KR20210008025A - 고밀도 프로젝션 패턴들을 사용한 거리 측정 방법 - Google Patents

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아키테루 키무라
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Abstract

일 예에서, 방법은, 거리 센서의 처리 시스템에 의해 거리 센서의 패턴 프로젝터로 하여금 물체에 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계로서, 상기 패턴은 복수의 프로젝션 아티팩트를 포함하는, 상기 지시하는 단계와, 광의 패턴을 포함하는 물체의 이미지에서 복수의 아티팩트들 중 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치를 처리 시스템에 의해 검출하는 단계로서, 제 1 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 1 궤적에 대응하는 윈도우 내의 피크 광 강도 영역을 식별하는 단계를 포함하고, 궤적은 거리 센서의 이미징 센서상의 제 1 프로젝션 아티팩트의 잠재적인 이동의 범위를 나타내는, 상기 검출하는 단계, 및 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치에 부분적으로 기초하여 처리 시스템에 의해 거리 센서에서 물체까지의 거리를 계산하는 단계를 포함한다.

Description

고밀도 프로젝션 패턴들을 사용한 거리 측정 방법
본 출원은 2018년 6월 6일에 출원된 미국 가특허출원 제62/681,236호를 우선권으로 주장하며, 이는 그 전체가 본 명세서에 참조로 포함된다.
미국 특허출원 제14/920,246호, 제15/149,323호 및 제15/149,429호는 거리 센서들의 다양한 구성들을 설명한다. 이러한 거리 센서들은 보안, 게임, 무인 차량들의 제어 및 다른 애플리케이션들을 포함한 다양한 애플리케이션들에 유용할 수 있다.
이러한 애플리케이션들에 설명된 거리 센서들은 인간의 눈에 실질적으로 보이지 않는 파장(예를 들어, 적외선)으로 광 빔들을 시야에 투영하는 프로젝션 시스템들(예, 레이저들, 회절 광학 요소들, 및/또는 다른 협력 구성요소들을 포함)을 포함한다. 광의 빔들은 발산되어, 적절한 광 수신 시스템(예, 렌즈, 이미지 캡처 디바이스, 및/또는 다른 구성 요소들)에 의해 검출될 수 있는 패턴(점들, 짧은 선들 또는 다른 아티팩트들)을 생성한다. 패턴이 시야에 있는 물체에 입사할 때, 센서에서 물체까지의 거리는 센서의 광 수신 시스템에 의해 캡처될 수 있는 시야의 하나 이상의 이미지들에서 패턴의 외관(예, 점들, 짧은 선들 또는 다른 아티팩트들의 위치 관계)을 기반으로 계산될 수 있다. 물체의 모양과 크기도 결정될 수 있다.
예를 들어, 패턴의 외관은 물체까지의 거리에 따라 변할 수 있다. 예를 들어, 패턴이 점들의 패턴을 포함하는 경우, 물체가 센서에 가까울 때, 점들은 서로 더 가까워 보일 수 있고, 물체가 센서에서 멀어질 때 서로 멀리 떨어져 보일 수 있다.
본 개시사항은 고밀도 프로젝션 패턴들을 사용하는 거리 측정을 위한 장치, 방법 및 비-일시적 컴퓨터-판독가능 매체를 광범위하게 설명한다. 위에서 논의한 바와 같이, 미국 특허출원 제14/920,246호, 제15/149,323호 및 제15/149,429호에 설명된 것과 같은 거리 센서들은, 물체를 포함하는 시야에서 발산되어 패턴(예 : 점, 짧은 선들 또는 다른 아티팩트들)을 생성하는 광의 빔들을 투영함으로써, 물체까지의 거리(그리고 잠재적으로 물체의 모양과 치수)를 결정한다. 광의 빔은 인간의 눈에는 실질적으로 보이지 않지만 적절한 검출기(예를 들어, 광 수신 시스템의)에는 보이는 파장의 광을 방출하는 하나 이상의 레이저 광 소스들로부터 투영될 수 있다. 그런 다음 물체까지의 3 차원 거리는 삼각측량 기술을 사용하여 검출기에 대한 패턴의 외관을 기반으로 계산될 수 있다.
고밀도 패턴들(즉, 프로젝션 아티팩트들 사이의 거리가 작은 패턴들)은 더 높은 해상도의 거리 측정들이 이루어질 수 있도록 하기 때문에 종종 바람직하다. 그러나 이러한 패턴들의 고밀도는 거리 계산을 더 복잡하게 만들 수도 있다. 하나의 경우, 프로젝션 아티팩트들이 서로 가까울수록, 개별 프로젝션 아티팩트들의 궤적들의 이동(이동 영역들, 또는 잠재적 이동의 범위들)이 중첩할 가능성이 더 높다. 이러한 중첩은 센서가 개별 프로젝션 아티팩트들과 이들의 이동들을 구별하기 어렵게 만든다. 프로젝션 아티팩트의 이동이 프로젝션 아티팩트의 외관에 영향을 미치고, 프로젝션 아티팩트들의 외관을 기반으로 거리가 계산되기 때문에, 거리 측정을 복잡하게 하고, 더 긴 계산 시간을 초래한다.
또한, 물체가 센서에 가까울수록 심지어 더 낮은 밀도의 패턴도 밀도가 더 조밀하게 보일 수 있다. 특히 프로젝션 아티팩트들의 크기, 강도 및 간격은 물체까지의 거리에 따라 변한다. 센서가 물체에서 더 멀리 떨어질 때, 프로젝션 패턴은 덜 조밀하게 보일 것이고; 프로젝션 아티팩트들은 그 사이의 간격이 더 커지면서 더 작고 덜 밝게 보일 것이다. 센서가 물체에 더 가까울 때, 투영 패턴은 더 조밀하게 보일 것이고; 프로젝션 아티팩트는 그 사이의 간격이 더 작으면 더 크고 더 밝게 보일 것이다. 프로젝션 아티팩트들의 크기들, 강도들 및 모양들은 또한 물체의 모양, 반사율 및 반사율 분포에 따라 변할 수 있다.
더욱 복잡한 문제들로, 검출기에 의해 캡쳐된 이미지는 프로젝션 패턴에 추가하여 시각적 잡음을 포함할 수 있다. 이러한 시각적 잡음은 물체의 특성들(예 : 반사율) 및/또는 주변 조명 조건들의 결과로 발생할 수 있다. 시각적 잡음은 특히 프로젝션 패턴이 매우 조밀할 때 프로젝션 아티팩트를 효율적인 방식으로 정확하게 인식하는 것을 더 어렵게 만들 수 있다.
본 개시사항의 예들은 고밀도 프로젝션 패턴의 이미지에서 개별 프로젝션 아티팩트들을 신뢰성 있게 식별하는 방법을 제공하며, 여기서 이미지는 프로젝션 패턴에 추가하여 시각적 잡음을 포함할 수 있다. 특히, 본 개시사항의 예들은 종래 2-차원 문제였던 프로젝션 아티팩트 위치를 검출하는 문제를 1-차원 문제로 감소시킨다. 일 예에서, 각 프로젝션 아티팩트의 궤적에는 윈도우, 예를 들어 프로젝션 아티팩트가(삼각 측량 원리에 따라) 프로젝션 패턴에 나타날 것으로 예상되는 위치들의 고정된 물리적 범위가 할당된다. 본 개시사항의 예들은 거리 센서가 이들 윈도우들을 결정하도록 교정되었다고 가정한다. 그런 다음 주어진 프로젝션 아티팩트의 해당 궤적 윈도우 내에서 피크 광 강도 영역이 식별된다; 피크 광 강도의 이러한 영역은 프로젝션 아티팩트의 위치에 해당하는 것으로 간주된다. 프로젝션 아티팩트들의 위치들은 이러한 방식으로 빠르게 식별될 수 있어, 물체 거리의 신속한 삼각측량 및 계산을 허용할 수 있다. 추가 예들에서, 임계값들은 윈도우의 먼 단부들에 적용될 수 있어, 피크 광 강도가 이들 임계값들 너머에(예를 들어, 윈도우 가장자리들 중 하나에 너무 가깝게) 위치할 때, 프로젝션 아티팩트가 거리 계산으로부터 제거된다. 이것은 정확한 거리 계산을 허용하기 위해 센서에 너무 가까운 시각적 잡음 및 물체를 보상한다.
일 예에서, 방법은, 거리 센서의 처리 시스템에 의해 거리 센서의 패턴 프로젝터로 하여금 물체에 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계로서, 패턴은 복수의 프로젝션 아티팩트를 포함하며, 복수의 프로젝션 아티팩트들의 각 프로젝션 아티팩트는 거리 센서의 이미징 센서 상에서 각 프로젝션 아티팩트의 잠재적 이동 범위를 나타내는 궤적과 관련되며, 궤적들의 이동 방향에 대해 평행한 방향으로 인접한 두 궤적들 사이에 적어도 제 1 임계 거리가 존재하며, 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향으로 인접한 2개의 궤적들 사이에 적어도 제 2 임계 거리가 존재하는, 지시하는 단계, 광의 패턴을 포함하는 물체의 이미지에서 복수의 아티팩트들 중 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치를 처리 시스템에 의해 검출하는 단계로서, 제 1 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 1 궤적에 대응하는 제 1 윈도우 내의 피크 광 강도 영역을 식별하는 단계를 포함하는, 검출하는 단계, 및 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치에 부분적으로 기초하여 처리 시스템에 의해 거리 센서에서 물체까지의 거리를 계산하는 단계를 포함한다.
다른 예에서, 비-일시적 기계-판독가능 저장 매체는 프로세서에 의해 실행 가능한 명령들로 인코딩된다. 실행될 때, 명령들은 프로세서로 하여금 일 예에서 방법을 포함하는 동작들을 수행하게 하고, 이러한 방법은, 거리 센서의 패턴 프로젝터로 하여금 물체에 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계로서, 패턴은 복수의 프로젝션 아티팩트를 포함하며, 복수의 프로젝션 아티팩트들의 각 프로젝션 아티팩트는 거리 센서의 이미징 센서 상에서 각 프로젝션 아티팩트의 잠재적 이동 범위를 나타내는 궤적과 관련되며, 궤적들의 이동 방향에 대해 평행한 방향으로 인접한 두 궤적들 사이에 적어도 제 1 임계 거리가 존재하며, 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향으로 인접한 2개의 궤적들 사이에 적어도 제 2 임계 거리가 존재하는, 지시하는 단계, 광의 패턴을 포함하는 물체의 이미지에서 복수의 아티팩트들 중 제 1 아티팩트의 위치를 검출하는 단계로서, 제 1 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 1 궤적에 대응하는 제 1 윈도우 내의 피크 광 강도 영역을 식별하는 단계를 포함하는, 검출하는 단계, 및 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치에 부분적으로 기초하여 거리 센서에서 물체까지의 거리를 계산하는 단계를 포함한다.
다른 예에서, 방법은 거리 센서의 처리 시스템에 의해 거리 센서의 패턴 프로젝터로 하여금 물체에 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계로서, 패턴은 복수의 프로젝션 아티팩트를 포함하는, 지시하는 단계, 광의 패턴을 포함하는 물체의 이미지에서 복수의 아티팩트들 중 제 1 아티팩트의 위치를 처리 시스템에 의해 검출하는 단계로서, 검출하는 단계는 제 1 프로젝션 아티팩트의 궤적에 대응하는 윈도우 내의 피크 광 강도 영역을 식별하는 단계를 포함하고, 궤적은 거리 센서의 이미징 센서상의 제 1 프로젝션 아티팩트의 잠재적인 이동의 범위를 나타내는, 검출하는 단계, 및 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치에 부분적으로 기초하여 처리 시스템에 의해 거리 센서에서 물체까지의 거리를 계산하는 단계를 포함한다.
도 1은 본 개시사항의 예들에 따른, 거리 센서의 프로젝션 시스템에 의해 생성된 프로젝션 패턴에서 프로젝션 아티팩트들의 위치들을 검출하기 위한 윈도우들의 사용을 개념적으로 도시하는 도면.
도 2는 본 개시사항의 예들에 따른 복수의 프로젝션 아티팩트들의 궤적들의 확대도.
도 3은 본 개시사항에 따른, 단일 프로젝션 아티팩트에 대한 윈도우 및 관련 기하학적 외형을 도시하는 도면.
도 4는 물체가 거리 센서에 너무 가까워서 패턴의 영역에 있는 프로젝션 아티팩트들이 너무 크거나 밝아서 프로젝션 아티팩트들이 서로 겹치게 되어 개별 프로젝션 아티팩트들을 구별하기 어려운 예시적인 프로젝션 패턴을 도시하는 도면.
도 5는 광학 잡음이 프로젝션 패턴의 영역에서 개별 프로젝션 아티팩트들을 구별하기 어렵게 하는 예시적인 프로젝션 패턴을 도시하는 도면.
도 6은 도 3의 윈도우에 광학 잡음이 존재하는 경우를 나타내는 도면.
도 7은 본 개시사항에 따른 고밀도 프로젝션 패턴들을 이용한 거리 측정 방법의 일 예를 나타내는 흐름도.
도 8은 센서로부터 물체까지의 거리를 계산하기 위한 예시적인 전자 디바이스의 상위-레벨 블록도.
도 1은 본 개시사항의 예들에 따른 거리 센서의 프로젝션 시스템에 의해 생성된 프로젝션 패턴에서 프로젝션 아티팩트들의 위치를 검출하기 위한 윈도우의 사용을 개념적으로 도시한다. 도 1의 예에서, 프로젝션 아티팩트들은 점들로 도시된다; 그러나 프로젝션 아티팩트들은 짧은 선들, x, 등과 같은 다른 형태들을 취할 수 있다. 따라서,도 1은 예시를 위해 점들을 사용한다. 프로젝션 아티팩트들은 그리드의 x 및 y 축을 따라 배열될 수 있어, 복수의 행들과 복수의 열들이 형성된다. 이러한 배열은 y 축에 평행한(예를 들어, 행에 직교하는) 중심선(미도시)에 대해 대칭일 수 있다. 프로젝션 아티팩트의 궤적들(1021-102n)(이하 개별적으로 "궤적(102)" 또는 집합적으로 "궤적들(102")로 지칭됨)은 x 축에 평행이다(x 축을 따라, 이동한다).
일 예에서, 각각의 궤적(102)은 대응하는 윈도우(1041-104n)(이하 개별적으로 "윈도우(104)" 또는 집합적으로 "윈도우들(104)"로 지칭됨)와 관련된다. 위에서 논의된 바와 같이, 궤적(102)에 대한 윈도우(104)는 프로젝션 패턴이 거리가 계산될 물체에 투영될 때 대응하는 프로젝션 아티팩트가 프로젝션 패턴에 나타날 것으로 예상되는 위치들의 고정된 물리적 범위를 나타낸다. 일 예에서, 각각의 윈도우(104)는 실질적으로 원추형 또는 테이퍼진 모양을 가질 수 있다. 예를 들어, 도 1에서, 각 윈도우(104)의 좌측은 각 윈도우의 우측보다 더 좁은 것으로 도시되었다. 이 모양은 물체 거리로 인한 프로젝션 아티팩트 크기의 변화들을 설명한다. 특히 거리 센서가 물체에서 멀어 질수록, 프로젝션 아티팩트는 물체 상에서 더 작게 보일 것이다. 반대로, 거리 센서가 물체에 가까울수록, 프로젝션 아티팩트는 물체 상에서 더 크게 보일 것이다. 따라서, 각 윈도우(104)의 더 좁은 단부(106)는 대응하는 프로젝션 아티팩트를 검출하기 위한 먼 한계 거리를 나타내는 반면, 윈도우의 더 넓은 단부(108)는 대응하는 프로젝션 아티팩트를 검출하기 위한 가까운 한계 거리를 나타낸다.
예시된 예에서, 동일 직선상의 인접한 궤적들(102) 사이에 중첩이 없음에 주목해야 한다. 즉, 프로젝션 패턴의 동일한 행에 나타나는 2개의 인접한 프로젝션 아티팩트들의 궤적들(102)(궤적(1021 및 1022)과 같은)은 중첩되지 않는다. 이것은 도 2에 개념적으로 도시되어 있고, 도 2는 본 개시사항의 예들에 따른 복수의 프로젝션 아티팩트들의 궤적들(2001-200m)(이하 개별적으로 "궤적(200)"또는 집합적으로 "궤적들(200)"로 지칭됨)의 클로즈업 뷰를 도시한다. 예시된 바와 같이, 동일한 행 내에서 주어진 궤적의 가까운 한계 거리(예를 들어, 대응하는 윈도우의 넓은 단부)와 인접 궤적의 먼 한계 거리(예를 들어, 윈도우의 좁은 단부) 사이에 적어도 하나의 임계 거리(d1)(d1> 0)가 존재한다. 또한, 주어진 궤적(200)의 궤적 중심(예를 들어, x 축에 평행한 궤적(200)을 통과하는 가상의 선(2021-202m))과 y 축을 따라 이동하는 인접한 궤적(200)의 궤적 중심 사이에 적어도 하나의 임계 거리(d2)(d2> 0)가 존재한다. 따라서, 어떠한 2개의 프로젝션 아티팩트들도 동일한 궤적 중심(202)을 공유할 수 없다. 또한, 어떠한 2개의 윈도우들도 중첩하지 않는다. 도 2의 패턴은 단순화되었음을 주목해야 한다. 예를 들어, 인접한 행들 사이(예: x 축을 따라) 또는 인접한 열들 사이(예: y 축을 따라)에 오프셋이 존재할 수 있다.
도 3은 본 개시사항에 따른, 단일 프로젝션 아티팩트(302)에 대한 윈도우(300) 및 관련된 기하학적 외형을 도시한다. 도 3은 또한 윈도우(300)를 가로질러 광 강도(또는 "픽셀 값")의 분포의 그래프(304)를 도시한다. 여기서, "픽셀 값"은 거리 센서의 이미징 센서(310)의 특정 픽셀에서 측정된 이미지 내의 광 강도를 표시하는 값을 나타낸다. 도시된 바와 같이, 피크 광 강도(그래프(304)의 피크(306)로 표시)는 윈도우(300) 내에서 프로젝션 아티팩트(302)의 위치와 일치한다.
일 예에서, 윈도우(300) 내의 광 강도의 불-균일성의 영향을 줄이기 위해, y 방향의 광 강도(lΔxk)의 평균은 윈도우(300)의 서브-윈도우(예: 미세한 영역)에 대해 계산될 수 있다. 이러한 하위-윈도우는 윈도우(300)의 y 방향 전체에 걸쳐, 하지만 윈도우(300)의 x 방향(예: 프로젝션 아티팩트의 이동 방향)의 미세한 또는 제한된 부분(예: 5% 이하)에 걸쳐 늘어날 수 있다.
추가적으로, x 방향에서의 광 강도(lΔxk)의 분포뿐만 아니라 임계 범위 또는 값(s)을 초과하는 광 강도의 x 방향에서의 분포(도 3에 선(308)으로 표시)가 결정될 수 있다. 일 예에서, 광 강도 분포 임계 범위의 한계들(Rxmin 및 Rxmax)은 x 방향에서 프로젝션 아티팩트의 위치(x1)(즉:Rx1min, Rx1max)에 대해 일정하거나 다른 값들을 갖는다. 추가적인 예에서, 임계 값(s)은 x 방향에서의 위치(xk)에 대해 일정한 값 또는 다른 값을 가질 수 있다.
따라서, 거리 센서의 이미지 센서에 의해 획득된 이미지가 프로젝션 아티팩트(302)에 대응하는지 여부를 결정하기 위해, 다음 단계들이 수행될 수 있다. 먼저, 광 강도(lΔxk)의 x 방향의 픽셀 x1(Rx1)에서 광 강도 분포 범위는 광 강도 분포 임계 범위(Rx1min, Rx1max)와 비교된다. 광 강도 분포 임계 값 범위(Rx1min, Rx1max)는 윈도우(300)의 원거리 한계 거리 및 근거리 한계 거리를 고려에서 제거함으로써 윈도우(300)를 단축시킬 수 있다.
광 강도(lΔxk)의 x 방향의 x1(Rx1)에서의 광 강도 분포 범위가 광 강도 분포 임계 범위(Rx1min, Rx1max)를 벗어날 때, 프로젝션 아티팩트(302)은 무시될 수 있다(예: 거리 측정 계산에서 배제될 수 있다). 예를 들어, Rx1이 Rx1max보다 클 때, 이것은 물체가 거리 센서에 너무 가까워, 거리 센서가 프로젝션 아티팩트(302)를 신뢰성 있게 관찰할 수 없음을 나타낼 수 있다. 이 상황의 일 예가 도 3에 도시되었고, 도 4는 물체가 거리 센서에 너무 가까워서 패턴(400)의 영역(402)에 있는 프로젝션 아티팩트가 너무 크거나 밝아서 프로젝션 아티팩트가 서로 겹쳐 개별 프로젝션 아티팩트들을 구별하는 것을 어렵게 하는 예시적인 프로젝션 패턴(400)을 도시한다.
유사하게, Rx1이 Rx1min보다 작을 때, 검출된 광은 프로젝션 아티팩트(302)보다는 잡음의 결과일 가능성이 높다. 이러한 상황의 일 예가 도5에 도시되었고, 도 5는 광학 잡음(502)이 프로젝션 패턴(500)의 영역에서 개별 프로젝션 아티팩트들을 구별하는 것을 어렵게 하는 예시적인 프로젝션 패턴(500)을 도시한다. 도 6은 또한 도 3의 윈도우(300)에 광학 잡음이 존재하는 경우를 도시한다. 도 6에 도시된 바와 같이. 광학 잡음의 존재는 Rx1이 광 강도 분포 임계 범위(Rx1min, Rx1max)를 벗어나게 한다.
그러나, 광 강도(lΔxk)의 x 방향의 x1(Rx1)에서의 광 강도 분포 범위가 광 강도 분포 임계 범위(Rx1min, Rx1max)에 포함되면, 프로젝션 아티팩트(302)의 위치는추가 동작들을 통해 검출될 수 있다. 일 예에서, 광 강도 분포 임계 범위(Rx1min, Rx1max)에 포함되는 각 픽셀 값에 대해, X0(프로젝션 아티팩트)의 값이 미리 결정된 알고리즘(예: 중심값, 중간값, 등을 취함)에 따라 계산된다. 그러나 광 강도 분포와 프로젝션 아티팩트 위치 사이의 관계가 렌즈 특성들, 빔 프로젝션 특성들, 및 다른 요인들로 인해 변할 수 있음에 주목해야 한다.
도 7은 본 개시사항에 따른 고밀도 프로젝션 패턴들을 사용하는 거리 측정을 위한 방법(700)의 일 예를 도시하는 흐름도이다. 방법(700)은 예를 들어, 거리 센서의 프로세서 또는 도 8에 도시된 프로세서(802)와 같은 프로세서에 의해 수행될 수 있다. 예를 들어, 방법(700)은 처리 시스템에 의해 수행되는 것으로 설명된다.
방법(700)은 단계(702)에서 시작할 수 있다. 단계(704)에서, 처리 시스템은 광의 패턴이 물체에 투영되게 할 수 있다. 광의 패턴은 거리 센서의 프로젝션 시스템의 복수의 빔들에 의해 생성될 수 있다. 복수의 빔들은 복수의 프로젝션 아티팩트들을 물체에 투영할 수 있고, 여기서 프로젝션 아티팩트들은 집합적으로 광의 패턴 또는 "프로젝션 패턴"을 형성한다. 프로젝션 패턴의 기하학적 제약들은 위의 도 2에 의해 한정될 수 있다. 위에서 논의된 바와 같이, 광은 인간의 눈에는 실질적으로 보이지 않지만 거리 센서의 이미징 센서에 의해 감지될 수 있는 파장(예를 들어, 적외선)일 수 있다.
단계(706)에서, 처리 시스템은 복수의 빔들 중 제 1 빔에 할당된 윈도우를 식별할 수 있다. 일 예에서, 복수의 빔들 중 적어도 일부 빔들에는 위에서 논의된 바와 같이 빔들이 물체 상에서 생성하는 각각의 프로젝션 아티팩트에 대해 각각의 검출 영역들 또는 "윈도우들"이 할당된다고 가정한다. x 방향의 윈도우들의 길이들은 미리 결정될 수 있고, 중첩되지 않는다. 일 예에서, 제 1 빔에 할당된 윈도우는 거리 센서의 이미지 센서 상의 제 1 빔의 프로젝션 아티팩트의 이미지 직경 이하인 프로젝션 패턴의 y 방향의 폭을 갖는다.
단계(708)에서, 처리 시스템은 윈도우의 y 방향(예: 프로젝션 아티팩트들의 궤적들에 수직인 방향)에서 광 강도(예: 거리 센서의 이미징 센서에 의해 수신된 광)의 양(예: 합계 또는 평균)을 계산할 수 있다. y 방향의 광 강도의 양은 y 방향으로 윈도우 전체를 가로질러, 하지만 x 방향에서 윈도우의 미세 부분(예: 5% 이하)을 가로질러 늘어나는 하위-윈도우에 대해 계산될 수 있다.
단계(710)에서, 처리 시스템은 윈도우의 x 방향(예: 프로젝션 아티팩트들의 궤적들에 평행한 방향)을 가로지르는 광 강도 분포가 제 1 미리한정된 임계값을 초과하는 윈도우의 영역을 식별할 수 있다. 일 예에서, 미리한정된 제 1 임계의 값은 x 방향을 따른 위치에 따라 설정된다. 윈도우의 이러한 영역은 x1로 표시될 수 있다.
다음으로, 처리 시스템은 단계(708)에서 식별된 윈도우의 영역 x1에서의 광 강도 분포가 광 강도 분포 임계 범위(Rx1min, Rx1max)를 벗어나는지 여부를 결정할 수 있다. 일 예에서, 광 강도 분포 임계 값 범위의 최소값과 최대값은 x 방향을 따른 위치에 따라 다른 값들을 갖는다. 임계 범위(Rx1min, Rx1max)
단계(712)에서, 처리 시스템은 광 강도 분포가 광 강도 분포 임계 범위의 최대값(Rx1max)을 초과하는지 여부를 결정할 수 있다. 처리 시스템이 단계(712)에서 광 강도 분포가 광 강도 분포 임계 범위의 최대값을 초과한다고 결정하면, 처리 시스템은 단계(714)로 진행할 수 있다. 단계(714)에서, 처리 시스템은 제 1 빔과 관련된 프로젝션 아티팩트를 거리 계산에서 배제할 수 있다.
이 경우, 처리 시스템은 거리가 검출되는 물체가 거리 센서에 너무 가까워서 제 1 빔과 관련된 프로젝션 아티팩트를 사용하여 정확한 거리 측정을 허용할 수 없다고 가정할 수 있다. 일 예에서, 프로세싱 시스템은 이러한 가정을 메모리에 저장할 수 있다. 후속적으로, 인접한 윈도우들의 적어도 하나의 임계 수가 광 강도 분포 임계 범위의 최대값을 초과하는 광 강도 분포를 포함하는 것으로 결정되면, 처리 시스템은 물체가 거리 센서에 너무 가깝다고 결론을 내릴 수 있다. 처리 시스템은 사용자로 하여금 물체와 거리 센서 사이의 거리를 조정하도록 경고하는 신호를 생성할 수 있다. 대안적으로, 인접 윈도우들의 임계 수 미만이 광 강도 분포 임계 범위의 최대값을 초과하는 광 강도 분포를 포함하는 것으로 결정되면, 처리 시스템은 광학/광 잡음이 존재한다고 결론을 내릴 수 있다. 이 경우, 처리 시스템은 거리 센서의 이미지 캡처 수단의 설정들(예: 노출 시간)을 조정할 수 있거나, 사용자로 하여금 조정하도록 경고하는 신호를 생성할 수 있다.
다시 단계(712)를 참조하면, 처리 시스템이 단계(712)에서 광 강도 분포가 광 강도 분포 임계 범위의 최대값을 초과하지 않는다고 결정하면, 처리 시스템은 단계(716)로 진행할 수 있다. 단계(716)에서, 처리 시스템은 광 강도 분포가 광 강도 분포 임계 범위의 최소값(Rx1min) 미만으로 떨어지는지 여부를 결정할 수 있다.
처리 시스템이 단계(716)에서 광 강도 분포가 광 강도 분포 임계 범위의 최소값 아래로 떨어지는 것으로 결정하면, 처리 시스템은 단계(718)로 진행할 수 있다. 단계(718)에서, 처리 시스템은 제 1 빔과 관련된 프로젝션 아티팩트를 거리 계산에서 배제할 수 있다. 이 경우, 처리 시스템은 윈도우 내에서 검출된 광이 프로젝션 아티팩트가 아니라 광학/광 잡음이라고 간주할 수 있다.
대안으로, 처리 시스템이 단계(716)에서 광 강도 분포가 광 강도 분포 임계 범위의 최소값 미만으로 떨어지지 않는다고 결정하면, 방법(700)은 단계(720)으로 진행할 수 있다. 단계(720)에서, 처리 시스템은 단계(708)에서 식별된 영역 x1에서 광 강도의 양에 따라 이미징 센서 상의 프로젝션 아티팩트의 위치를 결정할 수 있다. 일 예에서, 이러한 양은 광 강도의 중심값 및/또는 중간값(프로젝션 아티팩트의 중심을 나타낼 수 있음)을 포함할 수 있다..
프로젝션 아티팩트가 단계(714) 또는 단계(718)에 따라 거리 계산에서 배제되거나, 프로젝션 아티팩트의 위치가 단계(720)에서 결정되면, 방법(700)은 단계(722)로 진행한다. 단계(722)에서, 처리 시스템은 광 강도에 기초하여 식별된 복수의 프로젝션 아티팩트의 위치에 따라(예를 들어, 방법(700)에 따라) 물체로부터 거리 센서까지의 거리를 계산할 수 있다. 따라서, 방법(700)은 복수의 빔들과 관련된 복수의 윈도우들에 대해 수행될 수 있으므로, 다수의 프로젝션 아티팩트들의 위치들이 식별될 수 있다.
방법(700)은 단계(724)에서 종료될 수 있다.
따라서, 방법(700)은 고정된 윈도우 내에서 피크 광 강도의 영역들을 찾음으로써, 프로젝션 아티팩트 위치를 결정하는 종래의 2-차원 문제를 1-차원 문제로 변환한다. 이러한 피크 강도 영역들은 특정 임계 기준을 충족하는 경우 프로젝션 아티팩트들의 위치들을 나타내는 것으로 간주할 수 있다.
일부 경우들에서, 윈도우 내의 다수의 영역들이 임계 기준을 충족할 수 있다는 점(예: 다수 영역들이 광 강도 분포 임계 범위 내에 포함되는 피크 광 강도를 가질 수 있음)에 주목해야 한다. 이러한 경우, 이들 윈도우들과 관련된 빔들에 의해 생성된 프로젝션 아티팩트들은 거리 계산에서 배제될 수 있다.
명시적으로 언급되지는 않았지만, 상술한 방법(700)의 블록들, 기능들 또는 동작들 중 일부는 특정 애플리케이션을 위한 저장, 디스플레이 및/또는 출력을 포함할 수 있음에 주목해야 한다. 즉, 방법(700)에서 논의된 임의의 데이터, 기록들, 필드들 및/또는 중간 결과들은 특정 애플리케이션에 따라 다른 디바이스에 저장, 디스플레이 및/또는 출력될 수 있다. 더욱이, 결정 동작을 열거하거나, 결정을 포함하는 도 7의 블록들, 기능들 또는 동작들은 결정 동작의 두 가지 분기가 모두 실행된다는 것을 의미하지는 않는다. 즉, 결정 동작의 결과들에 따라, 결정 동작의 분기들 중 하나는 수행되지 않을 수 있다.
도 8은 센서로부터 물체까지의 거리를 계산하기 위한 예시적인 전자 디바이스(800)의 상위-레벨 블록도를 도시한다. 이와 같이, 전자 디바이스(800)는 거리 센서와 같은 전자 디바이스 또는 시스템의 프로세서로 구현될 수 있다.
도 8에 도시된 바와 같이, 전자 디바이스(800)는 하드웨어 프로세서 요소(802), 예를 들어 중앙 처리 유닛(CPU), 마이크로 프로세서, 또는 멀티-코어 프로세서, 메모리(804), 예를 들어 랜덤 액세스 메모리(RAM) 및/또는 판독 전용 메모리(ROM), 센서에서 물체까지의 거리를 계산하기 위한 모듈(805), 및 다양한 입/출력 디바이스들(806), 예를 들어 테이프 드라이브, 플로피 드라이브, 하드 디스크 드라이브 또는 컴팩트 디스크 드라이브를 포함하지만 이에 제한되지 않는 저장 디바이스들, 수신기, 송신기, 디스플레이, 출력 포트, 입력 포트 및 키보드, 키패드, 마우스, 마이크, 카메라, 레이저 광원, LED 광원, 등과 같은 사용자 입력 디바이스를 포함한다.
하나의 프로세서 요소가 도시되어 있지만, 전자 디바이스(800)는 복수의 프로세서 요소들을 사용할 수 있음에 주목해야 한다. 또한, 하나의 전자 디바이스(800)가 도면에 도시되어 있지만, 위에서 논의된 방법(들)이 특정 예시적인 예를 위해 분산 또는 병렬 방식으로 구현되는 경우, 즉, 위의 방법(들)의 블록들 또는 전체 방법(들)이 다수의 또는 병렬 전자 디바이스들에 걸쳐 구현되는 경우, 본 도면의 전자 디바이스(800)는 이들 다수의 전자 디바이스들의 각각을 나타내도록 의도된다.
본 개시사항이 예를 들어 ASIC(주문형 집적 회로), FPGA(필드-프로그램 가능 게이트 어레이)를 포함하는 PLA(프로그램 가능한 로직 어레이)를 사용하여, 기계 판독가능 명령들에 의해 및/또는 기계 판독가능 명령들 및 하드웨어의 조합으로 구현될 수 있거나, 또는 하드웨어 디바이스에 전개된 상태 머신, 범용 컴퓨터 또는 임의의 다른 하드웨어 등가물, 예를 들어 위에서 논의한 방법(들)에 관련된 컴퓨터 판독가능 명령들이 상술한 방법(들)의 블록들, 기능들 및/또는 동작들을 수행하는 하드웨어 프로세서를 구성하는데 사용될 수 있음에 주목해야 한다.
일 예에서, 센서로부터 물체까지의 거리를 계산하기 위한 본 모듈 또는 프로세스(805)에 대한 명령들 및 데이터, 예를 들어, 기계 판독가능 명령들은, 방법(700)과 관련하여 위에서 논의된 블록들, 기능들 또는 동작들을 구현하기 위하여, 메모리(804)에 로드되어 하드웨어 프로세서 요소(802)에 의해 실행될 수 있다. 또한, 하드웨어 프로세서가 "동작들"을 수행하기 위하여 명령들을 실행할 때, 이것은 동작들을 수행하기 위해, 동작을 직접 수행하고/하거나 다른 하드웨어 디바이스 또는 구성요소를 촉진, 지시 또는 협력하는 하드웨어 프로세서, 예를 들어 코프로세서, 등를 포함할 수 있다.
상술한 방법(들)과 관련된 기계 판독가능 명령들을 실행하는 프로세서는 프로그래밍된 프로세서 또는 특수 프로세서로 인식될 수 있다. 이와 같이, 센서로부터 물체까지의 거리를 계산하기 위한 본 개시사항의 본 모듈(805)은, 유형 또는 물리적(넓게는 비-일시적) 컴퓨터-판독가능 저장 디바이스 또는 매체, 예를 들어, 휘발성 메모리, 비-휘발성 메모리, ROM 메모리, RAM 메모리, 자기 또는 광학 드라이브, 디바이스 또는 디스켓, 등에 저장될 수 있다. 보다 구체적으로, 컴퓨터-판독가능 저장 디바이스는 안전 센서 시스템의 컴퓨터 또는 컨트롤러와 같은 프로세서 또는 전자 디바이스에 의해 액세스될 데이터 및/또는 명령들과 같은 정보를 저장하는 능력을 제공하는 임의의 물리적 디바이스들을 포함할 수 있다.
상술한 다른 특징들 및 기능들의 변형들, 또는 그 대안들은 많은 다른 상이한 시스템들 또는 애플리케이션들에 결합될 수 있음이 이해될 것이다. 현재 생각치 않은 또는 예상치 못한 다양한 대안들, 수정들 또는 변경들이 후속적으로 만들어 질 수 있으며, 이들은 또한 다음의 청구항들에 포함되도록 의도된다.

Claims (20)

  1. 방법에 있어서,
    거리 센서의 처리 시스템에 의해, 상기 거리 센서의 패턴 프로젝터로 하여금 물체에 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계로서, 상기 패턴은 복수의 프로젝션 아티팩트들을 포함하며, 상기 복수의 프로젝션 아티팩트들의 각 프로젝션 아티팩트는 상기 거리 센서의 이미징 센서 상에서 상기 각 프로젝션 아티팩트의 잠재적 이동 범위를 나타내는 궤적과 관련되며, 상기 궤적들의 이동 방향에 평행한 방향으로 인접한 두 궤적들 사이에 적어도 제 1 임계 거리가 존재하며, 상기 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향으로 인접한 2개의 궤적들 사이에 적어도 제 2 임계 거리가 존재하는, 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계;
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 광의 패턴을 포함하는 상기 물체의 이미지에서 상기 복수의 아티팩트들 중 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치를 검출하는 단계로서, 상기 제 1 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 1 궤적에 대응하는 제 1 윈도우 내의 피크 광 강도 영역을 식별하는 단계를 포함하는, 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치를 검출하는 단계; 및
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치상에 부분적으로 기초하여 상기 거리 센서에서 상기 물체까지의 거리를 계산하는 단계를 포함하는, 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 복수의 프로젝션 아티팩트들 중 제 2 프로젝션 아티팩트의 위치를, 상기 제 2 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 2 궤적에 대응하는 제 2 윈도우 내의 피크 광 강도의 영역이 미리 한정된 임계 범위 밖에 포함될 때, 계산에서 배제하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 2 윈도우 내의 피크 광 강도 영역이 상기 임계 범위의 최대 값보다 클 때, 그리고 상기 제 2 윈도우에 인접한 윈도우들의 적어도 임계 수가 또한 상기 최대 값보다 큰 피크 광 강도들을 나타낼 때, 상기 물체가 상기 거리 센서에 너무 가까워 상기 제 2 프로젝션 아티팩트의 신뢰성 있는 관찰을 허용할 수 없다고 간주하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 사용자로 하여금 상기 물체와 상기 거리 센서 사이의 거리를 조정하도록 경고하는 신호를 생성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 2 윈도우 내의 상기 피크 광 강도 영역이 상기 임계 범위의 최대값보다 클 때, 그리고 상기 제 2 윈도우에 인접한 임계 수 미만의 윈도우들이 또한 상기 최대값보다 큰 피크 광 강도를 나타낼 때, 광학 잡음이 너무 많아서 상기 제 2 프로젝션 아티팩트의 신뢰성 있는 관찰을 허용할 수 없다고 간주하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 사용자로 하여금 상기 거리 센서의 이미지 캡처 수단의 설정들을 조정하도록 경고하는 신호를 생성하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 2 윈도우 내의 상기 피크 광 강도 영역이 임계 범위의 최소값보다 작을 때, 너무 많은 광학 잡음이 존재하여 상기 제 2 프로젝션 아티팩트의 신뢰성 있는 관찰을 허용할 수 없다고 간주하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향에서 상기 제 1 윈도우의 폭은 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 직경 이하인, 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 검출 단계 이전에,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 1 윈도우의 하위-윈도우에 걸친 광 강도의 양을 계산하는 단계로서, 상기 하위-윈도우는 상기 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향으로 상기 제 1 윈도우 전체를 가로질러 늘어나지만, 상기 궤적들의 이동 방향에 평행한 방향으로 상기 제 1 윈도우 전체 미만을 가로질러 늘어나는, 상기 광 강도의 양을 계산하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 양은 상기 광 강도의 합인, 방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 양은 상기 광 강도의 평균인, 방법.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 피크 광 강도는 상기 제 1 윈도우 내의 상기 광 강도의 중심 값을 포함하는, 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 피크 광 강도는 상기 제 1 윈도우 내의 광 강도의 중간 값(median value)을 포함하는, 방법.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 피크 광 강도의 적어도 2개 영역들이 상기 제 2 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 2 궤적에 대응하는 제 2 윈도우 내에서 검출될 때, 상기 복수의 프로젝션 아티팩트들 중 제 2 프로젝션 아티팩트의 위치를 계산에서 제외하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  15. 거리 센서의 프로세서에 의해 실행 가능한 명령으로 인코딩된 비일시적 기계-판독가능 저장 매체로서, 실행될 때, 상기 명령은 상기 프로세서로 하여금 동작들을 수행하게 하고, 상기 동작들은:
    상기 거리 센서의 패턴 프로젝터로 하여금 물체에 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계로서, 상기 패턴은 복수의 프로젝션 아티팩트들을 포함하고, 상기 복수의 프로젝션 아티팩트들의 각 프로젝션 아티팩트는 상기 거리 센서의 이미징 센서 상에서 상기 각 프로젝션 아티팩트의 잠재적 이동 범위를 나타내는 궤적과 관련되며, 상기 궤적들의 이동 방향에 평행한 방향으로 인접한 2개의 궤적들 사이에 적어도 제 1 임계 거리가 존재하며, 상기 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향으로 인접한 2개의 궤적들 사이에 적어도 제 2 임계 거리가 존재하는, 상기 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계;
    상기 광의 패턴을 포함하는 상기 물체의 이미지에서 상기 복수의 아티팩트들 중 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치를 검출하는 단계로서, 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 궤적에 대응하는 윈도우 내의 피크 광 강도 영역을 식별하는 단계를 포함하는, 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치를 검출하는 단계; 및
    상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치에 부분적으로 기초하여 상기 거리 센서에서 상기 물체까지의 거리를 계산하는 단계를 포함하는, 비일시적 기계-판독가능 저장 매체.
  16. 방법에 있어서,
    거리 센서의 처리 시스템에 의해, 상기 거리 센서의 패턴 프로젝터로 하여금 물체에 복수의 프로젝션 아티팩트를 포함하는 광의 패턴을 투영하도록 지시하는 단계;
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 광의 패턴을 포함하는 상기 물체의 이미지에서 상기 복수의 아티팩트들 중 제 1 아티팩트의 위치를 검출하는 단계로서, 상기 검출하는 단계는 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 궤적에 대응하는 윈도우 내의 피크 광 강도 영역을 식별하는 단계를 포함하고, 상기 궤적은 상기 거리 센서의 이미징 센서 상의 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 잠재적인 이동의 범위를 나타내는, 상기 검출하는 단계; 및
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 위치에 부분적으로 기초하여 상기 거리 센서에서 상기 물체까지의 거리를 계산하는 단계를 포함하는, 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 2 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 2 궤적에 대응하는 제 2 윈도우 내의 피크 광 강도의 영역이 미리 한정된 임계 범위 밖에 포함될 때, 상기 복수의 프로젝션 아티팩트들 중 제 2 프로젝션 아티팩트의 위치를 계산에서 배제하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  18. 제 16 항에 있어서,
    상기 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향에서 상기 제 1 윈도우의 폭은 상기 제 1 프로젝션 아티팩트의 직경 이하인, 방법.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 검출 단계 이전에,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 1 윈도우의 하위-윈도우에 걸친 광 강도의 양을 계산하는 단계로서, 상기 하위-윈도우는 상기 궤적들의 이동 방향에 수직인 방향으로 상기 제 1 윈도우 전체를 가로질러 늘어나지만, 상기 궤적들의 이동 방향에 평행한 방향으로 상기 제 1 윈도우 전체 미만을 가로질러 늘어나는, 상기 광 강도의 양을 계산하는 단계를 더 포함하는, 방법.
  20. 제 16 항에 있어서,
    상기 처리 시스템에 의해, 상기 제 2 프로젝션 아티팩트과 관련된 제 2 궤적에 대응하는 제 2 윈도우 내에서 피크 광 강도의 적어도 2개 영역들이 검출될 때, 상기 복수의 프로젝션 아티팩트들 중 제 2 프로젝션 아티팩트의 위치를 계산에서 배제하는 단계를 더 포함하는, 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102595391B1 (ko) 2016-12-07 2023-10-31 매직 아이 인코포레이티드 조정 가능한 초점 이미징 센서를 포함한 거리 센서
EP3692396A4 (en) 2017-10-08 2021-07-21 Magik Eye Inc. DISTANCE MEASUREMENT USING A LONGITUDINAL GRID PATTERN
US10885761B2 (en) 2017-10-08 2021-01-05 Magik Eye Inc. Calibrating a sensor system including multiple movable sensors
WO2019182881A1 (en) 2018-03-20 2019-09-26 Magik Eye Inc. Distance measurement using projection patterns of varying densities
JP7354133B2 (ja) 2018-03-20 2023-10-02 マジック アイ インコーポレイテッド 三次元深度検知及び二次元撮像のためのカメラ露出調節
CN112513565B (zh) * 2018-06-06 2023-02-10 魔眼公司 使用高密度投影图案的距离测量
US11475584B2 (en) 2018-08-07 2022-10-18 Magik Eye Inc. Baffles for three-dimensional sensors having spherical fields of view
WO2020150131A1 (en) 2019-01-20 2020-07-23 Magik Eye Inc. Three-dimensional sensor including bandpass filter having multiple passbands
WO2020197813A1 (en) 2019-03-25 2020-10-01 Magik Eye Inc. Distance measurement using high density projection patterns
WO2020231747A1 (en) 2019-05-12 2020-11-19 Magik Eye Inc. Mapping three-dimensional depth map data onto two-dimensional images
WO2021113135A1 (en) 2019-12-01 2021-06-10 Magik Eye Inc. Enhancing triangulation-based three-dimensional distance measurements with time of flight information
EP4094181A4 (en) 2019-12-29 2024-04-03 Magik Eye Inc. ASSIGNMENT OF THREE-DIMENSIONAL COORDINATES TO TWO-DIMENSIONAL FEATURE POINTS
JP2023510738A (ja) 2020-01-05 2023-03-15 マジック アイ インコーポレイテッド ３次元カメラの座標系を２次元カメラの入射位置に移動させる方法

Family Cites Families (194)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4914460A (en) 1987-05-29 1990-04-03 Harbor Branch Oceanographic Institution Inc. Apparatus and methods of determining distance and orientation
US4954962A (en) 1988-09-06 1990-09-04 Transitions Research Corporation Visual navigation and obstacle avoidance structured light system
JPH045112A (ja) 1990-04-23 1992-01-09 Sumitomo Rubber Ind Ltd 低転がり抵抗タイヤ
US5061062A (en) 1990-07-02 1991-10-29 General Electric Company Focus spot size controller for a variable depth range camera
CA2180853A1 (en) 1994-01-11 1995-07-13 Nicolaas Cornelis Maria Beers Cleaner composition
JPH08555A (ja) 1994-06-16 1996-01-09 Fuji Photo Optical Co Ltd 内視鏡の照明装置
US5699444A (en) 1995-03-31 1997-12-16 Synthonics Incorporated Methods and apparatus for using image data to determine camera location and orientation
JP3328111B2 (ja) 1995-08-23 2002-09-24 日本電気株式会社 空間距離測定方法及び空間距離測定装置
US6038415A (en) 1997-07-18 2000-03-14 Minolta Co., Ltd. Image forming apparatus and image-carrier cartridge device which is employed in the same
DE69823116D1 (de) 1997-08-05 2004-05-19 Canon Kk Bildverarbeitungsverfahren und -gerät
US5980454A (en) 1997-12-01 1999-11-09 Endonetics, Inc. Endoscopic imaging system employing diffractive optical elements
US5870136A (en) 1997-12-05 1999-02-09 The University Of North Carolina At Chapel Hill Dynamic generation of imperceptible structured light for tracking and acquisition of three dimensional scene geometry and surface characteristics in interactive three dimensional computer graphics applications
AUPP299498A0 (en) 1998-04-15 1998-05-07 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Method of tracking and sensing position of objects
US6122039A (en) * 1998-10-28 2000-09-19 Banner Engineering Corp. Method and apparatus to detect and report object displacement utilizing optical triangulation principles
US7193645B1 (en) 2000-07-27 2007-03-20 Pvi Virtual Media Services, Llc Video system and method of operating a video system
JP2002056348A (ja) 2000-08-07 2002-02-20 Tohken Co Ltd オートフォーカス機能を有する手持ち式読取装置及びオートフォーカス方法、並び距離計測方法
JP3922694B2 (ja) 2001-06-15 2007-05-30 住友大阪セメント株式会社 監視装置
US6937350B2 (en) * 2001-06-29 2005-08-30 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus and methods for optically monitoring thickness
US7940299B2 (en) 2001-08-09 2011-05-10 Technest Holdings, Inc. Method and apparatus for an omni-directional video surveillance system
JP2002341238A (ja) 2002-03-18 2002-11-27 Olympus Optical Co Ltd 測距装置のための調整装置
US20040041996A1 (en) * 2002-08-28 2004-03-04 Fuji Xerox Co., Ltd. Range finder and method
GB2395261A (en) 2002-11-11 2004-05-19 Qinetiq Ltd Ranging apparatus
TWI247104B (en) 2003-02-26 2006-01-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd A measuring method for pattern of light guide plate
DE10308383A1 (de) 2003-02-27 2004-09-16 Storz Endoskop Produktions Gmbh Verfahren und optisches System zur Vermessung der Topographie eines Meßobjekts
US7460250B2 (en) * 2003-10-24 2008-12-02 3Dm Devices Inc. Laser triangulation system
KR100764419B1 (ko) 2004-02-09 2007-10-05 강철권 불규칙패턴을 이용한 3차원형상 측정장치 및 측정방법
US20050288956A1 (en) 2004-06-16 2005-12-29 Ewald Speicher Systems and methods for integrating business process documentation with work environments
US7191056B2 (en) 2005-01-04 2007-03-13 The Boeing Company Precision landmark-aided navigation
JP2006313116A (ja) 2005-05-09 2006-11-16 Nec Viewtechnology Ltd 距離傾斜角度検出装置および該検出装置を備えたプロジェクタ
JP4644540B2 (ja) 2005-06-28 2011-03-02 富士通株式会社 撮像装置
US20070091174A1 (en) 2005-09-30 2007-04-26 Topcon Corporation Projection device for three-dimensional measurement, and three-dimensional measurement system
JP4760391B2 (ja) 2006-01-13 2011-08-31 カシオ計算機株式会社 測距装置及び測距方法
JP4799216B2 (ja) 2006-03-03 2011-10-26 富士通株式会社 距離測定機能を有する撮像装置
US7375803B1 (en) 2006-05-18 2008-05-20 Canesta, Inc. RGBZ (red, green, blue, z-depth) filter system usable with sensor systems, including sensor systems with synthetic mirror enhanced three-dimensional imaging
JP4889373B2 (ja) 2006-05-24 2012-03-07 ローランドディー．ジー．株式会社 ３次元形状測定方法およびその装置
US8471892B2 (en) 2006-11-23 2013-06-25 Z. Jason Geng Wide field-of-view reflector and method of designing and making same
TWI320480B (en) 2007-04-23 2010-02-11 Univ Nat Formosa One diffraction 6 degree of freedom optoelectronic measurement system
WO2008133958A1 (en) 2007-04-23 2008-11-06 California Institute Of Technology Single-lens, single-aperture, single-sensor 3-d imaging device
DE102007054906B4 (de) 2007-11-15 2011-07-28 Sirona Dental Systems GmbH, 64625 Verfahren zur optischen Vermessung der dreidimensionalen Geometrie von Objekten
US8285025B2 (en) 2008-03-25 2012-10-09 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for detecting defects using structured light
US9170097B2 (en) 2008-04-01 2015-10-27 Perceptron, Inc. Hybrid system
WO2009124601A1 (en) 2008-04-11 2009-10-15 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne Epfl Time-of-flight based imaging system using a display as illumination source
US8282485B1 (en) 2008-06-04 2012-10-09 Zhang Evan Y W Constant and shadowless light source
DE102008031942A1 (de) 2008-07-07 2010-01-14 Steinbichler Optotechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur 3D-Digitalisierung eines Objekts
DE112009001652T5 (de) 2008-07-08 2012-01-12 Chiaro Technologies, Inc. Mehrkanal-Erfassung
US8334900B2 (en) 2008-07-21 2012-12-18 The Hong Kong University Of Science And Technology Apparatus and method of optical imaging for medical diagnosis
JP2010091855A (ja) 2008-10-09 2010-04-22 Denso Corp レーザビーム照射装置
JP5251419B2 (ja) 2008-10-22 2013-07-31 日産自動車株式会社 距離計測装置および距離計測方法
CN101794065A (zh) 2009-02-02 2010-08-04 中强光电股份有限公司 投影显示系统
US20100223706A1 (en) 2009-03-03 2010-09-09 Illinois Tool Works Inc. Welding helmet audio communication systems and methods with bone conduction transducers
JP5484098B2 (ja) 2009-03-18 2014-05-07 三菱電機株式会社 投写光学系及び画像表示装置
JP4991787B2 (ja) 2009-04-24 2012-08-01 パナソニック株式会社 反射型光電センサ
WO2010140059A2 (en) 2009-06-01 2010-12-09 Gerd Hausler Method and device for three-dimensional surface detection with a dynamic reference frame
GB0921461D0 (en) * 2009-12-08 2010-01-20 Qinetiq Ltd Range based sensing
US8320621B2 (en) 2009-12-21 2012-11-27 Microsoft Corporation Depth projector system with integrated VCSEL array
US20110188054A1 (en) 2010-02-02 2011-08-04 Primesense Ltd Integrated photonics module for optical projection
US20110187878A1 (en) 2010-02-02 2011-08-04 Primesense Ltd. Synchronization of projected illumination with rolling shutter of image sensor
JP2011169701A (ja) 2010-02-17 2011-09-01 Sanyo Electric Co Ltd 物体検出装置および情報取得装置
US9151607B2 (en) * 2010-05-31 2015-10-06 University Of North Carolina At Charlotte Dimensional measurement through a combination of photogrammetry and optical scattering
JP5612916B2 (ja) 2010-06-18 2014-10-22 キヤノン株式会社 位置姿勢計測装置、その処理方法、プログラム、ロボットシステム
JP5499985B2 (ja) 2010-08-09 2014-05-21 ソニー株式会社 表示装置組立体
WO2012023256A2 (en) * 2010-08-19 2012-02-23 Canon Kabushiki Kaisha Three-dimensional measurement apparatus, method for three-dimensional measurement, and computer program
JP5163713B2 (ja) 2010-08-24 2013-03-13 カシオ計算機株式会社 距離画像センサ及び距離画像生成装置並びに距離画像データ取得方法及び距離画像生成方法
US8830637B2 (en) 2010-08-31 2014-09-09 Texas Instruments Incorporated Methods and apparatus to clamp overvoltages for alternating current systems
US20120056982A1 (en) 2010-09-08 2012-03-08 Microsoft Corporation Depth camera based on structured light and stereo vision
US8593535B2 (en) 2010-09-10 2013-11-26 Apple Inc. Relative positioning of devices based on captured images of tags
JP2012068762A (ja) 2010-09-21 2012-04-05 Sony Corp 検出装置、検出方法、プログラム、及び電子機器
EP2433716A1 (en) 2010-09-22 2012-03-28 Hexagon Technology Center GmbH Surface spraying device with a nozzle control mechanism and a corresponding method
CN103229018A (zh) * 2010-10-27 2013-07-31 株式会社尼康 形状测定装置、结构的制造方法以及结构制造系统
TWI428558B (zh) 2010-11-10 2014-03-01 Pixart Imaging Inc 測距方法、測距系統與其處理軟體
JP5815940B2 (ja) 2010-12-15 2015-11-17 キヤノン株式会社 距離計測装置、距離計測方法、およびプログラム
US9888225B2 (en) 2011-02-04 2018-02-06 Koninklijke Philips N.V. Method of recording an image and obtaining 3D information from the image, camera system
JP5746529B2 (ja) * 2011-03-16 2015-07-08 キヤノン株式会社 三次元距離計測装置、三次元距離計測方法、およびプログラム
JP2014122789A (ja) 2011-04-08 2014-07-03 Sanyo Electric Co Ltd 情報取得装置、投射装置および物体検出装置
CN102859321A (zh) * 2011-04-25 2013-01-02 三洋电机株式会社 物体检测装置以及信息取得装置
JP5830270B2 (ja) 2011-05-24 2015-12-09 オリンパス株式会社 内視鏡装置および計測方法
JP6025830B2 (ja) 2011-06-07 2016-11-16 クレアフォーム・インコーポレイテッドＣｒｅａｆｏｒｍ Ｉｎｃ． ３ｄ走査用のセンサ位置決め
KR101974651B1 (ko) 2011-06-22 2019-05-02 성균관대학교산학협력단 경계선 상속을 통하여 계층적으로 직교화된 구조광을 디코딩하는 방법 및 이를 이용하는 3차원 거리 영상 측정 시스템
US10054430B2 (en) 2011-08-09 2018-08-21 Apple Inc. Overlapping pattern projector
JP2014238259A (ja) * 2011-09-28 2014-12-18 三洋電機株式会社 情報取得装置および物体検出装置
KR101605224B1 (ko) 2011-10-05 2016-03-22 한국전자통신연구원 패턴 광을 이용한 깊이 정보 획득 장치 및 방법
US9142025B2 (en) 2011-10-05 2015-09-22 Electronics And Telecommunications Research Institute Method and apparatus for obtaining depth information using optical pattern
TW201329509A (zh) 2012-01-10 2013-07-16 Walsin Lihwa Corp 立體掃瞄裝置及其立體掃瞄方法
US9986208B2 (en) 2012-01-27 2018-05-29 Qualcomm Incorporated System and method for determining location of a device using opposing cameras
BR112014018573A8 (pt) 2012-01-31 2017-07-11 3M Innovative Properties Company Método e aparelho para medição da estrutura tridimensional de uma superfície
US9186470B2 (en) * 2012-02-08 2015-11-17 Apple Inc. Shape reflector and surface contour mapping
WO2013129387A1 (ja) 2012-03-01 2013-09-06 日産自動車株式会社 距離計測装置及び距離計測方法
WO2013145164A1 (ja) 2012-03-28 2013-10-03 富士通株式会社 撮像装置
US9590122B2 (en) 2012-05-18 2017-03-07 Siemens Healthcare Diagnostics Inc. Fish eye lens analyzer
US8699005B2 (en) 2012-05-27 2014-04-15 Planitar Inc Indoor surveying apparatus
DE102012013159B4 (de) 2012-07-02 2014-11-27 Mirek Göbel Strömungsmaschine zum Fördern großer Fluidmengen
EP2872030B1 (en) 2012-07-10 2016-12-07 WaveLight GmbH Process and apparatus for determining optical aberrations of an eye
US20140016113A1 (en) 2012-07-13 2014-01-16 Microsoft Corporation Distance sensor using structured light
JP2014020978A (ja) 2012-07-20 2014-02-03 Fujitsu Ltd 照射装置、距離測定装置、照射装置のキャリブレーションプログラム及びキャリブレーション方法
EP2696590B1 (en) 2012-08-06 2014-09-24 Axis AB Image sensor positioning apparatus and method
JP2014044113A (ja) 2012-08-27 2014-03-13 Sanyo Electric Co Ltd 情報取得装置および物体検出装置
US9275459B2 (en) 2012-10-05 2016-03-01 Qualcomm Incorporated Method and apparatus for calibrating an imaging device
US9741184B2 (en) 2012-10-14 2017-08-22 Neonode Inc. Door handle with optical proximity sensors
CN104884862B (zh) 2012-10-24 2019-11-19 视瑞尔技术公司 照明设备
US9285893B2 (en) 2012-11-08 2016-03-15 Leap Motion, Inc. Object detection and tracking with variable-field illumination devices
DE102012022039B4 (de) 2012-11-09 2020-03-26 Mbda Deutschland Gmbh Modulare Laserbestrahlungseinheit
JP6119232B2 (ja) 2012-12-19 2017-04-26 株式会社ソシオネクスト 距離測定装置、距離測定方法
WO2014097539A1 (ja) 2012-12-20 2014-06-26 パナソニック株式会社 ３次元測定装置および３次元測定方法
US10466359B2 (en) 2013-01-01 2019-11-05 Inuitive Ltd. Method and system for light patterning and imaging
US9691163B2 (en) 2013-01-07 2017-06-27 Wexenergy Innovations Llc System and method of measuring distances related to an object utilizing ancillary objects
US8768559B1 (en) 2013-01-22 2014-07-01 Qunomic Virtual Technology, LLC Line projection system
US9142019B2 (en) 2013-02-28 2015-09-22 Google Technology Holdings LLC System for 2D/3D spatial feature processing
US10105149B2 (en) 2013-03-15 2018-10-23 Board Of Regents Of The University Of Nebraska On-board tool tracking system and methods of computer assisted surgery
US9364167B2 (en) 2013-03-15 2016-06-14 Lx Medical Corporation Tissue imaging and image guidance in luminal anatomic structures and body cavities
JP6170714B2 (ja) 2013-04-15 2017-07-26 シャープ株式会社 測距装置
US20140320605A1 (en) 2013-04-25 2014-10-30 Philip Martin Johnson Compound structured light projection system for 3-D surface profiling
US9536339B1 (en) 2013-06-13 2017-01-03 Amazon Technologies, Inc. Processing unordered point cloud
US10061028B2 (en) 2013-09-05 2018-08-28 Texas Instruments Incorporated Time-of-flight (TOF) assisted structured light imaging
JP6211876B2 (ja) 2013-10-01 2017-10-11 株式会社トプコン 測定方法及び測定装置
EP2869263A1 (en) * 2013-10-29 2015-05-06 Thomson Licensing Method and apparatus for generating depth map of a scene
CN103559735B (zh) 2013-11-05 2017-03-01 重庆安钻理科技股份有限公司 一种三维重建方法及系统
US10372982B2 (en) 2014-01-06 2019-08-06 Eyelock Llc Methods and apparatus for repetitive iris recognition
GB2522248A (en) 2014-01-20 2015-07-22 Promethean Ltd Interactive system
KR102166691B1 (ko) 2014-02-27 2020-10-16 엘지전자 주식회사 객체의 3차원 형상을 산출하는 장치 및 방법
US9526427B2 (en) 2014-03-21 2016-12-27 Hypermed Imaging, Inc. Compact light sensors with symmetrical lighting
US9307231B2 (en) 2014-04-08 2016-04-05 Lucasfilm Entertainment Company Ltd. Calibration target for video processing
US10147198B2 (en) 2014-04-30 2018-12-04 Shinano Kenshi Co., Ltd. Measurement device
JP5829306B2 (ja) 2014-05-12 2015-12-09 ファナック株式会社 レンジセンサの配置位置評価装置
US10207193B2 (en) 2014-05-21 2019-02-19 Universal City Studios Llc Optical tracking system for automation of amusement park elements
US20150347833A1 (en) 2014-06-03 2015-12-03 Mark Ries Robinson Noncontact Biometrics with Small Footprint
US9699393B2 (en) 2014-06-26 2017-07-04 Semiconductor Components Industries, Llc Imaging systems for infrared and visible imaging with patterned infrared cutoff filters
US20170135617A1 (en) * 2014-07-14 2017-05-18 Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. Optoelectronic modules operable to distinguish between signals indicative of reflections from an object of interest and signals indicative of a spurious reflection
US9429421B2 (en) * 2014-07-29 2016-08-30 Apple Inc. Distortion quantifier for analyzing surfaces
US9377533B2 (en) 2014-08-11 2016-06-28 Gerard Dirk Smits Three-dimensional triangulation and time-of-flight based tracking systems and methods
WO2016024203A2 (en) * 2014-08-12 2016-02-18 Mantisvision Ltd. System, method and computer program product to project light pattern
KR20160020323A (ko) 2014-08-13 2016-02-23 옥은호 평행 적외선 투사기와 카메라 모듈로 구성되는 거리 측정 센서
JP6370177B2 (ja) 2014-09-05 2018-08-08 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 検査装置および検査方法
US10268906B2 (en) 2014-10-24 2019-04-23 Magik Eye Inc. Distance sensor with directional projection beams
CN105981074B (zh) 2014-11-04 2018-02-02 深圳市大疆创新科技有限公司 用于标定成像装置的系统、方法和装置
US20160128553A1 (en) 2014-11-07 2016-05-12 Zheng Jason Geng Intra- Abdominal Lightfield 3D Endoscope and Method of Making the Same
US20160157725A1 (en) 2014-12-08 2016-06-09 Luis Daniel Munoz Device, system and methods for assessing tissue structures, pathology, and healing
KR102369792B1 (ko) 2015-03-05 2022-03-03 한화테크윈 주식회사 촬영 장치 및 촬영 방법
JP6152395B2 (ja) 2015-03-09 2017-06-21 テスト リサーチ， インク． 光学検出システム
JP6484072B2 (ja) 2015-03-10 2019-03-13 アルプスアルパイン株式会社 物体検出装置
CN107637074B (zh) 2015-03-22 2020-09-18 脸谱科技有限责任公司 使用立体摄像机与结构化光的头戴显示器的深度绘制
JP6340477B2 (ja) * 2015-03-26 2018-06-06 富士フイルム株式会社 距離画像取得装置及び距離画像取得方法
CN107709925B (zh) 2015-03-27 2018-12-14 富士胶片株式会社 距离图像获取装置
WO2016157601A1 (ja) * 2015-03-30 2016-10-06 富士フイルム株式会社 距離画像取得装置及び距離画像取得方法
US10215557B2 (en) 2015-03-30 2019-02-26 Fujifilm Corporation Distance image acquisition apparatus and distance image acquisition method
US9694498B2 (en) 2015-03-30 2017-07-04 X Development Llc Imager for detecting visual light and projected patterns
KR102473740B1 (ko) 2015-04-20 2022-12-05 삼성전자주식회사 동시 rgbz 센서 및 시스템
TW201706563A (zh) * 2015-05-10 2017-02-16 麥吉克艾公司 距離感測器（一）
US10488192B2 (en) * 2015-05-10 2019-11-26 Magik Eye Inc. Distance sensor projecting parallel patterns
DE102015209143B4 (de) 2015-05-19 2020-02-27 Esaote S.P.A. Verfahren zur Bestimmung einer Abbildungsvorschrift und bildgestützten Navigation sowie Vorrichtung zur bildgestützten Navigation
WO2016194018A1 (ja) 2015-05-29 2016-12-08 オリンパス株式会社 照明装置及び計測装置
WO2016199323A1 (ja) * 2015-06-09 2016-12-15 三菱電機株式会社 画像生成装置、画像生成方法、及びパターン光生成装置
US20160377414A1 (en) * 2015-06-23 2016-12-29 Hand Held Products, Inc. Optical pattern projector
KR20170005649A (ko) 2015-07-06 2017-01-16 엘지전자 주식회사 3차원 깊이 카메라 모듈 및 이를 구비하는 이동 단말기
EP3115742B1 (en) * 2015-07-10 2020-04-15 Hexagon Technology Center GmbH 3d measuring machine
US10223793B1 (en) 2015-08-05 2019-03-05 Al Incorporated Laser distance measuring method and system
DE102015115011A1 (de) 2015-09-08 2017-03-09 Valeo Schalter Und Sensoren Gmbh Laserscanner für Kraftfahrzeuge
US9989357B2 (en) 2015-09-09 2018-06-05 Faro Technologies, Inc. Aerial device that cooperates with an external projector to measure three-dimensional coordinates
WO2017053368A1 (en) 2015-09-23 2017-03-30 East Carolina University Methods, systems and computer program products for determining object distances and target dimensions using light emitters
US20170094251A1 (en) 2015-09-30 2017-03-30 Faro Technologies, Inc. Three-dimensional imager that includes a dichroic camera
US10176554B2 (en) 2015-10-05 2019-01-08 Google Llc Camera calibration using synthetic images
JP6597150B2 (ja) 2015-10-09 2019-10-30 富士通株式会社 距離測定装置、距離測定方法、距離測定プログラムおよびテーブルの作成方法
FR3042610B1 (fr) 2015-10-14 2018-09-07 Quantificare Dispositif et procede pour reconstruire en trois dimensions la tete et le corps
US10942261B2 (en) 2015-10-21 2021-03-09 Samsung Electronics Co., Ltd Apparatus for and method of range sensor based on direct time-of-flight and triangulation
US10225544B2 (en) 2015-11-19 2019-03-05 Hand Held Products, Inc. High resolution dot pattern
CN108369089B (zh) 2015-11-25 2020-03-24 三菱电机株式会社 3维图像测量装置及方法
KR20170094968A (ko) 2016-02-12 2017-08-22 엘지이노텍 주식회사 피사체 거리 측정 부재, 이를 갖는 카메라 모듈
US11030775B2 (en) 2016-03-17 2021-06-08 Flir Systems, Inc. Minimal user input video analytics systems and methods
CN113727000A (zh) 2016-05-27 2021-11-30 松下知识产权经营株式会社 摄像系统
US9686539B1 (en) 2016-06-12 2017-06-20 Apple Inc. Camera pair calibration using non-standard calibration objects
KR102595391B1 (ko) 2016-12-07 2023-10-31 매직 아이 인코포레이티드 조정 가능한 초점 이미징 센서를 포함한 거리 센서
US20180227566A1 (en) 2017-02-06 2018-08-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Variable field of view and directional sensors for mobile machine vision applications
US10819922B2 (en) 2017-02-21 2020-10-27 Nanolux Co. Ltd. Solid-state imaging element and imaging device
US10810753B2 (en) 2017-02-27 2020-10-20 Microsoft Technology Licensing, Llc Single-frequency time-of-flight depth computation using stereoscopic disambiguation
US11025887B2 (en) 2017-02-27 2021-06-01 Sony Corporation Field calibration of stereo cameras with a projector
WO2018211588A1 (ja) 2017-05-16 2018-11-22 オリンパス株式会社 撮像装置、撮像方法及びプログラム
US10769914B2 (en) 2017-06-07 2020-09-08 Amazon Technologies, Inc. Informative image data generation using audio/video recording and communication devices
WO2019041116A1 (zh) 2017-08-29 2019-03-07 深圳市汇顶科技股份有限公司 光学测距方法以及光学测距装置
EP3692396A4 (en) * 2017-10-08 2021-07-21 Magik Eye Inc. DISTANCE MEASUREMENT USING A LONGITUDINAL GRID PATTERN
US10885761B2 (en) * 2017-10-08 2021-01-05 Magik Eye Inc. Calibrating a sensor system including multiple movable sensors
US10679076B2 (en) * 2017-10-22 2020-06-09 Magik Eye Inc. Adjusting the projection system of a distance sensor to optimize a beam layout
CN111263899B (zh) * 2017-11-28 2023-11-24 索尼半导体解决方案公司 照明装置、飞行时间系统和方法
JP7354133B2 (ja) 2018-03-20 2023-10-02 マジック アイ インコーポレイテッド 三次元深度検知及び二次元撮像のためのカメラ露出調節
WO2019182881A1 (en) * 2018-03-20 2019-09-26 Magik Eye Inc. Distance measurement using projection patterns of varying densities
JP7039388B2 (ja) 2018-05-24 2022-03-22 株式会社トプコン 測量装置
CN112513565B (zh) * 2018-06-06 2023-02-10 魔眼公司 使用高密度投影图案的距离测量
US11475584B2 (en) 2018-08-07 2022-10-18 Magik Eye Inc. Baffles for three-dimensional sensors having spherical fields of view
US10638104B2 (en) 2018-09-14 2020-04-28 Christie Digital Systems Usa, Inc. Device, system and method for generating updated camera-projector correspondences from a reduced set of test patterns
US10916023B2 (en) 2018-09-14 2021-02-09 Facebook Technologies, Llc Depth measurement assembly with a structured light source and a time of flight camera
US11158074B1 (en) * 2018-10-02 2021-10-26 Facebook Technologies, Llc Depth sensing using temporal coding
WO2020117785A1 (en) * 2018-12-08 2020-06-11 Magik Eye Inc. Vertical cavity surface emitting laser-based projector
WO2020150131A1 (en) 2019-01-20 2020-07-23 Magik Eye Inc. Three-dimensional sensor including bandpass filter having multiple passbands
JP2020139869A (ja) 2019-02-28 2020-09-03 キヤノン株式会社 計測装置、算出方法、システム及びプログラム
WO2020197813A1 (en) * 2019-03-25 2020-10-01 Magik Eye Inc. Distance measurement using high density projection patterns
WO2020231747A1 (en) * 2019-05-12 2020-11-19 Magik Eye Inc. Mapping three-dimensional depth map data onto two-dimensional images

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