KR20210090680A - 최적화된 듀얼 에너지 모달리티들을 갖는 스킨 케어 디바이스, 및 관련 시스템들과 방법들 - Google Patents

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Abstract

최적화된 듀얼 에너지 모달리티들(dual energy modalities)을 갖는 스킨 케어 디바이스(skincare device)가 제공된다. 일 실시예에서, 스킨 케어 디바이스는 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 돌출 엘리먼트들(protruding elements)을 갖는 바디(body)를 포함하고, 돌출 엘리먼트들은 작동 중에 진동하도록(vibrate) 구성된다. 또한, 스킨 케어 디바이스는 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 엔드 이펙터(end effector)를 포함하고, 엔드 이펙터는 작동 중에 중심 축을 중심으로 오실레이션하도록(oscillate) 구성된다.

Description

최적화된 듀얼 에너지 모달리티들을 갖는 스킨 케어 디바이스, 및 관련 시스템들과 방법들
본 출원은, 그 전체가 참조로서 여기에 포함되는, 2018년 12월 18일에 출원된 미국 출원 제16/224,608호의 이익을 주장한다.
본 항목은, 아래의 상세한 설명에서 더 기술되는, 단순화된 형태의 개념들의 선택을 소개하기 위해 제공된다. 본 항목은 청구된 주제의 주요 특징들을 식별하기 위한 것이 아니며, 청구된 주제의 범위를 결정하는 데 도움을 주기 위한 것도 아니다.
일 실시예에서, 스킨 케어 디바이스는 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 돌출 엘리먼트들(protruding elements)을 갖는 바디(body)를 포함하고, 돌출 엘리먼트들은 작동 중에 진동하도록(vibrate) 구성된다. 또한, 스킨 케어 디바이스는 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 엔드 이펙터(end effector)를 포함하고, 엔드 이펙터는 작동 중에 일 축을 중심으로 오실레이션하도록(oscillate) 구성된다.
일 양태에서, 바디는 돌출 엘리먼트들의 진동들(vibrations)을 생성하도록 구성되는 공진 구조(resonant structure)를 갖는다. 다른 양태에서, 공진 구조는, 제1 공진 주파수에서 공진하도록 구성되는 제1 공진 구조, 및 제2 공진 주파수에서 공진하도록 구성되는 제2 공진 구조를 포함한다. 제1 공진 주파수는 제2 공진 주파수와 상이할 수 있다.
일 양태에서, 돌출 엘리먼트들은, 제1 사이즈를 갖는 복수의 제1 돌출 엘리먼트들, 및 제1 사이즈와 상이한 제2 사이즈를 갖는 복수의 제2 돌출 엘리먼트들을 포함한다. 제1 공진 구조는 복수의 제1 돌출 엘리먼트들 상에 제1 공진 주파수를 부여하도록 구성되고, 제2 공진 구조는 복수의 제2 돌출 엘리먼트들 상에 제2 공진 주파수를 부여하도록 구성된다.
일 양태에서, 복수의 제1 돌출 엘리먼트들은 제1 형상을 갖고, 복수의 제2 돌출 엘리먼트들은 제1 형상과 상이한 제2 형상을 갖는다.
일 양태에서, 공진 구조는 엔드 이펙터의 오실레이션들에 의해 적어도 부분적으로 진동하도록 야기되는 금속 와이어(wire) 또는 스트립(strip)이다.
다른 양태에서, 공진 구조는 적어도 하나의 압전 엘리먼트(piezoelectric element)를 포함하고, 압전 엘리먼트는 압전 엘리먼트에 공급되는 전압에 기반하여 수축 및 팽창하도록 구성된다.
일 양태에서, 공진 구조는 엔드 이펙터로부터 방사상으로 멀어지도록 연장된다.
일 양태에서, 엔드 이펙터는 페이스 브러시(face brush)이다.
일 양태에서, 돌출 엘리먼트들의 진동은 엔드 이펙터의 오실레이션들에 의해 적어도 부분적으로 발생된다. 일 양태에서, 엔드 이펙터는 적어도 하나의 회전하는 제1 마그넷(magnet), 및 상기 회전하는 제1 마그넷과 반대되는 적어도 하나의 고정된 제2 마그넷을 갖는다. 돌출 엘리먼트들은 적어도 하나의 회전하는 제1 마그넷과 적어도 하나의 고정된 제2 마그넷 사이의 자기적 상호 작용들(magnetic interactions)에 기반하여 적어도 부분적으로 진동한다.
일 양태에서, 바디는 사용자의 손을 위한 오프닝(opening)을 포함한다. 다른 양태에서, 바디는 실리콘 재료(silicon material)로 제조된다.
일 양태에서, 스킨 케어 디바이스는 충전 스탠드(charging stand)에 있는 제1 충전 코일(charging coil), 및 바디에 있는 제2 충전 코일을 더 포함하고, 제1 충전 코일은 제2 충전 코일과의 전자기적 상호 작용들(electromagnetic interactions)을 통해 전기 에너지를 수신하도록 구성된다.
일 양태에서, 바디는 엔드 이펙터의 작동을 제어하도록 구성되는 컨트롤러(controller)를 갖는 인쇄 회로 기판(printed circuit board; PCB)을 포함한다.
일 실시예에서, 스킨 케어 디바이스는, 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 오실레이션 브러시 헤드(oscillating brush head), 및 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 돌출 엘리먼트들을 갖는 바디를 포함하고, 돌출 엘리먼트들은 진동 소스(source of vibrations)에 응답하여 진동하도록 구성된다.
일 양태에서, 진동 소스는 바디에 있는 공진 구조이다. 다른 양태에서, 공진 구조는 압전 엘리먼트이고, 압전 엘리먼트는 압전 엘리먼트에 공급되는 전압에 기반하여 수축 및 팽창하도록 구성된다.
일 양태에서, 공진 구조는 엔드 이펙터로부터 방사상으로 멀어지도록 연장된다.
일 양태에서, 공진 구조는, 제1 공진 주파수에서 공진하도록 구성되는 제1 공진 구조, 및 제2 공진 주파수에서 공진하도록 구성되는 제2 공진 구조를 포함하고, 제1 공진 주파수는 제2 공진 주파수와 상이하다.
일 양태에서, 돌출 엘리먼트들은, 제1 사이즈를 갖는 복수의 제1 돌출 엘리먼트들, 및 제1 사이즈와 상이한 제2 사이즈를 갖는 복수의 제2 돌출 엘리먼트들을 포함한다. 제1 공진 구조는 복수의 제1 돌출 엘리먼트들 상에 제1 공진 주파수를 부여하도록 구성되고, 제2 공진 구조는 복수의 제2 돌출 엘리먼트들 상에 제2 공진 주파수를 부여하도록 구성된다.
일 양태에서, 스킨 케어 디바이스는, 모터(motor), 모터를 오실레이션 브러시 헤드와 기계적으로 연결하는 샤프트(shaft), 오실레이션 브러시 헤드에 있는 복수의 제1 마그넷들, 및 바디에 있는 복수의 제2 마그넷들을 더 포함한다. 복수의 제2 마그넷들은 오실레이션 브러시 헤드의 적어도 일부 각도 위치들에서 복수의 제1 마그넷들과 마주한다. 공진 구조는 복수의 제1 마그넷들과 복수의 제2 마그넷들 사이의 상호 작용들에 기반하여 적어도 부분적으로 진동하도록 구성되는 복수의 금속 와이어들 또는 스트립들이다.
본 발명의 기술에 대한 전술된 양태들 및 수반되는 많은 이점들은, 첨부된 도면과 관련하여 아래의 상세한 설명을 참조하여 더 잘 이해됨에 따라, 더 쉽게 인식될 것이다.
도 1a는 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스의 정면도이다;
도 1b는 도 1a에 도시된 스킨 케어 디바이스의 측단면도이다;
도 1c는 도 1a에 도시된 스킨 케어 디바이스의 후면도이다;
도 2는 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스의 부분 평면도이다;
도 2a는 본 기술의 일 실시예에 따른 페이스 브러시의 정면도이다;
도 2b는 도 2b에 도시된 페이스 브러시의 측면도이다;
도 3은 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스의 부분 개략도이다;
도 4a는 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스의 측면도이다;
도 4b는 도 4a에 도시된 스킨 케어 디바이스의 후면도이다;
도 5a 및 도 5b는 도 4b에 도시된 스킨 케어 디바이스의 상세도이다; 그리고
도 5c는 도 5a의 상세 A의 단면도이다.
이하의 개시는 브러시 헤드 수명을 측정하고 표시하기 위한 시스템들 및 관련 방법들에 대한 다양한 실시예들을 설명한다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 사람은, 이 기술이 추가적인 실시예들을 가질 수 있고, 이 기술이 도 1 내지 도 5c를 참조하여 후술되는 실시예들의 여러 세부 사항들 없이 실행될 수 있다는 것을 이해할 것이다.
간략하게 설명하면, 듀얼 에너지 모달리티들을 갖는 스킨 케어 디바이스들 및 방법들이 여기에 설명된다. 일부 실시예들에서, 디바이스는 오실레이션하는(oscillating) 엔드 이펙터 및 디바이스의 외부 표면에 분포되는(distributed) 복수의 돌출 엘리먼트들(“비드 헤드들(bead heads)” 또는 “진동 비드들(vibratory beads)”로도 지칭됨)을 포함한다. 작동 중에, 엔드 이펙터(예컨대, 페이스 브러시)는 사용자의 피부 상에 움직임(motion)을 부여하기 위해 오실레이션한다. 이러한 엔드 이펙터의 오실레이션들은 돌출 엘리먼트들에 진동 여진들(vibratory excitations)을 제공할 수 있다. 돌출 엘리먼트들은 사용자의 피부와 접촉하고, 엔드 이펙터의 동작(action)에 추가하여 사용자의 피부를 진동하게 한다(vibrate). 본 발명의 디바이스는 사용자의 피부의 특정 영역들에 대한 개선된 핸들링(handling)을 위해, 사용자의 손을 위한 오프닝을 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 엔드 이펙터에서 발생하는 진동들은 공진 구조들을 통해(예컨대, 수동(passive) 공진 구조들을 통해) 돌출 엘리먼트들로 전달된다. 다른 실시예들에서, 돌출 엘리먼트들의 진동들은 공진 구조들 자체에 의해(예컨대, 능동(active) 공진 구조들에 의해) 생성된다. 이러한 능동 공진 구조에 대한 비-제한적인 예로는, 교류(alternate current; AC) 소스의 적용에 응답하여 팽창 및 수축하는 압전 엘리먼트가 있다.
일부 실시예들에서, 공진 구조는, 예컨대 금속들과 같은 재료의 와이어들 또는 스트립들을 포함한다. 상이한 부분의 공진 구조는 상이한 주파수들에서 공진하도록 설계되거나 크기가 조정될 수 있다. 예를 들어, 일 부분의 공진 구조는 다른 부분의 공진 구조보다 낮은 주파수에서 공진할 수 있다. 이론에 얽매이지 않고, 낮은 주파수들의 진동은 조직의 더 깊은 층들에 영향을 미치는 한편, 높은 주파수들의 진동은 조직의 더 많은 국소 층들에 영향을 미친다고 믿어진다. 또한, 이론에 얽매이지 않고, 피부와 접촉하는 돌출 엘리먼트들의 상이한 주파수들은 피부에 상이한 열적 효과들을 가질 수 있다고 믿어진다. 일부 실시예들에서, 사용자의 피부에서의 다수의 진동 주파수들(vibration frequencies) 및/또는 열적 효과들은 사용자의 치료 결과 또는 쾌감을 향상시킨다. 이러한 다수의 진동 주파수들 및 열적 효과들을 총칭하여, 듀얼 에너지 또는 멀티(multi) 에너지 모달리티들이라고 한다.
도 1a는 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스의 정면도이다. 일부 실시예들에서, 스킨 케어 디바이스(1000)는 작동 중일 때 중심 축을 중심으로 오실레이션하는 엔드 이펙터(예컨대, 브러시 헤드)(100)를 갖는 페이스 브러시이다. 브러시 헤드(100)의 오실레이션 동작은 공진 구조들(250)을 통해 돌출 엘리먼트들(264) 상에 전달되는 진동들을 발생시킬 수 있다. 주변에(peripherally) 분포되는 돌출 엘리먼트들(264)이 도 1a에 도시되어 있지만, 돌출 엘리먼트들(264)의 다른 분포들도 가능하다.
일부 실시예들에서, 공진 구조들(250)은 금속 프로파일들(profiles)(예컨대, 금속 라인들(lines), 금속 스트립들, 금속 와이어들 등)을 포함한다. 도시된 공진 구조들(250)은 디바이스의 중심선에 대해 대칭적으로 분포되지만, 예컨대, 비대칭적인 것과 같은 다른 분포들도 가능하다.
상이한 부분들의 공진 구조들(250)은 상이한 진동 모드들(vibration modes)을 촉진하는 상이한 공진 특성들(properties)(예컨대, 공진 주파수들)을 가질 수 있다. 예를 들어, 공진 구조(150-1)는 상대적으로 작은 단면 관성 모멘트(area moment of inertia)(굽힘 모멘트(bending moment))를 갖도록 상대적으로 얇을 수 있고, 이에 따라, 상대적으로 낮은 공진 주파수(f1)가 초래될 수 있다. 한편, 공진 구조(250-3)는 상대적으로 두껍고 짧을 수 있고, 이에 따라, 상대적으로 높은 공진 주파수(f3)가 초래될 수 있다. 공진 구조(250-2)의 공진 특성들은 공진 구조들(250-1 및 250-3)의 공진 특성들 사이에 있을 수 있고, 이에 따라, 주파수들(f1 및 f3) 사이에 있는 공진 주파수(f2)를 가질 수 있다. 따라서, 디바이스의 개별 공진 구조들(250)의 크기를 조정하고 형성함으로써, 스킨 케어 디바이스(1000)의 상이한 구역들이 상이한 진동 주파수들을 갖도록 설계되고 최적화될 수 있다.
일부 실시예들에서, 디바이스(1000)는 연질(soft) 재료들, 예컨대 라텍스(latex), 연질 고무 또는 연질 플라스틱으로 제조된다. 돌출 엘리먼트들(264)은 연질 또는 경질(hard) 재료들, 예컨대 경질 플라스틱 또는 고무로 제조될 수 있다. 상이한 실시예들에서, 돌출 엘리먼트들(264)은 도 1c 및 도 2를 참조하여 후술되는 바와 같이, 상이한 사이즈 및/또는 형상을 가질 수 있다.
스킨 케어 디바이스(1000)는 회로 기판(220)에 있는 컨트롤러(222)에 의해 제어될 수 있다. 디바이스(1000)는 배터리(225) 및/또는 한 쌍의 충전 코일들(210/310)에 의해 전역을 공급받을 수 있다. 디바이스(1000)는 충전 스탠드(300)를 통해 충전될 수 있다.
도 1b는 도 1a에도시된 스킨 케어 디바이스(1000)의 측단면도이다. 작동 중에, 브러시 헤드(100)가 샤프트(230)에 의해 중심 축을 중심으로 오실레이션하도록 구동되면서, 브리스틀들(bristles)(110)들이 사용자의 피부에 접촉한다. 모터(240)는 충전 코스(210/310)를 통해 교류 소스(316)로부터 전력을 공급받을 수 있다.
일부 실시예들에서, 하우징(200)은 복수의 마그넷들(260-1)을 갖고, 브러시 헤드(엔드 이펙터)(100)는 반대되는 복수의 마그넷들(260-2)을 갖는다. 마그넷들(260-2)이 중심 축을 중심으로 오실레이션함에 따라, 반대되는 마그넷들은 상이한 자극들(magnetic poles)이 마주할 때 인력 및 척력(attractive and repulsive forces)을 경험하고, 그 결과 하우징(200)의 진동들이 발생된다. 이러한 진동들은 도 1c를 참조하여 후술되는 바와 같이, 공진 구조(250)로 전달되고, 나아가, 돌출 엘리먼트들(264)로 전달될 수 있다.
도 1c는 도 1a에 도시된 스킨 케어 디바이스의 후면도이다. 도시된 스킨 케어 디바이스(1000)는 여러 그룹들의 돌출 엘리먼트들(264)을 포함한다. 작동 중에, 이러한 상이한 그룹들의 돌출 엘리먼트들(264)은 하나 이상의 공진 구조들(250)에 대한 근접성(proximity)에 기반하여, 상이한 주파수들에서 진동할 수 있다. 예를 들어, 돌출 엘리먼트들(264-1)은 공진 구조(250-1)의 상대적으로 낮은 공진 주파수(f1)에서 진동할 수 있다. 이론에 얽매이지 않고, 상대적으로 낮은 진동 주파수(f1)와 결합되는 상대적으로 큰 사이즈의 돌출 엘리먼트들(264-1)은, 예컨대 사용자의 피부에 대한 향상된 열적 효과들 및/또는 증가된 깊이의 조직 치료를 초래할 수 있다고 믿어진다. 이와는 반대로, 상대적으로 높은 진동 주파수(f3)와 결합되는 상대적으로 작은 사이즈의 돌출 엘리먼트들(264-3)은 감소된 깊이의 조직 치료를 초래할 수 있다. 일부 실시예들에서, 돌출 엘리먼트들(264-1, 264-2 및 264-3)은 상이한 형상들을 갖는다. 도시된 실시예에서, 세 개의 그룹들의 돌출 엘리먼트들(264)이 도시되어 있다. 그러나, 상이한 실시예들의 스킨 케어 디바이스는 상이한 개수의 그룹들의 돌출 엘리먼트들을 포함할 수 있다.
도 2는 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스(1000)의 부분 평면도이다. 이 부분 도면에서, 하우징(200) 내 마그넷들(260)이 보이도록, 브러시 헤드(100)가 제거된다. 다른 실시예들에서, 엘리먼트들(260)은 다른 진동 소스들, 예컨대 교류에 응답하여 진동하는 압전 엘리먼트들일 수 있다.
도시된 실시예의 스킨 케어 디바이스는 상이한 사이즈들 및 형상들을 갖는 돌출 엘리먼트들(264)을 포함한다. 이러한 돌출 엘리먼트들은 공진 구조들(250)의 오실레이션 주파수들(frequencies of oscillation)에 기반하여, 상이한 주파수들에서 진동할 수 있다.
도 2a는 본 기술의 일 실시예에 따른 페이스 브러시의 정면도이다. 도시된 페이스 브러시(100)는, 브러시 헤드(100)가 오실레이션함에 따라 사용자의 피부에 접촉하는 브리스틀들(110)을 포함한다. 도 2b는 도 2a에 도시된 페이스 브러시의 측면도이다. 페이스 브러시(100)는 브리스틀들(110)을 향하는 북극들(north poles) 및 하우징(도시되지 않음)의 반대되는 마그넷들을 향하는 남극들(south poles)을 갖는 복수의 마그넷들(260)을 포함한다. 상이한 실시예들에서, N-S 배향 및 마그넷들(260)의 개수는 상이할 수 있다.
도 3은 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스의 부분 개략도이다. 일부 실시예들에서, 스킨 케어 디바이스(1000)는 사용자의 손(500)을 위한 오프닝을 포함할 수 있다. 작동 중에, 사용자는 스킨 케어 디바이스(1000)를 얼굴에 접촉시켜, 예컨대 원하는 얼굴 마사지 또는 열적 효과들을 얻을 수 있다. 도시된 스킨 케어 디바이스(1000)는 방사상으로 배열되는 공진 구조들(250)의 세트를 포함하지만, 다른 배열들도 가능하다. 도시된 돌출 엘리먼트들(264)은 상이한 사이드, 경도(hardness), 그 외부 표면의 평활도(smoothness), 열적 특성들, 또는 사용자의 촉각 또는 열적 감각과 관련된 다른 특성들을 가질 수 있다.
도 4a는 본 기술의 일 실시예에 따른 스킨 케어 디바이스의 측면도이다. 도시된 실시예는 돌출 엘리먼트들(264)을 진동하게 하는 능동 공진 구조(262)를 포함한다. 도 4b는 도 4a에 도시된 스킨 케어 디바이스의 후면도이다. 돌출 엘리먼트들(264)은 스키 케어 디바이스(1000)의 측면 에지들(side edges)을 따라 배열되지만, 다른 실시예들에서, 돌출 엘리먼트들(264)은 스킨 케어 디바이스의 다른 구역들에 배열될 수 있다. 예를 들어, 돌출 엘리먼트들(264)은 스킨 케어 디바이스(1000)의 전면 및 후면 위에 배열될 수 있다. 도 4b의 상세 A는 도 5a 내지 도 5c에 도시되어 있다.
도 5a 및 도 5b는 도 4b에 도시된 스킨 케어 디바이스의 상세도이다. 도 5a는 무전력(unpowered) 또는 비활성(inactive) 상태의 공진 구조(262)를 도시하고 있다. 도 5b는 전력(powered) 또는 활성(active) 상태의 공진 구조(262)를 도시하고 있다. 공진 구조(262)는 AC 전압 소스에 연결된 압전 엘리먼트일 수 있다. 활성 상태에 있을 때, 공진 구조(262)는 에너지 소스(266)로부터의 AC 전압에 의해 활성화된다. 일반적으로, 소스(266)의 주파수가 공진 구조(262)의 진동 주파수를 결정하고, 이에 따라, 돌출 엘리먼트들(264)의 진동 주파수가 적어도 부분적으로 결정된다. 일부 실시예들에서, 공진 구조(262)의 진동 주파수는 AC 소스(266)의 주파수의 배수(multiple) 또는 일부(fraction)일 수 있다. 도시된 실시예는 하나의 AC 소스(266)에 의해 전력을 공급받는 단일 공진 구조(262)를 포함한다. 그러나, 상이한 실시예들에서, 스킨 케어 디바이스는 상이한 주파수들에서 작동하는 전용 AC 소스들(266)에 의해 전력을 공급받는 다수의 공진 구조들(262)을 포함할 수 있다.
도 5c는 도 5a의 상세 A의 단면도이다. 도시된 실시예에서, 공진 구조(262) 및 돌출 엘리먼트들(264)은 진동 트랜스듀서(260)를 포함한다. 공진 구조(262)는 돌출 엘리먼트(264)를 갖는 재료에 매립될 수 있다. 일부 실시예들에서, 공진 구조(262)의 단면의 사이즈 및/또는 형상은 돌출 엘리먼트들의 오실레이션 진폭을 적어도 부분적으로 결정할 수 있는 한편, AC 소스(266)의 주파수는 진동들의 주파수를 결정한다.
상술된 기술의 많은 실시예들은 프로그램 가능 컴퓨터 또는 컨트롤러에 의해 실행되는 루틴들(routines)을 포함하여, 컴퓨터- 또는 컨트롤러-실행 가능 명령어들의 형태를 취할 수 있다. 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 사람은, 이 기술이 위에서 도시되고 설명된 것 이외의 컴퓨터/컨트롤러 시스템들에서 실행될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 이 기술은 상술된 컴퓨터-실행 가능 명령어들 중 하나 이상을 수행하도록 특별히 프로그래밍, 구성 또는 구현되는 특수-목적의 컴퓨터, 컨트롤러 또는 데이터 프로세서에서 구현될 수 있다. 따라서, 여기에서 일반적으로 사용되는 “컴퓨터” 및 “컨트롤러”라는 용어들은 모든 데이터 프로세서를 지칭하며, 인터넷 기기들 및 핸드-헬드 디바이스들(팜-탑 컴퓨터들, 웨어러블 컴퓨터들, 셀룰러 또는 모바일 폰들, 멀티-프로세서 시스템들, 프로세서-기반 또는 프로그래밍 가능 가전 제품들, 네트워크 컴퓨터들, 미니 컴퓨터들 등을 포함함)을 포함할 수 있다.
전술한 바로부터, 기술의 특정 실시예들이 예시의 목적으로 여기에 설명되었지만, 본 개시로부터 벗어나지 않고 다양한 수정들이 이루어질 수 있다는 것을 이해할 것이다. 예를 들어, 일부 실시예들에서, 카운터(counter) 또는 컨트롤러는 커패시터(capacitor)에 연결된 저전력 벅 레귤레이터(buck regulator)를 기반으로 할 수 있다. 더욱이, 특정 실시예들과 관련된 다양한 이점들 및 특징들이 이러한 실시예들의 맥락에서 상술되었지만, 다른 실시예들도 그러한 이점들 및/또는 특징들을 나타낼 수 있으며, 모든 실시예들이 이 기술의 범위 내에 속하기 위해 그러한 장점들 및/또는 특징들을 나타낼 필요는 없다. 따라서, 본 개시는 여기에 명시적으로 도시되거나 설명되지 않은 다른 실시예들을 포함할 수 있다.
또한, 본 출원은 수량들 및 숫자들을 언급할 수 있다. 구체적으로 명시되지 않는 한, 그러한 수량들 및 숫자들은 제한적인 것으로 간주되지 않으며, 본 출원과 관련된 가능한 수량들 또는 숫자들의 예시이다. 또한, 이와 관련하여, 본 출원은 수량 또는 숫자를 언급하기 위해, “복수”라는 용어를 사용할 수 있다. 이와 관련하여, “복수”라는 용어는 하나보다 많은 어떤 개수, 예컨대 두 개, 세 개, 네 개, 다섯 개 등을 의미한다. “약”, “대략” 등의 용어들은 명시된 값의 플러스 또는 마이너스 5%를 의미한다.
본 개시의 원리들, 대표적인 실시예들 및 작동 모드들이 전술된 설명에 기술되었다. 그러나, 보호받고자 하는 본 개시의 양태들은 개시된 특정 실시예들로 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다. 또한, 여기에 기술된 실시예들은 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 간주되어야 한다. 변경들 및 변형들이 본 개시의 사상에서 벗어나지 않고 다른 사람들 및 사용되는 등가물들에 의해 이루어질 수 있다는 것이 이해될 것이다. 따라서, 그러한 모든 변경들, 변형들 및 등가물들은 청구된 본 개시의 사상 및 범위 내에 속한다는 것이 명백히 의도된다.

Claims (15)

  1. 스킨 케어 디바이스(skincare device)에 있어서,
    사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 돌출 엘리먼트들(protruding elements)을 갖는 바디(body) - 상기 돌출 엘리먼트들은 작동 중에 진동하도록(vibrate) 구성되고, 상기 바디는 상기 돌출 엘리먼트들 중 하나 이상에 작동 가능하게 결합되는 공진 구조(resonant structure)를 갖고, 상기 공진 구조는 상기 하나 이상의 돌출 엘리먼트들의 진동들(vibrations)을 생성하도록 구성됨 -; 및
    상기 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 엔드 이펙터(end effector) - 상기 엔드 이펙터는 작동 중에 일 축을 중심으로 오실레이션하도록(oscillate) 구성됨 -
    를 포함하는,
    디바이스.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 공진 구조는,
    제1 공진 주파수에서 공진하도록 구성되는 제1 공진 구조; 및
    제2 공진 주파수에서 공진하도록 구성되는 제2 공진 구조
    를 포함하고,
    상기 제1 공진 주파수는,
    상기 제2 공진 주파수와 상이한,
    디바이스.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 돌출 엘리먼트들은,
    제1 사이즈를 갖는 복수의 제1 돌출 엘리먼트들, 및
    상기 제1 사이즈와 상이한 제2 사이즈를 갖는 복수의 제2 돌출 엘리먼트들
    을 포함하고,
    상기 제1 공진 구조는,
    상기 복수의 제1 돌출 엘리먼트들 상에 상기 제1 공진 주파수를 부여하도록 구성되며 - 상기 복수의 제1 돌출 엘리먼트들은 제1 형상을 가짐 -,
    상기 제2 공진 구조는,
    상기 복수의 제2 돌출 엘리먼트들 상에 상기 제2 공진 주파수를 부여하도록 구성되는 - 상기 복수의 제2 돌출 엘리먼트들은 상기 제1 형상과 상이한 제2 형상을 가짐 -,
    디바이스.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 공진 구조는,
    상기 엔드 이펙터의 오실레이션들(oscillations)에 의해 적어도 부분적으로 진동하도록 야기되는 금속 와이어(wire) 또는 스트립(strip)인,
    디바이스.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 공진 구조는,
    적어도 하나의 압전 엘리먼트(piezoelectric element)를 포함하고,
    상기 압전 엘리먼트는,
    상기 압전 엘리먼트에 공급되는 전압에 기반하여 수축 및 팽창하도록 구성되는,
    디바이스.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 공진 구조는,
    상기 엔드 이펙터로부터 방사상으로(radially) 멀어지도록 연장되는,
    디바이스.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 엔드 이펙터는,
    페이스 브러시(face brush)인,
    디바이스.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 돌출 엘리먼트들의 진동은,
    상기 엔드 이펙터의 오실레이션들에 의해 적어도 부분적으로 발생되고,
    상기 엔드 이펙터는,
    적어도 하나의 회전하는 제1 마그넷(magnet)을 갖고,
    상기 바디는,
    상기 회전하는 제1 마그넷과 반대되는 적어도 하나의 고정된 제2 마그넷을 갖고,
    상기 돌출 엘리먼트들은,
    상기 적어도 하나의 회전하는 제1 마그넷과 상기 적어도 하나의 고정된 제2 마그넷 사이의 자기적 상호 작용들(magnetic interactions)에 기반하여 적어도 부분적으로 진동하는,
    디바이스.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 바디는,
    상기 사용자의 손을 위한 오프닝(opening)을 포함하고,
    상기 바디는,
    실리콘 재료(silicon material)로 제조되는,
    디바이스.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 바디는,
    실리콘 재료로 제조되는,
    디바이스.
  11. 제1 항에 있어서,
    충전 스탠드(charging stand)에 있는 제1 충전 코일(charging coil); 및
    상기 바디에 있는 제2 충전 코일
    을 더 포함하고,
    상기 제1 충전 코일은,
    상기 제2 코일과의 전자기적 상호 작용들(electromagnetic interactions)을 통해 전기 에너지를 수신하도록 구성되고,
    상기 바디는,
    상기 엔드 이펙터의 작동을 제어하도록 구성되는 컨트롤러(controller)를 갖는 인쇄 회로 기판(printed circuit board; PCB)을 포함하는,
    디바이스.
  12. 스킨 케어 디바이스에 있어서,
    사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 오실레이션 브러시 헤드(oscillating brush head); 및
    상기 사용자의 피부에 접촉하도록 구성되는 돌출 엘리먼트들을 갖는 바디
    를 포함하고,
    상기 돌출 엘리먼트들은,
    진동 소스(source of vibrations)에 응답하여 진동하도록 구성되고,
    상기 진동 소스는,
    상기 바디에 있는 공진 구조인,
    디바이스.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 공진 구조는,
    압전 엘리먼트이고,
    상기 압전 엘리먼트는,
    상기 압전 엘리먼트에 공급되는 전압에 기반하여 수축 및 팽창하도록 구성되고,
    상기 공진 구조는,
    상기 엔드 이펙터로부터 방사상으로 멀어지도록 연장되는,
    디바이스.
  14. 제12 항에 있어서,
    상기 돌출 엘리먼트들은,
    제1 사이즈를 갖는 복수의 제1 돌출 엘리먼트들, 및
    상기 제1 사이즈와 상이한 제2 사이즈를 갖는 복수의 제2 돌출 엘리먼트들
    을 포함하고,
    제1 공진 구조는,
    상기 복수의 제1 돌출 엘리먼트들 상에 제1 공진 주파수를 부여하도록 구성되며,
    제2 공진 구조는,
    상기 복수의 제2 돌출 엘리먼트들 상에 제2 공진 주파수를 부여하도록 구성되는,
    디바이스.
  15. 제12 항에 있어서,
    모터(motor);
    상기 모터를 상기 오실레이션 브러시 헤드와 기계적으로 연결하는 샤프트(shaft);
    상기 오실레이션 브러시 헤드에 있는 복수의 제1 마그넷들; 및
    상기 바디에 있는 복수의 제2 마그넷들
    을 더 포함하고,
    상기 복수의 제2 마그넷들은 상기 오실레이션 브러시 헤드의 적어도 일부 각도 위치들에서 상기 복수의 제1 마그넷들과 마주하고,
    상기 공진 구조는,
    상기 복수의 제1 마그넷들과 상기 복수의 제2 마그넷들 사이의 상호 작용들에 기반하여 적어도 부분적으로 진동하도록 구성되는 복수의 금속 와이어들 또는 스트립들인,
    디바이스.
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