KR20210034635A - 조사 장치 및 조사 방법 - Google Patents

조사 장치 및 조사 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20210034635A
KR20210034635A KR1020217004966A KR20217004966A KR20210034635A KR 20210034635 A KR20210034635 A KR 20210034635A KR 1020217004966 A KR1020217004966 A KR 1020217004966A KR 20217004966 A KR20217004966 A KR 20217004966A KR 20210034635 A KR20210034635 A KR 20210034635A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
radiation
additional
subject
heat
present
Prior art date
Application number
KR1020217004966A
Other languages
English (en)
Inventor
위르겐 게르스텐마이어
Original Assignee
제이케이-홀딩 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=63012923&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR20210034635(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 제이케이-홀딩 게엠베하 filed Critical 제이케이-홀딩 게엠베하
Publication of KR20210034635A publication Critical patent/KR20210034635A/ko

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N5/0613Apparatus adapted for a specific treatment
    • A61N5/0614Tanning
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N5/0613Apparatus adapted for a specific treatment
    • A61N5/0616Skin treatment other than tanning
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N2005/002Cooling systems
    • A61N2005/005Cooling systems for cooling the radiator
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N5/0613Apparatus adapted for a specific treatment
    • A61N5/0614Tanning
    • A61N2005/0615Tanning using UV light sources having a specific spectrum
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N2005/0635Radiation therapy using light characterised by the body area to be irradiated
    • A61N2005/0636Irradiating the whole body
    • A61N2005/0637Irradiating the whole body in a horizontal position
    • A61N2005/0639Irradiating the whole body in a horizontal position with additional sources directed at, e.g. the face or the feet
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N2005/065Light sources therefor
    • A61N2005/0651Diodes
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N2005/065Light sources therefor
    • A61N2005/0651Diodes
    • A61N2005/0652Arrays of diodes
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N2005/0658Radiation therapy using light characterised by the wavelength of light used
    • A61N2005/0661Radiation therapy using light characterised by the wavelength of light used ultraviolet
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N2005/0658Radiation therapy using light characterised by the wavelength of light used
    • A61N2005/0662Visible light
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N2005/0664Details
    • A61N2005/0665Reflectors
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/06Radiation therapy using light
    • A61N2005/0664Details
    • A61N2005/0665Reflectors
    • A61N2005/0666Reflectors for redirecting light to the treatment area

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 피사체(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)에 관한 것으로, 상기 장치(100)는 상기 활성 방사선에 노출될 상기 피사체(200)를 둘러쌀 수 있는 노출 터널(110)로, 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 재료로 제조된 하나의 반원통 형상 제 1 표면(120), 및 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 상기 재료로 제조되고 상기 노출 터널(110)을 형성할 때에 제 1 표면(120)을 보완할 수 있는 하나 이상의 제 2 표면(140)으로 형성되고; 상기 노출 터널(110)의 표면(120, 140)은 상기 피사체(200)가 상기 활성 방사선에 노출되는 내부 공간(130)을, 상기 표면(120, 140)을 통해 활성 방사선을 방출하는 다수의 방사선원(170)이 장착되는 외부 공간(150, 160)으로부터 분리하고; 장치(100)의 섀시(180, 190)의 상기 제 1 및 제 2 부분은 장치(100)의 외형을 형성할 때에 서로 보완하고; 상기 장치(100)는 상기 내부 공간(130)으로부터 분리되고 노출 터널(110)의 종방향 단부(111, 112) 중 일단 또는 양단에 위치되는 하나 이상의 추가 외부 공간(300)을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 추가 외부 공간(300)은 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)을 수용하고, 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나는 하나 이상의 반사기(320) 또는 다수의 반사기(320)를 포함한다. 개선된 장치는 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나가 LED(322) 또는 다수의 LED(322)를 포함하고, 하나 이상의 반사기(320) 또는 다수의 반사기(320)는 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나에서 방출된 방사선을 시준하는 점에서 구별된다.

Description

조사 장치 및 조사 방법
본 발명은 조사 장치에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 피사체(subject), 예를 들어 인간의 전신, 더욱 구체적으로는 종래의 조사 장치에서 조사된 방사선에 전혀 노출되지 않거나, 약간만 노출된 인간의 신체 부위에 조사용 방사선을 보낼 수 있는 장치에 관한 것이다. 종래의 조사 장치에서 조사된 방사선에 의해 표적화되지 않는 인간의 신체 부위에 대한 비제한적인 예로는 두피, 어깨, 팔과 신체의 윗부분 사이의 영역 및 다리들 사이의 영역이 있다. 본 발명을 제한함이 없이, 본 명세서는, 예를 들어 인간과 같이, 피사체의 어깨에 조사용 방사선을 보내는 조사 장치를 예시적으로 설명하고 있다. 또한, 본 발명은 인간의 신체에서 일반적으로 조사되지 않은 부위에 방사선을 조사할 수 있는 비치료적 방법에 관한 것이다.
피사체, 예를 들어 인간의 신체에 방사선을 조사하는 장치 및 방법이 종래 기술에 공지되어 있으며, 여러 목적을 위해 실제로 사용되고 있다.
인체의 태닝, 즉 멜라닌 생성의 활성화, 및 인간의 피부에서 자연적으로 발생하는 색소의 어두운(갈색) 형태로의 멜라닌의 전환은, 피사체/인간의 피부에 280 내지 315㎚ 범위의 파장(λ)을 갖는 방사선 (UV-B 방사선) 및/또는 315 내지 400㎚의 파장을 갖는 방사선 (UV-A 방사선)을 조사함으로써 이루어진다. 태닝은 화장품 및/또는 의료 분야(들)에서 도움이 될 수 있다. 그 응용분야의 수는 꾸준히 증가하고 있다.
또한, 가시광선 및 근적외선(near IR) 범위 (400㎚, 또는 더 좋게는, > 550㎚ 내지 850㎚)의 파장을 갖는 방사선은 인간의 피부에 조사되는 경우, 가령 EP 2 500 060 A1, US 2012/150,265 A1 및 WO 2010/070,277 A1에 공지된 바와 같이, 인간 피부의 영양공급, 회복 및 재생에 유익한 화합물, 가령, 콜라겐, 엘라스틴, 케라틴 및 히알루론산의 합성을 활성화할 수 있다.
피사체, 가령 인간의 신체 전부 또는 일부에 UV-B, UV-A, 적색 가시광선 및 근적외선을 조사할 수 있는 장치는, 광선요법 기간 중에, 장치의 주변 수직 광 투과성 (가령, 아크릴) 사용자 보호 벽에 서있거나, 사용자 보호체 외부 또는 사용자 지지체 아래에 장착된 UV-B, UV-A 및/또는 적색 가시광선 및 적외선 발광 광원을 갖는 광 투과성 (가령, 아크릴) 사용자 지지체에 누워있는 사용자에게 유익한 영향을 준다. 또한, 후자의 장치는 광 투과성 보호층 위에 장착된 UV-B, UV-A 및/또는 적색 가시광선 및 적외선 광원을 더 포함하는 힌지 결합되어 연결된 캐노피를 구비함으로써, 광원은 UV-B, UV-A 및/또는 적색 가시광선 및 적외선 광을 피사체/사용자의 정면과 배면에 조사할 수도 있다.
DE 102 33 984 A1은 조사 터널을 형성하고 사용자의 얼굴을 태닝하기 위한 UV 램프 및 선택적으로 HPA 램프가 결합된 2개의 반원통 형상 유닛을 포함하는 일광 욕실에 관한 것이다. 이 일광욕실은 수직 및 수평 자세로 교대로 사용할 수 있다.
DE 43 14 679 A1은 일반적으로 태닝 베드에서 달성되는 어깨의 불충분한 태닝을 개선하는데 적합한 것으로 개시되어 있어, 태양 아래에서 자연 태닝하는 것에 더 유사한 사용자의 어깨 태닝을 달성할 것으로 기대되는 장치에 관한 것이다. 이 장치는 머리 베개에 통합된 반사기를 가지며, 이 반사기는 사용자의 얼굴을 태닝하는 고압 UV 광원에서 방출되는 UV광을 반사시킴으로써, 사용자의 전체 어깨 피부 영역에 균일한 UV 방사선을 제공한다. 대안적으로, 베개에 배열된 저압 또는 고압 램프는 사용자의 어깨로 보내지는 태닝 UV 방사선을 방출할 수 있다.
많은 사용자가 관찰한 단점 중 하나는, 사용자 신체의 기타 영역이 노출되는 그러한 유형 또는 양의 방사선을 사용자 신체의 모든 영역이 받을 수 없는 사실에 있다. 제한함이 없이, 기타 영역은 사용자의 두피, 어깨, 사용자의 팔과 신체의 윗부분 사이의 영역, 및 사용자의 다리들 사이의 영역이다. 이러한 사실은 도 1a 및 1b에 예시적으로 도시되어 있다. 조사 장치(100)의 노출 터널(110)에 누워있는 (도시하지 않았으나, 유사하게 내부에 서있는) 사용자(200)는 그의 정면과 배면에 있는 광원(170)에서 조사된 방사선 (점선 화살표로 예시함)을 받을 수 있는 한편, 사용자 신체의 특정 부분 (두피(207) 및 어깨(210)로 도시함)은 그러한 방사선에 거의 노출될 수 없다. 또한, 전술한 DE 43 14 678 A1에 개시된 바와 같은 태닝 장치는 태닝 베드 구조를 더 복잡하게 만든다.
상기 단점을 극복해야 한다. 따라서, 본 발명의 목적은 유익한 방사선으로 (예를 들어, 어깨 같은) 사용자의 피부의 이러한 영역을 조사할 수 있는 조사 장치 및 비치료적 조사 방법을 제공하는데 있다.
DE 87 01 889 U1은 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치를 기술하며, 이 장치는 피사체를 둘러쌀 수 있는 노출 터널을 포함하고, 이는 상기 피사체가 다수의 방사선원을 포함하는 외부 공간으로부터 분리된 활성 방사선에 노출되는 내부 공간을 가지며, 상기 내부 공간으로부터 분리된 추가 외부 공간은 노출 터널의 종방향 단부에 위치되고, 추가 외부 공간은 피사체를 향해 활성 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원을 포함한다. 상기 장치는 추가 방사선원으로부터의 광을 약 45°의 각도로 반사하도록 거울로 이루어진 반사기를 더 포함한다.
US 2004 008 028 A1은 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치를 기술하며, 이 장치는 피사체를 둘러쌀 수 있는 노출 터널을 포함하고, 이는 상기 피사체가 다수의 방사선원을 포함하는 외부 공간으로부터 분리된 활성 방사선에 노출되는 내부 공간을 가지며, 상기 내부 공간으로부터 분리된 추가 외부 공간은 노출 터널의 종방향 단부에 위치되고, 추가 외부 공간은 피사체를 향해 활성 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원을 포함한다. 상기 장치는 후방으로 방출된 광을 노출 터널로 반사하도록 추가 방사선원 뒤에 거울로 이루어진 반사기를 더 포함한다.
DE 195 02 983 A1은 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치를 기술하며, 이 장치는 피사체를 둘러쌀 수 있는 노출 터널을 포함하고, 이는 상기 피사체가 다수의 방사선원을 포함하는 외부 공간으로부터 분리된 활성 방사선에 노출되는 내부 공간을 가지며, 상기 내부 공간으로부터 분리된 추가 외부 공간은 노출 터널의 종방향 단부에 위치되고, 추가 외부 공간은 피사체를 향해 활성 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원을 포함한다. 상기 장치는 후방으로 방출된 광을 노출 터널로 반사하도록 추가 방사선원 뒤에 거울로 이루어진 반사기를 더 포함한다.
DE 295 16 572 U1은 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치를 기술하며, 이 장치는 피사체를 둘러쌀 수 있는 노출 터널을 포함하고, 이는 상기 피사체가 다수의 방사선원을 포함하는 외부 공간으로부터 분리된 활성 방사선에 노출되는 내부 공간을 가지며, 상기 내부 공간으로부터 분리된 추가 외부 공간은 노출 터널의 종방향 단부에 위치되고, 추가 외부 공간은 피사체를 향해 활성 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원을 포함한다.
DE 196 40 118 A1은 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치를 기술하며, 이 장치는 피사체를 둘러쌀 수 있는 노출 터널을 포함하고, 이는 상기 피사체가 다수의 방사선원을 포함하는 외부 공간으로부터 분리된 활성 방사선에 노출되는 내부 공간을 가지며, 상기 내부 공간으로부터 분리된 추가 외부 공간은 노출 터널의 종방향 단부에 위치되고, 추가 외부 공간은 피사체를 향해 활성 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원을 포함한다.
WO 2010 004 500 A1은 제 1 파장을 갖는 방사선원에서 방출된 광을 상이한 파장으로 변환하는 수단을 포함하는, 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치를 기술하며, 여기서 상이한 파장은 가시 파장 스펙트럼이다. 이 상이한 파장 역시 피사체를 조사하는 역할을 한다. 변환 수단은 형광색 또는 색상의 조합일 수 있다.
따라서, 본 발명은 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치에 관한 것으로, 상기 장치는:
- 상기 활성 방사선에 노출될 상기 피사체를 둘러쌀 수 있는 노출 터널을 포함하고, 상기 노출 터널은 피사체에 인가될 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 재료로 제조된 하나의 반원통 형상 제 1 표면, 및 피사체에 인가될 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 상기 재료로 제조된 하나 이상의 제 2 표면으로 형성되고, 상기 하나 이상의 제 2 표면은 상기 노출 터널을 형성할 때에 제 1 표면을 보완할 수 있으며;
- 상기 노출 터널의 표면은 상기 피사체가 상기 활성 방사선에 노출되는 내부 공간을, 상기 표면을 통해 활성 방사선을 방출할 수 있는 다수의 방사선원이 장착되는 외부 공간으로부터 분리하고;
- 상기 외부 공간은 장치의 섀시의 적어도 제 1 및 제 2 부분에 수용되고, 상기 다수의 방사선원을 고정시켜 유지하고, 전기 및 전자적으로 작동시키는 수단; 섀시의 상기 적어도 제 1 및 제 2 부분에 전력을 공급하는 수단; 장치를 환기, 가열 및/또는 냉각할 수 있는 수단; 및 처리 장치를 포함해, 장치를 작동하기 위한 수단을 포함하고,
- 장치의 섀시의 상기 제 1 및 제 2 부분은 힌지 결합되어 서로에게서 멀어지거나 서로를 향해 이동함으로써, 장치의 외형을 형성할 때에 서로 보완하고;
상기 장치는, 상기 방사선 투과성 제 1 및 제 2 표면 중 어느 하나에 의해 상기 내부 공간으로부터 분리되고 노출 터널의 종방향 단부 중 일단 또는 양단에 위치되는 하나 이상의 추가 외부 공간을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 추가 외부 공간은 장치의 종축(A-A)과 예각을 이루는 방향으로 피사체를 향해 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원을 수용한다.
(상기 추가 외부 공간에 배열된) 상기 추가 방사선원에서 방출된 (활성)방사선은, 바람직하게는 장치의 종축(A-A)과 예각을 이루는 한편, (상기 외부 공간에 배열되는) 상기 방사선원에서 방출되는 (활성)방사선은 장치의 종축(A-A)과 둔각 또는 직각을 이루는 것을 이해할 것이다.
바람직한 측면에 따르면, 방사선원 및 추가 방사선원 중 적어도 하나는 하나 이상의 반사기 또는 다수의 반사기를 포함하고; 추가로, 방사선원 및 추가 방사선원 중 적어도 하나는 하나 이상의 LED 또는 다수의 LED를 포함하고; 하나 이상의 반사기 또는 다수의 반사기는 상기 하나 이상의 방사선원 및 추가 방사선원에서 방출된 방사선을 시준한다.
바람직한 측면에 따르면, 장치는 방사선원 및 추가 방사선원 중 적어도 하나를 냉각시키는 하나 이상의 냉각 수단을 포함하고, 추가로, 방사선원 및 추가 방사선원 중 적어도 하나는 하나 이상의 LED 또는 다수의 LED를 포함하고; 이 장치는 상기 하나 이상의 방사선원 및 추가 방사선원을 냉각시키는 히트 파이프를 포함하는 하나 이상의 좁은 공간 조명기구 냉각 시스템을 포함한다.
바람직한 측면에 따르면, 방사선원 및 추가 방사선원 중 적어도 하나는 하나 이상의 LED 또는 다수의 LED를 포함하고; 추가로, 상기 장치는 상기 하나 이상의 LED 또는 상기 다수의 LED에서 방출된 광에 의해 여기될 수 있는 하나 이상의 형광 영역을 포함하여 가시 파장 범위의 광을 방출하는 상기 하나 이상의 형광 영역을 갖는 형광 커버링을 포함한다.
장치의 추가적인 바람직한 실시예는 종속항에 청구되어 있다.
또한, 본 발명은 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치를 작동시키는 비치료적 방법에 관한 것으로, 상기 방법은
- 본 발명의 상세한 설명에서 상세하게 후술하는 바와 같은 장치를 제공하는 단계; 및
- 장치의 추가 활성 방사선 발광 광원들 중 적어도 하나를 작동시켜, 이들 중 적어도 하나가 장치의 종축(A-A)과 예각을 이루는 방향으로 상기 장치 상에 또는 그 안에 수용되는 피사체를 향해 지향성 활성 방사선을 방출할 수 있게 하는 단계를 포함한다.
방법의 바람직한 실시예는 종속항에 언급되어 있다.
이제 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다.
도 1a 및 1b는 종래 기술의 방사선 인가 장치를 도시하는 머리(도 1a) 및 측면(도 1b) 입면도로서, 여기서 사용자 신체의 모든 영역 (가령, 두피 및 어깨)이 사용자가 노출되는 방사선을 받을 수 있는 것은 아니다.
도 2a는 본 발명의 장치를 나타내는 측면도로, 도 1b의 도면과 유사하지만 (본 발명의 장치를 도시하며), 이 장치는 예시적으로, 사용자의 등을 조사하는 노출 터널의 하부 및 사용자의 얼굴과 흉부를 조사하는 힌지 결합되어 연결된 캐노피에 수용되는 조사용 광원에 의해서; 그리고 장치의 종축(A)과 예각을 이루는 방향으로 노출 터널의 머리쪽 종방향 단부로부터 피사체를 향해 방사선을 방출하는 추가 방사선원에 의해서, 수평 노출 터널에 누워있는 동안, 사용자에게 방사선을 조사하도록 도시되어 있으며; 도 2b는 도 2a와 유사한 본 발명의 장치를 도시하는 평면 입면도이다.
도 2c는 도 2a/2b에 도시된 장치의 전체를 도시하는 사시도이다.
도 3은 사용자 주위에 배열된 조사용 광원에 의해서, 수직 노출 터널 (또는 원통)에 서있는 동안 사용자에게 방사선을 조사하는 본 발명의 장치를 도시하는 사시도이다.
도 4는 그의 선택적인 제한 또는 폐쇄 공간 냉각 시스템과 함께, 예시적으로 노출 터널의 머리쪽 종방향 단부로부터 피사체/사용자를 향해 활성 방사선을 조사하는 추가 방사선원을 수용하는 추가 외부 공간(300)에 대응하는 본 발명의 장치의 일부를 도시하는 사시도이다.
도 5는 도 4의 추가 방사선원 하우징(300), 특히 그의 LED 어레이(350) 및 고압 램프 또는 -대안적으로- 저압 램프를 수용하기 위한 추가 어레이를 도시하는 부분 사시도이다.
도 6a 및 6b는 피사체(200)로 방출될 때, LED 광을 시준하기 위한 LED 어레이(350)와 작동하기에 적합한 반사기 어레이(360)를 도시하는 정면도 및 배면도이다.
도 7a 내지 7d는 본 발명의 방사선 인가 장치(100)와 작동 가능한 제한/폐쇄 공간 냉각 시스템을 도시하는 사시도이다.
이제, 폭넓게 정의한 바와 같이, 본 발명의 상세한 설명, 및 특히 그의 부분적으로 바람직한 실시예에 관한, 상기 도면을 참조한다. 다음의 설명에 있어서, 설명 또는 도면에서 바람직한 실시예에 대한 참조는 본 발명을 바람직한 실시예로 제한하는 것으로 해석해서는 안 된다. 바람직한 실시예는, 설명에 그렇게 기술되어 있거나 하나 이상의 도면에 도시되어 있더라도, 본 발명을 더 잘 이해하기 위해 본 발명을 예시적으로 나타내 보이는 목적으로만 제공한다. 본 발명의 범위는 당업자가 청구범위로부터 도출할 수 있다. 또한, 배타적인 것은 아니지만, 도 2c에 도시된 본 발명의 방사선 인가 장치와 관련하여, 즉 피사체/사용자가 누워있는 자세로 수용되는 장치와 관련하여, 본 발명을 주로 설명한다. 그러나, 본 발명은 수평으로 배열된 그의 종축을 갖는 장치의 실시예로 제한되지 않는다.
정의
본 명세서 및 청구범위, 예를 들어 임의의 청구항에서 사용한 바와 같이 "포함하다", "포함한다" 또는 "포함하는"이란 용어는 본 발명의 장치가, 예를 들어 독립항에서 언급한 바와 같은 (i) 하나의 수단을 포함할 수 있거나, (ii) 2개 이상의 수단을 포함할 수 있거나, 또는 (iii) (아래에서 보다 구체적으로 정의하는) 추가 구성요소, 수단 등도 이 장치에 포함될 수 있는 의미를 갖는다. 유사한 방식으로, "포함하다", "포함한다" 또는 "포함하는"이란 용어는 본 발명의 방법이, 예를 들어 독립항에서 언급한 바와 같은 (i) 하나의 단계를 포함할 수 있거나, (ii) 2개 이상의 단계를 포함할 수 있거나, 또는 (iii) (아래에서 보다 구체적으로 정의하는) 추가 단계 등도 이 방법에 포함될 수 있는 의미를 갖는다.
그러나, 본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이 "포함하다", "포함한다" 또는 "포함하는"이란 용어는 본 발명의 장치/방법이 당업자가 발명의 목적을 달성하기 위해 그러한 장치/방법에 포함될 수 있고, 선택적으로, 임의의 필수 구성요소 또는 수단이나 단계와 함께, 예를 들어 독립항에서 언급한 바와 같은 (i) 하나 이상의 수단/단계로 주로 구성되거나, 또는 (ii) 2개 이상의 수단 (또는 단계)로 주로 구성되는 경우도 포함할 수 있으며, 또는 본 발명의 장치/방법이 당업자가 발명의 목적을 달성하기 위해 그러한 장치/방법에 포함될 수 있는, 선택적으로, 그러나 필수적이지는 않은, 임의의 필수 구성요소 또는 수단이나 단계 등과 함께, (i) 하나 이상의 수단 또는 단계로 배타적으로 구성되거나, 또는 (ii) 2개 이상의 수단 또는 단계로 배타적으로 구성되는 경우 조차도 포함할 수 있다. 특히 후자의 경우, 본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이 "포함하다", "포함한다" 또는 "포함하는"이란 용어는, 독립항의 특징 및 대응하는 설명의 부분과 조합하여, 청구한 그의 가장 넓은 범위로 기재된 바와 같이 본 발명에 속하는 것으로 요약되는 추가의 특정한 특징을 특징으로 하는 추가 바람직한 실시예를 청구할 수 있고 설명할 수 있는 본 출원의 종속항 및 대응하는 명세서의 부분으로 "배타적으로 구성되는 의미를 포함할 수 있다.
다시 말해서, "포함하는" 또는 "포함한다" 또는 "포함하는"이란 용어는 요소/단계의 철저하지 않은 열거를 설명하는 의미를 가질 수 있거나, 대안적으로 요소/단계의 철저한 열거를 설명하는 의미를 가질 수 있으며, 후자의 경우에는 추가적인 특징을 특징으로 하는 추가 바람직한 실시예를 배제하지 않는다.
따라서, "포함하다", "포함한다" 또는 "포함하는"이란 용어에 의해, 요소나 특징 또는 방법 단계의 철저하지 않은 열거 및 철저한 열거를 본 출원에 개시하고 첨부한 청구범위에서 청구한다.
바람직한 실시예와 관련하여 설명한 본 명세서에 따른 특징은 각각 단일 특징으로서 실현할 수 있거나, 본 명세서에서 설명하고 청구범위에서 청구한 하나의 추가 특징, 또는 몇 가지 다른 특징, 또는 여러 다른 특징, 또는 모든 특징과 조합하여 실현할 수 있다. 2가지 이상의 특징의 모든 이들 조합은 청구한 바와 같이 본 발명에 의해 커버된다.
실시예에 대한 상세한 설명
이제, 본 발명의 방사선 인가 장치(100)의 바람직한 실시예를 도시하는 도 2a 내지 2c를 참조한다.
도 2a 내지 2c에 도시된 이러한 장치(100)는 피사체(200)에게 지향성 활성 방사선을 인가하는 역할을 한다.
본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, "활성 방사선"이란 용어는, (광생화학을 포함한) 광화학적 효과를 가지며, 경우에 따라서 자연 또는 인공 기원의 광/방사선일 수 있거나 이를 포함하는, 전체 전자기 스펙트럼의 광 또는 (보다 넓은) 방사선을 의미하는 것으로 이해하면 된다 (("Rompp Chemie-Lexikon", Thieme Publishers, 슈투트가르트, 독일)에 제공된 정의를 참조한다). 청구범위 및 명세서에서, "활성 광" 또는 "활성 방사선"은, 제한되지 않으나, 인공적 기원을 갖는 광 또는 방사선, 가령, 본 발명의 방사선 인가 장치(100)에 있어서 광원에서 방출되는 광/방사선에 주로 사용한다. 본 명세서 및 특허 청구범위에서 사용한 바와 같이, "지향성 활성 방사선"이란 용어는, 다소 배타적이지 않다면, 본 발명에 따라, 피사체, 보다 바람직하게는 인간 피사체 또는 인간 사용자, 즉 인간(200)인 표적에 바람직한 초점으로 조사되는 활성 방사선의 의미를 갖는다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 장치(100)의 바람직한 일 실시예에서, 상기 활성 방사선은 넓은 파장 범위 활성 방사선일 수 있으며, 파장 및 파장 범위는 본 발명에서 전혀 제한되지 않는다. 대안적으로, 바람직하기도 하지만, 상기 활성 방사선은 좁은 파장 범위의 활성 방사선이거나 심지어 매우 특정한 파장 또는 여러 특정한 파장의 활성 방사선일 수 있다. 이는 특정한 경우의 요구조건에 따라서 인가될 파장이나 파장들 또는 파장 범위나 대역을 선택할 수 있는 당업자에게 공지되어 있다. 본 발명의 틀 안에서 사용할 수 있는 파장을 갖는 활성 방사선의 특정한 예로는: 인체의 태닝을 위해 (태닝은 웰빙 및/또는 화장품 및/또는 의료 분야(들)에서 도움이 될 수 있다), 즉 멜라닌 생성의 활성화, 및 인간의 피부에서 자연적으로 발생하는 색소의 어두운(갈색) 형태로의 멜라닌의 전환을 위해, 280 내지 315㎚ 범위의 파장(λ)을 갖는 활성 방사선 (UV-B 방사선) 및/또는 315 내지 400㎚의 파장(λ)을 갖는 활성 방사선 (UV-A 방사선); 인간 피부에서 비타민 D 전구체로부터 비타민 D 생합성을 촉진하기 위해, λ=297㎚±10㎚ 파장 범위의 단파장 UV-B 방사선 형태의 활성 방사선; 또는 가시광선 및 근적외선(near IR) 범위 (400 또는 더 좋게는, > 550㎚ 내지 850㎚)의 파장(λ)을 갖는 활성 방사선이 있으며, 이 활성 방사선은 인간 피부에 인가되는 경우, 피부의 영양공급, 회복 및 재생에 유익한 화합물, 가령, 콜라겐, 엘라스틴, 케라틴 및 히알루론산의 합성을 활성화할 수 있다. 그러나, 이들 예는 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 된다.
본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, "활성 방사선"과 조합한 "지향성"이란 용어는 활성 방사선 발광 광원에서 방출되며, 광원에서 유래하고 특정 표적, 가령 피사체/사용자(200)의 (일반적인) 표면(A) 또는 (특정한) 신체 표면에 도달하거나 그 위에 충돌하는 방향을 갖는 활성 방사선을 의미하는 것으로 이해하면 된다. 이것은 종래 기술에 관해서 도 1a 및 1b에, 그리고 본 발명에 관해서 도 2a 및 2b에 도시되어 있다. 예를 들어, 도 2a, 2b, 4 및 5는 반사기를 가지며 활성 방사선을 방출하는 광원을 도시한다. 본 발명의 틀에서, 표적은, 바람직하게는 피사체, 특히 인간이다. 지향성 방사선은 셔터 및/또는 반사기 및/또는 필터 및/또는 다른 지향 수단 또는 이들의 조합을 구비한 광원에서 방출될 수 있다.
본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, "활성 광 발광 광원" 또는 간단히 "광원"이란 용어는 특정 파장 또는 다소 넓은 파장 대역의 광/방사선을 방출하는 것을 의미하는 것으로 이해하면 된다. 본 발명에 따르면, 그러한 임의의 발광 수단은 활성 광 발광 광원으로 지정할 수 있다. 당업자는 상기 정의의 틀 안에서 많은 다른 광원을 알고 있다. 이러한 활성 광 발광 광원의 예시적인 실시예로는 가스 방전 저압 발광 램프 (또는 튜브) (또한: 저압 형광 램프), 또는 고압 발광 램프 (또는 라디에이터)가 있으며, 이 램프는 일반적으로 비교적 넓은 파장대역의 광을 방출하며, 다양한 유형의 것이 당업자에게 주지되어 있어, 여기서는 보다 상세한 설명이 필요치 않다. 또한, "활성 광 발광 광원"이라느 용어는 일반적으로 매우 특정한 (및 일반적으로 좁은) 파장 대역의 광을 방출하는 LED도 포함한다. 당업자는 다음의 명세서 및 청구범위로부터 쉽게 배우게 되므로, 이러한 모든 활성 방사선 발광 광원을 본 발명에서 사용할 수 있다.
본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, "피사체"란 용어는 활성 방사선이 지향성 방식으로 인가될 수 있는 임의의 피사체를 의미하는 것으로 이해하면 된다. 당업자는 활성 방사선이 인가될 수 있는 (장치를 포함한) 다수의 피사체를 알고 있다. 본 발명의 바람직한 실시예에서, 피사체는 인간이며, 용어 "사람", "인간" 및 "피사체"는 본 출원에서 동의어로 사용한다.
본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, "인가" 및 "인가하다" 및 "인가하는"이란 용어는 "활성 방사선" 또는 (더 일반적으로) "방사선"과 조합한 경우, 활성 방사선 발광 광원에서 특정 광화학 또는 광생화학 효과를 발휘할 목적으로 피사체에 활성 방사선을 조사하는 단계를 의미하는 것으로 이해하면 된다.
본 발명에 따르면, 피사체(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)는 상세하게 후술하는 여러 요소를 포함한다.
이러한 방사선 인가 장치(100)는 대다수 그의 요소에 대해 주지의 장치일 수 있으며, 일반적으로 그리고 그의 바람직한 실시예에서, 도 2a, 2b, 2c 및 3, 특히 도 2a, 2b 및 2c를 참조하여, 다음과 같이 상세하게 설명한다.
피사체(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)는 그의 중심 요소로서, 소위 "노출 터널(110)"을 포함한다. 본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, "노출 터널"이란 용어는 피사체(200)를 받아들일 수 있는 터널 형상 공간의 노출 터널(110)을 의미하는 것으로 이해하면 되며, 노출 터널(110)은 상기 피사체(200)를 둘러쌀 수 있고, 수용시에, 상기 피사체(200)는 지향성 활성 방사선에 노출될 수 있다. 이러한 노출 터널(110)의 크기 및 형상은 제한되지 않으며, 특정한 경우의 요구조건에 따라 당업자가 선택할 수 있다. 어쨌든, 노출 터널(110)은 적어도 일정 크기, 즉 세로 길이와 너비 및 세로 길이에 수직인 높이를 가짐으로써, 피사체(200)가 노출 터널(100)에 의해 여유 있게 둘러싸여 그 안에 편안하게 눕거나 설 수 있어야 한다.
당업자는 본 기술 분야에 공개된 일반적인 기술로부터 활성 방사선의 인가를 위해 피사체를 둘러쌀 수 있는 노출 터널(110)의 크기 및 형상을 알고 있다. (종래 기술에서와 같이) 본 발명의 바람직한 실시예에서, 노출 터널은 편한 (누워있는, 즉 누운, 또는 서있는, 즉 직립한) 자세로 피사체를 수용하기에 적합한 크기를 가질 수 있다. 따라서, 크기는 상기 피사체 주위에서 길이가 200 내지 220㎝, 폭/높이가 90 내지 120㎝일 수 있으나, 본 발명은 이러한 크기로 제한되지 않는다. (본 발명을 제한하지 않는) 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 노출 터널(110)의 형상은 (적어도 대략) 원통 형상이다.
본 발명의 방사선 인가 장치(100)의 바람직한 일 실시예에서, 본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 상기 노출 터널(110)은 종축(A-A), 다시 말해 수평으로, 즉 작동 중에 장치(100)가 위치하는 지면과 평행하게 배열되는 원통 형상의 축과 동일한 축을 갖는다. 수평으로 배열된 축을 갖는 상기 노출 터널(110)을 포함하는 장치(100)는 누운 자세에서 피사체(200)를 수용하는 통상의 노출 "베드"이다. 이것은 장치(100)의 대부분 사용자가 매우 편리하고 편안하다고 평가한다.
또한, 활성 방사선은, 유리하게는 본 발명에 따라 장치(100)의 방사선원(170)에서 방출된 방사선에 의해 전혀, 또는 약간만 표적화되지 않는 피사체/사용자의 신체 일부에 조사될 수도 있다.
이러한 장치(100)의 예가 도 2a, 2b 및 2c에 도시되어 있다. 예시적으로, 도 2a에서 볼 수 있는 바와 같이, 장치(100)는 섀시의 제 1 부분(180) 및 섀시의 제 2 부분(190)을 포함하고, 제 1 (장치(100)의 작동 중에: 상부) 부분(180)은 노출 터널(110)의 종축(A-A)에 평행한 축을 따라 제 2 (작동 중에: 하부) 부분(190)에서 멀리 피봇됨으로써, 쉽고 편리한 방식으로 피사체/사람(200)이 장치(100) 내로, 즉 노출 터널(110) 내의 노출 베드 위로 진입할 수 있게 한다.
본 발명의 장치(100)의 대안적인 바람직한 일 실시예에서, 상기 노출 터널(110)은 종축, 다시 말해 수직으로, 즉 작동 중에 장치(100)가 위치하는 지면에 수직으로 배열되는 원통 형상의 축과 동일한 축을 갖는다. 수직으로 배열된 축을 갖는 상기 노출 터널(110)을 포함하는 장치(100)는 직립 또는 서있는 자세로 피사체(200)를 수용하는 노출 "캐빈"이다. 이것은 장치(100)의 대부분의 사용자가 이동하는 동안 매우 동적인 것으로 평가한다. 또한, 그러한 장치(100)는 명백히 매우 공간 절약적이다.
또한, 활성 방사선은, 유리하게는 본 발명에 따라 도 1a 및 1b에 도시된 바와 같은 종래 기술의 장치(100)의 방사선원(170)에서 방출된 방사선에 의해 전혀, 또는 약간만 표적화되지 않는 피사체/사용자의 신체 일부에 조사될 수도 있다. 이러한 장치(100)의 예가 도 3에 도시되어 있다. 예시적으로, 도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 장치(100)는 섀시의 제 1 (또는 전면) 부분(180) 및 제 2 (또는 후면) 부분(190)을 포함하고, 제 1 (장치(100)의 작동 중에: 전면) 부분(180)은 노출 터널의 종축(A-A)에 평행한 축을 따라 도어와 유사한 방식으로, 제 2 (작동 중에: 후면) 부분(190)에서 멀리 피봇됨으로써, 쉽고 편리한 방식으로 피사체/사람(200)이 장치(100) 내로, 즉, 노출 터널(110) 내의 노출 캐빈 내로 진입할 수 있게 한다.
(즉, 누운 자세 또는 직립 자세로 피사체를 수용하는) 장치(100)의 유형에 따라, 상기 노출 터널(110)은 하나의 반원통 형상 제 1 표면(120) 및 하나 이상의 제 2 표면(140)으로 형성되며, 상기 하나 이상의 제 2 표면(140)은 상기 노출 터널(110)을 형성할 때에 제 1 표면(120)을 보완할 수 있다. 이것은, 본 발명의 장치(100)의 특정 실시예에서, 노출 터널(110)이 완전히 상기 제 1 및 제 2 표면(120, 140)에 의해 형상 및 크기가 규정될 수 있음을 의미한다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 방사선 인가 장치(100)의 보다 바람직한 실시예에서, 상기 노출 터널(110)은 상기 하나의 반원통 형상 및 하나 이상의 실질적으로 평탄한 표면(142)으로 형성된다. 바람직하게는, 이것은 피사체가 누운 자세로 지향성 활성 방사선에 노출될 수 있는 노출 "베드"의 형상을 갖는 장치(100)의 실시예이다. 피사체(200)는, 이 실시예에서 수평 배향인 상기 실질적으로 평탄한 표면(142) 상에 위치된다. 이러한 실시예에서, 상기 반원통 형상 표면(120)은 실질적으로 평탄한 표면(142) 위에 배열되어, 일반적으로 상기 평탄한 표면(142)의 일측 가장자리에 평행한 축을 중심으로 상기 반원통 형상 표면(120)을 피봇시킴으로써 상기 평탄한 표면(142)에서 멀리 이동되어, 활성 방사선 노출을 위한 피사체(200)의 용이한 진입을 위해 노출 터널(110)이 "개방"되도록 할 수 있다.
본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, 피사체가 눕는 표면(142)과 관련된 "실질적으로 평탄한"이란 용어는 실질적으로 리세스 및 돌기 없이 수평면으로 연장되는 표면을 의미하는 것으로 이해하면 된다. 그러나, 통상적으로는, 본 기술 분야에서, 피사체(100)가 활성 방사선에 노출되는 그러한 눕는 표면은 전반적인 편평함에서 실질적으로 벗어나지 않고, 피사체의 머리(205), 등, 팔(215) 또는 다리(220)를 위치 결정하기 위한 리세스를 포함할 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 장치(100)의 유사하게 바람직한 대안적인 실시예에서, 상기 노출 터널(110)은 상기 하나의 반원통 형상 표면(120) 및 하나 이상의 추가 또는 제 2 반원통 형상 표면(141)으로 형성된다. 바람직하게는, 이것은 피사체(200)가 직립 자세로 지향성 활성 방사선에 노출될 수 있는 노출 "캐빈"의 형상을 갖는 장치(100)의 실시예이다. 피사체(200)는, 이 실시예에서 수직 배열인 상기 2개의 반원통 형상 표면(120, 141) 사이에 위치된다. 이러한 실시예에서, 상기 하나의 반원통 형상 표면(120)은 완전한 원통을 형성하도록 상기 제 2 반원통 형상 표면(141)과 나란히 배열된다. 상기 원통의 한 부분은 일반적으로 제 2 반원통 형상 표면(141)의 하나의 수직 가장자리에 평행한 적어도 하나의 축을 중심으로 상기 반원통 형상 표면(120)을 피봇시킴으로써 상기 제 2 반원통 형상 표면(141)에서 멀리 이동되어, 활성 방사선 노출을 위한 피사체(200)의 용이한 진입을 위해 노출 터널(110)이 "개방"되도록 할 수 있다. 피사체(200)는 2개의 반원통 형상 표면(120, 141)에 의해 형성된 원통 형상 공간의 중심에 실질적으로 서있으며, 활성 방사선에 노출되는 동안 선택적으로, 그/그녀 자신의 수직 축 주위를 돌고 있다.
본 발명에 따르면, 반원통 형상의 제 1 표면(120) 및 하나 이상의 제 2 표면(140)도 피사체(200)에 인가될 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 재료로 제조된다. 본 명세서 및 청구범위에서 사용한 바와 같이, "상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 재료"란 용어는, 광원에서 방출된 활성 방사선의 적어도 일부가, 원하는 광화학적 효과 또는 광생화학적 효과를 갖도록 하기 위해, 그의 상당한 양이 표면 재료에 의해 흡수되지 않고 상기 벽을 통과할 수 있는 그러한 성질을 갖는 것을 의미하는 것으로 이해하면 된다. 또한, 선택된 재료는 그 위에 누워있는 사용자를 견디기에 충분한 강도와 강성을 가져야 한다. 본 기술 분야의 당업자는 그러한 재료를 알고 있으며, 특정한 경우의 요구조건에 따라서 다수의 재료 중에서 선택할 수 있다. 본 발명의 특히 바람직한 실시예에서, 표면(120, 140)은 활성 광 투과성 중합체 재료의 군에서 선택된 재료로 제조되며, 종래 기술에서와 같이, 아크릴 중합체가 특히 바람직하다. 또한, 실질적으로 모든 활성 방사선의 통과를 허용할 수 있는 다른 공지된 종래 기술의 재료를 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 더욱 더 바람직한 실시예에서, 반원통 형상의 제 1 표면(120) 및 하나 이상의 제 2 표면(140)과 유사한 추가 표면(143)도 피사체(200)에 인가될 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 재료로 제조된다.
본 발명에 따르면, 피사체(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)는 노출 터널(110)의 표면(120, 140) 및, 선택적으로 임의의 추가 표면(143)이 내부 공간(130)을 분리하는 방식으로 성형되며, 여기서 활성 방사선에 노출될 피사체(200)는 상기 표면들에 의해 둘러싸이며, 상기 표면(120, 140)을 통해 활성 방사선을 방출할 수 있는 광원(170)이, 상기 표면(120, 140)을 통해서 피사체(200)를 향해 상기 광원에서 상기 활성 방사선을 방출할 수 있는 방식으로 장착되는 외부 공간(150, 160)으로부터, 상기 활성 방사선에 노출된다. 이러한 외부 공간(150, 160)은, 본 발명이 어떤 식으로든 제한됨이 없이, 특히 상기 광원(170)을 수용하는 목적에 적합하다고 당업자가 생각할 수 있는 임의의 형상을 가질 수 있다. 특히, 상기 외부 공간(150, 160)의 형상은 사용하는 장치(100)의 유형에 따라 달라질 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 장치(100)의 바람직한 실시예에서, 상기 노출 터널(110)이 도 2a, 2b 및 2c에 도시된 바와 같이, 수평으로 배열된 종축(A-A)을 갖는 경우, 상기 표면(120)을 통해서 상기 실질적으로 평탄한 표면(142)에 누운 자세로 누워있는 피사체(200)에 하방으로 활성 방사선을 방출할 수 있는 상부 광원(170u), 및 상기 표면(140, 141, 142)을 통해서 누운 자세로 누워있는 피사체(200)에 상방으로 활성 방사선을 방출할 수 있는 하부 광원(170l)은 상기 외부 공간(150)에서 상기 표면(120) 위에, 그리고 상기 외부 공간(160)에서 상기 표면(140, 141, 142) 아래에 장착된다. 이 실시예에서, 외부 공간(150, 160)은 상부 및 하부 공간이며, 특히 상기 상부 및 하부 광원(170u, 170l)을 수용하기 위해 사용한다. 외부 공간(150, 160)은 본 발명에 따라 다른 목적으로도 사용할 수 있으며, 이는 보다 상세하게 후술한다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 장치(100)의 대안적인 바람직한 실시예에서, (도 3에 도시된 바와 같이) 상기 노출 터널(110)이 수직으로 배열된 종축(A-A)을 갖는 경우, 상기 표면(120)을 통해서 상기 표면(120, 140)에 의해 둘러싸인 상기 내부 공간(130)에서 직립 자세로 서있는 피사체(200)에 후방으로 활성 방사선을 방출할 수 있는 전면 광원(170fs), 및 상기 표면(140)을 통해서 서있는 피사체(200)를 향해 활성 방사선을 방출할 수 있는 배면 광원(170bs)은 상기 외부 공간(150, 160)에서 상기 표면(120, 140)의 외측면에 장착된다. 이 대안적인 실시예에서, 외부 공간(150, 160)은 특히, 상기 전면 및 배면 광원(170fs, 170bs)을 수용하기 위해 사용하는 전면 외부 공간 및 배면 외부 공간이다. 외부 공간(150, 160)은 본 발명에 따라 다른 목적으로도 사용할 수 있으며, 이는 보다 상세하게 후술한다.
본 발명에 따르면, 상기 외부 공간(150, 160)은 장치(100)의 섀시(180, 190)의 적어도 제 1 및 제 2 부분에 수용되며, 상기 광원(170)을 고정시켜 유지하고 전기 및 전자적으로 작동시키는 수단(181, 191), 및/또는 섀시(180, 190)의 상기 적어도 제 1 및 제 2 부분, 및 그 안의 구성요소, 예를 들어 피사체(200)에 활성 방사선을 방출하는 상기 광원(170)에 전력을 공급하는 수단(182, 192), 및/또는 장치(100)를 환기, 가열 및/또는 냉각할 수 있는 수단(183, 193); 및 장치(100)의 추가 작동을 위한 수단(184, 194), 예를 들어 장치(100)의 작동을 제어하고, 및/또는 외부 제어 수단이 연결될 수 있게 하는 제어 수단 및/또는 하나 이상의 처리 장치를 포함한다. 종래 기술의 유사한 장치로부터 당업자에게 공지된 바와 같은 추가 수단, 예를 들어 소수의 예만 열거하면, 가동 섀시 부분(180)을 개폐하기 위한 핸들, 비상시에 장치(100)의 작동을 중지할 수 있는 비상 스위치, 노출 터널(110)에 대한 신선한 공기, 찬 공기 또는 따뜻한 공기, 또는 액체 스프레이의 접근을 허용하기 위한 노즐 (및 그의 작동 채널과 펌프), 장치(100)를 작동할 수 있는 중앙 처리 장치(194), 활성 방사선 센서, 활성 방사선 노출과 관련되는 한, 피사체의/사용자의 피부 상태를 결정하기 위한 피부색/피부 상태 센서가 섀시의 제 1 및 제 2 부분(180, 190)의 외부 공간(150, 160)에 단독으로 또는 조합하여 장착될 수도 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예에서, 피사체(200)는 상기 지향성 활성 방사선에 노출되는 인간(200)이다. 상기 지향성 활성 방사선에 노출되는 인간(200)은, 본 명세서에서 때때로 장치(100)의 "사용자"로서 칭하기도 한다.
이미 상세하게 전술한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 장치(100)의 섀시(180, 190)의 제 1 및 제 2 부분은 힌지 결합되어 서로에게서 멀어지거나 서로를 향해 이동함으로써, 장치(100)의 외형을 형성할 때에 서로 보완할 수 있다. 예시적으로, 도 2a 및 2c에서 볼 수 있는 바와 같이, 장치(100)는 섀시의 제 1 부분(180) 및 제 2 부분(190)을 포함하고, 제 1 (장치(100)의 작동 중에: 상부) 부분(180)은 노출 터널(110)의 종축(A-A)에 평행한 축을 따라 제 2 (작동 중에: 하부) 부분(190)에서 멀리 피봇됨으로써, 쉽고 편리한 방식으로 사람이 장치(100) 내로, 즉 노출 터널(110) 내의 노출 베드 위로 진입할 수 있게 한다.
본 발명에 따라 그리고 도 2a 및 2B에 도시된 바와 같이, 장치(100)는 상기 방사선 투과성 제 1 및 제 2 표면(120, 140) 중 어느 하나에 의해 상기 내부 공간(130)으로부터 분리되고 종방향 단부, 즉 노출 터널(110)의 종방향으로 머리쪽 단부(111), 및 노출 터널(110)의 종방향으로 발측 단부(112) 중 일단 또는 양단에 위치된 하나 이상의 추가 외부 공간(300)을 더 포함한다. 본 발명에 따르면, 상기 하나 이상의 추가 외부 공간(300)은 장치(100)의 종방향과 예각을 이루는 방향으로 피사체(200)를 향해 방사선을 방출할 수 있는 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)를 수용한다. 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)을 수용하기에 적합하고 장치(100)의 종방향과 예각을 이루는 방향으로 피사체(200)를 향해 방사선을 방출할 수 있는, 하나의 추가 외부 공간(300)이 있을 수 있거나, 노출 터널(110)의 종방향 단부(111, 112) 중 일단 또는 양단에 위치되는 2개 (또는 그 이상, 가령 3개 또는 4개)의 추가 외부 공간(300)이 있을 수 있다. 추가 외부 공간(300)의 수는 단일 경우의 요구조건에 근거하여 당업자가 선택할 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 하나 이상의 추가 외부 공간(300)은 노출 터널(110)의 머리쪽 종방향 단부(111)에 위치된 하나의 추가 외부 공간(300)이며, 상기 하나의 추가 외부 공간(300)은, 예를 들어 제한 없이, 피사체의 두피(207) 및 어깨(210)를 향해 방사선을 방출할 수 있는 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)를 수용한다. 본 발명의 이 실시예는, 본 발명의 목적을 쉽게 달성할 수 있기 때문에 특히 유리한 것으로 생각된다. 통상의 조사 장치(100) 상에 조사된 광에 의해 표적화되지 않는 사용자 신체의 영역은 원하는 대로 방사선을 받을 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에서, 본 발명의 장치(100)는 사용자(300)에게 상이한 유형의 방사선을 조사할 수 있다:
바람직한 일 실시예에서, 장치(100)는 사용자(200)에게 태닝 방사선, 가령, 280 내지 315㎚ 파장 범위에서 사용자의 신체를 태닝하기에 적합한 강도를 갖는 방사선 (UV-B 방사선) 및/또는 315 내지 400㎚ 파장을 갖는 방사선 (UV-A 방사선)을 조사하는 태닝 장치이다. 종래의 태닝 장치는 기술적으로 간단한 방식으로, 예를 들어 사용자의 어깨(210) 또는 두피(207)의 태닝에 영향을 주지 않았으며, 사용자의 피부에서 균일한 태닝을 거의 달성할 수 없었다. 본 발명에 따르면, UV 방사선 태닝에 의해 일반적으로 표적화되지 않는 사용자 신체의 부분들 (가령, 어깨(210))도 확실하게 태닝할 수 있고, 이에 따라 사용자의 전신에 걸쳐 균일한 태닝을 달성할 수 있다.
또 다른 바람직한 실시예에서, 장치(100)는 사용자의 신체에 적색 가시광선광, 및/또는 400㎚, 또는, 더 좋게는 > 550㎚ 내지 850㎚ 범위의 파장을 갖는 근적외선을 조사함으로써, 피부의 영양공급, 회복 및 재생에 유익한 화합물, 가령, 콜라겐, 엘라스틴, 케라틴 및 히알루론산의 합성을 활성화하는 장치이다.
이들 및 그 밖의 목적을 위해, 본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예에서, 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)은 고압 램프, 중압 램프, 가스 방전 저압 램프, LED 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된다. 더욱 더 바람직하게는, 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)은 고압 램프, LED 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된다.
고압 램프 또는 저압 램프를 사용할 수 있는 한편, 본 발명에 따르면, 단일 방사선 발광원으로서 또는 본 발명의 장치(100)에서 2개의 쌍 또는 3개 이상의 군으로서, LED는 바람직하게는, 예를 들어, 하나의 보드에 고정되고 전기적으로 연결되고 전자적으로 제어되는 20개 또는 30개, 또는 이들보다 더 적거나 이들보다 더 많은 어레이로 배열된 다수의 LED로서 사용될 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 추가 바람직한 실시예에서, 사용자의 신체를 태닝하기에 적합한 조사 장치(100)의 예로서, 이러한 바람직한 실시예로 제한됨이 없이, 추가 방사선 발광 방사선원(310A, 310B)의 몇 가지 조합이 개발되었고, 적합한 것으로 밝혀졌다.
본 발명은, 종래 기술의 태닝 장치를 사용하는 경우, 태닝 방사선을 전혀 받지 않거나 원하는 태닝 결과를 위해 불충분한 것으로 평가된 태닝 방사선의 양만 받는 사용자의 신체 일부에 태닝 방사선을 표적화하기 위해, 추가 방사선원(310A, 310B)으로 사용되는 LED는, 적절한 파장(범위)의 방사선을 방출하는 저압 형광 램프나 고압 방전 램프 또는 LED를 단독으로 또는 각 가능한 조합에 의해 피사체의/사용자의 어깨 (본 발명의 예시적인 실시예로서) 또는 두피를 조사함으로써, 본 발명에 따라 양호한 어깨, 두피 등의 태닝을 달성할 수 있다. 특히 적합한 것은 LED와 저압 형광 램프의 조합 또는 LED와 고압 방전 램프의 조합이며, 이들 모두는 관련 UV-A 및 UV-B 범위의 태닝 UV 방사선을 방출한다. 물론, 당업자는 본 발명에 의해 제한받지 않고 단일 경우의 요구조건에 따라 이러한 관련 UV-A 및 UV-B 범위를 방출하는 방사선원을 선택할 수 있다. 추가 바람직한 실시예에서, 이러한 UV 방사선은 본 발명에 의해 가해진 어떤 제한에 구속되지 않고 당업자가 인식하는 바와 같이, 특정한 목적을 위해 가시광선 및/또는 IR (적외선) 파장 범위의 방사선과 조합할 수도 있다.
다시 말해서, 본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 추가 바람직한 실시예에서, 사용자의 신체를 태닝하기에 적합한 조사 장치(100)의 예로서, 일반적으로 저압(형광) 램프를 광/활성 방사선원(170)으로 사용할 수 있다. 또한, 중압 또는 고압(방전) 램프를 특정한 목적을 위해 추가로 (즉, 저압 램프와 조합하여), (본 발명의 또 다른 바람직한 실시예로서) 사용할 수 있다. 당업자에게 공지된 바와 같이, 본 발명의 장치(100)와 같은 태닝 장치에서, 가령, 사용자 신체의 특정 부분, 예컨대, 사용자의 얼굴을 태닝하기 위해, 고압 램프 (라디에이터)를 채용할 수 있다. 본 발명의 추가 바람직한 장치(100)에서, 태닝 광 파장의 적절한 방사선을 방출하는 LED는 단독으로 (즉, 대신에) 또는 다른 방사선 발광 광원(170), 가령 저압(형광) 램프 및/또는 중압 또는 고압(방전) 램프와 조합하여 사용할 수 있다. 본 발명의 장치(100)의 특히 바람직한 실시예에서, 광/활성 방사선 발광 광원(170)은 저압(형광) 램프 및/또는 고압(방전) 램프이고, 추가 광원/방사선원(310A 및 310B)은 LED와 저압 램프 및/또는 고압 램프와 LED의 조합 또는 LED 단독으로부터 선택된다. 당업자는 어떤 제한에 속박됨이 없이, 단일 경우의 요구조건에 근거하여 본 발명의 장치(100)의 적절한 광원/방사선원(170 및/또는 310A/310B), 및 이들의 조합을 선택할 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 장치(100)는 예를 들어, 태닝 광원의 태닝 효과를 향상시키고, 및/또는 콜라겐, 케라틴 또는 기타 생화학적으로 유익한 화합물의 합성을 자극하는 등의 여러 특정한 목적을 달성하기 위해 추가 램프/광원을 구비할 수 있다. 이러한 자극은 바람직하게는, 400㎚ (가시 파장) 내지 850㎚ (근적외선 파장)의 파장 범위 또는 그 일부 범위의 광/방사선을 사용자의 신체 또는 그 일부에 방출함으로써, (제한함이 없이) 개시될 수 있다. 특정 파장에서 가시광선/방사선을 방출하는 LED에 대한 비제한적인 예가 다음의 표 1에 나타나 있다.
적합한 LED 파장 범위/파장의 비제한적인 예
파장(범위) [㎚] 의도한 목적
545-550
(540)
광역학 요법 (photodynamic therapy, PDT)으로 PPIX (Protoporphyrin Ⅳ) 자극
585-590
(580)
광역학 요법 (PDT)으로 PPIX (Protoporphyrin Ⅳ) 자극
610-615
(613.5-623.5)
자극 파장 H2O 분자 (606㎚)와 시토크롬 C 산화효소의 하부 자극 파 장 (613.5㎚-623.5㎚) 사이의 "최적 절충" 파장 범위 (범위 1)
635-640 자극 파장 PPIX (PDT) (635㎚)와 시토크롬 C 산화효소의 상부 자극 파장 (613.5㎚-623.5㎚) 사이의 "최적 절충" 파장 범위 (범위 1)
670-675 시토크롬 C 산화효소 (667.5㎚-683.7㎚) (범위 2)
750-755 시토크롬 C 산화효소 (750.7㎚-772.3㎚) (범위 3)
830-835 시토크롬 C 산화효소 (812.5㎚-846.0㎚) (범위 4)
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 추가 바람직한 실시예에서, 장치(100)는 예를 들어 광원(170 및/또는 310A/310B)에서 방출되는 광의 효과를 개선하기 위한 추가 요소를 포함할 수 있다. 도 2a, 2b, 4 및 5를 참조하면, 본 발명에 따른 활성 방사선을 방출하는 광원(170 및/또는 310A/310B)이 셔터 및/또는 반사기 및/또는 필터 및/또는 기타 지향 수단 또는 이들의 조합을 구비할 수 있는 것 (본 발명이 그러한 실시예로 제한되지 않음)이 예시되어 있다. 본 발명의 틀에서, 표적은 바람직하게는, 피사체, 특히 인간이다. LED가 채용되는 경우, 가령 본 발명의 추가 방사선 발광 광원(310A 및 310B)의 경우에 본 발명의 특히 바람직한 실시예에서, 더 많은 수의 LED (예를 들어, 제한되지 않으나, 16개의 LED, 20개의 LED, 24개의 LED 또는 기타 바람직한 수의 LED)를 포함하는 LED 어레이, 및 반사체의 "어레이"가 제공될 수 있다. 본 기술 분야의 당업자에게 공지된 바와 같이, 각기 반사기를 구비하는 각각의 LED에서 방출되는 방사선은 표적에서 비교적 작은 영역에 (여기서는: 사용자의 신체 또는 그 일부에) 시준, 즉 집중되어 보내짐으로써, 그 효과를 향상시킬 수 있다. 본 발명의 특히 바람직한 실시예에서, 상기 LED에서 방출된 방사선을 시준하기 위한 목적으로 하나 이상의 반사기, 더욱 더 바람직하게는 LED 당 하나의 반사기가 추가 광/방사선원(310A, 310B)으로서 사용된다. 이는 도 4, 5, 6a 및 6b에 도시되어 있다. 마찬가지로, LED 이외의 광원과 피사체/사용자의 신체에 적절한 태닝 방사선 광원은 방출된 방사선을 원하는 표적, 즉 피사체의/사용자의 신체, 특히 그 일부, 보다 바람직하게는 종래 기술의 태닝 장치를 사용할 경우 충분한 태닝 방사선을 받지 못하는 그러한 부분에 시준 및/또는 집중시키기 위한 적절한 수단, 가령, 반사기를 구비할 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 추가 바람직한 실시예에서, 장치(100)는 광원(170) 및/또는 추가 광원(310a/310b)을 냉각시키는 수단을 포함할 수 있다. 본 기술 분야의 당업자에게 주지된 바와 같이, 광원(170) 및/또는 추가 광원(310a/310b)에서 방출되는 에너지의 상당 부분은 복사열의 형태로 방출된다. 특히 LED뿐만 아니라 고압 "방전" 램프는 일반적으로 이들이 고안된 UV 방사선, 가시광선 및/또는 IR 방사 파장에 추가하여 복사열을 방출한다. 방출된 열은 (조사될 피사체가 누워있거나 서있는) 방사선 터널의 공기 용적 또는 조사 장치(100)의 적어도 한 부분, 예를 들어 (제한되지는 않으나), 조사될 피사체/사용자가 누워있는 광투과성 보호층을 따뜻하게 하는데 유용하게 사용할 수 있다. 한편, 광원 램프의 기능을 저하시키지 않고 광원 램프의 사용 수명을 단축시키지 않기 위해서, 광원에서 방출되는 열은 소산되어야 하는 점을 고려해야 한다. 광원에서 발생 및 방출되는 열을 소산시키는 것은 종래 기술로부터 당업자에게 공지된 수단에 의해 달성할 수 있으며, 이 점에 있어서 본 발명에서는 당업자에게 어떤 제한도 가하지 않는다. 따라서, 당업자는 단일 경우의 상황에 따라서 적절한 냉각 수단을 선택할 수 있다.
본 발명의 방사선원(170)의 램프를 위한, 즉 반원통 형상 제 1 표면(120)의 위/뒤에 수용되어 피사체의/사용자의 얼굴과 배에 방사선을 방출하는 것들 것 위한, 및 제 2 표면(140)의 아래/뒤 (반원통 형상 제 2 표면(141)의 아래/뒤 또는 실질적으로 평탄한 제 2 표면(142)의 아래/뒤)에 수용된 것들을 위한 냉각 수단은, 그들의 수용 및 작동 방식에 대한 이용 가능한 공간과 관련된 아무런 제한 없이 선택할 수 있다. 따라서, 이러한 냉각 수단은 냉각을 위해 방사선원에 대해 공기를 송풍하는 일반적인 팬이거나, 과도한 열을 발산하기 위해 (액체 냉각 유체를 포함한) 냉각 유체를 사용하는 일반적인 냉각 재킷일 수 있다. 그러나, 이러한 일반적인 냉각 수단은 하나의 대안으로 제안된 바와 같이, 방사선원을 수용하기 위한 공간이 이미 제한되어 있는 경우, 가령, 다수의 LED 어레이를 사용함으로써, 냉각 수단을 (추가로) 수용하기 위한 공간을 상당히 제한하는 경우에는 사용할 수 없다. 따라서, 본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현할 수 있는 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 장치(100)는 광원의 램프에서 발생/방출되는 열을 발산하기 위한 것으로 어떤 유리한 가열 목적을 위해서는 필요치 않은 냉각 수단으로서, 제한/폐쇄 공간 냉각 시스템(500)을 포함할 수 있다. 본 발명에 따라 더욱 더 바람직하고, 선택적으로 본 발명의 한가지, 두가지, 몇가지 또는 모든 다른 특징과 함께 또는 별도로 실현되는 실시예에서, 본 발명의 장치(100)는 피사체/사용자의 두피(207) 및 어깨(210)를 향해 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)을 냉각(및 그로부터 발생한 열을 소산)시킬 목표 및 목적을 갖는 제한된 공간 조명기구 냉각 시스템(500)을 포함할 수 있다. 이러한 맥락에서, 본 명세서 및 청구범위에서, "좁은 공간" 또는 "제한된 공간" 또는 "폐쇄된 공간"이란 용어는 상호 교환적으로 또는 동의어로 사용되며, 냉각할 장치 또는 그의 구성요소에 의해 가해진 요구조건으로 인해, 냉각 작용에 영향을 주는 냉각 시스템과 함께 냉각될 구성요소를 수용하기 위해, 부족하여 좁거나, 제한되거나 폐쇄된 공간만 이용 가능하다는 의미를 갖는다. 냉각할 구성요소 또는 장치에 매우 근접하게 전체 냉각 장치를 수용하기 위한 공간이 부족하므로, 냉각 시스템은 열이 생성되는 곳에서 열을 흡수하는 열 흡수 구성요소와 열 발생 영역에서 떨어진 거리에서 열을 방출하는 열 소산 구성요소로 분할되고, 열 전달을 위해 추가 에너지의 소비를 필요로 하지 않으며, 열은 열 발생 영역에서 열 소산 영역으로 효율적으로 "전달"된다.
본 명세서 및 청구범위에서, "근위" 및 "원위"라는 용어는 본 발명과 함께 사용하는 제한 공간 냉각 시스템(500)에 대해, 일측의 냉각될 구성요소 (및 냉각될 구성요소(들)에 매우 근접하게 수용된 열 인터페이스(510))와 타측의 히트 파이프 배열의 나머지 구성요소 간에 짧은 ("근위") 거리 및 긴 ("원위") 거리를 나타내는데 사용하는 용어이다.
본 발명의 방사능 인가 장치(100)의 요소로서, 및 그와 조합하여 사용할 수 있는 일반적인 제한/폐쇄 공간 냉각 시스템은 2018년 7월 19일 유럽 특허청에 출원되고 "제한 공간 냉각 시스템 및 그 용도"라는 제목을 가진 유럽 특허 출원 18 18 45 13.2에 개시되어 있으며, 이는 참조로서 인용하고 도 7a에 예시적으로 도시되어 있다.
본 발명의 장치(100)에서 하나의 제한 공간 냉각 시스템으로, 또는 하나 이상의 (즉, 다수 또는 3개나 그 이상의) 제한 공간 냉각 시스템(들)으로서 사용할 수 있고, 하나의 제한 공간 냉각 시스템(500)으로서 도 7a에 도시된 이러한 제한 공간 냉각 시스템(500)은 그의 주요 구성요서로서,
- 하나 이상의 열 인터페이스(510)에 밀접하게 인접한 열-방출 기구로부터의 열을 흡수하는 하나 이상의 열 인터페이스(510);
- 이 열 인터페이스(510)에 근접한 히트 파이프의 단부(521)로부터 열 인터페이스(510)에서 먼 위치에 있는 히트 파이프의 단부(522)로 열을 전달하는 하나 이상의 히트 파이프(520);
- 히트 파이프 원위 단부(522)에서 방출된 열을 소산시키는 하나 이상의 열교환기(530) 또는 히트 싱크(530); 및
- 선택적으로 열-흡수 매체(550)가 열교환기(530)로부터의 잠열을 흡수하고 주변 환경으로 소산시키는 하나 이상의 열 소산 수단(540)을 포함할 수 있다.
본 발명의 제안에 따라, 제한 공간 냉각 시스템(500)의 상기 주요 구성요소는, 각각의 구성요소 중 적어도 하나로서 제한 공간 냉각 시스템(500)의 일부일 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 1개, 2개 또는 모든 구성요소는 이들 중 2개, 3개 또는 그 이상으로서 제한 공간 냉각 시스템(500)의 일부일 수 있다. 전술한 본 발명에 대한 대안으로서, 구성요소 중 하나 (가령, 제한없이, 열 인터페이스(510)는 하나의 열 인터페이스(510)로 존재할 수 있는 반면, 다른 구성요소 중 하나 (또는 제한 공간 냉각 시스템(500)의 2개 또는 모든 다른 구성요소)는 이들 중 2개 또는 3개, 가령, 2개, 3개 또는 4개의 히트 파이프(520) 및 1개, 2개 또는 3개의 열교환기(530) 및 1개 (또는 2개의) 열 소산 수단(540)으로서 존재할 수 있다. 당업자는 단일 경우의 조건 및 상황과 요구조건에 따라 본 발명의 제한 공간 냉각 시스템(500)의 각 구성요소의 수를 선택하고 변경할 수 있다.
도 7a에 도시된 제한 공간 냉각 시스템(500)의 열 인터페이스(510)는, 하나 이상의 열 인터페이스(510)가 제공된 매우 근접한 곳으로 임의의 열 방출 장치로부터의 열을 흡수하는 한, 어떤 방식으로든 제한되지 않는다. 본 설명 및 청구범위에 있는 장치(100)의 맥락에서, "매우 근접하게(close proximity)"란 열 발생 장치(310A, 310B), 즉 추가 방사선원(310A, 310B)과 도 7a에 도시된 제한 공간 냉각 시스템(500)의 열 인터페이스(510) 간의 최적화된 열 전도를 위해, 접합 표면은 서로 밀접하게 접촉할 필요가 있음을 의미하는 것으로 이해하면 된다. 이것은 각각의 표면이 높은 열전도 계수를 갖는 재료, 바람직하게는 금속 재료로 제조되어야 하고, 이 재료는 이상적으로는, 정밀하게 마감 처리되어야 하며, 서로 평탄하거나 동일한 평면이어야 하는 것을 필요로 한다. 거칠기와 물결 모양의 표면 차이가 있는 경우, 적절한 인터페이스 재료 및/또는 열 전도 패드나 열 전도 페이스트를 사용하여 밀착 정합을 달성하는 하는 것을 권장할만 하다. 따라서, 본 발명의 바람직한 실시예에서, 그리고 도 7a에 도시된 바와 같이, 높은 열전도율 값을 갖는 재료, 특히 예를 들어 알루미늄, 구리, 스틸 및 이들의 합금, 가령, 스틸 시트 등의 금속 재료 같은 적합한 재료로 제조된 열 인터페이스(510)는 열을 흡수하게 될 방열기구에 맞게 조정된 평판이다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 추가 바람직한 실시예에서, 제한 공간(광기구) 냉각 시스템의 하나 이상의 열 인터페이스(510)는, 이들의 특징적인 에너지 방출 스펙트럼으로 인해 열을 방출하는 조명기구용 고정구의 하나 이상의 받침판(321)이다. 하나 이상의 열 인터페이스(510)가 LED 어레이용 고정구의 하나 이상의 받침판(321)인 것이 더욱 더 바람직하다. LED 어레이는 고정구에 다수의 LED를 수용하는 것으로 공지되어 있으며, 여기서 LED는 서로 매우 근접하고 일반적으로 하나 이상의 비교적 좁은 파장 대역의 광을 방출하지 않을 뿐만 아니라, (작동 모드에 따라서) 상당한 양의 열을 방출한다. 어레이에 LED가 인접하게 장착되므로, 충분한 냉각을 위해 냉각 시스템을 제공하기 위한 공간이 제한/폐쇄된다. LED 어레이 고정구의 받침판이 하나 이상의 열 인터페이스(510)로서 사용되는 경우, LED의 작동으로 발생하는 열은 LED 어레이에서 소산됨으로써, LED의 작동을 향상시키고 LED의 내구성, 설치 수명 및 작동 수명을 크게 연장시킬 수 있다.
도 7a에 도시된 바와 같이, 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 제한 공간 냉각 시스템(500)의 제 2 구성요소는 하나 이상의 히트 파이프(520)이다. 하나 이상의 히트 파이프(520)는 1개, 2개, 3개 또는 그 이상이며, 히트 파이프(520)는, 하나 이상의 히트 파이프(520)를 통해, 하나 이상의 열 인터페이스(510)로부터 하나 이상의 열교환기(530)까지, 즉 임의의 열 방출기구로부터의 열을 흡수하는, 열 인터페이스(510)에 근접한 히트 파이프의 단부(521)로부터, 예를 들어 LED 어레이로서의 조명기구로부터 열 인터페이스(510)에서 먼 히트 파이프 단부(522)까지, 하나 이상의 히트 파이프의 내부 용적에 밀폐된 유체의 작용에 의해서, 열을 전달한다. 열이 전달되면, 하나 이상의 열 인터페이스(510)로부터 열 인터페이스(510) (즉, 히트 파이프의 인접 단부(521))에 근접한 히트 파이프의 단부(521)에서, 액상의 유체는 상 전이가 이루어져 증기가 되며, 유체의 상기 증기는 하나 이상의 열 인터페이스(510)로부터 흡수한 열을 유도하는 동안 생성된다. 상기 증기는 하나 이상의 히트 파이프(520) 내에서 적어도 열 인터페이스(510)에서 먼 "쿨러" 히트 파이프 단부까지, 즉 히트 파이프 원위 단부(522)까지, (비록 그러한 운동이 중력의 방향과 반대일 수 있더라도, 하나 이상의 히트 파이프(520) 내에서 온도 차이(ΔT)와 관련하여) "아래로" 이동한다. 히트 파이프 원위 단부(522)에서, 하나 이상의 열교환기(530)로의 히트 파이프 원위 단부(522)에서의 잠열 방출 하에, 기상에서 액상으로, 즉, 증기가 유체의 액상으로 다시 응축됨으로써, 유체의 상 전이가 이루어진다. 응축된 액상 유체는 적어도 열 인터페이스(510)에 근접한 "가열된" 히트 파이프 단부, 즉 또 다른 열 전달 사이클을 위한 히트 파이프 근위 단부(521)까지, (비록 그러한 운동이 중력의 방향과 같을 수 있더라도, 하나 이상의 히트 파이프(520) 내에서 온도 차이(ΔT)와 관련하여) "위로" 히트 파이프 근위 단부(521)로 되돌아간다.
다시 말해서, 하나 이상의 히트 파이프의 내부 용적 내에서, 기상도 아니고 액상도 아닌 유체의 운동은 열 부하의 인가된 온도 차이(ΔT)로 인한 이동을 제외하고는, 외부 동력을 필요로 하지 않는다. 더욱 더 바람직한 실시예에서, 하나 이상의 히트 파이프의 내부 용적 내에서 유체의 운동은 모세관 작용, 원심력과 중력 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 힘에 의해 이루어진다. 이것은 하나 이상의 히트 파이프(520)의 내부 용적의 적절한 구성에 의해, 가령 히트 파이프의 밀폐된 금속 외피 내부에 도포된 다공성 모세관 라이닝에 의해 지원을 받으며, 하나의 (비제한적인) 예만 나타내었다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 유리하고, 따라서, 바람직한 실시예에서, 하나 이상의 히트 파이프의 내부 용적에 밀폐된 유체는 특정 히트 파이프 작동 온도에 필요한 온도 범위에서 우수한 열 흡수 특성을 갖는 유체들의 군에서 선택되며, 바람직하게는, 물, 암모니아, 메탄올, 에탄올 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다. 하나 이상의 히트 파이프(520)의 내부 용적을 채우는 유체는 본 발명에서 제한되지 않으며, 요구조건에 따라서 그리고, 열량이 소산되는 온도 범위 내에 있고, 온도 범위는 하나 이상의 히트 파이프(520)의 내부 용적 내에서 유체의 증발 또는 응축 온도와 일치해야 하는 특정한 경우에 관찰되는 결정요인에 따라서, 당업자가 선택할 수 있다. 본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현되고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 추가 바람직한 예시적인 실시예에서, 제한 공간 냉각 시스템(500)은 2개 이상의 히트 파이프, 가령 2개, 3개, 4개, 5개 또는 6개의 히트 파이프(520)를 포함한다. 본 발명을 이 실시예로 제한하지 않는 특히 바람직한 수는 도 7b 및 7c에도 도시된 바와 같이, 하나의 열 인터페이스(510) 및 하나의 열교환기(530) 당 2개의 히트 파이프(520)이다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 유리하고, 따라서, 바람직한 실시예에서, 하나 이상의 히트 파이프(520) 또는 2개 이상의 히트 파이프(520)의 형상은 동일하거나 상이하다. 보다 바람직한 실시예에서, 2개 이상의 히트 파이프(520)의 형상은 직선이거나, 2개 이상의 히트 파이프(520)의 형상은 만곡되어 있거나, 2개 이상의 히트 파이프(520)의 형상은 직선과 만곡 형상이 조합된 히트 파이프 부분이다.
히트 파이프(520)의 형상과 관련하여, 본 발명은 요구조건에 따라 그리고 특정한 경우에 관찰되는 결정요인에 따라 히트 파이프(520)의 형상을 선택하는 경우, 당업자에게 어떤 제한도 가하지 않는다. 결정요인 중 하나는 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 좁은 공간 냉각 시스템(500)에서 이용 가능한 공간일 수 있다. 마찬가지로, (히트 파이프(들)(520)이 열 인터페이스(510)로부터 나오는) 그의/그들의 근위 단부(521)로부터 (히트 파이프가(들)(520)이 열교환기(530)로 들어가는) 그의/그들의 원위 단부까지의 히트 파이프 또는 히트 파이프들(520)의 길이와 관련하여, 본 발명은 요구조건에 따라 그리고 특정한 경우에 관찰되는 결정요인에 따라 히트 파이프(530)의 길이를 선택하는 경우, 당업자에게 어떤 제한도 가하지 않는다. 결정요인 중 하나는 본 발명의 제한 공간 냉각 시스템(500)에서 이용 가능한 공간일 수 있다. 비제한적인 예로서, 히트 파이프의 길이는 5 내지 30㎝의 범위, 바람직하게는 10 내지 20㎝의 범위일 수 있지만, 히트 파이프(들) (520)의 길이는 상기 범위의 위 또는 아래의 값을 가질 수 있다. 또한, (특정한 경우의 요구조건에 따라서 히트 파이프 길이를 선택하는데 더 나은 유연성을 당업자에게 제공하는) 본 발명의 특정 실시예에서, 히트 파이프의 길이들은 사용할 하나 이상의 히트 파이프(520)를 선택하는 경우에, 상이할 수 있다.
도 7a에 예시적으로 도시된 제한 공간 냉각 시스템(500)의 필수 구성요소 중 또 다른 하나로서, 제한 공간 냉각 시스템(500)은 하나 이상의 열교환기(530) 또는 히트 싱크(530)를 포함한다. 하나 이상의 열교환기(530)는 1개, 2개, 3개 또는 그 이상이며, 열교환기(530) 또는 히트 싱크(530)는 히트 파이프 원위 단부(522)에서 응축 증기에 의해 방출되는 잠열을 소산시킨다. 본 발명의 맥락에서, 열교환기 또는 히트 싱크(들)(530)에 대해 당업자에게 가해지는 제한은 없으며, 본 발명의 좁은 공간 냉각 시스템(500)에 사용되는 열교환기 또는 히트 싱크(530)가 히트 파이프 원위 단부(522)에서 응축 증기에 의해 방출된 잠열을 소산시키는 한, 열을 소산시키는 일반적인 특성을 갖는 임의의 공지된 열교환기 또는 히트 싱크(들) (530)을 사용할 수 있다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 제한 공간 냉각 시스템(500)은 열 교환 표면을 증가시키는 냉각 핀(531)을 포함하는 하나 이상의 열교환기 또는 히트 싱크(530)를 포함한다. 유리하게는, 냉각 핀(531)은 열교환기(530)의 열교환 효율을 향상시키는데 기여하고, 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 제한 공간 냉각 시스템(500)에 의한 주변 환경으로의 열 소산이 보다 효율적으로 이루어질 수 있다.
도 7a에 도시된 본 발명에 따르면, 제한 공간 냉각 시스템(500)은 추가의 선택적 구성요소로서 열교환기 또는 히트 싱크(530)를 통해서 하나 이상의 히트 파이프(520)로부터 방출된 열을 소산하기에 특히 적합한 하나 이상의 열 소산 수단(540)을 포함할 수 있다. 하나 이상의 열 소산 수단(540)은 특히 1개, 2개 또는 3개까지이며, 열 소산 수단은 열 흡수 매체(550)로 하여금 1개, 2개, 3개, 또는 그 이상의 열교환기(들) 또는 히트 싱크(들) (530)로부터의 잠열을 흡수하고 제한 공간 냉각 시스템(500)의 주변 환경으로, 예를 들어, 본 발명의 제한 공간 냉각 시스템(500)을 둘러싼 공기 공간으로 소산시키도록 한다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 구현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 추가 바람직한 실시예에서, 제한 공간 냉각 시스템(500)은 예를 들어, 도 7a에 도시된 바와 같이, 다수의 열교환 표면을 따라 열-흡수 매체(550)로서 주변 공기를 주변 가스 공간 내로 송풍하는 팬(540)을 포함하는 하나 이상의 열 소산 수단(540)을 포함한다. 열교환기의 냉각 핀(531)을 따라 공기(550)를 송풍하는 팬(540)을 제공함으로써, 냉각될 제한된 공간에서 냉각 작용을 효과적으로 달성할 수 있다.
본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 바람직한 실시예에 따른 또 다른 예로서, 하나 이상의 열교환기(530)는 하나 이상의 열교환기를 따라 냉각 유체를 통과할 수 있게 함으로써, 열-소산 매체(550)로서의 냉각 유체로 하여금 열교환기(530)를 통해 그리고 그를 따라 흐르고 열-발생 장치(10)에서 발생한 열의 효율적인 소산에 영향을 주도록 하는 냉각 재킷을 포함할 수 있다.
도 7b, 7c 및 7d는 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 제한 공간 냉각 시스템(500)의 다른 실시예를 도시한다. 도 7b, 7c 와 7d 및, 특히 도 7d의 분해도에 도시된 바와 같이, 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 좁은 공간 냉각 시스템(500)은:
- 하나 이상의 파장을 갖는 광을 방출하고 그의 작동에 의해 발생한 열을 추가로 방출하는 하나 이상의 광원(310A, 310B)을 포함하는, 피사체에 지향성 활성 방사선을 인가하는 (발열) 장치(10)의 일부로서, 하나 이상의 광원 어레이(320)를 포함하고;
- 상기 냉각 시스템(500)은: 하나 이상의 열 인터페이스(510)에 밀접하게 인접한 상기 열 방출 광원 어레이(320)로부터 열을 흡수하고, 하나 이상의 열 인터페이스(510)는 본 발명의 추가 바람직한 실시예에서, LED 어레이(320)용 고정구의 하나 이상의 받침판일 수 있는 하나 이상의 열 인터페이스(510);
- 하나 이상의 광원 어레이에서 발생한 열을, 열 인터페이스(510)에 근접한 히트 파이프의 단부(521)로부터, 히트 파이프 근위 단부(521)에서 히트 파이프의 내부 용적에 밀폐된 유체의 액체로부터 기상으로의 상 전이, 및 히트 파이프 원위 단부(522)까지의 상기 증기의 운동에 의해서, 열 인터페이스(510)에서 먼 히트 파이프의 단부(522)까지 전달하는 것으로, 이때 증기에서 액상으로의 유체의 상 전이는 히트 파이프 원위 단부(522)에서 잠열 방출 하에 증기를 액상으로 다시 응축시키고, 응축된 액상 유체를 히트 파이프 근위 단부(521)로 되돌림으로써 이루어지는 하나 이상의 히트 파이프(520);
- 히트 파이프 원위 단부(522)에서 응축 증기에 의해 방출된 잠열을 소산시키는 하나 이상의 열교환기(530) 또는 히트 싱크(530); 및
- 선택적으로 열 흡수 매체(550)로 하여금 열교환기(530)로부터의 잠열을 흡수하고 주변 환경으로 소산시키는 하나 이상의 열 소산 수단(540)을 더 포함한다
본 발명의 추가 바람직한 실시예에서, 본 발명에서 제공하는 제한 공간 냉각 시스템(500)은 하나 이상의 열 소산 수단(540), 바람직하게는 팬(540)이 열교환기(530)로부터 흡수된 열을 주변 환경으로 불어 내는 하나 이상의 벤트(560), 보다 바람직하게는 2개 이상의 벤트(560), 예를 들어 (그리고 도 4에 도시된 바와 같이) 2개의 벤트(560)도 포함한다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 추가 바람직한 실시예에서, 특히 도 7d에 분해도로서 도시된 좁은 공간 조명기구 냉각 시스템(500)은 조명기구로서, 바람직하게는 LED 어레이(320)의 형태인 LED 기구를 포함한다. 도 7d에 도시된 바와 같이, LED 어레이(320)는 하나 이상의 파장을 갖는 광을 방출하는 하나 이상의 추가 광원(310A, 310B)으로서, 하나 이상의 LED(322), 또는 다수의 LED(322)를 포함한다. 하나 이상의 LED(322), 또는 다수의 LED(322)는 그의 작동에 의해 발생하는 열을 추가로 방출한다. 당업자에게 공지된 바와 같이, LED 기구 또는 LED 어레이(320)는 하나 이상의 반사기(332), 바람직하게는 다수의 반사기(332)를 포함하는 반사기 어레이(330)와 협력할 수 있다. 하나 이상의 반사기(332), 또는 LED 어레이(320)와 관련될 수 있는 다수의 반사기(332)는 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED(322)에서 방출된 광을 조사될 피사체 또는 사람으로 예시한 표적에 시준하는 기능을 갖는다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 추가 바람직한 실시예에서, 특히 도 7d에 분해도로서 도시된 제한된 공간 조명기구 냉각 시스템(500)은 형광 커버링(340)을 더 포함한다. 상기 형광 커버링(340)은 바람직하게는, 다수의 링(342)을 포함하는 대응하는 반사기(332)의 원형 개구의 경우, 형광 영역(342)으로서 하나 이상의 형광 영역(342)을 포함하고, 상기 다수의 형광 영역 또는 링(342)은 더욱 더 바람직하게는, 반사기 어레이(330)의 다수의 반사기(332)에 대응하고, 하나 이상의 반사기(332)의 전면 가장자리, 바람직하게는, 반사기 어레이(330)의 각 반사기(332)의 전면 가장자리를 덮는다. 이러한 다수의 형광 영역(342)은 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED(322)에서 방출된 광에 의해 여기될 수 있는 염료 재료 (가령, 그에 혼합되어 함유되거나 합금되어 함유됨)를 구비한 재료 (가령, 중합체)로 구성되거나, 또는 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED(322)에서 방출된 광에 의해 여기될 수 있는 염료로 코팅되어, 가시 파장 범위의 형광을 방출하도록 한다. 후자의 특징은 LED/LED(322)에서 방출된 광 자체가 비-가시파장 범위의 파장을 갖는 (가령, UV 광을 방출하는 LED(322) 또는 다수의 LED(322)인) 경우에도, LED 및 반사기 어레이를 보는 사람이 다수의 LED(322)를 갖는 LED 어레이(320)가 작동하고 있음을 인식할 수 있게 하며, 따라서, 보는 사람은 알아차릴 수 없다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 본 발명의 장치(100)에서 사용할 수 있는 제한된 공간 조명기구 냉각 시스템(500)의 다수의 추가 바람직한 실시예에서, 특히 도 7d에 분해도로서 도시된 제한된 공간 조명기구 냉각 시스템(500)은 하나의 특징이 단독으로 또는 2개의 특징이 함께 또는 모든 특징이 함께 제 1 실시예의 일반적인 제한 공간 냉각 시스템과 관련해서 상세하게 전술한 특징들이며, 이는 위에서 상세하게 설명하였고, 따라서, 여기서는 2차의 상세한 설명이 필요치 않은 추가적인 특징을 특징으로 할 수 있다. 또한, 이들의 추가 경우 및 이들의 경우에, 상기 제한된 공간 조명기구 냉각 시스템(500)의 바람직한 실시예는 위에서 상세하게 설명하였다.
다시 말해서, 피사체/사용자(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하기 위한 방사선 조사 장치(100)에 관한 본 발명은, 열이 있거나, 또는 생성될 수 있고, 제한된/폐쇄된 공간만 고효율 냉각 시스템을 수용하는데 이용할 수 있는 부위에 냉각을 제공하기 위해 상세하게 전술한 제한 공간 냉각 시스템(500)의 용도도 포함한다.
마찬가지로, 피사체/사용자(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)에 관한 본 발명은 조명기구(320)의 광원(322), 바람직하게는, 동시에 또는 순차적으로 작동되는 다수의 LED(322)를 포함하는 LED 기구(320); 특히 의료적 치료나 질병 예방 목적 또는 미용이나 웰빙 목적을 위해 인체 또는 그의 일부를 조사하는 장치(100)의 LED 어레이의 하나 이상의 LED(들)을 포함하는 광원을 냉각하기 위한 것으로, 상세하게 전술한 바와 같은 제한된 공간 조명기구 냉각 시스템(500)의 용도도 포함한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 또한 전술한 방사선 조사 장치(100)를 작동시키는 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 피사체(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)를 작동시키는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은
- 위에서 상세하게 설명 및/또는 언급한 장치(100)를 제공하는 단계; 및
- 장치의 추가 활성 방사선 발광 광원(310A, 310B) 중 적어도 하나를 작동시켜, 이들 중 적어도 하나가 장치(100)의 종축(A-A)과 예각을 이루는 방향으로 상기 장치(100) 상에 또는 그 안에 수용되는 피사체(200)를 향해 지향성 활성 방사선을 방출할 수 있게 하는 단계를 포함한다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 본 발명의 방법의 추가 바람직한 실시예에서, 상기 장치(100)의 작동은 인간인 피사체에 대해 이루어진다.
본 발명의 한가지, 두가지 또는 모든 다른 특징으로 실현될 수 있고 본 발명을 제한하는 것으로 해석해서는 안 되는 본 발명의 장치(100)와 함께 사용할 수 있는 방법의 다른 추가 바람직한 실시예에서, 하나 이상, 바람직하게는 다수의 장치의 추가 활성 방사선 발광 광원(310A, 310B)의 작동은 장치(100)의 종축(A-A)과 일정 각도를 이루는 방향으로 상기 추가 광원에서 방출된 방사선을 8 내지 50도(˚)의 범위로 보냄으로써 이루어진다. 더욱 더 바람직하게는, 방사선을 15 내지 45도의 각도로 피사체/사용자(200)에게 보냄으로써, 피사체/사용자 신체의 이들 영역에는, 그러한 방사선에 의해서 일반적으로 표적화되지 않는 원하는 활성 방사선이 고효율로 제공될 수 있다. 따라서, 원하는 미용 또는 웰빙 효과를 달성할 수 있으며, 예를 들어 피사체의/사용자의 두피와 어깨를 태닝하는 것은 사용자의 전신 태닝과 동일한 방식으로 이루어질 수 있다.
본 발명은 추가 광원(310A, 310B)이, 상기 추가 광원(310A, 310B)에서 방출된 방사선 광을 시준하는 하나 이상의 반사기(332) 또는 다수의 반사기(332)를 갖는 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED(322)를 포함하는 것으로 구현된 장치(100)에 관한 바람직한 실시예에 대해서 전술하였다. 또한, 상부 광원(170u) 및/또는 하부 광원(170I)은 추가 광원에 대해 전술한 바와 같이 상기 광원(170u, 170l)에서 방출된 방사선을 시준하는 하나 이상의 반사기 또는 다수의 반사기를 갖는 하나 이상의 LED 또는 다수의 LED를 포함하는 추가 광원의 구성과 함께 또는 독립적일 수 있음을 이해해야 한다.
본 발명은 LED 또는 다수의 LED로 구현된 추가 광원(310A, 310B)에 할당된 하나 이상의 히트 파이프를 포함하는 좁은 공간 조명기구 냉각 시스템(500)과 관련된 바람직한 실시예에 대해 전술하였다. 또한, 상부 광원(170u) 및/또는 하부 광원(170l)은 상기 하나 이상의 상기 상부 광원(170u) 및/또는 상기 하부 광원(170l)에 할당된 하나 이상의 히트 파이프를 포함하는 유사한 좁은 공간 조명기구 냉각 시스템을 포함하는 추가 광원의 구성과 함께 또는 독립적일 수 있음을 이해해야 한다.
본 발명은 가시 파장 범위의 형광 광을 방출하는 형광 영역(342)을 갖도록 상기 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED(322)에서 방출되는 비가시광선에 의해 여기될 수 있는 하나 이상의 형광 영역(342)을 포함하는 형광 커버링(340)을 구비하는 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED(322)를 포함하는 추가 광원(310A, 310B)과 관련된 바람직한 실시예에 대해서 전술하였다. 또한, 상부 광원(170u) 및/또는 하부 광원(170l)은 가시 파장 범위의 형광 광을 방출하는 형광 영역을 갖도록 상부 광원(170u) 및/또는 하부 광원(170l)의 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED에서 방출되는 비가시광선에 의해 여기될 수 있는 하나 이상의 형광 영역을 포함하는 그러한 형광 커버링을 구비하는 추가 광원의 구성과 함께 또는 독립적일 수 있음을 이해해야 한다.
본 발명은 그의 개략적인 측면과 함께 그의 바람직한 측면에 대해서 전술하였다. 그러나, 본 발명은 바람직한 것으로서 상세하게 전술한 실시예 및 따라서, 예시적인 실시예로 제한되지 않는다. 본 발명의 범위는 첨부한 청구범위에 의해 결정되어야 한다.
100: 지향성 활성 방사선 인가 장치
110: 노출 터널
111: 노출 터널의 머리쪽 종방향 단부
112: 노출 터널의 발측 종방향 단부
120: 반원통 형상의 제 1 표면
130: 내부 공간
140: 제 2 표면
141: 반원통 형상 제 2 표면
142: 실질적으로 평탄한 (제 2) 표면
143: 추가 아치형 또는 실질적으로 평탄한 표면
150, 160: 외부 공간
170: 광원
170u/170I: 상부 광원/하부 광원
180, 190: 섀시의 제 1 (위)/제 2(아래) 부분
182, 192: 제 1/2 섀시 부분(180,190)에 전력을 공급하는 수단
183, 193: 가열/냉각 수단
184, 194: 처리 장치를 포함한 장치 작동 수단
200: 피사체/사용자
205: 사용자의 머리
207: 사용자의 두피
210: 사용자의 어깨(들)
215: 사용자의 팔(들)
220: 사용자의 다리(들)
300: 추가 방사선원을 수용하는 추가 외부 공간
310A, B: 추가 방사선원
320: 광원 어레이/LED 어레이
321: 고정구의 광원 어레이 (LED 어레이) 받침판
322: LED/다수 LED
330: 광원/LED 어레이에 해당하는 반사기 어레이
332: 반사기
340: 형광 커버링
342: 형광 영역
500: 좁은 공간(조명기구) 냉각 시스템
510: 열 인터페이스
520: 히트 파이프
521: 히트 파이프 근위 단부
522: 히트 파이프 원위 단부
530: 열교환기
540: 열 소산 수단/팬/냉각 재킷
550: 열 흡수 매체
560: 벤트
A: 장치(100)의 종축

Claims (15)

  1. 피사체(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)로서,
    - 상기 활성 방사선에 노출될 상기 피사체(200)를 둘러싸는 노출 터널(110)을 포함하고, 상기 노출 터널(110)은 피사체(200)에 인가될 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 재료로 제조된 하나의 반원통 형상 제 1 표면(120), 및 피사체(200)에 인가될 상기 활성 방사선에 대해 실질적으로 투과성인 상기 재료로 제조된 하나 이상의 제 2 표면(140)으로 형성되고, 상기 하나 이상의 제 2 표면(140)은 상기 노출 터널(110)을 형성할 때에 제 1 표면(120)을 보완하고;
    - 상기 노출 터널(110)의 표면(120, 140)은 상기 피사체(200)가 상기 활성 방사선에 노출되는 내부 공간(130)을, 상기 표면(120, 140)을 통해 활성 방사선을 방출하는 다수의 방사선원(170)이 장착되는 외부 공간(150, 160)으로부터 분리하고;
    - 상기 외부 공간(150, 160)은 장치(100)의 섀시(180, 190)의 적어도 제 1 및 제 2 부분에 수용되고,
    상기 다수의 방사선원(170)을 고정시켜 유지하고, 전기적 및 전자적으로 작동시키는 수단;
    섀시(180, 190)의 상기 적어도 제 1 및 제 2 부분에 전력을 공급하는 수단(182, 192);
    장치(100)를 환기, 가열 및/또는 냉각하는 수단(183, 193); 및
    처리 장치를 포함해, 장치(100)를 작동하기 위한 수단(184, 194)을 포함하고,
    - 장치(100)의 섀시(180, 190)의 상기 제 1 및 제 2 부분은 힌지 결합되어 서로에게서 멀어지거나 서로를 향해 이동함으로써, 장치(100)의 외형을 형성할 때에 서로 보완하고;
    상기 장치(100)는 상기 내부 공간(130)으로부터 분리되고 노출 터널(110)의 종방향 단부(111, 112) 중 일단 또는 양단에 위치되는 하나 이상의 추가 외부 공간(300)을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 추가 외부 공간(300)은 장치(100)의 종축(A-A)과 바람직하게 예각을 이루는 방향으로 피사체(200)를 향해 방사선을 방출하는 다수의 추가 방사선원(310A, 310B)을 수용하고,
    방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나는 하나 이상의 반사기(320) 또는 다수의 반사기(320)를 포함하는 장치(100)에 있어서,
    방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나는 LED(322) 또는 다수의 LED(322)를 포함하고,
    하나 이상의 반사기(320) 또는 다수의 반사기(320)는 상기 하나 이상의 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B)에서 방출된 방사선을 시준하는 것을 특징으로 하는 장치(100).
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 장치(100)는 상기 활성 방사선에 노출될 인간을 조사하는 장치(100).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 노출 터널(110)은 수평으로 배열되는 종축(A-A)을 갖거나, 상기 노출 터널(110)은 수직으로 배열되는 종축(A-A)을 갖는 장치(100).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노출 터널(110)은 상기 하나의 반원통 형상 표면(120) 및 하나 이상의 실질적으로 평탄한 표면(142)으로 형성되거나, 또는 상기 노출 터널(110)은 하나의 반원통 형상 표면(120) 및 제 2 반원통 형상 표면(141)으로 형성되는 장치(100).
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 추가 외부 공간(300)은 노출 터널(110)의 머리쪽 종방향 단부(111)에 배치된 하나의 추가 외부 공간(300)인 장치(100).
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 하나 이상의 추가 외부 공간(300)은 피사체의 두피(207) 및 어깨(210)를 향해 방사선을 방출하는 다수의 LED(322)를 수용하는 장치(100).
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치(100)는 상기 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나를 냉각시키는 하나 이상의 냉각 수단을 더 포함하고; 바람직하게는, 상기 장치(100)는 상기 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나를 위한 하나 이상의 좁은 공간 냉각 시스템(500)을 더 포함하고; 더 바람직하게는, 상기 장치는 상기 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나를 위한 하나 이상의 좁은 공간 조명기구 냉각 시스템(500)을 더 포함하는 장치(100).
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치(100)는 상기 방사선원(170) 및/또는 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나를 냉각하는 히트 파이프(520)를 포함하는 하나 이상의 좁은 공간 조명기구 냉각 시스템(500)을 더 포함하는 장치(100).
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치(100)는 하나 이상의 형광 영역(342)을 포함하고 바람직하게는 다수의 형광 링(342)을 포함하는 형광 커버링(340)을 더 포함하고, 상기 하나 이상의 형광 링(342) 또는 다수의 형광 링(342)은 더욱 더 바람직하게는, 반사기 어레이(330)의 다수의 반사기(332)에 대응하고, 적어도 하나의 반사기(332)의 전면 가장자리, 바람직하게는 반사기 어레이(330)의 각 반사기(332)의 전면 가장자리를 덮고, 염료로 제공되거나, 혼합되거나, 합금되거나, 코팅되고, 염료는 가시 파장 범위의 형광을 방출하는 하나 이상의 LED(322) 또는 다수의 LED(322)에서 방출되는 광에 의해 여기되는 장치(100).
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나에서 방출된 지향성 활성 방사선은 280㎚ 내지 315㎚ 파장 범위의 방사선(UV-B) 및/또는 315㎚ 내지 400㎚ 파장 범위의 방사선(UV-A)인 장치(100).
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방사선원(170) 및 추가 방사선원(310A, 310B) 중 적어도 하나에서 방출된 지향성 활성 방사선은 400㎚ 내지 850㎚ 파장 범위의 적외선(IR)인 장치(100).
  12. 피사체(200)에 지향성 활성 방사선을 인가하는 장치(100)를 작동하는 방법으로서,
    - 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 청구된 바와 같은 장치(100)를 제공하는 단계; 및
    - 장치의 활성 방사선 발광 광원(170) 및 추가 활성 방사선 발광 광원(310A, 310B) 중 적어도 하나를 작동시켜, 이들 중 적어도 하나가 장치(100)의 종축(A-A)과 예각을 이루는 방향으로 상기 장치(100) 상에 또는 그 안에 수용되는 피사체(200)를 향해 지향성 활성 방사선을 방출할 수 있게 하는 단계를 포함하는 방법.
  13. 제 12 항에 있어서, 인간(200)이 상기 활성 방사선에 노출되는 방법.
  14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서, 장치의 종축(A-A)과 이루는 지향성 방사선의 예각은 8 내지 50도의 범위 내, 바람직하게는 15 내지 45도의 범위 내인 방법.
  15. 제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    활성 방사선 발광 광원(170) 및/또는 추가 활성 방사선 발광 광원(310A, 310B)에 의해 발생한 열은 하나 이상의 히트 파이프(520)에 의해 활성 방사선 발광 광원(170, 310)의 위치에서 떨어진 장치의 일부 내에 배열되는 히트 싱크(530)로 전달되어, 히트 싱크(530)가 팬(540)에 의해 제공되는 공기에 의해 냉각되는 방법.
KR1020217004966A 2018-07-19 2019-07-19 조사 장치 및 조사 방법 KR20210034635A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP18184512.4 2018-07-19
EP18184512.4A EP3597268B1 (en) 2018-07-19 2018-07-19 Irradiating device and irradiation method
PCT/EP2019/069568 WO2020016436A1 (en) 2018-07-19 2019-07-19 Irradiating device and irradiation method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210034635A true KR20210034635A (ko) 2021-03-30

Family

ID=63012923

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217004966A KR20210034635A (ko) 2018-07-19 2019-07-19 조사 장치 및 조사 방법

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20210260400A1 (ko)
EP (1) EP3597268B1 (ko)
JP (1) JP2022502100A (ko)
KR (1) KR20210034635A (ko)
CN (1) CN112584897B (ko)
CA (1) CA3106862A1 (ko)
DE (2) DE112019003642T5 (ko)
MX (1) MX2021000672A (ko)
WO (1) WO2020016436A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH716066A1 (de) * 2019-04-03 2020-10-15 Jk Holding Gmbh Bestrahlungsmodul sowie Vorrichtung und Verfahren zum Bestrahlen mit medizinisch-kosmetischer Strahlung.
MX2022009882A (es) * 2020-02-12 2022-08-22 Jk Holding Gmbh Dispositivo de irradiacion corporal.
CH717451A1 (de) * 2020-05-25 2021-11-30 Jk Holding Gmbh Vorrichtung zur Beaufschlagung eines menschlichen Körpers oder von Teilen eines menschlichen Körpers mit medizinisch-kosmetischer Strahlung.
CN112587802B (zh) * 2020-12-07 2021-12-07 盐城东紫光电科技有限公司 一种具有吸附功能的脉冲光疗设备

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2601784B1 (fr) * 1986-07-18 1990-05-18 Jetsun International Sarl Dispositif emetteur de rayonnement ultraviolet et installation de traitement comprenant de tels dispositifs
DE8701889U1 (ko) * 1987-02-09 1987-04-02 Electrolux-Kern Gmbh, 3400 Goettingen, De
DE3727916A1 (de) * 1987-08-21 1989-03-02 Kulzer & Co Gmbh Fingernagel-bestrahlungsgeraet
DE9000705U1 (ko) * 1990-01-23 1990-03-29 Herbert Waldmann Gmbh & Co, 7730 Villingen-Schwenningen, De
CN1028838C (zh) * 1992-04-15 1995-06-14 沈金萱 广谱特定电磁波谱辐射器
DE4314679A1 (de) 1993-05-04 1994-11-10 Gernot K Brueck Schulterbräuner
DE4314678C1 (de) 1993-05-04 1994-09-22 Dalli Werke Waesche & Koerperp Stückförmige Körperreinigungsmittel
US5645578A (en) * 1994-11-16 1997-07-08 Sybaritic, Inc. Total therapy sauna bed system
DE19502983A1 (de) * 1995-01-31 1996-08-01 Imab Stiftung Vorrichtung zur Ganzkörperbestrahlung, einschließlich der Schulterpartien
DE29516572U1 (de) * 1995-10-20 1996-01-04 Walter Josef Vorrichtung zum Kopfbräunen für UVA-Ganzkörper-Bräunungsliegen
DE19640118A1 (de) * 1996-09-28 1998-04-02 Uwe Unterwasser Electric Gmbh Bestrahlungsgerät, insbesondere Solarium
DE10230877A1 (de) 2002-07-09 2004-02-12 Siemens Ag Kernspintomographiegerät mit einer Einrichtung zur graphischen Planung Kontrastmittel-gestützter angiographischer Messungen
DE10233984A1 (de) 2002-07-25 2004-02-12 Wercholak, Jan Solarium - vertikal und horizontal nutzbar
US6888303B2 (en) * 2002-11-04 2005-05-03 Ets, Inc. Ultraviolet tanning systems
WO2004068596A1 (en) 2003-01-25 2004-08-12 Nam-Young Kim Lamp module with light emitting diode
US20050084229A1 (en) 2003-10-20 2005-04-21 Victor Babbitt Light insertion and dispersion system
US7921853B2 (en) 2004-03-09 2011-04-12 Ledeep Llc Phototherapy method for treating psoriasis
TW200609012A (en) * 2004-09-09 2006-03-16 Tru Light Corp Light processing of selected body components
CN1814319A (zh) * 2005-02-02 2006-08-09 上海希格玛高技术有限公司 治疗皮肤病的光线照射装置
US20090005839A1 (en) * 2005-10-04 2009-01-01 Roy Lloyd Griffith Skin Tanning System Incorporating Skin Rejuvenating Light
US20080033412A1 (en) * 2006-08-01 2008-02-07 Harry Thomas Whelan System and method for convergent light therapy having controllable dosimetry
EP1967227B1 (de) * 2007-03-07 2012-12-19 Flowil International Lighting (HOLDING) B.V. Bestrahlungsgerät zur Bestrahlung eines menschlichen Körpers
CN101720407A (zh) 2007-06-25 2010-06-02 陈振贤 发光二极管照明装置
US20210290972A1 (en) 2008-04-10 2021-09-23 Koninklijke Philips Electronics N.V. Body illumination system using blue light
DE202008006125U1 (de) 2008-05-05 2009-11-12 Ledon Lighting Gmbh Heatpipe
WO2010004500A1 (en) * 2008-07-10 2010-01-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. Versatile cosmetic appliance
HUP0800505A2 (en) * 2008-08-08 2010-05-28 Nagy Tamas Soltesz Sunning lamp arrangement
FR2937795B1 (fr) 2008-10-28 2011-04-01 Biophoton S A Dispositif electronique a matrice de diodes electroluminescentes de forte puissance comprenant des moyens de refroidissement ameliores
GB2466228A (en) 2008-12-15 2010-06-16 Photo Therapeutics Ltd Phototherapeutic apparatus supplying differing wavelengths of light
US9052067B2 (en) 2010-12-22 2015-06-09 Cree, Inc. LED lamp with high color rendering index
WO2012082739A2 (en) 2010-12-14 2012-06-21 Joanna Vargas Led phototherapy apparatus
DK2500060T3 (en) * 2011-03-17 2016-12-19 Jk-Holding Gmbh An apparatus for irradiation with actinic radiation of different wavelengths
EP2564898B1 (en) * 2011-09-01 2015-04-29 JK-Holding GmbH Device for a controlled and safe irradiation to the human body and apparatus making use of the device
CN103089029A (zh) * 2011-11-03 2013-05-08 成都鑫博浩科技有限公司 改进的组合式可移动宽频谱能量辐射的保健屋
AU2013206887B2 (en) * 2012-01-03 2017-10-19 William A. Moffat Phototherapeutic apparatus for focused UVB radiation and vitamin D synthesis and associated systems and methods
KR101433070B1 (ko) * 2012-08-21 2014-08-25 주식회사 피치텍 전신 광 조사기
EP2853291B1 (en) * 2013-09-27 2016-08-10 JK-Holding GmbH Irradiating device having high evenness of irraditation and even irradiation method
AU2014324609B2 (en) 2013-09-28 2018-10-04 Newport Corporation LED-based solar simulator system and method of use
CN205331825U (zh) 2015-12-18 2016-06-22 深圳市苏冉科技有限公司 一种镀膜反光碗阵列式uv-led光固系统
ES2893295T3 (es) * 2016-02-02 2022-02-08 Braun Gmbh Dispositivo para el tratamiento de la piel
CN105633259B (zh) 2016-02-03 2019-12-06 张国生 基于热管原理的大功率led光源
US10119676B2 (en) * 2016-06-10 2018-11-06 Osram Gmbh Lighting device, corresponding lamp and method
CN108211125A (zh) * 2016-12-12 2018-06-29 廖志华 小太阳光合舱

Also Published As

Publication number Publication date
US20210260400A1 (en) 2021-08-26
DE112019003642T5 (de) 2021-04-08
JP2022502100A (ja) 2022-01-11
CN112584897B (zh) 2022-12-02
MX2021000672A (es) 2021-05-27
EP3597268A1 (en) 2020-01-22
CN112584897A (zh) 2021-03-30
CA3106862A1 (en) 2020-01-23
EP3597268B1 (en) 2020-10-28
WO2020016436A1 (en) 2020-01-23
DE202019005804U1 (de) 2022-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20210034635A (ko) 조사 장치 및 조사 방법
JP4726872B2 (ja) 反射型照明装置
CA2706642C (en) Device for the treatment of mucositis
KR101433070B1 (ko) 전신 광 조사기
KR101855670B1 (ko) 적외선 led를 포함하는 매트
EP2376194A1 (en) Phototherapeutic apparatus and method
EP2853291B1 (en) Irradiating device having high evenness of irraditation and even irradiation method
US20220107099A1 (en) Dual heating or cooling system and its use
CN108662494A (zh) 一种大功率led集成光源用光学镜头组
CN201168347Y (zh) 芯片集成led光子烧伤治疗装置
CN212395617U (zh) 一种多光谱美容灯
TWI821095B (zh) 濾除照射光線發出的光束中有害波長的方法
DE102019119686A1 (de) Kühlsystem für beengte Platzverhältnisse, seine Verwendung sowie Bestrahlungsvorrichtung und -verfahren mit einem solchen System
EP3321574A1 (en) Illumination device
CN101219259A (zh) 芯片集成led在光子烧伤治疗中的应用及光子烧伤治疗装置
CN111659023A (zh) 一种多光谱美容灯
ES2928172B2 (es) Dispositivo luminoso con diodos led orientados
WO2019101309A1 (en) Illumination device
HRP20030817A2 (hr) Mobilni uređaj za fotodinamičku dijagnostiku i terapiju i metode
CN115154916A (zh) 基于神经网络的近红外偏振光前列腺治疗仪及其控制方法
KR20080002280A (ko) 면 접촉의 방열구조를 갖는 근적외선 히터
BRPI0802369A2 (pt) fonte luminosa halógena (hls) para aplicações na fotobiologia e na fotomedicina
US20060100678A1 (en) Tanning device
TWM360986U (en) High power LED (light emitting diode) lamp with heat pipe heat dissipating device
TWM344440U (en) Heat-conduction structure of machine core of illumination device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination