름＞
도 6은, 기판 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로차트이다. 우선, 주반송 로봇(103)이 미처리 기판(W)을 처리 유닛(1)에 반입한다(단계 S1： 반입 공정). 다음에, 스핀 척(20)이 기판(W)을 수평 자세로 유지한다(단계 S2： 유지 공정). 구체적으로는, 복수의 척 핀(26)이 각각의 맞닿음 위치로 이동함으로써, 복수의 척 핀(26)이 기판(W)을 유지한다.
다음에, 스핀 모터(22)가 기판(W)의 회전을 개시한다(단계 S3： 회전 공정). 구체적으로는, 스핀 모터(22)가 스핀 척(20)을 회전시킴으로써, 스핀 척(20)에 유지된 기판(W)을 회전시킨다. 다음에, 컵 승강 기구가 처리 컵(40)을 상승시킨다(단계 S4： 컵 상승 공정). 이에 따라, 처리 컵(40)이 상측 위치에서 정지한다.
다음에, 기판(W)에 대해 처리액을 순차적으로 공급한다(단계 S5： 처리액 공정). 또한, 이 처리액 공정(단계 S5)에 있어서, 컵 승강 기구는, 기판(W)에 공급되는 처리액의 종류에 따라, 적절히 상승시키는 컵을 전환하지만, 이 점은, 본 실시의 형태의 본질과는 상이하므로, 이하에서는, 그 설명을 생략한다.
처리액 공정(단계 S5)에 있어서는, 노즐(30), 노즐(60), 노즐(65) 및 고정 노즐(80)이 각각 필요에 따라, 기판(W)의 상면에 순차적으로 처리액을 토출한다. 여기에서는, 일례로서, 노즐(30)이 처리액을 토출한 후에, 고정 노즐(80)이 처리액을 토출하는 것으로 한다. 도 7은, 처리액 공정의 일부의 구체적인 일례를 나타내는 플로차트이다. 구체적인 일례로서, 우선, 노즐 기대(33)가 노즐(30)을 대기 위치(P33)에서 중앙 위치(P31)로 이동시킨다(단계 S51： 제1 노즐 이동 공정). 다음에, 처리 제어부(93)가 밸브(35)에 열림 신호를 출력함으로써, 밸브(35)를 연다(단계 S52： 제1 토출 공정). 이에 따라, 처리액 공급원(36)으로부터의 처리액이 공급관(34)을 통해서 노즐(30)에 공급되고, 노즐(30)의 선단으로부터 기판(W)의 상면으로 토출된다. 기판(W)의 상면에 착액한 처리액은 원심력을 받아 퍼져, 기판(W)의 주연으로부터 외측으로 비산한다. 이에 따라, 처리액에 따른 처리를 기판(W)의 상면에 대해 행할 수 있다.
예를 들면 노즐(30)로부터의 처리액의 토출 개시부터 소정 시간이 경과하면, 처리 제어부(93)는 밸브(35)에 닫힘 신호를 출력하여, 밸브(35)를 닫는다. 이에 따라, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출이 정지한다.
다음에, 노즐 기대(33)는 노즐(30)을 중앙 위치(P31)에서 중앙 상측 위치(P36)로 상승시킨다(단계 S53： 제2 이동 공정).
다음에, 처리 제어부(93)가 밸브(82)에 열림 신호를 출력함으로써, 밸브(82)를 연다(단계 S54： 제2 토출 공정). 이에 따라, 처리액 공급원(83)으로부터의 처리액이 공급관(81)을 통해서 고정 노즐(80)에 공급되고, 고정 노즐(80)로부터 기판(W)의 상면에 토출된다. 고정 노즐(80)로부터 토출되는 처리액은, 예를 들면 순수 등의 린스액이다. 이 경우, 린스액은 기판(W)의 상면의 처리액을 씻어 내고, 기판(W)의 상면의 처리액이 린스액으로 치환된다.
도 7의 예에서는, 고정 노즐(80)로부터의 처리액의 토출(단계 S54) 개시 전에 노즐(30)의 이동을 개시하고 있다(단계 S53). 따라서, 고정 노즐(80)로부터 토출된 처리액이 노즐(30)에 충돌할 가능성을 저감시킬 수 있다.
그리고, 예를 들면 고정 노즐(80)로부터의 처리액의 토출 개시부터 소정 시간이 경과하면, 처리 제어부(93)는 밸브(82)에 닫힘 신호를 출력하고, 밸브(82)를 닫는다. 이에 따라, 고정 노즐(80)로부터의 처리액의 토출이 정지한다.
단계 S54 후에, 노즐(30), 노즐(60) 및 노즐(65)이 필요에 따라 순차적으로 소정 위치로 이동하고, 처리액을 토출해도 된다. 또, 고정 노즐(80)도 필요에 따라 처리액을 적당히 토출해도 된다. 노즐(30), 노즐(60), 노즐(65) 및 고정 노즐(80)의 처리액의 토출이 종료됨으로써, 처리액 공정(단계 S5)이 종료된다.
도 6을 다시 참조하여, 처리액 공정(단계 S5)의 종료 후에, 처리 유닛(1)은, 기판(W)을 건조시킨다(단계 S6： 건조 공정). 예를 들면, 스핀 모터(22)가 기판(W)의 회전 속도를 증가시켜, 기판(W)을 건조시킨다(이른바 스핀 드라이).
다음에, 컵 승강 기구는 처리 컵(40)을 하강시킨다(단계 S7： 컵 하강 공정).
다음에, 스핀 모터(22)는 스핀 척(20) 및 기판(W)의 회전을 종료하고, 스핀 척(20)은 기판(W)의 유지를 해제한다(단계 S8： 유지 해제 공정). 구체적으로는, 복수의 척 핀(26)이 각각의 개방 위치로 이동함으로써, 유지를 해제한다.
다음에, 주반송 로봇(103)은, 처리가 완료된 기판(W)을 처리 유닛(1)으로부터 반출한다(단계 S9： 반출 공정).
이상과 같이 하여, 기판(W)에 대한 처리가 행해진다.
＜감시＞
감시 처리부(91)는 카메라(70)를 이용하여, 처리액 공정(단계 S5)에 있어서의 처리액의 토출 상태를 감시한다. 도 8은, 감시 처리의 구체적인 일례를 나타내는 플로차트이다. 카메라(70)는 처리액 공정(단계 S5)에 있어서 순차적으로 촬상을 행하고, 촬상 화상 데이터를 순차적으로 취득한다(단계 S11： 촬상 공정). 예를 들면, 카메라(70)는 소정의 프레임 레이트로 동화상 데이터를 취득한다. 이 경우, 촬상 화상 데이터는 동화상 데이터의 1프레임에 상당한다. 도 9 내지 도 11은, 촬상 화상 데이터의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다.
도 9는, 노즐(30)이 중앙 위치(P31)에서 정지했을 때에 카메라(70)에 의해 취득된 촬상 화상 데이터의 일례를 나타내고 있다. 이 촬상 화상 데이터에 있어서, 노즐(30)은 아직도 처리액을 토출하고 있지 않다.
도 10은, 중앙 위치(P31)에서 정지한 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있을 때에 카메라(70)에 의해 취득된 촬상 화상 데이터의 일례를 나타내고 있다. 이 촬상 화상 데이터에는, 노즐(30)의 선단으로부터 흘러내리는 액기둥 형상의 처리액이 포함되어 있다.
도 10에서 이해할 수 있는 바와 같이, 노즐(30)로부터 토출되는 처리액은, 촬상 화상 데이터에 있어서, 노즐(30)의 선단보다 하측의 영역에 포함된다. 따라서, 당해 영역을 포함하는 판정 영역(R1)을 설정하면, 감시 처리부(91)는 판정 영역(R1) 내의 화소값에 의거하여, 노즐(30)의 처리액의 토출 상태를 감시할 수 있다. 예를 들면, 도 9 및 도 10에서 이해할 수 있는 바와 같이, 판정 영역(R1) 내의 화소값은, 노즐(30)이 처리액을 토출했을 때와, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있지 않을 때에서 다르다. 예를 들면, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있을 때의 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합은, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있지 않을 때의 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합보다 커진다.
이에, 우선, 판정 영역 설정부(92)는 상기의 판정 영역(R1)을 설정한다(단계 S12： 설정 공정). 구체적으로는, 판정 영역 설정부(92)는, 우선, 촬상 화상 데이터에 대해 화상 처리를 행하여, 노즐(30)의 좌표 위치를 검출한다. 예를 들면, 판정 영역 설정부(92)는, 미리 기억 매체에 기억된 노즐(30)(구체적으로는, 토출 헤드(31))을 포함하는 참조 화상 데이터(RI1)와, 촬상 화상 데이터의 템플릿 매칭에 의해, 촬상 화상 데이터 내의 노즐(30)의 좌표 위치를 검출한다. 또한, 도 9의 예에서는, 참조 화상 데이터(RI1)를 모식적으로 가상선으로, 촬상 화상 데이터에 겹쳐 나타내고 있다.
다음에, 판정 영역 설정부(92)는, 노즐(30)의 좌표 위치에 따라 판정 영역(R1)을 설정한다. 구체적으로는, 판정 영역 설정부(92)는, 판정 영역(R1)이 노즐(30)의 선단으로부터 하측으로 연장되는 영역을 포함하도록, 판정 영역(R1)을 설정한다. 도 9 및 도 10의 예에서는, 판정 영역(R1)은, 세로 방향으로 연장되는 직사각형의 형상을 갖고 있다.
노즐(30)의 좌표 위치에 대한 판정 영역(R1)의 상대적인 위치는 예를 들면 미리 설정되어 있으며, 설정 정보로서 기억 매체에 기억되어 있다. 또, 판정 영역(R1)의 형상 및 크기도 예를 들면 미리 설정되고, 설정 정보로서 기억 매체에 기억되어 있다. 판정 영역 설정부(92)는, 템플릿 매칭에 의해 검출한 노즐(30)의 좌표 위치와, 기억 매체에 기억된 설정 정보에 의거하여, 판정 영역(R1)을 설정한다.
감시 처리부(91)는, 판정 영역(R1) 내의 화소값에 의거하여, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출 상태를 판별한다(단계 S13： 감시 공정). 구체적으로는, 감시 처리부(91)는, 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합이 소정의 토출 기준값 이상인지 여부를 판단하여, 당해 총합이 토출 기준값 이상일 때에 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있다고 판단한다. 또, 감시 처리부(91)는 당해 총합이 토출 기준값 미만일 때에, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있지 않다고 판단한다.
또한, 판정 영역(R1) 내의 화소값에 의거하는 처리액의 토출의 유무 판정은 이에 한정되지 않고, 다양한 수법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있을 때의 판정 영역(R1) 내의 화소값의 분산은, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있지 않을 때의 분산보다 크다. 따라서, 감시 처리부(91)는 당해 분산을 산출하고, 그 분산의 대소에 의거하여 처리액의 토출의 유무를 판단해도 된다. 또, 분산 대신에 표준 편차를 채용하는 것도 가능하다.
감시 처리부(91)는, 카메라(70)에 의해 순차적으로 취득된 촬상 화상 데이터 각각에 대해 상술한 처리를 행함으로써, 노즐(30)이 처리액의 토출을 개시하는 개시 타이밍, 및, 노즐(30)이 처리액의 토출을 종료하는 종료 타이밍을 검출할 수 있다. 또, 감시 처리부(91)는 개시 타이밍 및 종료 타이밍에 의거하여, 처리액이 토출되는 토출 기간을 산출하고, 당해 토출 기간이 규정 시간이 되고 있는지를 감시할 수 있다.
그런데, 상술한 예에서는, 노즐(30)이 처리액을 토출하는 기간에 있어서 노즐(30)은 중앙 위치(P31)에서 정지하고 있다. 이 경우, 노즐(30)의 위치가 변하지 않기 때문에, 판정 영역(R1)의 위치도 변경할 필요가 없다. 이에, 판정 영역 설정부(92)는, 노즐(30)이 중앙 위치(P31)에서 정지하고 있는 상태에서 취득된 복수장의 촬상 화상 데이터에 대해, 공통으로 판정 영역(R1)을 설정해도 된다.
구체적으로는, 판정 영역 설정부(92)는, 노즐(30)이 중앙 위치(P31)에서 정지한 초기의 1장의 촬상 화상 데이터에 의거하여, 상술한 바와 같이, 노즐(30)의 좌표 위치를 검출한다. 그리고, 판정 영역 설정부(92)는 당해 좌표 위치에 의거하여, 판정 영역(R1)을 설정한다. 판정 영역 설정부(92)는, 그 후에 취득된 촬상 화상 데이터에서는, 노즐(30)의 좌표 위치를 검출하는 동작을 행하지 않고, 설정된 판정 영역(R1)을 그대로 이용한다. 이와 같이 복수의 촬상 화상 데이터에 있어서 공통으로 판정 영역(R1)을 설정하면, 노즐(30)의 좌표 위치의 검출 동작을 회피시킬 수 있어, 판정 영역 설정부(92)의 처리 부하를 경감할 수 있다.
＜드리핑＞
노즐(30)이 처리액을 토출하기 시작하고 나서 소정 기간이 경과하면, 처리 제어부(93)는 밸브(35)에 닫힘 신호를 출력하여, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출을 정지시킨다. 이 처리액의 토출 정지 시에는, 노즐(30)의 선단으로부터 액적 형상의 처리액이 낙하하는 경우가 있다(이른바 드리핑). 이와 같은 액적이 기판(W)의 상면에 낙하하면, 문제가 발생할 수 있다. 도 11은, 노즐(30)이 처리액의 토출을 정지할 경우에 카메라(70)에 의해 취득된 촬상 화상 데이터의 일례를 나타내고 있다. 이 촬상 화상 데이터에는, 노즐(30)의 선단으로부터 낙하하는 처리액의 액적(드리핑)이 포함되어 있다.
도 9 내지 도 11의 비교에서 이해할 수 있는 바와 같이, 판정 영역(R1) 내의 화소값은, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있지 않을 때(도 9)와, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있을 때(도 10)와, 드리핑이 발생했을 때(도 11)에서 다르다. 예를 들면, 드리핑이 발생했을 때의 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합은, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있을 때의 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합보다 작고, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있지 않을 때의 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합보다 커진다.
따라서, 감시 처리부(91)는, 드리핑이 발생했는지 여부를 판정 영역(R1) 내의 화소값에 의거하여 판단할 수 있다. 구체적인 일례로서, 감시 처리부(91)는, 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합이 소정의 제1 기준값 이상일 때에, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있다고 판단하고, 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합이 제1 기준값 미만 또한 소정의 제2 기준값 이상일 때에, 드리핑이 발생했다고 판단하고, 판정 영역(R1) 내의 화소값의 총합이 제2 기준값 미만일 때에, 노즐(30)이 처리액을 토출하고 있지 않다고 판단한다.
또한, 판정 영역(R1) 내의 화소값에 의거하여 드리핑의 유무 판정은 이에 한정되지 않고, 다양한 수법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 판정 영역(R1) 내의 분산 또는 표준 편차에 의거하여, 드리핑의 유무를 판정해도 된다.
그런데, 상술한 처리액 공정(단계 S5)에서는, 밸브(35)가 닫혀 노즐(30)이 처리액의 토출을 정지하면, 노즐 기대(33)는 노즐(30)을 중앙 위치(P31)에서 중앙 상측 위치(P36)로 상승시킨다(제2 이동 공정： 단계 S53). 도 12는, 노즐(30)이 중앙 상측 위치(P36)에서 정지했을 때에 카메라(70)에 의해 취득된 촬상 화상 데이터를 나타내고 있다.
상술한 드리핑은, 노즐(30)이 중앙 위치(P31)에서 중앙 상측 위치(P36)로의 상승 중에도 발생할 수 있다. 또, 드리핑은, 노즐(30)이 중앙 상측 위치(P36)에서 정지한 이후에도 발생할 수 있다. 따라서, 감시 처리부(91)는, 노즐(30)의 선단으로부터 낙하하는 처리액(드리핑)의 유무를, 노즐(30)의 중앙 상측 위치(P36)로 이동 중에도, 중앙 상측 위치(P36)로의 정지 중에도 감시하는 것이 바람직하다.
이하에서는, 중앙 위치(P31)에서 정지한 노즐(30)의 좌표 위치에 따라 설정된 판정 영역(R1)을, 판정 영역(R10)이라고 부른다. 도 12의 예에서는, 판정 영역(R10)이 2점 쇄선으로 나타나 있다.
처리액의 액적은 노즐(30)의 선단으로부터 낙하한다. 따라서, 노즐(30)이 중앙 상측 위치(P36)로 상승했다고 해도, 당해 액적은, 노즐(30)의 선단보다 하측에 위치하는 판정 영역(R10)을 통과할 수 있다. 따라서, 노즐(30)의 중앙 상측 위치(P36)로의 이동 중 및 중앙 상측 위치(P36)로의 정지 중에 있어서의 판정 영역(R1)(이하, 판정 영역(R11)이라고 부른다)으로서 판정 영역(R10)을 그대로 채용하는 것도 생각된다.
그러나, 처리액의 액적이 노즐(30)의 선단으로부터 비스듬하게 낙하하는 경우도 있다. 도 13은, 액적이 낙하하는 모습의 일례를 개략적으로 나타내는 도이다. 액적이 노즐(30)의 토출 헤드(31)의 내벽을 타고 연직 하방으로 이동하여, 노즐(30)의 선단으로부터 낙하하는 경우, 액적은 비스듬한 하측 방향으로 토출될 수 있다. 노즐(30)의 선단과 판정 영역(R10) 사이의 거리가 크면, 당해 액적은 판정 영역(R10)을 통과하지 않고 낙하할 가능성이 있다. 이 경우에는, 감시 처리부(91)는 판정 영역(R10)을 감시해도 액적을 검출할 수 없다. 즉, 드리핑에 대한 검출 누락이 발생한다.
또, 상술한 처리액 공정(단계 S5)의 일례에서는, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출(제1 토출 공정： 단계 S52) 후에 고정 노즐(80)이 처리액을 토출한다(제2 토출 공정： 단계 S54). 도 14는, 고정 노즐(80)이 처리액을 토출하고 있을 때에 취득된 촬상 화상 데이터의 일례를 나타내고 있다. 도 14에서도, 판정 영역(R10)이 2점 쇄선으로 나타나 있다. 도 14의 예에서는, 고정 노즐(80)의 선단으로부터 방출된 처리액의 일부가 이 판정 영역(R10) 내에 포함되어 있다. 이 경우에는, 감시 처리부(91)는 당해 처리액을 노즐(30)로부터 낙하한 액적(드리핑)으로서 오검출하는 경우가 있다.
이에, 본 실시의 형태에서는, 판정 영역 설정부(92)는, 적어도 밸브(35)에 닫힘 신호가 출력된 시점 이후에 있어서, 복수의 촬상 화상 데이터 간에 있어서의 노즐(30)의 위치 변화에 추종시켜, 각 촬상 화상 데이터에 있어서 판정 영역(R11)을 설정한다. 즉, 판정 영역 설정부(92)는, 제2 이동 공정(단계 S53)의 직전부터 순차적으로 취득된 촬상 화상 데이터 각각에 대해, 노즐(30)의 이동에 추종하도록, 판정 영역(R11)을 설정한다.
구체적인 일례로서, 판정 영역 설정부(92)는, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출 개시부터 규정 기간이 경과한 이후에 취득되는 촬상 화상 데이터에 대해, 노즐(30)의 검출 동작을 행한다. 규정 시간은, 노즐(30)이 처리액을 토출하는 토출 기간보다 짧게 설정되어, 기억 매체 등에 기억된다. 이에 따라, 판정 영역 설정부(92)는, 밸브(35)에 닫힘 신호가 출력되기 직전 이후에 있어서, 노즐(30)의 위치를 검출할 수 있다.
판정 영역 설정부(92)는, 검출 동작으로서, 예를 들면, 시간적으로 연속하는 복수의 화상 데이터 간에서 트랙킹 처리를 행한다. 트랙킹 처리에 의하면, 시간적으로 연속하는 복수의 촬상 화상 데이터 각각에 있어서, 노즐(30)의 좌표 위치를 얻을 수 있다. 또한, 트랙킹 처리의 수법으로는, 예를 들면, 메디안 플로우를 이용할 수 있다.
메디안 플로우에서는, 우선, 초기의 촬상 화상 데이터의 지정 영역 내에서, 지정 밀도로 복수의 추적 대상점을 생성한다. 당해 초기의 촬상 화상 데이터로는, 예를 들면, 검출 동작을 행하는 최초의 촬상 화상 데이터를 채용할 수 있다. 또, 지정 영역으로는, 그 촬상 화상 데이터에 있어서, 예를 들면, 참조 화상 데이터(RI1)와 일치하는 영역(즉, 노즐(30)을 나타내는 영역)을 채용할 수 있다. 그리고, 각각의 추적 대상점에 대해서, 시간적으로 다음의 촬상 화상 데이터에서의 각각의 위치를, Lucas-Kanade Tracker에 의해 추적한다. 또한, Forward-Backward Error에 의해, 상기의 추적에 있어서 트랙킹 에러가 큰 추적 대상점을 제거하고, 남은 추적 대상점을 이용하여 전후의 촬상 화상 데이터에 있어서의 추적 대상점의 위치의 변화량의 메디안(중앙값)을 구한다. 그리고, 당해 중앙값에 의거하여, 다음의 촬상 화상 데이터에 있어서 노즐(30)을 나타내는 영역(즉 좌표 위치)을 추정(검출)한다.
판정 영역 설정부(92)는, 각 촬상 화상 데이터에 있어서 검출된 노즐(30)의 좌표 위치에 의거하여, 각 촬상 화상 데이터에 있어서의 판정 영역(R1)(즉, 판정 영역(R11))을 설정한다. 노즐(30)의 좌표 위치와 판정 영역(R11)의 상대적인 위치 관계, 크기 및 형상은 상술한 바와 같이, 예를 들면 미리 설정되어 있고, 기억 매체에 기억되어 있다. 이에 따라, 판정 영역(R11)은, 각 촬상 화상 데이터에 있어서, 노즐(30)의 이동에 추종하여 설정되게 된다.
도 14의 예에서는, 판정 영역(R11)은, 중앙 상측 위치(P36)에서 정지한 노즐(30) 좌표 위치에 따라 설정되어 있고, 고정 노즐(80)이 토출하는 처리액을 포함하는 영역을 피해 설정된다. 즉, 판정 영역 설정부(92)는, 제2 이동 공정(단계 S53)에 있어서의 노즐(30)의 상승에 추종하여 판정 영역(R11)을 설정함으로써, 제2 토출 공정(단계 S54)에서의 고정 노즐(80)의 선단에서 기판(W)의 상면에 이르기까지의 처리액을 포함하는 영역을 피해, 판정 영역(R11)을 설정한다. 반대로 말하면, 판정 영역(R11)이, 고정 노즐(80)의 선단에서 기판(W)의 상면에 이르기까지의 처리액을 포함하는 영역을 피할 수 있도록, 노즐(30)에 대한 중앙 상측 위치(P36)가 설정된다.
이상과 같이, 판정 영역 설정부(92)는, 적어도 밸브(35)에 닫힘 신호가 출력된 이후에 있어서, 촬상 화상 데이터 마다 노즐(30)의 좌표 위치를 검출하여, 당해 노즐(30)의 좌표 위치에 따라 판정 영역(R1)을 설정한다.
그리고, 감시 처리부(91)는, 판정 영역 설정부(92)에 의해 설정된 각 촬상 화상 데이터의 판정 영역(R1) 내의 화소값에 의거하여, 노즐(30)의 선단으로부터 낙하하는 처리액의 유무를 감시한다. 판정 영역(R1)은 노즐(30)의 이동에 추종하여 설정되므로, 감시 처리부(91)는 적절히 드리핑을 검출할 수 있다. 즉, 검출 누락 및, 오검출이 발생할 가능성을 저감시킬 수 있다.
또한, 상술한 예에서는, 노즐(30)이 중앙 상측 위치(P36)에서 정지하고 나서, 고정 노즐(80)로부터의 처리액의 토출이 종료될 때까지의 정지 기간에 있어서, 노즐(30)은 중앙 상측 위치(P36)에서 계속 정지한다. 이 경우, 이 정지 기간 중에 있어서의 판정 영역(R11)을 변경할 필요는 없다. 이에, 판정 영역 설정부(92)는, 정지 기간에 있어서 취득되는 복수의 촬상 화상 데이터에 대해 공통으로 판정 영역(R11)을 설정해도 상관없다. 즉, 노즐(30)이 중앙 상측 위치(P36)에서 정지했을 때의 촬상 화상 데이터에 의거하여 판정 영역(R11)을 설정하면, 그 판정 영역(R11)을, 정지 기간에 있어서 이후에 취득된 다른 촬상 화상 데이터에 대해서도 적용한다. 이에 의하면, 정지 기간에 있어서 트랙킹 처리 및 판정 영역(R11)의 설정을 행할 필요가 없다. 따라서, 판정 영역 설정부(92)의 처리 부하를 저감시킬 수 있다.
이상과 같이, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치(100)는 상세하게 설명되었지만, 상기의 설명은, 모든 국면에 있어서, 예시이며, 이 기판 처리 장치가 이에 한정되는 것은 아니다. 예시되어 있지 않은 무수한 변형예가, 이 명시된 범위로부터 벗어나지 않고 상정될 수 있는 것으로 해석된다. 상기 각 실시의 형태 및 각 변형예에서 설명한 각 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적당히 조합하거나 생략할 수 있다.
상술한 예에서는, 노즐(30)은 처리액의 토출 정지 후에 중앙 위치(P31)에서 중앙 상측 위치(P36)로 상승하고 있다(제2 이동 공정： 단계 S53). 그러나, 이 제2 이동 공정에 있어서, 노즐(30)을 중앙 위치(P31)에서 주연 위치(P32)로 이동시켜도 상관없다. 이 경우에서도, 판정 영역 설정부(92)는, 적어도 밸브(35)에 닫힘 신호가 출력된 이후에 있어서, 각 촬상 화상 데이터에 있어서의 노즐(30)의 좌표 위치를 검출하여, 당해 노즐(30)의 이동에 추종하도록, 각 촬상 화상 데이터에 있어서 판정 영역(R11)을 설정한다. 이에 따라, 높은 검출 정밀도로 노즐(30)로부터의 드리핑을 검출할 수 있다.
또, 상술한 예에서는, 드리핑에 주목하고 있지만, 계속 흐름도 상술한 감시 처리에 의해 검출할 수 있다. 계속 흐름이란, 밸브(35)의 이상 등에 의해, 밸브(35)에 닫힘 신호를 출력하고 있음에도 불구하고, 노즐(30)로부터 가는 액상의 처리액이 흘러내리는 이상(異常)이다.
또, 상술한 예에서는, 노즐(30)로부터의 처리액의 토출을 감시하고 있지만, 노즐(60) 및 노즐(65) 각각으로부터의 처리액의 토출을 감시해도 된다.
1: 처리 유닛 20: 스핀 척
30, 60, 65: 제1 노즐(노즐) 37: 이동 기구
80: 제2 노즐(고정 노즐) 9: 제어부
70: 카메라 100: 기판 처리 장치
S11: 촬상 공정(단계) S12: 설정 공정(단계)
S13: 액누출 감시 공정(단계) S2: 유지 공정(단계)
S52: 제1 토출 공정(단계) S53: 이동 공정(단계)
S54: 제2 토출 공정(단계) W: 기판

Claims (4)

  1. 기판을 유지하는 유지 공정과,
    공급관에 설치된 밸브에 열림 신호를 출력하여, 상기 공급관에 접속된 제1 노즐의 선단으로부터 상기 기판의 주면에 처리액을 토출하는 제1 토출 공정과,
    상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에 있어서, 상기 제1 노즐을 이동시키는 이동 공정과,
    적어도 상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에, 상기 제1 노즐의 상기 선단을 포함하는 소정 영역을 카메라가 순차적으로 촬상하여, 복수의 화상 데이터를 취득하는 촬상 공정과,
    상기 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 제1 노즐의 위치를 검출하여, 상기 복수의 화상 데이터 간에 있어서의 상기 제1 노즐의 위치 변화에 추종시켜, 상기 제1 노즐의 상기 선단보다 하측에 판정 영역을 설정하는 설정 공정과,
    상기 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 판정 영역 내의 화소에 의거하여, 상기 제1 노즐의 상기 선단으로부터 낙하하는 처리액의 유무를 감시하는 액누출 감시 공정
    을 구비하는, 기판 처리 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 이동 공정에 있어서 상기 제1 노즐을 상승시키는, 기판 처리 방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제1 노즐이 상승한 상태에서, 제2 노즐로부터 상기 기판의 상기 주면에 처리액을 토출하는 제2 토출 공정을 더 구비하고,
    상기 액누출 감시 공정에 있어서, 상기 제2 토출 공정에서 상기 카메라에 의해 취득된 상기 화상 데이터에 있어서, 상기 제1 노즐의 상승에 추종하여 상기 판정 영역을 설정함으로써, 상기 제2 노즐의 상기 선단에서 상기 기판의 상기 주면에 이르기까지의 처리액을 피해 상기 판정 영역을 설정하는, 기판 처리 방법.
  4. 기판을 유지하는 기판 유지부와,
    밸브에 설치된 공급관에 접속되어, 상기 공급관을 통해서 공급되는 처리액을, 상기 기판 유지부에 의해 유지된 상기 기판의 주면에 토출하는 노즐과,
    상기 노즐을 이동시키는 이동 기구와,
    상기 노즐의 선단을 포함하는 소정 영역을 촬상하는 카메라와,
    상기 밸브에 열림 신호를 출력하여, 상기 노즐의 선단으로부터 상기 기판의 주면에 처리액을 토출하게 하고, 상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에 있어서, 상기 이동 기구로 하여금 상기 노즐을 이동하게 하고, 적어도 상기 밸브에 닫힘 신호를 출력한 시점 이후에, 상기 카메라에 의해 순차적으로 취득된 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 노즐의 위치를 검출하여, 상기 복수의 화상 데이터 간에 있어서의 상기 노즐의 위치 변화에 추종시켜, 상기 노즐의 상기 선단보다 하측에 판정 영역을 설정하고, 상기 복수의 화상 데이터 각각에 있어서의 상기 판정 영역 내의 화소에 의거하여, 상기 노즐의 상기 선단으로부터 낙하하는 처리액의 유무를 감시하는 제어부
    를 구비하는, 기판 처리 장치.
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