KR20210055864A - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 액 토출 헤드가 리저버와 함께 수평 방향으로 이동된다. 리저버는 가로 방향의 크기가 세로 방향의 크기에 비하여 작은 액 저장 공간을 가지며 액 저장 공간의 가로 방향이 액 토출 헤드의 수평 이동 방향과 일치하도록 배치된다. 이에, 본 발명은 액 저장 공간의 용량을 충분히 확보할 수 있다. 그리고, 리저버가 이동되는 때, 처리액이 액 저장 공간에서 이동 폭이 작은 가로 방향으로 이동되므로 처리액의 출렁임을 감소시킬 수 있고, 나아가 출렁인 처리액이 안정화되는 데까지 소요되는 시간을 크게 단축할 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 {SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 데 사용되는 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체, 평판 디스플레이(flat panel display, FPD) 등을 제조하는 데에는 기판에 대하여 처리액을 이용하여 소정의 처리 공정을 수행하는 기판 처리 장치가 사용되고, 기판 처리 장치는 기판으로 처리액을 토출하는 헤드 및 헤드에 공급되는 처리액을 저장하는 리저버(reservoir)를 포함한다.
여기에서, 기판 처리 장치는, 헤드가 수평 방향으로 이동하면서 기판으로 처리액을 토출할 수 있게 구성되고, 리저버가 헤드와 함께 동일 방향으로 이동하도록 구성된다.
리저버가 헤드와 함께 이동되는 타입은, 처리액을 리저버로부터 헤드로 공급하는 액 공급 라인의 길이를 단축함으로써, 액 공급 라인의 관로가 처리액 내 입자들의 응집 또는 침전 현상 등으로 인하여 전체 또는 부분적으로 막히는 문제 및 이로 인한 공정 불량을 최소화할 수 있다.
그러나, 리저버가 이동됨에 따라 리저버의 내부에 저장된 처리액이 크게 출렁일 수밖에 없고, 처리액의 출렁임으로 인하여 처리액 공급 압력이 변동될 수 있는바, 이에 대한 개선책 마련이 시급히 요구되고 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2011-0058566호(2011.06.01.) 대한민국 등록특허공보 제10-1170778호(2012.08.10.)
본 발명의 실시예는 기판 처리 시 리저버의 내부에 저장된 처리액의 출렁임을 최소화할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 데 목적이 있다.
해결하고자 하는 과제는 이에 제한되지 않고, 언급되지 않은 기타 과제는 통상의 기술자라면 이하의 기재로부터 명확히 이해할 수 있을 것이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과; 상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드(액 토출 헤드) 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 리저버를 포함하는 헤드 유닛과; 상기 헤드 유닛을 수평의 제1 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛을 포함하고, 상기 리저버는 수평을 기준으로 가로 방향의 크기가 세로 방향의 크기에 비하여 작은 액 저장 공간을 가지며 상기 액 저장 공간의 상기 가로 방향이 상기 헤드 이동 유닛에 의한 이동 방향과 일치하도록 배치된 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과; 상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 리저버를 포함하는 헤드 유닛과; 상기 헤드 유닛을 수평의 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 수평의 제2 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛을 포함하고, 상기 리저버는 수평을 기준으로 가로 방향의 크기가 세로 방향의 크기에 비하여 작은 액 저장 공간을 가지며, 상기 헤드 유닛은 상기 헤드 이동 유닛에 의한 이동 방향에 따라 상기 리저버를 회전시켜 상기 액 저장 공간의 상기 가로 방향이 상기 헤드 이동 유닛에 의한 이동 방향과 일치하도록 상기 리저버의 배치 방향을 변경시키는 리저버 회전 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
상기 헤드 유닛을 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 이동시키는 상기 헤드 이동 유닛을 포함하는 상기 기판 처리 장치에 있어서, 상기 헤드 유닛은 상기 헤드 이동 유닛에 의하여 이동되는 마운팅 프레임(mounting frame)을 더 포함하고, 상기 마운팅 프레임에는 상기 헤드가 장착되고 상기 리저버가 상기 리저버 회전 모듈에 의하여 수직의 축을 중심으로 회전 가능하게 장착될 수 있다.
여기에서, 상기 축은 상기 리저버의 회전 반경 축소를 고려할 때 상기 리저버의 중앙 쪽에 배치된 것이 바람직하다.
상기 액 저장 공간에는 상기 가로 방향으로 연장된 적어도 하나 이상의 구획 부재가 세워질 수 있다. 그리고, 상기 구획 부재는 기포 제거 구멍들이 관통된 타공판일 수 있다.
상기 액 저장 공간은 바닥이 상기 가로 방향을 따라 한쪽에서 다른 쪽으로 경사진 경사면으로 형성되고, 상기 경사면의 하단 쪽에 상기 처리액을 상기 액 저장 공간의 외부로 배출하는 액 공급 포트가 연결될 수 있다.
상기 액 저장 공간은 상기 바닥과 연결된 상기 세로 방향의 양쪽 측벽의 하부가 상기 처리액을 중앙 쪽으로 유도하는 경사면 또는 곡면으로 형성될 수 있다.
한편, 상기 헤드는 잉크젯 헤드(inkjet head)일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 헤드 유닛을 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 이동시키는 상기 헤드 이동 유닛을 포함하는 상기 기판 처리 장치를 이용하여 상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 상기 처리액을 토출하는 기판 처리 방법으로, 상기 액 저장 공간의 상기 가로 방향이 상기 헤드 이동 유닛에 의하여 상기 헤드 유닛을 이동시킬 방향과 일치하도록 상기 리저버를 상기 리저버 회전 모듈에 의하여 회전시키고, 상기 헤드 유닛을 상기 헤드 이동 유닛에 의하여 이동시킬 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 방법이 제공될 수 있다.
과제의 해결 수단은 이하에서 설명하는 실시예, 도면 등을 통하여 보다 구체적이고 명확하게 될 것이다. 또한, 이하에서는 언급한 해결 수단 이외의 다양한 해결 수단이 추가로 제시될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 액 토출 헤드(잉크젯 헤드)는 미리 설정된 수평의 제1 방향으로 이동된다. 그리고, 리저버는 가로 방향의 크기가 세로 방향의 크기에 비하여 작은 사각형 구조의 액 저장 공간을 가지며 액 저장 공간의 가로 방향이 액 토출 헤드의 이동 방향(제1 방향)과 일치하도록 배치된다. 이에, 본 발명의 실시예는, 액 저장 공간의 용량을 충분히 확보할 수 있을 뿐만 아니라, 리저버가 이동되는 때 처리액이 액 저장 공간에서 이동 폭이 작은 가로 방향으로 이동되므로 처리액의 출렁임을 감소시킬 수 있고, 나아가 출렁인 처리액이 안정화되는 데까지 소요되는 시간을 크게 단축할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 의하면, 액 토출 헤드는 수평의 제1 방향 및 제1 방향과 직교하는 수평의 제2 방향으로 이동된다. 그리고, 가로 방향의 크기가 세로 방향의 크기에 비하여 작은 사각형 구조의 액 저장 공간을 가진 리저버는 리저버 회전 모듈에 의하여 수직 방향의 축을 중심으로 회전된다. 이에, 본 발명의 실시예는, 액 저장 공간의 가로 방향이 액 토출 헤드의 이동 방향과 일치하도록 리저버를 회전시켜 리저버가 이동되는 때 발생되는 처리액의 출렁임을 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 헤드 유닛을 나타내는 확대도이다.
도 3은 도 2에 도시된 리저버를 나타내는 횡단면 사시도이다.
도 4는 도 2에 도시된 리저버를 나타내는 종단면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치의 주요 부분을 나타내는 사시도이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 사시도이다.
도 7은 도 6에 도시된 헤드 유닛의 일부를 나타내는 확대도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 참고로, 본 발명의 실시예를 설명하기 위하여 참조하는 도면에서 구성 요소의 크기, 선의 두께 등은 이해의 편의상 다소 과장되게 표현되어 있을 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명하는 데 사용되는 용어는 주로 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의한 것이므로 사용자, 운용자의 의도, 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 용어에 대해서는 본 명세서의 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 해석하는 것이 마땅하겠다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 처리하기 위하여 처리액으로서 액정(liquid crystal), PI(polyimide), CF(color filter) 등의 액적(liquid drop)을 기판에 잉크젯(inkjet) 방식으로 토출하는 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다.
도 1에는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성이 도시되어 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 처리 장치는 베이스(base, 10), 기판 지지 유닛(20), 헤드 유닛(30) 및 헤드 이동 유닛(40)을 포함한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 기판 지지 유닛(20), 헤드 유닛(30) 및 헤드 이동 유닛(40)은 베이스(10) 상에 설치된다.
기판 지지 유닛(20)은 기판(S)을 하측에서 지지하여 상면에 기판(S)이 놓이는 스테이지(stage, 21)를 포함한다. 스테이지(21)의 하측에는 스테이지(21)를 Z축 방향(수직 방향)의 축을 중심으로 회전시키는 스테이지 회전 모듈(22)이 연결되고, 스테이지 회전 모듈(22)의 하측에는 스테이지 회전 모듈(22)을 Y축 방향을 따라 수평으로 이동시키는 스테이지 이동 모듈(23)이 연결된다.
스테이지 회전 모듈(22)은 구동원으로서 회전 모터를 포함할 수 있다. 스테이지 이동 모듈(23)은, 스테이지 회전 모듈(22)이 장착된 슬라이더(slider, 231), 그리고 슬라이더(231)의 Y축 방향 이동을 안내하는 가이드(guide, 232)를 포함할 수 있다. 스테이지 이동 모듈(23)은 슬라이더(231)가 구동원인 리니어 모터에 의하여 이동될 수 있다. 가이드(232)는 베이스(10)의 상면에 배치되고 Y축 방향으로 연장될 수 있다.
스테이지(21)에 의하여 지지된 기판(S)은, 스테이지 회전 모듈(22)에 의하여 Z축 방향의 축을 중심으로 회전되어 배치 방향(자세)이 변경될 수 있고, 스테이지 이동 모듈(23)에 의하여 Y축 방향으로 이동되어 Y축 방향 위치가 변경될 수 있다.
헤드 유닛(30)은 스테이지(21)에 의하여 지지된 기판(S)으로 처리액을 토출하는 잉크젯 헤드(액 토출 헤드, 31)를 포함한다. 헤드 이동 유닛(40)은 헤드 유닛(30)을 X축 방향을 따라 수평으로 이동시키는 역할을 수행한다.
헤드 이동 유닛(40)은 X축 이동 부재(41) 및 X축 구동 모듈(42)을 포함한다.
X축 이동 부재(41)는 갠트리(gantry)일 수 있다. X축 이동 부재(41)는 스테이지 이동 모듈(23)에 의한 스테이지(21)의 이동 경로의 상측에 제공되어 베이스(10)의 상면으로부터 상측으로 이격된다. X축 이동 부재(41)는, X축 방향으로 연장되고, X축 구동 모듈(42)에 의하여 X축 방향으로 이동된다. X축 구동 모듈(42)은 베이스(10)와 X축 이동 부재(41) 사이에 제공되는 복수의 리니어 모터를 포함할 수 있다.
도 2에는 헤드 유닛(30)의 일부분이 확대되어 도시되어 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 헤드 유닛(30)은, 잉크젯 헤드(31)에 공급되는 처리액을 저장하는 액 저장 공간(도 3 및 도 4의 도면 부호 32S 참조)이 내부에 형성된 리저버(32), 그리고 헤드 이동 유닛(40)에 의하여 이동되는 마운팅 프레임(33)을 더 포함한다.
마운팅 프레임(33)은 X축 이동 부재(41)에 장착되어 X축 이동 부재(41)와 함께 X축 방향으로 이동된다. 마운팅 프레임(33)은 메인 프레임(331)이 X축 이동 부재(41)에 장착된다. 잉크젯 헤드(31) 및 리저버(32)는 마운팅 프레임(33)에 장착되어 마운팅 프레임(33)과 함께 X축 방향으로 이동된다.
잉크젯 헤드(31)는 마운팅 프레임(33)의 메인 프레임(331)에 Z축 구동 모듈에 의하여 Z축 방향을 따라 수직으로 이동 가능하게 장착될 수 있다. Z축 구동 모듈은 구동원인 리니어 모터를 포함할 수 있다. 잉크젯 헤드(31)는 Z축 구동 모듈에 의하여 Z축 방향으로 이동되어 높이가 변경될 수 있다. 리저버(32)는 마운팅 프레임(33)의 서브 프레임(332)에 장착될 수 있다. 서브 프레임(332)은 메인 프레임(331)에 연결될 수 있다.
잉크젯 헤드(31)는 복수로 구비된다. 예를 들어, 도 2에서와 같이, 3개의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)가 제공될 수 있다. 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)는 X축 방향 또는 Y축 방향을 따라 일렬로 배치될 수 있다. 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)는 각각 Z축 구동 모듈에 의하여 Z축 방향으로 이동될 수 있다.
도 3 및 도 4에는 리저버(32)가 도시되어 있다. 도 2 내지 도 4를 참조하면, 리저버(32)의 액 저장 공간(32S)은 수평을 기준으로 가로 방향의 크기(S1)가 세로 방향의 크기(S2)에 비하여 작은 사각형 구조를 가지도록 형성되고, 리저버(32)는 액 저장 공간(32S)의 가로 방향(S1 참조)이 헤드 이동 유닛(40)에 의한 이동 방향(X축 방향)과 일치하도록 배치된다.
여기에서, 가로 방향의 크기(S1)가 세로 방향의 크기(S2)에 비하여 작은 액 저장 공간(32S)의 형상 및 액 저장 공간(32S)의 가로 방향(S1 참조)이 헤드 이동 유닛(40)에 의한 리저버(32)의 이동 방향(X축 방향)과 일치하는 배치 구조에 의하면, 처리액의 저장 용량을 확보할 수 있고, 기판(S)으로 처리액을 토출하는 과정에서 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)가 리저버(32)와 함께 X축 방향으로 이동되는 때 액 저장 공간(32S)에서 발생하는 처리액의 출렁임을 감소시킬 수 있다.
즉, 처리액이 액 저장 공간(32S)에서 상대적으로 이동 폭이 작은 가로 방향(S1 참조)으로 이동되므로 처리액의 출렁임을 감소시킬 수 있는 것이다. 물론, 처리액의 출렁임이 적으므로 출렁인 처리액이 안정화되는 데까지 소요되는 시간을 크게 단축할 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 액 저장 공간(32S)에는 가로 방향(S1 참조)으로 연장된 구획 부재(321)가 세워진다. 구획 부재(321)에 의하면, 액 저장 공간(32S)에서의 처리액의 이동 폭이 더 작아지므로 리저버(32)가 이동되는 때 발생되는 처리액의 출렁임을 보다 큰 폭으로 감소시킬 수 있다.
구획 부재(321)는 복수로 구비되고 X축 방향으로 서로 이격되도록 일정한 간격을 두고 배치될 수도 있다.
구획 부재(321)로는 미세한 기포 제거 구멍(321H)들이 관통된 타공판이 적용될 수 있다. 구획 부재(321)로서 타공판을 적용하면, 처리액이 기포 제거 구멍(321H)들을 통과하는 때 처리액 내의 기포가 제거되어 기포가 처리액과 함께 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)로 공급되는 것을 방지할 수 있다.
액 저장 공간(32S)은, 바닥(32B)이 가로 방향(S1 참조)을 따라 한쪽에서 다른 쪽으로 일정한 각도 경사진 경사면으로 형성되고, 바닥(32B)과 연결된 세로 방향(S2 참조)의 양쪽 측벽의 하부(32W)가 처리액을 중앙 쪽으로 유도하는 경사면 또는 곡면으로 형성된다. 그리고, 액 저장 공간(32S)의 바닥(32B)을 형성하는 경사면의 하단 쪽에는 처리액을 액 저장 공간(32S)의 외부로 배출하는 액 공급 포트(35)가 연결된다. 이러한 액 저장 공간(32S)의 형상과 액 공급 포트(35)의 배치 구조에 의하면, 액 저장 공간(32S)에서 처리액을 중앙 쪽 및 바닥(32B)을 형성하는 경사면의 하단 쪽으로 모아서 전부 배출할 수 있다.
도 2에서 설명되지 않은 도면 부호 36은 액 공급 라인이다. 액 공급 포트(35)는 잉크젯 헤드(31)와 동일 개수 및 잉크젯 헤드(31)보다 많은 수로 구비되고, 액 공급 라인(36)은 양쪽 단부가 잉크젯 헤드(31)와 액 공급 포트(35)에 각각 연결되어 처리액을 리저버(32)로부터 잉크젯 헤드(31)로 공급한다.
도 5에는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치의 주요 부분이 도시되어 있다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 본 발명의 제1 실시예와 비교하여 볼 때, 기타 구성 및 작용은 모두 동일한 것에 대하여, 헤드 이동 유닛(40)이 X축 이동 부재(도 1의 도면 부호 41 참조) 및 X축 구동 모듈(도 1의 도면 부호 42 참조) 대신 Y축 이동 부재(도 6의 도면 부호 43 참조) 및 Y축 구동 모듈(도 6의 도면 부호 44 참조)을 포함하여 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)가 리저버(32)와 함께 Y축 방향으로 이동되고, 이에 따라 리저버(32)의 경우 액 저장 공간(32S)에서 세로 방향(S2)에 비하여 작은 크기를 가진 가로 방향(S1 참조)이 헤드 이동 유닛(40)에 의한 리저버(32)의 이동 방향인 Y축 방향과 일치하도록 배치된 점 등이 상이하다.
이와 같은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 처리 장치에 있어서, 스테이지 이동 모듈(도 1의 도면 부호 23 참조)은 스테이지 회전 모듈(도 1의 도면 부호 22 참조)의 하측에 스테이지 회전 모듈을 X축 방향을 따라 수평으로 이동시키도록 연결되고, Y축 이동 부재에는 마운팅 프레임(33)이 장착된다.
도 6 및 도 7에는 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 처리 장치 및 그것의 헤드 유닛이 도시되어 있다. 도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 본 발명의 제1 실시예 또는 제2 실시예와 비교하여 볼 때, 기타 구성 및 작용은 모두 동일한 것에 대하여, 헤드 이동 유닛(40)이 헤드 유닛(30)을 X축 방향 및 Y축 방향을 따라 수평으로 이동시킬 수 있게 구성된 점, 헤드 유닛(30)이 헤드 이동 유닛(40)에 의한 이동 방향에 따라 리저버(32)를 회전시킬 수 있게 구성된 점 등이 상이하다.
스테이지 회전 모듈(22)의 하측에는 스테이지 회전 모듈(22)을 X축 방향을 따라 수평으로 이동시키는 스테이지 이동 모듈(23)이 연결될 수 있다. 스테이지 이동 모듈(23)의 슬라이더(231)는 구동원인 리니어 모터에 의하여 이동될 수 있다. 스테이지 이동 모듈(23)의 가이드(233)는 베이스(10)의 상면에 배치되고 X축 방향으로 연장될 수 있다.
헤드 이동 유닛(40)은 X축 이동 부재(41), X축 구동 모듈(42), Y축 이동 부재(43) 및 Y축 구동 모듈(44)을 포함한다. X축 이동 부재(41) 및 X축 구동 모듈(42)은 본 발명의 제1 실시예의 그것과 각각 동일하게 구성될 수 있다.
Y축 이동 부재(43)는 X축 이동 부재(41)에 Y축 방향을 따라 수평으로 이동 가능하게 장착되고, Y축 구동 모듈(44)은 Y축 이동 부재(43)를 Y축 방향으로 이동시킨다.
Y축 이동 부재(43)에는 마운팅 프레임(33)이 장착된다. 마운팅 프레임(33)은 메인 프레임(331)이 Y축 이동 부재(43)에 장착되어 Y축 이동 부재(43)와 함께 Y축 방향으로 이동된다. Y축 구동 모듈(44)은 리니어 모터를 포함할 수 있다.
마운팅 프레임(33)의 서브 프레임(332)에는 리저버(32)가 리저버 회전 모듈(37)에 의하여 수직의 축을 중심으로 회전 가능하게 장착된다. 리저버 회전 모듈(37)은 리저버(32)에 회전력을 제공하는 회전 모터를 포함할 수 있다. 리저버(32)의 회전 중심을 제공하는 축은 리저버(32)의 중앙 쪽에 배치된 것이 바람직하다. 리저버(32)가 리저버(32)의 중앙 쪽을 중심으로 회전되도록 구성하면, 리저버(32)의 회전 반경을 축소시킬 수 있다.
리저버 회전 모듈(37)은 헤드 이동 유닛(40)에 의한 리저버(32)의 이동 방향에 따라 리저버(32)를 수직의 축을 중심으로 회전시켜 액 저장 공간에서 세로 방향(S2)에 비하여 작은 크기를 가진 가로 방향(S1 참조)이 헤드 이동 유닛(40)에 의한 리저버(32)의 이동 방향과 일치하도록 리저버(32)의 배치 방향을 변경시킨다.
이와 같은 본 발명의 제3 실시예는, 기판(S)으로 처리액을 토출하는 과정에서 잉크젯 헤드(31)를 리저버(32)와 함께 X축 방향으로 이동시키려고 하는 때, 액 저장 공간의 가로 방향(S1 참조)이 X축 방향과 일치하도록 리저버(32)를 회전시키고, 잉크젯 헤드(31)를 리저버(32)와 함께 X축 방향으로 이동시킬 수 있다. 그리고, 계속하여 잉크젯 헤드(31)를 리저버(32)와 함께 Y축 방향으로 이동시키려고 하는 때에는, 액 저장 공간의 가로 방향(S1 참조)이 Y축 방향과 일치하도록 리저버(32)를 회전시키고, 잉크젯 헤드(31)를 리저버(32)와 함께 Y축 방향으로 이동시킬 수 있다. 물론, 이러한 과정을 반복하면서 기판(S)을 처리할 수 있다.
또한, 본 발명의 제3 실시예는, 잉크젯 헤드(31)를 X축 방향 및 Y축 방향으로 동시에 이동시켜 X축 방향 또는 Y축 방향에 대하여 경사진 수평의 사선 방향으로 이동시키려고 하는 때에도, 액 저장 공간의 가로 방향(S1 참조)이 해당의 사선 방향과 일치하도록 리저버(32)를 회전시키고, 잉크젯 헤드(31)를 리저버(32)와 함께 해당의 사선 방향으로 이동시킬 수 있다.
이상에서는 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 개시된 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되지 않으며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 이내에서 통상의 기술자에 의하여 다양하게 변형될 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에서 설명한 기술적 사상은, 각각 독립적으로 실시될 수도 있고, 둘 이상이 서로 조합되어 실시될 수도 있다.
10: 베이스
20: 기판 지지 유닛
30: 헤드 유닛
40: 헤드 이동 유닛
31: 잉크젯 헤드
32: 리저버
32S: 액 저장 공간
321: 구획 부재
33: 마운팅 프레임
35: 액 공급 포트
36: 액 공급 라인
37: 리저버 회전 모듈
S1: 액 저장 공간의 가로 방향의 크기
S2: 액 저장 공간의 세로 방향의 크기

Claims (10)

  1. 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 리저버를 포함하는 헤드 유닛과;
    상기 헤드 유닛을 수평의 제1 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛을 포함하고,
    상기 리저버는 수평을 기준으로 가로 방향의 크기가 세로 방향의 크기에 비하여 작은 액 저장 공간을 가지며 상기 액 저장 공간의 상기 가로 방향이 상기 헤드 이동 유닛에 의한 이동 방향과 일치하도록 배치된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  2. 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 리저버를 포함하는 헤드 유닛과;
    상기 헤드 유닛을 수평의 제1 방향 및 상기 제1 방향과 직교하는 수평의 제2 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛을 포함하고,
    상기 리저버는 수평을 기준으로 가로 방향의 크기가 세로 방향의 크기에 비하여 작은 액 저장 공간을 가지며,
    상기 헤드 유닛은 상기 헤드 이동 유닛에 의한 이동 방향에 따라 상기 리저버를 회전시켜 상기 액 저장 공간의 상기 가로 방향이 상기 헤드 이동 유닛에 의한 이동 방향과 일치하도록 상기 리저버의 배치 방향을 변경시키는 리저버 회전 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 헤드 유닛은 상기 헤드 이동 유닛에 의하여 이동되는 마운팅 프레임을 더 포함하고,
    상기 마운팅 프레임에는 상기 헤드가 장착되고 상기 리저버가 상기 리저버 회전 모듈에 의하여 수직의 축을 중심으로 회전 가능하게 장착된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 축은 상기 리저버의 중앙 쪽에 배치된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 액 저장 공간에는 상기 가로 방향으로 연장된 적어도 하나 이상의 구획 부재가 세워진 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 구획 부재는 기포 제거 구멍들이 관통된 타공판인 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 액 저장 공간은 바닥이 상기 가로 방향을 따라 한쪽에서 다른 쪽으로 경사진 경사면으로 형성되고,
    상기 경사면의 하단 쪽에 상기 처리액을 상기 액 저장 공간의 외부로 배출하는 액 공급 포트가 연결된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 액 저장 공간은 상기 바닥과 연결된 상기 세로 방향의 양쪽 측벽의 하부가 상기 처리액을 중앙 쪽으로 유도하는 경사면 또는 곡면으로 형성된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  9. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 헤드는 잉크젯 헤드인 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  10. 청구항 2에 기재된 기판 처리 장치를 이용하여 상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 상기 처리액을 토출하는 기판 처리 방법으로,
    상기 액 저장 공간의 상기 가로 방향이 상기 헤드 이동 유닛에 의하여 상기 헤드 유닛을 이동시킬 방향과 일치하도록 상기 리저버를 상기 리저버 회전 모듈에 의하여 회전시키고,
    상기 헤드 유닛을 상기 헤드 이동 유닛에 의하여 이동시킬 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 방법.
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