KR20210071848A - 프로그램 편집 장치 및 와이어 방전 가공기 - Google Patents

프로그램 편집 장치 및 와이어 방전 가공기 Download PDF

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Abstract

와이어 방전 가공기 (10) 가 구비하는 와이어 전극 (12) 의 가공 대상물 (W) 에 대한 가공 경로 (58) 가 설정된 가공 프로그램 (56) 을 편집하는 프로그램 편집 장치 (18) 로서, 가공 프로그램 (56) 은 가공 경로 (58) 를 분할한 복수의 부분 경로 (60) 의 각각에 대응하는 블록 (62) 을 갖고, 블록 (62) 의 각각은 대응하는 부분 경로 (60) 를 나타내는 경로 정보를 갖고, 가공 프로그램 (56) 을 해석함으로써, 가공 경로 (58) 에 있어서 연속하는 복수의 부분 경로 (60) 가 구성하는 소정 형상 패턴을 특정하는 해석부 (68) 와, 특정된 소정 형상 패턴에 따른 형상 정보 (74) 를 생성하는 정보 생성부 (70) 와, 형상 정보 (74) 를 가공 프로그램 (56) 에 삽입하는 편집부 (72) 를 구비한다.

Description

프로그램 편집 장치 및 와이어 방전 가공기{PROGRAM EDITING DEVICE AND WIRE ELECTRICAL DISCHARGE MACHINE}
본 발명은, 프로그램 편집 장치 및 와이어 방전 가공기에 관한 것이다. 특히, 가공 대상물에 대한 와이어 전극의 가공 경로가 규정되는 가공 프로그램을 편집하는 프로그램 편집 장치, 및 그 가공 프로그램에 기초하여 와이어 전극을 상대 이동시키는 와이어 방전 가공기에 관한 것이다.
일본 공개특허공보 2018-024085호에는, 와이어 방전 가공기에 관하여, 가공 대상물에 대한 와이어 전극의 상대 이동의 가공 경로가 복수의 부분 경로 (구간) 로 분할되고, 그 부분 경로의 각각에 대하여 상이한 가공 조건이 설정될 수 있는 취지가 개시되어 있다.
와이어 방전 가공기에 의한 방전 가공에서는, 가공 프로그램에 설정된 가공 경로가 복잡할수록, 얻어지는 가공품의 형상이 그 가공 경로와는 상이하기 쉬운 경향이 있다. 복잡한 가공 경로의 예를 몇 가지 들면, 그것은 예를 들어 각 (角) 코너 형상을 연속적으로 세세하게 그리는 가공 경로나, 연속된 복수의 직선으로 이루어지는 유사 곡선을 그리는 가공 경로이다.
그래서, 본 발명은, 방전 가공의 정밀도를 향상시킬 수 있는 프로그램 편집 장치 및 와이어 방전 가공기를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 하나의 양태는, 와이어 방전 가공기가 구비하는 와이어 전극의 상기 가공 대상물에 대한 가공 경로가 설정된 가공 프로그램을 편집하는 프로그램 편집 장치로서, 상기 가공 프로그램은 상기 가공 경로를 분할한 복수의 부분 경로의 각각에 대응하는 블록을 갖고, 상기 블록의 각각은 대응하는 상기 부분 경로를 나타내는 경로 정보를 갖고, 상기 가공 프로그램을 해석함으로써, 상기 가공 경로에 있어서 연속하는 복수의 상기 부분 경로가 구성하는 소정 형상 패턴을 특정하는 해석부와, 특정된 상기 소정 형상 패턴에 따른 형상 정보를 생성하는 정보 생성부와, 상기 형상 정보를 상기 가공 프로그램에 삽입하는 편집부를 구비한다.
본 발명의 다른 하나의 양태는, 와이어 전극을 구비하고, 가공 프로그램에 설정된 가공 경로를 따라 상기 와이어 전극을 가공 대상물에 대하여 상대 이동시키는 와이어 방전 가공기로서, 본 발명의 양태에 관련된 프로그램 편집 장치와, 상기 편집 장치가 편집한 상기 가공 프로그램에 설정된 상기 가공 경로를 따라 상기 와이어 전극을 상대 이동시키면서, 상기 가공 프로그램에 삽입된 상기 형상 정보에 기초하여 가공 조건을 보정하면서 상기 가공 대상물에 대한 방전 가공을 실행하는 방전 가공부를 구비한다.
본 발명의 양태에 의하면, 방전 가공의 정밀도를 향상시킬 수 있는 프로그램 편집 장치 및 와이어 방전 가공기가 제공된다.
상기의 목적, 특징 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 설명되는 이하의 실시형태의 설명으로부터 용이하게 이해될 것이다.
도 1 은, 실시형태의 와이어 방전 가공기의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 2 는, 제어 장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 3 은, 프로그램 편집 장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 4 는, 프로그램 편집 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로우 차트이다.
도 5 는, 가공 프로그램의 편집 전의 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 6 은, 도 5 의 가공 프로그램이 규정하는 가공 경로를 나타내는 도면이다.
도 7A 는, 형상 정보의 제 1 예이다.
도 7B 는, 형상 정보의 제 2 예이다.
도 7C 는, 형상 정보의 제 3 예이다.
도 8 은, 도 5 의 가공 프로그램의 편집 후의 상태를 나타내는 도면이다.
도 9 는, 변형예 1 의 가공 프로그램의 편집 전의 상태의 일례를 나타내는 도면이다.
도 10 은, 도 9 의 가공 프로그램이 규정하는 가공 경로를 나타내는 도면이다.
도 11 은, 도 9 의 가공 프로그램의 편집 후의 상태를 나타내는 도면이다.
본 발명의 프로그램 편집 장치 및 와이어 방전 가공기에 대하여, 바람직한 실시형태를 들어, 첨부한 도면을 참조하면서 이하, 상세하게 설명한다.
[실시형태]
도 1 은, 실시형태의 와이어 방전 가공기 (10) 의 구성을 나타내는 모식도이다.
먼저, 도 1 을 사용하여 와이어 방전 가공기 (10) 의 전체의 구성을 설명한다. 도 1 에는 와이어 방전 가공기 (10) 가 갖는 축이 연장되는 X 방향, Y 방향 및 Z 방향이 나타난다. X 방향 및 Y 방향은 면 내에서 서로 직교하고, Z 방향은 X 방향 및 Y 방향의 각각에 대하여 직교한다.
와이어 방전 가공기 (10) 는, 와이어 전극 (12) 과, 가공기 본체 (14) 와, 제어 장치 (16) 와, 프로그램 편집 장치 (18) 를 구비한다. 와이어 방전 가공기 (10) 는, 가공액 중에서 가공 대상물 (W) 과 와이어 전극 (12) 의 극간에 전압을 인가하여 방전을 발생시킴으로써, 가공 대상물 (W) 을 가공하는 공작 기계이다.
와이어 전극 (12) 의 재질은, 예를 들어, 텅스텐계, 구리 합금계, 황동계 등의 금속 재료이다. 한편, 가공 대상물 (W) 의 재질은, 예를 들어, 철계 재료 또는 초경 재료 등의 금속 재료이다.
가공기 본체 (14) 는, 가공 대상물 (W) 을 향하여 와이어 전극 (12) 을 공급하는 공급 계통 (20) 과, 가공 대상물 (W) 을 통과한 와이어 전극 (12) 을 회수하는 회수 계통 (22) 을 구비한다.
공급 계통 (20) 은, 와이어 보빈 (24) 과, 토크 모터 (26) 와, 브레이크 슈 (28) 와, 브레이크 모터 (30) 와, 장력 검출부 (32) 와, 다이스 가이드 (상측 다이스 가이드) (34) 를 구비한다. 이들 중, 와이어 보빈 (24) 은, 미사용의 와이어 전극 (12) 이 감기는 것이다. 토크 모터 (26) 는, 와이어 보빈 (24) 에 대하여 토크를 부여하는 것이다. 브레이크 슈 (28) 는, 와이어 전극 (12) 에 대하여 마찰에 의한 제동력을 부여하는 것이다. 브레이크 모터 (30) 는, 브레이크 슈 (28) 에 대하여 브레이크 토크를 부여하는 것이다. 장력 검출부 (32) 는, 와이어 전극 (12) 의 장력의 크기를 검출하는 것이다. 다이스 가이드 (34) 는, 가공 대상물 (W) 의 상방에서 와이어 전극 (12) 을 가이드하는 것이다.
회수 계통 (22) 은, 다이스 가이드 (하측 다이스 가이드) (36) 와, 핀치 롤러 (38) 와, 피드 롤러 (40) 와, 토크 모터 (42) 와, 회수 상자 (44) 를 구비한다. 이들 중, 다이스 가이드 (36) 는, 가공 대상물 (W) 의 하방에서 와이어 전극 (12) 을 가이드하는 것이다. 핀치 롤러 (38) 및 피드 롤러 (40) 는, 와이어 전극 (12) 을 협지하는 것이다. 토크 모터 (42) 는, 피드 롤러 (40) 에 대하여 토크를 부여하는 것이다. 회수 상자 (44) 는, 핀치 롤러 (38) 및 피드 롤러 (40) 에 의해 반송된 와이어 전극 (12) 을 회수하는 것이다.
가공기 본체 (14) 는, 가공시에 사용되는 탈이온수 또는 기름 등의 가공액을 저류 가능한 가공조 (46) 를 구비한다. 가공조 (46) 는, 베이스부 (48) 상에 재치 (載置) 되어 있다. 가공조 (46) 내에는 다이스 가이드 (34, 36) 가 배치되고, 다이스 가이드 (34) 와 다이스 가이드 (36) 사이에 가공 대상물 (W) 이 설치된다. 다이스 가이드 (34, 36), 및, 가공 대상물 (W) 은, 가공조 (46) 에 저류된 가공액에 침지되어 있다.
다이스 가이드 (34) 는 지지부 (34a) 를 갖고, 다이스 가이드 (36) 는 지지부 (36a) 를 갖는다. 지지부 (34a) 및 지지부 (36a) 는, 와이어 전극 (12) 을 지지하는 것이다. 또한, 다이스 가이드 (36) 는 가이드 롤러 (36b) 를 구비한다. 가이드 롤러 (36b) 는, 와이어 전극 (12) 의 방향을 바꾸어 핀치 롤러 (38) 및 피드 롤러 (40) 에 안내하는 것이다.
다이스 가이드 (34) 는, 와이어 전극 (12) 과 가공 대상물 (W) 에서 형성되는 극간을 향하여, 슬러지를 포함하지 않는 청결한 가공액을 분출한다. 이에 의해, 극간이 가공에 적합한 청결한 액체로 채워져, 가공에 의해 발생하는 슬러지에 의한 가공 정밀도의 저하가 방지된다. 또한, 다이스 가이드 (34) 뿐만 아니라 다이스 가이드 (36) 가 극간을 향하여 청결한 가공액을 분출해도 된다.
도 2 는, 제어 장치 (16) 의 구성을 나타내는 모식도이다.
제어 장치 (16) 는, 가공 프로그램 (56) 및 가공 조건에 따라 가공기 본체 (14) 를 제어하는 것이다. 제어 장치 (16) 는, 기억부 (50CON) 와, 연산부 (52CON) 를 구비한다.
기억부 (50CON) 는, 정보를 기억하는 것으로서, 그것은 예를 들어 하드 디스크를 포함한다. 기억부 (50CON) 에는, 가공 프로그램 (56) 및 가공 조건이 기억된다. 또한, 방전 가공을 실행하기 위한 제어 소프트웨어가 기억된다.
연산부 (52CON) 는, 정보를 처리하는 것으로서, 그것은 예를 들어 CPU (Central Processing Unit) 혹은 GPU (Graphics Processing Unit) 등의 하드웨어를 포함한다. 연산부 (52CON) 는, 방전 가공부 (54) 를 갖는다. 방전 가공부 (54) 는, 연산부 (52CON) 와 기억부 (50CON) 가 협동하여 제어 소프트웨어를 실행함으로써 실현된다. 방전 가공부 (54) 는, 가공 프로그램 (56) 에 설정된 가공 경로 (58) 를 따라 와이어 전극 (12) 을 상대 이동시키면서, 가공 조건에 기초하여 가공 대상물 (W) 에 대한 방전 가공을 실행한다.
가공 조건은, 가공 대상물 (W) 과 와이어 전극 (12) 의 극간에 반복 인가하는 펄스 전압의 펄스 간격, 당해 극간에 대하여 단위 시간 당 인가하는 평균 전압, 가공 대상물 (W) 에 대한 와이어 전극 (12) 의 상대 이동 속도, 및, 와이어 전극 (12) 의 이송 속도 등을 포함한다.
상기 중, 펄스 간격은, 가공 대상물 (W) 과 와이어 전극 (12) 의 극간에 펄스 전압을 인가하지 않는 휴지 시간이다. 또한, 가공 대상물 (W) 에 대한 와이어 전극 (12) 의 상대 이동 속도는, 가공 대상물 (W) 에 대하여 와이어 전극 (12) 을 상대 이동시킬 때의 속도이다. 또한, 이송 속도는, 와이어 전극 (12) 이 연장되는 방향을 따라 와이어 전극 (12) 을 이동시킬 때의 속도이다.
방전 가공부 (54) 는, 가공 대상물 (W) 과 와이어 전극 (12) 의 극간에 펄스 전압을 인가시키는 경우, 기억부 (50CON) 에 기억된 단위 시간 당의 평균 전압, 및, 펄스 간격 등을 사용하여, 가공기 본체 (14) 에 있어서의 도시 생략의 전원부를 제어한다. 이에 의해, 전원부를 통하여, 가공 대상물 (W) 과 와이어 전극 (12) 의 극간에 대하여 펄스 전압이 소정 주기로 반복 인가된다.
방전 가공부 (54) 는, 가공 대상물 (W) 에 대하여 와이어 전극 (12) 을 상대 이동시키는 경우, 가공 대상물 (W) 이 고정되는 도시 생략의 테이블에 접속된 모터를 제어한다. 이 도시 생략의 모터는, 테이블을 X-Y 평면 상에서 이동시키는 것이다. 이에 의해, 와이어 전극 (12) 과 가공 대상물 (W) 의 상대적인 위치 관계가 변화하는, 즉 가공 대상물 (W) 에 대한 와이어 전극 (12) 의 상대 이동이 실현된다.
방전 가공부 (54) 는, 가공 대상물 (W) 에 대한 와이어 전극 (12) 의 경사를 조정하는 경우, 다이스 가이드 (34) 에 접속된 도시 생략의 모터와, 다이스 가이드 (36) 에 접속된 도시 생략의 모터의 적어도 일방을 제어한다. 다이스 가이드 (34) 에 접속된 모터는, 다이스 가이드 (34) 를 X-Y 평면과 평행한 평면 상에서 이동시키는 것이다. 동일하게, 다이스 가이드 (36) 에 접속된 모터는, 다이스 가이드 (36) 를 X-Y 평면과 평행한 평면 상에서 이동시키는 것이다. 이에 의해, X 방향 및 Y 방향의 적어도 일 방향에 대하여 다이스 가이드 (34) 와 다이스 가이드 (36) 의 위치를 서로 상이하게 할 수 있다. 그리고 그 결과, 와이어 전극 (12) 은, 가공 대상물 (W) 에 대하여 경사질 수 있다.
방전 가공부 (54) 는, 와이어 전극 (12) 을 주행 방향으로 이동시키는 경우, 기억부 (50CON) 에 기억된 이송 속도 등을 사용하여, 토크 모터 (42) 를 제어한다. 이에 의해, 토크 모터 (42) 를 통하여, 와이어 보빈 (24) 및 피드 롤러 (40) 에 대하여 토크가 부여되고, 당해 와이어 보빈 (24) 및 피드 롤러 (40) 에 접하는 와이어 전극 (12) 이 주행 방향으로 보내진다. 또한, 와이어 전극 (12) 의 주행 방향 (-Z 방향) 과, 가공 대상물 (W) 에 대하여 상대 이동되는 와이어 전극 (12) 의 이동 방향 (X 방향, Y 방향) 은 교차하는 관계에 있다.
여기서, 방전 가공의 정밀도에 대하여 검토될 수 있는 점에 대하여 설명한다.
먼저, 방전 가공시에 방전 가공부 (54) 가 실행하는 가공 프로그램 (56) 에 대하여, 보다 상세하게 설명한다. 가공 프로그램 (56) 은, 가공 경로 (58) 를 분할한 복수의 부분 경로 (60) (도 6) 의 각각에 대응하는 블록 (62) (도 5) 을 갖는다. 블록 (62) 의 각각은, 대응하는 부분 경로 (60) 를 나타내는 경로 정보를 갖는다. 경로 정보에는, 대응하는 부분 경로 (60) 의 종점 위치를 나타내는 정보나, 그 종점 위치를 향하여 와이어 전극 (12) 을 어떠한 궤적을 따라 상대 이동시키는지 (부분 경로 (60) 의 형상) 를 나타내는 정보가 포함된다.
예를 들어, 호상을 그리는 것과 같은 부분 경로 (60) 에 있어서는, 직선상의 부분 경로 (60) 보다 극간에 발생하는 방전의 양이 불안정해지기 때문에, 와이어 전극 (12) 과 가공 대상물 (W) 의 극간의 거리가 불안정해지기 쉽다. 이것에 대처하기 위해서는, 호상을 그리는 것과 같은 부분 경로 (60) 를 와이어 전극 (12) 이 통과할 때에는 상대 이동의 속도를 적절히 조정하거나, 혹은 휴지 시간을 적절히 조정하는 등의 제어를 방전 가공부 (54) 에 실시하게 하는 것을 생각할 수 있다. 즉, 경로 정보에 의해 나타나는 부분 경로 (60) 의 형상에 최적화된 가공 조건이 되도록 가공 조건을 변경 (보정) 함으로써, 가공 정밀도를 양호하게 할 수 있는 것으로 생각된다.
그러나, 복잡한 가공 경로 (58) 에 있어서는, 복수의 부분 경로 (60) 의 조합에 의해, 와이어 전극 (12) 과 가공 대상물 (W) 의 극간의 거리가 불안정해지기 쉬운 형상이 구성되어 있는 경우가 있다. 그 형상이란, 예를 들어 연속하는 2 개의 부분 경로 (60) 가 이루는 각 코너이다. 각 코너를 이루는 연속하는 2 개의 부분 경로 (60) 가 모두 직선상이면, 하나 하나의 경로 정보를 참조한 시점에서, 가공 조건으로는 직선용의 것이 적용된다. 이 경우, 와이어 전극 (12) 과 가공 대상물 (W) 의 극간의 거리가 불안정해지는 것에 방전 가공부 (54) 가 대처할 수 없어, 가공 정밀도에 악영향이 발생할 우려가 있다. 각 코너의 형성을 수반하면서 와이어 전극 (12) 의 진행 방향을 세세하게 변화시킬 필요가 있는 경우에는, 더욱 악영향이 발생할 우려가 있다. 이와 같이, 복잡한 가공 경로 (58) 가 가공 프로그램 (56) 에 규정되어 있는 경우에, 가공 대상물 (W) 에 양호한 정밀도로 방전 가공을 실시하는 것은 어렵다.
그래서, 본 실시형태에서는, 이하에서 설명하는 프로그램 편집 장치 (18) 에 의해 가공 프로그램 (56) 을 편집함으로써, 방전 가공부 (54) 가 가공 조건의 조정을 바람직하게 실행할 수 있도록 한다. 이하, 본 실시형태의 프로그램 편집 장치 (18) 의 구성과, 프로그램 편집 장치 (18) 에 의해 실행되는 프로그램 편집 처리에 대하여, 순서대로 설명한다.
도 3 은, 프로그램 편집 장치 (18) 의 구성을 나타내는 모식도이다.
프로그램 편집 장치 (18) 는, 가공 프로그램 (56) 을 편집하는 것이다. 프로그램 편집 장치 (18) 는, 연산부 (52EDI), 조작부 (64), 표시부 (66) 및 기억부 (50EDI) 를 구비한다.
연산부 (52EDI) 는 정보를 처리하는 것으로서, 그것은 예를 들어 CPU 혹은 GPU 등의 하드웨어를 포함한다.
조작부 (64) 는 정보를 입력하는 것으로서, 그것은 예를 들어 마우스, 키보드, 혹은 표시부 (66) 의 표시 화면 상에 배치되는 터치 패널이다. 표시부 (66) 는 정보를 표시하는 것으로서, 그것은 예를 들어 액정 디스플레이이다.
기억부 (50EDI) 는 정보를 기억하는 것으로서, 그것은 예를 들어 하드 디스크를 포함한다. 기억부 (50EDI) 에는, 가공 프로그램 (56) 을 편집하는 프로그램 편집 처리를 실행하기 위한 편집 소프트웨어가 기억된다.
연산부 (52EDI) 는, 해석부 (68) 와, 정보 생성부 (70) 와, 편집부 (72) 를 갖는다. 이들 각 부는, 연산부 (52EDI) 가 편집 소프트웨어를 실행함으로써 실현된다.
해석부 (68) 는, 제어 장치 (16) 의 기억부 (50EDI) 로부터의 가공 프로그램 (56) 의 판독, 및 판독한 가공 프로그램 (56) 의 해석을 실시한다. 해석부 (68) 는, 그 해석에 있어서, 가공 경로 (58) 에 포함되는 소정 형상 패턴의 특정을 실시한다.
해석부 (68) 는, 복수의 블록 (62) 의 각각이 갖는 경로 정보를 인식함으로써, 연속하는 복수의 부분 경로 (60) 에 의해 구성되는 소정 형상 패턴을 특정한다. 본 실시형태에서는, 한정되는 것은 아니지만, 이하의 2 개의 형상 패턴이 소정 형상 패턴에 해당한다. 즉, 제 1 형상 패턴은, 「직선으로부터 곡선으로, 또는 곡선으로부터 직선으로 천이하는 패턴」 이다. 또한, 제 2 형상 패턴은, 「2 개의 부분 경로 (60) 가 소정 각도의 각 코너 형상을 구성하는 패턴」 이다. 또한, 소정 각도는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 미리 결정된 범위에 포함되는 각도로서 규정되어도 된다.
정보 생성부 (70) 는, 특정된 소정 형상 패턴에 따른 형상 정보 (74) (도 7) 를 생성한다. 형상 정보 (74) 는, 대상의 형상 패턴을 나타내는 정보나, 그 형상 패턴을 구성하는 부분 경로 (60) 에 관한 정보를 블록 (62) 단위로 갖는다. 형상 정보 (74) 가 갖는 블록 (62) 의 수는, 한정되지 않지만, 본 실시형태에서는 대응하는 형상 패턴에 따라 상이하다.
예를 들어, 제 1 형상 패턴에 대응하여 생성되는 형상 정보 (74) 는, 본 실시형태에서는 그 제 1 형상 패턴을 구성하는 상류측의 부분 경로 (60) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62) 과, 하류측의 부분 경로 (60) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62) 을 갖는다.
부분 경로 (60) 를 나타내는 정보란, 예를 들어 그 부분 경로 (60) 의 형상을 나타내는 정보나, 경로 길이를 나타내는 정보이다. 또한, 부분 경로 (60) 가 호상인 경우에는, 호의 곡률을 나타내는 정보도 부분 경로 (60) 에 관한 정보로 포함될 수 있다. 호의 곡률을 나타내는 정보란, 예를 들어 곡률 반경이다.
또한, 제 2 형상 패턴에 대응하는 형상 정보 (74) 는, 제 1 형상 패턴에 대응하는 형상 정보 (74) 와 동일하게, 상류측의 부분 경로 (60) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62) 과, 하류측의 부분 경로 (60) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62) 을 갖는다. 또한, 제 2 형상 패턴에 대응하는 형상 정보 (74) 는, 상류의 부분 경로 (60) 와 하류의 부분 경로 (60) 가 이루는 각 코너에 관한 정보를 나타내는 블록 (62) 을 추가로 갖는다.
각 코너에 관한 정보란, 예를 들어 그 각 코너가 외각 코너와 내각 코너 중 어느 것인지를 나타내는 정보나, 그 각 코너가 이루는 각도를 나타내는 정보이다. 또한, 상류측의 부분 경로 (60) 가 추가로 상류측의 부분 경로 (60) 와 함께 다른 각 코너를 구성하는 경우에는, 그 다른 각 코너에 관한 정보를 포함시켜도 된다.
편집부 (72) 는, 정보 생성부 (70) 가 생성한 형상 정보 (74) 를 가공 프로그램 (56) 에 삽입함으로써, 가공 프로그램 (56) 을 편집한다. 이에 의해, 가공 프로그램 (56) 에는, 복수의 부분 경로 (60) 를 나타내는 복수의 경로 정보에 더하여, 복수의 부분 경로 (60) 로 구성되는 소정 형상 패턴에 관한 형상 정보 (74) 가 규정된다.
형상 정보 (74) 는, 당해 형상 정보 (74) 가 나타내는 형상 패턴을 구성하는 복수의 부분 경로 (60) 중 가장 상류측의 부분 경로 (60) 를 따른 상대 이동이 실시될 때에 방전 가공부 (54) 가 당해 형상 정보 (74) 의 내용을 파악할 수 있도록, 가공 프로그램 (56) 에 삽입된다. 보다 바람직하게는, 당해 가장 상류측의 부분 경로 (60) 를 따른 상대 이동이 실시되기 직전에 방전 가공부 (54) 가 당해 형상 정보 (74) 의 내용을 파악할 수 있도록, 가공 프로그램 (56) 에 삽입되는 것이 바람직하다.
이상이, 가공 프로그램 (56) 을 편집하는 프로그램 편집 장치 (18) 의 구성의 일례이다. 편집된 가공 프로그램 (56) 은 기억부 (50EDI) 에 기억되고, 필요에 따라 제어 장치 (16) 의 기억부 (50CON) 에 출력된다. 이에 의해, 와이어 방전 가공기 (10) 는, 편집 후의 가공 프로그램 (56) 에 기초하여 방전 가공을 실행할 수 있다.
도 4 는, 프로그램 편집 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로우 차트이다. 도 5 는, 가공 프로그램 (56) 의 편집 전의 상태의 일례를 나타내는 도면이다. 또한, 도 5 는, 가공 프로그램 (56) 의 일부를 생략하고 있다. 도 6 은, 도 5 의 가공 프로그램 (56) 이 규정하는 가공 경로 (58) 를 나타내는 도면이다. 또한, 도 6 은, 가공 경로 (58) 의 일부를 생략하고 있다.
다음으로, 프로그램 편집 장치 (18) 에 의한 프로그램 편집 처리의 흐름을 설명한다. 프로그램 편집 처리는, 도 4 에 예시되는 바와 같이, 해석 스텝과, 정보 생성 스텝과, 편집 스텝을 포함한다. 이하, 이들 각 스텝에 대하여, 도 5 에 예시한 가공 프로그램 (56) 을 편집하는 경우를 예로 들면서 순서대로 설명한다.
해석 스텝에서는, 가공 프로그램 (56) 을 해석하는 것에 의한 소정 형상 패턴의 특정이 실시된다. 가공 프로그램 (56) 의 해석 및 소정 형상 패턴의 특정은, 해석부 (68) 가 실행할 수 있다. 이하, 소정 형상 패턴의 특정에 대하여, 예를 들어 설명한다.
도 6 에 예시되는 가공 경로 (58) 는, 연속하는 복수의 부분 경로 (60 (60A, 60B, 60C, 60D)) 를 갖는다. 이 가공 경로 (58) 에 대응하는 도 5 의 가공 프로그램 (56) 은, 복수의 블록 (62 (62A, 62B, 62C, 62D)) 을 갖는다. 이들 중, 블록 (62A) 은 부분 경로 (60A) 에 대응하는 것으로, 부분 경로 (60A) 를 나타내는 경로 정보를 갖는다. 이하 동일하게, 블록 (62B) 은 부분 경로 (60B) 를 나타내는 경로 정보를 갖는 것이고, 블록 (62C) 은 부분 경로 (60C) 를 나타내는 경로 정보를 갖는 것이고, 블록 (62D) 은 부분 경로 (60D) 를 나타내는 경로 정보를 갖는 것이다.
여기서, 예를 들어, 도 6 의 예에서는, 부분 경로 (60A) 는 직선상이고, 부분 경로 (60B) 는 외향 호상이다. 또한, 부분 경로 (60A) 와 부분 경로 (60B) 는, 이 순서로 연속하고 있다. 이 경우, 해석부 (68) 는, 직선으로부터 곡선으로 천이하는 패턴 (제 1 형상 패턴) 이 상류측의 부분 경로 (60A) 와 하류측의 부분 경로 (60B) 에 의해 구성되는 것을, 가공 프로그램 (56) 을 해석함으로써 특정한다.
또한, 예를 들어, 도 6 의 예에서는, 부분 경로 (60B) 와 부분 경로 (60C) 가 소정 각도 (115도) 의 각 코너를 이룬다. 이 경우, 해석부 (68) 는, 소정 각도의 각 코너를 이루는 패턴 (제 2 형상 패턴) 이 상류측의 부분 경로 (60B) 와 하류측의 부분 경로 (60C) 에 의해 구성되는 것을, 가공 프로그램 (56) 을 해석함으로써 특정한다.
이와 같이 하여, 해석 스텝에서는, 가공 경로 (58) 에 포함되는 모든 소정 형상 패턴이 특정된다.
정보 생성 스텝에서는, 해석 스텝에서 실시된 해석의 결과에 기초하여, 특정된 소정 형상 패턴에 따른 형상 정보 (74) 의 생성이 실시된다. 형상 정보 (74) 의 생성은, 정보 생성부 (70) 가 실행할 수 있다. 이하, 형상 정보 (74) 의 생성에 대하여, 예를 들어 설명한다.
예를 들어, 부분 경로 (60A) 와 부분 경로 (60B) 가 구성하는 제 1 형상 패턴에 대하여, 정보 생성부 (70) 는, 부분 경로 (60A) 와 부분 경로 (60B) 가 연속하고 있는 것을 나타내는 형상 정보 (74A) 를 생성한다. 형상 정보 (74A) 에는, 부분 경로 (60A) 와 부분 경로 (60B) 의 각각에 대하여, 경로 길이를 나타내는 정보가 포함될 수 있다. 또한, 호상의 부분 경로 (60B) 에 대해서는, 호의 곡률을 나타내는 정보도 포함될 수 있다.
도 7A 는, 형상 정보 (74) 의 제 1 예이다. 또한, 도 7A 에는 형상 정보 (74A) 의 예가 나타나 있다.
도 7A 에, 형상 정보 (74A) 의 일례를 나타낸다. 형상 정보 (74A) 는, 상류측의 부분 경로 (60A) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62AA) 과, 하류측의 부분 경로 (60B) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62AB) 의 2 개의 블록 (62) 을 갖는다.
블록 (62AA) 및 블록 (62AB) 의 각각에 나타난 정보 중, 「M」 의 우측의 2 문자는 가공 경로 (58) 에 있어서의 순서를 나타낸다. 「Mxx」 는, 이것을 포함하는 블록 (62AA) 이 상류측의 부분 경로 (60) 에 관한 것을 나타낸다. 또한, 「Myy」 는, 이것을 포함하는 블록 (62AB) 이 하류측의 부분 경로 (60) 에 관한 것을 나타낸다. 이 외에, 도 7A 에는 나타나 있지 않지만, 후에 설명하는 도 7C 의 「Mww」 는 「Mxx」 보다 더욱 상류측인 것을 나타내고, 「Mzz」 는 「Myy」 보다 더욱 하류인 것을 나타낸다. 또한, 「L」 의 우측의 숫자는 부분 경로 (60) 의 경로 길이를 나타내고, 「R」 의 우측의 숫자는 곡률 반경의 수치를 나타내고, 「A」 의 우측의 숫자는 직전의 부분 경로 (60) 에 대한 경사 각도를 나타낸다. 그리고, 형상 정보 (74) 에 포함되는 블록 (62) 이 나타내는 정보에 대하여, 「S」 의 우측의 숫자는 부분 경로 (60) 의 형상의 종별을 나타낸다. 본 실시형태에서는, 예로서 「S0 : 직선」, 「S1 : 외측 원호」, 「S2 : 내측 원호」, 「S3 : 외각 코너」, 「S4 : 내각 코너」 로 하고 있다.
이상을 감안하면, 형상 정보 (74A) 는, 상류측의 부분 경로 (60A) 에 대하여, 경로 길이가 「7.0138」 인 직선인 것을 나타내고 있는 것을 알 수 있다. 또한, 형상 정보 (74A) 는, 하류측의 부분 경로 (60B) 에 대하여, 직전의 부분 경로 (60A) 에 대한 경사 각도가 「165」 이고, 경로 길이가 「2.75」 이고, 곡률 반경이 「3」 인 「외측 원호」 인 것을 나타내고 있는 것을 알 수 있다.
다른 예를 설명하면, 예를 들어 부분 경로 (60B) 와 부분 경로 (60C) 가 구성하는 제 2 형상 패턴에 대하여, 정보 생성부 (70) 는, 부분 경로 (60B) 와 부분 경로 (60C) 가 구성하는 각 코너 형상을 나타내는 형상 정보 (74B) 를 생성한다. 형상 정보 (74B) 에는, 부분 경로 (60B) 와 부분 경로 (60C) 가 이루는 각도가 포함된다. 또한, 부분 경로 (60B) 와 부분 경로 (60C) 의 각각에 대하여, 경로 길이를 나타내는 정보나 호의 곡률을 나타내는 정보도 포함될 수 있다.
도 7B 는, 형상 정보 (74) 의 제 2 예이다. 또한, 도 7B 에는 형상 정보 (74B) 의 예가 나타나 있다.
도 7B 에, 형상 정보 (74B) 의 일례를 나타낸다. 형상 정보 (74B) 는, 상류측의 부분 경로 (60B) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62BB) 과, 하류측의 부분 경로 (60C) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62BC) 의 2 개의 블록 (62) 을 갖는다. 또한, 형상 정보 (74B) 는, 부분 경로 (60B) 와 부분 경로 (60C) 가 구성하는 각 코너에 관한 정보를 나타내는 블록 (62BBC) 을 추가로 갖는다.
도 7C 는, 형상 정보 (74) 의 제 3 예이다. 또한, 도 7C 에는 형상 정보 (74C) 의 예가 나타나 있다.
도 7C 에, 형상 정보 (74C) 의 일례를 나타낸다. 형상 정보 (74C) 는, 상류측의 부분 경로 (60C) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62CC) 과, 하류측의 부분 경로 (60D) 에 관한 정보를 나타내는 블록 (62CD) 과, 부분 경로 (60C) 와 부분 경로 (60D) 가 구성하는 각 코너에 관한 정보를 나타내는 블록 (62CCD) 을 갖는다.
또한, 형상 정보 (74C) 는, 도 7C 와 같이, 부분 경로 (60) 와 부분 경로 (60B) 가 구성하는 각 코너에 관한 정보를 나타내는 블록 (62B'BC) 을 추가로 갖는다. 이와 같이, 상류측의 부분 경로 (60 (60C)) 가 추가로 상류측의 부분 경로 (60 (60B)) 와 함께 구성하는 각 코너를 구성하고 있을 때에는, 당해 각 코너에 관한 정보가 형상 정보 (74 (74C)) 에 포함될 수 있다.
이와 같이 하여, 정보 생성 스텝에서는, 특정된 모든 소정 형상 패턴에 대하여, 대응하는 형상 정보 (74 (74A, 74B, 74C, 74D)) 가 생성된다.
편집 스텝에서는, 정보 생성 스텝에서 생성된 형상 정보 (74) 를 가공 프로그램 (56) 에 삽입함으로써, 그 가공 프로그램 (56) 을 편집한다. 형상 정보 (74) 는, 그 형상 정보 (74) 가 대응하는 복수의 부분 경로 (60) 중, 상류측의 부분 경로 (60) 에 대응하는 경로 정보에 부수하도록 삽입된다. 이하, 가공 프로그램 (56) 의 편집에 대하여, 예를 들어 설명한다.
도 8 은, 도 5 의 가공 프로그램 (56) 의 편집 후의 상태를 나타내는 도면이다. 또한, 도 8 은, 가공 프로그램 (56) 의 일부를 생략하고 있다.
예를 들어, 형상 정보 (74A) 에 대응하는 부분 경로 (60) 는, 부분 경로 (60A) 및 부분 경로 (60B) 이다. 이들 중, 상류측은 부분 경로 (60A) 이다. 따라서, 편집부 (72) 는, 부분 경로 (60A) 에 대응하는 경로 정보 (블록 (62A)) 에 부수하도록, 형상 정보 (74A) 를 가공 프로그램 (56) 에 삽입한다.
동일하게, 편집부 (72) 는, 부분 경로 (60B) 에 대응하는 경로 정보에 부수하도록, 형상 정보 (74B) 를 가공 프로그램 (56) 에 삽입한다. 또한, 편집부 (72) 는, 부분 경로 (60C) 에 대응하는 경로 정보 (블록 (62B)) 에 부수하도록, 형상 정보 (74C) 를 가공 프로그램 (56) 에 삽입한다.
이와 같이 하여, 편집 스텝에서는, 생성된 모든 형상 정보 (74) 가 삽입됨으로써, 가공 프로그램 (56) 이 편집된다.
편집 후의 가공 프로그램 (56) 은, 제어 장치 (16) 의 기억부 (50CON) 에 기억시킴으로써, 방전 가공부 (54) 가 실행 가능해진다. 방전 가공부 (54) 는, 가공 대상물 (W) 에 방전 가공을 실시할 때에는, 편집 후의 가공 프로그램 (56) 에 기초하여 와이어 전극 (12) 을 상대 이동시킨다.
여기서, 방전 가공부 (54) 는, 예를 들어 형상 정보 (74A) 에 기초하여, 부분 경로 (60A) 로부터 부분 경로 (60B) 로의 천이가 직선으로부터 곡선으로의 천이인 것을 파악할 수 있다. 따라서, 방전 가공부 (54) 는, 와이어 전극 (12) 을 직선상으로 상대 이동시키는 것에 적합한 가공 조건으로부터 곡선상으로 상대 이동시키는 것에 적합한 가공 조건으로의 변경을, 스무스하게 실시할 수 있다.
또한, 방전 가공부 (54) 는, 예를 들어 형상 정보 (74B) 에 기초하여, 부분 경로 (60B) 로부터 부분 경로 (60C) 로의 천이가, 소정 각도의 각 코너의 형성을 수반하는 것을 파악할 수 있다. 따라서, 방전 가공부 (54) 는, 부분 경로 (60B) 에 있어서의 방전 가공에 적합한 가공 조건으로부터 각 코너를 형성하는 것에 적합한 가공 조건으로의 변경을 스무스하게 실시할 수 있다. 또한, 각 코너를 형성하는 것에 적합한 가공 조건으로부터 부분 경로 (60C) 에 있어서의 방전 가공에 적합한 가공 조건으로의 변경을 스무스하게 실시할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 가공 프로그램 편집 처리가 실시되지 않는 경우로서, 예를 들어 어느 부분 경로 (60) 의 경로 길이가 짧을 때에는, 그 부분 경로 (60) 를 통과하는 동안에 가공 조건의 최적화가 제때 이루어지지 않을 우려가 있다. 이것이 본 실시형태의 경우, 소정 형상 패턴을 구성하는 부분 경로 (60) 의 경로 길이가 형상 정보 (74) 에 포함될 수 있다. 따라서, 경로 길이가 짧은 부분 경로 (60) 의 존재를 방전 가공부 (54) 에 미리 인식시킬 수 있어, 가공 조건을 조정하는 타이밍을 최적화시킬 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는 제어 장치 (16) 와 프로그램 편집 장치 (18) 가 각각 별개의 장치인 것으로서 설명했지만, 제어 장치 (16) 와 프로그램 편집 장치 (18) 는 일체적으로 구성되어도 된다. 즉, 기억부 (50CON) 에 편집 소프트웨어가 기억되어도 되고, 연산부 (52CON) 가 기억부 (50CON) 와 협동하여 상기의 가공 프로그램 편집 처리를 실행해도 된다.
이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 방전 가공의 정밀도를 향상시킬 수 있는 프로그램 편집 장치 (18) 및 와이어 방전 가공기 (10) 가 제공된다.
[변형예]
이상, 본 발명의 일례로서 실시형태가 설명되었지만, 상기 실시형태에, 다양한 변경 또는 개량을 가하는 것이 가능한 것은 물론이다. 그와 같은 변경 또는 개량을 가한 형태도 본 발명의 기술적 범위에 포함될 수 있는 것이, 특허 청구의 범위의 기재로부터 분명하다.
(변형예 1)
도 9 는, 변형예 1 의 가공 프로그램 (56') 의 편집 전의 상태의 일례를 나타내는 도면이다. 또한, 도 9 는, 가공 프로그램 (56') 의 일부를 생략하고 있다. 도 10 은, 도 9 의 가공 프로그램 (56') 이 규정하는 가공 경로 (58') 를 나타내는 도면이다. 또한, 도 10 은, 가공 경로 (58') 의 일부를 생략하고 있다.
실시형태에서 설명한 바와 같이, 소정 형상 패턴은, 실시형태에서 설명되는 2 가지 방법에 한정되지 않는다. 본 변형예에서는, 그 일례에 대하여 설명한다.
가공 경로 (58') 에 있어서는, 도 10 과 같이, 연속하는 복수의 직선상의 부분 경로 (60' (60A', 60B',…, 60J')) 에 의해 유사 곡선 형상이 구성된다. 해석부 (68) 는, 이 유사 곡선 형상을, 소정 형상 패턴으로서 특정해도 된다.
유사 곡선 형상이 소정 형상 패턴으로서 특정되는 경우, 정보 생성부 (70) 는, 그 유사 곡선 형상에 따른 형상 정보 (74' (74A', 74B',…, 74J')) 를 생성할 수 있다. 여기서, 본 변형예에서는, 생성되는 형상 정보 (74') 에, 그 유사 곡선 형상에 근사하는 곡선 형상을 나타내는 정보를 포함시킨다.
도 11 은, 도 9 의 가공 프로그램 (56') 의 편집 후의 상태를 나타내는 도면이다. 또한, 도 11 은, 가공 프로그램 (56') 의 일부를 생략하고 있다.
도 11 에는, 본 변형예에 있어서 정보 생성부 (70) 가 생성할 수 있는 형상 정보 (74') 의 일례가 나타나 있다. 형상 정보 (74') 에는, 유사 곡선 형상을 구성하는 부분 경로 (60) 의 경로 길이를 나타내는 정보 (L0.028) 외에, 당해 유사 곡선에 근사하는 곡선의 곡률을 나타내는 정보 (R0.5) 가 포함된다. 또한, 유사 곡선 형상을 구성하는 복수의 부분 경로 (60) 의 각각은, 그 자체는 직선상이지만, 형상 패턴의 종별을 나타내는 정보로는, 외측 원호를 나타내는 정보 (S1) 가 형상 정보 (74') 에 포함된다.
편집부 (72) 는, 정보 생성부 (70) 가 생성한 형상 정보 (74') 를, 유사 곡선을 구성하는 복수의 부분 경로 (60') 에 대응하는 모든 경로 정보에 부수하는 정보로서 가공 프로그램 (56') 에 삽입한다. 이에 의해, 편집 후의 가공 프로그램 (56') 을 실행하는 방전 가공부 (54) 는, 형상 정보 (74') 가 나타내는 유사 곡선을 와이어 전극 (12) 이 통과할 때, 곡선용의 가공 조건을 적용하여 방전 가공을 실시할 수 있다. 이에 의해, 가공 정밀도가 향상될 수 있다.
(변형예 2)
상기의 실시형태 및 변형예는, 모순이 생기지 않는 범위에서 임의로 조합되어도 된다.
[실시형태로부터 얻어지는 발명]
상기 실시형태 및 변형예로부터 파악할 수 있는 발명에 대하여, 이하에 기재한다.
＜제 1 발명＞
와이어 방전 가공기 (10) 가 구비하는 와이어 전극 (12) 의 가공 대상물 (W) 에 대한 가공 경로 (58) 가 설정된 가공 프로그램 (56) 을 편집하는 프로그램 편집 장치 (18) 로서, 상기 가공 프로그램 (56) 은 상기 가공 경로 (58) 를 분할한 복수의 부분 경로 (60) 의 각각에 대응하는 블록 (62) 을 갖고, 상기 블록 (62) 의 각각은 대응하는 상기 부분 경로 (60) 를 나타내는 경로 정보를 갖고, 상기 가공 프로그램 (56) 을 해석함으로써, 상기 가공 경로 (58) 에 있어서 연속하는 복수의 상기 부분 경로 (60) 가 구성하는 소정 형상 패턴을 특정하는 해석부 (68) 와, 특정된 상기 소정 형상 패턴에 따른 형상 정보 (74) 를 생성하는 정보 생성부 (70) 와, 상기 형상 정보 (74) 를 상기 가공 프로그램 (56) 에 삽입하는 편집부 (72) 를 구비한다.
이에 의해, 방전 가공의 정밀도를 향상시킬 수 있는 프로그램 편집 장치 (18) 가 제공된다.
상기 형상 정보에는, 상기 소정 형상 패턴을 구성하는 복수의 상기 부분 경로 (60) 의 각각의 형상을 나타내는 정보가 포함되어도 된다. 이에 의해, 가공 정밀도가 향상될 수 있다.
상기 형상 정보 (74, 74') 에는, 상기 소정 형상 패턴을 구성하는 상기 부분 경로 (60) 의 경로 길이와 곡률의 적어도 일방을 나타내는 정보가 포함되어도 된다. 이에 의해, 가공 정밀도가 향상될 수 있다.
상기 소정 형상 패턴에는, 연속하는 2 개의 상기 부분 경로 (60) 가 이루는 각 코너 형상이 포함되고, 상기 각 코너 형상에 따른 상기 형상 정보 (74) 에는, 상기 각 코너 형상을 구성하는 2 개의 상기 부분 경로 (60) 가 이루는 각도를 나타내는 정보가 포함되어도 된다. 이에 의해, 가공 정밀도가 향상될 수 있다.
상기 소정 형상 패턴에는, 연속한 직선으로 이루어지는 유사 곡선 형상이 포함되고, 상기 유사 곡선 형상에 따른 상기 형상 정보 (74') 는, 상기 유사 곡선 형상에 근사하는 곡선 형상을 나타내는 정보가 포함되어도 된다. 이에 의해, 가공 정밀도가 향상될 수 있다.
＜제 2 발명＞
와이어 전극 (12) 을 구비하고, 가공 프로그램 (56) 에 설정된 가공 경로 (58) 를 따라 상기 와이어 전극 (12) 을 가공 대상물 (W) 에 대하여 상대 이동시키는 와이어 방전 가공기 (10) 로서, 상기 ＜제 1 발명＞ 에 기재된 프로그램 편집 장치 (18) 와, 상기 프로그램 편집 장치 (18) 가 편집한 상기 가공 프로그램 (56) 에 설정된 상기 가공 경로 (58) 를 따라 상기 와이어 전극 (12) 을 상대 이동시키면서, 상기 가공 프로그램 (56) 에 삽입된 상기 형상 정보 (74, 74') 에 기초하여 가공 조건을 보정하면서 상기 가공 대상물 (W) 에 대한 방전 가공을 실행하는 방전 가공부 (54) 를 구비한다.
이에 의해, 방전 가공의 정밀도를 향상시킬 수 있는 와이어 방전 가공기 (10) 가 제공된다.

Claims (6)

  1. 와이어 방전 가공기 (10) 가 구비하는 와이어 전극 (12) 의 가공 대상물 (W) 에 대한 가공 경로 (58) 가 설정된 가공 프로그램 (56) 을 편집하는 프로그램 편집 장치 (18) 로서,
    상기 가공 프로그램은 상기 가공 경로를 분할한 복수의 부분 경로 (60) 의 각각에 대응하는 블록 (62) 을 갖고, 상기 블록의 각각은 대응하는 상기 부분 경로를 나타내는 경로 정보를 갖고,
    상기 가공 프로그램을 해석함으로써, 상기 가공 경로에 있어서 연속하는 복수의 상기 부분 경로가 구성하는 소정 형상 패턴을 특정하는 해석부 (68) 와,
    특정된 상기 소정 형상 패턴에 따른 형상 정보 (74) 를 생성하는 정보 생성부 (70) 와,
    상기 형상 정보를 상기 가공 프로그램에 삽입하는 편집부 (72),
    를 구비하는, 프로그램 편집 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 형상 정보에는, 상기 소정 형상 패턴을 구성하는 복수의 상기 부분 경로의 각각의 형상을 나타내는 정보가 포함되는, 프로그램 편집 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 형상 정보에는, 상기 소정 형상 패턴을 구성하는 상기 부분 경로의 경로 길이와 곡률의 적어도 일방을 나타내는 정보가 포함되는, 프로그램 편집 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 소정 형상 패턴에는, 연속하는 2 개의 상기 부분 경로가 이루는 각 코너 형상이 포함되고,
    상기 각 코너 형상에 따른 상기 형상 정보에는, 상기 각 코너 형상을 구성하는 2 개의 상기 부분 경로가 이루는 각도를 나타내는 정보가 포함되는, 프로그램 편집 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 소정 형상 패턴에는, 연속한 직선으로 이루어지는 유사 곡선 형상이 포함되고,
    상기 유사 곡선 형상에 따른 상기 형상 정보는, 상기 유사 곡선 형상에 근사하는 곡선 형상을 나타내는 정보가 포함되는, 프로그램 편집 장치.
  6. 와이어 전극 (12) 을 구비하고, 가공 프로그램 (56) 에 설정된 가공 경로 (58) 를 따라 상기 와이어 전극을 가공 대상물 (W) 에 대하여 상대 이동시키는 와이어 방전 가공기 (10) 로서,
    제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 프로그램 편집 장치 (18) 와,
    상기 프로그램 편집 장치가 편집한 상기 가공 프로그램에 설정된 상기 가공 경로를 따라 상기 와이어 전극을 상대 이동시키면서, 상기 가공 프로그램에 삽입된 상기 형상 정보에 기초하여 가공 조건을 보정하면서 상기 가공 대상물에 대한 방전 가공을 실행하는 방전 가공부 (54),
    를 구비하는, 와이어 방전 가공기.
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