KR20210110008A - 반도체 패키지 - Google Patents

반도체 패키지 Download PDF

Info

Publication number
KR20210110008A
KR20210110008A KR1020200025383A KR20200025383A KR20210110008A KR 20210110008 A KR20210110008 A KR 20210110008A KR 1020200025383 A KR1020200025383 A KR 1020200025383A KR 20200025383 A KR20200025383 A KR 20200025383A KR 20210110008 A KR20210110008 A KR 20210110008A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
upper substrate
semiconductor chip
pads
conductive pillars
Prior art date
Application number
KR1020200025383A
Other languages
English (en)
Inventor
최윤석
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020200025383A priority Critical patent/KR20210110008A/ko
Priority to US17/021,112 priority patent/US11515290B2/en
Priority to CN202011589873.2A priority patent/CN113327915A/zh
Publication of KR20210110008A publication Critical patent/KR20210110008A/ko
Priority to US17/983,018 priority patent/US20230055812A1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0652Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next and on each other, i.e. mixed assemblies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3135Double encapsulation or coating and encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367Cooling facilitated by shape of device
    • H01L23/3672Foil-like cooling fins or heat sinks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3736Metallic materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/473Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/481Internal lead connections, e.g. via connections, feedthrough structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/525Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body with adaptable interconnections
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5383Multilayer substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5384Conductive vias through the substrate with or without pins, e.g. buried coaxial conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5385Assembly of a plurality of insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5389Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates the chips being integrally enclosed by the interconnect and support structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L24/80 - H01L24/90
    • H01L24/92Specific sequence of method steps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/105Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/50Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/0401Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/0557Disposition the external layer being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/061Disposition
    • H01L2224/0618Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • H01L2224/06181On opposite sides of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/17Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
    • H01L2224/171Disposition
    • H01L2224/1718Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • H01L2224/17181On opposite sides of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/2919Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29199Material of the matrix
    • H01L2224/2929Material of the matrix with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298Fillers
    • H01L2224/29299Base material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73259Bump and HDI connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9212Sequential connecting processes
    • H01L2224/92122Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
    • H01L2224/92125Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector the second connecting process involving a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06517Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06541Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06572Auxiliary carrier between devices, the carrier having an electrical connection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06582Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
    • H01L2225/06586Housing with external bump or bump-like connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06589Thermal management, e.g. cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1017All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
    • H01L2225/1023All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being an insulating substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1041Special adaptations for top connections of the lowermost container, e.g. redistribution layer, integral interposer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1047Details of electrical connections between containers
    • H01L2225/1058Bump or bump-like electrical connections, e.g. balls, pillars, posts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367Cooling facilitated by shape of device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/17Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/162Disposition
    • H01L2924/16251Connecting to an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. cap-to-substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

반도체 패키지는 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 갖는 상부 기판, 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 배치되는 하부 반도체 칩, 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 상기 하부 반도체 칩의 적어도 일 측에 배치되는 복수의 도전 필라들, 및 상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 배치되는 상부 반도체 칩을 포함한다. 상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 상부 기판의 상기 제1 면에 연결되고, 상기 상부 반도체 칩은 상기 상부 기판의 상기 제2 면에 연결된다.

Description

반도체 패키지{Semiconductor package}
본 발명은 반도체 패키지에 대한 것으로, 보다 상세하게는 복수의 반도체 칩들이 실장된 반도체 패키지에 대한 것이다.
반도체 패키지는 집적회로 칩을 전자제품에 사용하기 적합한 형태로 구현한 것이다. 통상적으로 반도체 패키지는 인쇄회로기판(PCB) 상에 반도체 칩을 실장하고 본딩 와이어 또는 범프를 이용하여 이들을 전기적으로 연결하는 것이 일반적이다. 전자 산업의 발달에 따라 전자 기기의 소형화, 경량화, 및 다기능화가 요구되고 있고, 이에 따라, 하나의 반도체 패키지 안에 복수의 칩들이 적층된 멀티 칩 패키지(Multi-Chip Package), 또는 하나의 반도체 패키지 안에 이종 칩들이 실장되어 하나의 시스템으로 동작하는 시스템 인 패키지(System-In Package) 등이 제시되고 있다.
본 발명이 이루고자 하는 일 기술적 과제는 복수의 반도체 칩들의 실장이 용이한 반도체 패키지를 제공하는데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 고집적화가 용이한 반도체 패키지를 제공하는데 있다.
본 발명에 따른 반도체 패키지는 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 갖는 상부 기판; 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 배치되는 하부 반도체 칩; 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 상기 하부 반도체 칩의 적어도 일 측에 배치되는 복수의 도전 필라들; 및 상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 배치되는 상부 반도체 칩을 포함할 수 있다. 상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 상부 기판의 상기 제1 면에 연결될 수 있고, 상기 상부 반도체 칩은 상기 상부 기판의 상기 제2 면에 연결될 수 있다.
본 발명에 따른 반도체 패키지는 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 갖는 상부 기판; 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 수평적으로 서로 이격되도록 배치되는 복수의 하부 반도체 칩들; 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 상기 복수의 하부 반도체 칩들로부터 수평적으로 이격되는 복수의 도전 필라들; 및 상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 수평적으로 서로 이격되도록 배치되는 복수의 상부 반도체 칩들을 포함할 수 있다. 상기 상부 기판은 상기 제1 면에 인접하는 제1 상부 기판 패드들, 및 상기 제2 면에 인접하는 제2 상부 기판 패드들을 포함할 수 있다. 상기 복수의 하부 반도체 칩들의 각각의 하부 칩 패드들, 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 제1 상부 기판 패드들 중 대응하는 제1 상부 기판 패드들에 연결될 수 있다. 상기 복수의 상부 반도체 칩들의 각각의 상부 칩 패드들은 상기 제2 상부 기판 패드들 중 대응하는 제2 상부 기판 패드들에 연결될 수 있다.
본 발명에 따른 반도체 패키지는 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 갖는 상부 기판; 상기 상부 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 배치되는 하부 반도체 칩; 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 상기 하부 반도체 칩의 적어도 일 측에 배치되는 중간 기판; 및 상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 배치되는 상부 반도체 칩을 포함할 수 있다. 상기 하부 반도체 칩 및 상기 중간 기판은 상기 상부 기판의 상기 제1 면에 연결될 수 있고, 상기 상부 반도체 칩은 상기 상부 기판의 상기 제2 면에 연결될 수 있다. 상기 중간 기판은 그 내부를 관통하는 중간 관통 전극들을 포함하는 반도체 칩, 인쇄회로 기판, 인터포저 기판, 또는 재배선 기판일 수 있다.
본 발명의 개념에 따르면, 수직 및 수평적으로 적층된 복수의 반도체 칩들이 상부 기판을 통해 서로 용이하게 연결될 수 있고, 복수의 도전 필라들 또는 중간 기판을 통해 하부 구조체에 용이하게 연결될 수 있다. 따라서, 상기 복수의 반도체 칩들이 상기 하부 구조체 상에 용이하게 실장될 수 있고, 이에 따라, 반도체 패키지의 고집적화가 용이할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지의 평면도이다.
도 2는 도 1의 I-I'에 따른 단면도이다.
도 3 내지 도 7, 도 12, 도 14, 및 도 16 내지 도 20은 각각 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다.
도 8 내지 도 11, 도 13, 및 도 15는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지의 제조방법을 나타내는 도면들로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도들이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명함으로써 본 발명을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지의 평면도이다. 도 2는 도 1의 I-I'에 따른 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 반도체 패키지(1000)는 하부 기판(100), 상기 하부 기판(100) 상의 상부 기판(300), 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치되는 하부 반도체 칩(200), 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일 측에 배치되는 복수의 도전 필라들(280), 및 상기 상부 기판(300) 상에 배치되는 상부 반도체 칩(400)을 포함할 수 있다.
상기 상부 기판(300)은 서로 대향하는 제1 면(300S1) 및 제2 면(300S2)을 가질 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)이 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)과 마주하도록 상기 하부 기판(100) 상에 배치될 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)에 인접하는 제1 상부 기판 패드들(314), 및 상기 제2 면(300S2)에 인접하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 상부 기판 패드들(314, 324)은 도전 물질을 포함할 수 있다.
일부 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 실리콘 인터포저 기판일 수 있다. 이 경우, 상기 상부 기판(300)은 관통 비아층(310), 및 상기 관통 비아층(310) 상의 금속 배선층(320)을 포함할 수 있다. 상기 금속 배선층(320)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)에 인접하게 배치될 수 있고, 상기 관통 비아층(310)은 상기 금속 배선층(320)을 사이에 두고 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)으로부터 이격될 수 있다. 상기 금속 배선층(320)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)에 인접하게 배치되는 금속 배선들(322)을 포함할 수 있다. 상기 금속 배선들(322)은 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 연결될 수 있다. 상기 관통 비아층(310)은 상기 금속 배선들(322)에 연결되는 관통 비아들(312)을 포함할 수 있다. 상기 관통 비아들(312)은 상기 금속 배선들(322)로부터 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)으로 연장(일 예로, 수직적으로 연장)될 수 있다. 상기 관통 비아들(312)은 상기 제1 상부 기판 패드들(314)에 연결될 수 있다. 상기 관통 비아들(312)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 제1 상부 기판 패드들(314)은 상기 관통 비아들(312) 및 상기 금속 배선들(322)을 통해 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 상부 기판 패드들(314) 및 상기 제2 상부 기판 패드들(324)은 상기 제1 면(300S1)에 평행한 제1 방향(D1)에 따른 폭(또는, 피치(pitch))를 가질 수 있다. 상기 제1 상부 기판 패드들(314) 및 상기 제2 상부 기판 패드들(324)의 폭(또는, 피치)는 일 예로, 약 1μm보다 크고 약 30μm보다 작을 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)에 수직한 제2 방향(D2)에 따른 두께를 가질 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 일 예로, 약 30μm 내지 150μm의 두께를 가질 수 있다.
상기 하부 반도체 칩(200)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 배치될 수 있고, 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)에 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 복수의 하부 반도체 칩(200)들이 상기 상부 기판(300)과 상기 하부 기판(100) 사이에 배치될 수 있다. 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 배치될 수 있고, 상기 제1 면(300S1)에 평행한 상기 제1 방향(D1)을 따라 수평적으로 서로 이격될 수 있다. 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200)의 각각은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)에 연결될 수 있다. 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200)은, 일 예로, 동종 반도체 칩들일 수 있다. 즉, 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200)은 메모리 칩들, 로직 칩들, 어플리케이션 프로세서(AP) 칩들, 또는 시스템 온 칩들(SOC)일 수 있다. 다른 예로, 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200)은 이종 반도체 칩들을 포함할 수 있다. 즉, 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200)은, 메모리 칩, 로직 칩, 어플리케이션 프로세서(AP) 칩, 및 시스템 온 칩(SOC) 중, 서로 다른 반도체 칩들을 포함할 수 있다.
상기 하부 반도체 칩(200)의 일 면(200S)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)과 마주할 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200)은 일 예로, 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 일 면(200S)에 인접하는 하부 회로층(210)을 포함할 수 있다. 상기 하부 회로층(210)은 집적회로들을 포함할 수 있다. 다른 예로, 도시된 바와 달리, 상기 하부 회로층(210)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 타면(200SO)에 인접하게 배치될 수도 있다.
상기 하부 반도체 칩(200)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 일 면(200S)에 인접하는 하부 칩 패드들(220)을 포함할 수 있다. 상기 하부 칩 패드들(220)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 하부 칩 패드들(220)은 상기 제1 상부 기판 패드들(314) 중 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)에 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 하부 범프들(240)이 상기 하부 칩 패드들(220)과 상기 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314) 사이에 개재될 수 있다. 상기 하부 칩 패드들(220)의 각각은 상기 하부 범프들(240) 중 대응하는 하나를 통해 상기 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)의 각각에 연결될 수 있다. 상기 하부 범프들(240)은 도전 물질을 포함할 수 있고, 솔더볼, 범프, 및 필라 중 적어도 하나의 형태를 가질 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 하부 언더필막(245)이 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 일 면(200S)과 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 사이에 배치될 수 있고, 상기 하부 범프들(240)을 덮을 수 있다. 상기 하부 언더필막(245)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 일 면(200S) 상에 국소적으로 배치될 수 있고, 상기 하부 범프들(240) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 하부 언더필막(245)은 에폭시 수지와 같은 절연성 고분자 물질을 포함할 수 있다.
상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 타면(200SO)은 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)과 마주할 수 있다. 도전 패드들(230)이 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 타면(200SO) 상에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200) 중 적어도 하나는 그 내부를 관통하는 하부 관통 전극들(250)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 하부 관통 전극들(250)은 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200) 중 적어도 하나 내에 배치될 수 있다. 상기 하부 관통 전극들(250)의 각각은 상기 하부 칩 패드들(220) 중 대응하는 하부 칩 패드(220), 및 상기 도전 패드들(230) 중 대응하는 도전 패드(230)에 연결될 수 있다. 상기 하부 관통 전극들(250)은 도전 물질을 포함할 수 있다.
상기 복수의 도전 필라들(280)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에서 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일 측에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 도전 필라들(280)은 상기 복수의 하부 반도체 칩(200)들 사이에 배치될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에서 상기 제1 방향(D1)을 따라 수평적으로 서로 이격될 수 있고, 상기 도전 필라들(280)의 각각은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)에 연결될 수 있다. 일 예로, 상기 도전 필라들(280)은 상기 제1 상부 기판 패드들(314) 중 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)에 각각 연결될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 금속(일 예로, 구리)을 포함할 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 상기 제2 방향(D2)에 따른 길이를 가질 수 있고, 상기 도전 필라들(280)의 길이는 일 예로, 약 20μm 내지 약 30μm일 수 있다.
상기 하부 반도체 칩(200)은 상기 하부 칩 패드들(220), 대응하는 하부 범프들(240), 및 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 하부 반도체 칩(200)에 연결된 상기 제1 상부 기판 패드들(314)의 폭(또는 피치(pitch))는 상기 도전 필라들(280)에 연결된 상기 제1 상부 기판 패드들(314)의 폭(또는 피치(pitch))와 다를 수 있다. 일 예로, 상기 도전 필라들(280)에 연결된 상기 제1 상부 기판 패드들(314)의 폭(또는 피치(pitch))는 상기 하부 반도체 칩(200)에 연결된 상기 제1 상부 기판 패드들(314)의 폭(또는 피치(pitch))보다 클 수 있다.
상기 하부 기판(100)은 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)에 인접하는 제1 하부 기판 패드들(110), 및 상기 하부 기판(100)의 하면(100L)에 인접하는 제2 하부 기판 패드들(120)을 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 하부 기판 패드들(110, 120)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 하부 기판(100)은 인쇄회로기판(PCB)일 수 있다. 외부 단자들(130)이 상기 기판(100)의 하면(100L) 상에 배치될 수 있고, 상기 제2 하부 기판 패드들(120)에 각각 연결될 수 있다. 상기 제1 하부 기판 패드들(110)은 상기 하부 기판(100) 내 내부 배선들(미도시)을 통해 상기 제2 하부 기판 패드들(120)에 전기적으로 연결될 수 있다. 본 명세서에서, 상기 하부 기판(100)은 하부 구조체로 지칭될 수도 있다.
상기 도전 패드들(230) 및 상기 도전 필라들(280)은 상기 제1 하부 기판 패드들(110)에 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 연결 범프들(260)이 상기 도전 패드들(230)과 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110) 사이, 및 상기 도전 필라들(280)과 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110) 사이에 개재될 수 있다. 상기 도전 패드들(230) 및 상기 도전 필라들(280)의 각각은 대응하는 연결 범프(260)를 통해 대응하는 제1 하부 기판 패드(110)에 연결될 수 있다. 상기 연결 범프들(260)은 도전 물질을 포함할 수 있고, 솔더볼, 범프, 및 필라 중 적어도 하나의 형태를 가질 수 있다.
상기 하부 반도체 칩(200)은 대응하는 도전 패드들(230), 대응하는 연결 범프들(260), 및 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200) 중 적어도 하나는 상기 하부 관통 전극들(250)을 포함할 수 있고, 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200) 중 상기 적어도 하나는 상기 하부 관통 전극들(250), 대응하는 도전 패드들(230), 대응하는 연결 범프들(260), 및 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 대응하는 연결 범프들(260) 및 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다.
하부 몰드막(290)이 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및 상기 도전 필라들(280) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 하부 몰드막(290)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 타면(200SO) 상으로 연장되어 상기 도전 패드들(230)의 측면들을 덮을 수 있다. 상기 하부 몰드막(290)은 절연 물질(일 예로, 에폭시계 몰딩 컴파운드)를 포함할 수 있다.
언더필막(150)이 상기 하부 기판(100)과 상기 하부 몰드막(290) 사이에 개재될 수 있고, 상기 연결 범프들(260) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 언더필막(150)은 에폭시 수지와 같은 절연성 고분자 물질을 포함할 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 배치될 수 있고, 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)에 연결될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일부 및/또는 상기 도전 필라들(280)의 적어도 일부와 수직적으로 중첩할 수 있다.
일부 실시예들에 따르면, 복수의 상부 반도체 칩들(400)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 배치될 수 있고, 상기 제1 방향(D1)을 따라 수평적으로 서로 이격될 수 있다. 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)의 각각은 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)에 연결될 수 있다. 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은, 일 예로, 동종 반도체 칩들일 수 있다. 즉, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은 메모리 칩들, 로직 칩들, 어플리케이션 프로세서(AP) 칩들, 또는 시스템 온 칩들(SOC)일 수 있다. 다른 예로, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은 이종 반도체 칩들을 포함할 수 있다. 즉, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은, 메모리 칩, 로직 칩, 어플리케이션 프로세서(AP) 칩, 및 시스템 온 칩(SOC) 중, 서로 다른 반도체 칩들을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400) 중 적어도 하나는 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)에 수직한 상기 제2 방향(D2)으로 적층된 복수의 메모리 칩들을 포함하는 고대역 메모리(HBM, High Bandwidth Memory) 칩일 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)의 일 면(400S)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)과 마주할 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 일 면(400S)에 인접하는 상부 회로층(410)을 포함할 수 있다. 상기 상부 회로층(410)은 집적회로들을 포함할 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 일 면(400S)에 인접하는 상부 칩 패드들(420)을 포함할 수 있다. 상기 상부 칩 패드들(420)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 상부 칩 패드들(420)은 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상부 범프들(440)이 상기 상부 칩 패드들(420)과 상기 제2 상부 기판 패드들(324) 사이에 개재될 수 있다. 상기 상부 칩 패드들(420)의 각각은 상기 상부 범프들(440) 중 대응하는 하나를 통해 상기 제2 상부 기판 패드들(324)의 각각에 연결될 수 있다. 상기 상부 범프들(440)은 도전 물질을 포함할 수 있고, 솔더볼, 범프, 및 필라 중 적어도 하나의 형태를 가질 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상부 언더필막(445)이 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 일 면(400S)과 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 사이에 배치될 수 있고, 상기 상부 범프들(440)을 덮을 수 있다. 상기 상부 언더필막(445)은 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 일 면(400S) 상에 국소적으로 배치될 수 있고, 상기 상부 범프들(440) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 상부 언더필막(445)은 에폭시 수지와 같은 절연성 고분자 물질을 포함할 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420), 대응하는 상부 범프들(440), 및 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 기판(300) 내 상기 금속 배선들(322)에 연결될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 기판(300) 내 상기 금속 배선들(322) 및 상기 관통 비아들(312)을 통해 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 대응하는 도전 필라들(280)에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 상기 대응하는 도전 필라들(280)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은 상기 금속 배선들(322)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
본 발명의 개념에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일부 및/또는 상기 복수의 도전 필라들(280) 중 적어도 일부와 수직적으로 중첩될 수 있고, 상기 상부 기판(300)을 통해 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 대응하는 도전 필라들(280)에 연결될 수 있다. 더하여, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은 상기 상부 기판(300) 상에 수평적으로 적층될 수 있고, 상기 상부 기판(300)을 통해 서로 연결될 수 있다. 즉, 수직 및 수평적으로 적층된 복수의 반도체 칩들(200, 400)이 상기 상부 기판(300)을 통해 서로 용이하게 연결될 수 있고, 상기 복수의 도전 필라들(280)을 통해 상기 하부 기판(100)에 용이하게 연결될 수 있다. 따라서, 상기 복수의 반도체 칩들(200, 400)이 상기 하부 기판(100) 상에 용이하게 실장될 수 있고, 이에 따라, 상기 반도체 패키지(1000)의 고집적화가 용이할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1100)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 3을 참조하면, 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)에 인접하는 상기 제1 상부 기판 패드들(314), 및 상기 제2 면(300S2)에 인접하는 상기 제2 상부 기판 패드들(324)을 포함할 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 인쇄회로기판(PCB)일 수 있다. 상기 제1 상부 기판 패드들(314)은 상기 상부 기판(300) 내 내부 배선들(미도시)을 통해 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420), 상기 대응하는 상부 범프들(440), 및 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324) 및 이에 연결된 제1 상부 기판 패드들(314)을 통해 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 상기 대응하는 도전 필라들(280)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
도 4는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1200)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 4를 참조하면, 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)에 인접하는 상기 제1 상부 기판 패드들(314), 및 상기 제2 면(300S2)에 인접하는 상기 제2 상부 기판 패드들(324)을 포함할 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 재배선 기판일 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 재배선 패턴들(342, 344)을 포함할 수 있고, 상기 재배선 패턴들(342, 344)은 재배선 라인들(342), 및 상기 재배선 라인들(342) 사이에 개재되는 재배선 콘택들(344)을 포함할 수 있다. 상기 재배선 패턴들(342, 344)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 제1 상부 기판 패드들(314)은 상기 재배선 패턴들(342, 344)을 통해 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420), 상기 대응하는 상부 범프들(440), 및 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은, 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)에 연결된, 재배선 패턴들(342, 344) 및 제1 상부 기판 패드들(314)을 통해 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 상기 대응하는 도전 필라들(280)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324) 및 이에 연결된 재배선 패턴들(342, 344)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
도 5는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1300)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 5를 참조하면, 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)에 인접하는 상기 제1 상부 기판 패드들(314), 및 상기 제2 면(300S2)에 인접하는 상기 제2 상부 기판 패드들(324)을 포함할 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 반도체 칩일 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 그 내부를 관통하는 상부 관통 전극들(352)을 포함할 수 있고, 상기 상부 관통 전극들(352)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 제1 상부 기판 패드들(314)은 상기 상부 관통 전극들(352)을 통해 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420), 상기 대응하는 상부 범프들(440), 및 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은, 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)에 연결된, 상부 관통 전극들(352) 및 제1 상부 기판 패드들(314)을 통해 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 대응하는 도전 필라들(280)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 상부 반도체 칩들(400)은 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324) 및 이에 연결된 상부 관통 전극들(352)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수도 있다.
도 6은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1400)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 6을 참조하면, 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)에 인접하는 상기 제1 상부 기판 패드들(314), 및 상기 제2 면(300S2)에 인접하는 상기 제2 상부 기판 패드들(324)을 포함할 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)에 인접하게 배치되는 상부 재배선층(360)을 포함할 수 있다. 상기 상부 재배선층(360)은 상부 재배선 라인들(362), 및 이에 연결된 상부 재배선 콘택들(364)을 포함할 수 있다. 상기 상부 재배선 라인들(362) 및 상기 상부 재배선 콘택들(364)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 상부 재배선 라인들(362) 및 상기 상부 재배선 콘택들(364)은 상기 제1 상부 기판 패드들(314)에 연결될 수 있다.
일부 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 도 2를 참조하여 설명한 실리콘 인터포저 기판일 수 있고, 상기 관통 비아층(310) 및 상기 금속 배선층(320)을 더 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 관통 비아층(310)은 상기 금속 배선층(320)과 상기 상부 재배선층(360) 사이에 개재될 수 있다. 상기 상부 재배선 라인들(362) 및 상기 상부 재배선 콘택들(364)은 상기 관통 비아층(310) 내 상기 관통 비아들(312)에 연결될 수 있다. 상기 제1 상부 기판 패드들(314)은 상기 상부 재배선 라인들(362), 상기 상부 재배선 콘택들(364), 상기 관통 비아들(312), 및 상기 금속 배선들(322)을 통해 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 연결될 수 있다.
다른 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 도 3을 참조하여 설명한 인쇄회로 기판, 또는 도 5를 참조하여 설명한 반도체 칩일 수 있다. 이 경우, 도시된 바와 달리, 상기 제1 상부 기판 패드들(314)은 상기 상부 재배선 라인들(362), 상기 상부 재배선 콘택들(364), 및 상기 상부 기판(300) 내 내부 배선(일 예로, 도 3의 내부 배선들(미도시), 또는 도 5의 상부 관통 전극들(352))을 통해 상기 제2 상부 기판 패드들(324)에 연결될 수도 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420), 상기 대응하는 상부 범프들(440), 및 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 기판(300) 내 내부 배선(일 예로, 도 2의 상기 금속 배선들(322) 및 상기 관통 비아들(312), 도 3의 내부 배선들(미도시), 또는 도 5의 상부 관통 전극들(352)), 상기 상부 재배선 라인들(362) 및 상기 상부 재배선 콘택들(364)을 통해 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 상기 대응하는 도전 필라들(280)에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 상기 대응하는 도전 필라들(280)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200)은 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314), 및 이에 연결된 상기 상부 재배선 라인들(362) 및 상기 상부 재배선 콘택들(364)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수도 있다.
도 7은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1500)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 7을 참조하면, 반도체 패키지(1500)는 상기 하부 기판(100)과 상기 하부 반도체 칩(200) 사이, 및 상기 하부 기판(100)과 상기 복수의 도전 필라들(280) 사이에 배치되는 하부 재배선층(370)을 더 포함할 수 있다. 상기 하부 재배선층(370)은 하부 재배선 라인들(372) 및 이에 연결된 하부 재배선 콘택들(374)을 포함할 수 있다. 상기 하부 재배선 라인들(372) 및 상기 하부 재배선 콘택들(374)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 하부 재배선층(370)의 일면(370S)은 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)과 마주할 수 있다. 상기 하부 재배선층(370)은 상기 하부 재배선층(370)의 상기 일면(370S)에 인접하는 재배선 패드들(376)을 더 포함할 수 있다. 상기 하부 재배선 라인들(372) 및 상기 하부 재배선 콘택들(374)은 상기 재배선 패드들(376)에 연결될 수 있다.
상기 하부 반도체 칩(200) 및 상기 도전 필라들(280)은 상기 하부 재배선층(370)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다. 일 예로, 상기 도전 패드들(230) 및 상기 도전 필라들(280)은 상기 하부 재배선층(370) 내 상기 하부 재배선 라인들(372) 및 상기 하부 재배선 콘택들(374)에 연결될 수 있고, 상기 재배선 패드들(376)이 상기 하부 기판(100)의 상기 제1 하부 기판 패드들(110)에 연결될 수 있다. 상기 연결 범프들(260)은 상기 재배선 패드들(376)과 상기 제1 하부 기판 패드들(110) 사이에 개재될 수 있고, 상기 재배선 패드들(376)의 각각은 대응하는 연결 범프(260)를 통해 대응하는 제1 하부 기판 패드(110)에 연결될 수 있다. 상기 언더필막(150)은 상기 하부 기판(100)과 상기 하부 재배선층(370) 사이에 개재될 수 있고, 상기 연결 범프들(260) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 하부 몰드막(290)은 상기 하부 재배선층(370)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및 상기 도전 필라들(280) 사이의 공간을 채울 수 있다.
도 8 내지 도 11은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지의 제조방법을 나타내는 도면들로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도들이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 내지 도 7을 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000, 1100, 1200, 1300, 1400, 1500)과 중복되는 설명은 생략된다.
도 1 및 도 8을 참조하면, 상부 기판(300)이 제1 캐리어 기판(CA1) 상에 제공될 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 서로 대향하는 제1 면(300S1) 및 제2 면(300S2)을 가질 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 상기 제2 면(300S2)이 상기 제1 캐리어 기판(CA1)과 마주하도록 상기 제1 캐리어 기판(CA1) 상에 제공될 수 있다. 상기 상부 기판(300)은 상기 제1 면(300S1)에 인접하는 제1 상부 기판 패드들(314), 및 상기 제2 면(300S2)에 인접하는 제2 상부 기판 패드들(324)을 포함할 수 있다. 이하에서, 설명의 간소화를 위해, 상기 상부 기판(300)이 도 2의 실리콘 인터포저 기판인 경우가 예시로 설명되나, 본 발명의 개념은 이에 한정되지 않는다. 상기 상부 기판(300)은 도 3의 인쇄회로 기판, 도 4의 재배선 기판, 또는 도 5의 반도체 칩일 수도 있다.
상기 상부 기판(300)은 관통 비아층(310) 및 금속 배선층(320)을 포함할 수 있다. 상기 금속 배선층(320)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2)에 인접하게 배치되는 금속 배선들(322)을 포함할 수 있고, 상기 관통 비아층(310)은 상기 금속 배선들(322)에 연결되는 관통 비아들(312)을 포함할 수 있다. 상기 관통 비아들(312)은 상기 금속 배선들(322)로부터 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)으로 연장(일 예로, 수직적으로 연장)될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 상부 기판(300)은 도 6을 참조하여 설명한 바와 같이, 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)에 인접하게 배치되는 상부 재배선층(360)을 더 포함할 수도 있다.
복수의 도전 필라들(280)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 형성될 수 있다. 칩 실장 영역(200R)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 미리 정의될 수 있고, 상기 도전 필라들(280)은 상기 칩 실장 영역(200R)을 제외한, 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 형성될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 상기 제1 상부 기판 패드들(314) 중 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)에 각각 연결될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 일 예로, 전기 도금 공정을 이용하여 형성될 수 있다. 일 예로, 상기 도전 필라들(280)을 형성하는 것은, 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 상기 도전 필라들(280)이 형성될 영역을 노출하는 개구부들을 갖는 포토 레지스트 패턴을 형성하는 것, 상기 포토 레지스트 패턴 상에 시드층을 형성하는 것, 및 상기 시드층 상에 상기 전기 도금 공정을 수행함으로써 상기 도전 필라들(280)을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기 도전 필라들(280)이 형성된 후, 상기 포토 레지스트 패턴은 제거될 수 있다.
도 1 및 도 9를 참조하면, 하부 범프들(240)이 상기 칩 실장 영역(200R) 내 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 형성될 수 있다. 상기 하부 범프들(240)은 상기 제1 상부 기판 패드들(314) 중 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314) 상에 각각 형성될 수 있고, 상기 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)에 각각 연결될 수 있다.
하부 반도체 칩(200)이 상기 칩 실장 영역(200R) 내에 실장될 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200)은 하부 칩 패드들(220)을 포함할 수 있고, 상기 하부 칩 패드들(220)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 일 면(200S)에 인접하게 배치될 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200)은 상기 하부 칩 패드들(220)이 상기 하부 범프들(240)에 각각 접촉하도록 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 제공될 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200)은, 일 예로, 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 일 면(200S)에 인접하는 하부 회로층(210)을 포함할 수 있다. 다른 예로, 도시된 바와 달리, 상기 하부 회로층(210)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 타면(200SO)에 인접하게 배치될 수도 있다. 도전 패드들(230)이 상기 하부 반도체 칩(200)의 타면(200SO) 상에 형성될 수 있다.
일부 실시예들에 따르면, 복수의 하부 반도체 칩들(200)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 수평적으로 서로 이격되도록 실장될 수 있다. 상기 복수의 하부 반도체 칩들(200) 중 적어도 하나는 그 내부를 관통하는 하부 관통 전극들(250)을 포함할 수 있다. 상기 하부 관통 전극들(250)의 각각은 상기 하부 칩 패드들(220) 중 대응하는 하부 칩 패드(220), 및 상기 도전 패드들(230) 중 대응하는 도전 패드(230)에 연결될 수 있다.
하부 언더필막(245)이 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 일 면(200S)과 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 사이에 형성될 수 있고, 상기 하부 범프들(240) 사이의 공간을 채우도록 형성될 수 있다. 하부 몰드막(290)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 형성될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200), 상기 도전 필라들(280), 및 상기 도전 패드들(230)을 덮을 수 있다.
도 1 및 도 10을 참조하면, 상기 하부 몰드막(290) 상에 그라인딩(grinding) 공정을 수행함으로써, 상기 하부 몰드막(290)의 일부가 제거될 수 있다. 상기 그라인딩 공정에 의해 상기 도전 필라들(280)의 각각의 일 면, 및 상기 도전 패드들(230)의 각각의 일 면이 노출될 수 있다. 연결 범프들(260)이 상기 하부 몰드막(290) 상에 형성될 수 있다. 상기 연결 범프들(260)은 상기 도전 필라들(280) 및 상기 도전 패드들(230) 상에 각각 형성될 수 있고, 상기 도전 필라들(280) 및 상기 도전 패드들(230)에 각각 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 연결 범프들(260)의 형성 전에, 도 7을 참조하여 설명한 하부 재배선층(370)이 상기 하부 몰드막(290) 상에 형성될 수도 있다. 이 경우, 상기 연결 범프들(260)은 상기 하부 재배선층(370) 상에 형성될 수 있고, 상기 하부 재배선층(370)의 재배선 패드들(376)에 연결되도록 형성될 수 있다.
도 1 및 도 11을 참조하면, 상기 제1 캐리어 기판(CA1) 상에 형성된 상술한 적층 구조체가 하부 기판(100) 상에 실장될 수 있다. 상기 하부 기판(100)은 일 예로, 인쇄회로기판(PCB)일 수 있다. 상기 하부 기판(100)은 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)에 인접하는 제1 하부 기판 패드들(110), 및 상기 하부 기판(100)의 하면(100L)에 인접하는 제2 하부 기판 패드들(120)을 포함할 수 있다. 상술한 적층 구조체는 상기 연결 범프들(260)이 상기 제1 하부 기판 패드들(110) 중 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110)과 접촉하도록 상기 하부 기판(100)의 상면(100U) 상에 제공될 수 있다.
언더필막(150)이 상기 하부 기판(100)과 상기 하부 몰드막(290) 사이에 형성될 수 있고, 상기 연결 범프들(260) 사이의 공간을 채우도록 형성될 수 있다. 외부 단자들(130)이 상기 기판(100)의 하면(100L) 상에 배치될 수 있고, 상기 제2 하부 기판 패드들(120)에 각각 연결될 수 있다. 상술한 적층 구조체가 상기 하부 기판(100) 상에 실장된 후, 상기 제1 캐리어 기판(CA1)은 제거될 수 있다.
도 1 및 도 2를 다시 참조하면, 상부 범프들(440)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 형성될 수 있다. 상기 상부 범프들(440)은 상기 제2 상부 기판 패드들(324) 중 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324) 상에 각각 형성될 수 있고, 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)에 각각 연결될 수 있다.
상부 반도체 칩(400)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 실장될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)은 상부 칩 패드들(420)을 포함할 수 있고, 상기 상부 칩 패드들(420)은 상기 상부 반도체 칩(400)의 일 면(400S)에 인접하게 배치될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420)이 상기 상부 범프들(440)에 각각 접촉하도록 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 제공될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)은, 일 예로, 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 일 면(200S)에 인접하는 상부 회로층(410)을 포함할 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일부 및/또는 상기 복수의 도전 필라들(280) 중 적어도 일부와 수직적으로 중첩할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 복수의 상부 반도체 칩들(400)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 수평적으로 서로 이격되도록 실장될 수 있다.
상부 언더필막(445)이 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 일 면(400S)과 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 사이에 형성될 수 있고, 상기 상부 범프들(440) 사이의 공간을 채우도록 형성될 수 있다.
도 12는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1600)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 12를 참조하면, 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 하부 칩 패드들(220)은 상기 상부 기판(300)의 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)에 직접 연결(direct-bonding)될 수 있다. 상기 하부 칩 패드들(220)은 상기 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)과 접촉할 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 상기 하부 범프들(240) 및 상기 하부 언더필막(245)은 생략될 수 있다. 더하여, 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 상부 칩 패드들(420)은 상기 상부 기판(300)의 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)에 직접 연결(direct-bonding)될 수 있다. 상기 상부 칩 패드들(420)은 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)과 접촉할 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 상기 상부 범프들(440) 및 상기 상부 언더필막(445)은 생략될 수 있다.
도 13은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지의 제조방법을 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 8 내지 도 11을 참조하여 설명한 반도체 패키지의 제조방법과 차이점을 주로 설명한다.
먼저, 도 1 및 도 8을 참조하여 설명한 바와 같이, 상기 상부 기판(300)이 상기 제1 캐리어 기판(CA1) 상에 제공될 수 있고, 상기 복수의 도전 필라들(280)이 상기 칩 실장 영역(200R)을 제외한, 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 형성될 수 있다.
도 1 및 도 13을 참조하면, 상기 하부 반도체 칩(200)이 상기 칩 실장 영역(200R) 내에 실장될 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 하부 반도체 칩(200)은 상기 하부 칩 패드들(220)이 상기 상부 기판(300)의 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)과 직접 접촉하도록 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 제공될 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 하부 칩 패드들(220)은 열처리 공정에 의해 상기 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)과 직접 결합(bonding)될 수 있다. 상기 하부 몰드막(290)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 형성될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200), 상기 도전 필라들(280), 및 상기 도전 패드들(230)을 덮을 수 있다. 이후, 도 1 및 도 10을 참조하여 설명한 바와 같이, 상기 하부 몰드막(290) 상에 그라인딩(grinding) 공정을 수행함으로써, 상기 하부 몰드막(290)의 일부가 제거될 수 있다. 상기 그라인딩 공정에 의해 상기 도전 필라들(280)의 각각의 일 면, 및 상기 도전 패드들(230)의 각각의 일 면이 노출될 수 있다. 상기 연결 범프들(260)이 상기 도전 필라들(280) 및 상기 도전 패드들(230) 상에 각각 형성될 수 있다.
도 1 및 도 12를 다시 참조하면, 상기 제1 캐리어 기판(CA1) 상에 형성된 상술한 적층 구조체가 상기 하부 기판(100) 상에 실장될 수 있다. 상술한 적층 구조체가 상기 하부 기판(100) 상에 실장된 후, 상기 제1 캐리어 기판(CA1)은 제거될 수 있다.
상기 상부 반도체 칩(400)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 실장될 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420)이 상기 상부 기판(300)의 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)과 직접 접촉하도록 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 제공될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 상부 칩 패드들(420)은 열처리 공정에 의해 상기 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324)과 직접 결합(bonding)될 수 있다.
도 14는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1700)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 14를 참조하면, 반도체 패키지(1700)는 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 배치되는 상부 몰드막(490)을 더 포함할 수 있다. 상기 상부 몰드막(490)은 상기 상부 반도체 칩(400)을 덮을 수 있다. 상기 상부 몰드막(490)은 절연 물질(일 예로, 에폭시계 몰딩 컴파운드)를 포함할 수 있다.
도 15는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지의 제조방법을 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 8 내지 도 11을 참조하여 설명한 반도체 패키지의 제조방법과 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 15를 참조하면, 도 10의 상기 적층 구조체가 제2 캐리어 기판(CA2) 상에 제공될 수 있다. 상기 적층 구조체가 상기 제2 캐리어 기판(CA2) 상에 제공된 후, 상기 제1 캐리어 기판(CA1)은 제거될 수 있다.
이 후, 상기 상부 범프들(440)이 상기 제2 상부 기판 패드들(324) 중 대응하는 제2 상부 기판 패드들(324) 상에 각각 형성될 수 있고, 상기 상부 반도체 칩(400)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 실장될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 칩 패드들(420)이 상기 상부 범프들(440)에 각각 접촉하도록 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 제공될 수 있다. 상기 상부 언더필막(445)이 상기 상부 반도체 칩(400)의 상기 일 면(400S)과 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 사이에 형성될 수 있고, 상기 상부 범프들(440) 사이의 공간을 채우도록 형성될 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 상부 몰드막(490)이 상기 상부 기판(300)의 상기 제2 면(300S2) 상에 상기 상부 반도체 칩(400)을 덮도록 형성될 수 있다.
도 1 및 도 14를 다시 참조하면, 상기 제2 캐리어 기판(CA2) 상에 형성된 적층 구조체가 상기 하부 기판(100) 상에 실장될 수 있다. 상기 제2 캐리어 기판(CA2)은 제거될 수 있다. 상기 적층 구조체는 상기 연결 범프들(260)이 상기 제1 하부 기판 패드들(110) 중 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110)과 접촉하도록 상기 하부 기판(100)의 상면(100U) 상에 제공될 수 있다. 상기 언더필막(150)이 상기 하부 기판(100)과 상기 하부 몰드막(290) 사이에 형성될 수 있고, 상기 연결 범프들(260) 사이의 공간을 채우도록 형성될 수 있다.
도 16은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1800)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 16을 참조하면, 반도체 패키지(1800)는 상기 하부 기판(100), 상기 하부 기판(100) 상의 상기 상부 기판(300), 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치되는 상기 하부 반도체 칩(200), 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일 측에 배치되는 중간 기판(500), 및 상기 상부 기판(300) 상에 배치되는 상기 상부 반도체 칩(400)을 포함할 수 있다
상기 중간 기판(500)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 배치될 수 있고, 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)에 연결될 수 있다. 상기 중간 기판(500)의 일 면(500S)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)과 마주할 수 있다. 상기 중간 기판(500)은 상기 중간 기판(500)의 일 면(500S)에 인접하는 중간 기판 패드들(520)을 포함할 수 있다. 상기 중간 기판 패드들(520)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 중간 기판 패드들(520)은 상기 제1 상부 기판 패드들(314) 중 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)에 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 하부 범프들(240)이 상기 중간 기판 패드들(520)과 상기 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314) 사이에 개재될 수 있다. 상기 중간 기판 패드들(520)의 각각은 상기 하부 범프들(240) 중 대응하는 하나를 통해 상기 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)의 각각에 연결될 수 있다. 상기 하부 언더필막(245)이 상기 중간 기판(500)의 상기 일 면(500S)과 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 사이에 배치될 수 있고, 상기 하부 범프들(240)을 덮을 수 있다. 상기 하부 언더필막(245)은 상기 중간 기판(500)의 상기 일 면(500S) 상에 국소적으로 배치될 수 있고, 상기 하부 범프들(240) 사이의 공간을 채울 수 있다.
상기 중간 기판(500)의 타면(500SO)은 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)과 마주할 수 있다. 상기 도전 패드들(230)이 상기 중간 기판(500)의 타면(500SO)에 배치될 수 있다.
일부 실시예들에 따르면, 상기 중간 기판(500)은 반도체 칩일 수 있다. 이 경우, 상기 중간 기판(500)은 상기 중간 기판(500)의 상기 일면(500S)에 인접하는 중간 회로층(510)을 포함할 수 있다. 상기 중간 회로층(510)은 집적회로들을 포함할 수 있다. 다른 예로, 도시된 바와 달리, 상기 중간 회로층(510)은 상기 중간 기판(500)의 타면(500SO)에 인접하게 배치될 수도 있다. 상기 중간 기판(500)은 그 내부를 관통하는 중간 관통 전극들(550)을 포함할 수 있고, 상기 중간 관통 전극들(550)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 중간 관통 전극들(550)의 각각은 상기 중간 기판 패드들(520) 중 대응하는 중간 기판 패드(520), 및 상기 도전 패드들(230) 중 대응하는 도전 패드(230)에 연결될 수 있다. 상기 도전 패드들(230)은 상기 하부 기판(100)의 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110)에 연결될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 상기 도전 패드들(230)의 각각은 대응하는 연결 범프(260)를 통해 대응하는 제1 하부 기판 패드(110)에 연결될 수 있다.
상기 중간 기판(500)은 상기 중간 기판 패드들(520), 대응하는 하부 범프들(240), 및 대응하는 제1 상부 기판 패드들(314)을 통해 상기 상부 기판(300)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 중간 기판(500)은 상기 중간 관통 전극들(550), 대응하는 도전 패드들(230), 대응하는 연결 범프들(260), 및 대응하는 제1 하부 기판 패드들(110)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 하부 몰드막(290)은 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및 상기 중간 기판(500) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 하부 몰드막(290)은 상기 하부 반도체 칩(200)의 상기 타면(200SO), 및 상기 중간 기판(500)의 상기 타면(500SO) 상으로 연장되어 상기 도전 패드들(230)의 측면들을 덮을 수 있다.
본 실시예들에 따르면, 상기 상부 반도체 칩(400)은 상기 상부 기판(300)을 통해 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 상기 중간 기판(500)에 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및/또는 상기 중간 기판(500)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다.
도 17은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(1900)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 17을 참조하면, 반도체 패키지(1900)는 상기 하부 기판(100), 상기 하부 기판(100) 상의 상기 상부 기판(300), 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치되는 상기 하부 반도체 칩(200), 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일 측에 배치되는 중간 기판(500), 및 상기 상부 기판(300) 상에 배치되는 상기 상부 반도체 칩(400)을 포함할 수 있다.
상기 중간 기판(500)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1) 상에 배치될 수 있고, 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)에 연결될 수 있다. 상기 중간 기판(500)의 일 면(500S)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)과 마주할 수 있다. 상기 중간 기판(500)은 상기 중간 기판(500)의 일 면(500S)에 인접하는 중간 기판 패드들(520)을 포함할 수 있다. 상기 중간 기판(500)의 타면(500SO)은 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)과 마주할 수 있다. 상기 도전 패드들(230)이 상기 중간 기판(500)의 타면(500SO)에 배치될 수 있다.
일부 실시예들에 따르면, 상기 중간 기판(500)은 인터포저 기판, 인쇄회로 기판, 또는 재배선 기판일 수 있다. 이 경우, 상기 중간 기판 패드들(520)은 상기 중간 기판(500) 내 내부 배선들(점선도시)을 통해 대응하는 도전 패드들(230)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상술한 차이를 제외하고, 본 실시예들에 따른 반도체 패키지(1900)는 도 1 및 도 16을 참조하여 설명한 반도체 패키지(1800)와 실질적으로 동일하다.
도 18은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(2000)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 18을 참조하면, 반도체 패키지(2000)는 하부 구조체(LS), 상기 하부 구조체(LS) 상의 상기 상부 기판(300), 상기 하부 구조체(LS)와 상기 상부 기판(300) 사이에 배치되는 상기 하부 반도체 칩(200), 상기 하부 구조체(LS)와 상기 상부 기판(300) 사이에 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일 측에 배치되는 상기 복수의 도전 필라들(280), 및 상기 상부 기판(300) 상에 배치되는 상기 상부 반도체 칩(400)을 포함할 수 있다.
상기 하부 구조체(LS)는 상기 하부 기판(100), 및 상기 하부 기판(100) 상의 반도체 칩(700)을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(700)은 상기 하부 기판(100)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치될 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200) 및 상기 복수의 도전 필라들(280)은 상기 반도체 칩(700)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치될 수 있다.
상기 반도체 칩(700)의 일면(700S)은 상기 상부 기판(300)의 상기 제1 면(300S1)과 마주할 수 있고, 상기 반도체 칩(700)의 타면(700SO)은 상기 하부 기판(100)의 상면(100U)과 마주할 수 있다. 상기 반도체 칩(700)은 상기 반도체 칩(700)의 상기 일면(700S)에 인접하는 칩 패드들(720)을 포함할 수 있고, 상기 칩 패드들(720)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(700)은 그 내부를 관통하는 관통 전극들(750)을 포함할 수 있고, 상기 관통 전극들(750)은 도전 물질을 포함할 수 있다. 상기 관통 전극들(750)은 상기 칩 패드들(720)에 연결될 수 있다.
상기 연결 범프들(260)이 상기 도전 패드들(230)과 대응하는 칩 패드들(720) 사이, 및 상기 도전 필라들(280)과 대응하는 칩 패드들(720) 사이에 개재될 수 있다. 상기 도전 패드들(230) 및 상기 도전 필라들(280)의 각각은 대응하는 연결 범프(260)를 통해 대응하는 칩 패드(720)에 연결될 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200)은 대응하는 도전 패드들(230), 대응하는 연결 범프들(260), 및 대응하는 칩 패드들(720)을 통해 상기 반도체 칩(700)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 대응하는 연결 범프들(260) 및 대응하는 칩 패드들(720)을 통해 상기 반도체 칩(700)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 하부 몰드막(290)은 상기 반도체 칩(700)과 상기 상부 기판(300) 사이에 배치될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및 상기 도전 필라들(280) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 언더필막(150)은 상기 반도체 칩(700)과 상기 하부 몰드막(290) 사이에 개재될 수 있고, 상기 연결 범프들(260) 사이의 공간을 채울 수 있다.
추가적인 연결 범프들(760)이 상기 반도체 칩(700)과 상기 하부 기판(100) 사이에 배치될 수 있다. 상기 추가적인 연결 범프들(760)은 상기 반도체 칩(700)의 상기 관통 전극들(750)과 상기 하부 기판(100)의 상기 제1 하부 기판 패드들(110) 사이에 개재될 수 있다. 상기 반도체 칩(700)의 상기 관통 전극들(750)의 각각은 대응하는 추가적인 연결 범프(760)를 통해 대응하는 제1 하부 기판 패드(110)에 연결될 수 있다. 상기 반도체 칩(700)은 상기 관통 전극들(750), 상기 추가적인 연결 범프들(760), 및 상기 제1 하부 기판 패드들(110)을 통해 상기 하부 기판(100)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 추가적인 연결 범프들(760)은 도전 물질을 포함할 수 있고, 솔더볼, 범프, 및 필라 중 적어도 하나의 형태를 가질 수 있다.
추가적인 언더필막(770)이 상기 반도체 칩(700)과 상기 하부 기판(100) 사이에 개재될 수 있고, 상기 추가적인 연결 범프들(760) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 추가적인 언더필막(770)은 에폭시 수지와 같은 절연성 고분자 물질을 포함할 수 있다.
도 19는 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(2100)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 19를 참조하면, 반도체 패키지(2100)는 하부 구조체(LS), 상기 하부 구조체(LS) 상의 상기 상부 기판(300), 상기 하부 구조체(LS)와 상기 상부 기판(300) 사이에 배치되는 상기 하부 반도체 칩(200), 상기 하부 구조체(LS)와 상기 상부 기판(300) 사이에 상기 하부 반도체 칩(200)의 적어도 일 측에 배치되는 상기 복수의 도전 필라들(280), 및 상기 상부 기판(300) 상에 배치되는 상기 상부 반도체 칩(400)을 포함할 수 있다.
상기 하부 구조체(LS)는 하부 반도체 패키지를 포함할 수 있다. 상기 하부 구조체(LS)는 제1 기판(800), 및 상기 제1 기판(800) 상의 반도체 칩(820)을 포함할 수 있다. 상기 제1 기판(800)은 인쇄회로기판이거나, 재배선층일 수 있다. 상기 제1 기판(800)은 제1 기판 패드들(810)을 포함할 수 있다. 상기 제1 기판 패드들(810)은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(820)은 그 하면에 배치되는 칩 패드들(822)을 포함할 수 있다. 연결부들(824)이 상기 제1 기판(800)과 상기 반도체 칩(820) 사이에 배치될 수 있고, 상기 칩 패드들(822)에 각각 연결될 수 있다. 상기 연결부들(824)은 상기 제1 기판 패드들(810) 중 대응하는 제1 기판 패드들(810)에 연결될 수 있다. 상기 칩 패드들(822) 및 상기 연결부들(824)은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 상기 연결부들(824)은 솔더볼, 범프, 및 필라 중에서 적어도 하나의 형상을 가질 수 있다. 상기 반도체 칩(820)은 집적 회로들(미도시)을 포함할 수 있고, 상기 집적 회로들은 상기 반도체 칩(820)의 상기 하면에 인접할 수 있다. 상기 반도체 칩(820)은 로직 칩 또는 메모리 칩일 수 있다.
상기 하부 구조체(LS)는 상기 제1 기판(800) 상의 솔더 구조체들(830)을 포함할 수 있다. 상기 솔더 구조체들(830)은 상기 반도체 칩(820)으로부터 수평적으로 이격될 수 있다. 상기 솔더 구조체들(830)은 상기 제1 기판 패드들(810) 중 대응하는 제1 기판 패드들(810)에 연결될 수 있다. 상기 솔더 구조체들(830)은 주석, 납, 은, 또는 이들의 합금과 같은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 상기 솔더 구조체들(830)의 각각은 상기 제1 기판(800) 내 내부 배선을 통해 외부 단자 또는 상기 반도체 칩(820)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 하부 구조체(LS)는 상기 반도체 칩(820) 상에 배치되는 제2 기판(850)을 포함할 수 있다. 상기 제2 기판(850)은 일 예로, 인터포저 기판일 수 있다. 상기 제2 기판(850)은 상기 제2 기판(850)의 하면에 배치되는 제1 패드들(852), 및 상기 제2 기판(850)의 상면에 배치되는 제2 패드들(854)을 포함할 수 있다. 배선들이 상기 제2 기판(850) 내에 제공되어 상기 제1 패드들(852) 및 상기 제2 패드들(854)을 서로 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제1 패드들(852) 및 상기 제2 패드들(854)은 도전성 물질(일 예로, 구리 또는 알루미늄과 같은 금속)을 포함할 수 있다. 상기 솔더 구조체들(830)은 상기 제1 패드들(852)에 연결될 수 있다. 상기 제2 기판(850)은 상기 솔더 구조체들(830)을 통해 상기 제1 기판(800) 및 상기 반도체 칩(820)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 하부 구조체(LS)는 상기 제1 기판(800)과 상기 제2 기판(850) 사이의 몰드막(840)을 포함할 수 있다. 상기 몰드막(840)은 상기 반도체 칩(820) 및 상기 솔더 구조체들(830)을 덮을 수 있다. 일 예로, 상기 몰드막(840)은 상기 제1 기판(800)과 상기 반도체 칩(820) 사이로 연장되어 상기 연결부들(824)을 밀봉할 수 있다. 상기 몰드막(840)은 절연 물질(일 예로, 에폭시계 몰딩 컴파운드)를 포함할 수 있다.
상기 연결 범프들(260)이 상기 도전 패드들(230)과 상기 제2 기판(850) 사이, 및 상기 도전 필라들(280)과 상기 제2 기판(850) 사이에 배치될 수 있다. 상기 도전 패드들(230) 및 상기 도전 필라들(280)의 각각은 대응하는 연결 범프(260)를 통해 상기 제2 기판(850)의 대응하는 제2 패드(854)에 연결될 수 있다. 상기 하부 반도체 칩(200)은 대응하는 도전 패드들(230), 대응하는 연결 범프들(260), 및 대응하는 제2 패드들(854)을 통해 상기 하부 구조체(LS, 일 예로, 상기 하부 반도체 패키지)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 도전 필라들(280)은 대응하는 연결 범프들(260) 및 대응하는 제2 패드들(854)을 통해 상기 하부 구조체(LS, 일 예로, 상기 하부 반도체 패키지)에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 하부 몰드막(290)은 상기 하부 구조체(LS)와 상기 상부 기판(300) 사이에 배치될 수 있고, 상기 하부 반도체 칩(200) 및 상기 도전 필라들(280) 사이의 공간을 채울 수 있다. 상기 언더필막(150)은 상기 하부 구조체(LS)와 상기 하부 몰드막(290) 사이에 개재될 수 있고, 상기 연결 범프들(260) 사이의 공간을 채울 수 있다.
도 20은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 반도체 패키지(2200)를 나타내는 도면으로, 도 1의 I-I'에 대응하는 단면도이다. 설명의 간소화를 위해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지(1000)와 차이점을 주로 설명한다.
도 1 및 도 20을 참조하면, 반도체 패키지(2200)는 상기 하부 기판(100) 상에 배치되는 방열 구조체(920)를 더 포함할 수 있다. 상기 방열 구조체(920)는 상기 하부 기판(100)의 상면(100U) 상에 배치될 수 있고, 상기 상부 기판(300), 상기 하부 반도체 칩(200), 상기 복수의 도전 필라들(280), 및 상기 상부 반도체 칩(400)을 덮을 수 있다. 상기 방열 구조체(920)는 열전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 열전도성 물질은 금속(예를 들어, 구리 및/또는 알루미늄 등) 또는 탄소 함유 물질(예를 들어, 그래핀, 그라파이트, 및/또는 탄소 나노튜브 등)을 포함할 수 있다. 일 예로, 상기 방열 구조체(920)는 단일 금속층 또는 적층된 복수의 금속층들을 포함할 수 있다. 다른 예로, 상기 방열 구조체(920)는 히트 싱크(heat sink) 또는 히트파이프(heatpipe)를 포함할 수 있다. 또 다른 예로, 상기 방열 구조체(920)는 수냉(water cooling) 방식을 이용할 수도 있다.
상기 반도체 패키지(2200)는 상기 상부 반도체 칩(400) 상에 배치되는 열 전도층(910)을 더 포함할 수 있다. 상기 열 전도층(910)은 상기 상부 반도체 칩(400)과 상기 방열 구조체(920) 사이에 개재될 수 있다. 상기 열 전도층(910)은 열 인터페이스 물질(Thermal interface material, TIM)을 포함할 수 있다. 열 인터페이스 물질은 일 예로, 폴리머 및 열전도성 입자들을 포함할 수 있다. 상기 열전도성 입자들은 폴리머 내에 분산될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(400)으로부터 발생된 열은 상기 열 전도층(910)을 통해 상기 방열 구조체(920)로 전달될 수 있다.
본 발명의 개념에 따르면, 수직 및 수평적으로 적층된 복수의 반도체 칩들(200, 400)이 상기 상부 기판(300)을 통해 서로 용이하게 연결될 수 있고, 상기 복수의 도전 필라들(280) 또는 상기 중간 기판(500)을 통해 상기 하부 기판(100) 또는 상기 하부 구조체(LS)에 용이하게 연결될 수 있다. 따라서, 상기 복수의 반도체 칩들(200, 400)이 상기 하부 기판(100) 또는 상기 하부 구조체(LS) 상에 용이하게 실장될 수 있고, 이에 따라, 반도체 패키지의 고집적화가 용이할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 대한 이상의 설명은 본 발명의 설명을 위한 예시를 제공한다. 따라서 본 발명은 이상의 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 상기 실시예들을 조합하여 실시하는 등 여러 가지 많은 수정 및 변경이 가능함은 명백하다.

Claims (20)

  1. 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 갖는 상부 기판;
    상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 배치되는 하부 반도체 칩;
    상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 상기 하부 반도체 칩의 적어도 일 측에 배치되는 복수의 도전 필라들; 및
    상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 배치되는 상부 반도체 칩을 포함하되,
    상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 상부 기판의 상기 제1 면에 연결되고,
    상기 상부 반도체 칩은 상기 상부 기판의 상기 제2 면에 연결되는 반도체 패키지.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 상부 반도체 칩은 상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 수평적으로 서로 이격되도록 배치된 복수의 상부 반도체 칩들 중 하나이고,
    상기 복수의 상부 반도체 칩들의 각각은 상기 상부 기판의 상기 제2 면에 연결되는 반도체 패키지.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 복수의 상부 반도체 칩들은 이종 반도체 칩들을 포함하는 반도체 패키지.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 하부 반도체 칩은 상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 수평적으로 서로 이격되도록 배치된 복수의 하부 반도체 칩들 중 하나이고,
    상기 복수의 하부 반도체 칩들의 각각은 상기 상부 기판의 상기 제1 면에 연결되는 반도체 패키지.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 복수의 도전 필라들은 상기 복수의 하부 반도체 칩들로부터 수평적으로 이격되는 반도체 패키지.
  6. 청구항 4에 있어서,
    상기 복수의 하부 반도체 칩들 중 적어도 하나는 그 내부를 관통하는 적어도 하나의 하부 관통 전극을 포함하는 반도체 패키지.
  7. 청구항 4에 있어서,
    상기 복수의 하부 반도체 칩들은 이종 반도체 칩들을 포함하는 반도체 패키지.
  8. 청구항 1에 있어서,
    하부 기판을 더 포함하되,
    상기 상부 기판은 상기 제1 면이 상기 하부 기판의 상면을 향하도록 배치되고,
    상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 상부 기판의 상기 제1 면과 상기 하부 기판의 상기 상면 사이에 배치되는 반도체 패키지.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 복수의 도전 필라들은 상기 하부 기판의 상기 상면에 연결되는 반도체 패키지.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 하부 반도체 칩은 상기 하부 기판의 상기 상면에 연결되는 반도체 패키지.
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 상부 기판은 금속 배선들을 포함하는 인터포저 기판이고,
    상기 금속 배선들은 상기 상부 기판의 상기 제2 면에 인접하고,
    상기 상부 반도체 칩은 상기 금속 배선들에 연결되는 반도체 패키지.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 상부 기판은 상기 금속 배선들에 연결되는 관통 비아들을 더 포함하고,
    상기 관통 비아들은 상기 금속 배선들로부터 상기 상부 기판의 상기 제1 면으로 수직적으로 연장되는 반도체 패키지.
  13. 청구항 1에 있어서,
    상기 상부 기판은 인쇄회로 기판, 재배선 기판, 또는 반도체 칩인 반도체 패키지.
  14. 청구항 1에 있어서,
    상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 배치되고, 상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들을 덮는 하부 몰드막을 더 포함하는 반도체 패키지.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 배치되고, 상기 상부 반도체 칩을 덮는 상부 몰드막을 더 포함하는 반도체 패키지.
  16. 청구항 1에 있어서,
    상기 상부 기판은 상기 제1 면에 인접하게 배치되는 상부 재배선층을 포함하되,
    상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 상부 재배선층에 연결되는 반도체 패키지.
  17. 청구항 1에 있어서,
    상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들을 사이에 두고 상기 상부 기판의 상기 제1 면으로부터 이격되는 하부 기판; 및
    상기 하부 반도체 칩과 상기 하부 기판 사이, 및 상기 복수의 도전 필라들과 상기 하부 기판 사이에 개재되는 하부 재배선층을 더 포함하되,
    상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 하부 재배선층에 연결되는 반도체 패키지.
  18. 청구항 1에 있어서,
    상기 하부 반도체 칩 및 상기 복수의 도전 필라들을 사이에 두고 상기 상부 기판의 상기 제1 면으로부터 이격되는 하부 구조체를 더 포함하되,
    상기 복수의 도전 필라들은 상기 하부 구조체에 연결되고,
    상기 하부 구조체는 인쇄회로 기판, 반도체 칩, 또는 하부 반도체 패키지를 포함하는 반도체 패키지.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 하부 구조체 상에 배치되고, 상기 상부 반도체 칩, 상기 상부 기판, 상기 하부 반도체 칩, 및 상기 복수의 도전 필라들을 덮는 방열 구조체를 더 포함하는 반도체 패키지.
  20. 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 갖는 상부 기판;
    상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 수평적으로 서로 이격되도록 배치되는 복수의 하부 반도체 칩들;
    상기 상부 기판의 상기 제1 면 상에 상기 복수의 하부 반도체 칩들로부터 수평적으로 이격되는 복수의 도전 필라들; 및
    상기 상부 기판의 상기 제2 면 상에 수평적으로 서로 이격되도록 배치되는 복수의 상부 반도체 칩들을 포함하되,
    상기 상부 기판은 상기 제1 면에 인접하는 제1 상부 기판 패드들, 및 상기 제2 면에 인접하는 제2 상부 기판 패드들을 포함하고,
    상기 복수의 하부 반도체 칩들의 각각의 하부 칩 패드들, 및 상기 복수의 도전 필라들은 상기 제1 상부 기판 패드들 중 대응하는 제1 상부 기판 패드들에 연결되고,
    상기 복수의 상부 반도체 칩들의 각각의 상부 칩 패드들은 상기 제2 상부 기판 패드들 중 대응하는 제2 상부 기판 패드들에 연결되는 반도체 패키지.
KR1020200025383A 2020-02-28 2020-02-28 반도체 패키지 KR20210110008A (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200025383A KR20210110008A (ko) 2020-02-28 2020-02-28 반도체 패키지
US17/021,112 US11515290B2 (en) 2020-02-28 2020-09-15 Semiconductor package
CN202011589873.2A CN113327915A (zh) 2020-02-28 2020-12-29 半导体封装件
US17/983,018 US20230055812A1 (en) 2020-02-28 2022-11-08 Semiconductor package

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200025383A KR20210110008A (ko) 2020-02-28 2020-02-28 반도체 패키지

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210110008A true KR20210110008A (ko) 2021-09-07

Family

ID=77413190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200025383A KR20210110008A (ko) 2020-02-28 2020-02-28 반도체 패키지

Country Status (3)

Country Link
US (2) US11515290B2 (ko)
KR (1) KR20210110008A (ko)
CN (1) CN113327915A (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210110008A (ko) * 2020-02-28 2021-09-07 삼성전자주식회사 반도체 패키지
KR20210147363A (ko) * 2020-05-28 2021-12-07 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 그 제조방법
KR102599631B1 (ko) 2020-06-08 2023-11-06 삼성전자주식회사 반도체 칩, 반도체 장치, 및 이를 포함하는 반도체 패키지
KR20220007340A (ko) * 2020-07-10 2022-01-18 삼성전자주식회사 언더필을 갖는 패키지 구조물
US11894357B2 (en) * 2020-09-10 2024-02-06 Sj Semiconductor (Jiangyin) Corporation System-level packaging structure and method for LED chip
JP2022091484A (ja) * 2020-12-09 2022-06-21 富士電機株式会社 半導体モジュール
US11742260B2 (en) * 2021-03-19 2023-08-29 Arm Limited Three-dimensional device cooling
US11823980B2 (en) * 2021-07-29 2023-11-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Package structure and manufacturing method thereof
US20230060265A1 (en) * 2021-08-28 2023-03-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Three-dimensional integrated circuit
US20230207438A1 (en) * 2021-12-23 2023-06-29 Nanya Technology Corporation Semiconductor device with interconnectors of different density

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101099578B1 (ko) 2009-11-03 2011-12-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 재배선 및 tsv를 이용한 적층 칩 패키지
US9048233B2 (en) 2010-05-26 2015-06-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Package systems having interposers
US8304913B2 (en) 2010-09-24 2012-11-06 Intel Corporation Methods of forming fully embedded bumpless build-up layer packages and structures formed thereby
KR101411813B1 (ko) * 2012-11-09 2014-06-27 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 디바이스 및 그 제조 방법
KR20160058591A (ko) * 2014-11-17 2016-05-25 에스케이하이닉스 주식회사 광학적 연결 구조를 가지는 반도체 패키지
US9601471B2 (en) 2015-04-23 2017-03-21 Apple Inc. Three layer stack structure
US10008439B2 (en) 2015-07-09 2018-06-26 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Thin recon interposer package without TSV for fine input/output pitch fan-out
US10163856B2 (en) 2015-10-30 2018-12-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Stacked integrated circuit structure and method of forming
US10177114B2 (en) 2015-11-25 2019-01-08 Invensas Corporation Hybrid 3D/2.5D interposer
US10833052B2 (en) * 2016-10-06 2020-11-10 Micron Technology, Inc. Microelectronic package utilizing embedded bridge through-silicon-via interconnect component and related methods
US10319698B2 (en) 2016-11-17 2019-06-11 Intel Corporation Microelectronic device package having alternately stacked die
US10636765B2 (en) * 2017-03-14 2020-04-28 STATS ChipPAC Pte. Ltd. System-in-package with double-sided molding
US10217719B2 (en) 2017-04-06 2019-02-26 Micron Technology, Inc. Semiconductor device assemblies with molded support substrates
KR102077455B1 (ko) * 2017-07-04 2020-02-14 삼성전자주식회사 반도체 장치
US10763239B2 (en) * 2017-10-27 2020-09-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Multi-chip wafer level packages and methods of forming the same
US11469206B2 (en) * 2018-06-14 2022-10-11 Intel Corporation Microelectronic assemblies
KR20210110008A (ko) * 2020-02-28 2021-09-07 삼성전자주식회사 반도체 패키지

Also Published As

Publication number Publication date
US20230055812A1 (en) 2023-02-23
US20210272930A1 (en) 2021-09-02
US11515290B2 (en) 2022-11-29
CN113327915A (zh) 2021-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20210110008A (ko) 반도체 패키지
US9040359B2 (en) Molded interposer package and method for fabricating the same
TWI544599B (zh) 封裝結構之製法
KR20190091751A (ko) 반도체 패키지
TW202203410A (zh) 半導體封裝
TWI698966B (zh) 電子封裝件及其製法
TWI649839B (zh) 電子封裝件及其基板構造
US20220310577A1 (en) Semiconductor package
TW202218095A (zh) 電子封裝件及其製法
KR20220007410A (ko) 반도체 패키지
CN112447635B (zh) 电子封装件
TW202123414A (zh) 中介層及具有其的半導體封裝
US20230065366A1 (en) Semiconductor package with redistribution substrate
TWI765778B (zh) 電子封裝件及其製法
KR20220151989A (ko) 반도체 패키지
TWI766192B (zh) 電子封裝件及其製法
US20210057380A1 (en) Semiconductor package
KR20220150137A (ko) 반도체 패키지
KR20220150093A (ko) 반도체 패키지
KR20210020640A (ko) 반도체 패키지
CN112397475A (zh) 具有微细间距硅穿孔封装的扇出型封装晶片结构及单元
TWI818458B (zh) 電子封裝件及其製法
TWI837021B (zh) 電子封裝件
US20220392861A1 (en) Electronic package and carrier thereof and method for manufacturing the same
TWI807827B (zh) 電子封裝件及其製法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal