KR20210081794A - Rotation driving apparatus, film-forming system including the same, manufacturing method of electronic device and carrier for carrying subjectto be carried used in the film-forming apparatus - Google Patents
Rotation driving apparatus, film-forming system including the same, manufacturing method of electronic device and carrier for carrying subjectto be carried used in the film-forming apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210081794A KR20210081794A KR1020190174083A KR20190174083A KR20210081794A KR 20210081794 A KR20210081794 A KR 20210081794A KR 1020190174083 A KR1020190174083 A KR 1020190174083A KR 20190174083 A KR20190174083 A KR 20190174083A KR 20210081794 A KR20210081794 A KR 20210081794A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- carrier
- substrate
- film
- unit
- mounting surface
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/682—Mask-wafer alignment
-
- H01L51/0011—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Abstract
Description
본 발명은 기판에 성막을 행하는 성막 시스템에 있어서, 기판을 회전시키는데 사용되는 회전 구동 장치 및 피반송체 캐리어에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention [0001] The present invention relates to a rotation drive device and a carrier to be transported used for rotating a substrate in a film forming system for forming a film on a substrate.
유기EL 표시장치(유기 EL 디스플레이)의 제조에 있어서는, 유기 EL 표시장치를 구성하는 유기 발광소자(유기 EL 소자; OLED)를 형성할 때에, 성막장치의 증발원으로부터 증발한 증착재료를 화소 패턴이 형성된 마스크를 통해 기판에 성막함으로써, 유기물층이나 금속층을 형성한다. In the manufacture of an organic EL display device (organic EL display), when forming an organic light emitting element (organic EL element; OLED) constituting an organic EL display device, the deposition material evaporated from the evaporation source of the film forming apparatus is used for forming a pixel pattern By forming a film on the substrate through a mask, an organic material layer or a metal layer is formed.
이러한 성막 장치 또는 이를 포함하는 성막 시스템에는, 이른바 클러스터 타입의 것과 인라인 타입의 것이 있다. Such a film forming apparatus or a film forming system including the same includes a so-called cluster type and an inline type.
클러스터 타입의 성막 시스템에서는, 기판에 성막이 행해지는 복수의 성막실이 반송로봇이 설치되는 반송실 주위에 클러스터 형상으로 배치되며, 기판이 반송로봇에 의해 각 성막실로 순서대로 반송되어 성막됨으로써, 유기 발광 소자를 구성하는 복수층의 막이 형성된다. In a cluster type film forming system, a plurality of film forming chambers in which a film is formed on a substrate are arranged in a cluster shape around a transfer chamber in which a transfer robot is installed, and the substrate is sequentially transferred to each film forming chamber by the transfer robot to form a film. A plurality of layers constituting the light emitting element is formed.
한편, 인라인 타입의 성막 시스템에서는, 성막용의 기판이 탑재된 반송 캐리어가 라인 형상으로 배치된 복수의 성막실로 롤러식 또는 자기부상식의 반송기구에 의해 반송되면서 성막된다. On the other hand, in an in-line type film forming system, a carrier carrier on which a substrate for film forming is mounted is formed while being conveyed by a roller type or magnetic levitation type conveying mechanism to a plurality of film forming chambers arranged in a line shape.
인라인 타입의 성막 시스템은, 기판이 반입되는 로딩부, 반송 캐리어에 탑재된 기판에 대한 성막이 행해지는 성막부, 및 기판을 반출하는 언로딩부를 포함하는 제1 반송로를 가지고 있다. 인라인 타입의 성막 시스템은 또한, 빈 반송 캐리어를 회수하는 제2 반송로를 가지고 있다.The inline type film forming system has a first conveyance path including a loading unit into which a substrate is loaded, a film forming unit in which a film is formed on a substrate mounted on a conveyance carrier, and an unloading unit for unloading the substrate. The in-line type film forming system also has a second conveying path for collecting empty conveying carriers.
인라인 타입의 성막 시스템에 있어서, 기판은, 성막 시스템 외부로부터, 제1 반송로의 로딩부로 반입된다. 반입된 기판은, 로봇에 의해, 제2 반송로로부터의 빈 반송 캐리어의 상면에 성막면이 상방을 향한 상태로 재치된다. 반송 캐리어는, 기판을 흡착 보유지지한다. 반송 캐리어에 보유지지된 기판은 반송 캐리어 채로 상하가 반전되어, 성막면이 하방을 향한 상태로, 성막부로 반송된다. 성막부에서는, 기판의 하부에 배치된 성막원에 의해, 성막부에 고정 배치된 마스크를 통하여, 기판이 반송되면서 성막이 행해진다.In the in-line type film-forming system, a substrate is carried in from the outside of the film-forming system into the loading part of a 1st conveyance path. The carried-in board|substrate is mounted by a robot in the state which the film-forming surface turned upward on the upper surface of the empty conveyance carrier from a 2nd conveyance path. The transport carrier adsorbs and holds the substrate. The substrate held by the carrier carrier is turned upside down while the carrier carrier is there, and the substrate is transferred to the film forming unit with the film forming surface facing downward. In the film forming unit, film formation is performed while the substrate is conveyed through a mask fixedly arranged in the film forming unit by a film forming source disposed below the substrate.
성막 완료 후, 언로딩실로 반송된 반송 캐리어는, 재차 반전되어, 기판의 성막면이 상방을 향한 상태로 제2 반송로로 반송된다. 제2 반송로로 이동한 반송 캐리어는, 기판의 보유지지를 해소한다. 계속해서, 반출 로봇에 의해 기판만이 배출실로 반송되어, 성막 시스템 외부로 반출된다. 기판의 보유지지를 해소한 빈 반송 캐리어는, 제2 반송로를 따라 반송되어, 제1 반송로의 로딩부에 대응하는 위치로 돌아가고, 새로운 기판의 보유지지에 사용된다. After completion of film formation, the conveyance carrier conveyed to the unloading chamber is inverted again, and conveyed to the 2nd conveyance path with the film-forming surface of a board|substrate facing upward. The conveyance carrier moved to the 2nd conveyance path eliminates holding|maintenance of a board|substrate. Then, only the board|substrate is conveyed to the discharge chamber by the conveyance robot, and it is conveyed out of the film-forming system. The empty conveyance carrier in which the holding|maintenance of the board|substrate is eliminated is conveyed along the 2nd conveyance path, and it returns to the position corresponding to the loading part of the 1st conveyance path, and is used for holding|maintenance of a new board|substrate.
특허문헌 1(공개실용신안 제20-2019-0000162호)은, 인라인 타입의 성막 시스템의 반전실내에서 기판을 반송 캐리어에 보유지지시킨 후에 반송 캐리어를 반전시키는 구성을 개시하고 있다. Patent Document 1 (Public Utility Model Publication No. 20-2019-0000162) discloses a configuration in which the carrier carrier is inverted after the substrate is held by the carrier carrier in the inversion chamber of the in-line type film forming system.
반전실에서 기판을 반송 캐리어에 재치하여 흡착하는 구성에서는, 기판을 반송 캐리어의 기판 재치면으로 반송하는 반송로봇의 반송 오차로 인해 기판이 반송 캐리어상의 기준 위치로부터 어긋난 위치에 재치되는 경우가 있다. In a configuration in which a substrate is placed and sucked on a transfer carrier in the inversion chamber, the substrate may be placed at a position deviated from the reference position on the transfer carrier due to a transfer error of a transfer robot that transfers the substrate to the substrate mounting surface of the transfer carrier.
그러나, 특허문헌 1은 이러한 기판의 반송오차로 인해 기판이 반송 캐리어의 잘못된 위치에 재치되는 경우, 기판의 위치를 조정하기 위한 얼라인먼트 기구에 대해 개시하고 있지 않다. However, Patent Document 1 does not disclose an alignment mechanism for adjusting the position of the substrate when the substrate is placed in an incorrect position on the carrier carrier due to such a transfer error of the substrate.
또한, 반전실에 기판의 재치 위치를 조정하기 위한 얼라인먼트 기구를 설치하는 경우, 얼라인먼트 기구는 캐리어의 반전에 대응가능한 구성으로 될 필요가 있으며, 이에 따라 얼라인먼트 기구를 포함하는 반전실의 구성이 복잡해질 수 있다.In addition, when an alignment mechanism for adjusting the placement position of the substrate is provided in the inversion chamber, the alignment mechanism needs to be configured to be compatible with the inversion of the carrier, so that the configuration of the inversion chamber including the alignment mechanism becomes complicated. can
본 발명은, 반전실에서의 기판의 위치 조정(얼라인먼트)을 가능하게 한 회전 구동 장치, 이를 포함하는 성막시스템, 전자 디바이스 제조방법 및 이러한 성막시스템에 사용되는 피반송체 캐리어를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a rotational drive device that enables position adjustment (alignment) of a substrate in an inversion chamber, a film forming system including the same, an electronic device manufacturing method, and a carrier to be used in the film forming system. do.
본 발명의 제1 양태에 따른 회전 구동 장치는, 피반송체 캐리어를 회전시키기 위한 회전 구동 장치로서, 피반송체 캐리어가 재치되는 캐리어 재치부와, 상기 캐리어 재치부를 회전시키는 회전 기구와, 상기 피반송체 캐리어와 상기 피반송체 캐리어에 재치된 피반송체와의 상대 위치를 조정하기 위한 얼라인먼트 기구를 포함하며, 상기 얼라인먼트 기구는, 상기 피반송체 캐리어의 기판 보유지지면에 평행한 방향으로 이동가능한 스테이지부를 포함하며, 상기 스테이지부는, 상기 캐리어 재치부내에 설치되는 것을 특징으로 한다. A rotation drive device according to a first aspect of the present invention is a rotation drive device for rotating a carrier, comprising: a carrier mounting unit on which a carrier carrier is mounted; a rotation mechanism for rotating the carrier mounting unit; and an alignment mechanism for adjusting a relative position between a carrier carrier and an object mounted on the carrier, wherein the alignment mechanism moves in a direction parallel to the substrate holding surface of the carrier. It includes a possible stage part, wherein the stage part is characterized in that it is installed in the carrier mounting part.
본 발명의 제2 양태에 따른 성막시스템은, 기판에 성막을 행하는 성막장치와, 본 발명의 제1 양태에 따른 회전 구동 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다. A film forming system according to a second aspect of the present invention is characterized by including a film forming apparatus for forming a film on a substrate, and a rotational driving device according to the first aspect of the present invention.
본 발명의 제3 양태에 따른 전자 디바이스 제조방법은, 본 발명의 제2 양태에 따른 성막시스템을 사용하여 전자 디바이스를 제조하는 것을 특징으로 한다. An electronic device manufacturing method according to a third aspect of the present invention is characterized in that the electronic device is manufactured using the film forming system according to the second aspect of the present invention.
본 발명의 제4 양태에 따른 피반송체 캐리어는, 본 발명의 제1 양태에 따른 회전 구동 장치를 포함하는 성막 시스템에 사용되는 피반송체 캐리어로서, 상기 회전 구동 장치의 기판 수취부에 대응하는 위치에 상기 기판 수취부가 삽입되어 관통할 수 있는 관통 구멍이 설치된 것을 특징으로 한다. A transport target carrier according to a fourth aspect of the present invention is a transport target carrier used in a film forming system including the rotation drive device according to the first aspect of the invention, and corresponds to a substrate receiving portion of the rotation drive device. It is characterized in that a through hole through which the substrate receiving part is inserted into the position is installed.
본 발명에 의하면, 반전실내에 얼라인먼트 기구를 실장가능케 된다.According to the present invention, it is possible to mount the alignment mechanism in the inversion chamber.
도 1은, 유기 EL 표시장치의 성막시스템을 나타내는 개념도이다.
도 2a는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치의 단면 모식도이고, 도 2b는, 회전 구동 장치의 상면모식도이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치에 의한 기판의 반입 및 얼라인먼트 동작을 나타내는 도면이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치에 의한 기판의 반전처리 동작을 나타내는 도면이다.
도 5는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치에 의한 기판의 추가 반입 동작을 나타내는 도면이다.
도 6은, 전자 디바이스를 나타내는 모식도이다.1 is a conceptual diagram showing a film forming system of an organic EL display device.
Fig. 2A is a schematic cross-sectional view of a rotation drive device according to an embodiment of the present invention, and Fig. 2B is a schematic top view of the rotation drive device.
3 : is a figure which shows the carrying-in of the board|substrate and alignment operation|movement by the rotation drive apparatus which concerns on one Embodiment of this invention.
4 is a view showing an operation of inverting the substrate by the rotation driving device according to the embodiment of the present invention.
5 : is a figure which shows the additional carrying-in operation|movement of the board|substrate by the rotation drive apparatus which concerns on one Embodiment of this invention.
6 : is a schematic diagram which shows an electronic device.
이하에 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 설명한다. 단, 이하에 기재되어 있는 구성부품의 치수, 재질, 형상 및 그들의 상대 배치, 혹은 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 처리 플로우, 제조 조건 등은, 발명이 적용되는 장치의 구성이나 각종 조건에 의해 적절히 변경될 수 있으며, 본 발명의 범위를 이하에 기재된 실시형태로 한정하는 취지의 것이 아니다. 또한, 동일한 구성요소에는 원칙적으로 동일한 참조번호를 부여하고, 설명을 생략한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Preferred embodiment of this invention is described below, referring drawings. However, the dimensions, materials, shapes and their relative arrangement of the components described below, or the hardware configuration and software configuration of the device, processing flow, manufacturing conditions, etc. may be appropriately determined depending on the configuration and various conditions of the device to which the invention is applied. It is subject to change and is not intended to limit the scope of the present invention to the embodiments described below. In addition, in principle, the same reference numerals are assigned to the same components, and descriptions thereof are omitted.
본 발명은, 성막 대상물에 증발에 의한 성막을 행하는 성막 시스템에 바람직하며, 전형적으로는 유기 EL 패널을 제조하기 위해서 기판에 대하여 유기 재료 및/또는 금속성 재료 등을 증착하여 성막하는 전자 디바이스 제조용의 성막 시스템에 적용할 수 있다. 성막 대상물인 기판의 재료는, 척킹이 가능한 재료이면 되고, 유리 이외에도, 고분자 재료의 필름, 금속, 실리콘 등의 재료를 선택할 수 있다. 기판은, 예를 들면, 유리 기판 상에 폴리이미드 등의 필름이 적층된 기판 또는 실리콘 웨이퍼이어도 된다. 성막 재료로서도, 유기 재료 이외에, 금속성재료(금속, 금속산화물 등) 등을 선택해도 된다. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitable for a film forming system that forms a film on a film forming target by evaporation, and typically forms a film by depositing an organic material and/or a metallic material on a substrate to form an organic EL panel. can be applied to the system. The material of the substrate as the film forming object may be a material that can be chucked, and materials other than glass, such as a polymer film, metal, silicon, and the like can be selected. The board|substrate may be the board|substrate or silicon wafer by which films, such as polyimide, were laminated|stacked on the glass substrate, for example. As a film-forming material, you may select a metallic material (metal, a metal oxide, etc.) other than an organic material.
<성막 시스템의 전체 구성><The overall configuration of the film forming system>
도 1은, 유기 EL 표시장치의 성막 시스템(100)의 전체 구성을 나타내는 개념도이다. 개략적으로, 성막 시스템(100)은, 성막 처리 공정 반송로(100a)와 리턴 반송로(100b)를 포함하며, 성막 처리 공정 반송로(100a)와 리턴 반송로(100b) 사이에서 마스크(M) 및 반송 캐리어(C)를 회수 및 공급하기 위한, 마스크 회수 반송로(100c), 캐리어 회수 반송로(100d), 마스크 공급 반송로(100e), 및 캐리어 공급 반송로(100f)를 구비함으로써, 순환형 반송로를 구성한다. 1 : is a conceptual diagram which shows the whole structure of the film-forming system 100 of an organic electroluminescent display. Schematically, the film-forming system 100 includes a film-forming
성막 시스템(100)은 순환형 반송로를 구성하는 각 구성요소, 예를 들면 기판 반입/반전실(101), 얼라인먼트실(103), 성막실(105), 마스크 분리실(107), 기판 반전/배출실(109)을 포함한다. The film formation system 100 includes each component constituting the circulation type transport path, for example, a substrate loading/
본 실시형태에 따른 성막 시스템(100)에서는, 외부로부터 기판(G)이 반송 방향(화살표 A)으로 반입되며, 기판(G)과 마스크(M)가 반송 캐리어(C) 상에 위치결정되어 보유지지되고, 반송 캐리어(C)가 성막 처리 공정 반송로(100a)상을 이동하면서 기판(G)에 대해 성막 처리가 실시된 후, 성막 완료된 기판(G)이 배출된다. 리턴 반송로(100b)에서는, 성막 처리 완료 후에 반송 캐리어(C)로부터 분리된 마스크(M)와, 성막 완료된 기판(G)의 배출 후의 빈 반송 캐리어(C)가, 기판 반입 위치측으로 복귀한다.In the film-forming system 100 which concerns on this embodiment, the board|substrate G is carried in from the outside in the conveyance direction (arrow A), and the board|substrate G and the mask M are positioned and held on the conveyance carrier C. After being supported and film-forming process is performed with respect to the board|substrate G while the conveyance carrier C moves on the film-forming process
이하, 도 1을 참조하여, 성막 시스템(100)에 포함되는 구성요소에서의 동작 및 처리에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to FIG. 1 , operations and processing in the components included in the film forming system 100 will be described in more detail.
성막 시스템(100)의 성막 처리 공정 반송로(100a)에서는, 먼저, 외부로부터 기판(G)이 기판 반입/반전실(101)로 반입되어 반송 캐리어(C)상에 보유지지되며, 반송 캐리어(C)와 함께 상하로 반전(플립)된다.In the film-forming processing
즉, 외부의 기판 스톡커(미도시)로부터, 성막 처리 공정 반송로(100a) 상의 기판 반입/반전실(101)에 기판(G)이 반입되고, 먼저 반입되어 있던 빈 반송 캐리어(C) 상의 소정의 보유지지 위치에서, 기판 척킹 수단(예컨대, 정전척 또는 점착척)에 의해 척킹된다. 이 때, 반송 캐리어(C)는 기판 보유지지면 또는 기판 척킹면이 상방을 향한 자세이다. 기판(G)은, 반송 로봇(미도시)에 의해 기판 척킹면 상측으로 반입되어, 기판 척킹면에 재치된다.That is, from an external substrate stocker (not shown), the substrate G is loaded into the substrate loading/
이어서, 기판(G)을 보유지지한 반송 캐리어(C)는 기판 반입/반전실(101)의 회전 구동 장치(200, 도 2 참조)에 의해 상하가 반전(플립)된다. 예컨대, 회전 구동 장치(200)는, 기판(G)을 보유지지한 반송 캐리어(C)를 진행 방향(A)에 대하여 180도 회전시킨다. 이에 의해, 반송 캐리어(C) 및 기판(G)의 상하 관계가 반전하여, 기판(G)이 반송 캐리어(C)의 척킹면의 하방측이 되며, 기판(G)의 성막면은 하방을 향하게 된다. Next, the transfer carrier C holding the substrate G is vertically inverted (flipped) by the rotation drive device 200 (refer to FIG. 2 ) of the substrate carrying-in/
본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치(200)는, 후술하는 바와 같이, 기판 반입/반전실(101)로 반입된 기판(G)이 반전되기 전에, 기판(G)이 반송 캐리어(C)에 재치되는 위치를 조정하기 위한 얼라인먼트 기구를 포함한다.In the rotation driving apparatus 200 according to the embodiment of the present invention, before the substrate G carried into the substrate carrying-in/
반전된 반송 캐리어(C)는 롤러 반송 또는 자기 부상 반송 방식에 의해, 얼라인먼트실(103)로 반송되어, 마스크(M)와의 상대 위치가 조정된다. The inverted conveyance carrier C is conveyed to the
얼라인먼트실(103) 내에서, 반송 캐리어(302)는, 기판 척킹 수단에 의해 보유지지된 기판(G)이 하방을 향한 상태로 유지된다.In the
반송 캐리어(C)와 다른 루트(마스크 공급 반송로(100e))로 얼라인먼트실(103)로 반입된 마스크(M)는, 반송 캐리어(C)의 하방에 설치된 마스크 트레이(미도시)에 재치된다. 마스크(M)는, 마스크 트레이의 상승에 의해 반송 캐리어(C)에 보유지지된 기판(G)에 접근하며, 소정의 접근거리(계측위치)가 되면, 기판(G)과 마스크(M)에 대하여 얼라인먼트 동작이 행해진다.The mask M carried into the
얼라인먼트 동작에서는, 얼라인먼트 카메라에 의해, 기판(G)과 마스크(M)에 미리 형성되어 있는 얼라인먼트 마크를 촬상하여 양자의 위치 어긋남량 및 방향을 계측한다. In alignment operation|movement, the alignment mark previously formed in the board|substrate G and the mask M is imaged with an alignment camera, and both position shift amount and direction are measured.
계측된 위치 어긋남량 및 방향에 기초하여, 반송 캐리어(C)의 반송 구동계(예컨대, 자기 부상 반송계)에 의해 반송 캐리어(C)의 위치를 미세하게 이동함으로써 위치 조정(얼라인먼트)을 행한다. 기판(G)과 마스크(M)의 상대 위치 어긋남량이 소정의 임계치내로 들어오면, 반송 캐리어(C)에 설치된 자력인가수단(미도시)에 의해 마스크(M)가 끌어당겨져, 반송 캐리어(C)에 보유지지된다.Based on the measured position shift amount and direction, position adjustment (alignment) is performed by moving the position of the conveyance carrier C finely with the conveyance drive system (for example, a magnetic levitation conveyance system) of the conveyance carrier C. When the amount of relative positional shift between the substrate G and the mask M falls within a predetermined threshold, the mask M is pulled by the magnetic force applying means (not shown) provided on the transport carrier C, and the transport carrier C is held on
얼라인먼트가 완료되어, 얼라인먼트실(103)로부터 배출된 반송 캐리어(C)는, 성막실(105)로 반입된다. Alignment is completed, and the conveyance carrier C discharged|emitted from the
성막실(105)에서는, 기판(G) 및 마스크(M)를 보유지지한 반송 캐리어(C)를 소정의 속도로 이동시키면서, 성막실(105) 하부에 배치된 증발원으로부터 유기 EL 발광 재료를 증발시켜 상방의 기판(G)에 진공 성막한다. 본 실시형태에서는, 마스크(M)가 반송 캐리어(C)에 의해 기판(G)과 함께 보유 지지된 채로 반송되면서 성막처리가 행하지는 구성에 대해 설명하나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 마스크(M)는 각 성막실에 설치되어 있어도 된다.In the
성막 처리를 마치고 성막실(105)로부터 배출된 반송 캐리어(C)는, 마스크 분리실(107)로 반송되며, 마스크(M)가 반송 캐리어(C)로부터 하방으로 분리된다. 반송 캐리어(C)로부터 분리되어 하강한 마스크(M)는 마스크 분리실(107)로부터 마스크 회수 반송로(100c)를 따라 리턴 반송로(100b)로 반송된다. The conveyance carrier C discharged|emitted from the film-forming
그리고, 리턴 반송로(100b)상의 마스크 수취 위치에, 후술하는 기판 배출 후의 빈 반송 캐리어(C)가 이동해 오면, 마스크(M)는 다시 반송 캐리어(C)의 자력인가수단에 의해 보유지지된다. 이와 같이 마스크(M)만을 보유지지한 반송 캐리어(C)는, 리턴 반송로(100b)를 따라 마스크 공급 반송로(100e)측으로 반송된다.Then, when the empty transport carrier C after discharging the substrate, which will be described later, moves to the mask receiving position on the
한편, 마스크 분리실(107)에서 마스크(M)를 분리 완료한 반송 캐리어(C)는, 기판(G)만을 보유지지한 채 기판 반전/배출실(109)로 이동한다. 기판 반전/배출실(109)내에서는, 회전 구동 장치(미도시)가 반송 캐리어(C)를 진행 방향으로 180도 회전시킨다. 이에 의해, 기판(G)의 성막면이 상방을 향하게 된다. 본 실시형태에서는, 기판 반전/배출실(109)내의 회전 구동 장치는 기판 반입/반전실(101)내의 회전 구동 장치(200)와는 달리, 얼라인먼트 기구를 포함하지 않는다. On the other hand, the transport carrier C, which has been separated from the mask M in the
이어서, 기판(G)이 반송 캐리어(C)로부터 척킹 해제되며, 기판(G)은 도시하지 않는 배출 기구에 의해 다음 공정으로 반송된다.Next, the substrate G is unchucked from the transport carrier C, and the substrate G is transported to the next step by a discharging mechanism (not shown).
기판 반전/배출실(109)에서 기판(G)을 배출하여 빈 상태가 된 반송 캐리어(C)는, 캐리어 회수 반송로(100d)를 따라, 리턴 반송로(100b)의 시점 위치로 반송된다.The conveyance carrier C which became empty by discharging the board|substrate G from the board|substrate inversion/
빈 반송 캐리어(C)는 리턴 반송로(100b)를 따라 기판 반입/반전실(101)측으로 복귀한다. 이때, 빈 반송 캐리어(C)는, 전술한 바와 같이, 마스크 회수 반송로(100c)로부터 리턴 반송로(100b)로 반송되어 온 마스크(M)를 수취한다.The empty conveyance carrier C returns to the board|substrate carrying-in/
리턴 반송로(100b)를 따라 반송되어 온 반송 캐리어(C)는 마스크 공급 반송로(100e)에서 마스크(M)와 다시 분리되고, 분리된 마스크(M)는, 성막 처리 공정 반송로(100a) 상의 마스크 장착 위치로 반송된다. The conveyance carrier C conveyed along the
캐리어 공급 반송로(100f)에서 마스크(M)가 분리된 후의 빈 반송 캐리어(C)는, 리턴 반송로(100b)로부터 성막 처리 공정 반송로(100a)의 시점 위치인 기판 반입 및 반전 위치로 반송된다.The empty conveyance carrier C after the mask M is removed in the carrier
이에 의해, 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 시스템(100)은 순환형의 반송로를 이루게 된다.Thereby, the film-forming system 100 which concerns on one Embodiment of this invention forms a circulation type conveyance path.
<기판 반입/반전실의 회전 구동 장치><Rotational drive device in the board loading/reversing room>
도 2a는 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판 반입/반전실(101)에 설치되는 회전 구동 장치(200)의 단면 모식도이고, 도 2b는 회전 구동 장치(200)의 상면모식도이다.FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of the rotation driving device 200 installed in the substrate carrying-in/
본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치(200)는, 반송 캐리어(C)가 재치되는 캐리어 재치대(201, 캐리어 재치부)와, 캐리어 재치대(201)를 회전하여 상하 반전시키기 위한 회전 기구(203)와, 캐리어 재치대(201)와 기판(G)의 상대 위치를 조정하기 위한 얼라인먼트 기구(205)를 포함한다.The rotation drive apparatus 200 which concerns on one Embodiment of this invention rotates the carrier mounting table 201 (carrier mounting part) on which the conveyance carrier C is mounted, and the carrier mounting table 201, rotation for inverting up and down The
캐리어 재치대(201)는, 캐리어 공급 반송로(100f)를 따라 기판 반입/반전실(101)로 반입된 빈 반송 캐리어(C)가 재치되는 부재이다. 본 실시형태에 따른 캐리어 재치대(201)는, 도 2a에 도시한 바와 같이, 캐리어 재치대(201)의 대향하는 두 주면에 반송 캐리어(C)를 재치할 수 있는 구조를 가진다. 즉, 캐리어 재치대(201)는, 제1 캐리어 재치면(201a)과 제2 캐리어 재치면(201b)을 가진다.The carrier mounting table 201 is a member on which the empty conveyance carrier C carried in to the board|substrate carrying-in/
캐리어 재치대(201)는, 반송 캐리어(C)를 제1 캐리어 재치면(201a) 및 제2 캐리어 재치면(201b)에 고정하기 위한 캐리어 고정수단(미도시)을 각각 가진다. 캐리어 재치대(201)의 양 재치면 측에 각각 설치되는 캐리어 고정수단(제1 캐리어 고정 수단 및 제2 캐리어 고정 수단)은 예컨대, 클램핑 수단을 포함할 수 있다.The carrier mounting table 201 has carrier fixing means (not shown) for fixing the conveyance carrier C to the 1st
이러한 구성을 통해, 캐리어 재치대(201)의 제1 캐리어 재치면(201a) 상에 재치되어 고정된 반송 캐리어(C)를 반전시킨 후(제1 캐리어 재치면(201a)는 하방을 향하게 되며, 제2 캐리어 재치면(201b)은 상방을 향하게 된다), 캐리어 재치대(201)를 다시 원위치로 되돌리지 않아도, 새로운 반송 캐리어(C)를 제2 캐리어 재치면(201b)상에 재치할 수 있다. 이를 통해, 공정 시간(Tact Time)을 단축할 수 있다. Through this configuration, after inverting the transport carrier C mounted and fixed on the first
회전 기구(203)는, 캐리어 재치대(201)를 180도 회전시켜 상하를 반전시키는 기구이다. 본 실시형태에 따른 회전 구동 장치(200)의 회전 기구(203)는, 캐리어 재치대(201)의 대향하는 두 측면의 중앙부를 지지하는 지지부(213)와 회전 구동력을 인가하기 위한 회전 구동부(미도시)를 포함한다. The
얼라인먼트 기구(205)는, 캐리어 재치대(201)를 상하 반전시키기 전에, 반송 캐리어(C)상에 기판 척킹 수단에 의해 척킹되는 기판(G)의 재치 위치를 조정하기 위한 기구이다. The
전술한 바와 같이, 기판 반입/반전실(101)에는 피반송체로서의 기판(G)이 외부의 기판 스톡커로부터 반송 로봇에 의해 반입되어, 미리 반입되어 캐리어 재치대(201)의 제1 캐리어 재치면(201a) 또는 제2 캐리어 재치면(201b)에 재치된 반송 캐리어(C)의 척킹면에 재치되는데, 반송 로봇의 반송 오차로 인해, 기판(G)이 반송 캐리어(C)의 척킹면 상의 기준위치에 재치되지 못하고 이로부터 어긋난 위치에 재치되는 경우가 있다. As described above, in the substrate loading/reversing
본 발명의 일 실시형태에 따르면, 기판 반입/반전실(101)에는 기판(G)의 재치 위치를 반송 캐리어(C)의 척킹면상의 기준위치에 대해 상대적으로 조정할 수 있는 얼라인먼트 기구(205)를 설치함으로써, 반송오차로 인해 어긋난 기판(G)의 위치를 저감할 수 있으며, 이에 따라 후속되는 성막 처리의 정밀도를 향상시킬 수 있다.According to one embodiment of the present invention, an
이를 위해, 얼라인먼트 기구(205)는, 기판(G)을 일시적으로 수취하는 기판 수취부(221)와, 기판 수취부(221)를 척킹면(기판 보유지지면)에 평행한 방향(예컨대, 척킹면에 평행한 제1 방향, 척킹면에 평행하며 제1 방향과 교차하는 제2 방향 및, 척킹면에 수직인 제3 방향을 중심으로 한 회전방향 중 적어도 하나의 방향)으로 이동시키기 위한 스테이지부(223)와, 기판(G)과 반송 캐리어(C)에 형성된 얼라인먼트 마크를 촬상하기 위한 카메라부(225)를 포함한다.For this purpose, the
기판 수취부(221)는, 기판 반입/반전실(101)로 반입된 기판(G)을 반송로봇의 핸드로부터 일시적으로 수취하기 위한 핀형상의 부재로서, 제1 캐리어 재치면(201a) 또는 제2 캐리어 재치면(201b), 또는 반송 캐리어(C)의 척킹면(기판 보유지지면)에 수직인 방향(제3 방향)으로 이동가능하게(예컨대, 도 2a에서는 Z방향으로 승강가능하게) 설치된다. 기판 수취부(221)를 승강시키기 위한 수취부 구동부는 후술하는 바와 같이, 스테이지부(223)에 탑재되며, 서보모터 및 볼나사 또는 리니어 가이드를 포함한다. The
기판 수취부(221)는, 제1 캐리어 재치면(201a)에 재치된 반송 캐리어(C)에 보유지지될 기판(G)을 수취할 때에는, 반송 캐리어(C)에 설치된 관통 구멍(250)을 통해, +Z 방향으로 상승하여, 반송 캐리어(C)의 척킹면으로부터 돌출하여, 반송 로봇으로부터 기판(G)을 수취한다. 이어서, 후술하는 바와 같이, 반송 캐리어(C)의 척킹면(기판 보유지지면)에 평행한 방향에 있어서, 기판 수취부(221)에 재치된 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 상대 위치 조정이 행해진다. 위치 조정이 완료되면, 기판 수취부(221)는, -Z방향으로 하강하여 기판(G)을 반송 캐리어(C)의 척킹면상에 내려 놓는다.The board|
반송 캐리어(C)가 제2 캐리어 재치면(201b)에 재치되어 있는 경우(즉, 캐리어 재치대(201)가 반전되어 있는 경우)에도, 마찬가지로, 기판 수취부(221)는 제2 캐리어 재치면(201b)측으로 이동하여, 제2 캐리어 재치면(201b)에 재치된 반송 캐리어(C)의 척킹면상으로 돌출하여, 기판(G)을 수취한다.Similarly, when the conveyance carrier C is mounted on the 2nd
이렇듯, 본 실시형태의 기판 수취부(221)는 제1 캐리어 재치면(201a) 및제2 캐리어 재치면(201b)에 수직인 방향으로 각 재치면에 재치된 반송 캐리어(C)의 척킹면으로부터 돌출할 수 있도록 함으로써, 기판 수취부(221)의 구성을 간단하게 할 수 있다.Thus, the board|
기판 수취부(221)는, 기판(G)의 복수 개소를 지지할 수 있도록 설치된다. 예컨대, 기판 수취부(221)는, 도 2b에 도시한 바와 같이, 제1 캐리어 재치면(201a) 또는 제2 캐리어 재치면(201b)의 주연부(따라서, 반송 캐리어(C)의 척킹면의 주연부 또는 기판(G)의 주연부)를 따라 복수 개가 설치될 수 있다. The board|
이를 통해, 대형화된 기판(G)을 보다 안정되게 지지할 수 있다. 또한, 기판(G)의 주연부를 복수 개의 기판 수취부(221)에 의해 지지하면, 기판(G)은 자중에 의해 중앙부가 하방으로 처지게 되는데, 기판 수취부(221)의 하강에 따라 반송 캐리어(C)의 척킹면에 기판(G)의 중앙부로부터 주연부로 순차적으로 닿게 되므로, 기판 척킹 수단에 의한 척킹시에 기판(G)에 주름이 남는 것을 억제할 수 있다.Through this, the enlarged substrate G can be supported more stably. In addition, when the peripheral portion of the substrate G is supported by the plurality of
다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 기판 수취부(221)는 기판(G)의 처짐을 저감하기 위해 기판(G)의 중앙부를 지지할 수 있는 위치에 설치되어도 된다. 이는, 기판 반입/반전실(101)에서 반송 캐리어(C)상에 재치되는 기판(G)은 성막면이 상방을 향하고 있어, 기판 수취부(221)는 기판(G)의 성막면이 아닌 반대측면을 지지하기 때문이다. However, the present invention is not limited thereto, and the
또한, 기판 수취부(221)는, 기판(G)의 일 장변측으로부터 이와 대향하는 타 장변측을 향해 순차적으로 하강할 수 있도록 구성되어도 된다. 즉, 복수의 기판 수취부(221)는 각각 독립적으로 승강가능하게 구성되어도 된다.In addition, the board|
본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 시스템(100)에 사용되는 피반송체 캐리어로서의 반송 캐리어(C)는, 도 2b에 도시한 바와 같이, 기판 수취부(221)가 삽입되어 관통할 수 있도록, 척킹면의 주연부에 설치된 복수의 관통 구멍(250)을 가진다. 관통 구멍(250)은, 기판 수취부(221)에 재치된 기판(G)의 반송 캐리어(C)에 대한 위치조정이 행해질 때, 기판 수취부(221)의 이동을 허용할 수 있도록, 반송 캐리어(C)의 척킹면(기판 보유지지면)에 평행한 방향 또는 관통 구멍(250)의 반경 방향으로 기판 수취부(221)의 단면 직경보다 큰 직경을 가지도록 형성된다.As shown in FIG. 2B , the transport carrier C as a transport target carrier used in the film forming system 100 according to the embodiment of the present invention allows the
얼라인먼트 기구(205)의 스테이지부(223)는, 기판 수취부(221)에 지지된 기판(G)을 반송 캐리어(C)에 대하여 반송 캐리어(C)의 척킹면에 평행한 방향(X방향, Y방향, 및 Z축을 중심으로 한 회전방향중 적어도 하나의 방향; XYθ 방향이라고도 함)으로 이동시키기 위한 부재이다. 이를 위해, 스테이지부(223)는, 예컨대, 스테이지 플레이트(미도시)와 스테이지 플레이트를 +X방향 및 -X방향으로 각각 이동시키기 위한 2개의 서보모터(미도시) 및 볼나사(미도시)와, +Y방향 및 -Y방향으로 각각 이동시키기 위한 2개의 서보모터(미도시) 및 볼나사(미도시)를 포함한다. 스테이지부(223)의 스테이지 플레이트에는 기판 수취부(221) 및 이를 Z방향으로 구동하기 위한 수취부 구동부(미도시)가 탑재된다. The
서보모터 및 볼나사에 의해 스테이지 플레이트를 XYθ 방향으로 이동시킴으로써, 스테이지 플레이트에 탑재된 기판 수취부(221) 및 이에 지지된 기판(G)을 반송 캐리어(C)에 대해 상대적으로 XYθ 방향으로 이동시킬 수 있으며, 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 상대 위치를 조정할 수 있다.By moving the stage plate in the XYθ direction by the servo motor and the ball screw, the
특히, 본 실시형태에 따르면, 얼라인먼트 기구(205)의 스테이지부(223)가 캐리어 재치대(201)내에 설치된다. 이에 의해, 반송 캐리어(C)의 상하 반전 처리를 행하는 회전 구동 장치(200)에 있어서, 기판(G)과 반송 캐리어(C)간의 상대 위치의 조정을 행하는 얼라인먼트 기구가 복잡해지는 것을 억제할 수 있다. In particular, according to the present embodiment, the
종래의 얼라인먼트 기구는, 통상적으로, 챔버의 외측에 스테이지부를 설치하고, 기판을 보유지지하는 기판 홀더와 스테이지부를 샤프트에 의해 접속하여 스테이지부의 구동력을 기판 홀더에 전달하는 구조를 취하였다. 그러나, 반송 캐리어(C)가 반전 처리되는 기판 반입/반전실(101)에 종래의 구성의 얼라인먼트 기구를 적용할 경우, 얼라인먼트 기구는 매우 복잡해지고 만다.Conventional alignment mechanisms generally have a structure in which a stage portion is provided outside a chamber, and a substrate holder holding a substrate is connected to the stage portion by a shaft to transmit the driving force of the stage portion to the substrate holder. However, when the alignment mechanism of the conventional structure is applied to the board|substrate carrying-in/
본 실시형태에 있어서는, 얼라인먼트 기구(205)의 스테이지부(223)를 기판 반입/반전실(101)의 외부가 아닌 캐리어 재치대(201)내에 설치함으로써, 캐리어 재치대(201)가 반전되는 구성에 있어서도, 간단한 구성으로서 얼라인먼트 기구를 구현할 수 있다.In this embodiment, the configuration in which the carrier mounting table 201 is inverted by providing the
카메라부(225)는, 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 얼라인먼트 마크를 촬상하기 위한 광학수단이다. 카메라부(225)는, 기판 수취부(221)에 지지된 기판(G)의 얼라인먼트 마크와 반송 캐리어(C)의 얼라인먼트 마크를 촬상하고, 이에 기초하여(예컨대, 화상 처리 등에 의해), 기판(G)이 반송 캐리어(C)의 척킹면 상의 기준위치로부터 어긋난 정도 및 방향을 계측한다. The
기판(G)이 반송 캐리어(C)의 기준 위치로부터 소정의 임계치 이상으로 어긋나 있는 경우, 그 어긋남량에 기초하여, 기판 수취부(221)가 탑재된 스테이지부(223)를 XYθ 방향으로 구동함으로써, 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 상대 위치를 조정한다.When the substrate G is deviated from the reference position of the carrier carrier C by more than a predetermined threshold, based on the shift amount, the
카메라부(225)는, 도 2a에 도시한 바와 같이, 기판 반입/반전실(101)의 하우징(280)의 상면외측에 설치된다. 카메라부(225)의 위치에 대응하는 하우징(280)의 부분에는 투명창이 설치되며, 카메라부(225)에 의해 하우징(280)내의 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 얼라인먼트 마크를 촬상할 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 카메라부(225)는 하우징(280)의 저면 외측에 설치되어도 된다. The
<기판 반입/반전 프로세스><Substrate loading/reversing process>
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치(200)에 의한 기판의 반입 및 얼라인먼트 동작을 나타낸다.3 shows the loading and alignment of the substrate by the rotation driving device 200 according to the embodiment of the present invention.
도 3의 (a)에 도시한 바와 같이, 빈 반송 캐리어(C)가 기판 반입/반전실(101)내로 반입되어, 캐리어 재치대(201)의, 예컨대, 제1 캐리어 재치면(201a)에 재치된다. As shown in Fig. 3(a), an empty conveyance carrier C is carried into the substrate loading/reversing
반송 캐리어(C)가 제1 캐리어 재치면(201a)에 재치되면, 도 3의 (b)에 도시한 바와 같이, 기판 수취부(221)가 수취부 구동부에 의해 제1 캐리어 재치면(201a)측으로 이동하여(예컨대, 상승하여), 반송 캐리어(C)의 관통 구멍(250)을 통해 반송 캐리어(C)의 척킹면으로부터 돌출한다. 이 때, 기판 수취부(221)가 돌출하는 높이는, 반송 로봇의 핸드가 기판(G)을 기판 수취부(221)에 재치함에 있어서, 반송 캐리어(C)의 척킹면과 간섭되지 않을 정도의 높이인 것이 바람직하다.When the conveyance carrier C is mounted on the 1st
피반송체로서의 기판(G)이 외부 스톡커로부터 반송로봇에 의해 기판 반입/반전실(101)내로 반입되어, 기판 수취부(221)상에 재치된다. 이 때, 기판(G)은 성막면이 상방을 향하도록 기판 수취부(221)상에 재치된다. A substrate G as a transport target is loaded into the substrate loading/reversing
이어서, 도 3의 (c)에 도시한 바와 같이, 기판 수취부(221)가 하강하여, 기판 수취부(221)에 지지된 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 척킹면 간의 거리가 소정의 계측거리가 되면, 카메라부(225)에 의해, 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 얼라인먼트 마크를 촬상하고, 이에 기초하여, XYθ방향에 있어서의, 상대 위치 어긋남량 및 어긋남 방향을 계측한다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 기판 수취부(221)를 하강시키지 않고, 기판(G)을 수취한 높이에서, 상대위치의 어긋남을 측정하여도 된다. 즉, 기판수취부(221)가 기판(G)을 수취하는 높이가 계측높이이어도 된다. Next, as shown in FIG. 3C , the
상대 위치 어긋남량이 소정의 임계치보다 크면, 계측된 상대 위치 어긋남량과 어긋남 방향에 기초하여, 얼라인먼트 기구(205)의 스테이지부(223)를 이동시켜, 스테이지부(223)의 스테이지 플레이트에 탑재된 기판 수취부(221)를 이동시킴으로써, 기판(G)의 반송 캐리어(C)에 대한 위치를 조정한다. 이 과정은 기판(G)과 반송 캐리어(C)의 상대 위치 어긋남량이 소정의 임계치내로 들어올 때까지 반복된다.When the relative positional displacement amount is larger than a predetermined threshold, the
기판(G)과 반송 캐리어(C)의 상대 위치 어긋남량이 소정의 임계치내로 들어오면, 도 3의 (d)에 도시한 바와 같이, 기판 수취부(221)를 하강시켜, 기판(G)을 반송 캐리어(C)의 척킹면에 재치하고, 반송 캐리어(C)의 기판 척킹 수단에 의해 척킹한다. 후술하는 반전 처리 동작에 있어서, 기판(G)과 반송 캐리어(C)가 분리되는 것을 보다 확실히 방지하기 위해서, 기판 척킹 수단 이외에, 별도의 클램핑 수단에 의해 기판(G)을 반송 캐리어(C)에 추가적으로 고정시킬 수도 있다.When the amount of relative positional shift between the substrate G and the transfer carrier C falls within a predetermined threshold, the
도 4는 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치(200)에 의한 기판의 반전처리 동작을 나타내는 도면이다.4 is a diagram illustrating an operation of inversion processing of a substrate by the rotation driving device 200 according to an embodiment of the present invention.
기판(G)이 반송 캐리어(C)의 척킹면에 척킹되어 고정되면, 캐리어 고정 수단(미도시)에 의해 반송 캐리어(C)를 캐리어 재치대(201)에 고정시킨 상태에서, 회전 기구(203)에 의해 캐리어 재치대(201)가 180도 회전하여 상하를 반전시킨다. When the substrate G is chucked and fixed to the chucking surface of the conveyance carrier C, the
이에 의해, 반송 캐리어(C) 및 기판(G)의 상하관계가 반전되며, 기판(G)의 성막면은 하방을 향하게 된다. Thereby, the vertical relationship of the conveyance carrier C and the board|substrate G is inverted, and the film-forming surface of the board|substrate G turns downward.
이렇듯, 본 실시형태에 의하면, 기판 반입/반전실(101)의 얼라인먼트 기구(205)의 스테이지부(223)가 캐리어 재치대(201)내에 설치되기 때문에, 기판(G)의 반전이 행해지는 기판 반입/반전실(101)내의 얼라인먼트 기구가 구현가능하게된다. 나아가, 얼라인먼트 기구의 스테이지부가 기판 반입/반전실(101)의 외부에 설치되는 경우에 비해, 훨씬 간단한 구조로 얼라인먼트 기구를 구현할 수 있다.Thus, according to this embodiment, since the
도 5는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치(200)에 의한 기판의 추가 반입 동작을 나타낸다.Fig. 5 shows an additional loading operation of the substrate by the rotation drive device 200 according to the embodiment of the present invention.
기판(G)의 반전 처리가 완료되면, 캐리어 고정 수단에 의해 고정이 해제되고, 반송 캐리어(C)는 기판(G)이 하방을 향한 채로, 기판 반입/반전실(101)로부터 반출되어 얼라인먼트실(103)로 반송된다.When the inversion process of the substrate G is completed, the fixing is released by the carrier fixing means, and the transfer carrier C is carried out from the substrate loading/reversing
이어서, 기판 반입/반전실(101)로 다른 빈 반송 캐리어(C')가 반입되어, 상방을 향하고 있는 캐리어 재치대(201)의 제2 캐리어 재치면(201b)에 재치된다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 회전 구동 장치(200)는 캐리어 재치대(201)가 서로 대향하는 두개의 재치면을 가지기 때문에, 새로운 빈 반송 캐리어(C')를 재치하기위해, 캐리어 재치대(201)를 다시 180도 회전하여 원위치로 되돌릴 필요 없이, 이전에 반전 처리된 반송 캐리어(C)가 반출된 상태에서 바로 새로운 빈 반송 캐리어(C')를 받아들일 수 있다. 이에 의해, 전체 공정의 택트 타임을 저감시킬 수 있다.Next, another empty conveyance carrier C' is carried in into the board|substrate carrying-in/
캐리어 재치대(201)의 제2 캐리어 재치면(201b)에 반송 캐리어(C')가 재치되면, 도 3의 (b) 내지 (d)에 도시한 동작과 마찬가지 동작을 통해, 반송 캐리어(C')의 척킹면에 위치조정된 새로운 기판(G')를 척킹하여 보유지지하고, 도 4에도시한 것과 마찬가지로, 반전 처리를 행한다.When the conveyance carrier C' is mounted on the 2nd
<전자 디바이스의 제조방법><Method for manufacturing electronic device>
다음으로, 본 실시형태의 성막 시스템을 이용한 전자 디바이스의 제조 방법의 일례를 설명한다. 이하, 전자 디바이스의 예로서 유기 EL 표시장치의 구성 및 제조 방법을 예시한다.Next, an example of the manufacturing method of the electronic device using the film-forming system of this embodiment is demonstrated. Hereinafter, the structure and manufacturing method of an organic electroluminescent display are illustrated as an example of an electronic device.
우선, 제조하는 유기 EL 표시장치에 대해 설명한다. 도 6의 (a)는 유기 EL 표시장치(60)의 전체도, 도 6의 (b)는 1 화소의 단면 구조를 나타내고 있다. First, an organic EL display device to be manufactured will be described. Fig. 6(a) is an overall view of the organic
도 6의 (a)에 도시한 바와 같이, 유기 EL 표시장치(60)의 표시 영역(61)에는 발광소자를 복수 구비한 화소(62)가 매트릭스 형태로 복수 개 배치되어 있다. 상세 내용은 후술하지만, 발광소자의 각각은 한 쌍의 전극에 끼워진 유기층을 구비한 구조를 가지고 있다. 또한, 여기서 말하는 화소란 표시 영역(61)에 있어서 소망의 색 표시를 가능하게 하는 최소 단위를 지칭한다. 본 실시예에 관한 유기 EL 표시장치의 경우, 서로 다른 발광을 나타내는 제1 발광소자(62R), 제2 발광소자(62G), 제3 발광소자(62B)의 조합에 의해 화소(62)가 구성되어 있다. 화소(62)는 적색 발광소자, 녹색 발광소자, 청색 발광소자의 조합으로 구성되는 경우가 많지만, 황색 발광소자, 시안 발광소자, 백색 발광소자의 조합이어도 되며, 적어도 1 색 이상이면 특히 제한되는 것은 아니다.As shown in FIG. 6A , in the
도 6의 (b)는 도 6의 (a)의 A-B선에 있어서의 부분 단면 모식도이다. 화소(62)는 기판(63) 상에 양극(64), 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67), 음극(68)을 구비한 유기 EL 소자를 가지고 있다. 이들 중 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67)이 유기층에 해당한다. 또한, 본 실시형태에서는, 발광층(66R)은 적색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66G)는 녹색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66B)는 청색을 발하는 유기 EL 층이다. 발광층(66R, 66G, 66B)은 각각 적색, 녹색, 청색을 발하는 발광소자(유기 EL 소자라고 부르는 경우도 있음)에 대응하는 패턴으로 형성되어 있다. 또한, 양극(64)은 발광소자별로 분리되어 형성되어 있다. 정공 수송층(65)과 전자 수송층(67)과 음극(68)은, 복수의 발광소자(62R, 62G, 62B)와 공통으로 형성되어 있어도 좋고, 발광소자별로 형성되어 있어도 좋다. 또한, 양극(64)과 음극(68)이 이물에 의해 단락되는 것을 방지하기 위하여, 양극(64) 사이에 절연층(69)이 설치되어 있다. 또한, 유기 EL 층은 수분이나 산소에 의해 열화되기 때문에, 수분이나 산소로부터 유기 EL 소자를 보호하기 위한 보호층(70)이 설치되어 있다.Fig. 6(b) is a schematic partial cross-sectional view taken along line A-B of Fig. 6(a). The
도 6의 (b)에서는 정공수송층(65)이나 전자 수송층(67)이 하나의 층으로 도시되었으나, 유기 EL 표시 소자의 구조에 따라서, 정공블록층이나 전자블록층을 포함하는 복수의 층으로 형성될 수도 있다. 또한, 양극(64)과 정공수송층(65) 사이에는 양극(64)으로부터 정공수송층(65)으로의 정공의 주입이 원활하게 이루어지도록 할 수 있는 에너지밴드 구조를 가지는 정공주입층을 형성할 수도 있다. 마찬가지로, 음극(68)과 전자수송층(67) 사이에도 전자주입층이 형성될 수 있다.Although the
다음으로, 유기 EL 표시장치의 제조 방법의 예에 대하여 구체적으로 설명한다.Next, an example of a manufacturing method of the organic EL display device will be specifically described.
우선, 유기 EL 표시장치를 구동하기 위한 회로(미도시) 및 양극(64)이 형성된 기판(63)을 준비한다.First, a
양극(64)이 형성된 기판(63) 위에 아크릴 수지를 스핀 코트로 형성하고, 아크릴 수지를 리소그래피 법에 의해 양극(64)이 형성된 부분에 개구가 형성되도록 패터닝하여 절연층(69)을 형성한다. 이 개구부가 발광소자가 실제로 발광하는 발광 영역에 상당한다.An acrylic resin is formed by spin coating on the
절연층(69)이 패터닝된 기판(63)을 제1 유기재료 성막 장치에 반입하여 정공 수송층(65)을 표시 영역의 양극(64) 위에 공통층으로서 성막한다. 정공 수송층(65)은 진공 증착에 의해 성막된다. 실제로는 정공 수송층(65)은 표시 영역(61)보다 큰 사이즈로 형성되기 때문에, 고정밀의 마스크는 필요치 않다.The
다음으로, 정공 수송층(65)까지 형성된 기판(63)을 제2 유기재료 성막 장치에 반입하고, 기판(63)의 적색을 발하는 소자를 배치하는 부분에 적색을 발하는 발광층(66R)을 성막한다. Next, the
발광층(66R)의 성막과 마찬가지로, 제3 유기재료 성막 장치에 의해 녹색을 발하는 발광층(66G)을 성막하고, 나아가 제4 유기재료 성막 장치에 의해 청색을 발하는 발광층(66B)을 성막한다. 발광층(66R, 66G, 66B)의 성막이 완료된 후, 제5 유기재료 성막 장치에 의해 표시 영역(61)의 전체에 전자 수송층(67)을 성막한다. 전자 수송층(67)은 3 색의 발광층(66R, 66G, 66B)에 공통의 층으로서 형성된다.Similar to the film formation of the
전자 수송층(67)까지 형성된 기판을 금속성 증착재료 성막 장치로 이동시켜 음극(68)을 성막한다. A
본 발명에 따르면, 기판 반입/반전실에서 기판과 반송 캐리어의 상대 위치를 조정할 수 있다. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the relative position of a board|substrate and a conveyance carrier can be adjusted in a board|substrate carrying-in/inversion chamber.
그 후 플라스마 CVD 장치로 이동시켜 보호층(70)을 성막하여, 유기 EL 표시장치(60)를 완성한다.After that, it is transferred to a plasma CVD apparatus to form a
절연층(69)이 패터닝 된 기판(63)을 성막 시스템으로 반입하고 나서부터 보호층(70)의 성막이 완료될 때까지는, 수분이나 산소를 포함하는 분위기에 노출되면 유기 EL 재료로 이루어진 발광층이 수분이나 산소에 의해 열화될 우려가 있다. 따라서, 본 예에 있어서, 성막 장치 간의 기판의 반입, 반출은 진공 분위기 또는 불활성 가스 분위기 하에서 행하여진다.From the time the
상기 실시예는 본 발명의 일 예를 나타낸 것으로, 본 발명은 상기 실시예의 구성에 한정되지 않으며, 그 기술사상의 범위내에서 적절히 변형하여도 된다.The above embodiment shows an example of the present invention, and the present invention is not limited to the configuration of the above embodiment, and may be appropriately modified within the scope of the technical idea.
100: 성막시스템
101: 기판 반입/반전실
103: 얼라인먼트실
105: 성막실
200: 회전구동장치
201: 캐리어 재치대
201a: 제1 캐리어 재치면
201b: 제2 캐리어 재치면
203: 회전기구
205: 얼라인먼트 기구
221: 기판수취부
223: 스테이지부
225: 카메라부
250: 관통구멍100: film forming system
101: board loading/reversing room
103: alignment room
105: tabernacle room
200: rotary drive device
201: carrier mount
201a: first carrier mounting surface
201b: second carrier mounting surface
203: rotating mechanism
205: alignment mechanism
221: board receiving unit
223: stage part
225: camera unit
250: through hole
Claims (14)
피반송체 캐리어가 재치되는 캐리어 재치부와,
상기 캐리어 재치부를 회전시키는 회전 기구와,
상기 피반송체 캐리어와 상기 피반송체 캐리어에 재치된 피반송체와의 상대 위치를 조정하기 위한 얼라인먼트 기구를 포함하며,
상기 얼라인먼트 기구는, 상기 피반송체 캐리어의 기판 보유지지면에 평행한 방향으로 이동가능한 스테이지부를 포함하며,
상기 스테이지부는, 상기 캐리어 재치부내에 설치되는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치. A rotation driving device for rotating a carrier to be transported, comprising:
a carrier mounting unit on which the carrier to be transported is placed;
a rotating mechanism for rotating the carrier mounting unit;
an alignment mechanism for adjusting a relative position between the carrier and the subject mounted on the carrier;
The alignment mechanism includes a stage movable in a direction parallel to the substrate holding surface of the carrier to be transported;
The stage unit is a rotation driving device, characterized in that provided in the carrier mounting unit.
상기 얼라인먼트 기구는, 상기 피반송체를 수취하기 위한 피반송체 수취부를 포함하며,
상기 피반송체 수취부는 상기 스테이지부에 탑재되는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.According to claim 1,
The alignment mechanism includes a transport target receiving unit for receiving the transport target,
The rotational drive device, characterized in that the transfer target receiving portion is mounted on the stage portion.
상기 캐리어 재치부는, 제1 캐리어 재치면과, 상기 제1 캐리어 재치면과 대향하는 제2 캐리어 재치면을 가지며,
상기 피반송체 수취부는, 상기 제1 캐리어 재치면 또는 상기 제2 캐리어 재치면에 수직인 방향으로 이동가능하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.3. The method of claim 2,
The carrier mounting unit has a first carrier mounting surface and a second carrier mounting surface facing the first carrier mounting surface,
The transfer target receiving part is a rotation driving device, characterized in that it is installed to be movable in a direction perpendicular to the first carrier mounting surface or the second carrier mounting surface.
상기 얼라인먼트 기구는, 상기 피반송체 수취부를 상기 수직인 방향으로이동시키기 위한 수취부 구동부를 포함하며,
상기 수취부 구동부는, 상기 스테이지부에 탑재되는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.4. The method of claim 3,
The alignment mechanism includes a receiving unit driving unit for moving the transport target receiving unit in the vertical direction,
The receiving unit driving unit is a rotation driving device, characterized in that mounted on the stage unit.
상기 피반송체 수취부는, 적어도 상기 제1 캐리어 재치면 또는 상기 제2 캐리어 재치면의 주연부를 따라 복수 개가 설치되는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.4. The method of claim 3,
A plurality of the transfer target receiving units are provided along at least a periphery of the first carrier mounting surface or the second carrier mounting surface.
복수 개의 상기 피반송체 수취부는, 각각 독립적으로 상기 수직인 방향으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.6. The method of claim 5,
The plurality of transfer target receiving units are each independently movable in the vertical direction.
상기 피반송체 수취부는, 상기 제1 캐리어 재치면 또는 상기 제2 캐리어 재치면으로부터 상기 수직인 방향으로 돌출가능하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.4. The method of claim 3,
The transfer target receiving part is configured to be protrudable from the first carrier mounting surface or the second carrier mounting surface in the vertical direction.
상기 회전 기구는, 상기 제1 캐리어 재치면 또는 상기 제2 캐리어 재치면 중 어느 하나에 상기 피반송체 캐리어를 재치하기 위해, 상기 캐리어 재치부를 표리 반전할 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.In claim 3,
Said rotation mechanism is comprised so that the said carrier mounting part can be reversed back and forth in order to place the to-be-carried object carrier on either of the said 1st carrier mounting surface or the said 2nd carrier mounting surface .
상기 피반송체 캐리어를 상기 제1 캐리어 재치면 및 상기 제2 캐리어 재치면에 각각 고정하는 제1 캐리어 고정수단 및 제2 캐리어 고정수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치. 9. The method of claim 8,
and first carrier fixing means and second carrier fixing means respectively fixing the carrier to the first carrier loading surface and the second carrier loading surface respectively.
상기 얼라인먼트 기구는, 상기 피반송체와 상기 피반송체 캐리어에 형성된 얼라인먼트 마크를 촬영가능한 카메라부를 더 포함하며,
상기 카메라에 의해 촬상된 화상에 기초하여, 상기 스테이지부를 구동하여, 상기 피반송체 수취부에 지지된 상기 피반송체를 상기 피반송체 캐리어에 대해 위치 조정하는 것을 특징으로 하는 회전 구동 장치.3. The method of claim 2,
The alignment mechanism further includes a camera unit capable of photographing an alignment mark formed on the target object and the target object carrier,
A rotational drive device characterized in that, based on an image captured by the camera, the stage unit is driven to position the conveyed object supported by the conveyed object receiving unit with respect to the conveyed object carrier.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 회전 구동 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 성막시스템.a film forming apparatus for forming a film on a substrate;
A film forming system comprising the rotational drive device according to any one of claims 1 to 10.
상기 회전 구동 장치의 기판 수취부에 대응하는 위치에 상기 기판 수취부가 삽입되어 관통할 수 있는 관통 구멍이 설치된 것을 특징으로 하는 피반송체 캐리어.11. An object carrier used in a film forming system comprising the rotational drive device according to any one of claims 2 to 10, comprising:
and a through hole through which the substrate receiving unit can be inserted is provided at a position corresponding to the substrate receiving unit of the rotational driving device.
상기 피반송체 캐리어의 상기 관통 구멍은, 상기 관통 구멍의 반경방향으로의 상기 기판 수취부의 이동을 허용할 수 있도록, 상기 기판 수취부의 단면 직경보다 큰 직경을 가지는 것을 특징으로 하는 피반송체 캐리어.
14. The method of claim 13,
and the through hole of the carrier has a diameter larger than a cross-sectional diameter of the substrate receiving portion so as to allow movement of the substrate receiving portion in the radial direction of the through hole.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190174083A KR20210081794A (en) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | Rotation driving apparatus, film-forming system including the same, manufacturing method of electronic device and carrier for carrying subjectto be carried used in the film-forming apparatus |
JP2020196318A JP7033180B2 (en) | 2019-12-24 | 2020-11-26 | Manufacturing method of rotary drive device, film forming device including this, and electronic device |
CN202011523697.2A CN113025985B (en) | 2019-12-24 | 2020-12-22 | Rotation driving device, film forming device, and method for manufacturing electronic device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190174083A KR20210081794A (en) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | Rotation driving apparatus, film-forming system including the same, manufacturing method of electronic device and carrier for carrying subjectto be carried used in the film-forming apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210081794A true KR20210081794A (en) | 2021-07-02 |
Family
ID=76460466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190174083A KR20210081794A (en) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | Rotation driving apparatus, film-forming system including the same, manufacturing method of electronic device and carrier for carrying subjectto be carried used in the film-forming apparatus |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7033180B2 (en) |
KR (1) | KR20210081794A (en) |
CN (1) | CN113025985B (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113463056B (en) * | 2021-07-01 | 2022-06-17 | 安徽工业大学 | Vacuum coating does not have sample turning device that shelters from |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190000162U (en) | 2018-07-16 | 2019-01-16 | 주식회사 야스 | Substrate flip equipment and management system for reducing tac time |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5524550B2 (en) | 2009-09-15 | 2014-06-18 | 株式会社ニコン | Substrate bonding apparatus, substrate bonding method, and device manufacturing method |
JP2012195427A (en) | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Ulvac Japan Ltd | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
US9082799B2 (en) * | 2012-09-20 | 2015-07-14 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | System and method for 2D workpiece alignment |
CN104937135B (en) * | 2013-01-28 | 2018-01-19 | 应用材料公司 | Substrate carrier configures the method with clamping substrate |
SG11201606935VA (en) * | 2014-02-20 | 2016-10-28 | Intevac Inc | System and method for bi-facial processing of substrates |
SG10201906641WA (en) * | 2015-10-01 | 2019-09-27 | Intevac Inc | Wafer plate and mask arrangement for substrate fabrication |
CN206742197U (en) * | 2017-03-28 | 2017-12-12 | 雷仲礼 | Substrate turnover device and the base plate processing system comprising the substrate turnover device |
JP6818351B2 (en) | 2017-04-14 | 2021-01-20 | サムコ株式会社 | Wafer processing equipment |
KR101952521B1 (en) * | 2017-10-31 | 2019-02-26 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | Film forming apparatus, film forming method and manufacturing method of electronic device |
KR20190140373A (en) * | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | Substrate rotation apparatus, substrate rotation method and manufacturing method of electronic device |
-
2019
- 2019-12-24 KR KR1020190174083A patent/KR20210081794A/en unknown
-
2020
- 2020-11-26 JP JP2020196318A patent/JP7033180B2/en active Active
- 2020-12-22 CN CN202011523697.2A patent/CN113025985B/en active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190000162U (en) | 2018-07-16 | 2019-01-16 | 주식회사 야스 | Substrate flip equipment and management system for reducing tac time |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113025985A (en) | 2021-06-25 |
JP7033180B2 (en) | 2022-03-09 |
JP2021102810A (en) | 2021-07-15 |
CN113025985B (en) | 2023-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7429723B2 (en) | Film forming apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method | |
JP7316782B2 (en) | Vapor deposition apparatus, electronic device manufacturing apparatus, and vapor deposition method | |
CN109722626A (en) | The manufacturing method of alignment device and method, film formation device and method and electronic device | |
JP7224165B2 (en) | Alignment equipment, vapor deposition equipment, and electronic device manufacturing equipment | |
JP7249142B2 (en) | Transport carriers, vapor deposition equipment, and electronic device manufacturing equipment | |
KR20110054043A (en) | Organic thin film deposition device, organic el element manufacturing device, and organic thin film deposition method | |
KR102128888B1 (en) | Film forming apparatus, film forming method and manufacturing method of electronic device | |
KR102630778B1 (en) | Substrate carrier, film forming apparatus, and film forming method | |
JP7450372B2 (en) | Film deposition apparatus, film deposition method, and electronic device manufacturing method | |
JP7190997B2 (en) | Adsorption and alignment method, adsorption system, film formation method, film formation apparatus, and electronic device manufacturing method | |
KR20200000775A (en) | Mask position adjusting apparatus, film forming apparatus, mask position adjusting method, film forming method, and manufacturing method of electronic device | |
CN113388806B (en) | Mask mounting apparatus and method, film forming apparatus and method, and substrate loader | |
CN112680696B (en) | Film forming apparatus, electronic device manufacturing apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method | |
CN113025985B (en) | Rotation driving device, film forming device, and method for manufacturing electronic device | |
KR102179271B1 (en) | Film forming apparatus, manufacturing apparatus of electronic device, film forming method, and manufacturing method of electronic device | |
CN114790538B (en) | Film forming apparatus | |
KR20210081597A (en) | Film forming system, and manufacturing method of electronic device | |
CN113851406A (en) | Alignment apparatus, film forming apparatus, alignment method, method for manufacturing electronic device, and storage medium | |
CN111118445A (en) | Alignment and film forming apparatus, alignment and film forming method, and method of manufacturing electronic device | |
CN115433899B (en) | Film forming apparatus and electronic device manufacturing apparatus | |
CN113394144B (en) | Substrate carrier, film forming apparatus, substrate carrier conveying method, and film forming method | |
WO2023238478A1 (en) | Film formation device, film formation method, alignment device, and alignment method | |
KR20210083082A (en) | Film forming system and film forming method | |
KR20210109998A (en) | Chucking apparatus, film forming apparatus, chucking method, film forming method and manufacturing method of electronic device | |
KR20210080048A (en) | Film forming apparatus, film forming method, and manufacturing method of electronic device |