KR20210001955A - 보유 장치 - Google Patents

Abstract

광학면의 형상이 재현하도록 광학소자를 보유할 수 있는 보유 장치를 제공하기 위해서, 본 발명에 따른 보유 장치는, 광학소자를 광학소자의 광학면의 면법선이 중력방향에 비평행해지도록 보유하는 보유 장치로서, 광학소자를 보유하는 대좌 및 대좌가 얹어놓여지는 얹어놓기대이며, 대좌 및 얹어놓기대의 서로에 대한 접촉면의 한쪽이 곡면인, 대좌 및 얹어놓기대와, 광학소자를 면법선에 수직한 제1의 단면을 사이에 두고서 양측으로부터 소정의 가압력으로 가압하는 가압기구를, 구비하는 것을 특징으로 한다.

Description

보유 장치{HOLDING APPARATUS}

본 발명은, 보유 장치에 관한 것이다.

노광 장치에 탑재되는 광학소자의 광학성능을 검사하는 공정으로서는, 광학소자 단체의 광학성능을 검사하는 공정, 해당 광학소자가 내장된 광학 유닛의 광학성능을 검사하는 공정 및 해당 광학 유닛이 탑재된 노광 장치의 광학성능을 검사하는 공정을 들 수 있다.

그리고, 상기한 각 공정에 있어서 광학소자의 광학성능을 재현시키는 것이 요청되고 있고, 특히 보유 장치가 광학소자를 보유할 때에 광학면 위에 발생하는 국소적인 응력에 의한 형상변화에 따르는 광학성능의 변화가 생기지 않도록 각 공정에 있어서 주의할 필요가 있다.

일본 특허공개 2009-288571호 공보는, 광학소자를 중력방향의 성분을 포함하는 제1의 방향으로 받는 광학소자 받이와 중력방향 및 제1의 방향에 수직한 제2의 방향으로 가압하는 광학소자 받침을 설치하고, 광학소자를 보유하는 보유 장치를 개시하고 있다.

일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 보유 장치에서는, 광학소자와 광학소자 받이와의 사이에 발생하는 마찰력 및 광학소자 받침에 의한 가압력에 의해, 강성을 충분히 유지한 채 광학소자를 보유할 수 있다.

그렇지만, 일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 보유 장치에서는, 상기한 각 공정에 있어서 광학소자가 보유될 때의 자세가 변화할 때마다, 광학면 위에 발생하는 국소적인 응력이 변화함으로써 형상, 나아가서는 광학성능이 변화되어버린다.

그래서, 본 발명은, 광학면의 형상이 재현하도록 광학소자를 보유할 수 있는 보유 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명에 따른 보유 장치는, 광학소자를 광학소자의 광학면의 면법선이 중력방향으로 비평행해지도록 보유하는 보유 장치로서, 광학소자를 보유하는 대좌 및 대좌가 얹어놓여지는 얹어놓기대이며, 대좌 및 얹어놓기대의 서로에 대한 접촉면의 한쪽이 곡면인, 대좌 및 얹어놓기대와, 광학소자를 면법선에 수직한 제1의 단면을 사이에 두고 양측으로부터 소정의 가압력으로 가압하는 가압기구와를 구비하는 것을 특징으로 한다.

[도1a] 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치의 정면도.
[도1b] 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치의 도1a의 A-A선에 따른 단면도.
[도2] 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치에 있어서 광학소자에 발생하는 국소적인 응력이 제거되는 모양을 나타낸 도.
[도3a] 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치가 구비하는 가압기구의 상세도.
[도3b] 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치가 구비하는 가압기구의 상세도.
[도4] 제１실시 형태의 변형 예에 따른 광학소자 보유 장치가 구비하는 가압기구의 상세도.
[도5] 제２실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치가 구비하는 가압기구의 상세도.
[도6] 제２실시 형태의 변형 예에 따른 광학소자 보유 장치가 구비하는 위치결정장치의 모식도.
[도7] 제３실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치가 구비하는 가압기구의 상세도.
[도8] 실시 형태에 따른 노광 장치의 구성도.
[도9a] 종래의 광학소자 보유 장치의 모식도.
[도9b] 종래의 광학소자 보유 장치의 모식도.

이하에, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치를 첨부 도면에 근거하여 상세히 설명한다. 또한, 이하에 도시한 도면은, 본 실시 형태를 용이하게 이해할 수 있게 하기 위해서, 실제와는 다른 축척으로 그려져 있다.

[제１실시 형태]

노광 장치에 탑재되는 광학소자는, 크게 이하에 나타내는 3개의 공정에 의해 광학성능이 검사된다.

제1의 공정은, 광학소자 단품검사 공정이다. 이 광학소자 단품검사 공정에서는, 설계 값의 형상으로 되도록 가공된 광학소자의 형상을 단체로 간섭계를 사용해서 계측한다. 구체적으로는, 연마 가공으로 설계 값의 형상으로 되도록 가공된 광학소자에 있어서, 형상이 설계 값대로 되었는지를 확인하기 위해서, 간섭계로 광학소자 단체의 면형상을 측정한다.

이 광학소자 단품검사 공정의 간섭계에 의한 형상측정시에 있어서의 광학소자 보유 장치는, 간섭계 유닛의 일부로서 내장되어 있고, 즉 출시되는 제품이 아니고 검사용 설비다.

따라서, 광학소자 단품검사 공정에 있어서의 광학소자 보유 장치는, 다른 공정과 동일 기구 및 형상의 보유 장치인 것이 바람직하다.

이것은, 각 공정에서 광학소자 보유 장치의 기구 및 형상이 바뀌어버리면, 각 공정에 있어서 광학소자의 형상이 바뀌어버리기 때문이다. 다시 말해, 각 공정에서 광학소자의 형상이 바뀌어버리면, 광학소자 단품검사 공정에 있어서 광학소자를 설계 값의 형상으로 되도록 가공해도, 그 후의 공정에서 광학소자의 형상이 바뀌어버려, 그 형상변화에 기인해서 광학성능이 변화되어버리기 때문이다.

제２ 공정은, 광학 유닛 검사 공정이다. 이 광학 유닛 검사 공정에서는, 광학소자 단품검사 공정으로 각각 마무리한 복수의 광학소자를 경통에 내장하고, 광학 유닛으로서 조립을 실시하고, 조립된 광학 유닛의 광학성능의 검사를 행하는 공정이다.

또한, 이 조립된 광학 유닛 속에, 출시하는 제품으로서의 광학소자 보유 장치가 내장되어 있다.

조립된 광학 유닛의 광학성능은, 광학성능 검사 장치에 의해 측정ㅇ검사된다. 예를 들면, 검사하는 광학성능으로서는, 포커스나 디스토션을 들 수 있다.

광학소자 단품검사 공정과 마찬가지로, 이 광학 유닛 검사 공정에 있어서의 광학소자 보유 장치도, 다른 공정과 같은 기구 및 형상의 보유 장치인 것이 바람직하다.

이것은, 광학소자 단품검사 공정과 마찬가지로, 각 공정에서 광학소자 보유 장치의 기구 및 형상이 바뀌어버리면, 각 공정에 있어서 광학소자의 형상이 바뀌어버려, 그 형상변화에 기인해서 광학성능이 변화되어버리기 때문이다.

제３ 공정은, 노광 장치 검사 공정이다. 이 노광 장치 검사 공정에서는, 광학 유닛 검사 공정에서 마무리한 광학 유닛을 노광 장치 본체에 내장하고, 노광 장치의 조립을 실시하고, 조립된 노광 장치의 노광 성능(광학성능)의 검사를 행하는 공정이다.

노광 장치의 노광 성능은, 검사 대상의 노광 장치 자체를 사용하여, 검사용 마스크를 사용해서 플레이트의 노광을 행하고, 그 플레이트에 노광된 검사용 마스크 패턴을 측정함으로써 검사한다. 예를 들면, 검사하는 노광 성능으로서는, 마스크 패턴의 선폭이나 디스토션을 들 수 있다.

또한, 노광 장치 검사 공정에서는, 광학 유닛 검사 공정에서 조립된 광학 유닛이 노광 장치 본체에 내장되어 있기 때문에, 광학 유닛 검사 공정의 것과 동일 광학소자 보유 장치가 사용된다.

이상과 같이, 광학소자의 광학성능을 검사하는 각 공정에 있어서, 광학소자의 형상을 변화시키지 않도록 보유하는 것이 필요하고, 그 때문에 광학소자 보유 장치의 기구 및 형상이 각 공정에 있어서 동일한 것이 필요해진다.

아울러, 각 공정에 있어서 광학소자 보유 장치에 광학소자를 재탑재할 때에, 광학소자의 형상을 재현시키는 것이 필요하다.

이러한 광학소자의 재탑재에 있어서 광학소자의 형상을 재현시킨다고 하는 과제에 주목한 광학소자 보유 장치로서는, 일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시된 것이 알려져 있다.

일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 광학소자 보유 장치에서는 (특히 일본 특허공개 2009-288571호 공보의 도5 참조), 중력방향에 교차하는 방향으로 연장하는 광축을 갖는 광학소자가, 그 자중을 받는 얹어놓기면을 갖는 얹어놓기대에 의해 보유되어 있다.

또한, 광학소자의 바깥 둘레와 얹어놓기대의 얹어놓기면과의 사이에는, 광학소자의 바깥 둘레측에 평면을 가짐과 아울러, 얹어놓기대의 얹어놓기면에 접촉하는 원통면을 갖는 대좌가 설치되어 있다.

더욱, 광학소자의 바깥 둘레와 대좌의 평면과의 사이에는 탄성부재가 설치되어 있다.

일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 광학소자 보유 장치는, 얹어놓기대의 얹어놓기면에 접촉하는, 대좌의 원통면 받이의 접촉부가, 광학소자의 광축에 평행한 방향에 교차하는 방향(광축방향 및 중력방향에 수직한 방향)으로 연장되는 선인 것을 특징으로 하고 있다.

일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 광학소자 보유 장치에서는, 광학소자는 탄성부재를 통해 대좌에 탑재되어서 보유된다. 그리고, 광학소자는, 탄성부재와의 접촉부로부터 자중의 반력을 받는다(특히 일본 특허공개 2009-288571호 공보의 도3 참조).

이에 따라, 광학소자를 대좌상에 재탑재할 때마다, 대좌가 소성변형 함으로써 대좌의 형상이 바뀌어버렸다고 하여도, 대좌 자신이 그 대좌의 형상변화를 흡수하도록 원통면에서 회전한다.

즉, 광학소자를 대좌상에 재탑재할 때마다, 광학소자가 탄성부재와의 접촉부에 있어서 받는 자중의 반력을 재현시킬 수 있다.

따라서, 광학소자를 대좌에 재탑재할 때마다, 광학소자의 형상을 어느 정도 재현시키는 것이 가능해진다.

그렇지만, 일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 광학소자 보유 장치에서는, 광학소자를 대좌에 탑재할 때에, 광학소자 받침에 광학소자가 충돌하고, 충돌된 부분에 국소적인 응력이 발생함으로써 광학소자의 면형상이 변화되어버린다(일본 특허공개 2009-288571호 공보의 도5 참조).

따라서, 일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 광학소자 보유 장치에서는, 광학소자 받침에 충돌하는 것에 의해 보이는 국소적인 응력이 재현하지 않는다.

그 때문에, 일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 광학소자 보유 장치를 상기에 나타낸 것 같은 각 공정에 있어서 사용해도, 광학소자의 면형상을 충분히 재현시키는 것은 곤란해지고, 각 공정에 있어서 광학성능을 재현하지 않게 되어버린다고 하는 문제가 발생한다.

이 국소적인 응력이 발생하는 이유에 대해서, 도9a 및 도9b를 사용해서 상세하게 설명한다.

도9a는, 일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 것 같은 종래의 광학소자 보유 장치에 있어서 광학소자 받침을 설치하지 않는 경우에 있어서의 모식도를 도시하고 있다.

도9a에 도시되고 있는 것 같이, 대좌(11)는, 대좌(11) 자신의 소성변형이나 제조 오차, 및 대좌(11)를 지지하는 도시되지 않은 부품의 소성변형이나 제조 오차에 의해 기울고 있다.

이 기운 상태의 대좌(11)에 광학소자(12)를 탑재하면, 도9a에 도시되고 있는 것 같이, 대좌(11)는 원통면에서 회전하고, 광학소자(12)는 대좌(11)와의 마찰에 의해 대좌(11)의 회전에 끌려서 Y방향으로 벗어나버린다.

또, 도9b는, 광학소자 받침(13)가 설치된 일본 특허공개 2009-288571호 공보에 개시되어 있는 것 같은 종래의 광학소자 보유 장치의 모식도를 도시하고 있다.

도9b에 도시되어 있는 것 같은 종래의 광학소자 보유 장치에 있어서도, 상기에 도시한 바와 같이, 기운 상태의 대좌(14)에 광학소자(12)를 탑재하는 과정에 있어서, 광학소자(12)는 Y방향으로 벗어나려고 한다.

그렇지만, 도9b에 도시되어 있는 광학소자 보유 장치에서는, 광학소자 받침(13)이 설치되어 있다.

이 때문에, 광학소자(12)는 광학소자 받침(13)에 충돌하고, 광학소자 받침(13)과의 접촉부에 있어서 국소적인 응력(15)이 발생 함에 의해, 광학소자(12)는 변형해버린다.

여기에서, 도9b에 도시되어 있는 것 같은 광학소자 보유 장치에 있어서, 기운 상태의 대좌(14) 위에 광학소자(12)를 탑재하는 과정에서 광학소자(12)가 Y방향으로 200[μm] 벗어났을 경우를 생각한다. 이 때, 본원 발명자의 시뮬레이션에서는, 광학소자(12)가 광학소자 받침(13)에 충돌하는 과정에서 광학소자(12)의 반사면이 60[ｎｍ] 변형하는 것이 찾아내져 있다.

도9a 및 도9b에서 도시한 것 같은 대좌의 기울기는, 상술한 바와 같이, 대좌 자신의 소성변형이나 제조 오차, 및 대좌를 지지하는 도시되지 않은 부품의 소성변형이나 제조 오차에 의해 발생한다.

또한, 상기에 나타낸 것 같은 광학소자의 광학성능을 검사하는 각 공정에 있어서, 이 대좌의 기울기는 다르다. 다시 말해, 광학소자 단품검사 공정에서 사용하는 광학소자 보유 장치는, 검사용 설비인 한편, 광학 유닛 검사 공정 및 노광 장치 검사 공정에서 사용하는 광학소자 보유 장치는, 동일한 출시되는 제품이다.

따라서, 광학소자 단품검사 공정에 있어서의 광학소자 보유 장치와, 광학 유닛 검사 공정 및 노광 장치 검사 공정에 있어서의 광학소자 보유 장치와는, 서로 다른 장치다.

그 때문에, 각각의 광학소자 보유 장치에 있어서, 대좌의 기울기 방향 및 기울기량은, 대좌의 제조 오차에 따라서 서로 다르게 된다.

또한, 상술한 바와 같이, 광학 유닛 검사 공정 및 노광 장치 검사 공정에 있어서는, 서로 동일한 광학소자 보유 장치가 사용된다.

그렇지만, 광학 유닛 검사 공정에 있어서 광학소자를 대좌에 탑재했을 때에 대좌가 소성변형해버린다면, 노광 장치 검사 공정에서는 대좌의 기울기 방향 및 기울기량이 광학 유닛 검사 공정과는 달라져버린다.

이상과 같이, 각 공정에 있어서 대좌의 기울기 방향 및 기울기량은 서로 다르게 되고, 따라서 각 공정에 있어서 대좌의 기울기에 의해 생기는 광학소자의 Ｙ방향의 차이의 방향도 양도 서로 다르게 된다.

다시 말해, 각 공정에 있어서 광학소자가 광학소자 받침에 충돌하는 방향 및 충돌량은 서로 달라져버리기 때문에, 광학소자 받침과의 접촉부에 있어서 광학소자에 생기는 국소적인 응력도 서로 달라져버린다. 이에 따라, 각 공정에 있어서의 광학소자의 변형은, 서로 다르게 된다.

이상에 나타낸 이유로부터, 종래의 광학소자 보유 장치를 광학소자의 각 검사 공정에서 사용했을 경우, 광학소자에 생기는 국소적인 응력, 나아가서는 면형상이 각 공정에 있어서 재현하지 않기 때문에, 광학성능이 각 공정에 있어서 재현하지 않는다고 하는 문제가 발생한다.

그래서, 본 실시 형태는, 그러한 종래의 광학소자 보유 장치에 있어서의 과제를 해결하기 위해서, 광학소자의 각 검사 공정에 있어서 면형상을 재현시킬 수 있는 광학소자 보유 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

도1a 및 도1b는 각각, 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)(보유 장치)의 정면도 및 A-A선에 따른 단면도를 도시하고 있다.

본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)는, 중력방향(Z방향)에 교차하는 방향(Y방향)으로 연장하는 광축을 갖는 광학소자(1)의 자중을 받는 얹어놓기면을 갖는 얹어놓기대(2)를 구비하고 있다. 또한, 여기서 말하는 광축이란, 광학소자(1)의 광학면의 면법선(이때, 곡면일 경우에는 면정점에 있어서의 법선)축을 가리키고 있다.

또 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)는, 광학소자(1)의 바깥 둘레와 얹어놓기대(2)의 얹어놓기면과의 사이에 배치되어 있고, 광학소자(1)의 바깥 둘레측에 평면을 가짐과 아울러, 얹어놓기대(2)의 얹어놓기면에 접촉하는 원통면을 갖는 대좌(3)를 구비하고 있다. 또한, 대좌(3)의 얹어놓기대(2)의 얹어놓기면에 대한 접촉면은, 원통면에 한정하지 않고, 곡면이여도 개의치 않는다.

그리고, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)는, 광학소자(1)를 광축방향의 양측으로부터 가압하여 지지하는 가압기구(4)를 구비하고 있다.

광학소자(1)는, 중력방향에 교차하는 방향으로 연장되는 광축을 갖는 미러이며, 재질로서는, 석영 또는 저열팽창 유리가 사용된다.

또한, 미러인 광학소자(1)의 질량은, 예를 들면, 약 1300kg이다. 이때, 광학소자(1)의 질량은, 이것에 한정하지 않고, 보다 가벼운 미러 및 보다 무거운 미러 중 어디에 대해도, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)를 적용할 수 있다. 또 광학소자(1)는, 미러에 한정하지 않고 렌즈 등의 다른 광학소자이어도 좋다.

얹어놓기대(2)는, 서로 광학소자(1)의 광축을 포함하고, 중력방향에 평행한 단면(제2의 단면)을 사이에 두고서 설치된 2개의 경사부로 구성되어 있다. 그리고, 경사부의 경사각도(경사부의 대좌(3)에 대한 접촉면의 법선)는, 광축에 수직한 단면내에 있어서 중력방향에 대하여 45도를 이루고 있다.

또한, 얹어놓기대(2)의 재질은, 강철이며, 대좌(3)와의 접촉부에 생기는 국소적인 응력에 의한 소성변형을 방지하기 위해서, 그 접촉부에 담금질을 행해도 좋다.

또는, 얹어놓기대(2)와 대좌(3)와의 사이에, 국소적인 응력을 받기 위한 담금질을 한 도시되지 않은 보강판을 설치해도 좋다.

얹어놓기대(2)의 대좌(3)와의 접촉부에 담금질을 실행하는 것으로, 부품점수를 늘리지 않는 효과가 얻어지는 한편, 얹어놓기대(2)와 대좌(3)와의 사이에 보강판을 설치했을 경우에는, 큰 부품인 얹어놓기대(2)에 담금질을 행하는 작업 공정수를 줄이는 효과가 얻어진다.

대좌(3)는, 얹어놓기대(2)의 경사부 위에 배치되고, 재질은 강철이다. 그리고, 얹어놓기대(2)와 마찬가지로, 대좌(3)에 대해서도 얹어놓기대(2)와의 접촉부에 생기는 국소적인 응력에 의한 소성변형을 방지하기 위해서, 얹어놓기대(2)와의 접촉부, 즉 원통면에 담금질을 행해도 좋다.

가압기구(4)는, 압축 코일 용수철 기구, 혹은 포스 게이지 첨부 리니어 액추에이터로 구성된다.

또 가압기구(4)는, 광학소자(1)를 사이에 두고서 Y방향(광축방향) 양측, 즉 광학면 및 그것에 대향하는 대향면 각각에 대향하도록 하나씩 설치되어 있다.

그리고, 2개의 가압기구(4)가 광학소자(1)를 Y방향 양측으로부터 가압함으로써, 광학소자(1)를 Y방향으로 구속할 수 있다.

다시 말해, 2개의 가압기구(4)는, 광학소자(1)를 광학소자(1)의 광학면의 면법선에 수직한 단면(제1의 단면)을 사이에 두고서 양측으로부터 소정의 가압력으로 누른다.

본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 이하에 도시한 바와 같이, 가압기구(4)에 의한 가압력을 제어함으로써, 광학소자(1)를 탑재할 때에 있어서 가압기구(4)에 의한 가압력을 제거할 수 있다.

그것에 따라, 이하에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)를 광학소자(1)의 각 체크 공정에 사용하는 것에 의해, 각 공정에 있어서 광학소자(1)의 면형상을 바꾸지 않고 재현시키는 것이 가능해진다.

도2는, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에 있어서 광학소자(1)에 발생하는 국소적인 응력이 제거되는 모양을 도시하고 있다.

우선, 광학소자(1)를 대좌(3) 위에 탑재할 때에, 광학소자(1)에는 가압기구(4)와의 접촉부에 있어서 국소적인 응력(5)이 발생한다(도2의 (a) 및 (b)).

다음에, 가압기구(4)의 한쪽을 광학소자(1)로부터 이격되게 하도록 이동시키는 것에 의해, 가압기구(4)와의 접촉부에 있어서 광학소자(1)에 발생하는 국소적인 응력(5)은 완전히 제거된다(가압을 해제한다)(도2의 (c)).

다음에, 이동시킨 가압기구(4)의 한쪽을 소정의 가압력으로 광학소자(1)에 다시 부딪치게 한다(도2의 (d)).

이에 따라, 가압기구(4)와의 접촉부에 있어서 광학소자(1)에는 다시 국소적인 응력이 발생하지만, 소정의 가압력으로 부딪치게 하고 있기 때문에, 발생하는 국소적인 응력은 제어되었다(관리되었다) 것이 된다.

다음에, 가압을 해제하기 위해서 가압기구(4)의 다른쪽을 광학소자(1)로부터 이격되게 하도록 이동시켜(도2의 (ｅ)), 다시 가압기구의 다른쪽을 소정의 가압력으로 광학소자(1)에 부딪치게 한다(도2의 (f)).

이상에 나타낸 순서에 의해, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 가압기구(4)와의 접촉부에 있어서 광학소자(1)에 발생하는 국소적인 응력은, 제어된 것이 되고, 광학소자(1)의 변형도 제어된 것이 된다.

따라서, 상술한 바와 같이 가압기구(4)를 광학소자(1)로부터 일단 이격되게 한 후에 다시 소정의 가압력으로 광학소자(1)에 가압하는 것으로, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에 의해 보유된 광학소자(1)의 각 체크 공정에 있어서 국소적인 응력을 재현시킬 수 있다.

이에 따라, 광학소자(1)의 각 체크 공정에 있어서 광학소자(1)의 동일한 면형상을 재현시키는 것이 가능해진다.

도3a는, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)가 구비하는 가압기구(4)의 상세한 구성을 나타내고 있다. 또 도3b는, 가압기구(4)의 정면도를 도시하고 있다.

도3a 및 도3b에 도시되어 있는 것처럼, 가압기구(4)는, 압축 코일 용수철(16)(용수철 부재), 압축 코일 용수철(16)을 수납하는 용수철 케이스(17), 압축량 조정 부품(18), 샤프트(19), 가압력 제거용 너트(20), 가압기구보유 부품(21)을 가지고 있다.

여기에서, 압축 코일 용수철(16)을 수납하는 용수철 케이스(17), 압축량 조정 부품(18) 및 가압력 제거용 너트(20)를 총괄하여, 압축 코일 용수철(16)의 압축량을 조정하기 위한 조정 부재라고 칭할 수 있다.

압축 코일 용수철(16)의 내부에 샤프트(19)가 통과되어, 압축 코일 용수철(16) 및 샤프트(19)가, 용수철 케이스(17)의 내부에 수납된다.

용수철 케이스(17)의 내부에는 암나사가 깍여 있는 한편, 압축량 조정 부품(18)에는 수나사가 깍여 있다.

그리고, 압축량 조정 부품(18)을 용수철 케이스(17)의 내부에 나사 결합시켜 가는 것에 의해, 압축량 조정 부품(18)이 압축 코일 용수철(16)을 압축한다.

따라서, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 광학소자(1)에 대하여 압축 코일 용수철(16)이 생성하는 가압력을 포스 게이지로 측정하면서 압축량 조정 부품(18)을 용수철 케이스(17)의 내부에 나사 결합시키는 것으로, 가압력을 조정해 제어할 수 있다.

또한, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 가압력은 예를 들면 800N으로 조정하고 있지만, 광학소자(1)의 각 체크 공정에 있어서 면형상을 재현시킨 후에는, 각 공정에 있어서 가압력을 서로 동일하게 하면 좋다.

따라서, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 가압력을 800N으로 설정하고 있지만, 다른 크기의 가압력에서도 광학소자(1)의 각 체크 공정에 있어서 면형상을 재현시키는 것은 가능하다.

또 가압기구 보유 부품(21)은, 얹어놓기대(2)에 고정되어 있고, 용수철 케이스(17)를 보유하고 있다.

또한, 샤프트(19)의 원위 단부(광학소자(1)에 충돌하는 단부와는 반대측의 단부)에는 수나사가 깍여 있어, 가압력 제거용 너트(20)가 나사 결합하고 있다.

그리고, 가압력 제거용 너트(20)의 단부면의 일부가, 용수철 케이스(17)의 원위 단부면(광학소자(1)로부터 먼 측에 있는 단부면)에 접촉한다.

이에 따라, 가압력 제거용 너트(20)를 회전시키는 것에 의해, 가압력 제거용 너트(20)의 단부면과 용수철 케이스(17)의 원위 단부면이 접촉해 압축 코일 용수철(16)을 압축하면서, 샤프트(19)를 광학소자(1)로부터 이격되는 방향으로 인입할 수 있다.

이렇게하여 압축력을 조정한, 압축 코일 용수철(16), 용수철 케이스(17), 압축량 조정 부품(18), 샤프트(19) 및 가압력 제거용 너트(20)의 세트를 가압기구 보유 부품(21)에 취부하는 것에 의해, 샤프트(19)의 단부를 광학소자(1)에 부딪치게 한다. 그리고, 압축 코일 용수철(16)에 의해 생성되는 가압력이, 샤프트(19)를 통해 광학소자(1)에 인가된다.

그리고, 이 가압력을 제거할 때는, 상술한 것 같이, 가압력 제거용 너트(20)를 회전시키는 것에 의해 샤프트(19)를 광학소자(1)로부터 이격되게 하는 방향으로 인입한다.

이에 따라, 샤프트(19)의 단부는 광학소자(1)로부터 이격되고, 광학소자(1)의 샤프트(19)와의 접촉부에 있어서 발생하고 있는 응력을 완전히 제거할 수 있다.

그 후, 가압력 제거용 너트(20)를 역회전시키는 것에 의해, 샤프트(19)의 단부가 다시 광학소자(1)에 충돌하도록 밀어낸다.

그리고, 샤프트(19)의 단부가 광학소자(1)에 충돌하면, 가압력 제거용 너트(20)의 광학소자(1)측의 단부면은, 용수철 케이스(17)의 단부면으로부터 이격된다.

이에 따라, 압축 코일 용수철(16)은, 사전에 조정한 소정의 가압력을, 샤프트(19)를 통해 광학소자(1)에 인가할 수 있다.

상기에 나타낸 압축 코일 용수철을 사용하는 가압기구(4)는, 구조가 간소해서, 가격을 낮게 억제할 수 있다고 하는 점에서 뛰어나다.

또 도4에 도시되어 있는 것 같이, 압축 코일 용수철을 사용하는 가압기구 대신에, 포스 게이지 첨부 리니어 액추에이터를 사용하는 가압기구(4)를 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에 있어서 사용하는 것도 가능하다.

또한, 이후에 있어서는, 포스 게이지 첨부 리니어 액추에이터를 사용하는 가압기구(4)를 리니어 액추에이터 구동기구(4)라고 칭하는 것으로 한다.

리니어 액추에이터 구동기구(4)는, 예를 들면 왜곡 게이지인 포스 게이지(22), 예를 들면 볼 나사(50)에 취부된 스테핑 모터인 리니어 액추에이터(23), 볼 나사 너트(51)에 취부된 꽉 누름 부품(24)을 가지고 있다. 그리고, 포스 게이지(22)는, 꽉 누름 부품(24)에 접착되어 있다.

이러한 리니어 액추에이터 구동기구(4)에 의한 광학소자(1)에의 가압력을 제거할 때는, 너트(51)를 광학소자(1)로부터 이격되게 하는 방향으로 병진 구동하도록, 리니어 액추에이터(23)를 구동한다.

이에 따라, 너트(51)에 취부된 꽉 누름 부품(24)의 단부는 광학소자(1)로부터 이격되고, 광학소자(1)의 꽉 누름 부품(24)의 단부와의 접촉부에 발생하고 있는 응력을 완전히 제거할 수 있다.

그 후, 리니어 액추에이터(23)를 역구동시켜, 꽉 누름 부품(24)의 단부가 광학소자(1)에 다시 충돌하도록 너트(51)를 병진 구동시킨다.

이에 따라, 꽉 누름 부품(24)의 단부를 광학소자(1)에 부딪치게 하고, 포스 게이지(22)에 의해 꽉 누름 부품(24)의 단부에 발생하는 왜곡을 측정한다.

그리고, 포스 게이지(22)가 측정하는 왜곡을 가압력으로 환산함으로써, 꽉 누름 부품(24)이 광학소자(1)에 인가하는 가압력을 측정할 수 있다.

그리고, 가압력이 미리 규정한 소정의 가압력인 800N가 될 때까지 리니어 액추에이터(23)를 구동하고, 포스 게이지(22)에 의해 가압력이 800N이 된 것을 확인한 후, 리니어 액추에이터(23)의 구동을 정지한다.

이에 따라, 미리 규정한 소정의 가압력인 800N의 가압력을, 꽉 누름 부품(24)으로부터 광학소자(1)에 인가할 수 있다.

이렇게 리니어 액추에이터를 사용한 가압기구에서는, 가압력의 제거 및 소정의 가압력의 인가 등의 가압력의 제어를 자동화 할 수 있는 점에서 뛰어나다.

또한, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 도1a에 도시되어 있는 것 같이, 얹어놓기대(2), 대좌(3) 및 가압기구(4)의 세트를, 광학소자(1)의 하부의 광학소자(1)의 광축을 포함하고, 중력방향에 평행한 단면을 사이에 두고서 X방향의 양측 2군데에 설치하고 있다.

또한, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 도1a 및 도1b에 도시되어 있는 것 같이, 광학소자(1)의 상부에, 광학소자(1)를 Y방향으로 구속하는 상부 보유 부품(25)이 설치되어 있다.

이상의 구성에 의해, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 광학소자(1)를 경사한 2개의 대좌(3) 위에 탑재함으로써, 광학소자(1)를 X방향 및 Z방향에 있어서 구속하고 있다.

또한, 광학소자(1)와 대좌(3)와의 사이의 마찰력에 의해, 광학소자를 ωY방향(Y축 주변의 회전 방향)에 있어서 구속하고 있다.

더욱, 상부 보유 부품(25)과 2개의 가압기구(4)에 의해, 광학소자(1)를 Y방향, ωX방향(X축 주변의 회전 방향) 및 ωZ방향(Z축 주변의 회전 방향)에 있어서 구속하고 있다.

이렇게하여, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)에서는, 광학소자(1)를 6자유도 모두에 있어서 구속할 수 있다.

또, 본 실시 형태는, 얹어놓기대(2)의 얹어놓기면이 곡면인 한편, 얹어놓기대(2)의 얹어놓기면에 대한 대좌(3)의 접촉면이 평면인 경우에도 적용할 수 있다. 다시 말해, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)는, 얹어놓기대(2)의 얹어놓기면 및 얹어놓기대(2)의 얹어놓기면에 대한 대좌(3)의 접촉면의 한쪽이 곡면이면 효과를 발휘할 수 있다.

또 본 실시 형태는, 광학소자(1)를 광학소자(1)의 광학면의 면법선이 중력방향에 수직해지도록 보유하는 경우를 생각하고 있지만, 이것에 한정하지 않고, 광학소자(1)를 광학소자(1)의 광학면의 면법선이 중력방향에 비평행해지도록 보유하는 경우에도 효과를 발휘할 수 있다.

[제２실시 형태]

도5는, 제２실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(200)가 구비하는 가압기구(64)의 상세한 구성을 도시하고 있다.

또한, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(200)는, 가압기구를 제외하고, 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)와 동일한 구성이기 때문에, 동일한 부재에는 동일한 부번을 첨부해서 설명을 생략한다.

도5에 도시되어 있는 것 같이, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(200)는, 도3a에 도시되어 있는 가압기구(4)에 샤프트(19)를 고정하는 고정 부품을 새롭게 설치한 가압기구(64)를 사용하고 있다.

고정 부품은, 끼워 넣기 부품(26)과 볼트(27)로 구성되어 있다. 구체적으로는, 용수철 케이스(17)와 가압력 제거용 너트(20)와의 사이에 있어서 끼워 넣기 부품(26)에 샤프트(19)를 끼운 후, 끼워 넣기 부품(26)에 볼트(27)를 체결시킨다. 이에 따라, 샤프트(19)가 자전함으로써 샤프트(19)의 Ｙ방향에 있어서의 위치가 변화되지 않도록 고정할 수 있다.

광학소자(1)는, 대좌(3) 위에 탑재할 때에 Y방향으로 위치결정하는 것이 바람직하다. 이것은, 광학소자(1)가 내장된 광학 유닛의 광학성능을 악화시키지 않기 위해서는, 광학소자를 Y방향에 있어서 설계 위치에 배치하는 것이 필요하기 때문이다.

본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(200)에서는, 광학소자(1)를 Y방향에 있어서 위치결정하는 방법으로서, 우선, 샤프트(19)의 단부가 광학소자(1)에 충돌하였을 때에, 광학소자(1)가 설계 위치에 배치되도록 샤프트(19)를 고정한다.

또한, 이때에 있어서의 샤프트(19)의 위치조정에 있어서는, 가압력 제거용 너트(20)를 사용한다. 그리고, 샤프트(19)의 위치는 노기스로 실측해도 좋고, 위치조정용 지그를 사용해도 좋다.

그리고, 샤프트(19)의 위치를 조정해 고정한 상태에서, 광학소자(1)를 샤프트(19)의 단부면에 부딪치게 하면서 대좌(3) 위에 탑재한다.

이에 따라, 광학소자(1)가 설계 위치에 배치되도록 대좌(3) 위에 탑재할 수 있고, 광학소자(1)가 내장된 광학 유닛의 광학성능의 악화를 억제할 수 있다.

또 도6에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 광학소자(1)의 위치결정을 위해 별개의 위치결정장치(28)(위치결정부재)를, 예를 들면 광학소자 보유 장치(200)로부터 벗어난 상부에 설치해도 개의치 않는다.

위치결정장치(28)는, 위치결정장치(28)가 광학소자(1)에 충돌하였을 때에, 광학소자(1)가 설계 위치에 배치되도록 고정된다.

그리고, 광학소자(1)를 위치결정장치(28)에 부딪치게 하면서 대좌(3) 위에 탑재하고, 그 후, 위치결정장치(28)는, 광학소자(1)로부터 이격되게 하도록 대피시킨다.

이에 따라, 광학소자(1)가 설계 위치에 배치되도록 대좌(3) 위에 탑재할 수 있고, 광학소자(1)가 내장된 광학 유닛의 광학성능의 악화를 억제할 수 있다.

또한, 위치결정장치(28)로서는, 캠 폴로워 혹은 수지 블록을 들 수 있다.

캠 폴로워를 사용한 위치결정장치(28)에서는, 광학소자(1)를 캠 폴로워에 부딪치게 하면서 대좌(3) 위에 탑재한다.

이때, 광학소자(1)의 움직임에 연동해서 캠 폴로워가 회전하기 때문에, 광학소자(1)에 있어서 마찰력에 의한 변형이 발생하지 않는다.

또한, 캠 폴로워는 금속제이기 때문에, 광학소자(1)를 캠 폴로워에 부딪치게 하였을 때에 있어서의 캠 폴로워의 변형이 작아지고, 광학소자(1)의 위치결정 정밀도가 좋아지는 점에서 뛰어나다.

또한, 수지 블록을 사용한 위치결정장치(28)에서는, 광학소자(1)를 수지 블록에 부딪치게 하면서 대좌(3) 위에 탑재한다.

여기에서, 수지 블록은 광학소자(1)에 비교하여 부드럽기 때문에, 광학소자(1)와 수지 블록이 서로 활주하여도, 광학소자(1)를 손상시키지 않는 점에서 뛰어나다.

[제３실시 형태]

도7은, 제３실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(300)가 구비하는 가압기구(74)의 상세도를 도시하고 있다.

또한, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(300)는, 가압기구를 제외하고, 제１실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(100)와 동일한 구성이기 때문에, 동일한 부재에는 동일한 부번을 첨부해서 설명을 생략한다.

도7에 도시되어 있는 것 같이, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치(300)는, 도3a에 도시되어 있는 가압기구(4)에 방향변환 기구를 새롭게 설치한 가압기구(74)를 사용하고 있다.

방향변환 기구는, 방향변환 블록(29), 보유 부품(30) 및 축(31)으로 구성되어 있다.

도7에 도시되어 있는 것 같이, 방향변환 블록(29) 및 보유 부품(30)에는 각각 관통구멍이 설치되어 있고, 그 관통구멍에 축(31)이 관입하고, 보유 부품(30)이 얹어놓기대(2)에 고정되는 것에 의해, 방향변환 기구는 고정되어 있다.

방향변환 블록(29) 및 보유 부품(30) 각각에 설치된 관통구멍과 축(31)과는, 맞춤 공차로 되어 있고, 방향변환 블록(29)은, 반동이 작게 스무스하게 회전하게 되어 있다.

그리고, 도7에 도시되어 있는 것 같이, 가압기구(74) 중 가압기구(4)에 상당하는 부분은, 길이 방향을 Z방향(중력방향)을 향해서, 보유 부품(30)에 고정되어 있다.

또한, 방향변환 블록(29)의 한쪽의 단부면은 광학소자(90)에 접촉하는 한편, 다른쪽의 단부면은 가압기구(4)에 상당하는 부분에 접촉한다.

이에 따라, 가압기구(4)에 상당하는 부분에 있어서의 Ｚ방향의 가압력은, 방향변환 기구에 의해 Y방향의 가압력으로 변환되어, 가압기구(74)는, 광학소자(90)에 대하여 Y방향의 가압력을 인가하는 것이 가능해진다.

또한, 도7에 도시되어 있는 광학소자(90)는, 제１ 및 제２실시 형태에 있어서의 광학소자(1)와 비교하여, 면내 방향으로 내달은 부분(32)을 갖는 반사면을 가지고 있다.

이것은, 광학소자가 내장되는 광학 유닛의 광학성능의 하나인 개구수ＮA를 크게 하고, 이에 따라 결상성능에 대응하는 해상력을 향상시키기 위해서다.

최근, 고선명 TV나 스마트 폰의 제조를 위해서, 보다 높은 해상력이 노광 장치에는 요청되고 있다.

그 요구에 응하기 위해서, 광학 유닛의 개구수ＮA를 크게 할 필요가 있고, 그것을 위해서는, 광학소자의 반사면의 지름을 크게 할 필요가 있다.

따라서, 보다 높은 해상력을 갖는 노광 장치를 제조하기 위해서는, 광학소자(90)와 같이, 반사면이 면내 방향으로 내달은 광학소자가 필요해지고 있다.

그러한 광학소자에 대하여 제１ 및 제２실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치를 사용하면, 가압기구가 광학소자의 돌출부와 간섭해버린다.

거기에서, 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치와 같이 방향변환 부품을 사용하는 것으로, 가압력 조정부의 길이 방향을 Z방향을 향하는 것이 가능해지고, 가압기구와 광학소자와의 간섭을 회피하는 것이 가능해진다.

[노광 장치]

도8은, 본 실시 형태에 따른 노광 장치(500)의 구성도를 도시하고 있다.

본 실시 형태에 따른 노광 장치(500)는, 램프 점등장치(501)(광원), 조명 광학계(502), 슬릿(503), 원판 스테이지(505), 투영 광학계(506) 및 기판 스테이지(507)를 구비하고 있다.

램프 점등장치(501)는, 고압수은 램프 등의 자외선광을 발하는 광원이다.

조명 광학계(502)는, 제1 절곡 미러(201), 제1콘덴서 렌즈(202), 플라이 아이 렌즈(203), 제2콘덴서 렌즈(204) 및 제2 절곡 미러(205)를 가지고 있다.

원판 스테이지(505)는, 원판M을 보유하는 마스크 스테이지이며, 도8중에 도시한 Y축방향으로 구동할 수 있다.

투영 광학계(506)는, 원판M 위에 묘화(형성)된 패턴을 감광 재료가 도포된 기판P 위에 투영 전사하기 위한 투영 광학계다.

본 실시 형태에 따른 노광 장치(500)에서는, 오프너(Ｏｆｆｎｅｒ)형 광학계에 의한 투영 광학계(506)를 사용하고 있다.

오프너형 광학계의 경우, 양호한 상영역을 확보하기 위해서 원판M은 원호형상으로 조사된다. 또한, 기판P에 도달하는 노광 광의 조사 형상도 원호형상으로 되어 있다.

원판M을 투과한 광은, 사다리꼴 미러(601), 오목면 미러(602), 볼록면 미러(603), 오목면 미러(602), 사다리꼴 미러(601)의 순으로 반사한 후에, 기판P에 도달하고, 원판Ｍ상의 패턴이 기판P 위에 전사된다.

기판 스테이지(507)는, 기판P를 보유하는 웨이퍼 스테이지이며, 원판 스테이지(505)와 동기시켜서 Y방향으로 구동함에 의해 기판P의 노광이 행해진다. 기판 스테이지(507)는, Y방향과 아울러 X방향으로도 구동하는 것이 가능해서, 기판P 위에 복수의 패널을 노광할 경우에는 X 및 Y방향으로 기판 스테이지(507)를 구동시켜서 노광을 행한다.

램프 점등장치(501)로부터 출사한 노광 광은, 조명 광학계(502), 슬릿(503)을 통과한 후, 원판 스테이지(505) 위에 얹어 놓인 원판M을 조사한다(원판M 위에 집광된다).

그리고, 원판M을 투과한 노광 광은, 투영 광학계(506)를 통과하고, 기판 스테이지(507)에 얹어 놓인 기판P을 조사해(기판P 위에 집광되어), 기판Ｐ상의 노광 영역에 대하여 노광이 행해진다.

본 실시 형태에 따른 노광 장치(500)에서는, 상술한 본 실시 형태에 따른 광학소자 보유 장치에 의해, 예를 들면 오목면 미러(602)가 보유되어 있다.

본 발명에 의하면, 광학면의 형상이 재현하도록 광학소자를 보유할 수 있는 보유 장치를 제공할 수 있다.

[물품제조 방법에 따른 실시 형태]

본 실시 형태에 따른 노광 장치를 사용하여, 물품은, 감광제가 도포된 기판(웨이퍼, 유리 기판등)을 노광하는 공정과, 노광된 기판(감광제)을 현상하는 공정과, 현상된 기판을 다른 주지의 공정으로 처리함에 의해 제조된다.

다른 주지의 공정에는, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등이 포함된다.

본 실시 형태에 따른 물품제조 방법에 의하면, 종래보다도 고품위의 물품을 제조할 수 있다.

이상, 바람직한 실시 형태에 대해서 설명했지만, 이것들의 실시 형태에 한정되지 않고, 그 요지의 범위내에서 여러 가지의 변형 및 변경이 가능하다.

Claims (11)

1. 광학소자를 해당 광학소자의 광학면의 면법선이 중력방향으로 비평행해지도록 보유하는 보유 장치로서,
   상기 광학소자를 보유하는 대좌 및 해당 대좌가 얹어놓여지는 얹어놓기대이며, 해당 대좌 및 해당 얹어놓기대의 서로에 대한 접촉면의 한쪽이 곡면인, 대좌 및 얹어놓기대와,
   상기 광학소자를 상기 면법선에 수직한 제1의 단면을 사이에 두고서 양측으로부터 소정의 가압력으로 가압하는 가압기구를,
   구비하는 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 곡면은, 원통면인 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 대좌의 상기 광학소자에 대한 접촉면은, 평면인 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 광학소자의 상기 면법선의 방향에 있어서의 위치를 결정하기 위한 위치결정 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
5. 제 1 항에 있어서,
   상기 가압기구는, 가압력을 생성하는 용수철 부재와 해당 용수철 부재의 압축량을 조정하는 조정 부재를 갖는 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
6. 제 5 항에 있어서,
   상기 가압기구는, 상기 용수철 부재에 의해 생성된 가압력의 방향을 변환하는 방향변환 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 보유 장치는, 상기 광학소자를 상기 면법선이 중력방향에 수직해지도록 보유하는 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 얹어놓기대는, 서로 상기 면법선을 포함하고, 중력방향에 평행한 제2의 단면을 사이에 두고서 설치된 2개의 경사부를 포함하고,
   해당 경사부의 상기 대좌에 대한 접촉면의 법선은, 상기 제1의 단면내에 있어서 중력방향에 대하여 45도를 이루고 있는 것을 특징으로 하는 보유 장치.
   
9. 원판에 형성된 패턴을, 광원으로부터의 노광 광을 사용해서 기판 위에 도포된 감광 재료에 전사하도록 상기 감광 재료를 노광하는 노광 장치로서,
   상기 원판이 얹어놓여지는 원판 스테이지와,
   상기 기판이 얹어놓여지는 기판 스테이지와,
   상기 광원으로부터의 노광 광을 상기 원판 위에 집광하는 조명 광학계와,
   상기 원판을 투과한 노광 광을 상기 기판 위에 집광하는 투영 광학계를, 구비하고,
   상기 조명 광학계 및 상기 투영 광학계에 포함되는 적어도 하나의 광학소자는, 청구항 1 내지 8 중 어느 한 항에 기재된 보유 장치에 의해 보유되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
   
10. 청구항 9에 기재된 노광 장치를 사용해서 기판을 노광하는 스텝과,
    해당 노광하는 스텝에서 노광된 상기 기판을 현상하는 스텝을 포함하고,
    상기 현상하는 스텝에서 현상된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 것을 특징으로 하는 물품 제조 방법.
    
11. 광학소자를 해당 광학소자의 광학면의 면법선이 중력방향에 비평행해지도록 보유하는 보유 장치에 있어서 광학소자를 보유하는 방법으로서,
    상기 광학소자를 상기 면법선에 수직한 제1의 단면을 사이에 두고서 양측으로부터 가압하면서 상기 광학소자를 상기 보유 장치에 얹어놓는 스텝과,
    상기 광학소자의 한쪽의 측에 있어서의 상기 가압을 해제하는 스텝과,
    상기 광학소자의 상기 한쪽의 측을 소정의 가압력으로 가압하는 스텝과,
    상기 광학소자의 다른쪽의 측에 있어서의 상기 가압을 해제하는 스텝과,
    상기 광학소자의 상기 다른쪽의 측을 소정의 가압력으로 가압하는 스텝을,
    포함하는 것을 특징으로 하는 방법.

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