KR20220065831A - 불소 가스의 제조 방법 및 불소 가스 제조 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 의한 불소 가스 제조 장치의 일례를 설명하는 개략도이다.
도 3은 도 2의 불소 가스 제조 장치에 있어서 미스트 제거부로서 사용되는 미스트 제거 장치의 일례를 설명하는 모식도이다.
도 4는 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 1 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 5는 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 2 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 6은 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 3 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 7은 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 4 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 8은 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 5 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 9는 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 6 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 10은 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 7 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 11은 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 8 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 12는 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 9 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 13은 도 2의 불소 가스 제조 장치의 제 10 변형예를 설명하는 개략도이다.
도 14는 참고예 1에 있어서, 양극에서 발생된 유체에 포함되는 미스트의 입자지름 분포를 나타내는 그래프이다.
도 15는 참고예 1에 있어서, 미스트의 평균 입자지름과 양극에서 발생된 미스트의 양의 상관성을 나타내는 그래프이다.
도 16은 참고예 1에 있어서, 미스트의 평균 입자지름과 양극에서 발생된 유체에 포함되는 미스트의 농도의 관계를 나타내는 그래프이다.
3…산란광 검지부 4A, 4B…투명창
10…전해액 11…전해조
13…양극 15…음극
22…양극실 24…음극실
31…제 1 평균 입자지름 측정부 32…제 1 미스트 제거부
33…제 2 미스트 제거부 34…제 2 평균 입자지름 측정부
41…제 1 배관 42…제 2 배관
43…제 3 배관 44…제 4 배관
45…제 5 배관 46…제 6 배관
47…제 7 배관 48…제 8 배관
49…제 9 배관 51…제 1 바이패스 배관
52…제 2 바이패스 배관 61…제 1 배관 밸브
62…바이패스 밸브 F…유체
L…광산란 측정용 광 M…미스트
S…산란광
Claims (5)
- 불화수소 및 금속 불화물을 함유하는 전해액을 전기 분해해서 불소 가스를 제조하는 불소 가스의 제조 방법으로서,
전해조 내에서 상기 전기 분해를 행하는 전해 공정과,
상기 전해액의 전기 분해 시에 상기 전해조의 내부에서 발생된 유체에 포함되는 미스트의 평균 입자지름을 측정하는 평균 입자지름 측정 공정과,
상기 유체를 상기 전해조의 내부로부터 외부로 유로를 통해 보내는 송기 공정을 구비하고,
상기 송기 공정에 있어서는 상기 평균 입자지름 측정 공정에서 측정된 상기 미스트의 평균 입자지름에 따라 상기 유체를 흐르게 하는 유로를 스위칭하고, 상기 평균 입자지름 측정 공정에서 측정된 상기 미스트의 평균 입자지름이 미리 설정된 기준값 이하인 경우에는 상기 전해조의 내부로부터 제 1 외부로 상기 유체를 보내는 제 1 유로에 상기 유체를 보내고, 상기 미리 설정된 기준값보다 큰 경우에는 상기 전해조의 내부로부터 제 2 외부로 상기 유체를 보내는 제 2 유로에 상기 유체를 보내도록 되어 있으며,
상기 미리 설정된 기준값은 0.1㎛ 이상 1.0㎛ 이하의 범위 내의 수치인 불소 가스의 제조 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 금속 불화물은 칼륨, 세슘, 루비듐, 및 리튬으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속의 불화물인 불소 가스의 제조 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 전기 분해에 있어서 사용하는 양극이 다이아몬드, 다이아몬드 라이크 카본, 어모퍼스 카본, 그라파이트, 및 글래시 카본으로부터 선택되는 적어도 1종의 탄소 재료로 형성된 탄소질 전극인 불소 가스의 제조 방법. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전해조는 상기 전기 분해에 있어서 사용하는 양극 또는 음극에서 발생된 기포가 상기 전해액 중을 연직 방향으로 상승하여, 상기 전해액의 액면에 도달가능한 구조를 갖는 불소 가스의 제조 방법. - 불화수소 및 금속 불화물을 함유하는 전해액을 전기 분해해서 불소 가스를 제조하는 불소 가스 제조 장치로서,
상기 전해액을 수용하고 상기 전기 분해가 행해지는 전해조와,
상기 전해액의 전기 분해 시에 상기 전해조의 내부에서 발생된 유체에 포함되는 미스트의 평균 입자지름을 측정하는 평균 입자지름 측정부와,
상기 유체를 상기 전해조의 내부로부터 외부로 보내는 유로를 구비하고,
상기 유로는 상기 전해조의 내부로부터 제 1 외부로 상기 유체를 보내는 제 1 유로와, 상기 전해조의 내부로부터 제 2 외부로 상기 유체를 보내는 제 2 유로를 가짐과 아울러, 상기 평균 입자지름 측정부에 의해 측정된 상기 미스트의 평균 입자지름에 따라 상기 유체를 흐르게 하는 유로를 상기 제 1 유로 또는 상기 제 2 유로로 스위칭하는 유로 스위칭부를 갖고 있고,
상기 유로 스위칭부는 상기 평균 입자지름 측정부에 의해 측정된 상기 미스트의 평균 입자지름이 미리 설정된 기준값 이하인 경우에는 상기 전해조의 내부로부터 상기 제 1 유로에 상기 유체를 보내고, 상기 미리 설정된 기준값보다 큰 경우에는 상기 전해조의 내부로부터 상기 제 2 유로에 상기 유체를 보내도록 되어 있으며,
상기 미리 설정된 기준값은 0.1㎛ 이상 1.0㎛ 이하의 범위 내의 수치인 불소 가스 제조 장치.
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5584904U (ko) | 1978-12-05 | 1980-06-11 | ||
JPS5919824U (ja) | 1982-07-29 | 1984-02-07 | 東洋化学株式会社 | 竪樋取付金具 |
JPS6171336A (ja) * | 1984-09-14 | 1986-04-12 | Nippon Paint Co Ltd | 粒度測定装置 |
JP2005264231A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | フッ素ガス生成装置 |
KR20080064083A (ko) * | 2006-01-20 | 2008-07-08 | 토요 탄소 가부시키가이샤 | 불소 또는 삼불화 질소를 제조하는 전기 분해 장치 |
KR20110133593A (ko) * | 2009-06-12 | 2011-12-13 | 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 | 불소 가스 생성 장치 |
Family Cites Families (12)
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---|---|---|---|---|
JPH11326154A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-26 | L'air Liquide | 寸法制御粒子を含む流体流の形成方法 |
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JP2011084806A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-04-28 | Central Glass Co Ltd | フッ素ガス生成装置 |
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US20120228144A1 (en) * | 2009-10-16 | 2012-09-13 | Solvay Fluor Gmbh | High-purity fluorine gas, the production and use thereof, and a method for monitoring impurities in a fluorine gas |
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Patent Citations (6)
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JPS5584904U (ko) | 1978-12-05 | 1980-06-11 | ||
JPS5919824U (ja) | 1982-07-29 | 1984-02-07 | 東洋化学株式会社 | 竪樋取付金具 |
JPS6171336A (ja) * | 1984-09-14 | 1986-04-12 | Nippon Paint Co Ltd | 粒度測定装置 |
JP2005264231A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | フッ素ガス生成装置 |
KR20080064083A (ko) * | 2006-01-20 | 2008-07-08 | 토요 탄소 가부시키가이샤 | 불소 또는 삼불화 질소를 제조하는 전기 분해 장치 |
KR20110133593A (ko) * | 2009-06-12 | 2011-12-13 | 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 | 불소 가스 생성 장치 |
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