KR20210100793A - 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법 - Google Patents

내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법 Download PDF

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KR20210100793A
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권종익
정희수
이근택
김예찬
박성민
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Abstract

본 발명은 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 관한 것으로 본 발명의 일면에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법은 WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계, 에칭된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계, 다이아몬드 입자가 시딩된 절삭 공구를 세척하는 단계, 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계, 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계 및 세척하는 단계를 통해 전처리된 절삭 공구를 HFCVD 기법을 이용하여 다이아몬드 증착하는 단계를 포함한다.

Description

내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법{DIAMOND COATING METHOD OF CUTTING TOOL FOR IMPROVING ABRASION RESISTANCE}
본 발명은 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 관한 것이다.
덴탈 버(Dental bur)는 치과 의료 기기 중 하나로 핸드피스에 결합하여 치과를 삭제하는 절삭 공구로, 절삭 형태에 따라 구형 버, 역 원추형 버, 배형 버, 평형 열구형 버 및 첨형 열구형 버 등으로 분류된다.
고가의 덴탈 버에 의한 비용 부담에 의해 최근 저렴한 일회용 버가 많이 사용되고 있다. 2015년 Clinics Report에서 실시한 설문조사에 따르면, 설문에 응답한 응답자 중 48%가 저가의 덴탈 버를 사용하고 있으며, 이중 58%가 저가의 덴탈버를 1~2회 사용하고, 30%가 저가의 덴탈버를 3~4회까지 사용하는 것으로 나타났다.
절삭력뿐 아니라 적정한 가격, 편리성 등에 대한 사용자의 요구와 의료 폐기물의 발생량을 줄이기 위해 다회 사용 가능한 덴탈 버의 개발이 요구되고 있다.
대한민국 특허출원번호 제10-2016-0132634호 대한민국 특허출원번호 제10-2003-0067145호
본 발명의 목적은 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로, 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일면에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법은 WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계, 에칭된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계, 다이아몬드 입자가 시딩된 절삭 공구를 세척하는 단계, 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계, 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계 및 세척하는 단계를 통해 전처리된 절삭 공구를 HFCVD 기법을 이용하여 다이아몬드 증착하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일면에 따르면 다회 사용 후에도 균일한 표면 형상을 유지하는 덴탈 버를 제작할 수 있는 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법을 제공하는 효과가 있다.
이에 따라, 일회용 덴탈 버의 절삭 효율을 향상하여 다회 사용이 가능하도록 함으로써 의료 폐기물을 줄이는 효과를 기대할 수 있다.
본 발명의 효과는 상기에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법의 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따른 절삭 공구의 표면변화를 나타낸 도면이다.
도 3a는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트에 14kW의 전력을 인가하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 3b는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트에 16kW의 전력을 인가하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 3c는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트에 18kW의 전력을 인가하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 4a는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트와 기판 사이의 거리가 6mm 이격되게 배치하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 4b는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트와 기판 사이의 거리가 10mm 이격되게 배치하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 4c는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트와 기판 사이의 거리가 14mm 이격되게 배치하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에서 필라멘트와 기판 간의 거리에 따른 기판에 형성된 다이아몬드 박막의 두께를 나타낸 그래프이다.
도 6a는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 챔버내에 유입되는 아세톤 가스의 유량을 90sccm으로 설정하였을 때의 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 6b는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 챔버내에 유입되는 아세톤 가스의 유량을 170sccm으로 설정하였을 때의 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 6c는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 챔버내에 유입되는 아세톤 가스의 유량을 250sccm으로 설정하였을 때의 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에서 챔버 내에 유입되는 아세톤 가스의 유량에 따른 기판에 형성된 다이아몬드 박막의 두께를 나타낸 그래프이다.
도 8a는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버를 나타낸 도면이다.
도 8b는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버의 일 측면에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버의 다른 측면에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 8d는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버의 또 다른 측면에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 9a는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트를 나타낸 도면이다.
도 9b는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 일 측면에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 9c는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 다른 측면에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 또 다른 측면에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 9e는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 또 다른 측면에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 10은 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인서트 바이트를 나타낸 도면이다.
도 11은 절삭횟수를 증가함에 따른 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인서트 바이트의 일 측면의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 12는 절삭횟수를 증가함에 따른 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인서트 바이트의 다른 측면의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인서트 바이트를 나타낸 도면이다.
도 14는 절삭횟수를 증가함에 따른 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인서트 바이트의 일 측면의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 15는 절삭횟수를 증가함에 따른 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인서트 바이트의 다른 측면의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인서트 바이트와 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인서트 바이트에 의해 절삭된 절삭칩을 나타낸 도면이다.
도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인서트 바이트와 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인서트 바이트에 의해 절삭된 피삭재를 나타낸 도면이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것으로서, 본 발명은 청구항의 기재에 의해 정의될 뿐이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.
본 발명의 일실시 예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법은 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계(S101, S102), 에칭된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계(S103), 다이아몬드 입자가 시딩된 절삭 공구를 세척하는 단계(S104), S101, S102, S103 및 S104 단계를 통해 전처리된 절삭 공구를 HFCVD 기법을 이용하여 다이아몬드 증착하는 단계(S105)를 포함하는 것일 수 있다.
절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계는 WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면의 WC와 Co를 용해하여 Co 결합상(binder phase)을 형성하는 제1 에칭단계(S101)와, Co 결합상을 일부 용해하여 CoO/CoSO4층을 형성하는 제2 에칭단계(S102)를 포함하는 것일 수 있다.
제1 에칭단계(S101)는 KOH, K3(FE(CN)6), H2O를 각각 1:1:10으로 혼합한 용액을 이용하여 WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계인 것일 수 있다.
제2 에칭단계(S102)는 5%의 H2SO4와 35%의 H202를 1:3으로 혼합한 용액을 이용하여 WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계인 것일 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따른 절삭 공구의 표면변화를 나타낸 도면으로, 좌측부터 (a)는 WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면층을 나타낸 것이며, (b)는 제1 에칭단계(S101)를 통해 에칭된 절삭 공구의 표면층을 나타낸 것이며, (c)는 제2 에칭단계(S102)를 통해 2차로 에칭된 절삭 공구의 표면층을 나타낸 것이며, (d)는 제1 에칭단계(S101) 및 제2 에칭단계(S102) 후 다이아몬드 시딩된 절삭 공구의 표면층을 나타낸 것이다.
본 발명의 일실시 예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법은 제1 에칭단계(S101)와 제2 에칭단계(S102)를 포함하여 다이아몬드 시딩 단계(S102)에서 다이아몬드 입자가 침입할 수 있는 공간을 형성시키고, HFCVD 기법을 이용하여 증착하는 단계에서 표면적을 넓혀 다이아몬드 핵생성 및 성장을 용이하게 하고 부착력을 높일 수 있다.
다이아몬드 입자가 시딩된 절삭 공구를 세척하는 단계(S104)는 다이아몬드 입자가 시딩된 절삭 공구를 아세톤으로 세척하는 것일 수 있다.
HFCVD 기법을 이용하여 증착하는 단계(S105)는 전처리된 절삭 공구를 화학반응이 진행될 HFCVD 장비의 챔버 내에 위치시키는 단계, 챔버 상부에 전처리된 절삭 공구와 이격되게 필라멘트를 위치시키는 단계 및 필라멘트에 기설정된 전력을 부여하고, 챔버 내에 아세톤 가스를 공급하여 전처리된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 박막을 형성하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다.
이하, 절삭 공구에 코팅되는 다이아몬드 박막의 두께와 균일성 향상을 위한, 바람직한 필라멘트에 인가되는 전력, 필라멘트와 기판 간의 거리 및 원료가스의 유량을 확인하기 위해 아래와 같은 실험을 수행하였다.
1. 실험내용
0.5mm 두께의 100 Si Wafer를 기판으로 사용하고, 글루세린과 500nm 내지 1μm의 다이아몬드 입자를 2:5 비율로 섞고 이를 기판에 올리고 문질러 다이아몬드를 시딩하였다.
다이아몬드 시딩된 기판의 글리세린을 아세톤으로 세척 후, 아세톤 솔루션으로 10분간 초음파 세척을 진행하여, 기판의 전처리를 수행하였다.
전처리된 기판을 화학반응이 진행될 HFCVD 장비의 챔버 내에 위치시키고, 챔버 상부에 전처리된 기판과 이격되게 필라멘트를 위치시키고, 필라멘트에 기설정된 전력을 부여하고, 챔버 내에 아세톤 가스를 공급하여 전처리된 기판에 다이아몬드를 증착하였다.
(1) 필라멘트 전력에 따른 다이아몬드 박막 증착 실험
필라멘트의 전력을 각각 14kW, 16kW, 18kW로 설정하고, 필라멘트 온도에 따른 다이아몬드 박막의 표면 형상을 도 3a, 도 3b, 도 3c에 각각 나타내었다. 본 실험에서 실시한 실험 조건은 아래의 표 1에 나타내었고, 필라멘트 전력에 따른 필라멘트와 기판의 온도는 표 2에 나타내었다.
Parameter(단위) Value
필라멘트 전력(kW) 14, 16, 18
필라멘트 수 12
필라멘트 길이 32
챔버 내부 압력(Pa) 4000
H2 유량(sccm) 400
Cn 유량(sccm) 90
기체비율(acetone/H2) 0.017
필라멘트와 기판간 거리(mm) 10
필라멘트간 거리(mm) 20
증착시간(h) 8
여기서, Cn은 수소에의해 bubbled된 아세톤이다.
필라멘트 전력(kW) 필라멘트 온도(K) 기판 온도(K)
14 2632 1121
16 2711 1161
18 2858 1198
(2) 필라멘트와 기판 간의 거리에 따른 다이아몬드 박막 증착 실험
필라멘트에 인가되는 전력을 16kW으로 고정하고, 필라멘트와 기판 간의 거리가 6mm. 10mm, 14mm로 증가함에 따른 다이아몬드 박막의 표면 형상과 다이아몬드 박막의 두께를 측정하였다.
실험조건은 표 3에 나타내었으며, 필라멘트와 기판 간의 거리에 따른 다이아몬드 박막의 표면 형상은 도 4a, 도 4b, 도 4c에 각각 나타내었으며, 필라멘트와 기판 간의 거리에 따른 다이아몬드 박막의 두께는 도 5에 나타내었다.
Parameter(단위) Value
필라멘트 전력(kW) 16
필라멘트 수 12
필라멘트 길이(cm) 32
챔버 내부 압력(Pa) 4000
Cn 유량(sccm) 90
필라멘트와 기판 간 거리(mm) 6, 10, 14
필라멘트간 거리(mm) 20
증착시감(h) 10
(3) 원료가스의 유량에 따른 다이아몬드 박막 증착 실험
필라멘트에 인가되는 전력을 16kW, 필라멘트와 기판 간의 거리를 10mm로 고정하고, 아세톤 유량을 90sccm, 170sccm, 250sccm으로 증가시킴에 따른 다이아몬드 박막의 표면 형상과 다이아몬드 박막의 두께를 측정하였다.
아세톤 유량을 변화시킴에 따라 수소 유량을 조정하여, 전체 유량을 500sccm으로 고정한 후 실험을 진행하였다.
실험조건은 표 4에 나타내었으며, 원료가스의 유량에 따른 다이아몬드 박막의 표면 형상은 도 6a, 도 6b, 도 6c에 각각 나타내었고, 원료가스의 유량에 따른 다이아몬드 박막의 두께는 도 7에 나타내었다.
Parameter(단위) Value
필라멘트 전력(kW) 16
필라멘트 수 12
필라멘트 길이(cm) 32
챔버 내부 압력(Pa) 400
Cn 유량(sccm) 90, 170, 250
H2 유량(sccm) 410, 330, 250
필라멘트와 기판 간 거리(mm) 10
필라멘트간 거리(mm) 20
증착 시간(h) 8
2. 실험결과
(1) 필라멘트 전력 도출 결과
필라멘트 전력을 14kW, 16kW, 18kW로 증가시키며, 필라멘트 전력에 따른 필라멘트의 온도, 기판의 온도를 측정하여 표 2에 나타내었다.
도 3a는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트에 14kW의 전력을 인가하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 3b는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트에 16kW의 전력을 인가하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이며, 도 3c는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트에 18kW의 전력을 인가하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 3a를 참고하면 필라멘트 전력이 14kW일 때 다이아몬드 박막은 다수의 기공이 관측되며, 불연속적인 형상을 가지는 것을 확인할 수 있다. 또한, 낮은 온도(2632K)로 인해 다이아몬드 박막이 충분히 형성되지 않으며, 다이아몬드 박막의 성장이 매우 느린 것을 확인할 수 있었다.
도 3b를 참고하면 필라멘트 전력이 16kW일 때 다이아몬드 박막은 결정립 크기가 크고, 형상이 균일한 것을 확인할 수 있었다.
도 3c를 참고하면 필라멘트 전력이 18kW일 때 다이아몬드 박막은 결정립 크기는 컸지만, 고온(2858K)에서 증착됨에 따라 표면이 일부 비정질 탄소로 변하여, 증착률이 떨어지는 것을 확인할 수 있었다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 HFCVD 기법을 이용하여 증착하는 단계는 전처리된 절삭 공구를 화학반응이 진행될 HFCVD 장비의 챔버 내에 위치시키고, 챔버 상부에 전처리된 절삭 공구와 이격되게 필라멘트를 위치시키고 필라멘트에 15kW 내지 17kW의 전력을 인가하고, 챔버 내에 아세톤 가스를 공급하여 전처리된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 박막을 형성하는 것일 수 있다.
바람직하게는 HFCVD 기법을 이용하여 증착하는 단계 필라멘트에 16kW의 전력을 인가하여 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 박막을 형성하는 것일 수 있다.
15kW 내지 17kW의 전력을 필라멘트에 인가하여 다이아몬드 박막을 형성함에 따라 낮은 온도로 인해 박막이 충분히 형성되지 않는 것을 방지하여 균일한 표면 형상을 가지는 다이아몬드 박막을 형성할 수 있으며, 고온에 의한 비정질 탄소층 형성을 막음으로써 비정질 탄소층에 의한 경도 저하를 막아 절삭 공구의 내마모성을 향상시킬 수 있다.
(2) 필라멘트와 기판 간의 거리 도출 결과
도 4a는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트와 기판 사이의 거리가 6mm 이격되게 배치하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 4b는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트와 기판 사이의 거리가 10mm 이격되게 배치하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이며, 도 4c는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 필라멘트와 기판 사이의 거리가 14mm 이격되게 배치하였을 때 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에서 필라멘트와 기판 간의 거리에 따른 기판에 형성된 다이아몬드 박막의 두께를 나타낸 그래프이다.
필라멘트에 인가되는 전력을 고정하고 필라멘트와 기판 간의 거리를 조절함에 따라, 필라멘트의 온도를 고정하고 기판의 온도를 조절할 수 있었다.
도 4a를 참조하면 필라멘트와 기판 간의 거리가 6mm인 경우 기판과 필라멘트 간의 거리가 너무 가까워 고온에 의한 비정질 탄소가 형성됨을 확인할 수 있었다.
도 4b를 참조하면 필라멘트와 기판 간의 거리가 10mm인 경우 결정립 크기가 크고 비정질 탄소가 형성되지 않는 것을 확인할 수 있었다.
도 4c를 참조하면 필라멘트와 기판 간의 거리가 14mm인 경우 필라멘트와 기판 간의 거리가 멀어 증착률이 떨어짐을 확인할 수 있었다.
도 5를 참조하면 필라멘트와 기판 간의 거리가 14mm에서 가까워질수록 다이아몬드 박막의 두께가 증가하다가, 10mm 이하로 더 가까워지면 기판의 온도가 올라감에 따라 다이아몬드 박막의 두께가 오히려 감소하는 것을 확인할 수 있었다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에서 필라멘트를 위치시키는 단계는 필라멘트를 전처리된 절삭 공구와 8mm 내지 12mm 이격되게 위치시키는 것일 수 있으며, 바람직하게는 10mm 이격되게 위치시키는 것일 수 있다.
본 발명에 따르면, 16kW의 전력을 인가받는 필라멘트와 전처리된 기판 간의 거리를 8mm 내지 12mm 이격되게 위치시킴으로써, 낮은 온도로 인해 다이아몬드 박막이 충분히 형성되지 않거나, 높은 온도로 인해 탄소 비정질층이 형성되지 않도록 전처리된 기판의 온도를 설정함으로써, 절삭 공구의 내마모성을 향상시킬 수 있다.
(3) 원료가스 유량 도출 결과
도 6a는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 챔버내에 유입되는 아세톤 가스의 유량을 90sccm으로 설정하였을 때의 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 6b는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 챔버내에 유입되는 아세톤 가스의 유량을 170sccm으로 설정하였을 때의 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이며, 도 6c는 HFCVD 기법을 이용한 다이아몬드 증착에 있어서 챔버내에 유입되는 아세톤 가스의 유량을 250sccm으로 설정하였을 때의 다이아몬드 박막의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 6a 내지 도 6c를 참조하면 아세톤 유량이 90sccm일 때와, 아세톤 유량이 170sccm일 때 다이아몬드 박막이 기판을 완전히 덮고 균일하게 성장한 반면, 아세톤 유량이 250sccm인 경우 활성종의 생성량이 많아지게 되어 다이아몬드 박막 표면의 에칭량이 증가함에 따라 증착률보다 에칭률이 높아져 다이아몬드 박막이 콜리플라워(cauliflower)구조로, 결정성이 떨어지거나 비정질 탄소 형태를 가지는 것을 확인할 수 있었다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에서 챔버 내에 유입되는 아세톤 가스의 유량에 따른 기판에 형성된 다이아몬드 박막의 두께를 나타낸 그래프로, 도 7을 참조하면 170sccm 이전에는 유량이 증가함에 따라 증착률이 증가하다가 170sccm 이후로는 과량의 원료가스로 인해 유량이 증가함에 증착률보다 에칭률이 높아져 박막 두께가 감소하는 것을 확인할 수 있었다.
따라서, 본 발명의 일실시예에 따른 전처리된 기판에 다이아몬드를 증착하는 단계는 수소가스와 버블링을 통해 아세톤 가스를 공급하는 것이며, 이때 아세톤 가스의 유량은 90sccm 내지 200sccm일 수 있다.
다른 예에서 아세톤 가스의 유량은 140sccm 내지 180sccm일 수 있으며, 바람직하게는 170sccm일 수 있다.
아세톤 가스의 유량이 140sccm 내지 180sccm가 되도록 설정하고 전처리된 기판에 다이아몬드를 증착함에 따라, 1.3μm 이상의 두께를 가지고 결정이 균일하게 성장된 다이아몬드 박막을 8(h)시간 내에 형성할 수 있다.
4. 결론
본 발명의 일실시 예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법은 WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계, 에칭된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계, 다이아몬드 입자가 시딩된 절삭 공구를 세척하는 단계, 에칭하는 단계, 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계 및 세척하는 단계를 통해 전처리된 절삭 공구를 HFCVD 기법을 이용하여 다이아몬드 증착하는 단계를 포함하여 절삭 공구에 다이아몬드를 코팅하여 절삭 공구의 내마모성을 개선할 수 있다.
HFCVD 기법을 이용하여 증착하는 단계는 전처리된 절삭 공구를 화학반응이 진행될 HFCVD 장비의 챔버 내에 위치시키는 단계, 챔버 상부에 전처리된 절삭 공구와 이격되게 필라멘트를 위치시키는 단계 및 필라멘트에 기설정된 전력을 부여하고, 챔버 내에 아세톤 가스를 공급하여 전처리된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.
필라멘트를 위치시키는 단계는 16kW의 전력이 인가될 필라멘트를 전처리된 기판과 8mm 내지 12mm 이격되게 위치시키는 것일 수 있다.
전처리된 기판에 다이아몬드를 증착하는 단계는 유량이 140sccm 내지 180sccm인 아세톤 가스와 수소가스의 버블링을 통해 아세톤 가스를 공급하는 것일 수 있다.
도 8a는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버를 나타낸 도면이고, 도 8b는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버의 일 측면(101)에서 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버의 다른 측면(102)에서 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 8d는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버의 또 다른 측면(103)에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 8a 내지 도 8d를 참조하면 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 덴탈 버의 각 측면들(101, 102, 103)에 다이아몬드 박막이 기공없이 균일하게 형성되는 것을 확인할 수 있다.
도 9a는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트를 나타낸 도면이고, 도 9b는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 일 측면(201)에서 표면 형상을 나타낸 도면이며, 도 9c는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 다른 측면(202)에서 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 또 다른 측면(203)에서 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 9e는 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 또 다른 측면(204)에서 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 9a 내지 도 9e를 참조하면 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이브의 각 측면(201, 202, 203)에 다이아몬드 박막이 기공없이 고르게 형성되는 것을 확인할 수 있다.
이하, 본 발명을 적용함에 따른 내구성 향상을 확인하기 위해 덴탈버와 동일한 모재인 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인서트 바이트(이하, '본 발명을 적용하지 않은 인서트 바이트'라 함)와 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인설트 바이트(이하, '본 발명을 적용한 인서트 바이트'라 함)의 절삭 시험을 수행하였다.
치아 법랑질의 기계적 물성(300~400 knoop hardness)과 탄성계수(84GPa)와 유사한 Al 2024-O(330knoop hardness, 탄성계수 73.1GPa)를 피삭재로 하고, 지름 20mm 길이 0.1m의 샤프트 형태로 가공된 피삭재를 1회 절삭하는 것을 1 사이클로, 1, 2, 3, 4회 절삭 시행함에 따른 인서트 바이트의 표면, 절삭 칩의 형상 및 피삭재의 표면 형상을 확인하였다.
시험조건은 아래 표 5와 같다.
피삭재 Al 2024-O
절삭속도 960mm/min
절입량 6mm
rpm 1260rev/min
fn 0.38mm/rev
1회 절삭량 0.2m
절삭유 X
도 10은 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인설트 바이트를 나타낸 도면이고, 도 11은 절삭횟수를 증가함에 따른 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인설트 바이트의 일 측면(1001)의 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 12는 절삭횟수를 증가함에 따른 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인설트 바이트의 다른 측면(1002)의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 11 내지 12를 참조하면, 본 발명을 적용하지 않은 인서트 바이트는 절삭 횟수가 증가함에 따라 불규칙적인 표면 형상을 가지고, 절삭 횟수가 증가함에 따라 불규칙적 표면 형상을 가지는 부분의 면적이 증가하는 것을 확인할 수 있었다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인설트 바이트를 나타낸 도면이고, 도 14는 절삭횟수를 증가함에 따른 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인설트 바이트의 일 측면(301)의 표면 형상을 나타낸 도면이고, 도 15는 절삭횟수를 증가함에 따른 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인설트 바이트의 다른 측면(302)의 표면 형상을 나타낸 도면이다.
도 14 내지 도 15를 참조하면, 본 발명을 적용한 인서트 바이트는 절삭 횟수가 증가함에 따라 부분적인 박리를 제외하고 표면 형상이 일정하게 유지됨을 확인할 수 있었다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인설트 바이트와 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인설트 바이트에 의해 절삭된 절삭칩을 나타낸 도면이다.
월간공구저널(Monthly Tools Journal)에 실린 내용을 참고하면, 도 16에 도시된 본 발명을 적용한 인서트 바이트로부터 절삭된 절삭칩(401)은 짧은 길이의 나선형 칩 및 헤리컬칩 형상으로 좋은 칩 형상을 가지는 것을 확인할 수 있었으며, 본 발명을 적용하지 않은 인서트 바이트로부터 절삭된 절삭칩(1003)은 평헤리컬칩 형태로 비추천되는 칩 형상을 가지는 것을 확인할 수 있었다.
도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법에 따라 다이아몬드 코팅된 WC-Co를 모재로 하는 인설트 바이트와 WC-Co를 모재로 하는 종래의 인설트 바이트에 의해 절삭된 피삭재를 나타낸 도면으로, 도 17를 참조하면, 본 발명을 적용한 인서트 바이트를 통해 절삭된 피삭재(501)는 일정한 패턴의 표명 형상을 가짐을 확인할 수 있었으며, 본 발명을 적용하지 않은 인서트 바이트를 통해 절삭된 피삭재(1004)는 불규칙한 물결 패턴의 표면 형상을 가지는 것을 확인할 수 있었다.
본 발명의 일실시예에 따라 다이아몬드 코팅된 인서트 바이트의 절삭 시험을 통해 본 발명을 적용함에 따른 절삭 공구의 내구성 향상을 확인할 수 있었으며, 절삭 공구의 내구성을 향상시킴으로써 종래의 일회용 덴탈 버를 포함하는 일회용 절삭 공구의 다회 사용을 가능하게 하여 의료 폐기물을 줄이는 효과를 기대할 수 있다.

Claims (4)

  1. WC-Co를 모재로 하는 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계;
    에칭된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계;
    상기 다이아몬드 입자가 시딩된 절삭 공구를 세척하는 단계; 및
    상기 절삭 공구의 표면을 에칭하는 단계, 상기 다이아몬드 입자를 시딩하는 단계 및 상기 세척하는 단계를 통해 전처리된 절삭 공구를 HFCVD 기법을 이용하여 다이아몬드 증착하는 단계;
    를 포함하는 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 HFCVD 기법을 이용하여 증착하는 단계는
    상기 전처리된 절삭 공구를 화학반응이 진행될 HFCVD 장비의 챔버 내에 위치시키는 단계;
    상기 챔버 상부에 상기 전처리된 절삭 공구와 이격되게 필라멘트를 위치시키는 단계; 및
    상기 필라멘트에 기설정된 전력을 부여하고, 상기 챔버 내에 아세톤 가스를 공급하여 상기 전처리된 절삭 공구의 표면에 다이아몬드 박막을 형성하는 단계;
    를 포함하는 것
    인 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 필라멘트를 위치시키는 단계는
    상기 필라멘트를 상기 전처리된 절삭 공구와 8mm 내지 12mm 이격되게 위치시키는 것
    인 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 전처리된 절삭 공구에 다이아몬드를 증착하는 단계는
    수소가스와 버블링을 통해 상기 아세톤 가스를 공급하는 것이며,
    상기 아세톤 가스의 유량은 90sccm 내지 200sccm인 것
    인 내마모성 개선을 위한 절삭 공구의 다이아몬드 코팅 방법.
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Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030067145A (ko) 2002-02-07 2003-08-14 삼성 엔이씨 모바일 디스플레이 주식회사 유기전자 발광소자
KR20160132634A (ko) 2015-05-11 2016-11-21 (주)보명이앤씨 방탐용 불요파 제거 장치 및 휴대형 방탐용 신호 계측 장치

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