KR20210043636A

KR20210043636A - 화장료

Info

Publication number: KR20210043636A
Application number: KR1020217007421A
Authority: KR
Inventors: 준야 곤도; 손 탄 판; 준 미야노; 야스에 간자키; 세이지 호리
Original assignee: 다우 도레이 캄파니 리미티드
Priority date: 2018-08-15
Filing date: 2019-07-31
Publication date: 2021-04-21
Also published as: JP2020029454A; US20210244641A1; CN112804988A; EP3838257A1; CN112804988B; JP7422354B2; EP3838257A4; WO2020036063A1

Abstract

본 발명은 (A) 특정 화학 구조를 가지며, 실온에서 액상인 카복실산 변성 실리콘 및 (B) 유제를 포함하는 화장료에 관한 것이다. 본 발명에 관한 화장료는 우수한 내수성을 갖는 화장막을 부여하는 동시에, 통상의 비누와 물에 의해 용이하게 제거 가능하다.

Description

화장료

본 발명은 내수성이 높은 동시에, 세정이 용이한 화장막을 제공 가능한 화장료에 관한 것이다.

유제를 포함하는 화장료는 내수성이 우수한 화장막을 제공할 수 있기 때문에, 예를 들어 선스크린제, 혹은 파운데이션, 아이섀도 등의 메이크업 화장료로서 널리 사용되고 있다.

한편, 이러한 화장료에 의해 얻어진 화장막을 피부 등으로부터 제거하기 위해서는 물과 비누만으로는 곤란하며, 통상은 유성의 클렌징제를 사용할 필요가 있다. 이러한 유성의 클렌징제를 사용하는 것은 번잡하며, 또한 비용적으로도 불리하다.

또한, 일본 공개특허공보 제2013-144655호에는 카복시데실 트리실록산을 포함하는 유중수형 유화 화장료가 기재되어 있으나, 카복시데실 트리실록산의 사용 목적은 소수성 분체에 의한 가슬가슬한 감을 억제하고, 또한 피부에 대한 친화성 좋음 또는 끈적임 없음을 높이는 것이며, 카복실산 변성 실리콘을 화장막 제거성의 향상을 위해 사용하는 것은 기재되어 있지 않다. 또한, 일본 공개특허공보 제2013-177370호에는 특정 구조의 카복실산 변성 실리콘을 포함하는 유중수형 유화 화장료 및 유성 화장료가 기재되어 있으나, 특정의 카복실산 변성 실리콘의 사용 목적은 불휘발성 유분이 소량이면서, 분체 성분이 충분량 배합되어 있는 화장료에서 휘발성 유분의 휘발에 수반되는 가루 얼룩의 발생을 억제하는 것이며, 카복실산 변성 실리콘을 화장막 제거성의 향상을 위해 사용하는 것은 기재되어 있지 않다.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 제2013-144655호 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 제2013-177370호

본 발명은 우수한 내수성을 갖는 화장막을 부여하는 동시에, 통상의 비누와 물에 의해 용이하게 제거 가능한 화장료를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

본 발명의 목적은 하기 성분:

(A) 하기 구조식 (1):

[화 1]

(1)

(식 중,

Rc는 일반식: -R¹-(OR²)p-(O)w-R³-COOH (R¹은 탄소수 2~22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌기를 나타내고, R²는 탄소수 2~4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌기를 나타내고, R³은 결합손(-) 또는 탄소수 1~22의 직쇄 혹은 분지쇄 알킬렌기를 나타내고, p는 0~200의 수를 나타내고, w는 0 또는 1의 수를 나타낸다)로 표시되는 카복실기 함유 유기기를 나타내고,

R은 동일하거나 또는 상이하며, 탄소수 1~22의 알킬 혹은 알콕시기 또는 페닐기를 나타내고,

R'는 Rc 또는 R이며,

a는 0 이상의 수이고, b는 양의 수이고, a+b는 2~30의 범위의 수이다.)로 표시되는, 실온(25℃)에서 액상인 카복실산 변성 실리콘 및

(B) 유제

를 포함하는 화장료에 의해 달성된다.

상기 구조식 (1)에서, a, b가 모두 양의 수이고, a+b는 2~20의 범위의 수이고, a/b는 0.3~3.0인 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료는 상기 (A) 카복실산 변성 실리콘을 0.1~10 질량%의 범위로 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 본 명세서 중에 있어서 「질량%」는 「중량%」와 동일한 의미이며, 그의 기준은 특기하지 않는 한, 본 발명의 화장료의 전체 질량(전체 중량)이다.

상기 (B) 유제가 적어도 1종의 자외선 흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료는 상기 (B) 유제를 5~99 질량%의 범위로 포함하는 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료는 (C) 유용성 피막 형성제를 더 포함하는 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료는 (D) 소수성 분체를 더 포함하는 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료는 (E) 물을 더 포함할 수도 있다. 이 경우에는, 본 발명의 화장료는 유중수형 유화 화장료인 것이 바람직하다. 또한, (F) 계면활성제를 더 포함할 수도 있다. 그리고, 상기 (F) 계면활성제의 양은 화장료의 전체 질량에 대하여 0.5~15 질량%로 할 수 있다.

본 발명의 화장료는 유제를 포함하기 때문에 우수한 내수성을 갖는 화장막을 부여할 수 있으며, 더욱이 당해 화장막은 통상의 비누와 물에 의해 용이하게 제거 가능하다.

또한, 본 발명의 화장료는 안정적이다. 또한, 여기서 「안정」이란, 경시적으로 상분리를 발생시키지 않고 균일한 것을 의미한다.

본 발명자들이 예의 검토한 결과, 특정의 구조를 가지며, 실온(25℃)에서 액상인 카복실산 변성 실리콘을 사용함으로써, 유제를 포함하고 있어도 통상의 비누와 물에 의해 용이하게 제거 가능한 화장료를 제공 가능한 것을 밝혀내고, 본 발명을 완성했다.

본 발명의 화장료에 있어서, 유제가 자외선 흡수제를 포함하는 경우에는 피부 그을림 방지 효과의 지속성이 높다.

본 발명의 화장료가 유용성 피막 형성제를 포함하는 경우에는, 얻어지는 화장막의 내수성을 더욱 높일 수 있다.

본 발명의 화장료가 소수성 분체를 포함하는 경우에는, 얻어지는 화장막의 내수성을 더욱 높일 수 있다.

본 발명의 화장료는 물을 포함할 수 있으며, 이 경우에는, 물이 불연속상을 구성하고, 유제가 연속상을 구성하는 유중수형인 것이 바람직하다. 한편, 본 발명의 화장료는 무수(無水)일 수도 있으며, 이 경우에도 유제가 연속상을 구성하는 것이 바람직하다.

이하, 본 발명의 화장료에 대하여 더욱 상세히 설명한다.

[카복실산 변성 실리콘]

본 발명의 화장료는 적어도 1종의 실온(25℃)에서 액상이고, 특정의 화학 구조를 갖는 (A) 카복실산 변성 실리콘을 포함한다. 또한, 상기 (A) 카복실산 변성 실리콘은 실온(25℃) 및 1기압하에서 액상이면 무방하다.

상기 (A) 카복실산 변성 실리콘은 하기 구조식 (1):

[화 2]

(1)

(식 중,

R'는 Rc 또는 R이며,

a는 0 이상의 수이고, b는 양의 수이고, a 및 b가 모두 양의 수인 것이 바람직하고, 또한 a≥2가 보다 바람직하며, 또한 b≥2가 보다 바람직하고,

a+b는 2~30의 범위의 수이고, 2~20이 바람직하고, 2~15가 보다 바람직하며, 2~10이 더욱더 바람직하고,

a/b는 0.3~3.0의 범위인 것이 바람직하고, 0.3~2.5가 보다 바람직하며, 0.3~2.0이 더욱더 바람직하고, 0.5~2.0이 더욱더 바람직하다.)로 표시된다.

상기 구조식 (1)에서, a, b가 모두 양의 수이고, a+b가 2~20의 범위의 수이고, a/b가 0.3~3.0인 것이 바람직하다. a/b는 0.3~2.5가 보다 바람직하고, 0.3~2.0이 더욱더 바람직하고, 0.5~2.0이 더욱더 바람직하다.

상기 카복실기 함유 유기기를 나타내는 일반식에서, R¹은 탄소수 2~22의 직쇄 또는 분지쇄의, 바람직하게는 탄소수 2~12, 특히 바람직하게는 탄소수 2~10의 직쇄의 알킬렌기이며, 예를 들어 에틸렌, 프로필렌, 트리메틸렌, 부틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 헵타메틸렌, 옥타메틸렌, 노나메틸렌, 데카메틸렌, 운데카메틸렌, 도데카메틸렌, 트리데카메틸렌, 테트라데카메틸렌, 펜타데카메틸렌, 헥사데카메틸렌기 등을 들 수 있다.

또한, R²의 탄소수 2~4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기로서는, 예를 들어 에틸렌, 프로필렌, 트리메틸렌, 부틸렌기를 들 수 있으며, 특히 에틸렌기가 바람직하다.

R³의 탄소수 1~22의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기로서는, 예를 들어 메틸렌, 에틸렌, 에틸 에틸렌, 프로필렌, 트리메틸렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 헵타메틸렌, 옥타메틸렌, 노나메틸렌, 데카메틸렌, 운데카메틸렌, 도데카메틸렌, 트리데카메틸렌, 테트라데카메틸렌, 펜타데카메틸렌, 헥사데카메틸렌 등의 기를 들 수 있으며, 그 중에서도 탄소수 1~12, 특히 R¹과 R³의 탄소수의 합이 2~22가 되는 것이 바람직하다.

p는 0~200의 수를 나타내지만, 0~20의 수가 바람직하고, 특히 0~10의 수가 바람직하다. 또한, w는 0 또는 1의 수를 나타내지만, 바람직하게는 0이다. 또한, p, w가 모두 0일 때, 당해 카복실기 함유 유기기는 구조식 -(C_nH_2n)-COOH로 표시되고, 1개의 카복실기가 탄소수 3~44의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기를 통해 규소 원자에 결합하는 구조를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 식 중, n은 3~44의 수이고, 3~20의 수인 것이 바람직하고, 특히 3~16의 수인 것이 바람직하다.

상기 (A) 카복실산 변성 실리콘은 적어도 1개의 카복실기 함유 유기기가 측쇄 또는 말단에 도입된 오가노실록산이면 특별히 한정되지 않는다. 바람직하게는, 카복실기 함유 유기기는 오가노실록산의 측쇄에 도입된다.

따라서, 카복실산 변성 실리콘으로서는, 예를 들어 실리콘 주쇄에 측쇄로서 카복실기 함유 유기기가 그라프트한 것, 실리콘 주쇄의 편말단에 카복실기 함유 유기기가 부가한 것, 실리콘 주쇄의 양말단에 카복실기 함유 유기기가 부가한 것, 실리콘 주쇄의 양말단에 카복실기 함유 유기기가 부가하고, 추가로 카복실기 함유 유기기가 측쇄로서 그라프트한 것, 임의로 추가로, 탄소 원자수 6 이상의 장쇄의 알킬기를 갖는 것 등을 들 수 있다. 가장 적합하게는, 실리콘 주쇄에 측쇄로서 카복실기 함유 유기기가 그라프트한 것을 들 수 있다. 또한, 카복실산 변성 실리콘이 장쇄 알킬기를 가짐으로써, 탄화수소유 등의 유기계 유제 혹은 유기계 화장료 원료(특히, UV 흡수제)와의 배합 안정성이 개선되는 경우가 있다.

구조식 (1)로 표시되는 카복실산 변성 실리콘으로서는, R'가 R인 동시에, 실리콘 측쇄에 상기 일반식: -R¹-(OR²)p-(O)w-R³-COOH로 표시되는 카복실기 함유 유기기가 그라프트한 카복실산 변성 실리콘이 바람직하고; R'가 R인 동시에, 실리콘 측쇄에 복수의 상기 카복실기 함유 유기기를 갖는 것이 보다 바람직하고; R'가 R이며, 실리콘 측쇄에 복수의 상기 카복실기 함유 유기기를 갖는 동시에, a/b=1인 것이 더욱더 바람직하다.

구조식 (1)에서, R은 메틸기, 알콕시기 또는 페닐기인 것이 바람직하지만, 탄화수소유 등의 유기계 유제 혹은 유기계 화장료 원료(특히, UV 흡수제)와의 배합 안정성의 관점에서, 일부에 탄소 원자수 6~22의 장쇄 알킬기를 갖는 것일 수도 있다.

본 발명에 있어서, 이와 같은 카복실산 변성 실리콘은 공지의 방법, 예를 들어 Si-H기를 갖는 디메틸폴리실록산과 불포화 카복실산 에스테르 화합물을 백금 촉매하에서 부가 반응하고, 추가로 비누화에 의해 카복실산으로 하는 방법; Si-H기를 갖는 디메틸폴리실록산과 불포화 카복실산 실릴 에스테르 또는 알릴옥시 카복실산 실릴 에스테르를 백금 촉매하에서 부가 반응하고, 반응 후 가수분해로 목적물을 얻는 방법; 및 비스(하이드록시 카보닐 에틸)테트라메틸디실록산과 환상 실록산 및 산성 촉매를 사용하여 평형화 반응하여 양말단 카복실산 변성 실리콘을 얻는 방법(실리콘 핸드북, 이토 쿠니오(ITO Kunio) 편집, 닛칸코교신분샤(THE NIKKAN KOGYO SHIMBUN, LTD.), 166~167페이지) 등에 의해 제조할 수 있다. 또한, 특히 본 발명에서의 적합한 카복실산 변성 실리콘으로서, 상품명 ES-5800 Formulation Aid(다우도레이 가부시키가이샤(Dow Toray Co., Ltd.) 제품) 등으로서 시판되는 것을 들 수 있다.

본 발명의 화장료는 상기 (A) 카복실산 변성 실리콘을 화장료의 전체 질량에 대하여 0.1~10 질량%의 범위로 포함하는 것이 바람직하고, 0.5~5 질량%의 범위로 포함하는 것이 보다 바람직하고, 1.0~3.0 질량%의 범위로 포함하는 것이 더욱더 바람직하다.

상기 (A) 카복실산 변성 실리콘은 후술하는 (B) 유제에 용해 가능하다. 따라서, 본 발명의 화장료가 유성 화장료, 유중수형 화장료와 같이 유상을 연속상으로서 포함하는 경우에는, 상기 (A) 카복실산 변성 실리콘은 연속상(유상)에 용해되어 존재할 수 있다. 이 경우, 상기 (A) 카복실산 변성 실리콘의 카복실산 변성기는 미중화(未中和)인 것이 바람직하다.

본 발명에서는 (A) 카복실산 변성 실리콘 및 후술하는 (B) 유제를 병용함으로써, (A) 성분을 사용하지 않는 경우에 비해 당해 화장료를 이용하여 얻어지는 화장막의 제거성이 현저히 향상된다. 또한, 당해 제거성을 부여하는 (A) 카복실산 변성 실리콘은 분자 내에 염기성 물질에 의해 중화 가능한 카복실산 변성기를 가지기 때문에, 당해 화장료, 특히 유성 화장료나 유중수형 화장료와 같이 유상을 연속상으로 하는 화장료로 형성되는 화장막은 내수성이 우수한 한편, 통상의 비누와 물의 존재하에서 카복실산 변성기가 중화되면 용이하게 씻어 내는 것이 가능하다.

[유제]

본 발명의 화장료는 적어도 1종의 (B) 유제를 포함한다. 유제는 본 발명의 화장료 중에서 유상을 형성하는 것이 바람직하며, 연속상을 형성하는 것이 보다 바람직하다.

본 발명에서의 「유제」는 화장료의 성분으로서 일반적으로 사용되는 것이며, 특별히 한정되는 것은 아니다. 유제는 통상은 실온에서 액체이지만, 왁스와 같은 고형일 수도 있으며, 후술하는 고점도 및 점조(粘稠)한 검상 혹은 페이스트상일 수도 있다.

유제는 실리콘유, 비극성 유기 화합물 및 저극성 유기 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 5~100℃에서 액상인 적어도 1종인 것이 바람직하다.

실리콘유는 소수성이며, 그의 분자 구조는 환상, 직쇄상, 분지상 중 어느 것이어도 무방하다. 실리콘유의 25℃에서의 점도는 통상 0.65~100,000 mm²/s의 범위이며, 0.65~10,000 mm²/s의 범위가 바람직하다.

실리콘유로서는, 예를 들어 직쇄상 오가노폴리실록산, 환상 오가노폴리실록산 및 분지상 오가노폴리실록산을 들 수 있다. 이들 중에서도, 휘발성의 직쇄상 오가노폴리실록산, 환상 오가노폴리실록산 및 분지상 오가노폴리실록산이 바람직하다.

보다 구체적으로는, 직쇄상 오가노폴리실록산으로서는, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸폴리실록산(2 mPa·s나 6 mPa·s 등의 저점도~100만 mPa·s등 고점도의 디메틸 실리콘), 오가노하이드로겐폴리실록산, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸페닐폴리실록산, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸페닐실록산 공중합체, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디페닐폴리실록산, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산·디페닐실록산 공중합체, 트리메틸펜타페닐트리실록산, 페닐(트리메틸실록시)실록산, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸알킬폴리실록산, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸폴리실록산·메틸알킬실록산 공중합체, 분자쇄 양말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸(3,3,3-트리플루오로프로필) 실록산 공중합체, α,ω-디하이드록시 폴리디메틸실록산, α,ω-디에톡시 폴리디메틸실록산, 1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸-3-옥틸트리실록산, 1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸-3-도데실트리실록산, 1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸-3-헥사데실트리실록산, 트리스트리메틸실록시메틸실란, 트리스트리메틸실록시알킬실란, 테트라키스트리메틸실록시실란, 테트라메틸-1,3-디하이드록시디실록산, 옥타메틸-1,7-디하이드록시테트라실록산, 헥사메틸-1,5-디에톡시트리실록산, 헥사메틸디실록산, 옥타메틸트리실록산, 고급 알콕시 변성 실리콘, 고급 지방산 변성 실리콘, 디메티콘올 등이 예시된다.

환상 오가노폴리실록산으로서는, 헥사메틸사이클로트리실록산(D3), 옥타메틸사이클로테트라실록산(D4), 데카메틸사이클로펜타실록산(D5), 도데카메틸사이클로헥사실록산(D6), 1,1-디에틸헥사메틸사이클로테트라실록산, 페닐헵타메틸사이클로테트라실록산, 1,1-디페닐헥사메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라비닐테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라사이클로헥실테트라메틸사이클로테트라실록산, 트리스(3,3,3-트리플루오로프로필)트리메틸사이클로트리실록산, 1,3,5,7-테트라(3-메타크릴옥시프로필)테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라(3-아크릴옥시프로필)테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라(3-카복시프로필)테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라(3-비닐옥시프로필)테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라(p-비닐페닐)테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라[3-(p-비닐페닐)프로필]테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라(N-아크릴로일-N-메틸-3-아미노프로필)테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3,5,7-테트라(N,N-비스(라우로일)-3-아미노프로필)테트라메틸사이클로테트라실록산 등이 예시된다.

분지상 오가노폴리실록산으로서는, 메틸트리스트리메틸실록시실란, 에틸트리스트리메틸실록시실란, 프로필트리스트리메틸실록시실란, 테트라키스트리메틸실록시실란, 페닐트리스트리메틸실록시실란 등을 들 수 있다.

비극성 유기 화합물 및 저극성 유기 화합물로서는, 탄화수소유 및 지방산 에스테르유가 바람직하다. 이들은 특히 메이크업 화장료의 기재로서 널리 사용되고 있는 성분이다.

탄화수소유로서는, 예를 들어 유동 파라핀, 경질 유동 이소파라핀, 중질 유동 이소파라핀, 바셀린, n-파라핀, 이소파라핀, 이소도데칸, 이소헥사데칸, 폴리이소부틸렌, 수소화 폴리이소부틸렌, 폴리부텐, 오조케라이트, 세레신, 마이크로크리스탈린 왁스, 파라핀 왁스, 폴리에틸렌 왁스, 폴리에틸렌·폴리프로필렌 왁스, 스쿠알란, 스쿠알렌, 프리스탄, 폴리이소프렌 등이 예시된다.

지방산 에스테르유로서는, 예를 들어 옥탄산 헥실데실, 옥탄산 세틸, 미리스트산 이소프로필, 팔미트산 이소프로필, 스테아르산 부틸, 라우르산 헥실, 미리스트산 미리스틸, 올레산 올레일, 올레산 데실, 미리스트산 옥틸도데실, 디메틸옥탄산 헥실데실, 락트산 세틸, 락트산 미리스틸, 프탈산 디에틸, 프탈산 디부틸, 아세트산 라놀린, 디올레산 프로필렌 글리콜, 트리 2-에틸헥산산 글리세릴, 트리 2-에틸헥산산 트리메틸올프로판, 트리에틸헥산산 디트리메틸올프로판, (이소스테아르산/세바스산)디트리메틸올프로판, 트리옥탄산 트리메틸올프로판, 트리이소스테아르산 트리메틸올프로판, 아디프산 디이소프로필, 아디프산 디이소부틸, 아디프산 2-헥실데실, 아디프산 디-2-헵틸운데실, 말산 디이소스테아릴, 모노이소스테아르산 수첨 피마자유, 이소스테아르산 옥틸도데실, 이소스테아르산 이소프로필, 이소스테아르산 이소세틸, 디-2-에틸헥산산 에틸렌 글리콜, 2-에틸헥산산 세틸, 테트라-2-에틸헥산산 펜타에리트리톨, 옥틸도데실 검 에스테르, 올레산 에틸, 올레산 옥틸도데실, 디카프르산 네오펜틸 글리콜, 구연산 트리에틸, 숙신산 2-에틸헥실, 숙신산 디옥틸, 스테아르산 이소세틸, 세바스산 디이소프로필, 세바스산 디-2-에틸헥실, 세바스산 디에틸, 세바스산 디옥틸, 세바스산 디부틸옥틸, 팔미트산 세틸, 팔미트산 옥틸도데실, 팔미트산 옥틸, 팔미트산 2-에틸헥실, 팔미트산 2-헥실데실, 팔미트산 2-헵틸운데실, 12-하이드록시스테아릴산 콜레스테릴, 디펜타에리트리톨 지방산 에스테르, 미리스트산 2-헥실데실, 라우르산 에틸, N-라우로일-L-글루탐산-2-옥틸도데실 에스테르, N-라우로일-L-글루탐산 디(콜레스테릴/베헤닐/옥틸도데실), N-라우로일-L-글루탐산 디(콜레스테릴/옥틸도데실), N-라우로일-L-글루탐산 디(피토스테릴/베헤닐/옥틸도데실), N-라우로일-L-글루탐산 디(피토스테릴/옥틸도데실), N-라우로일사르코신 이소프로필, 말산 디이소스테아릴, 디옥탄산 네오펜틸 글리콜, 네오펜탄산 이소데실, 네오펜탄산 이소트리데실, 네오펜탄산 이소스테아릴, 이소노난산 이소노닐, 이소노난산 이소트리데실, 이소노난산 옥틸, 이소노난산 이소트리데실, 디네오펜탄산 디에틸펜탄디올, 디네오펜탄산 메틸펜탄디올, 네오데칸산 옥틸도데실, 디옥탄산 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 테트라옥탄산 펜타에리트리틸, 수소 첨가 로진 펜타에리트리틸, 트리에틸헥산산 펜타에리트리틸, (하이드록시스테아르산/스테아르산/로진산)디펜타에리트리틸, 테트라이소스테아르산 폴리글리세릴, 노나이소스테아르산 폴리글리세릴-10, 데카(에루크산/이소스테아르산/리시놀레산)폴리글리세릴-8, (헥실데칸산/세바스산)디글리세릴 올리고에스테르, 디스테아르산 글리콜(디스테아르산 에틸렌 글리콜), 다이머 디리놀레산 디이소프로필, 다이머 디리놀레산 디이소스테아릴, 다이머 디리놀레산 디(이소스테아릴/피토스테릴), 다이머 디리놀레산(피토스테릴/베헤닐), 다이머 디리놀레산(피토스테릴/이소스테아릴/세틸/스테아릴/베헤닐), 다이머 디리놀레산 다이머 디리놀레일, 디이소스테아르산 다이머 디리놀레일, 다이머 디리놀레일 수첨 로진 축합물, 다이머 디리놀레산 경화 피마자유, 하이드록시알킬 다이머 디리놀레일 에테르, 트리이소옥탄산 글리세릴, 트리이소스테아르산 글리세릴, 트리미리스트산 글리세릴, 트리이소팔미트산 글리세릴, 트리옥탄산 글리세릴, 트리올레산 글리세릴, 디이소스테아르산 글리세릴, 트리(카프릴산/카프르산)글리세릴, 트리(카프릴산/카프르산/미리스트산/스테아르산)글리세릴, 수첨 로진 트리글리세리드(수소 첨가 에스테르 검), 로진 트리글리세리드(에스테르 검), 베헨산 에이코산 이산 글리세릴, 디-2-헵틸운데칸산 글리세릴, 미리스트산 이소스테아르산 디글리세릴, 아세트산 콜레스테릴, 노난산 콜레스테릴, 스테아르산 콜레스테릴, 이소스테아르산 콜레스테릴, 올레산 콜레스테릴, 12-하이드록시스테아르산 콜레스테릴, 마카다미아 너트유 지방산 콜레스테릴, 마카다미아 너트유 지방산 피토스테릴, 이소스테아르산 피토스테릴, 연질 라놀린 지방산 콜레스테릴, 경질 라놀린 지방산 콜레스테릴, 장쇄 분지 지방산 콜레스테릴, 장쇄 α-하이드록시 지방산 콜레스테릴, 리시놀레산 옥틸도데실, 라놀린 지방산 옥틸도데실, 에루크산 옥틸도데실, 이소스테아르산 경화 피마자유, 아보카도유 지방산 에틸, 라놀린 지방산 이소프로필 등이 예시된다.

저극성 유기 화합물로서, 예를 들어 탄소 원자수 10~30의 고급 알코올을 사용할 수도 있다. 고급 알코올을 유화 안정화 성분으로서 이용하는 경우에는, 친수성 계면활성제의 양을 줄일 수 있어, 내수성을 더욱 향상시킬 수 있다. 상기 고급 알코올은 포화 또는 불포화의 1가 지방족 알코올이며, 그 탄화수소기의 부분은 직쇄상, 분지상 중 어느 것이어도 무방하나, 직쇄상인 것이 보다 바람직하다. 탄소 원자수 10~30의 고급 알코올로서는, 예를 들어 라우릴 알코올, 미리스틸 알코올, 팔미틸 알코올, 스테아릴 알코올, 베헤닐 알코올, 헥사데실 알코올, 올레일 알코올, 이소스테아릴 알코올, 헥실 도데칸올, 옥틸 도데칸올, 세토스테아릴 알코올, 2-데실 테트라데시놀, 콜레스테롤, 시토스테롤, 피토스테롤, 라노스테롤, 라놀린 알코올, 수소 첨가 라놀린 알코올 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명에서는, 단독으로 융점 40~80℃의 고급 알코올을 이용하거나, 혹은 융점이 40~70℃가 되도록 복수의 고급 알코올을 조합하는 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료 중의 유제의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 화장료의 전체 질량을 기준으로 5~99 질량%가 바람직하고, 7~90 질량%가 보다 바람직하고, 10~80 질량%가 더욱더 바람직하다.

본 발명의 화장료가 후술하는 (E) 물을 포함하는 경우, 특히 유중수형 유화 화장료인 경우에는, 유제의 배합량은 화장료의 전체 질량을 기준으로 바람직하게는 5~50 질량%, 보다 바람직하게는 7~50 질량%, 더욱 바람직하게는 10~50 질량%이다.

한편, 본 발명의 화장료가 무수인 경우에는, 유제의 배합량은 화장료의 전체 질량을 기준으로 바람직하게는 30~99 질량%, 보다 바람직하게는 40~90 질량%, 더욱 바람직하게는 50~90 질량%이다.

(자외선 흡수제)

상기 (B) 유제는 적어도 1종의 자외선 흡수제를 포함할 수 있다. 즉, 본 발명의 화장료가 유상을 갖는 경우에는, 당해 유상은 자외선 흡수제를 포함할 수 있다. 자외선 흡수제는 유기계인 것이 바람직하고, 친유성인 것이 보다 바람직하고, 유용성인 것이 더욱더 바람직하다.

상기 유용성 자외선 흡수제로서는, 통상 화장료나 피부 외용제에 사용되는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 이하와 같은 것을 들 수 있다. 유용성 자외선 흡수제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다.

파라메톡시 계피산 벤질, 파라메톡시 계피산 2-에틸헥실, 디파라메톡시 계피산 모노-2-에틸헥산산 글리세릴 등의 계피산계 자외선 흡수제;

하이드록시 메톡시벤조페논, 디하이드록시 메톡시벤조페논, 디하이드록시 벤조페논, 테트라하이드록시 벤조페논 등의 벤조페논계 자외선 흡수제;

파라아미노안식향산, 파라아미노안식향산 에틸, 파라아미노안식향산 글리세릴, 파라디메틸아미노안식향산 아밀, 파라디메틸아미노안식향산 옥틸, 4-[N,N-디(2-하이드록시프로필)아미노]안식향산 에틸, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 안식향산 헥실 등의 안식향산 에스테르계 자외선 흡수제;

살리실산 에틸렌 글리콜, 살리실산 페닐, 살리실산 옥틸, 살리실산 벤질, 살리실산 파라-터셔리 부틸페닐, 살리실산 호모멘틸 등의 살리실산계 자외선 흡수제;

에틸헥실 트리아존(2,4,6-트리스[4-(2-에틸헥실옥시카보닐)아닐리노]1,3,5-트리아진), 비스 에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 등의 트리아진계 자외선 흡수제;

4-터셔리 부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 안트라닐산 멘틸, 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 디메톡시벤질리덴 디옥소이미다졸리딘 프로피온산 2-에틸헥실, 옥토크릴렌, 디메티코디에틸벤잘 말로네이트 등의 그 외 자외선 흡수제

이들 중에서도, 파라메톡시 계피산 2-에틸헥실, 디파라메톡시 계피산 모노-2-에틸헥산산 글리세릴, 살리실산 옥틸, 살리실산 호모멘틸, 비스 에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 디하이드록시 벤조페논, 옥토크릴렌, 4-터셔리 부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 디에틸아미노 하이드록시벤조일 안식향산 헥실 등의 자외선 흡수제를 선택하면, 특히 높은 자외선 방어 효과가 얻어진다.

본 발명의 화장료 중의 자외선 흡수제의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 화장료의 전체 질량을 기준으로 0~30 질량%가 바람직하고, 0.1~20 질량%가 보다 바람직하다. 단, 본 발명의 화장료에 있어서, 자외선 흡수제는 임의 성분이며, 비배합의 처방 설계도 가능하다.

[유용성 피막 형성제]

본 발명의 화장료는 (C) 유용성 피막 형성제를 포함할 수 있다.

(C) 유용성 피막 형성제로서는, 소수성의 유기 고분자 및/또는 실리콘계 피막 형성제가 바람직하다.

소수성의 유기 고분자로서는, 예를 들어 로진산 펜타에리트리트, 로진산 글리세릴 등의 로진산계 수지, 칸데리라 수지, 폴리아세트산 비닐계 수지, 폴리비닐 이소부틸 에테르, 폴리이소부틸렌 등을 들 수 있다. 또한, 칸데리라 수지란, 칸데리라 왁스를 유기 용제로 분별 추출하여 얻어지는 수지분이며, 수지분 함량이 바람직하게는 65 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 85%질량 이상인 것이다.

실리콘계 피막 형성제로서는

M 단위 및 Q 단위를 함유하는 실리콘 수지,

실리콘 아크릴레이트, T 단위를 함유하는 실리콘 수지, 및

실리콘 레진 검

으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 더욱더 바람직하다.

M 단위 및 Q 단위를 함유하는 실리콘 수지는 화장료에 통상 사용되는 것이면 어느 것이든 무방하다. (D1) M 단위 및 Q 단위를 함유하는 실리콘 수지로서는, 트리오가노실록시 단위(M 단위)(예를 들어, 오가노기는 메틸기 등의 알킬기만, 또는, 메틸기 등의 알킬기와 비닐기 등의 알릴기 혹은 페닐기 등의 아릴기이다) 및 실록시 단위(Q 단위)를 갖는 한 임의의 실리콘 수지를 사용할 수 있으며, 예를 들어 MQ 수지, MDQ 수지, MDTQ 수지(D는 디오가노실록시 단위를 나타내고, 예를 들어 오가노기는 메틸기 등의 알킬기만, 또는, 메틸기 등의 알킬기와 비닐기 등의 알릴기 혹은 페닐기 등의 아릴기이다) 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 트리메틸실록시 규산, 폴리알킬실록시 규산, 디메틸실록시 단위 함유 트리메틸실록시 규산, 알킬(퍼플루오로알킬) 실록시 규산 등을 들 수 있다. 이들 실리콘 수지는 유용성이며, 테트라사이클로실록산(D4)이나 펜타사이클로실록산(D5)에 용해할 수 있는 것이 특히 바람직하다.

이들 중에서도, 트리메틸실록시 규산이 바람직하다. 시판품으로서는, 트리메틸실록시 규산을 미리 용제에 용해시킨 749Fluid(도레이 다우코닝사(Dow Corning Toray Co.,Ltd.) 제품), X-21-5595, KF-7312J, KF-7312F(모두 신에츠카가쿠코교 가부시키가이샤(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 제품) 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용할 수도 있고, 또한 적절히 조합하여 이용할 수도 있다.

실리콘 아크릴레이트로서는, 예를 들어 사이클로펜타실록산(과) 아크릴레이트/디메티콘의 코폴리머(KP-545, 신에츠카가쿠 가부시키가이샤 제품)나 메틸트리메티콘(과) 아크릴레이트/디메티콘의 코폴리머(KP-549, 신에츠카가쿠 가부시키가이샤 제품) 등의 폴리알킬 아크릴레이트 골격과 알킬 에스테르 측쇄에 그라프트되는 디메티콘 폴리머를 갖는 코폴리머를 들 수 있다. 또한, (아크릴레이트/메타크릴산 폴리트리메틸실록시) 코폴리머인 FA4001CM, FA4002ID, FA4103, FA4003DM, FA4004ID(도레이 다우코닝사 제품) 등의 폴리알킬 아크릴레이트 골격과 알킬 에스테르 측쇄에 그라프트되는 실록산 덴드론(siloxane dendron) 구조를 갖는 코폴리머도 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 또한 적절히 조합하여 사용할 수도 있다.

T 단위를 함유하는 실리콘 수지는 화장료에 통상 이용되는 것이면 어느 것이든 무방하다. (D3) T 단위를 함유하는 실리콘 수지로서는, 모노오가노실록시 단위(T 단위)(예를 들어, 오가노기는 메틸기 등의 알킬기, 또는, 비닐기 등의 알릴기 혹은 페닐기 등의 아릴기이다)를 갖는 한 임의의 실리콘 수지를 사용할 수 있으며, 예를 들어 MTQ 수지, MDTQ 수지, TD 수지, TQ 수지, TDQ 수지 등을 들 수 있다. 이들 실리콘 수지는 유용성이며, D4나 D5에 용해할 수 있는 것이 특히 바람직하다.

T 단위를 함유하는 실리콘 수지로서는, 구체적으로는 폴리프로필실세스퀴옥산인 670Fluid, 알킬(C30-45)디메틸실릴 폴리프로필실세스퀴옥산인 SW-8005 C30 레진 왁스(도레이 다우코닝사 제품) 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 있고, 또한 적절히 조합하여 사용할 수도 있다.

실리콘 레진 검으로서는, 예를 들어 (트리메틸실록시 규산/디메티콘올) 크로스폴리머인 FC-5002IDD(도레이 다우코닝사 제품) 등을 들 수 있다.

본 발명의 화장료 중의 유용성 피막 형성제의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 화장료의 전체 질량을 기준으로 0.01~25 질량%가 바람직하고, 0.05~20 질량%가 보다 바람직하며, 0.1~15 질량%가 더욱더 바람직하다.

[소수성 분체]

본 발명의 화장료는 적어도 1종의 (D) 소수성 분체를 포함할 수 있다.

본 발명에서의 「분체」는 화장료의 성분으로서 일반적으로 사용되는 것이며, 백색 및 착색 안료, 자외선 산란제 등의 미립자(이른바 나노 입자를 포함한다) 및 체질 안료를 포함한다. 백색 및 착색 안료는 화장료의 착색 등에 사용되며, 한편 체질 안료는 화장료의 감촉 개량 등에 사용된다. 본 발명에서의 「분체」로서는, 화장료에 통상 사용되는 백색 및 착색 안료, 및 체질 안료를 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 1종류 또는 2종류 이상의 분체를 배합하는 것이 바람직하다.

분체의 형상(구상, 봉상, 침상, 판상, 부정형상, 방추상(紡錘狀) 등), 입자 지름(연무상, 미립자, 안료급 등), 및 입자 구조(다공질, 무공질 등)는 아무런 한정되는 것은 아니나, 평균 일차 입자 지름이 1 nm~100 μm의 범위에 있는 것이 바람직하다.

분체로서는, 예를 들어 무기 분체, 유기 분체, 계면활성제 금속염 분체(금속 비누), 유색 안료, 펄 안료, 금속 분말 안료 등을 들 수 있으며, 또한 이들을 복합화한 것도 사용할 수 있다. 구체적으로는, 무기 분체로서는 산화티탄, 산화지르코늄, 산화아연, 산화세륨, 산화마그네슘, 황산바륨, 황산칼슘, 황산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탈크, 마이카, 카올린, 세리사이트, 백운모, 합성 운모, 금운모, 홍운모, 흑운모, 리티아 운모, 규산, 무수 규산, 규산 알루미늄, 규산 나트륨, 규산 나트륨 마그네슘, 규산 마그네슘, 규산 알루미늄 마그네슘, 규산 칼슘, 규산 바륨, 규산 스트론튬, 텅스텐산 금속염, 하이드록시아파타이트, 버미큘라이트, 하이디라이트, 벤토나이트, 몬모릴로나이트, 헥토라이트, 제올라이트, 세라믹 파우더, 제2 인산 칼슘, 알루미나, 수산화알루미늄, 질화붕소, 질화보론 등; 유기 분체로서는 폴리아미드 파우더, 폴리에스테르 파우더, 폴리에틸렌 파우더, 폴리프로필렌 파우더, 폴리스티렌 파우더, 폴리우레탄 파우더, 벤조구아나민 파우더, 폴리메틸벤조구아나민 파우더, 폴리테트라플루오로에틸렌 파우더, 폴리메틸메타크릴레이트 파우더, 셀룰로오스, 실크 파우더, 나일론 파우더, 12 나일론, 6 나일론, 실리콘 파우더, 폴리메틸실세스퀴옥산 구상 분체, 스티렌·아크릴산 공중합체, 디비닐벤젠·스티렌 공중합체, 비닐 수지, 요소 수지, 페놀 수지, 불소 수지, 규소 수지, 아크릴 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 폴리카보네이트 수지, 미결정 섬유 분체, 전분 분말, 라우로일 리신 등; 계면활성제 금속염 분체로서는 스테아르산 아연, 스테아르산 알루미늄, 스테아르산 칼슘, 스테아르산 마그네슘, 미리스트산 아연, 미리스트산 마그네슘, 팔미트산 아연, 라우르산 아연, 세틸 인산 아연, 세틸 인산 칼슘, 세틸 인산 아연 나트륨 등; 유색 안료로서는 벵가라, 산화철, 수산화철, 티탄산철의 무기 적색 안료, γ-산화철 등의 무기 갈색계 안료, 황산화철, 황토 등의 무기 황색계 안료, 흑산화철, 카본 블랙 등의 무기 흑색 안료, 망간 바이올렛, 코발트 바이올렛 등의 무기 자색 안료, 수산화크롬, 산화크롬, 산화코발트, 티탄산코발트 등의 무기 녹색 안료, 감청, 군청 등의 무기 청색계 안료, 적색 3호, 적색 104호, 적색 106호, 적색 201호, 적색 202호, 적색 204호, 적색 205호, 적색 220호, 적색 226호, 적색 227호, 적색 228호, 적색 230호, 적색 401호, 적색 505호, 황색 4호, 황색 5호, 황색 202호, 황색 203호, 황색 204호, 황색 401호, 청색 1호, 청색 2호, 청색 201호, 청색 404호, 녹색 3호, 녹색 201호, 녹색 204호, 녹색 205호, 등색 201호, 등색 203호, 등색 204호, 등색 206호, 등색 207호 등의 타르계 색소 및 이들을 레이크화한 것, 카르민산, 락카산, 카르타민, 브라질린, 크로신 등의 천연 색소를 레이크화한 것 등; 펄 안료로서는 산화티탄 피복 운모, 운모 티탄, 산화철 처리 운모 티탄, 산화티탄 피복 마이카, 옥시염화비스무트, 산화티탄 피복 옥시염화비스무트, 산화티탄 피복 탈크, 어린박(魚鱗箔), 산화티탄 피복 착색 운모 등; 금속 분말 안료로서는 알루미늄, 금, 은, 구리, 백금, 스테인리스 등의 금속 분말을 들 수 있다.

상기 분체 자체의 표면이 소수성이 아닌 경우에는, 그 표면에 소수화 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 또한, 이들 소수성 분체끼리를 복합화할 수도 있다.

소수화 처리는 특별히 한정되는 것은 아니나, 상기 분체를 각종 소수화 표면 처리제로 처리하는 것을 들 수 있으며, 예를 들어 메틸하이드로겐폴리실록산(일본 화장품 표시 명칭으로는 메티콘,) 처리, (디메티콘/메티콘) 코폴리머(일본 화장품 표시 명칭으로는 하이드로겐 디메티콘) 처리, 디메틸폴리실록산(일본 화장품 표시 명칭으로는 디메티콘) 처리, 실리콘 레진 처리, 실리콘 검 처리, 아크릴 실리콘 처리, 불소화 실리콘 처리 등의 오가노실록산 처리; 스테아르산 아연 처리 등의 금속 비누 처리; 실란 커플링제 처리, 알킬실란 처리 등의 실란 처리; 퍼플루오로알킬실란, 퍼플루오로알킬인산 에스테르염, 퍼플루오로 폴리에테르 처리 등의 불소 화합물 처리; N-라우로일-L-리신 처리 등의 아미노산 처리; 스쿠알란 처리 등의 유제 처리; 아크릴산 알킬 처리 등의 아크릴 처리 등을 들 수 있으며, 이들의 2종 이상을 조합하여 사용하는 것도 가능하다.

상기 분체는 성분 (A) 또는 그 외 카복실산 변성 실리콘에 의해 소수성 표면 처리를 수행한 것일 수도 있다. 예를 들어, 상기 성분 (A)의 일부를 이용하여, 상기 분체의 일부 또는 전부를 표면 처리하여 본 발명의 화장료에 배합할 수도 있다.

이들 처리 중에서도, 실리콘 화합물에 의한 처리가 내수성과 카복실산 변성 실리콘에 의한 분산 용이성의 점에서 바람직하며, 그 중에서도, 메틸하이드로겐폴리실록산, (디메티콘/메티콘) 코폴리머, 디메틸폴리실록산, 알킬실란에 의한 처리가 특히 바람직하다. 또한, 성분 (A) 또는 그 외 카복실산 변성 실리콘에 의해 표면 처리를 수행한 경우에도 내수성이 우수한 동시에 분산 안정성이 우수한 점에서 실익이 있다.

소수성 분체로서 실리콘 엘라스토머 분체를 사용할 수도 있다. 실리콘 엘라스토머 분체는 주로 디오가노실록시 단위(D 단위)로 이루어지는 직쇄상 디오가노폴리실록산의 가교물이며, 측쇄 혹은 말단에 규소 결합 수소 원자를 갖는 오가노하이드로겐폴리실록산과 측쇄 혹은 말단에 알케닐기 등의 불포화 탄화수소기를 갖는 디오가노폴리실록산을 하이드로실릴화 반응 촉매하에서 가교 반응시킴으로써 적합하게 얻을 수 있다. 실리콘 엘라스토머 분체는 T 단위 및 Q 단위로 이루어지는 실리콘 수지 분체에 비해 부드럽고 탄력이 있으며, 또한 흡유성이 우수하기 때문에, 피부 위의 유지를 흡수하여 화장의 무너짐을 방지할 수 있다.

실리콘 엘라스토머 분체는 구상, 편평상, 부정형상 등 다양한 형상을 취할 수 있다. 실리콘 엘라스토머 분체는 유(油)분산체의 형태일 수도 있다. 본 발명의 화장료에는 입자 형상을 갖는 실리콘 엘라스토머 분체이고, 전자 현미경을 이용한 관찰에 의한 일차 입자 지름 및/또는 레이저 회절/산란법으로 측정된 평균 일차 입자 지름이 0.1~50 μm의 범위에 들어가는 동시에 일차 입자의 형상이 구상인 실리콘 엘라스토머 분체를 적합하게 배합할 수 있다. 실리콘 엘라스토머 분체를 구성하는 실리콘 엘라스토머는 JIS K 6253 「가황 고무 및 열가소성 고무의 경도 시험 방법」의 타입 A 듀로미터에 의한 경도가 80 이하인 것이 바람직하고, 65 이하인 것이 보다 바람직하다.

실리콘 엘라스토머 분체는 실리콘 레진, 실리카 등에 의한 표면 처리가 임의로 실시되어 있을 수도 있다. 상기 표면 처리로서는, 예를 들어 일본 공개특허공보 제(평)2-243612호, 일본 공개특허공보 제(평)8-12545호, 일본 공개특허공보 제(평)8-12546호, 일본 공개특허공보 제(평)8-12524호, 일본 공개특허공보 제(평)9-241511호, 일본 공개특허공보 제(평)10-36219호, 일본 공개특허공보 제(평)11-193331호, 일본 공개특허공보 제2000-281523호 등에 기재되어 있는 것을 들 수 있다. 또한, 실리콘 엘라스토머 분체로서는 「화장품 종별 배합 성분 규격」에 수록된 가교형 실리콘 분말이 해당한다. 실리콘 엘라스토머 분체의 시판품으로서는, 예를 들어 도레이 다우코닝사 제품의 트레필(TREFIL) E-506S, 트레필 E-508, 9701 Cosmetic Powder, 9702 Powder 등을 들 수 있다. 이들 실리콘 엘라스토머 분체는 표면 처리가 되어 있을 수도 있으며, 표면 처리제의 예로서는, 메틸하이드로겐폴리실록산, 실리콘 레진, 금속 비누, 실란 커플링제, 실리카, 산화티탄 등의 무기 산화물, 퍼플루오로알킬실란, 퍼플루오로알킬인산 에스테르염 등의 불소 화합물을 들 수 있다.

이들 소수성 분체 중에서도, 소수화 처리된 미립자 무기 분체가 자외선 방지 효과의 점에서 바람직하게 사용되며, 그 중에서도 소수화 미립자 산화티탄 및/또는 소수화 미립자 산화아연이 바람직하다. 소수화 미립자 산화티탄 및/또는 소수화 미립자 산화아연의 입자 지름은 1~200 nm인 것이 자외선 방지 효과 및 분산성의 점에서 바람직하며, 보다 바람직하게는 10~80 nm이다. 또한, 본 발명에서는 소수화 처리된 무기 안료 분체, 펄 안료 분체 등을 소수성 무기 입자로서 사용할 수도 있고, 상기 소수화된 미립자 무기 분체와 소수화 처리된 무기 안료 분체 등을 조합하여 사용할 수도 있다.

본 발명의 화장료 중의 소수성 분체의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 화장료의 전체 질량을 기준으로 1~80 질량%가 바람직하고, 2~60 질량%가 보다 바람직하며, 3~50 질량%가 더욱더 바람직하고, 4~30 질량%가 더욱더 바람직하고, 5~25 질량%가 더욱더 바람직하다.

[물]

본 발명의 화장료는 무수일 수도 있으나, (E) 물을 포함할 수도 있다. 물은 본 발명의 화장료 중에서 수상을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명의 화장료가 물을 포함하는 경우에는, 물이 불연속상을 구성하고, 유제가 연속상을 구성하는 유중수형인 것이 바람직하며, 유중수형 유화 화장료인 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 화장료가 물을 포함하는 경우의 당해 화장료 중의 물의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 화장료의 전체 질량을 기준으로 5~80 질량%가 바람직하고, 10~75 질량%가 보다 바람직하며, 15~70 질량%가 더욱더 바람직하다.

[계면활성제]

본 발명의 화장료는 적어도 1종의 (F) 계면활성제를 포함할 수 있다. 계면활성제의 배합 목적은 특별히 제한되는 것은 아니며, 분체 성분의 분산제, 세정 성분, 유화제 중 어느 하나일 수도 있으나, 본 발명의 화장료가 상기 유제를 주된 구성 성분으로 하는 유상을 연속상으로 하는 유중수형 화장료인 경우, 특히 유중수형의 유화물을 형성 가능한 계면활성제를 사용하는 것이 특히 바람직하다. 이하, 유중수형 화장료의 형성에 바람직한 계면활성제에 대하여 설명한다.

(F) 계면활성제는 특별히 한정되는 것은 아니나, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양성(兩性)의 각종 계면활성제를 들 수 있다.

상기 계면활성제로서는 비이온성 계면활성제가 바람직하며, 실리콘계 비이온성 계면활성제가 보다 바람직하다.

실리콘계 비이온성 계면활성제로서는, 예를 들어 폴리에테르 변성 실리콘, 알킬/폴리에테르 공변성 실리콘, 글리세린 변성 실리콘, 폴리글리세린 변성 실리콘, 당 변성 실리콘, 당 알코올 변성 실리콘 등의 실리콘계 계면활성제를 사용할 수 있다.

구체적으로는, 직쇄상의 폴리옥시알킬렌 변성 오가노폴리실록산(폴리옥시알킬렌기가 측쇄 및/또는 말단에 결합한 형태의 폴리에테르 변성 실리콘), 블록 공중합 타입의 폴리옥시알킬렌·디메틸폴리실록산 공중합체, 직쇄상의 폴리옥시알킬렌·알킬 공변성 오가노폴리실록산(폴리옥시알킬렌기와 알킬기가 측쇄 및/또는 말단에 결합한 형태의 알킬/폴리에테르 공변성 실리콘) 등이 예시된다. 그 외, 일본 특허공보 제4080597호(일본 공개특허공보 제(평)11-49957호), 일본 공개특허공보 제2001-011281호 등에 기재된 특정 엘라스토머 실리콘 폴리에테르(시판품으로서는 DC 9011 Silicone Elastomer Blend, 미국 다우코닝사 제품)도 바람직하게 예시된다.

또한, 비이온성 계면활성제로서는 폴리글리세린 지방산 에스테르, 자당 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌 블록 폴리머, 알킬 폴리옥시에틸렌·폴리옥시프로필렌 블록 폴리머 에테르 등의 비실리콘계 비이온성 계면활성제를 사용할 수도 있다.

상기 계면활성제의 HLB는 2~7이 바람직하고, 3~6이 보다 바람직하다. 또한, 여기서의 HLB(친수성-친유성 밸런스: Hydrophile-Lypophile Balance) 값은 그리핀법에 의해 얻어지는 값이다. 계면활성제의 HLB가 상기 범위임으로써, 화장료의 내수성이 줄어들지 않으며, 또한 화장료가 유중수형 유화 화장료인 경우에는 보다 안정성이 향상된다.

본 발명의 화장료 중의 계면활성제의 배합량은 임의이지만, 본 발명의 화장료가 유상을 연속상으로 하는 유중수형 화장료인 경우, 상기 계면활성제의 배합량은 화장료의 전체 질량을 기준으로 0.5~15 질량%가 바람직하고, 1~10 질량%가 보다 바람직하며, 2~8 질량%가 더욱더 바람직하다.

[다가 알코올]

본 발명의 화장료는 적어도 1종의 (G) 다가 알코올을 포함할 수 있다.

다가 알코올을 포함함으로써, 본 발명의 화장료의 보습감, 사용감을 조정할 수 있으며, 또한 본 발명의 화장료가 소수성 분체를 포함하는 경우에, (A) 성분과 소수성 분체를 다가 알코올과 함께 사전에 혼합한 다음, 다른 성분과 혼합하여 당해 화장료를 조제함으로써, 소수성 분체를 수상에 양호하게 분산시킬 수 있다.

다가 알코올로서는, 예를 들어 소르비톨, 자일리톨, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 글리세린, 디글리세린, 폴리에틸렌 글리콜 등을 들 수 있으며, 이들 다가 알코올은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. (A) 성분과 소수성 분체를 다가 알코올과 함께 사전에 혼합하는 경우에는, 액상의 다가 알코올이 수상에 보다 균일하게 분산할 수 있는 점에서 바람직하며, 그 중에서도 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 글리세린, 디글리세린 및 이들의 조합이 바람직하다.

본 발명의 화장료 중의 다가 알코올의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 화장료의 전체 질량을 기준으로 0.1~20 질량%가 바람직하고, 0.5~15 질량%가 보다 바람직하며, 1~10 질량%가 더욱더 바람직하다.

[염기성 화합물]

본 발명의 화장료는 염기성 화합물을 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다.

염기성 화합물을 포함하는 경우에는, (A) 카복실산 변성 실리콘의 카복실산 부분이 중화되어 친수성이 되기 때문에, 내수성이 저하될 우려가 있다.

「실질적으로 함유하지 않는다」란, 염기성 화합물이 그 염기로서의 효력을 발휘하여 (A) 카복실산 변성 실리콘을 충분히 중화하고, 피부에 도포한 화장막의 내수성을 해칠 수 있는 정도의 배합량으로 포함되는 것을 배제하는 것을 의미한다. 구체적으로는, 이들이 포함되는 경우에는 화장료 전체 중에서 0.2 질량% 이하, 특히 0.1 질량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 또는, 배합되는 카복실산 변성 실리콘에 포함되는 카복실산기 1몰에 대해 1가의 염기의 경우는 1가의 염기/카복실산기(몰비)가 0.1/1 이하인 것이 바람직하다.

[임의 성분]

본 발명의 화장료에는 본 발명의 효과를 방해하지 않는 범위에서, 통상의 화장료에 사용되는 기타 성분: 예를 들어, 친수성 분체, (G) 성분 이외의 보습제, 수용성 증점제, 방부제, 항균제, 향료, 염류, 산화방지제, 상기 염기성 화합물 이외의 pH 조정제, 킬레이트제, 청량제, 항염증제, 생리 활성 성분(미백제, 세포 부활제, 피부 거침 개선제, 혈행 촉진제, 피부 수렴제, 항지루제 등), 비타민류, 아미노산류, 핵산, 호르몬, 포접 화합물 등을 첨가할 수 있다. 기타 성분은 특별히 한정되는 것은 아니다.

[제조 방법]

본 발명의 화장료의 제조 공정은 임의적이며, 상기 각 성분을 혼합하여, 상기 특정 화학 구조를 가지고, 실온(25℃)에서 액상인 (A) 카복실산 변성 실리콘 및 (B) 유제를 포함하는 화장료를 조제할 수 있는 한 특별히 한정되지 않는다.

필요에 따라, 상기 (C), (D), (E), (F) 및 (G) 성분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 및/또는 염기성 화합물을 더 혼합할 수도 있다.

[사용 방법]

본 발명의 화장료는 크림상, 겔상, 유액상, 액상, 페이스트상, 고형의 어느 형태여도 무방하다. 본 발명의 화장료는, 예를 들어 유액, 크림, 미용액 등의 베이스 화장료, 베이스 화장료, 선스크린제, 파운데이션, 아이섀도, 아이라이너, 루즈 등의 메이크업 화장료로서 사용할 수 있으며, 또한 모발·두피용 선스크린제, 일시 염모제 등으로서 사용할 수도 있다.

본 발명의 화장료를 또한 화장료용 전구체(프리믹스 또는 화장료 원료)로서 사용할 수도 있다.

본 발명의 화장료는 유제를 포함하기 때문에 내수성이 우수한 화장막을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명의 화장료가 무수 또는 유중수형 유화 조성물의 형태이고, 유상이 연속상을 구성하는 경우에는, 기름이 피부에 직접 접촉하기 때문에 화장막의 내수성이 더욱 향상된다.

본 발명의 화장료는 피부 화장료인 것이 바람직하며, 약산성의 피부 위에 도포하는 것이 보다 바람직하고, 예를 들어 pH가 5.1~7.0인 피부 위에 도포하는 것이 더욱더 바람직하다.

또한, 본 발명의 화장료를 0.5 mg/cm²의 도포량으로 피부 위에 도포한 경우에, 30분 후의 도포면의 pH가 7.0 이하가 되는 것이 바람직하며, 더욱더 pH가 6.7 이하가 되는 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 화장료는 안정적인 동시에 내수성이 우수한 화장막을 피부 위에 형성할 수 있기 때문에, 땀, 비 등에 의한 화장의 무너짐을 발생시키기 어려워 화장 유지가 우수하다.

실시예

이하, 본 발명을 실시예를 기초로 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 아무런 한정되지 않는다.

(합성예 1)

교반기, 환류 냉각기, 적하 깔때기 및 온도계를 구비한 플라스크에 운데실렌산 트리메틸실릴 230.67 g, 백금-1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산 착체 0.042 g을 가하고, 70~80℃의 범위를 유지하도록 하기 일반식으로 표시되는 Si-H 실록산 129.33 g을 적하했다.

[화 3]

적하 종료 후, 2시간, 110℃에서 숙성한 후, 수소 발생법에 의해 Si-H 결합의 소실을 확인했다. 저비점분을 감압하에 증류 제거했다. 그 후, 탈이온수 90 g을 가하고, 환류하에 4시간 숙성하고, 탈보호를 수행했다. 그 후 다시 저비점분을 감압하 제거하여 화합물 1을 얻었다. 분석 결과, 화합물 1의 화학 구조는 하기 화학식으로 나타나는 것이 확인되었다.

[화 4]

(화합물 1)

(합성예 2)

교반기, 환류 냉각기, 적하 깔때기 및 온도계를 구비한 플라스크에 1,1,1,3,5,5,5-헵타메틸트리실록산 100 g, 백금-1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산 착체의 톨루엔 용액 0.02 g을 가하고, 70~100℃의 범위를 유지하도록 운데실렌산 트리메틸실릴 105 g을 적하했다. 적하 종료 후, 2시간, 110℃에서 숙성한 후, 수소 발생법에 의해 Si-H 결합의 소실을 확인했다. 저비점분을 감압하에 증류 제거했다. 그 후, 물을 가하고, 환류하 4시간 숙성하고, 탈보호를 수행했다. 그 후 다시 저비점분을 감압하 제거하여 화합물 2를 얻었다. 분석 결과, 화합물 2의 화학 구조는 하기 화학식으로 나타나는 것이 확인되었다.

[화 5]

(화합물 2)

[실시예 1 및 비교예 1]

표 1에 나타내는 각 성분을 사용하여 하기 제조 방법에 의해 실시예 1 및 비교예 1의 조성물을 제조했다. 표 1 중의 각 성분의 배합량은 특기하지 않는 한 「 질량%」(「중량%」)를 나타낸다.

(제조 방법)

(1) A상을 혼합한다.

(2) B상을 혼합한다.

(3) 상온에서 상기 (2)에서 얻어진 혼합물에 상기 (1)에서 얻어진 혼합물을 소량씩 첨가하여 에멀젼을 조제한다.

(4) 상기 (3)에서 얻어진 에멀젼에 성분 C를 혼합하여 유중수형 자외선 차단 크림으로 한다.

(내수성의 평가)

실시예 1 및 비교예 1의 각 조성물을 인공 피혁 위에 2 mg/cm²의 도포량으로 균일하게 도포하고, 30분 후, pH 7.0의 물의 물방울을 조심스럽게 적하하고, 표면에 형성된 물방울을 사진 촬영하고, 그 형상을 기초로 접촉각을 θ/2법으로 측정하여, 하기 기준으로 평가했다.

◎: 접촉각의 평균값이 75° 이상

○: 접촉각의 평균값이 70° 이상 75° 미만

△: 접촉각의 평균값이 60° 이상 70° 미만

×: 접촉각의 평균값이 60° 미만

결과를 표 1에 나타낸다.

(유화물의 제거성 평가)

실시예 1 및 비교예 1의 각 조성물을 인공 피혁 위에 2 mg/cm²의 도포량으로 균일하게 도포하고, 30분 후, 시판의 핸드 솝(약용 액체 핸드 솝: 라이온 가부시키가이샤(Lion Corporation) 제품)를 이용하여 세정하고, 화장막의 씻어 내기 쉬움을 육안으로 관찰하여, 이하의 기준에 따라 제거성을 평가했다.

◎:거의 완전히 제거되었다.

○: 거의 제거되었지만, 일부 조성물의 잔류가 확인된다.

△: 일부 제거되었지만, 조성물의 잔류가 현저히 확인된다.

×: 제거되지 않았다.

결과를 표 1에 나타낸다.

실시예 1로부터 명백한 바와 같이, 상기 구조식 (1)로 표시되고, 실온(25℃)에서 액상인 (A) 카복실산 변성 실리콘을 사용하는 경우에는, 내수성이 우수한 동시에, 통상의 비누와 물에 의해 용이하게 제거 가능한 유화물을 얻을 수 있다. 한편, 비교예 1로부터 명백한 바와 같이, 당해 (A) 카복실산 변성 실리콘을 사용하지 않는 경우에는 통상의 비누와 물에 의해 용이하게 제거 가능한 유화물을 얻을 수 없다.

[실시예 2 및 비교예 2 내지 4]

표 2에 나타내는 각 성분을 사용하여 하기 제조 방법에 의해 실시예 2 및 비교예 2 내지 4의 조성물을 제조했다. 표 2 중의 각 성분의 배합량은 특기하지 않는 한 「 질량%」(「중량%」)를 나타낸다.

(제조 방법)

(1) A상의 성분을 혼합한다.

(2) B상의 성분을 혼합한다.

(3) 상온에서 A상의 성분의 혼합물에 B상의 성분의 혼합물을 소량씩 첨가하여 에멀젼을 조제한다.

(4) 상기 겔상 에멀젼에 성분 C를 혼합하여 화장료를 조제한다.

(내수성의 평가)

실시예 1 및 비교예 1의 각 조성물을 인공 피혁 위에 0.5 mg/cm²의 도포량으로 균일하게 도포하고, 30분 후, pH 7.0의 물의 물방울을 조심스럽게 적하하고, 표면에 형성된 물방울을 사진 촬영하고, 그 형상을 기초로 접촉각을 θ/2법으로 측정하여 하기 기준으로 평가했다.

◎: 접촉각의 평균값이 75° 이상

○: 접촉각의 평균값이 70° 이상 75° 미만

△: 접촉각의 평균값이 60° 이상 70° 미만

×: 접촉각의 평균값이 60° 미만

결과를 표 2에 나타낸다.

(유화물의 제거성 평가)

실시예 2 및 비교예 2 내지 4의 각 조성물을 인공 피부(바이오스킨 플레이트(BIOSKIN Plate); 가부시키가이샤 뷰락스(Beaulax Co.,Ltd) 제품) 위에 고무로 만들어진 손가락 골무를 장착한 손가락으로 0.5 mg/cm²의 도포량으로 도포하고, 30분 후, 시판의 알칼리성 고형 비누(카오 화이트: 카오 가부시키가이샤 제품)를 이용하여 세정하고, 화장막의 씻어 내기 쉬움을 육안으로 관찰하여, 이하의 기준에 따라 제거성을 평가했다.

◎: 거의 완전히 제거되었다.

○: 거의 제거되었지만, 일부 조성물의 잔류가 확인된다.

△: 일부 제거되었지만, 조성물의 잔류가 현저히 확인된다.

×: 제거되지 않았다.

결과를 표 2에 나타낸다.

표 2의 결과로부터 명백한 바와 같이, 상기 구조식 (1)로 표시되고, 실온(25℃)에서 액상인 (A) 카복실산 변성 실리콘을 사용한 실시예 2의 조성물은 당해 카복실산 변성을 실리콘을 사용하지 않는 비교예 3의 조성물에 비해, 명백하게 비누에 의한 제거성이 우수하다는 것을 알 수 있다. 한편, 동일한 카복실기를 갖는 화합물인 고급 지방산(이소스테아르산)을 사용한 비교예 4 및 당해 (A) 카복실산 변성 실리콘에 해당하지 않는 상기 구조식 (1)에서의 a/b가 0/1인 화합물 2를 사용한 비교예 2의 조성물은 비누에 의한 제거성이 떨어지는 것이었다.

[실시예 3 및 비교예 5 내지 6]

표 3에 나타내는 각 성분을 사용하여 하기 제조 방법에 의해 실시예 3 및 비교예 5 내지 6의 조성물을 제조했다. 표 3 중의 각 성분의 배합량은 특기하지 않는 한 「 질량%」(「중량%」)를 나타낸다.

(제조 방법)

(1) A상의 성분을 110℃로 가열하여 혼합 용해한다.

(2) 상기 (1)에서 조제한 혼합액에 B상, C상 및 D상을 첨가하고, 90℃에서 균일하게 혼합한다.

(3) 상기 (2)에서 조제한 혼합액을 용융 상태인 채로 금속 접시 용기에 충전한 후, 냉각하여 유성 파운데이션으로 한다.

(내수성의 평가)

실시예 3 및 비교예 5 내지 7의 각 조성물을 인공 피혁 위에 0.5 mg/cm²의 도포량으로 균일하게 도포하고, 30분 후, pH 7.0의 물의 물방울을 조심스럽게 적하하고, 표면에 형성된 물방울을 사진 촬영하고, 그 형상을 기초로 접촉각을 θ/2법으로 측정하여 하기 기준으로 평가했다.

◎: 접촉각의 평균값이 75° 이상

○: 접촉각의 평균값이 70° 이상 75° 미만

△: 접촉각의 평균값이 60° 이상 70° 미만

×: 접촉각의 평균값이 60° 미만

결과를 표 3에 나타낸다.

(조성물의 제거성 평가)

실시예 3 및 비교예 5 내지 7의 각 조성물을 인공 피부(바이오스킨 플레이트; 가부시키가이샤 뷰락스 제품) 위에 고무로 만들어진 손가락 골무를 장착한 손가락으로 0.5 mg/cm²의 도포량으로 도포하고, 30분 후, 시판의 알칼리성 고형 비누(카오 화이트: 카오 가부시키가이샤 제품)를 이용하여 세정하고, 화장막의 씻어 내기 쉬움을 육안으로 관찰하여, 이하의 기준에 따라 제거성을 평가했다.

◎: 거의 완전히 제거되었다.

○: 거의 제거되었지만, 일부 조성물의 잔류가 확인된다.

△: 일부 제거되었지만, 조성물의 잔류가 현저히 확인된다.

×: 제거되지 않았다.

결과를 표 3에 나타낸다.

표 3의 결과로부터 명백한 바와 같이, 상기 구조식 (1)로 표시되고, 실온(25℃)에서 액상인 (A) 카복실산 변성 실리콘을 사용한 실시예 3의 조성물은 이를 이용하지 않는 비교예 5의 조성물에 비해, 명백하게 비누에 의한 제거성이 우수하다는 것을 알 수 있다. 한편, 당해 (A) 카복실산 변성 실리콘에 해당하지 않는 상기 구조식 (1)에서의 a/b가 0/1인 화합물 2를 사용한 비교예 6의 조성물은 비누에 의한 제거성이 떨어지는 것이었다. 또한, 일반적인 비이온성 계면활성제인 폴리소르베이트 60을 사용한 비교예 7의 조성물은 제거성이 향상되지만, 내수성이 떨어지는 것이었다.

이하에, 본 발명의 조성물의 구체적인 처방예를 나타낸다. 표 중의 각 성분의 배합량은 특기하지 않는 한 「 질량%」(「중량%」)를 나타낸다. 또한, 이하의 처방예에서, 카복실산 변성 실리콘으로서 상기 화합물 1 외, 상품명 ES-5800 Formulation Aid(다우도레이 가부시키가이샤 제품) 등으로 시판되는 것이 적합하게 사용 가능하다.

[실시예 4]

에멀젼형의 본 발명의 조성물의 예로서, 유중수형 자외선 차단 크림(실시예 4)의 처방을 나타낸다.

유중수형 자외선 차단 크림

(제조 방법)

(1) 성분 1~15를 혼합한다.

(2) 성분 16~20을 혼합한다.

(3) 상온에서 상기 (1)에서 얻어진 혼합물에 상기 (2)에서 얻어진 혼합물을 소량씩 첨가하여 에멀젼을 조제한다.

(4) 상기 (3)에서 얻어진 에멀젼에 성분 21을 혼합하여 유중수형 자외선 차단 크림으로 한다.

[실시예 5~7: 유성 화장료의 처방예]

비에멀젼형의 본 발명의 조성물의 예로서 립글로스(실시예 5), 아이섀도(실시예 6) 및 루즈(실시예 7)의 처방을 나타낸다.

립글로스

(제조 방법)

(1) 성분 1~6을 110℃로 가열하여 혼합 용해한다.

(2) 상기 (1)에서 조제한 혼합액에 성분 7 내지 성분 13을 첨가하고, 90℃에서 균일하게 혼합한다.

(3) 상기 (2)에서 조제한 혼합액을 용융 상태인 채로 금속 접시 용기에 충전한 후, 냉각하여 립글로스로 한다.

아이섀도

(제조 방법)

(1) 성분 1~13을 110℃로 가열하여 혼합 용해한다.

(2) 상기 (1)에서 조제한 혼합액에 성분 14~16을 첨가하고, 90℃에서 균일하게 혼합한다.

(3) 상기 (2)에서 조제한 혼합액을 용융 상태인 채로 금속 접시 용기에 충전한 후, 냉각하여 아이섀도로 한다.

루즈

(제조 방법)

(1) 성분 1~11을 110℃로 가열하여 혼합 용해한다.

(2) 성분 12~14를 3개 롤을 이용하여 혼합한다.

(3) 상기 (1)에서 조제한 혼합액에 상기 (2)에서 조정한 혼합액 및 성분 15~17을 첨가하고, 90℃에서 균일하게 혼합한다.

(4) 상기 (3)에서 조제한 혼합액을 용융 상태인 채로 루즈 용기에 충전한 후, 냉각하여 루즈로 한다.

W/O 자외선 차단제

(제조 방법)

(1) A상의 성분을 혼합한다.

(2) B상의 성분을 3개 롤을 이용하여 혼합한다.

(3) C상의 성분을 혼합한다.

(4) A상과 B상을 혼합하여 AB상으로 한다.

(5) AB상을 교반하면서 C상을 천천히 가해 유화한다.

Claims

(A) 하기 구조식 (1):
[화 1]

(1)
(식 중,
Rc는 일반식: -R¹-(OR²)p-(O)w-R³-COOH (R¹은 탄소수 2~22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌기를 나타내고, R²는 탄소수 2~4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌기를 나타내고, R³은 결합손(-) 또는 탄소수 1~22의 직쇄 혹은 분지쇄 알킬렌기를 나타내고, p는 0~200의 수를 나타내고, w는 0 또는 1의 수를 나타낸다)로 표시되는 카복실기 함유 유기기를 나타내고,
R은 동일하거나 또는 상이하며, 탄소수 1~22의 알킬 혹은 알콕시기 또는 페닐기를 나타내고,
R'는 Rc 또는 R이며,
a는 0 이상의 수이고, b는 양의 수이고, a+b는 2~30의 범위의 수이다.)로 표시되는, 실온(25℃)에서 액상인 카복실산 변성 실리콘, 및
(B) 유제
를 포함하는 화장료.
제1항에 있어서, 상기 구조식 (1)에서, a, b가 모두 양의 수이고, a+b는 2~20의 범위의 수이고, a/b가 0.3~3.0인, 화장료.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (A) 카복실산 변성 실리콘을 화장료의 전체 질량에 대하여 0.1~10 질량%의 범위로 포함하는, 화장료.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (B) 유제가 적어도 1종의 자외선 흡수제를 포함하는, 화장료.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (B) 유제를 화장료의 전체 질량에 대하여 5~99 질량%의 범위로 포함하는, 화장료.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, (C) 유용성 피막 형성제를 더 포함하는, 화장료.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, (D) 소수성 분체를 더 포함하는, 화장료.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 (E) 물을 포함하는 화장료.
제8항에 있어서, 유중수형 유화 화장료인 화장료.
제8항 또는 제9항에 있어서, (F) 계면활성제를 더 포함하는, 화장료.
제10항에 있어서, 상기 (F) 계면활성제를 화장료의 전체 질량에 대하여 0.5~15 질량%의 범위로 포함하는, 화장료.