KR20220060034A - Apparatus for treating substrate p and method for controlling heating part - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an apparatus for treating a substrate. The apparatus for treating a substrate according to one embodiment of the present invention comprises: a support unit supporting a substrate; a heating member heating the substrate supported by the support unit and including a plurality of heating elements; a treatment solution supplying member injecting a treatment solution to the substrate supported by the support unit; and a heating member inspection unit determining whether the heating member is defective or not, wherein the heating member inspection unit includes: an image capturing unit capturing an image of the heating member and storing the image; and a determination unit comparing brightness of the heating elements with required brightness, based on the image transmitted by the image capturing unit to determine whether the heating element is normal or defective. Accordingly, the heating member can make a temperature reach a target value even though some of the heating elements have abnormalities.

Description

기판 처리 장치 및 발열 부재 제어 방법{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE P AND METHOD FOR CONTROLLING HEATING PART}Substrate processing apparatus and heating member control method {APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE P AND METHOD FOR CONTROLLING HEATING PART}

본 발명은 발열 부재를 포함하는 기판 처리 장치와 발열 부재를 제어하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus including a heat generating member and a method for controlling the heat generating member.

일반적으로 평판 표시 소자 제조나 반도체 제조 공정에서 유리 기판이나 웨이퍼를 처리하는 공정에는 감광액 도포 공정(photoresist coating process), 현상 공정(developing process), 식각 공정(etching process), 애싱 공정(ashing process) 등 다양한 공정이 수행된다.In general, a process of treating a glass substrate or a wafer in a flat panel display device manufacturing process or a semiconductor manufacturing process includes a photoresist coating process, a developing process, an etching process, an ashing process, etc. Various processes are performed.

각 공정에는 기판에 부착된 각종 오염물을 제거하기 위해, 약액(chemical) 또는 순수(deionized water)를 이용한 세정 공정(wet cleaning process)과 기판 표면에 잔류하는 약액 또는 순수를 건조시키기 위한 건조(drying process) 공정이 수행된다. 최근에는 황산이나 인산과 같은 고온에서 사용되는 케미칼 수용액을 이용하여 실리콘 질화막 및 실리콘 산화막을 선택적으로 제거하는 식각 공정을 진행하고 있다.Each process includes a wet cleaning process using a chemical or deionized water to remove various contaminants attached to the substrate, and a drying process for drying the chemical or pure water remaining on the substrate surface. ) process is performed. Recently, an etching process for selectively removing a silicon nitride layer and a silicon oxide layer using a chemical aqueous solution used at a high temperature, such as sulfuric acid or phosphoric acid, is being performed.

고온의 케미칼 수용액을 이용한 기판처리장치에서는 식각률 및 유니포미티를 개선하기 위해 기판을 가열하는 기판 가열 장치가 적용되어 활용되고 있다. 기판 가열 장치에는 복수 개의 램프와 같은 발열체가 제공된다. 기존의 기판 가열 장치의 고장 판단을 위해서 발열체에 전류를 흘려보내 단선 여부를 확인하는 방법을 이용해왔다. 그러나, 이와 같은 방법은 고장난 발열체의 위치를 정확하게 판단하기 어렵고, 발열체의 고장 여부를 확인하였더라도 후속 조치를 하기 어려운 문제가 있다.In a substrate processing apparatus using a high-temperature chemical aqueous solution, a substrate heating apparatus for heating a substrate is applied and utilized in order to improve the etch rate and uniformity. The substrate heating apparatus is provided with a heating element such as a plurality of lamps. In order to determine the failure of the existing substrate heating device, a method of checking whether there is a disconnection by flowing a current to the heating element has been used. However, this method has problems in that it is difficult to accurately determine the location of the malfunctioning heating element, and it is difficult to perform follow-up measures even if the failure of the heating element is confirmed.

본 발명은, 복수 개의 발열체 중 이상이 있는 발열체를 검출할 수 있는 기판 처리 장치 및 발열 부재 제어 방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of detecting an abnormal heating element among a plurality of heating elements and a method for controlling a heating member.

본 발명은, 복수 개의 발열체 중 일부의 발열체에 이상이 있더라도 발열 부재가 목표한 온도에 도달할 수 있도록 하는 기판 처리 장치 및 발열 부재 제어 방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a method for controlling a heat generating member that allow the heat generating member to reach a target temperature even if there is an abnormality in some of the plurality of heat generating elements.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited thereto, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 일 예에서, 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 지지 유닛과; 지지 유닛에 지지된 기판을 가열하며 복수 개의 발열체를 포함하는 발열 부재와; 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 분사하는 처리액 공급 부재; 그리고, 발열 부재의 고장 여부를 판단하는 발열 부재 검사 유닛을 포함하고, 발열 부재 검사 유닛은, 발열 부재의 이미지를 촬영하여 저장하는 촬영부와; 촬영부로부터 전송받은 이미지를 기반으로 발열체의 휘도를 요구 휘도와 비교하여 발열체의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 판단하는 판단부를 포함할 수 있다.The present invention provides a substrate processing apparatus. In one example, a substrate processing apparatus includes: a support unit for supporting a substrate; a heating member that heats the substrate supported by the support unit and includes a plurality of heating elements; a processing liquid supply member configured to spray the processing liquid to the substrate supported by the support unit; and a heating member inspection unit for determining whether the heating member has failed, the heating member inspection unit comprising: a photographing unit that captures and stores an image of the heating member; A determination unit may be included to compare the luminance of the heating element with the required luminance based on the image received from the photographing unit to determine whether the heating element is in a normal state or in a defective state.

일 예에서, 판단부는, 발열체 각각의 점등 여부 그리고 휘도를 순차적으로 판단할 수 있다.In one example, the determination unit may sequentially determine whether each of the heating elements is lit and the luminance.

일 예에서, 판단부는, 발열체 각각의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 개별적으로 판단하여 불량 상태인 발열체의 위치를 검출할 수 있다.In one example, the determination unit may determine whether each of the heating elements is in a normal state or in a bad state individually to detect the position of the heating element in a bad state.

일 예에서, 장치를 제어하는 제어기를 더 포함하고, 판단부는, 불량 상태인 발열체의 주변 영역에 위치하는 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는지 여부인 보상 여부를 판단하여, 보상 여부를 제어기에 전송할 수 있다.In one example, further comprising a controller for controlling the device, wherein the determination unit determines whether or not compensation, that is, whether the peripheral heating element located in the peripheral region of the defective heating element can compensate the luminance of the defective heating element, and compensates can be transmitted to the controller.

일 예에서, 제어기는, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는 경우 주변 발열체의 휘도를 상향 조절할 수 있다.In one example, the controller may upwardly adjust the luminance of the peripheral heating element when the peripheral heating element can compensate for the luminance of the heating element in a defective state.

일 예에서, 제어기는, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 장치의 인터락을 발생시킬 수 있다.In one example, the controller may generate an interlock of the device when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the defective heating element.

일 예에서, 발열 부재 검사 유닛은, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 알람을 발생시키는 알람 장치를 더 포함할 수 있다.In one example, the heating member inspection unit may further include an alarm device that generates an alarm when the surrounding heating element cannot compensate for the luminance of the heating element in a defective state.

일 예에서, 발열체는 램프로 제공될 수 있다.In one example, the heating element may be provided as a lamp.

일 예에서, 척 스테이지와 함께 회전되도록 척 스테이지에 설치되는 윈도우를 더 포함할 수 있다.In one example, a window installed on the chuck stage to be rotated together with the chuck stage may be further included.

일 예에서, 노즐 몸체는, 기판의 배면의 식각 처리를 위한 식각액을 기판의 배면으로 공급할 수 있다.In one example, the nozzle body may supply an etchant for etching the rear surface of the substrate to the rear surface of the substrate.

또한, 일 실시예에서, 기판 처리 장치는, 기판을 가열하며 복수 개의 발열체를 포함하는 발열 부재와; 발열 부재의 고장 여부를 판단하는 발열 부재 검사 유닛를 포함하고, 발열 부재 검사 유닛은, 발열 부재의 이미지를 촬영하여 저장하는 촬영부와; 촬영부로부터 전송받은 이미지를 기반으로 발열체의 휘도를 요구 휘도와 비교하여 발열체의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 판단하는 판단부를 포함할 수 있다.Also, in one embodiment, the substrate processing apparatus includes: a heating member that heats a substrate and includes a plurality of heating elements; a heating member inspection unit for determining whether the heating member has failed, the heating member inspection unit comprising: a photographing unit that captures and stores an image of the heating member; A determination unit may be included to compare the luminance of the heating element with the required luminance based on the image received from the photographing unit to determine whether the heating element is in a normal state or in a defective state.

일 예에서, 판단부는, 발열체 각각의 점등 여부 그리고 휘도를 순차적으로 판단할 수 있다.In one example, the determination unit may sequentially determine whether each of the heating elements is lit and the luminance.

일 예에서, 판단부는, 발열체 각각의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 개별적으로 판단하여 불량 상태인 발열체의 위치를 검출할 수 있다.In one example, the determination unit may determine whether each of the heating elements is in a normal state or in a bad state individually to detect the position of the heating element in a bad state.

일 예에서, 장치를 제어하는 제어기를 더 포함하고, 판단부는, 불량 상태인 발열체의 주변 영역에 위치하는 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는지 여부인 보상 여부를 판단하여, 보상 여부를 제어기에 전송할 수 있다.In one example, further comprising a controller for controlling the device, wherein the determination unit determines whether or not compensation, that is, whether the peripheral heating element located in the peripheral region of the defective heating element can compensate the luminance of the defective heating element, and compensates can be transmitted to the controller.

일 예에서, 제어기는, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는 경우 주변 발열체의 휘도를 상향 조절할 수 있다.In one example, the controller may upwardly adjust the luminance of the peripheral heating element when the peripheral heating element can compensate for the luminance of the heating element in a defective state.

일 예에서, 제어기는, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 장치의 인터락을 발생시킬 수 있다.In one example, the controller may generate an interlock of the device when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the defective heating element.

일 예에서, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 알람을 발생시키는 알람 장치를 더 포함할 수 있다.In one example, an alarm device for generating an alarm when the surrounding heating element cannot compensate for the luminance of the heating element in a defective state may be further included.

또한, 본 발명은 발열 부재 제어 방법을 제공한다. 일 예에서, 발열 부재 제어 방법은, 발열 부재의 이미지를 촬영하여 이미지를 기반으로 발열체의 휘도를 요구 휘도와 비교하여 발열체 각각의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 판단하고, 불량 상태인 발열체의 위치를 검출하여 불량 상태인 발열체의 주변 영역에 위치하는 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는지 여부를 판단할 수 있다.In addition, the present invention provides a method for controlling a heat generating member. In one example, the heating member control method compares the luminance of the heating element with the required luminance based on the image by taking an image of the heating element to determine whether each of the heating elements is in a normal state or a defective state, and the location of the heating element in a bad state may be detected to determine whether the peripheral heating element positioned in the peripheral region of the defective heating element can compensate for the luminance of the defective heating element.

일 예에서, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는 경우 주변 발열체의 휘도를 상향 조절할 수 있다.In one example, when the peripheral heating element can compensate for the luminance of the heating element in a defective state, the luminance of the peripheral heating element may be adjusted upward.

일 예에서, 주변 발열체가 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 발열 부재의 인터락을 발생시킬 수 있다.In one example, when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the heating element in a defective state, an interlock of the heating member may be generated.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 복수 개의 발열체 중 이상이 있는 발열체를 검출할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to detect a heating element having an abnormality among a plurality of heating elements.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 복수 개의 발열체 중 일부의 발열체에 이상이 있더라도 발열 부재가 목표한 온도에 도달할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, even if there is an abnormality in some of the heating elements among the plurality of heating elements, the heating member may reach a target temperature.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.Effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and effects not mentioned will be clearly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the present specification and accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 처리 장치의 구성을 보여주는 평면 구성도이다.
도 3은 본 발명에 따른 처리 장치의 구성을 보여주는 측단면 구성도이다.
도 4는 지지 유닛의 단면도이다.
도 5는 발열 부재 제어 방법을 순차적으로 나타내는 플로우 차트이다.1 is a plan view schematically illustrating a substrate processing facility according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the processing device shown in FIG. 1 .
3 is a cross-sectional side view showing the configuration of a processing apparatus according to the present invention.
4 is a cross-sectional view of the support unit;
5 is a flowchart sequentially illustrating a method for controlling a heat generating member.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Accordingly, the shapes of elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1을 참조하면, 본 발명의 기판 처리 시스템(1000)은 인덱스부(10), 버퍼부(20) 그리고 처리부(50)를 포함할 수 있다. 인덱스부(10), 버퍼부(20) 그리고 처리부는 일렬로 배치된다. 이하, 인덱스부(10), 버퍼부(20) 그리고 처리부(50)가 배열된 방향을 제 1 방향이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제 1 방향의 수직인 방향을 제 2 방향이라 하며, 제 1 방향과 제 2 방향을 포함한 평면에 수직인 방향을 제 3 방향이라 정의한다.Referring to FIG. 1 , the substrate processing system 1000 of the present invention may include an index unit 10 , a buffer unit 20 , and a processing unit 50 . The index unit 10 , the buffer unit 20 , and the processing unit are arranged in a line. Hereinafter, the direction in which the index unit 10 , the buffer unit 20 , and the processing unit 50 are arranged is referred to as a first direction, and when viewed from above, a direction perpendicular to the first direction is referred to as a second direction, and the second direction is referred to as a second direction. A direction perpendicular to a plane including the first direction and the second direction is defined as a third direction.

인덱스부(10)는 기판 처리 시스템(1000)의 제 1 방향의 전방에 배치된다. 인덱스부(10)는 4개의 로드 포트(12) 및 1개의 인덱스 로봇(13)을 포함한다. 4개의 로드 포트(12)는 제 1 방향으로 인덱스부(10)의 전방에 배치된다. 로드 포트(12)는 복수 개가 제공되며 이들은 제 2 방향을 따라 배치된다. 로드 포트(12)의 개수는 기판 처리 시스템(1000)의 공정 효율 및 풋 프린트 조건에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 로드 포트(12)들에는 공정에 제공될 기판(W) 및 공정처리가 완료된 기판(W)이 수납된 캐리어(예컨대, 카세트, FOUP등)가 안착된다. 캐리어(16)에는 기판들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯이 형성된다.The index unit 10 is disposed in front of the substrate processing system 1000 in the first direction. The index unit 10 includes four load ports 12 and one index robot 13 . The four load ports 12 are disposed in front of the index unit 10 in the first direction. A plurality of load ports 12 are provided and these are arranged along the second direction. The number of load ports 12 may increase or decrease according to process efficiency and footprint conditions of the substrate processing system 1000 . Carriers (eg, cassettes, FOUPs, etc.) in which the substrate W to be provided for the process and the substrate W on which the process is completed are accommodated are seated in the load ports 12 . A plurality of slots are formed in the carrier 16 for accommodating the substrates in a state in which they are arranged horizontally with respect to the ground.

인덱스 로봇(13)은 로드 포트(12)와 이웃하여 제 1 방향으로 배치된다. 인덱스 로봇(13)은 로드 포트(12)와 버퍼부(20) 사이에 설치된다. 인덱스 로봇(13)은 버퍼부(20)의 상층에 대기하는 기판(W)을 캐리어(16)로 이송하거나, 캐리어(16)에서 대기하는 기판(W)을 버퍼부(20)의 하층으로 이송한다.The index robot 13 is disposed adjacent to the load port 12 in the first direction. The index robot 13 is installed between the load port 12 and the buffer unit 20 . The index robot 13 transfers the substrate W waiting on the upper layer of the buffer unit 20 to the carrier 16 , or transfers the substrate W waiting on the carrier 16 to the lower layer of the buffer unit 20 . do.

버퍼부(20)는 인덱스부(10)와 처리부 사이에 설치된다. 버퍼부(20)는 인덱스 로봇(13)에 의해 이송되기 전에 공정에 제공될 기판(W) 또는 메인 이송 로봇(30)에 의해 이송되기 전에 공정 처리가 완료된 기판(W)이 일시적으로 수납되어 대기하는 장소이다.The buffer unit 20 is provided between the index unit 10 and the processing unit. The buffer unit 20 temporarily accommodates the substrate W to be provided for the process before being transferred by the index robot 13 or the substrate W that has been processed before being transferred by the main transfer robot 30 and waits. is a place to

메인 이송 로봇(30)은 이동 통로(40)에 설치되며, 각 처리 장치(1)들 및 버퍼부(20) 간에 기판을 이송한다. 메인 이송 로봇(30)은 버퍼부(20)에서 대기하는 공정에 제공될 기판을 각 처리 장치(1)으로 이송하거나, 각 처리 장치(1)에서 공정 처리가 완료된 기판을 버퍼부(20)로 이송한다.The main transfer robot 30 is installed in the moving passage 40 , and transfers substrates between the processing devices 1 and the buffer unit 20 . The main transfer robot 30 transfers a substrate to be provided for a process waiting in the buffer unit 20 to each processing apparatus 1 , or transfers a substrate that has been processed in each processing apparatus 1 to the buffer unit 20 . transport

이동 통로(40)는 처리부 내의 제 1 방향을 따라 배치되며, 메인 이송 로봇(30)이 이동하는 통로를 제공한다. 이동 통로(40)의 양측에는 처리 장치(1)들이 서로 마주보며 제 1 방향을 따라 배치된다. 이동 통로(40)에는 메인 이송 로봇(30)이 제 1 방향을 따라 이동하며, 처리 장치(1)의 상하층, 그리고 버퍼부(20)의 상하층으로 승강할 수 있는 이동 레일이 설치된다.The moving passage 40 is disposed along the first direction in the processing unit, and provides a passage through which the main transfer robot 30 moves. On both sides of the moving passage 40 , the processing devices 1 face each other and are disposed along the first direction. In the moving passage 40 , the main transfer robot 30 moves in the first direction, and moving rails capable of ascending and descending to the upper and lower floors of the processing device 1 and the upper and lower floors of the buffer unit 20 are installed.

처리 장치(1)은 메인 이송 로봇(30)이 설치되는 이동통로(40)의 양측에 서로 마주하게 배치된다. 기판 처리 시스템(1000)은 상하층으로 된 다수개의 처리 장치(1)을 구비하나, 처리 장치(1)의 개수는 기판 처리 시스템(1000)의 공정 효율 및 풋 프린트 조건에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 각각의 처리 장치(1)은 독립적인 하우징으로 구성되며, 이에 각각의 처리 장치 내에서는 독립적인 형태로 기판을 처리하는 공정이 이루어질 수 있다.The processing device 1 is disposed to face each other on both sides of the moving passage 40 in which the main transfer robot 30 is installed. The substrate processing system 1000 includes a plurality of processing apparatuses 1 in upper and lower layers, but the number of processing apparatuses 1 may increase or decrease according to process efficiency and footprint conditions of the substrate processing system 1000 . there is. Each processing apparatus 1 is configured as an independent housing, and thus, a process of processing a substrate in an independent form can be performed in each processing apparatus.

이하, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(1)는 다양한 처리 유체들을 사용하여 가열된 기판 표면에 잔류하는 이물질 및 막질을 제거하는 장치로 설명한다. 아래의 실시예에서는 고온의 황산, 알카리성 약액(오존수 포함), 산성 약액, 린스액, 그리고 건조가스(IPA가 포함된 가스)와 같은 처리유체들을 사용하여 기판을 세정하는 장치를 예로 들어 설명한다.Hereinafter, the substrate processing apparatus 1 according to the present invention will be described as an apparatus for removing foreign substances and film quality remaining on the heated substrate surface using various processing fluids. In the embodiment below, an apparatus for cleaning a substrate using processing fluids such as high temperature sulfuric acid, alkaline chemical solution (including ozone water), acid chemical solution, rinsing solution, and drying gas (gas containing IPA) will be described as an example.

그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않는다. 본 발명은 기판을 세정, 건조 등과 같은 다양한 처리를 하기 위해 기판을 가열하는 다른 장치에 적용될 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 기판 처리 장치(1)가 처리하는 기판으로 반도체 기판을 일례로 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 액정표시장치용 기판, 플라즈마 디스플레이용 기판, FED(Field Emission Display)용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광학 자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판, 태양 전지용 기판과 같은 다양한 종류의 기판에도 적용될 수 있다.However, the technical spirit of the present invention is not limited thereto. The present invention can be applied to other apparatuses for heating a substrate for various treatments such as cleaning, drying, and the like. In addition, although a semiconductor substrate is illustrated and described as an example of a substrate processed by the substrate processing apparatus 1 in this embodiment, the present invention is not limited thereto, and a substrate for a liquid crystal display device, a substrate for a plasma display, and a field emission (FED) Display), a substrate for an optical disk, a substrate for a magnetic disk, a substrate for an optical magnetic disk, a substrate for a photomask, a ceramic substrate, and a substrate for a solar cell can be applied to various types of substrates.

도 2는 본 발명에 따른 처리 장치의 구성을 보여주는 평면 구성도이고, 도 3은 본 발명에 따른 처리 장치의 구성을 보여주는 측단면 구성도이다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 하우징(800), 처리 용기(100), 공정 배기부(500), 지지 유닛(200), 발열 부재(250), 처리액 공급 부재(310), 고정 노즐(900), 발열부 검사 유닛(1000) 그리고 제어기(1500)를 포함한다.2 is a plan view showing the configuration of the processing device according to the present invention, and FIG. 3 is a side cross-sectional configuration diagram showing the configuration of the processing device according to the present invention. 2 and 3 , the substrate processing apparatus 1 includes a housing 800 , a processing vessel 100 , a process exhaust unit 500 , a support unit 200 , a heat generating member 250 , and a processing liquid supply member. 310 , a fixed nozzle 900 , a heating unit inspection unit 1000 , and a controller 1500 .

하우징(800)는 밀폐된 내부 공간을 제공하며, 상부에는 팬필터유닛(810)이 설치된다. 팬필터유닛(810)은 하우징(800) 내부에 하강 기류를 발생시킨다. 일 예에서, 팬필터유닛(810)은 필터와 공기공급팬이 하나의 유니트로 모듈화된 장치이다. 팬필터유닛(810)은, 고습도 외기를 필터링하여 하우징(800) 내부로 공급한다. 고습도 외기는 팬필터유닛(810)을 통과하여 챔버 내부로 공급되어 수직 기류를 형성하게 된다. 이러한 수직 기류는 기판 상부에 균일한 기류를 제공하게 되며, 처리 유체에 의해 기판 표면이 처리되는 과정에서 발생되는 오염물질(흄)들은 공기와 함께 처리 용기(100)의 흡입 덕트들을 통해 공정 배기부(500)로 배출되어 제거됨으로써 처리 용기 내부의 고청정도를 유지하게 된다.The housing 800 provides a sealed internal space, and the fan filter unit 810 is installed on the upper part. The fan filter unit 810 generates a downward airflow in the housing 800 . In one example, the fan filter unit 810 is a device in which the filter and the air supply fan are modularized into one unit. The fan filter unit 810 filters high-humidity outdoor air and supplies it to the inside of the housing 800 . The high-humidity outdoor air passes through the fan filter unit 810 and is supplied into the chamber to form a vertical airflow. This vertical airflow provides a uniform airflow over the substrate, and contaminants (fumes) generated while the surface of the substrate is treated by the processing fluid are removed from the process exhaust through the suction ducts of the processing vessel 100 together with air. By being discharged to 500 and removed, a high degree of cleanliness inside the processing vessel is maintained.

도 3에 도시된 바와 같이, 하우징(800)는 수평 격벽(814)에 의해 공정 영역(816)과 유지보수 영역(818)으로 구획된다. 도면에는 일부만 도시하였지만, 유지보수 영역(818)에는 처리 용기(100)와 연결되는 배출라인(141,143,145), 배기라인(510) 이외에도 다른 구성이 제공될 수 있다. 일 예에서, 유지보수 영역(818)에는, 승강 유닛(600)의 구동부과, 처리액 공급 부재(310)의 노즐들과 연결되는 구동부, 공급라인 등이 위치할 수 있다. 유지보수 영역(818)은, 기판 처리가 이루어지는 공정 영역(816)으로부터 격리된다. 바람직하다.As shown in FIG. 3 , the housing 800 is divided into a process area 816 and a maintenance area 818 by a horizontal bulkhead 814 . Although only a portion is shown in the drawings, other configurations may be provided in the maintenance area 818 other than the discharge lines 141 , 143 , and 145 connected to the processing vessel 100 , and the exhaust line 510 . In one example, in the maintenance area 818 , a driving unit of the elevating unit 600 , a driving unit connected to nozzles of the processing liquid supply member 310 , a supply line, etc. may be located. The maintenance area 818 is isolated from the processing area 816 where substrate processing takes place. desirable.

처리 용기(100)는 상부가 개구된 원통 형상을 갖고, 기판(W)을 처리하기 위한 처리 공간을 제공한다. 처리 용기(100)의 개구된 상면은 기판(W)의 반출 및 반입 통로로 제공된다. 처리 공간에는 지지 유닛(200)이 위치된다. 처리 용기(100)는 강제 배기가 이루어지도록 하단부에 배기덕트(190)가 연결된 하부공간을 제공한다. 처리 용기(100)에는 회전되는 기판상에서 비산되는 약액과 기체를 유입 및 흡입하는 환형의 제1, 제2 및 제3 흡입덕트(110, 120, 130)가 다단으로 배치된다. 환형의 제1, 제2 및 제3 흡입덕트(110, 120, 130)는 하나의 공통된 환형공간(용기의 하부공간에 해당)과 통하는 배기구(H)들을 갖는다. 하부공간에는 배기부재(400)와 연결되는 배기덕트(190)가 제공된다. 구체적으로, 제1 내지 제3 흡입덕트(110, 120, 130)는 각각 환형의 링 형상을 갖는 바닥면 및 바닥면으로부터 연장되어 원통 형상을 갖는 측벽을 구비한다. 제2 흡입덕트(120)는 제1 흡입덕트(110)를 둘러싸고, 제1 흡입덕트(110)로부터 이격되어 위치한다. 제3 흡입덕트(130)는 제2 흡입덕트(120)를 둘러싸고, 제2 흡입덕트(120)로부터 이격되어 위치한다. 제1 내지 제3 흡입덕트(110, 120, 130)는 기판(W)으로부터 비산된 처리액 및 흄이 포함된 기류가 유입되는 제1 내지 제3 회수공간(RS1, RS2, RS3)을 제공한다. 제1 회수 공간(RS1)은 제1 흡입덕트(110)에 의해 정의되고, 제2 회수공간(RS2)은 제1 흡입덕트(110)와 제2 흡입덕트(120) 간의 이격 공간에 의해 정의되며, 제3 회수공간(RS3)은 제2 흡입덕트(120)와 제3 흡입덕트(130) 간의 이격 공간에 의해 정의된다. 제1 내지 제3 흡입덕트(110, 120, 130)의 각 상면은 중앙부가 개구되고, 연결된 측벽으로부터 개구부측으로 갈수록 대응하는 바닥면과의 거리가 점차 증가하는 경사면으로 이루어진다. 이에 따라, 기판(W)으로부터 비산된 처리액은 제1 내지 제3 흡입덕트(110, 120, 130)의 상면들을 따라 회수 공간들(RS1, RS2, RS3) 안으로 흘러간다. 제1 회수공간(RS1)에 유입된 제1 처리액은 제1 회수라인(141)을 통해 외부로 배출된다. 제2 회수공간(RS2)에 유입된 제2 처리액은 제2 회수라인(143)을 통해 외부로 배출된다. 제3 회수공간(RS3)에 유입된 제3 처리액은 제3 회수라인(145)을 통해 외부로 배출된다.The processing vessel 100 has a cylindrical shape with an open top, and provides a processing space for processing the substrate W . The opened upper surface of the processing container 100 serves as a passage for carrying out and carrying in the substrate W. Referring to FIG. The support unit 200 is located in the processing space. The processing vessel 100 provides a lower space to which the exhaust duct 190 is connected at the lower end so that forced exhaust is made. In the processing container 100 , first, second, and third annular suction ducts 110 , 120 and 130 for introducing and sucking the chemical liquid and gas scattered on the rotating substrate are disposed in multiple stages. The annular first, second and third suction ducts 110 , 120 , 130 have exhaust ports H communicating with one common annular space (corresponding to the lower space of the container). An exhaust duct 190 connected to the exhaust member 400 is provided in the lower space. Specifically, the first to third suction ducts 110 , 120 and 130 each have a bottom surface having an annular ring shape and a side wall extending from the bottom surface having a cylindrical shape. The second suction duct 120 surrounds the first suction duct 110 and is positioned spaced apart from the first suction duct 110 . The third suction duct 130 surrounds the second suction duct 120 and is positioned spaced apart from the second suction duct 120 . The first to third suction ducts 110 , 120 , and 130 provide first to third recovery spaces RS1 , RS2 , RS3 into which the airflow containing the treatment liquid and fumes scattered from the substrate W is introduced. . The first recovery space RS1 is defined by the first suction duct 110 , and the second recovery space RS2 is defined by a spaced apart space between the first suction duct 110 and the second suction duct 120 , , the third recovery space RS3 is defined by a spaced apart space between the second suction duct 120 and the third suction duct 130 . Each of the upper surfaces of the first to third suction ducts 110 , 120 , and 130 is formed of an inclined surface with an open central portion and a distance from a corresponding bottom surface gradually increasing from the connected side wall toward the opening side. Accordingly, the processing liquid scattered from the substrate W flows into the recovery spaces RS1 , RS2 , and RS3 along the upper surfaces of the first to third suction ducts 110 , 120 , and 130 . The first treatment liquid introduced into the first recovery space RS1 is discharged to the outside through the first recovery line 141 . The second treatment liquid introduced into the second recovery space RS2 is discharged to the outside through the second recovery line 143 . The third treatment liquid introduced into the third recovery space RS3 is discharged to the outside through the third recovery line 145 .

일 예에서, 처리 용기(100)는 처리 용기(100)의 수직 위치를 변경시키는 승강 유닛(600)와 결합될 수 있다. 승강 유닛(600)은 처리 용기(100)를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 처리 용기(100)가 상하로 이동됨에 따라 지지 유닛(200)에 대한 처리 용기(100)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(600)은 브라켓(612), 이동 축(614), 그리고 구동기(616)를 가진다. 브라켓(612)은 처리 용기(100)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(612)에는 구동기(616)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동 축(614)이 고정결합된다. 기판(W)이 척 스테이지(210)에 로딩 또는 척 스테이지(210)로부터 언로딩될 때 척 스테이지(210)가 처리 용기(100)의 상부로 돌출되도록 처리 용기(100)는 하강한다. 또한, 공정이 진행시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 흡입덕트(110, 120, 130)로 유입될 수 있도록 처리 용기(100)의 높이가 조절된다. 이에 따라, 처리 용기(100)와 기판(W) 간의 상대적인 수직 위치가 변경된다. 따라서, 처리 용기(100)는 상기 각 회수공간(RS1, RS2, RS3) 별로 회수되는 처리액과 오염 가스의 종류를 다르게 할 수 있다.In one example, the processing vessel 100 may be coupled to the lifting unit 600 for changing the vertical position of the processing vessel 100 . The lifting unit 600 linearly moves the processing container 100 up and down. As the processing vessel 100 moves up and down, the relative height of the processing vessel 100 with respect to the support unit 200 is changed. The lifting unit 600 has a bracket 612 , a moving shaft 614 , and an actuator 616 . The bracket 612 is fixedly installed on the outer wall of the processing vessel 100 , and a moving shaft 614 , which is moved up and down by a driver 616 , is fixedly coupled to the bracket 612 . When the substrate W is loaded onto or unloaded from the chuck stage 210 , the processing container 100 descends so that the chuck stage 210 protrudes above the processing container 100 . In addition, during the process, the height of the processing container 100 is adjusted so that the processing liquid can be introduced into the predetermined suction ducts 110 , 120 , 130 according to the type of the processing liquid supplied to the substrate W . Accordingly, the relative vertical position between the processing vessel 100 and the substrate W is changed. Accordingly, the processing container 100 may have different types of processing liquid and pollutant gas recovered for each recovery space RS1 , RS2 , and RS3 .

선택적으로, 처리 용기(100)는 고정되고, 지지 유닛(200)을 수직 이동시켜 처리 용기(100)와 기판 가열 유닛(200) 간의 상대적인 수직 위치를 변경시킬 수 있다.Optionally, the processing vessel 100 may be fixed and the support unit 200 may be vertically moved to change the relative vertical position between the processing vessel 100 and the substrate heating unit 200 .

공정 배기부(500)는 처리 용기(100) 내부를 배기한다. 일 예에서, 공정 배기부(500)는 공정 진행 시, 제1 내지 제3 흡입덕트(110, 120, 130)중 처리액을 회수하는 흡입덕트에 배기압력(흡입압력)을 제공한다. 공정 배기부(500)는 배기덕트(190)와 연결되는 배기라인(510) 그리고 댐퍼(520)를 포함한다. 배기라인(510)은 배기펌프(미도시됨)로부터 배기압을 제공받으며 반도체 생산라인의 바닥 공간에 매설된 메인 배기라인과 연결된다.The process exhaust unit 500 exhausts the inside of the processing container 100 . In one example, the process exhaust unit 500 provides an exhaust pressure (suction pressure) to a suction duct that recovers the treatment liquid from among the first to third suction ducts 110 , 120 , and 130 during the process. The process exhaust unit 500 includes an exhaust line 510 connected to the exhaust duct 190 and a damper 520 . The exhaust line 510 receives exhaust pressure from an exhaust pump (not shown) and is connected to the main exhaust line buried in the floor space of the semiconductor production line.

지지 유닛(200)은 공정 진행 시 기판(W)을 지지한 상태에서 기판을 회전시킨다. 지지 유닛(200)에 관하여 이하에서 자세히 후술한다.The support unit 200 rotates the substrate while supporting the substrate W during the process. The support unit 200 will be described in detail below.

고정 노즐(900)들은 처리 용기(100) 상단에 설치된다. 고정 노즐(900)은 지지 유닛(200)에 놓인 기판(W)으로 처리 유체를 분사한다. 일 예에서, 고정 노즐(900)은 기판의 처리 위치에 따라 분사 각도 조절이 가능하다.The fixed nozzles 900 are installed at the top of the processing vessel 100 . The fixed nozzle 900 ejects the processing fluid to the substrate W placed on the support unit 200 . In one example, the fixed nozzle 900 may adjust the spraying angle according to the processing position of the substrate.

처리액 공급 부재(310)는 기판으로 처리액을 공급한다. 일 예에서, 처리액은, 기판(W) 표면을 식각하기 위한 고온의 케미칼일 수 있다. 예컨대, 케미컬은 황산, 인산, 또는 황산과 인산의 혼합액일 수 있다.The processing liquid supply member 310 supplies the processing liquid to the substrate. In one example, the treatment liquid may be a high-temperature chemical for etching the surface of the substrate W. For example, the chemical may be sulfuric acid, phosphoric acid, or a mixture of sulfuric acid and phosphoric acid.

처리액 공급 부재(310)는 노즐(311), 노즐 암(313), 지지 로드(315), 노즐 구동기(317) 그리고 공급부(320)를 포함한다. 노즐(311)은 공급부(320)를 통해 인산을 공급받는다. 노즐(311)은 기판(W)의 표면으로 인산을 토출한다. 노즐 암(313)의 선단에 노즐(311)이 장착된다. 노즐 암(313)은 노즐(311)을 지지한다. 노즐 암(313)의 후단에는 지지 로드(315)가 장착된다. 지지 로드(315)는 노즐 암(313)의 하부에 위치하며, 노즐 암(313)에 수직하게 배치된다. 노즐 구동기(317)는 지지 로드(315)의 하단에 제공된다. 일 예에서, 노즐 구동기(317)는 지지 로드(315)의 길이 방향 축을 중심으로 지지 로드(315)를 회전시킨다. 일 예에서, 지지 로드(315)의 회전으로 노즐 암(313)과 노즐(311)이 지지 로드(315)를 축으로 스윙 이동한다. 노즐(311)은 처리 용기(100)의 외측과 내측 사이를 스윙 이동할 수 있다. 그리고, 노즐(311)은 기판(W)의 중심과 가장 자리영역 사이 구간을 스윙 이동하며 인산을 토출할 수 있다.The treatment liquid supply member 310 includes a nozzle 311 , a nozzle arm 313 , a support rod 315 , a nozzle driver 317 , and a supply unit 320 . The nozzle 311 is supplied with phosphoric acid through the supply unit 320 . The nozzle 311 discharges phosphoric acid to the surface of the substrate W. A nozzle 311 is mounted at the tip of the nozzle arm 313 . The nozzle arm 313 supports the nozzle 311 . A support rod 315 is mounted at the rear end of the nozzle arm 313 . The support rod 315 is positioned below the nozzle arm 313 and is disposed perpendicular to the nozzle arm 313 . The nozzle driver 317 is provided at the lower end of the support rod 315 . In one example, the nozzle driver 317 rotates the support rod 315 about a longitudinal axis of the support rod 315 . In one example, rotation of the support rod 315 causes the nozzle arm 313 and the nozzle 311 to swing about the support rod 315 as an axis. The nozzle 311 may swing between the outside and the inside of the processing vessel 100 . In addition, the nozzle 311 may swing and move a section between the center and the edge region of the substrate W to discharge phosphoric acid.

도 4는 지지 유닛(200)의 단면도이다. 도 4를 참조하면, 지지 유닛(200)은, 척 스테이지(210), 석영 윈도우(220), 회전부(230), 백 노즐부(240), 발열 부재(250), 반사 플레이트(260)를 포함한다.4 is a cross-sectional view of the support unit 200 . Referring to FIG. 4 , the support unit 200 includes a chuck stage 210 , a quartz window 220 , a rotating unit 230 , a back nozzle unit 240 , a heat generating member 250 , and a reflective plate 260 . do.

척 스테이지(210)는 원형의 상부면을 갖으며, 회전부(230)에 결합되어 회전된다. 척 스테이지(210)의 가장자리에는 척킹 핀(212)들이 설치된다. 척킹 핀(212)들은 석영 윈도우(220)를 관통해서 석영 윈도우(220) 상측으로 돌출되도록 제공된다. 척킹 핀(212)들은 다수의 지지 핀(214)들에 의해 지지된 기판(W)이 정 위치에 놓이도록 기판(W)을 정렬한다. 또한, 공정 진행시 척킹 핀(212)들은 기판(W)의 측부와 접촉되어 기판(W)이 정 위치로부터 이탈되는 것을 방지한다. 일 예에서, 회전부(230)는 중공형의 형상을 갖고, 척 스테이지(210)와 결합하여 척 스테이지(210)를 회전시킨다.The chuck stage 210 has a circular upper surface, is coupled to the rotation unit 230 and rotates. Chucking pins 212 are installed at the edge of the chuck stage 210 . The chucking pins 212 are provided to protrude upward through the quartz window 220 through the quartz window 220 . The chucking pins 212 align the substrate W so that the substrate W supported by the plurality of support pins 214 is positioned. In addition, during the process, the chucking pins 212 are in contact with the side of the substrate W to prevent the substrate W from being separated from the original position. In one example, the rotating part 230 has a hollow shape and is coupled to the chuck stage 210 to rotate the chuck stage 210 .

척 스테이지(210)에는 기판을 가열하기 위한 발열 부재(250)가 제공된다. 일 예에서, 발열 부재(250)는 복수 개의 발열체(252)를 갖는다. 일 예에서, 발열체(252)는 램프로 제공된다. 예컨대, 발열체(252)는 LED램프 또는 IR램프로 제공된다. 일 예에서, 발열체(252)는 링 형상으로 배열될 수 있다. 예컨대, 발열체(252)의 배열은 서로 상이한 직경을 가지고 서로 이격되는 링 형상으로 제공될 수 있다.The chuck stage 210 is provided with a heating member 250 for heating the substrate. In one example, the heating member 250 includes a plurality of heating elements 252 . In one example, the heating element 252 is provided as a lamp. For example, the heating element 252 is provided as an LED lamp or an IR lamp. In one example, the heating element 252 may be arranged in a ring shape. For example, the arrangement of the heating elements 252 may be provided in a ring shape having different diameters and spaced apart from each other.

일 예에서, 발열 부재(250)는 동심을 가지는 다수의 구역들로 세분될 수 있다. 일 예에서, 각각의 구역에는 각각의 구역을 개별적으로 가열시킬 수 있는 발열체(252)들이 제공된다. 본 실시예에서는 6개의 발열체(252)들이 도시되어 있지만, 이는 하나의 예에 불과하며 발열체(252)들의 수는 원하는 온도 제어된 정도에 의존하여 가감될 수 있다.In one example, the heating member 250 may be subdivided into a plurality of concentric zones. In one example, each zone is provided with heating elements 252 capable of individually heating each zone. In this embodiment, six heating elements 252 are shown, but this is only an example, and the number of heating elements 252 may be increased or decreased depending on the desired degree of temperature control.

발열 부재(250)와 척 스테이지(210) 사이에는 발열체(252)들에서 발생되는 열을 상부(기판을 향하도록)로 전달되도록 반사 플레이트(260)이 제공될 수 있다. 반사 플레이트(260)는 회전부(230)의 중앙 공간에 관통하여 설치되는 노즐 몸체에 지지될 수 있다.A reflective plate 260 may be provided between the heating member 250 and the chuck stage 210 to transfer heat generated from the heating elements 252 upward (toward the substrate). The reflective plate 260 may be supported by the nozzle body installed through the central space of the rotating part 230 .

일 예에서, 발열 부재(250)와 기판(W) 사이에는 발열체(252)들을 보호하기 위한 석영 윈도우(220)가 설치될 수 있다. 석영 윈도우(220)는 투명할 수 있으며 척 스테이지(210)와 함께 회전될 수 있다. 석영 윈도우(220)는 지지 핀(224)들을 포함한다. 지지 핀(224)들은 석영 윈도우(220)의 상부 면 가장자리부에 소정 간격 이격되어 일정 배열로 배치되며, 석영 윈도우(220)로부터 상측으로 돌출되도록 구비된다. 지지 핀(224)들은 기판(W)의 하면을 지지하여 기판(W)이 석영 윈도우(220)로부터 상측 방향으로 이격된 상태에서 지지되도록 한다.In one example, a quartz window 220 for protecting the heating elements 252 may be installed between the heating member 250 and the substrate W. The quartz window 220 may be transparent and may rotate together with the chuck stage 210 . The quartz window 220 includes support pins 224 . The support pins 224 are arranged in a predetermined arrangement spaced apart from the edge of the upper surface of the quartz window 220 , and are provided to protrude upward from the quartz window 220 . The support pins 224 support the lower surface of the substrate W so that the substrate W is supported while being spaced apart from the quartz window 220 in the upper direction.

일 예에서, 발열 부재(250)에는 온도 센서(미도시)가 제공될 수 있다. 예컨대, 온도 센서(미도시)는 발열체(252)의 하부에 제공되어 발열체(252)의 개별 온도를 측정할 수 있다. 선택적으로, 온도 센서(미도시)는 비접촉식으로 발열체(252)의 온도를 측정하도록 제공될 수 있다.In one example, a temperature sensor (not shown) may be provided on the heat generating member 250 . For example, a temperature sensor (not shown) may be provided under the heating element 252 to measure individual temperatures of the heating element 252 . Optionally, a temperature sensor (not shown) may be provided to measure the temperature of the heating element 252 in a non-contact manner.

백노즐부(240)는 기판의 배면에 약액을 분사하기 위한 것으로, 노즐 몸체(242) 및 약액 분사부(244)를 가진다. 약액 분사부(244)는 척 스테이지(210)와 석영 윈도우(220)의 중앙 상부에 위치된다. 노즐 몸체(242)는 중공형의 회전부(230) 내에 관통 축설되며, 도시하지 않았지만 노즐 몸체(242)의 내부에는 약액 이동 라인, 가스 공급라인 및 퍼지 가스 공급 라인이 제공될 수 있다. 일 예에서, 약액 이동 라인은 기판(W) 배면의 식각 처리를 위한 식각액을 약액 분사부(244)에 공급하고, 가스 공급 라인은 기판(W)의 배면에 식각 균일도 조절을 위한 질소 가스를 공급하고, 퍼지 가스 공급 라인은 석영 윈도우와 노즐 몸체 사이로 식각액이 침투되는 것을 방지하도록 질소 퍼지가스를 공급한다.The back nozzle part 240 is for spraying a chemical liquid on the back surface of the substrate, and has a nozzle body 242 and a chemical liquid spraying part 244 . The chemical spraying unit 244 is located at the upper center of the chuck stage 210 and the quartz window 220 . The nozzle body 242 is passed through the hollow rotating part 230 and, although not shown, a chemical liquid moving line, a gas supply line, and a purge gas supply line may be provided inside the nozzle body 242 . In one example, the chemical liquid movement line supplies an etchant for etching the rear surface of the substrate W to the chemical liquid injection unit 244 , and the gas supply line supplies nitrogen gas for etching uniformity control to the rear surface of the substrate W. And, the purge gas supply line supplies a nitrogen purge gas to prevent the etchant from penetrating between the quartz window and the nozzle body.

발열 부재(250) 검사 유닛(1000)은, 발열 부재(250)가 정상 상태인지 또는 불량 상태 인지 여부를 파악한다. 발열 부재(250) 검사 유닛(1000)은 촬영부(1050)와 판단부(1100)를 포함한다. 촬영부(1050)는, 발열 부재(250)의 이미지를 촬영하여 저장한다. 일 예에서, 촬영부(1050)는 하우징(800)의 내부 공간의 상부 일측에 제공될 수 있다. 선택적으로, 촬영부(1050)는 하우징(800)의 외부 공간에 제공되어 필요 시에 발열 부재(250)의 이미지를 촬영할 수 있도록 제공된다. 판단부(1100)는, 촬영부(1050)로부터 전송받은 이미지를 기반으로 발열체(252)의 휘도를 요구 휘도와 비교하여 발열체(252)의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 판단한다. 예컨대, 판단부(1100)에는 각 발열체(252) 마다 요구되는 요구 휘도일 때의 발열체(252)의 이미지가 저장될 수 있다. 일 예에서, 요구 휘도는 각 발열체(252)가 놓인 영역마다 상이할 수 있다. 일 예에서, 지지 유닛의 중심으로부터 멀어질수록 발열체(252)의 요구 휘도는 높게 설정될 수 있다. 선택적으로, 요구 휘도는 각 발열체(252)에서 동일할 수 있다. 일 예에서, 요구 휘도는, 기판을 기 설정 온도로 가열하기 위한 발열 부재(250)의 휘도이다.The heat generating member 250 inspection unit 1000 determines whether the heat generating member 250 is in a normal state or a defective state. The heat generating member 250 inspection unit 1000 includes a photographing unit 1050 and a determining unit 1100 . The photographing unit 1050 captures and stores an image of the heating member 250 . In one example, the photographing unit 1050 may be provided on an upper side of the inner space of the housing 800 . Optionally, the photographing unit 1050 is provided in the outer space of the housing 800 to photograph the image of the heating member 250 when necessary. The determination unit 1100 compares the luminance of the heating element 252 with the required luminance based on the image received from the photographing unit 1050 to determine whether the heating element 252 is in a normal state or in a bad state. For example, the determination unit 1100 may store an image of the heating element 252 at the required luminance required for each heating element 252 . In one example, the required luminance may be different for each region in which each heating element 252 is placed. In one example, as the distance from the center of the support unit increases, the required luminance of the heating element 252 may be set higher. Optionally, the required luminance may be the same for each heating element 252 . In one example, the required luminance is the luminance of the heating member 250 for heating the substrate to a preset temperature.

도 5는 본 발명의 발열 부재 제어 방법을 순차적으로 보여주는 플로우 차트이다. 도 5의 발열 부재 제어 방법은, 지지 유닛(200) 상에 기판(W)이 제거되었을 때 수행된다.5 is a flowchart sequentially illustrating a method for controlling a heat generating member according to the present invention. The method of controlling the heating member of FIG. 5 is performed when the substrate W is removed from the support unit 200 .

일 예에서, 판단부(1100)는 촬영부(1050)가 촬영한 발열체(252)의 이미지를 통해 발열 체의 휘도를 인식하고 이를 기반으로 발열체(252)의 점등 여부와 휘도를 판단한다. 선택적으로, 판단부(1100)는, 발열체(252) 각각의 점등 여부 그리고 휘도를 순차적으로 판단할 수 있다. 판단부(1100)는, 발열체(252) 각각의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 개별적으로 판단한다. 그리고 이를 기반으로, 불량 상태인 발열체(252)의 위치를 검출한다. 판단부(1100)는, 불량 상태인 발열체(252)의 주변 영역에 위치하는 주변 발열체(252)가 불량 상태인 발열체(252)의 휘도를 보상할 수 있는지 여부인 보상 여부를 판단하여, 보상 여부를 제어기(1500)에 전송한다.In one example, the determination unit 1100 recognizes the luminance of the heating element through the image of the heating element 252 captured by the photographing unit 1050 and determines whether or not the heating element 252 is lit and the luminance based on this. Optionally, the determination unit 1100 may sequentially determine whether each of the heating elements 252 is lit and the luminance. The determination unit 1100 individually determines whether each of the heating elements 252 is in a normal state or in a bad state. And based on this, the position of the heating element 252 in a defective state is detected. The determination unit 1100 determines whether to compensate, whether or not the peripheral heating element 252 located in the peripheral region of the defective heating element 252 can compensate for the luminance of the defective heating element 252, is transmitted to the controller 1500 .

제어기(1500)는 판단부(1100)로부터 발열체(252)가 정상 상태인지 또는 불량 상태인지 여부에 관한 정보와 보상 여부에 관한 정보를 전달받는다. 이후, 제어기(1500)는, 주변 발열체(252)가 불량 상태인 발열체(252)의 휘도를 보상할 수 있는 경우 주변 발열체(252)의 휘도를 상향 조절한다. 주변 발열체(252)의 휘도는 불량 상태인 발열체(252)를 제외한 나머지 정상 상태인 발열체(252)가 기판을 기 설정 온도로 가열하기 위한 발열 부재(250)의 휘도로 설정된다. 예컨대, 기판을 기 설정 온도로 균일하게 가열하기 위해 발열부는 복수의 영역으로 나뉘어 각 영역 마다 발열체(252)의 휘도가 상이하게 설정될 수 있다. 정상 상태인 발열체(252)는, 각 영역이 설정된 휘도를 가지도록 불량 상태인 발열체(252)의 휘도를 보상할 수 있다.The controller 1500 receives information about whether the heating element 252 is in a normal state or a bad state and information on whether to compensate it from the determination unit 1100 . Thereafter, when the peripheral heating element 252 can compensate for the luminance of the heating element 252 in a defective state, the controller 1500 upwardly adjusts the brightness of the peripheral heating element 252 . The luminance of the peripheral heating element 252 is set to the luminance of the heating member 250 for heating the substrate to a preset temperature by the remaining heating elements 252 in a normal state except for the heating elements 252 in a bad state. For example, in order to uniformly heat the substrate to a preset temperature, the heating unit may be divided into a plurality of regions, and the luminance of the heating element 252 may be set differently for each region. The heating element 252 in a normal state may compensate for the luminance of the heating element 252 in a bad state so that each region has a set luminance.

제어기(1500)는, 주변 발열체(252)가 불량 상태인 발열체(252)의 휘도를 보상할 수 없는 경우 장치(1)의 인터락을 발생시킬 수 있다. 발열 부재(250) 검사 유닛(1000)은, 주변 발열체(252)가 불량 상태인 발열체(252)의 휘도를 보상할 수 없는 경우 알람을 발생시키는 알람 장치를 더 포함할 수 있다. 이에, 주변 발열체(252)가 불량 상태인 발열체(252)의 휘도를 보상할 수 없는 경우, 장치가 인터락되고 알람이 발생할 수 있다.The controller 1500 may generate an interlock of the device 1 when the peripheral heating element 252 cannot compensate for the luminance of the heating element 252 in a defective state. The heating member 250 inspection unit 1000 may further include an alarm device that generates an alarm when the surrounding heating element 252 cannot compensate for the luminance of the heating element 252 in a defective state. Accordingly, when the peripheral heating element 252 cannot compensate for the luminance of the heating element 252 in a defective state, the device may be interlocked and an alarm may be generated.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The above detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the above description shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications are possible within the scope of the concept of the invention disclosed herein, the scope equivalent to the written disclosure, and/or within the scope of skill or knowledge in the art. The written embodiment describes the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required in specific application fields and uses of the present invention are possible. Accordingly, the detailed description of the present invention is not intended to limit the present invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

Claims (20)

기판을 처리하는 장치에 있어서,
기판을 지지하는 지지 유닛과;
상기 지지 유닛에 지지된 상기 기판을 가열하며 복수 개의 발열체를 포함하는 발열 부재와;
상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 분사하는 처리액 공급 부재; 그리고,
상기 발열 부재의 고장 여부를 판단하는 발열 부재 검사 유닛을 포함하고,
상기 발열 부재 검사 유닛은,
상기 발열 부재의 이미지를 촬영하여 저장하는 촬영부와;
상기 촬영부로부터 전송받은 상기 이미지를 기반으로 상기 발열체의 휘도를 요구 휘도와 비교하여 상기 발열체의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 판단하는 판단부를 포함하는 기판 처리 장치.An apparatus for processing a substrate, comprising:
a support unit for supporting the substrate;
a heating member that heats the substrate supported by the support unit and includes a plurality of heating elements;
a processing liquid supply member configured to spray the processing liquid to the substrate supported by the support unit; And,
and a heating member inspection unit for determining whether the heating member has failed,
The heat generating member inspection unit,
a photographing unit for photographing and storing an image of the heating member;
and a determination unit configured to determine whether the heating element is in a normal state or a defective state by comparing the luminance of the heating element with a requested luminance based on the image received from the photographing unit. 제1항에 있어서,
상기 판단부는,
상기 발열체 각각의 점등 여부 그리고 휘도를 순차적으로 판단하는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The judging unit,
A substrate processing apparatus for sequentially determining whether each of the heating elements is lit and luminance. 제1항에 있어서,
상기 판단부는,
상기 발열체 각각의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 개별적으로 판단하여 상기 불량 상태인 상기 발열체의 위치를 검출하는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The judging unit,
A substrate processing apparatus for detecting a position of the heating element in a defective state by individually determining whether each of the heating elements is in a normal state or in a defective state. 제3항에 있어서,
상기 장치를 제어하는 제어기를 더 포함하고,
상기 판단부는,
상기 불량 상태인 상기 발열체의 주변 영역에 위치하는 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는지 여부인 보상 여부를 판단하여,
상기 보상 여부를 상기 제어기에 전송하는 기판 처리 장치.4. The method of claim 3,
Further comprising a controller for controlling the device,
The judging unit,
By determining whether to compensate whether the peripheral heating element located in the peripheral region of the heating element in the defective state can compensate for the luminance of the heating element in the defective state,
The substrate processing apparatus transmits whether the compensation is made to the controller. 제4항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는 경우 상기 주변 발열체의 휘도를 상향 조절하는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
The controller is
A substrate processing apparatus for upwardly adjusting the luminance of the peripheral heating element when the peripheral heating element can compensate for the luminance of the heating element in a defective state. 제4항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 상기 장치의 인터락을 발생시키는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
The controller is
A substrate processing apparatus for generating an interlock of the device when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the defective heating element. 제4항에 있어서,
상기 발열 부재 검사 유닛은,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 알람을 발생시키는 알람 장치를 더 포함하는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
The heat generating member inspection unit,
and an alarm device configured to generate an alarm when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the defective heating element. 제1항에 있어서,
상기 발열체는 램프로 제공되는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The heating element is a substrate processing apparatus provided as a lamp. 제1항에 있어서,
상기 지지 유닛과 함께 회전되도록 상기 지지 유닛에 설치되는 윈도우를 더 포함하는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The substrate processing apparatus further comprising a window installed in the support unit to rotate together with the support unit. 제1항에 있어서,
상기 처리액 공급 부재는,
상기 기판의 배면의 식각 처리를 위한 식각액을 상기 기판의 배면으로 공급하도록 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
The processing liquid supply member,
A substrate processing apparatus provided to supply an etchant for etching the rear surface of the substrate to the rear surface of the substrate. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
상기 기판을 가열하며 복수 개의 발열체를 포함하는 발열 부재와;
상기 발열 부재의 고장 여부를 판단하는 발열 부재 검사 유닛를 포함하고,
상기 발열 부재 검사 유닛은,
상기 발열 부재의 이미지를 촬영하여 저장하는 촬영부와;
상기 촬영부로부터 전송받은 상기 이미지를 기반으로 상기 발열체의 휘도를 요구 휘도와 비교하여 상기 발열체의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 판단하는 판단부를 포함하는 기판 처리 장치.An apparatus for processing a substrate, comprising:
a heating member heating the substrate and including a plurality of heating elements;
and a heating member inspection unit for determining whether the heating member has a failure,
The heat generating member inspection unit,
a photographing unit for photographing and storing an image of the heating member;
and a determination unit configured to compare the luminance of the heating element with a requested luminance based on the image received from the photographing unit to determine whether the heating element is in a normal state or in a defective state. 제11항에 있어서,
상기 판단부는,
상기 발열체 각각의 점등 여부 그리고 휘도를 순차적으로 판단하는 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
The judging unit,
A substrate processing apparatus for sequentially determining whether each of the heating elements is lit and luminance. 제11항에 있어서,
상기 판단부는,
상기 발열체 각각의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 개별적으로 판단하여 상기 불량 상태인 상기 발열체의 위치를 검출하는 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
The judging unit,
A substrate processing apparatus for detecting a position of the heating element in a defective state by individually determining whether each of the heating elements is in a normal state or in a defective state. 제3항에 있어서,
상기 장치를 제어하는 제어기를 더 포함하고,
상기 판단부는,
상기 불량 상태인 상기 발열체의 주변 영역에 위치하는 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는지 여부인 보상 여부를 판단하여,
상기 보상 여부를 상기 제어기에 전송하는 기판 처리 장치.4. The method of claim 3,
Further comprising a controller for controlling the device,
The judging unit,
By determining whether to compensate whether the peripheral heating element located in the peripheral region of the heating element in the defective state can compensate for the luminance of the heating element in the defective state,
The substrate processing apparatus transmits whether the compensation is made to the controller. 제14항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는 경우 상기 주변 발열체의 휘도를 상향 조절하는 기판 처리 장치.15. The method of claim 14,
The controller is
A substrate processing apparatus for upwardly adjusting the luminance of the peripheral heating element when the peripheral heating element can compensate for the luminance of the heating element in a defective state. 제14항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 상기 장치의 인터락을 발생시키는 기판 처리 장치.15. The method of claim 14,
The controller is
A substrate processing apparatus for generating an interlock of the device when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the defective heating element. 제14항에 있어서,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 알람을 발생시키는 알람 장치를 더 포함하는 기판 처리 장치. 15. The method of claim 14,
and an alarm device configured to generate an alarm when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the defective heating element. 복수 개의 발열체를 포함하는 발열 부재를 제어하는 방법에 있어서,
상기 발열 부재의 이미지를 촬영하여 상기 이미지를 기반으로 상기 발열체의 휘도를 요구 휘도와 비교하여 상기 발열체 각각의 정상 상태 여부 또는 불량 상태 여부를 판단하고,
상기 불량 상태인 상기 발열체의 위치를 검출하여 상기 불량 상태인 상기 발열체의 주변 영역에 위치하는 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는지 여부를 판단하는 발열 부재 제어 방법.In the method of controlling a heating member including a plurality of heating elements,
By taking an image of the heating member and comparing the luminance of the heating element with the required luminance based on the image, it is determined whether each of the heating elements is in a normal state or in a bad state,
A heating member control method for detecting the position of the heating element in the defective state to determine whether the peripheral heating element located in the peripheral region of the heating element in the defective state can compensate for the luminance of the heating element in the defective state. 제18항에 있어서,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 있는 경우 상기 주변 발열체의 휘도를 상향 조절하는 발열 부재 제어 방법.19. The method of claim 18,
A heating member control method for upwardly adjusting the luminance of the peripheral heating element when the peripheral heating element can compensate for the luminance of the heating element in the defective state. 제18항에 있어서,
상기 주변 발열체가 상기 불량 상태인 발열체의 휘도를 보상할 수 없는 경우 상기 발열 부재의 인터락을 발생시키는 발열 부재 제어 방법.
19. The method of claim 18,
A heating member control method for generating an interlock of the heating member when the peripheral heating element cannot compensate for the luminance of the heating element in a defective state.
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