KR20210021929A - 의상 시뮬레이션 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법 및 장치는 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링되는, 의상의 2차원 패턴에서 셔링을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받고, 사용자의 설정에 기초하여, 영역으로부터 제1 라인 및 제1 라인과 평행하는 제2 라인을 획득하고, 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 제1 라인 및 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하고, 내부 라인들을 기초로, 2차원 패턴의 영역에 포함된 다각형들을 정렬하며, 정렬된 다각형들에 의해 셔링이 표현된 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션 한다.

Description

의상 시뮬레이션 방법 및 장치{METHODE AND APPARATUS OF SIMULATING CLOTHES}
실시예들은 셔링(shirring)이 표현된 의상 시뮬레이션 방법 및 장치에 관한 것이다.
의상(clothes)은 사람이 착용한 경우에 3차원으로 보이지만, 실제로는 2차원의 패턴(pattern)에 따라 재단된 천(fabric) 조각의 조합에 해당하므로 2차원에 가깝다. 의상의 재료가 되는 천은 유연(flexible)하기 때문에 착용한 사람의 신체 모양이나 움직임에 따라 그 모습이 시시각각 달라질 수 있다. 예를 들어, 중력, 바람, 또는 신체와의 충돌에 의해서 착용한 의상이 흘러내리거나, 주름이 지고 접힐 수 있다.
셔링(Shirring)이란 천에 적당한 간격을 두고 여러 단을 박은 뒤 밑실을 잡아당겨 잔주름을 잡는 방법으로, 옷뿐 아니라 구두 가방 등의 패션 소품에서 자주 사용되는 기법이다. 셔링 기법을 사용하면 재봉선의 길이에 비하여 원단의 길이가 길기 때문에 재봉선을 기준으로 원단에 자연스러운 주름이 지게 되는 특징이 있다. 그러나 일반적으로 3차원 가상 의상 시뮬레이션에서는 짧은 재봉선에 긴 원단이 단순히 재봉되는 모습만이 시뮬레이션 되었기 때문에 셔링의 주름이 어색하게 표현되며, 의상의 형태를 사실에 가깝게 구현하지 못하였다.
전술한 배경기술은 발명자가 본원의 개시 내용을 도출하는 과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.
일 실시예에 따르면, 셔링을 표현할 셔링 영역, 셔링 간격, 및 셔링 높이 등에 대한 사용자의 설정에 따라 3차원의 의상에서 사용자가 희망하는 위치 및 형태로 셔링을 표현할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 셔링을 표현할 영역의 메쉬(mesh) 크기를 줄여 자연스러운 주름 디테일을 표현할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 사용자에 의해 설정된 셔링 영역을 기초로 의상의 2차원 패턴 상에 생성된 가상의 내부 라인들에 따라 메쉬의 다각형들을 정렬함으로써 셔링에 의해 의도되는 의상의 형태를 실제에 가깝게 구현할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 의상 시뮬레이션 방법은 의상의 2차원 패턴-상기 2차원 패턴은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링 됨-에서 셔링(shirring)을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계; 상기 사용자의 설정에 기초하여, 상기 영역으로부터 제1 라인 및 상기 제1 라인과 평행하는 제2 라인을 획득하는 단계; 상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하는 단계; 상기 내부 라인들을 기초로, 상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들을 정렬 하는 단계; 및 상기 정렬된 다각형들에 의해 상기 셔링이 표현된 상기 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션 하는 단계를 포함한다.
상기 사용자의 설정을 입력받는 단계는 상기 2차원 패턴에서 상기 셔링을 표현할 영역에 대응하는 복수의 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받는 단계를 포함할 수 있다.
상기 사용자의 설정을 입력받는 단계는 상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계를 포함하고, 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인을 획득하는 단계는 상기 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 의상 시뮬레이션 방법은 상기 2차원 패턴에서 상기 셔링이 표현될 영역의 높이에 대응하는 제1 파라미터, 및 상기 셔링의 간격에 대응하는 제2 파라미터 중 적어도 하나를 포함하는 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 사용자의 설정을 입력받는 단계는 상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계를 포함하고, 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인을 획득하는 단계는 상기 제1 라인으로부터 상기 제1 파라미터에 기초한 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 내부 라인들을 생성하는 단계는 상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 상기 제2 파라미터에 기초한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 다각형들을 정렬하는 단계는 상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들 각각의 한 변이 상기 내부 라인들과 일치하도록 상기 다각형들을 정렬하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 3차원 의상을 착장 시뮬레이션하는 단계는 상기 다각형들이 정렬된 2차원 패턴에서 상기 내부 라인들을 제거하는 단계; 및 상기 내부 라인들이 제거된 2차원 패턴에 대응하는 상기 3차원 의상을 상기 착장 시뮬레이션하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 의상의 2차원 패턴- 2차원 패턴은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링 됨-에서 셔링(shirring)을 표현할 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계; 상기 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성하는 단계; 상기 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제2 라인과 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하는 단계; 상기 내부 라인들을 기초로, 상기 2차원 패턴에서 상기 셔링을 표현할 영역에 포함된 다각형들을 정렬하는 단계; 및 상기 정렬된 다각형들에 의해 상기 셔링이 표현된 상기 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션하는 단계를 포함한다.
일 실시예에 따르면, 컴퓨터 프로그램은 하드웨어와 결합되어 의상 시뮬레이션 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체에 저장된다.
일 실시예에 따르면, 의상 시뮬레이션 장치는 의상의 2차원 패턴-상기 2차원 패턴은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링 됨-에서 셔링(shirring)을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 사용자 인터페이스; 상기 사용자의 설정에 기초하여, 상기 영역으로부터 제1 라인 및 상기 제1 라인과 평행하는 제2 라인을 획득하고, 상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하고, 상기 내부 라인들을 기초로, 상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들을 정렬하며, 상기 정렬된 다각형들에 의해 상기 셔링이 표현된 상기 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션하는 프로세서; 및 상기 착장 시뮬레이션된 3차원 의상을 출력하는 출력 장치를 포함한다.
상기 사용자 인터페이스는 상기 2차원 패턴에서 상기 셔링을 표현할 영역에 대응하는 복수의 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다.
상기 사용자 인터페이스는 상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받고, 상기 프로세서는 상기 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성할 수 있다.
상기 사용자 인터페이스는 상기 2차원 패턴에서 상기 셔링이 표현될 영역의 높이에 대응하는 제1 파라미터, 및 상기 셔링의 간격에 대응하는 제2 파라미터 중 적어도 하나를 포함하는 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받을 수 있다.
상기 사용자 인터페이스는 상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받고, 상기 프로세서는 상기 제1 라인으로부터 상기 제1 파라미터에 기초한 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성할 수 있다.
상기 프로세서는 상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 상기 제2 파라미터에 기초한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성할 수 있다.
상기 프로세서는 상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들 각각의 한 변이 상기 내부 라인들과 일치하도록 상기 다각형들을 정렬할 수 있다.
상기 프로세서는 상기 다각형들이 정렬된 2차원 패턴에서 상기 내부 라인들을 제거하고, 상기 내부 라인들이 제거된 2차원 패턴에 대응하는 상기 3차원 의상을 상기 착장 시뮬레이션할 수 있다.
일 측에 따르면, 셔링을 표현할 셔링 영역, 셔링 간격, 및 셔링 높이 등에 대한 사용자의 설정에 따라 3차원의 의상에서 사용자가 희망하는 위치 및 형태로 셔링을 표현할 수 있다.
일 측에 따르면, 셔링을 표현할 영역의 메쉬(mesh) 크기를 줄여 자연스러운 주름 디테일을 표현할 수 있다.
일 측에 따르면, 사용자에 의해 설정된 셔링 영역을 기초로 의상의 2차원 패턴 상에 생성된 가상의 내부 라인들에 따라 메쉬의 다각형들을 정렬함으로써 셔링에 의해 의도되는 3차원 의상의 형태를 실제에 가깝게 구현할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도.
도 2는 일 실시예에 따라 셔링을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 3은 다른 실시예에 따라 셔링을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 4는 일 실시예들에 따라 내부 라인들을 생성하고, 내부 라인들을 기초로 다각형들을 정렬하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 5 은 일 실시예들에 따라 셔링이 표현된 2차원 패턴을 도시한 도면.
도 6은 일 실시예들에 따라 셔링이 표현된 2차원 패턴에 대응하여 시뮬레이션된 3차원 의상을 도시한 도면.
도 7은 다른 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도.
도 8은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치의 블록도.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.
실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
또한, 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.
어느 하나의 실시 예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시 예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시 예에 기재한 설명은 다른 실시 예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도이다. 도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치는 의상의 2차원 패턴에서 셔링(shirring)을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는다(110). 여기서, 의상은 예를 들어, 3차원 가상 의상에 해당하며, 2차원 패턴에 대응되는 의상일 수 있다. 본 명세서에서 '2차원 패턴'은 컴퓨터 프로그램에 의해 가상으로 제작되는 2차원의 평면의 패턴에 해당할 수 있다. 2차원 패턴은 예를 들어, 사용자가 3차원 아바타에 착장시키고자 하는 의상의 제작에 이용되는 의상 패턴일 수 있다. 2차원 패턴은 3차원 아바타의 각 신체 부분(예를 들어, 소매, 몸통(앞, 뒤), 목, 다리 등)에 해당하는 패턴 조각들을 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 2차원 패턴은 3차원 가상 의상(virtual clothes)의 시뮬레이션을 위하여 복수의 다각형(예를 들어, 삼각형)들을 포함하는 메쉬(mesh)로 모델링될 수 있다. 다각형(삼격형)의 세 꼭지점은 질량을 가지고 있는 점(point mass)이며, 다각형의 각 변은 그 질량을 연결하는 탄성을 가지고 있는 스프링들로 표현될 수 있다. 이에 따라, 2차원 패턴은 예를 들어, 질량-스프링 모델(Mass-Spring Model)에 의해 모델링될 수 있다. 여기서, 스프링들은 사용되는 천(fabric)의 물성에 따라 예를 들어, 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending)에 대한 각 저항값(resist)을 가질 수 있다. 각 꼭지점들은 중력 등과 같은 외부적인 힘(external force)과 신축, 비틀림, 및 굽힘의 내부적인 힘(internal force)의 작용에 따라 움직일 수 있다. 외부적인 힘과 내부적인 힘을 계산하여 각 꼭지점에 가해지는 힘을 구하면, 각 꼭지점의 변위 및 움직임의 속도를 구할 수 있다. 그리고 각 시점(time step)의 다각형의 꼭지점들의 움직임을 통하여 가상 의상의 움직임을 시뮬레이션할 수 있다. 메쉬로 이루어진 2차원의 가상 의상 패턴들을 3차원의 아바타에 착장(draping)시키면 물리 법칙에 기반한 자연스러운 모습의3차원 가상 의상을 구현할 수 있다.
이하, 설명의 편의를 위하여, 셔링(shirring)을 표현할 영역은 '셔링 영역'이라 간략화하여 부를 수 있다.
단계(110)에서, 의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 의상의 2차원 패턴에서 셔링 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받을 수도 있고, 또는 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상에서 셔링 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받을 수도 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 2차원 패턴 또는 3차원 의상 상의 특정 라인(들), 특정 영역, 및/또는 특정 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받고, 선택된 라인(들), 선택된 영역, 및/또는 선택된 점들에 의해 셔링 영역을 설정할 수도 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 예를 들어, 2차원 패턴에서 셔링을 표현할 영역에 대응하는 복수의 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다. 또는 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴에서 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받을 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 라인으로 기초로 제2 라인을 생성하고, 제1 라인 및 제2 라인에 의해 구분되는 영역을 셔링 영역으로 설정할 수 있다.
본 명세서에서 '제1 라인'은 2차원 패턴에서 주름, 다시 말해 셔링을 구현할 시작 라인에 해당할 수 있다. 제1 라인은 '셔링 라인(shirring line)'이라고도 부를 수 있다. 또한, '제2 라인'은 2차원 패턴에서 제1 라인으로부터 셔링이 구현되어야 하는 거리, 다시 말해, 셔링 영역의 경계를 나타내는 라인에 해당할 수 있다. 제2 라인은 '셔링 경계선'이라고도 부를 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치가 셔링 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 과정은 아래의 도 2 및 도 3을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.
의상 시뮬레이션 장치는 단계(110)에서, 2차원 패턴에서 셔링이 표현될 영역의 높이에 대응하는 제1 파라미터, 및 셔링의 간격에 대응하는 제2 파라미터 중 적어도 하나를 포함하는 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받을 수도 있다. 제1 파라미터는 2차원 패턴에서 셔링을 표현할 영역의 높이를 나타내는 값으로서, 예를 들어, 제1 라인과 제2 라인 간의 거리에 해당할 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 단계(110)의 사용자의 설정에 기초하여, 영역(셔링 영역)으로부터 제1 라인 및 제1 라인과 평행하는 제2 라인을 획득한다(120). 예를 들어, 의상 시뮬레이션 장치가 단계(110)에서 2차원 패턴에서 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받았다고 하자. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 단계(120)에서 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성함으로써 제2 라인을 획득할 수 있다.
또는 의상 시뮬레이션 장치가 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받았다고 하자. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 입력받은 셔링 속성에 따라 제1 라인으로부터 제1 파라미터에 기초한 거리만큼 이격되고, 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성할 수 있다. 예를 들어, 단계(110)에서 제1 라인과 함께 제1 파라미터가 설정된 경우, 일정 거리는 제1 파라미터에 기초하여 결정될 수 있다. 예를 들어, 제1 파라미터가 30 mm로 설정되었다고 하자. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 라인으로부터 30 mm 만큼 이격된 거리에 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성할 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 영역(셔링 영역)의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 제1 라인 및 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성한다(130). 의상 시뮬레이션 장치는 셔링 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 제1 라인 및 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 제2 파라미터에 기초한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성할 수 있다. 예를 들어, 단계(110)에서 제1 라인과 함께 셔링 속성(예를 들어, 제2 파라미터)이 설정된 경우, 일정한 간격은 제2 파라미터에 기초하여 결정될 수 있다 예를 들어, 제2 파라미터가 5mm로 되었다고 하자. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴에서 제1 라인과 제2 라인 사이의 영역에 제1 라인 및 제2 라인 중 적어도 하나와 수직한 내부 라인들을 5 mm 의 간격으로 생성할 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 단계(130)에서 생성한 내부 라인들을 기초로, 2차원 패턴의 영역에 포함된 다각형들을 정렬한다(140). 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴의 셔링 영역에 포함된 다각형들 각각의 한 변이 내부 라인들과 일치하도록 다각형들을 정렬할 수 있다. 다시 말해, 의상 시뮬레이션 장치는 내부 라인들을 기초로, 2차원 패턴에서 셔링 영역의 다각형들을 셔링의 방향에 맞게 정렬할 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치가 내부 라인들을 생성하고, 내부 라인들에 맞게 다각형들을 정렬하는 과정은 아래의 도 4 및 도 5를 참조하여 구체적으로 설명한다.
의상 시뮬레이션 장치는 단계(140)에서 정렬된 다각형들에 의해 셔링이 표현된 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션한다(150). 본 명세서에서 '착장(draping)'은 컴퓨터 프로그램에 의해 2차원 패턴 정보 또는 의상 2차원 패턴 조각들을 결합하여 3차원 의상을 3차원 아바타에 입히는 과정으로 이해될 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 다각형들이 정렬된 2차원 패턴에서 내부 라인들을 제거할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 내부 라인들이 제거된 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션할 수 있다.
도 2는 일 실시예에 따라 셔링을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상 및 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴(210)이 도시된다.
예를 들어, 사용자가 도 2의 좌측에 표시된 3차원 의상에 대응하는 2차원 패턴(210)을 선택했다고 하자. 사용자는 2차원 패턴(210)이 표시된 어플리케이션 화면 상단에 있는 2차원 툴 바(Tool bar)에서 "점/선 수정" 버튼을 선택한 후, 2차원 패턴(210)에서 셔링을 표현할 라인(215)을 선택할 수 있다.
사용자는 셔링을 표현할 라인(215)을 선택한 후, 도 2의 화면 우측에 도시된 "속성 편집기(Property Editor)"에서 셔링 온/오프 체크 박스(230)를 '온(On)'으로 선택함으로써 선택한 라인에 대해 셔링 속성을 부여할 수 있다. 셔링을 표현할 라인(215)은 셔링 속성이 부여됨에 따라 제1 라인(235)으로 설정될 수 있다. 셔링 속성이 부여된 제1 라인(235)에는 예를 들어, 셔링 기호가 표시될 수 있다. 이 경우, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 라인(235)으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 제1 라인(235)과 평행한 제2 라인을 생성함으로써 제1 라인(235)과 제2 라인에 의해 2차원 패턴에 셔링 영역을 설정할 수 있다.
일 실시예에 따라 2차원 패턴(210)에 셔링이 적용된 결과는 도 4 및 도 5에 도시된 3차원 의상 또는 2차원 패턴 메시 보기를 통해 확인할 수 있다.
도 3은 다른 실시예에 따라 셔링을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 3을 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 의상(310) 및 3차원 의상에 대응되는 2차원 패턴(320)가 도시된다.
사용자는 어플리케이션 화면에 도시된 3차원 의상(310)에서 예를 들어, 마우스 드래그(mouse drag) 또는 스타일러스 펜 등을 통한 선택에 의해 셔링을 표현할 영역(315)을 선택할 수 있다. 3차원 의상(310)에서 셔링을 표현할 영역(315)이 선택됨에 따라 의상 시뮬레이션 장치는 3차원 의상(310)에 대응하는 2차원 패턴(320) 상에 대응되는 셔링 영역(325)을 설정할 수 있다.
또는 실시예에 따라서, 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴(320)에서 셔링을 표현할 영역에 대응하는 복수의 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수도 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 복수의 점들에 의해 구획되는 영역을 셔링 영역으로 설정할 수 있다.
도 4는 일 실시예에 따라 내부 라인들을 생성하고, 내부 라인들을 기초로 다각형들을 정렬하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 4를 참조하면, 일 실시예에 따른 2차원 패턴에 셔링이 적용된 결과를 메시 보기를 통해 확인한 결과 화면이 도시된다.
사용자가 도 2 또는 도 3의 과정을 통해 셔링 영역(420)을 설정한 후, 메시 보기 버튼을 선택하면, 화면에 셔링이 적용된 2차원 패턴(410)이 도시될 수 있다.
사용자는 예를 들어, 도 4의 어플리케이션 화면의 우측에 표시된 사용자 인터페이스를 통해 예를 들어, 셔링을 위한 높이 및 간격 등과 같은 셔링 속성을 설정할 수 있다. 이때, 셔링을 위한 높이는 2차원 패턴(410)에서 셔링(주름)이 표현될 영역의 높이, 다시 말해 전술한 제1 파라미터에 해당할 수 있다. 또한, 셔링을 위한 간격은 셔링 영역에 표현되는 셔링의 간격 혹은 2차원 패턴(410) 상에서 메쉬들이 정렬되는 주기, 다시 말해 전술한 제2 파라미터에 해당할 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴(410)에서 셔링을 위한 높이 및 셔링을 위한 간격에 대한 사용자의 설정을 입력받고, 이를 기초로, 셔링 영역(420)을 설정할 수 있다. 이때, 셔링 영역(420)에 대한 셔링 속성은 사용자 설정을 통해 변경될 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴(410)에서 앞서 설정된 제1 라인(411)에서 셔링을 위한 높이('제1 파라미터')만큼 이격되고, 제1 라인과 평행한 제2 라인(413)을 생성할 수 있다. 또한, 의상 시뮬레이션 장치는 셔링 영역(420)의 제1 라인(411)과 제2 라인(413) 사이에서 제1 라인(411) 및 제2 라인(413) 중 적어도 하나와 수직하며 셔링을 위한 간격('제2 파라미터')을 갖는 내부 라인들(415)을 생성할 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 내부 라인들(415)을 기초로, 2차원 패턴의 셔링 영역(420)에 포함된 다각형들(430)을 정렬할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 2차원 패턴(410)의 셔링 영역(420)에 포함된 다각형들(예를 들어, 삼각형) 각각의 한 변이 내부 라인들과 일치하도록 다각형들(430)을 정렬할 수 있다. 재봉에 의한 주름을 표현하는 다각형들이 주름의 방향에 맞게 정렬됨으로써 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상에서 셔령이 자연스럽게 표현될 수 있다. 이때, 2차원 패턴(410)에서 셔링 영역(420)을 제외한 나머지 부분(440)의 다각형들은 정렬되지 않은 것을 볼 수 있다. 이후, 의상 시뮬레이션 장치는 다각형들(430)이 정렬된 2차원 패턴에서 내부 라인들(415)을 제거할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 내부 라인들(415)이 제거된 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션할 수 있다.
예를 들어, 2D 의상 패턴이 대칭 패턴(Symmetry Pattern)일 경우, 셔링 또한 대칭 적용될 수 있다. 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치는 셔링 영역(420)의 메시 크기를 줄여 자연스러운 주름 디테일을 표현할 수 있다.
도 5는 일 실시예들에 따라 셔링이 표현된 2차원 패턴을 도시한 도면이다. 도 5를 참조하면, 일 실시예에 따른 2차원 패턴에 셔링이 적용된 결과를 메시 보기로 나타낸 화면(520) 및 셔링의 속성이 변경된 2차원 패턴을 나타낸 화면(540)이 도시된다.
사용자는 도 5의 화면 우측 상단에 도시된 속성 편집기(510)를 통해 515와 같이 셔링 속성을 설정할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 사용자에 의해 설정된 셔링 속성에 따라 화면(520)과 같이 자동으로 내부 라인들(525)을 삽입하여 다각형들을 정렬함으로써 2차원 패턴에 셔링을 표현할 수 있다. 또는 사용자는 도 5의 화면 우측 하단에 도시된 속성 편집기(530)를 통해 535와 같이 셔링 속성을 변경할 수 있다. 의상 시뮬레이션 장치는 사용자에 의해 변경된 셔링 속성에 따라 화면(540)과 같이 자동으로 내부 라인들(545)을 삽입하여 다각형들을 정렬함으로써 2차원 패턴에 셔링을 표현할 수 있다. 셔링 속성의 변경에 따라 화면(520)에 도시된 셔링 영역에 비해 화면(540)에 도시된 셔링 영역이 줄어든 것을 볼 수 있다.
이후, 의상 시뮬레이션 장치는 다각형들이 정렬된 2차원 패턴에서 내부 라인들을 제거하고, 내부 라인들이 제거된 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 아래의 도 6과 같이 착장 시뮬레이션할 수 있다.
도 6은 일 실시예에 따라 셔링이 표현된 2차원 패턴에 대응하여 시뮬레이션된 3차원 의상을 도시한 도면이다. 도 6을 참조하면, 셔링 영역이 표시된 2차원 패턴을 도시한 도면(610) 및 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션한 도면(630)이 도시된다.
이때, 도면(610)에 도시된 2차원 패턴에서 내부 라인들이 제거된 것을 볼 수 있다.
도 7은 다른 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 방법을 나타낸 흐름도이다. 도 7을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치는 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링된 의상의 2차원 패턴에서 셔링(shirring)을 표현할 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받는다(710). 이때, 의상 시뮬레이션 장치는 제1 라인에 대한 설정 이외에도, 2차원 패턴에서 셔링이 표현될 영역의 높이에 대응하는 제1 파라미터 및 셔링의 간격에 대응하는 제2 파라미터 중 적어도 하나를 포함하는 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받을 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성한다(720). 단계(110)에서 제1 라인과 함께 제1 파라미터가 설정된 경우, 일정 거리는 제1 파라미터에 기초하여 결정될 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 제1 라인과 제2 라인 사이에서 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성한다(730). 단계(110)에서 제1 라인과 함께 제2 파라미터가 설정된 경우, 일정한 간격은 제2 파라미터에 기초하여 결정될 수 있다.
의상 시뮬레이션 장치는 단계(730)에서 생성된 내부 라인들을 기초로, 2차원 패턴에서 영역에 포함된 다각형들을 정렬한다(740).
의상 시뮬레이션 장치는 단계(740)에서 정렬된 다각형들에 의해 셔링이 표현된 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션 한다(750).
도 8은 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치의 블록도이다. 도 8을 참조하면, 일 실시예에 따른 의상 시뮬레이션 장치(800)는 사용자 인터페이스(810), 프로세서(830), 출력 장치(850), 및 메모리(870)를 포함한다. 사용자 인터페이스(810), 프로세서(830), 출력 장치(850), 및 메모리(870)는 통신 버스(805)를 통해 서로 통신할 수 있다.
사용자 인터페이스(810)는 의상의 2차원 패턴에서 셔링(shirring)을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는다. 이때, 2차원 패턴은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링된다. 사용자 인터페이스(810)는 예를 들어, 2차원 패턴에서 셔링을 표현할 영역('셔링 영역')에 대응하는 복수의 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다. 또한, 사용자 인터페이스(810)는 2차원 패턴에서 주름이 표현될 셔링 영역의 높이에 대응하는 제1 파라미터, 및 셔링의 간격에 대응하는 제2 파라미터 중 적어도 하나를 포함하는 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받을 수 있다. 사용자 인터페이스(810)는 예를 들어, 스타일러스 펜, 마우스, 키보드, 터치 인터페이스를 통한 터치 입력 등을 포함할 수 있다.
프로세서(830)는 사용자의 설정에 기초하여, 셔링 영역으로부터 제1 라인 및 제1 라인과 평행하는 제2 라인을 획득한다. 프로세서(830)는 셔링 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 제1 라인 및 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성한다. 예를 들어, 사용자 인터페이스(810)가 2차원 패턴에서 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받은 경우, 프로세서(830)는 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성할 수 있다. 또는, 사용자 인터페이스(810)가 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받은 경우, 프로세서(830)는 제1 라인으로부터 셔링 속성에 포함된 제1 파라미터에 기초한 거리만큼 이격되고, 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성할 수 있다. 또한, 프로세서(830)는 셔링 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 제1 라인 및 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 제2 파라미터에 기초한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성할 수 있다.
프로세서(830)는 내부 라인들을 기초로, 2차원 패턴의 영역에 포함된 다각형들을 정렬한다. 프로세서(830)는 예를 들어, 2차원 패턴의 영역에 포함된 다각형들 각각의 한 변이 내부 라인들과 일치하도록 다각형들을 정렬할 수 있다.
프로세서(830)는 정렬된 다각형들에 의해 셔링이 표현된 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션 한다.
출력 장치(850)는 프로세서(830)에 의해 착장 시뮬레이션된 3차원 의상을 출력한다. 출력 장치(850)는 착장 시뮬레이션된 3차원 의상 및/또는 3차원 의상에 대응하는, 내부 라인들이 제거된 2차원 패턴을 디스플레이의 화면 상에 출력할 수도 있고, 또는 의상 시뮬레이션 장치(800)의 외부로 출력할 수도 있다. 출력 장치(850)는 예를 들어, 디스플레이, 또는 의상 시뮬레이션 장치(800)의 외부와 통신하는 통신 인터페이스일 수도 있다.
실시예에 따라서, 출력 장치(850)는 3차원 의상을 구성하는 2차원 패턴을 종이 또는 옷감 등의 별도의 출력물에 출력하는 2차원 패턴 출력 장치일 수 있다.
메모리(870)는 상술한 프로세서(830)의 처리 과정에서 생성되는 다양한 정보들을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(870)는 각종 데이터와 프로그램 등을 저장할 수 있다. 메모리(870)는 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있다. 메모리(870)는 하드 디스크 등과 같은 대용량 저장 매체를 구비하여 각종 데이터를 저장할 수 있다.
이 밖에도, 프로세서(830)는 도 1 내지 도 7를 통해 전술한 적어도 하나의 방법 또는 적어도 하나의 방법에 대응되는 알고리즘을 수행할 수 있다. 프로세서(830)는 목적하는 동작들(desired operations)을 실행시키기 위한 물리적인 구조를 갖는 회로를 가지는 하드웨어로 구현된 데이터 처리 장치일 수 있다. 예를 들어, 목적하는 동작들은 프로그램에 포함된 코드(code) 또는 인스트럭션들(instructions)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 하드웨어로 구현된 예측 장치는 마이크로프로세서(microprocessor), 중앙 처리 장치(central processing unit), 프로세서 코어(processor core), 멀티-코어 프로세서(multi-core processor), 멀티프로세서(multiprocessor), ASIC(Application-Specific Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array)를 포함할 수 있다.
프로세서(830)는 프로그램을 실행하고, 의상 시뮬레이션 장치(800)를 제어할 수 있다. 프로세서(830)에 의하여 실행되는 프로그램 코드는 메모리(870)에 저장될 수 있다. 프로세서(830)는 예를 들어, CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphics Processing Unit), 또는 NPU(Neural network Processing Unit)으로 구성될 수 있다.
실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치, 또는 전송되는 신호 파(signal wave)에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.
800: 의상 시뮬레이션 장치
805: 통신 버스
810: 사용자 인터페이스
830: 프로세서
850: 출력 장치
870: 메모리

Claims (18)

  1. 의상의 2차원 패턴-상기 2차원 패턴은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링 됨-에서 셔링(shirring)을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계;
    상기 사용자의 설정에 기초하여, 상기 영역으로부터 제1 라인 및 상기 제1 라인과 평행하는 제2 라인을 획득하는 단계;
    상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하는 단계;
    상기 내부 라인들을 기초로, 상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들을 정렬하는 단계; 및
    상기 정렬된 다각형들에 의해 상기 셔링이 표현된 상기 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션하는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 사용자의 설정을 입력받는 단계는
    상기 2차원 패턴에서 상기 셔링을 표현할 영역에 대응하는 복수의 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 사용자의 설정을 입력받는 단계는
    상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계
    를 포함하고,
    상기 제1 라인 및 상기 제2 라인을 획득하는 단계는
    상기 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성하는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 2차원 패턴에서 상기 셔링이 표현될 영역의 높이에 대응하는 제1 파라미터, 및 상기 셔링의 간격에 대응하는 제2 파라미터 중 적어도 하나를 포함하는 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계
    를 더 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 사용자의 설정을 입력받는 단계는
    상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계
    를 포함하고,
    상기 제1 라인 및 상기 제2 라인을 획득하는 단계는
    상기 제1 라인으로부터 상기 제1 파라미터에 기초한 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성하는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 내부 라인들을 생성하는 단계는
    상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 상기 제2 파라미터에 기초한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 다각형들을 정렬하는 단계는
    상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들 각각의 한 변이 상기 내부 라인들과 일치하도록 상기 다각형들을 정렬하는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 3차원 의상을 착장 시뮬레이션하는 단계는
    상기 다각형들이 정렬된 2차원 패턴에서 상기 내부 라인들을 제거하는 단계; 및
    상기 내부 라인들이 제거된 2차원 패턴에 대응하는 상기 3차원 의상을 상기 착장 시뮬레이션하는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  9. 의상의 2차원 패턴- 2차원 패턴은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링 됨-에서 셔링(shirring)을 표현할 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받는 단계;
    상기 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 제2 라인을 생성하는 단계;
    상기 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제2 라인과 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하는 단계;
    상기 내부 라인들을 기초로, 상기 2차원 패턴에서 상기 셔링을 표현할 영역에 포함된 다각형들을 정렬하는 단계; 및
    상기 정렬된 다각형들에 의해 상기 셔링이 표현된 상기 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션하는 단계
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 방법.
  10. 하드웨어와 결합되어 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
  11. 의상의 2차원 패턴-상기 2차원 패턴은 복수의 다각형들을 포함하는 메쉬로 모델링 됨-에서 셔링(shirring)을 표현할 영역에 대한 사용자의 설정을 입력받는 사용자 인터페이스;
    상기 사용자의 설정에 기초하여, 상기 영역으로부터 제1 라인 및 상기 제1 라인과 평행하는 제2 라인을 획득하고, 상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 일정한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하고, 상기 내부 라인들을 기초로, 상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들을 정렬하며, 상기 정렬된 다각형들에 의해 상기 셔링이 표현된 상기 2차원 패턴에 대응하는 3차원 의상을 착장 시뮬레이션하는 프로세서; 및
    상기 착장 시뮬레이션된 3차원 의상을 출력하는 출력 장치
    를 포함하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 사용자 인터페이스는
    상기 2차원 패턴에서 상기 셔링을 표현할 영역에 대응하는 복수의 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받는,
    의상 시뮬레이션 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 사용자 인터페이스는
    상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받고,
    상기 프로세서는
    상기 제1 라인으로부터 일정 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 사용자 인터페이스는
    상기 2차원 패턴에서 상기 셔링이 표현될 영역의 높이에 대응하는 제1 파라미터, 및 상기 셔링의 간격에 대응하는 제2 파라미터 중 적어도 하나를 포함하는 셔링 속성에 대한 사용자의 설정을 입력받는,
    의상 시뮬레이션 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 사용자 인터페이스는
    상기 2차원 패턴에서 상기 제1 라인에 대한 사용자의 설정을 입력받고,
    상기 프로세서는
    상기 제1 라인으로부터 상기 제1 파라미터에 기초한 거리만큼 이격되고, 상기 제1 라인과 평행한 상기 제2 라인을 생성하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 영역의 제1 라인과 제2 라인 사이에서 상기 제1 라인 및 상기 제2 라인 중 적어도 하나와 수직하며 상기 제2 파라미터에 기초한 간격을 갖는 내부 라인들을 생성하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
  17. 제11항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 2차원 패턴의 상기 영역에 포함된 다각형들 각각의 한 변이 상기 내부 라인들과 일치하도록 상기 다각형들을 정렬하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
  18. 제11항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 다각형들이 정렬된 2차원 패턴에서 상기 내부 라인들을 제거하고, 상기 내부 라인들이 제거된 2차원 패턴에 대응하는 상기 3차원 의상을 상기 착장 시뮬레이션하는,
    의상 시뮬레이션 장치.
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