KR20200144168A - Substrate transporting head - Google Patents

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Abstract

An objective of the present invention is to provide a substrate transport head capable of preventing an end material from remaining on an edge portion of a unit substrate. According to an embodiment of the present invention, the substrate transport head comprises: a suction member configured to suck a unit substrate divided from a base substrate; a first end material pressing unit including a plurality of pushpins arranged to correspond to an area occupied by an end material positioned around the unit substrate, a push plate on which the plurality of pushpins are installed, and a push plate actuator to move the push plate to allow the plurality of pushpins to press the end material; and a second end material pressing unit including a gas spray nozzle configured to spray gas toward the end material to press the end material, and a gas supply source configured to supply gas to the gas spray nozzle. One of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit can be configured to press the end material when the suction member sucks the unit substrate or before the suction member sucks the unit substrate. The other one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit can be configured to press the end material remaining on an edge portion of the unit substrate sucked on the suction member.

Description

기판 반송 헤드{SUBSTRATE TRANSPORTING HEAD}Substrate transfer head {SUBSTRATE TRANSPORTING HEAD}

본 발명은 모기판으로부터 분단된 단위 기판을 반송하도록 구성되는 기판 반송 헤드에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer head configured to transfer a unit substrate divided from a mother substrate.

일반적으로, 디스플레이에 사용되는 다양한 종류의 패널, 반도체 기판 등은 취성 재료로 이루어진 모기판으로부터 소정의 크기로 절단된 단위 기판을 사용하여 제조된다.In general, various types of panels and semiconductor substrates used in displays are manufactured using a unit substrate cut to a predetermined size from a mother substrate made of a brittle material.

모기판을 단위 기판으로 절단하기 위하여, 다이아몬드와 같은 재료로 이루어지는 스크라이빙 휠을 모기판에 가압한 후 스크라이빙 휠을 모기판이 절단될 가상의 절단 예정 라인을 따라 이동시키는 것에 의해 모기판에 스크라이빙 라인을 형성하는 스크라이빙 공정이 수행된다. 그리고, 스크라이빙 라인을 따라 모기판을 가압하여 모기판을 단위 기판으로 분단하는 브레이킹 공정이 수행된다. 그런 다음, 브레이킹 공정에 의해 모기판으로부터 분단된 단위 기판을 픽업하여 후속 공정으로 반송하는 기판 반송 공정이 수행된다.In order to cut the mother substrate into a unit substrate, a scribing wheel made of a material such as diamond is pressed against the mother substrate, and then the scribing wheel is moved along the virtual cutting line to be cut to the mother substrate. A scribing process of forming a scribing line is performed. In addition, a braking process of dividing the mother substrate into unit substrates by pressing the mother substrate along the scribing line is performed. Then, a substrate transfer process is performed in which the unit substrate divided from the mother substrate is picked up by the braking process and transferred to a subsequent process.

모기판이 단위 기판으로 분단되면, 단위 기판의 적어도 하나의 에지부에는 실제로 제품에 사용되지 않고 버려지는 부분인 단재(더미, 컬릿)가 존재한다. 이러한 단재는 단위 기판으로부터 분리되어야 하지만 다양한 원인으로 인해 단위 기판의 에지부에 부착된 상태로 잔류할 수 있다.When the mother substrate is divided into a unit substrate, at least one edge portion of the unit substrate has an end material (dummy, cullet) that is not actually used in a product and is discarded. Such a single material must be separated from the unit substrate, but may remain attached to the edge portion of the unit substrate due to various reasons.

본 발명의 목적은 단위 기판의 에지부로부터 단재를 확실하게 분리하여 단위 기판의 에지부에 단재가 잔류하는 것을 방지할 수 있는 기판 반송 헤드를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate transfer head capable of reliably separating an end material from an edge portion of a unit substrate and preventing the end material from remaining at an edge portion of a unit substrate.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 모기판으로부터 분단된 단위 기판을 흡착하도록 구성되는 흡착 부재; 단위 기판의 주위에 위치되는 단재가 차지하는 영역에 대응하도록 배치되는 복수의 푸시 핀; 복수의 푸시 핀이 설치되는 푸시 플레이트; 및 복수의 푸시 핀이 단재를 가압하도록 푸시 플레이트를 이동시키는 푸시 플레이트 구동기를 포함하는 제1 단재 가압부; 및 단재를 가압하도록 단재를 향하여 가스를 분사하도록 구성되는 가스 분사 노즐; 및 가스 분사 노즐로 가스를 공급하도록 구성되는 가스 공급원을 포함하는 제2 단재 가압부를 포함하고, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 흡착 부재가 단위 기판을 흡착하기 이전 또는 흡착 부재가 단위 기판을 흡착할 때 단재를 가압하도록 구성될 수 있고, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나는 흡착 부재에 흡착된 단위 기판의 에지부에 잔류하는 단재를 가압하도록 구성될 수 있다.A substrate transfer head according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes: an adsorption member configured to adsorb a unit substrate divided from a mother substrate; A plurality of push pins disposed to correspond to an area occupied by an end material positioned around the unit substrate; A push plate on which a plurality of push pins are installed; And a first end material pressing part including a push plate driver for moving the push plate so that the plurality of push pins press the end material. And a gas injection nozzle configured to inject gas toward the end material to pressurize the end material. And a second end material pressurization unit including a gas supply source configured to supply gas to the gas injection nozzle, and any one of the first end material pressurization unit and the second end material pressurization unit is either before the adsorption member adsorbs the unit substrate or is adsorbed. When the member adsorbs the unit substrate, it may be configured to pressurize the end material, and the other of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is configured to press the end material remaining at the edge of the unit substrate adsorbed by the adsorption member. Can be.

본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 흡착 부재의 일측에 배치되어 흡착 부재에 흡착된 단위 기판의 에지부에 단재가 존재하는지 여부를 검출하는 단재 감지 센서를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer head according to an embodiment of the present invention may further include an end material detection sensor disposed on one side of the adsorption member to detect whether an end material exists at an edge portion of the unit substrate adsorbed by the adsorption member.

단위 기판으로부터 단재가 이격되는 방향으로 단재를 향하여 가스를 분사하도록, 가스 분사 노즐은 단위 기판의 표면에 직교하는 수직축에 대하여 경사지게 설치될 수 있다.The gas injection nozzle may be installed to be inclined with respect to a vertical axis orthogonal to the surface of the unit substrate so as to spray gas toward the end material in a direction in which the end material is spaced apart from the unit substrate.

본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 단위 기판에 직교하는 수직축에 직교하는 수평축을 중심으로 가스 분사 노즐을 회전시켜 수직축에 대한 가스 분사 노즐의 경사각을 조절하는 노즐 회전기를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer head according to an embodiment of the present invention may further include a nozzle rotator for adjusting the inclination angle of the gas injection nozzle with respect to the vertical axis by rotating the gas injection nozzle about a horizontal axis perpendicular to a vertical axis perpendicular to the unit substrate. .

본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 가스 공급원으로부터 가스 분사 노즐로 공급되는 가스의 온도를 조절하는 가스 온도 조절기를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer head according to an embodiment of the present invention may further include a gas temperature controller for controlling a temperature of a gas supplied from a gas supply source to a gas injection nozzle.

가스 공급원은 가스의 압력을 주기적으로 변화시키면서 가스 분사 노즐로 가스를 공급할 수 있다.The gas supply source may supply gas to the gas injection nozzle while periodically changing the pressure of the gas.

본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 단위 기판을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판 주위의 단재에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈을 구비함으로써, 단위 기판의 에지부로부터 단재를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판의 에지부에 단재가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판의 에지부에 단재가 잔류하는 상태로 단위 기판이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판의 에지부에 잔류하는 단재가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.A substrate transfer head according to an embodiment of the present invention includes an end material pressing module that applies a pressing force to an end material around the unit substrate in a second direction opposite to the first direction when adsorbing and moving the unit substrate in the first direction, The cut material can be more easily and reliably separated from the edge part of the unit substrate to prevent the cut material from remaining at the edge part of the unit substrate. Accordingly, it is possible to prevent a problem in which the unit substrate is conveyed to a subsequent process while the end material remains at the edge portion of the unit substrate. In addition, during a process in which the unit substrate is transported to a subsequent process, there may be a problem that the cut material remaining at the edge of the unit substrate falls from an unintended place.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 설치되는 기판 절단 장치가 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 설치되는 기판 절단 장치가 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 베이스 부재의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 푸시 플레이트의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 푸시 플레이트 및 푸시 핀이 개략적으로 도시된 도면이다.
도 7 내지 도 10은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 14는 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 15는 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 16은 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 17은 본 발명의 제6 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 18은 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 19는 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 베이스 부재의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 20은 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 다른 예가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 21은 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 다른 예에 따른 베이스 부재의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.
1 is a plan view schematically showing a substrate cutting apparatus in which a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention is installed.
2 is a side view schematically illustrating a substrate cutting apparatus in which a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention is installed.
3 is a schematic view of a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing a bottom portion of a base member of a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention.
5 is a view schematically showing the bottom of the push plate of the substrate transfer head according to the first embodiment of the present invention.
6 is a schematic view of a push plate and a push pin of a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention.
7 to 10 are views for explaining the operation of the substrate transfer head according to the first embodiment of the present invention.
11 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a second embodiment of the present invention.
12 and 13 are views for explaining the operation of the substrate transfer head according to the second embodiment of the present invention.
14 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a third embodiment of the present invention.
15 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a fourth embodiment of the present invention.
16 is a diagram schematically showing a substrate transfer head according to a fifth embodiment of the present invention.
17 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a sixth embodiment of the present invention.
18 is a diagram schematically showing a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.
19 is a view schematically showing a bottom portion of a base member of a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.
20 is a diagram schematically showing another example of a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.
21 is a view schematically showing a bottom portion of a base member according to another example of a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드에 대하여 설명한다.Hereinafter, a substrate transfer head according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1 내지 도 2를 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 구비되는 기판 절단 장치에 대하여 설명한다.First, a substrate cutting apparatus including a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 2.

도 1 및 도 2를 참조하면, 기판 절단 공정이 수행될 모기판(S)이 이송되는 방향을 Y축 방향이라 정의하고, 모기판(S)이 이송되는 방향(Y축 방향)에 교차하는 방향을 X축 방향이라 정의한다. 그리고, 모기판(S)이 놓이는 X-Y평면에 수직인 방향을 Z축 방향이라 정의한다. 또한, 스크라이빙 라인이라는 용어는 모기판(S)의 표면에서 소정 방향으로 연장되게 형성되는 홈 및/또는 크랙을 의미한다. 그리고, 절단 예정 라인이라는 용어는 스크라이빙 라인이 형성될 가상의 라인을 의미한다.1 and 2, the direction in which the mother substrate S in which the substrate cutting process is to be performed is transferred is defined as the Y-axis direction, and the direction crosses the direction in which the mother substrate S is transferred (Y-axis direction). Is defined as the X-axis direction. In addition, a direction perpendicular to the X-Y plane on which the mother substrate S is placed is defined as the Z-axis direction. In addition, the term scribing line means a groove and/or crack formed to extend in a predetermined direction from the surface of the mother substrate S. In addition, the term “to be cut line” refers to a virtual line on which a scribing line is to be formed.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 기판 절단 장치는 스크라이빙 유닛(30)과, 제1 스테이지(10)와, 제2 스테이지(20)와, 기판 이송 유닛(40)과, 기판 반송 유닛(50)을 포함할 수 있다.1 and 2, the substrate cutting apparatus includes a scribing unit 30, a first stage 10, a second stage 20, a substrate transfer unit 40, and a substrate transfer. It may include a unit 50.

제1 스테이지(10)는 모기판(S)의 이송 방향으로 스크라이빙 유닛(30)의 상류측에 배치된다. 제1 스테이지(10)는 모기판(S)이 스크라이빙 유닛(30)을 향하여 이동되는 동안 모기판(S)을 지지하는 역할을 한다. 또한, 제1 스테이지(10)는 모기판(S)에 스크라이빙 라인을 형성하는 과정에서 모기판(S)을 지지하는 역할을 할 수 있다. 예를 들면, 제1 스테이지(10)는 벨트(11)로서 구성될 수 있다. 벨트(11)는 복수의 풀리(12)에 의해 지지될 수 있다. 복수의 풀리(12) 중 적어도 하나는 벨트(11)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.The first stage 10 is disposed on the upstream side of the scribing unit 30 in the transport direction of the mother substrate S. The first stage 10 serves to support the mother substrate S while the mother substrate S moves toward the scribing unit 30. In addition, the first stage 10 may serve to support the mother substrate S in the process of forming a scribing line on the mother substrate S. For example, the first stage 10 may be configured as a belt 11. The belt 11 may be supported by a plurality of pulleys 12. At least one of the plurality of pulleys 12 may be a driving pulley that provides a driving force to rotate the belt 11.

제2 스테이지(20)는 모기판(S)의 이송 방향으로 스크라이빙 유닛(30)의 하류측에 배치된다. 제2 스테이지(20)는 스크라이빙 유닛(30)에 의해 스크라이빙 라인이 형성된 모기판(S)을 수용하여 지지하는 역할을 한다. 또한, 제2 스테이지(20)는 모기판(S)에 스크라이빙 라인을 형성하는 과정에서 모기판(S)을 지지하는 역할을 할 수 있다. 예를 들면, 제2 스테이지(20)는 벨트(21)로서 구성될 수 있다. 벨트(21)는 복수의 풀리(22)에 의해 지지될 수 있다. 복수의 풀리(22) 중 적어도 하나는 벨트(21)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.The second stage 20 is disposed on the downstream side of the scribing unit 30 in the transport direction of the mother substrate S. The second stage 20 serves to accommodate and support the mother substrate S on which the scribing line is formed by the scribing unit 30. In addition, the second stage 20 may serve to support the mother substrate S in the process of forming a scribing line on the mother substrate S. For example, the second stage 20 may be configured as a belt 21. The belt 21 may be supported by a plurality of pulleys 22. At least one of the plurality of pulleys 22 may be a driving pulley that provides a driving force to rotate the belt 21.

스크라이빙 유닛(30)은 모기판(S)에 X축 방향 및/또는 Y축 방향으로 스크라이빙 라인을 형성하도록 구성된다. 스크라이빙 유닛(30)은 X축 방향으로 연장되는 프레임(31)과, 프레임(31)에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되는 스크라이빙 헤드(32)를 포함한다. 스크라이빙 헤드(32)는 스크라이빙 휠(34)을 구비한다. 스크라이빙 휠(34)은 휠 홀더(33)를 통해 스크라이빙 헤드(32)에 장착될 수 있다.The scribing unit 30 is configured to form a scribing line in the X-axis direction and/or the Y-axis direction on the mother substrate S. The scribing unit 30 includes a frame 31 extending in the X-axis direction and a scribing head 32 installed on the frame 31 so as to be movable in the X-axis direction. The scribing head 32 has a scribing wheel 34. The scribing wheel 34 may be mounted on the scribing head 32 through the wheel holder 33.

스크라이빙 헤드(32)는 프레임(31)에 대하여 X축 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 이를 위해, 프레임(31)에는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 X축 이동 기구가 구비될 수 있다. X축 이동 기구는 스크라이빙 헤드(32)를 X축 방향으로 이동하도록 구동력을 제공할 수 있다.The scribing head 32 may be configured to be movable in the X-axis direction with respect to the frame 31. To this end, the frame 31 may be provided with an actuator using pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or an X-axis moving mechanism such as a ball screw mechanism. The X-axis movement mechanism may provide a driving force to move the scribing head 32 in the X-axis direction.

스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)의 표면을 가압하는 상태에서, 스크라이빙 헤드(32)가 모기판(S)에 대하여 상대적으로 X축 방향으로 이동되는 것에 의해, 모기판(S)의 표면에는 X축 방향으로 스크라이빙 라인이 형성될 수 있다. 또한, 스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)의 표면을 가압한 상태에서 모기판(S)이 기판 이송 유닛(40)에 의해 Y축 방향으로 이동되는 것에 의해 모기판(S)의 표면에는 Y축 방향으로 스크라이빙 라인이 형성될 수 있다.In a state where the scribing wheel 34 presses the surface of the mother substrate S, the scribing head 32 is moved in the X-axis direction relative to the mother substrate S, so that the mother substrate ( A scribing line may be formed on the surface of S) in the X-axis direction. In addition, the mother substrate S is moved in the Y-axis direction by the substrate transfer unit 40 while the scribing wheel 34 presses the surface of the mother substrate S. A scribing line may be formed on the surface in the Y-axis direction.

이와 같이 스크라이빙 휠(34)에 의해 모기판(S)의 표면에 X축 방향 및/또는 Y축 방향으로 스크라이빙 라인이 형성되면, 스크라이빙 라인에 형성된 크랙이 모기판(S)의 내부로 진행함에 따라, 모기판(S)이 스크라이빙 라인을 따라 단위 기판(S1)으로 분단된 상태 또는 작은 힘에 의해서도 모기판(S)이 스크라이빙 라인을 따라 단위 기판(S1)으로 분단될 수 있는 상태가 될 수 있다.In this way, when a scribing line is formed in the X-axis direction and/or Y-axis direction on the surface of the mother substrate S by the scribing wheel 34, the crack formed in the scribing line is formed on the mother substrate S As it proceeds to the inside of, the mother substrate S is divided into the unit substrate S1 along the scribing line, or even by a small force, the mother substrate S is the unit substrate S1 along the scribing line. It can be in a state that can be divided into.

다른 예로서, 도시되지 않았지만, 스크라이빙 라인을 따라 모기판(S)에 소정의 가압력을 가하여 모기판(S)이 스크라이빙 라인을 따라 분단되도록 하는 브레이킹 유닛이 스크라이빙 유닛(30) 및 제2 스테이지(20) 사이에 구비되는 구성에도 본 발명이 적용 가능하다.As another example, although not shown, a braking unit that applies a predetermined pressing force to the mother substrate S along the scribing line so that the mother substrate S is divided along the scribing line is a scribing unit 30 And the present invention is applicable to a configuration provided between the second stage 20.

한편, 모기판(S)이 복수의 단위 기판(S1)으로 분단되면, 단위 기판(S1)의 적어도 하나의 에지부에는 실제로 제품에 사용되지 않고 버려지는 부분인 단재(S2)가 존재한다.On the other hand, when the mother substrate S is divided into a plurality of unit substrates S1, at least one edge portion of the unit substrate S1 has an end material S2 that is not actually used in a product and is discarded.

스크라이빙 휠(34)은 Z축을 중심으로 회전 가능하게 휠 홀더(33)에 장착될 수 있다. 따라서, 스크라이빙 휠(34)의 절단날이 X축 방향과 평행하게 되거나 Y축 방향과 평행하게 될 수 있다.The scribing wheel 34 may be mounted on the wheel holder 33 so as to be rotatable about the Z axis. Accordingly, the cutting edge of the scribing wheel 34 may be parallel to the X-axis direction or parallel to the Y-axis direction.

스크라이빙 헤드(32)는 프레임(31)에 대하여 Z축 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 이를 위해, 프레임(31)에는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 Z축 이동 기구가 구비될 수 있다. Z축 이동 기구는 스크라이빙 헤드(32)를 Z축 방향으로 이동하도록 구동력을 제공할 수 있다.The scribing head 32 may be configured to be movable in the Z-axis direction with respect to the frame 31. To this end, the frame 31 may be provided with an actuator using pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a Z-axis moving mechanism such as a ball screw mechanism. The Z-axis movement mechanism may provide a driving force to move the scribing head 32 in the Z-axis direction.

스크라이빙 헤드(32)가 프레임(31)에 대하여 Z축 방향으로 이동함에 따라, 스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)에 가압되거나 모기판(S)으로부터 이격될 수 있다. 그리고, 스크라이빙 헤드(32)가 Z축 방향으로 이동하는 정도를 조절하는 것에 의해, 스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)에 가하는 가압력이 조절될 수 있다. 스크라이빙 헤드(32)가 Z축 방향으로 이동되는 것에 의해, 스크라이빙 휠(34)의 모기판(S)으로의 절삭 깊이(침투 깊이)가 조절될 수 있다.As the scribing head 32 moves in the Z-axis direction with respect to the frame 31, the scribing wheel 34 may be pressed against the mother substrate S or separated from the mother substrate S. In addition, by controlling the degree of movement of the scribing head 32 in the Z-axis direction, the pressing force applied by the scribing wheel 34 to the mother substrate S may be adjusted. By moving the scribing head 32 in the Z-axis direction, the cutting depth (penetration depth) of the scribing wheel 34 to the mother substrate S can be adjusted.

기판 이송 유닛(40)은 모기판(S)의 이송 방향으로의 후방측 단부인 모기판(S)의 후행단을 파지하여 모기판(S)을 스크라이빙 유닛(30)으로 이송하도록 구성된다. 기판 이송 유닛(40)은, 제1 스테이지(10) 상에 지지된 모기판(S)의 후행단을 파지하도록 구성되는 클램프 모듈(41)과, 클램프 모듈(41)과 연결되며 X축 방향으로 연장되는 지지대(42), 지지대(42)와 연결되며 Y축 방향으로 연장되는 가이드 레일(43)을 포함할 수 있다. 지지대(42)와 가이드 레일(43) 사이에는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 클램프 모듈(41)이 모기판(S)의 후행단을 파지한 상태에서 지지대(42)가 직선 이동 기구에 의해 Y축 방향으로 이동됨에 따라, 모기판(S)이 Y축 방향으로 이송될 수 있다. 이때, 제1 스테이지(10)는 클램프 모듈(41)의 이동과 동기화되어 이동하면서 모기판(S)을 안정적으로 지지할 수 있다. 클램프 모듈(41)은 모기판(S)의 후행단에서의 모기판(S)의 상면 및 하면을 가압하여 유지할 수 있다. 다른 예로서, 클램프 모듈(41)은 부압원과 연결된 진공홀을 구비하여 모기판(S)의 상면 또는 하면을 흡착하도록 구성될 수 있다.The substrate transfer unit 40 is configured to transfer the mother substrate S to the scribing unit 30 by gripping the trailing end of the mother substrate S, which is the rear end in the transfer direction of the mother substrate S. . The substrate transfer unit 40 is connected to the clamp module 41 configured to hold the trailing end of the mother substrate S supported on the first stage 10 and is connected to the clamp module 41 in the X-axis direction. It may include an extended support 42, a guide rail 43 connected to the support 42 and extending in the Y-axis direction. Between the support 42 and the guide rail 43, an actuator using pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism may be provided. Therefore, as the support 42 is moved in the Y-axis direction by the linear movement mechanism while the clamp module 41 grips the trailing end of the mother substrate S, the mother substrate S is transferred in the Y-axis direction. Can be. At this time, the first stage 10 may stably support the mother substrate S while moving in synchronization with the movement of the clamp module 41. The clamp module 41 may press and hold the upper and lower surfaces of the mother substrate S at the trailing end of the mother substrate S. As another example, the clamp module 41 may be configured to have a vacuum hole connected to a negative pressure source to adsorb the upper or lower surface of the mother substrate S.

기판 반송 유닛(50)은 제2 스테이지(20)에 지지된 단위 기판(S1)을 후속 공정으로 반송하도록 구성된다.The substrate transfer unit 50 is configured to transfer the unit substrate S1 supported on the second stage 20 to a subsequent process.

기판 반송 유닛(50)은, 기판 반송 헤드(60)와, 지지 프레임(52)과, 헤드 이동 모듈(53)과, 헤드 승강 모듈(54)을 포함한다.The substrate transfer unit 50 includes a substrate transfer head 60, a support frame 52, a head moving module 53, and a head lifting module 54.

지지 프레임(52)은 기판 반송 헤드(60)가 Y축 방향으로 이동 가능하게 기판 반송 헤드(60)를 지지하도록 구성된다.The support frame 52 is configured to support the substrate transfer head 60 so that the substrate transfer head 60 is movable in the Y-axis direction.

헤드 이동 모듈(53)은 기판 반송 헤드(60)를 지지 프레임(52)을 따라 Y축 방향으로 이동시키도록 구성된다. 헤드 승강 모듈(54)은 기판 반송 헤드(60)를 Z축 방향으로 이동시키도록 구성된다. 헤드 이동 모듈(53) 및 헤드 승강 모듈(54)로는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 적용될 수 있다.The head movement module 53 is configured to move the substrate transfer head 60 along the support frame 52 in the Y-axis direction. The head lifting module 54 is configured to move the substrate transfer head 60 in the Z-axis direction. As the head movement module 53 and the head lifting module 54, an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism may be applied.

한편, 도시되지는 않았으나, 기판 반송 유닛(50)은 기판 반송 헤드(60)를 X축 방향으로 이동시키도록 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구를 더 포함할 수 있다.On the other hand, although not shown, the substrate transfer unit 50 is an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure to move the substrate transfer head 60 in the X-axis direction, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a ball It may further include a linear movement mechanism such as a screw mechanism.

이와 같은 구성에 따르면, 기판 반송 헤드(60)가 X축 방향 및/또는 Y축 방향으로 이동하여 반출될 단위 기판(S1)의 상방에 위치될 수 있고, 기판 반송 헤드(60)가 Z축 방향으로 이동하여 단위 기판(S1)을 흡착할 수 있다.According to this configuration, the substrate transfer head 60 may move in the X-axis direction and/or the Y-axis direction to be positioned above the unit substrate S1 to be carried out, and the substrate transfer head 60 is in the Z-axis direction. Move to and can adsorb the unit substrate S1.

도 3 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60)는 단위 기판(S1)을 유지하여 반송하도록 구성된다.As shown in Figs. 3 to 6, the substrate transfer head 60 according to the first embodiment of the present invention is configured to hold and transfer the unit substrate S1.

기판 반송 헤드(60)는 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)를 포함한다.The substrate transfer head 60 includes a base member 61 and a lift member 62.

베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)는 서로 연결된다. 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62) 사이에는 소정의 공간이 제공된다. 리프트 부재(62)는 헤드 승강 모듈(54)에 연결된다. 따라서, 헤드 승강 모듈(54)에 의해 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)가 함께 Z축 방향으로 이동될 수 있다.The base member 61 and the lift member 62 are connected to each other. A predetermined space is provided between the base member 61 and the lift member 62. The lift member 62 is connected to the head lifting module 54. Accordingly, the base member 61 and the lift member 62 can be moved together in the Z-axis direction by the head lifting module 54.

베이스 부재(61)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the base member 61 may have a shape corresponding to the shape of a region including an area occupied by one unit substrate S1 and an area occupied by the end material S2 around one unit substrate S1. have.

베이스 부재(61)에는 복수의 흡착 부재(63)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(63)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(63)는 부압원(82)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(63)는 부압원(82)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The base member 61 is provided with a plurality of adsorption members 63. The plurality of adsorption members 63 may be disposed in an area corresponding to an area occupied by one unit substrate S1. The plurality of adsorption members 63 are connected to the negative pressure source 82. The plurality of adsorption members 63 may be configured to adsorb the unit substrate S1 by negative pressure acting in the negative pressure source 82.

기판 반송 헤드(60)는 제2 스테이지(20)(벨트(21)) 상에 탑재된 단재(S2)를 가압하도록 구성되는 단재 가압 모듈(70)을 더 포함할 수 있다.The substrate transfer head 60 may further include an end material pressing module 70 configured to press the end material S2 mounted on the second stage 20 (belt 21).

단재 가압 모듈(70)은, 푸시 플레이트(71)와, 복수의 푸시 핀(72)과, 푸시 플레이트 구동기(73)를 포함한다.The end material pressing module 70 includes a push plate 71, a plurality of push pins 72, and a push plate driver 73.

푸시 플레이트 구동기(73)는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로서 구성될 수 있다. 푸시 플레이트 구동기(73)는 푸시 플레이트(71)와 연결되어 푸시 플레이트(71)를 Z축 방향으로 이동시키도록 구성된다.The push plate actuator 73 may be configured as an actuator using pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism. The push plate driver 73 is connected to the push plate 71 and is configured to move the push plate 71 in the Z-axis direction.

푸시 플레이트(71)는 하나의 단위 기판(S1)과 그 주위의 단재(S2)를 포함한 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The push plate 71 may have a shape corresponding to a shape of a region including one unit substrate S1 and an end material S2 around it.

복수의 푸시 핀(72)은 푸시 플레이트(71)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 푸시 핀(72)은 푸시 플레이트(71)의 하면으로부터 Z축 방향으로 연장된다. 복수의 푸시 핀(72)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 푸시 핀(72)은 복수의 흡착 부재(63)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 푸시 핀(72)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of push pins 72 are provided on the lower surface of the push plate 71 (the surface facing the unit substrate S1 and the end material S2). The plurality of push pins 72 extend from the lower surface of the push plate 71 in the Z-axis direction. The plurality of push pins 72 are disposed in an area corresponding to the area occupied by the end material S2. The plurality of push pins 72 are disposed along the outer periphery of the region occupied by the plurality of adsorption members 63. That is, the plurality of push pins 72 are disposed along the periphery of the area occupied by the unit substrate S1.

베이스 부재(61)에는 복수의 푸시 핀(72)에 각각 대응하는 복수의 관통홀(612)이 형성된다. 복수의 푸시 핀(72)은 복수의 관통홀(612)을 통과하며, 이에 따라, 복수의 푸시 핀(72)의 각각의 하단이 모기판(S)을 향하여 외부로 노출될 수 있다.The base member 61 is formed with a plurality of through holes 612 respectively corresponding to the plurality of push pins 72. The plurality of push pins 72 pass through the plurality of through holes 612, and thus, the lower ends of each of the plurality of push pins 72 may be exposed to the outside toward the mother substrate S.

이하, 도 7 내지 도 10을 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60)의 동작에 대하여 설명한다.Hereinafter, an operation of the substrate transfer head 60 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 to 10.

도 7에 도시된 바와 같이, 헤드 승강 모듈(54)에 의해 기판 반송 헤드(60)가 단위 기판(S1)을 향하여 하강함에 따라, 복수의 흡착 부재(63)가 단위 기판(S1)의 표면에 접촉한다. 이때, 복수의 푸시 핀(72)의 단부는 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 위치되는 평면으로부터 상방으로 이격된 상태로 유지될 수 있다. 다른 예로서, 복수의 푸시 핀(72)의 단부는 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 위치되는 평면과 동일 평면에 위치될 수 있다. 이 경우, 기판 반송 헤드(60)가 단위 기판(S1)을 향하여 하강함에 따라, 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 단위 기판(S1)의 표면에 접촉하는 것과 동시에 복수의 푸시 핀(72)의 단부가 단재(S2)의 표면에 접촉할 수 있다.As shown in FIG. 7, as the substrate transfer head 60 descends toward the unit substrate S1 by the head lifting module 54, a plurality of adsorption members 63 are placed on the surface of the unit substrate S1. Contact. At this time, the ends of the plurality of push pins 72 may be maintained in a state spaced upward from the plane in which the ends of the plurality of adsorption members 63 are positioned. As another example, the ends of the plurality of push pins 72 may be located on the same plane as the plane in which the ends of the plurality of suction members 63 are located. In this case, as the substrate transfer head 60 descends toward the unit substrate S1, the ends of the plurality of adsorption members 63 contact the surface of the unit substrate S1, and the plurality of push pins 72 The end of the can be in contact with the surface of the end material (S2).

그리고, 도 8에 도시된 바와 같이, 푸시 플레이트 구동기(73)에 의해 푸시 플레이트(71)가 하강함에 따라, 푸시 플레이트(71)에 설치된 복수의 푸시 핀(72)이 단재(S2)에 접촉하여 단재(S2)를 하방으로 가압한다.And, as shown in Figure 8, as the push plate 71 is lowered by the push plate driver 73, a plurality of push pins 72 installed on the push plate 71 contact the end material (S2) The cut material S2 is pressed downward.

그리고, 부압원(82)에 의해 복수의 흡착 부재(63)에 부압이 작용하며, 이에 따라, 단위 기판(S1)에는 상방으로의 흡착력이 작용한다.Further, the negative pressure acts on the plurality of adsorption members 63 by the negative pressure source 82, and accordingly, an upward adsorption force acts on the unit substrate S1.

따라서, 단위 기판(S1)에는 제1 방향(상방)으로의 흡착력이 작용하며, 단재(S2)에는 제1 방향(상방)에 반대되는 제2 방향(하방)으로의 가압력이 작용한다.Accordingly, an adsorption force in a first direction (upward) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in a second direction (downward) opposite to the first direction (upward) acts on the end material S2.

그리고, 도 9에 도시된 바와 같이, 헤드 승강 모듈(54)에 의해 기판 반송 헤드(60)가 상승한다. 이때, 푸시 플레이트(71)는 하강하며, 이에 따라, 복수의 푸시 핀(72)이 계속 단재(S2)를 가압하는 상태가 유지될 수 있다. 즉, 복수의 흡착 부재(63)가 제1 방향으로 상승할 때, 복수의 푸시 핀(72)이 단재(S2)를 제2 방향으로 가압하는 상태가 유지될 수 있다.And, as shown in FIG. 9, the board|substrate conveyance head 60 is raised by the head lifting module 54. At this time, the push plate 71 descends, and accordingly, a state in which the plurality of push pins 72 continuously press the end material S2 may be maintained. That is, when the plurality of adsorption members 63 rise in the first direction, a state in which the plurality of push pins 72 presses the end material S2 in the second direction may be maintained.

이에 따라, 단위 기판(S1)에는 제1 방향으로의 힘(흡착력 및 복수의 흡착 부재(63)의 상승에 따른 힘)이 작용하며, 단재(S2)에는 제2 방향으로의 가압력이 작용한다. 이와 같이, 단위 기판(S1) 및 단재(S2)에 서로 반대 방향의 힘이 작용함에 따라, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 확실하게 분리될 수 있다.Accordingly, a force in the first direction (adsorption force and force due to the rise of the plurality of adsorption members 63) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in the second direction acts on the end material S2. In this way, as forces in opposite directions act on the unit substrate S1 and the end material S2, the end material S2 can be reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1.

그리고, 도 10에 도시된 바와 같이, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 분리된 상태에서, 기판 반송 헤드(60)가 상승한다. 그리고, 기판 반송 헤드(60)는 수평으로 이동하면서 후속하는 공정으로 이송될 수 있다. 이때, 복수의 푸시 핀(72)의 단부가 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 위치되는 평면으로부터 상방으로 이격되도록, 푸시 플레이트(71)가 상승할 수 있으며, 이에 따라, 단위 기판(S1)의 반송 시, 복수의 푸시 핀(72)이 주변의 다른 장비 및 부품과 간섭하는 것이 방지될 수 있다.Then, as shown in FIG. 10, in a state where the end material S2 is separated from the edge portion of the unit substrate S1, the substrate transfer head 60 is raised. In addition, the substrate transfer head 60 may be transferred to a subsequent process while moving horizontally. At this time, the push plate 71 may rise so that the ends of the plurality of push pins 72 are spaced upward from the plane in which the ends of the plurality of adsorption members 63 are positioned, and accordingly, the unit substrate S1 During transport of, a plurality of push pins 72 can be prevented from interfering with other equipment and parts around them.

본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60)는, 단위 기판(S1)을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판(S1) 주위의 단재(S2)에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈(70)을 구비함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 상태로 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.Substrate transfer head 60 according to the first embodiment of the present invention, when adsorbing and moving the unit substrate (S1) in the first direction, the end material (S2) around the unit substrate (S1) opposite to the first direction By providing the end material pressing module 70 that applies a pressing force in the second direction, the end material S2 is more easily and reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1, and the end material S2 ) Can be prevented from remaining. Accordingly, it is possible to prevent a problem in which the unit substrate S1 is conveyed to a subsequent process while the end material S2 remains at the edge portion of the unit substrate S1. In addition, during a process in which the unit substrate S1 is transported to a subsequent process, the end material S2 remaining at the edge of the unit substrate S1 may fall from an unintended location.

이하, 도 11 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a substrate transfer head 160 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 11 to 13. The same reference numerals are assigned to the same components as those described in the first embodiment, and detailed descriptions thereof will be omitted.

도 11에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)는, 베이스 부재(161)와, 복수의 흡착 부재(163)와, 단재 가압 모듈(170)을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 11, the substrate transfer head 160 according to the second embodiment of the present invention includes a base member 161, a plurality of adsorption members 163, and a single material pressing module 170. I can.

베이스 부재(161)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the base member 161 may have a shape corresponding to the shape of an area including an area occupied by one unit substrate S1 and an area occupied by the end material S2 around one unit substrate S1. have.

베이스 부재(161)에는 복수의 흡착 부재(163)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(163)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(163)는 부압원(182)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(163)는 부압원(182)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.A plurality of adsorption members 163 are installed on the base member 161. The plurality of adsorption members 163 may be disposed in an area corresponding to an area occupied by one unit substrate S1. The plurality of adsorption members 163 are connected to the negative pressure source 182. The plurality of adsorption members 163 may be configured to adsorb the unit substrate S1 by negative pressure acting on the negative pressure source 182.

단재 가압 모듈(170)은, 복수의 가스 분사 노즐(175)과, 가스 공급원(176)을 포함한다.The end material pressurization module 170 includes a plurality of gas injection nozzles 175 and a gas supply source 176.

가스 공급원(176)은 복수의 가스 분사 노즐(175)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(175)로 가스를 공급하도록 구성된다.The gas supply source 176 is connected to the plurality of gas injection nozzles 175 and is configured to supply gas to the plurality of gas injection nozzles 175.

한편, 가스 공급원(176)은 일정한 압력으로 가스를 가스 분사 노즐(175)로 공급할 수 있다. 다른 예로서, 가스 공급원(176)은 가스의 압력을 주기적으로 변화시키면서 가스 분사 노즐(175)로 가스를 공급할 수 있다. 이 경우, 가스 분사 노즐(175)로부터 분사되는 가스는 소정의 진동파의 형태로 단재(S2)와 충돌하면서 단재(S2)를 진동시킬 수 있으므로, 단재(S2)를 단위 기판(S1)으로부터 보다 확실하게 분리할 수 있다.Meanwhile, the gas supply source 176 may supply gas to the gas injection nozzle 175 at a constant pressure. As another example, the gas supply source 176 may supply gas to the gas injection nozzle 175 while periodically changing the pressure of the gas. In this case, the gas injected from the gas injection nozzle 175 can vibrate the end material S2 while colliding with the end material S2 in the form of a predetermined vibration wave, so that the end material S2 is compared from the unit substrate S1. Can be clearly separated.

복수의 가스 분사 노즐(175)은 베이스 부재(161)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(175)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(175)은 복수의 흡착 부재(163)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(175)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of gas injection nozzles 175 are installed on the lower surfaces of the base member 161 (surfaces facing the unit substrate S1 and the end material S2). The plurality of gas injection nozzles 175 are disposed in an area corresponding to the area occupied by the end material S2. The plurality of gas injection nozzles 175 are disposed along the outer periphery of the region occupied by the plurality of adsorption members 163. That is, the plurality of gas injection nozzles 175 are disposed along the periphery of the area occupied by the unit substrate S1.

이하, 도 12 및 도 13을 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)의 동작에 대하여 설명한다.Hereinafter, an operation of the substrate transfer head 160 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 12 and 13.

도 12에 도시된 바와 같이, 기판 반송 헤드(160)가 단위 기판(S1)을 향하여 하강함에 따라, 복수의 흡착 부재(163)가 단위 기판(S1)의 표면에 접촉한다.As shown in FIG. 12, as the substrate transfer head 160 descends toward the unit substrate S1, the plurality of adsorption members 163 contact the surface of the unit substrate S1.

그리고, 부압원(182)에 의해 복수의 흡착 부재(163)에 부압이 작용하며, 이에 따라, 단위 기판(S1)에는 상방으로의 흡착력이 작용한다. 이때, 가스 공급원(176)으로부터 복수의 가스 분사 노즐(175)로 가스가 공급됨에 따라, 복수의 가스 분사 노즐(175)로부터 단재(S2)를 향하여 가스가 분사된다.Further, the negative pressure acts on the plurality of adsorption members 163 by the negative pressure source 182, and accordingly, an upward adsorption force acts on the unit substrate S1. At this time, as gas is supplied from the gas supply source 176 to the plurality of gas injection nozzles 175, the gas is injected from the plurality of gas injection nozzles 175 toward the end material S2.

따라서, 단위 기판(S1)에는 제1 방향(상방)으로의 흡착력이 작용하며, 단재(S2)에는 제1 방향(상방)에 반대되는 제2 방향(하방)으로의 가압력이 작용한다.Accordingly, an adsorption force in a first direction (upward) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in a second direction (downward) opposite to the first direction (upward) acts on the end material S2.

그리고, 도 13에 도시된 바와 같이, 기판 반송 헤드(160)가 상승함에 따라, 복수의 흡착 부재(163)가 상승한다. 이때, 복수의 가스 분사 노즐(175)로부터 단재(S2)를 향하여 가스가 계속 분사된다.And, as shown in FIG. 13, as the substrate transfer head 160 rises, the plurality of adsorption members 163 rise. At this time, gas is continuously injected from the plurality of gas injection nozzles 175 toward the end material S2.

이에 따라, 단위 기판(S1)에는 제1 방향으로의 힘(흡착력 및 복수의 흡착 부재(163)의 상승에 따른 힘)이 작용하며, 단재(S2)에는 제2 방향으로의 가압력이 작용한다. 이와 같이, 단위 기판(S1) 및 단재(S2)에 서로 반대 방향의 힘이 작용함에 따라, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 확실하게 분리될 수 있다.Accordingly, a force in the first direction (adsorption force and force due to the rise of the plurality of adsorption members 163) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in the second direction acts on the end material S2. In this way, as forces in opposite directions act on the unit substrate S1 and the end material S2, the end material S2 can be reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1.

본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)는, 단위 기판(S1)을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판(S1) 주위의 단재(S2)에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈(170)을 구비함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 상태로 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.Substrate transfer head 160 according to the second embodiment of the present invention, when adsorbing and moving the unit substrate (S1) in the first direction, the end material (S2) around the unit substrate (S1) opposite to the first direction By providing the end material pressing module 170 that applies a pressing force in the second direction, the end material S2 is more easily and reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1, and the end material S2 ) Can be prevented from remaining. Accordingly, it is possible to prevent a problem in which the unit substrate S1 is conveyed to a subsequent process while the end material S2 remains at the edge portion of the unit substrate S1. In addition, during a process in which the unit substrate S1 is transported to a subsequent process, the end material S2 remaining at the edge of the unit substrate S1 may fall from an unintended location.

이하, 도 14를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 반송 헤드(260)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 및 제2 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a substrate transfer head 260 according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 14. The same reference numerals are assigned to the same components as those described in the first and second embodiments, and detailed descriptions thereof will be omitted.

도 14에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 반송 헤드(260)는, 베이스 부재(261)와, 복수의 흡착 부재(263)와, 단재 가압 모듈(270)을 포함할 수 있다.As shown in Fig. 14, the substrate transfer head 260 according to the third embodiment of the present invention includes a base member 261, a plurality of adsorption members 263, and a single material pressing module 270. I can.

베이스 부재(261)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the base member 261 may have a shape corresponding to a shape of an area including an area occupied by one unit substrate S1 and an area occupied by the end material S2 around one unit substrate S1. have.

베이스 부재(261)에는 복수의 흡착 부재(263)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(263)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(263)는 부압원(282)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(263)는 부압원(282)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The base member 261 is provided with a plurality of adsorption members 263. The plurality of adsorption members 263 may be disposed in an area corresponding to an area occupied by one unit substrate S1. The plurality of adsorption members 263 are connected to the negative pressure source 282. The plurality of adsorption members 263 may be configured to adsorb the unit substrate S1 by negative pressure acting on the negative pressure source 282.

단재 가압 모듈(270)은, 복수의 가스 분사 노즐(275)과, 가스 공급원(276)을 포함한다.The end material pressure module 270 includes a plurality of gas injection nozzles 275 and a gas supply source 276.

가스 공급원(276)은 복수의 가스 분사 노즐(275)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(275)로 가스를 공급하도록 구성된다.The gas supply source 276 is connected to the plurality of gas injection nozzles 275 and is configured to supply gas to the plurality of gas injection nozzles 275.

복수의 가스 분사 노즐(275)은 베이스 부재(261)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(275)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(275)은 복수의 흡착 부재(63)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(275)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of gas injection nozzles 275 are provided on the lower surface of the base member 261 (the surface facing the unit substrate S1 and the end material S2). The plurality of gas injection nozzles 275 are disposed in an area corresponding to the area occupied by the end material S2. The plurality of gas injection nozzles 275 are disposed along the periphery of the region occupied by the plurality of adsorption members 63. That is, the plurality of gas injection nozzles 275 are disposed along the periphery of the area occupied by the unit substrate S1.

가스 분사 노즐(275)은 단위 기판(S1)의 표면에 직교하는 수직축에 대하여 경사지게 설치될 수 있다. 특히, 가스 분사 노즐(275)의 출구가 단위 기판(S1)의 에지부의 외측을 향하도록 가스 분사 노즐(275)이 수직축에 대하여 경사지게 설치될 수 있다. 이에 따라, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 이격되는 방향으로 단재(S2)를 향하여 가스가 분사될 수 있다. 이에 따라, 단재(S2)에는 제2 방향(하방)으로의 가압력 및 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 이격되는 방향으로의 가압력의 합력이 작용될 수 있다.The gas injection nozzle 275 may be installed inclined with respect to a vertical axis orthogonal to the surface of the unit substrate S1. In particular, the gas injection nozzle 275 may be installed to be inclined with respect to the vertical axis so that the outlet of the gas injection nozzle 275 faces the outside of the edge portion of the unit substrate S1. Accordingly, gas may be injected toward the end material S2 in a direction in which the end material S2 is spaced apart from the unit substrate S1. Accordingly, the resultant force of the pressing force in the second direction (downward) and the pressing force in the direction in which the end material S2 is separated from the unit substrate S1 may be applied to the end material S2.

따라서, 복수의 흡착 부재(263)가 단위 기판(S1)을 흡착한 상태에서 복수의 흡착 부재(263)가 상승하면, 단위 기판(S1)에는 제1 방향으로의 힘(흡착력 및 복수의 흡착 부재(263)의 상승에 따른 힘)이 작용하며, 단재(S2)에는 제2 방향(하방)으로의 가압력 및 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 이격되는 방향으로의 가압력이 작용한다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 보다 확실하게 분리될 수 있다.Therefore, when the plurality of adsorption members 263 rise while the plurality of adsorption members 263 adsorb the unit substrate S1, the unit substrate S1 has a force in the first direction (adsorption force and a plurality of adsorption members). A force according to the rise of 263) acts, and a pressing force in a second direction (downward) and a pressing force in a direction in which the end material S2 is separated from the unit substrate S1 acts on the end material S2. Accordingly, the end material S2 can be more reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1.

이하, 도 15를 참조하여 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 반송 헤드(360)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제3 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a substrate transfer head 360 according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 15. The same reference numerals are assigned to the same components as those described in the first to third embodiments, and detailed descriptions thereof will be omitted.

도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 반송 헤드(360)는, 베이스 부재(361)와, 복수의 흡착 부재(363)와, 단재 가압 모듈(370)을 포함할 수 있다.As shown in Fig. 15, the substrate transfer head 360 according to the fourth embodiment of the present invention includes a base member 361, a plurality of adsorption members 363, and a single material pressing module 370. I can.

베이스 부재(361)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the base member 361 may have a shape corresponding to the shape of a region including an area occupied by one unit substrate S1 and an area occupied by the end material S2 around one unit substrate S1. have.

베이스 부재(361)에는 복수의 흡착 부재(363)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(363)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(363)는 부압원(382)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(363)는 부압원(382)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The base member 361 is provided with a plurality of adsorption members 363. The plurality of adsorption members 363 may be disposed in an area corresponding to an area occupied by one unit substrate S1. The plurality of adsorption members 363 are connected to the negative pressure source 382. The plurality of adsorption members 363 may be configured to adsorb the unit substrate S1 by negative pressure acting on the negative pressure source 382.

단재 가압 모듈(370)은, 복수의 가스 분사 노즐(375)과, 가스 공급원(376)과, 노즐 회전기(377)를 포함한다.The end material pressurization module 370 includes a plurality of gas injection nozzles 375, a gas supply source 376, and a nozzle rotator 377.

가스 공급원(376)은 복수의 가스 분사 노즐(375)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(375)로 가스를 공급하도록 구성된다.The gas supply source 376 is connected to the plurality of gas injection nozzles 375 and is configured to supply gas to the plurality of gas injection nozzles 375.

복수의 가스 분사 노즐(375)은 베이스 부재(361)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(375)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(375)은 복수의 흡착 부재(363)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(375)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of gas injection nozzles 375 are provided on the lower surfaces of the base member 361 (surfaces facing the unit substrate S1 and the end material S2). The plurality of gas injection nozzles 375 are disposed in an area corresponding to the area occupied by the end material S2. The plurality of gas injection nozzles 375 are disposed along the periphery of an area occupied by the plurality of adsorption members 363. That is, the plurality of gas injection nozzles 375 are disposed along the periphery of the area occupied by the unit substrate S1.

가스 분사 노즐(375)은 단위 기판(S1)의 표면에 수직인 수직축에 대하여 그 경사각이 조절될 수 있도록 설치될 수 있다. 가스 분사 노즐(375)의 경사각을 조절함으로써, 가스 분사 노즐(375)로부터 분사되는 가스의 분사 방향이 조절될 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)의 형상, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 분리되어야 하는 방향 등에 따라 가스 분사 노즐(375)로부터 분사되는 가스의 분사 방향을 조절할 수 있으므로, 단재(S2)를 단위 기판(S1)으로부터 더욱 용이하고 확실하게 분리할 수 있다.The gas injection nozzle 375 may be installed so that its inclination angle can be adjusted with respect to a vertical axis perpendicular to the surface of the unit substrate S1. By adjusting the inclination angle of the gas injection nozzle 375, the injection direction of the gas injected from the gas injection nozzle 375 may be adjusted. Accordingly, the injection direction of the gas sprayed from the gas injection nozzle 375 according to the shape of the end material S2 remaining at the edge of the unit substrate S1, the direction in which the end material S2 should be separated from the unit substrate S1, etc. Can be adjusted, it is possible to more easily and reliably separate the end material (S2) from the unit substrate (S1).

수직축에 대한 가스 분사 노즐(375)의 경사각을 자동으로 조절할 수 있도록, 가스 분사 노즐(375)에는 노즐 회전기(377)가 연결될 수 있다. 노즐 회전기(377)는 가스 분사 노즐(375)을 수직축에 직교하는 수평축을 중심으로 회전시켜 수직축에 대한 가스 분사 노즐(375)의 경사각을 조절할 수 있다. 이러한 노즐 회전기(377)로는 가스 분사 노즐(375)의 상단과 링크 등을 통해 연결되는 직선 이동 기구가 적용될 수 있으며, 이러한 직선 이동 기구는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구일 수 있다.A nozzle rotator 377 may be connected to the gas injection nozzle 375 to automatically adjust the inclination angle of the gas injection nozzle 375 with respect to the vertical axis. The nozzle rotator 377 may rotate the gas injection nozzle 375 about a horizontal axis orthogonal to the vertical axis to adjust the inclination angle of the gas injection nozzle 375 with respect to the vertical axis. As the nozzle rotator 377, a linear movement mechanism connected to the top of the gas injection nozzle 375 through a link, etc. may be applied, and such a linear movement mechanism is operated by an actuator using pneumatic or hydraulic pressure, and electromagnetic interaction. It may be a linear motor or a ball screw mechanism.

한편, 가스 분사 노즐(375)로부터 가스가 분사되는 과정에서 노즐 회전기(377)는 가스 분사 노즐(375)을 반복적으로 왕복 회전시키도록 구성될 수 있다. 이에 따라, 가스 분사 노즐(375)로부터 분사되는 가스의 분사 방향이 반복적으로 변화하면서, 단재(S2)에 진동을 가할 수 있으며, 이에 따라, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 더욱 확실하게 분리될 수 있다.Meanwhile, the nozzle rotator 377 may be configured to repeatedly reciprocate the gas injection nozzle 375 while the gas is injected from the gas injection nozzle 375. Accordingly, while the injection direction of the gas injected from the gas injection nozzle 375 is repeatedly changed, vibration can be applied to the end material S2, and accordingly, the end material S2 is more reliably transferred from the unit substrate S1. Can be separated.

이하, 도 16을 참조하여 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 반송 헤드(460)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제4 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a substrate transfer head 460 according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 16. The same reference numerals are assigned to the same components as those described in the first to fourth embodiments, and detailed descriptions thereof will be omitted.

도 16에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 반송 헤드(460)는, 베이스 부재(461)와, 복수의 흡착 부재(463)와, 단재 가압 모듈(470)을 포함할 수 있다.As shown in Fig. 16, the substrate transfer head 460 according to the fifth embodiment of the present invention includes a base member 461, a plurality of adsorption members 463, and a single material pressing module 470. I can.

베이스 부재(461)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the base member 461 may have a shape corresponding to a shape of a region including an area occupied by one unit substrate S1 and an area occupied by the end material S2 around one unit substrate S1. have.

베이스 부재(461)에는 복수의 흡착 부재(463)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(463)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(463)는 부압원(482)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(463)는 부압원(482)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.A plurality of adsorption members 463 are installed on the base member 461. The plurality of adsorption members 463 may be disposed in an area corresponding to an area occupied by one unit substrate S1. The plurality of adsorption members 463 are connected to the negative pressure source 482. The plurality of adsorption members 463 may be configured to adsorb the unit substrate S1 by negative pressure acting on the negative pressure source 482.

단재 가압 모듈(470)은, 복수의 가스 분사 노즐(475)과, 가스 공급원(476)과, 가스 온도 조절기(478)를 포함한다.The end pressurization module 470 includes a plurality of gas injection nozzles 475, a gas supply source 476, and a gas temperature controller 478.

가스 공급원(476)은 복수의 가스 분사 노즐(475)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(475)로 가스를 공급하도록 구성된다.The gas supply source 476 is connected to the plurality of gas injection nozzles 475 and is configured to supply gas to the plurality of gas injection nozzles 475.

복수의 가스 분사 노즐(475)은 베이스 부재(461)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(475)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(475)은 복수의 흡착 부재(463)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(475)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of gas injection nozzles 475 are provided on the lower surfaces of the base member 461 (surfaces facing the unit substrate S1 and the end material S2). The plurality of gas injection nozzles 475 are disposed in an area corresponding to the area occupied by the end material S2. The plurality of gas injection nozzles 475 are disposed along the outer periphery of the region occupied by the plurality of adsorption members 463. That is, the plurality of gas injection nozzles 475 are disposed along the periphery of the area occupied by the unit substrate S1.

가스 온도 조절기(478)는 가스 공급원(476)으로부터 공급되는 가스의 온도를 조절하도록 구성될 수 있다. 가스 온도 조절기(478)는 기판 반송 헤드(460)의 주변의 온도에 비하여 높은 온도로 가스를 가열하도록 구성될 수 있다. 또는, 가스 온도 조절기(478)는 기판 반송 헤드(460)의 주변의 온도에 비하여 낮은 온도로 가스를 냉각하도록 구성될 수 있다. 따라서, 가스 분사 노즐(475)로부터 분사되는 가스의 온도는 단위 기판(S1)의 주변의 온도에 비하여 높거나 낮을 수 있다. 따라서, 가스 분사 노즐(475)로부터 분사된 가스가 단재(S2)에 충돌함에 따라, 단재(S2)의 온도가 단위 기판(S1)의 온도에 비하여 높거나 낮게 될 수 있다. 따라서, 단재(S2)와 단위 기판(S1) 사이에는 온도 차가 존재하며, 이러한 온도 차에 의한 열 팽창/열 수축 정도의 차이에 의해, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 더욱 용이하고 확실하게 분리될 수 있다.The gas temperature controller 478 may be configured to adjust the temperature of the gas supplied from the gas supply source 476. The gas temperature controller 478 may be configured to heat the gas to a temperature higher than the temperature around the substrate transfer head 460. Alternatively, the gas temperature controller 478 may be configured to cool the gas to a temperature lower than the temperature around the substrate transfer head 460. Accordingly, the temperature of the gas injected from the gas injection nozzle 475 may be higher or lower than the temperature around the unit substrate S1. Accordingly, as the gas injected from the gas injection nozzle 475 collides with the end material S2, the temperature of the end material S2 may be higher or lower than the temperature of the unit substrate S1. Therefore, there is a temperature difference between the cut material (S2) and the unit substrate (S1), and due to the difference in the degree of thermal expansion/heat shrinkage due to this temperature difference, the cut material (S2) is more easily and surely from the unit substrate (S1). Can be separated.

이하, 도 17을 참조하여 본 발명의 제6 실시예에 따른 기판 반송 헤드(560)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제5 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a substrate transfer head 560 according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 17. The same reference numerals are assigned to the same components as those described in the first to fifth embodiments, and detailed descriptions thereof will be omitted.

도 17에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제6 실시예에 따른 기판 반송 헤드(560)는, 베이스 부재(561)와, 복수의 흡착 부재(563)와, 단재 가압 모듈(570)과, 단재 감지 센서(90)를 포함할 수 있다.As shown in Fig. 17, the substrate transfer head 560 according to the sixth embodiment of the present invention includes a base member 561, a plurality of adsorption members 563, an end material pressing module 570, and an end material It may include a detection sensor 90.

베이스 부재(561)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the base member 561 may have a shape corresponding to the shape of a region including an area occupied by one unit substrate S1 and an area occupied by the end material S2 around one unit substrate S1. have.

베이스 부재(561)에는 복수의 흡착 부재(563)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(563)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(563)는 부압원(582)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(563)는 부압원(582)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.A plurality of adsorption members 563 are provided on the base member 561. The plurality of adsorption members 563 may be disposed in an area corresponding to an area occupied by one unit substrate S1. The plurality of adsorption members 563 are connected to the negative pressure source 582. The plurality of adsorption members 563 may be configured to adsorb the unit substrate S1 by negative pressure acting on the negative pressure source 582.

단재 가압 모듈(570)은, 복수의 가스 분사 노즐(575)과, 가스 공급원(576)을 포함한다.The end material pressure module 570 includes a plurality of gas injection nozzles 575 and a gas supply source 576.

가스 공급원(576)은 복수의 가스 분사 노즐(575)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(575)로 가스를 공급하도록 구성된다.The gas supply source 576 is connected to the plurality of gas injection nozzles 575 and is configured to supply gas to the plurality of gas injection nozzles 575.

복수의 가스 분사 노즐(575)은 베이스 부재(561)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(575)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(575)은 복수의 흡착 부재(563)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(575)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of gas injection nozzles 575 are provided on the lower surfaces of the base member 561 (surfaces facing the unit substrate S1 and the end material S2). The plurality of gas injection nozzles 575 are disposed in an area corresponding to the area occupied by the end material S2. The plurality of gas injection nozzles 575 are disposed along the periphery of an area occupied by the plurality of adsorption members 563. That is, the plurality of gas injection nozzles 575 are disposed along the periphery of the area occupied by the unit substrate S1.

단재 감지 센서(90)는 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는지 여부를 검출하도록 구성될 수 있다. 단재 감지 센서(90)는 복수의 흡착 부재(563)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 복수로 배치될 수 있다. 즉, 복수의 단재 감지 센서(90)는 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치될 수 있다.The cut-off detection sensor 90 may be configured to detect whether the cut-off material S2 is present at the edge of the unit substrate S1. The end material detection sensor 90 may be disposed in plurality along the outer periphery of the area occupied by the plurality of adsorption members 563. That is, the plurality of cutout detection sensors 90 may be disposed along the outer periphery of the area occupied by the unit substrate S1.

예를 들면, 단재 감지 센서(90)는 발광부와 수광부를 포함하는 광학 센서(거리 센서)로 구성될 수 있으며, 발광부에서 발광된 광이 단재(S2)에 의해 반사된 후 수광부에 도달하는지 여부를 검출함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는지 여부를 검출하도록 구성될 수 있다.For example, the cut-off detection sensor 90 may be composed of an optical sensor (distance sensor) including a light-emitting part and a light-receiving part, and whether the light emitted from the light-emitting part reaches the light-receiving part after being reflected by the cut-off material S2. By detecting whether or not, it may be configured to detect whether the end material S2 is present in the edge portion of the unit substrate S1.

복수의 흡착 부재(563)가 단위 기판(S1)을 흡착한 상태에서 소정의 높이로 상승할 때, 단재 감지 센서(90)가 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는지 여부를 검출할 수 있다.When the plurality of adsorption members 563 rise to a predetermined height while adsorbing the unit substrate S1, whether the end material detection sensor 90 has an end material S2 at the edge of the unit substrate S1 Can be detected.

가스 공급원(576)과 단재 감지 센서(90)는 도시되지 않은 제어 유닛에 의해 제어될 수 있다. 제어 유닛은 단재 감지 센서(90)에 의해 단재(S2)가 감지될 때 가스 공급원(576)을 제어하여 가스 분사 노즐(575)로부터 가스가 분사되도록 하거나 가스 분사 노즐(575)로부터 분사되는 가스의 압력을 증가시킬 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 확실하게 분리할 수 있다.The gas supply source 576 and the burnout detection sensor 90 may be controlled by a control unit, not shown. The control unit controls the gas supply source 576 when the cutoff S2 is detected by the cutoff detection sensor 90 so that the gas is injected from the gas injection nozzle 575 or the gas injected from the gas injection nozzle 575 is You can increase the pressure. Accordingly, the end material S2 can be more reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1.

이하, 도 18 내지 도 21을 참조하여 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제6 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a substrate transfer head 760 according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 18 to 21. The same reference numerals are assigned to the same components as those described in the first to sixth embodiments, and detailed descriptions thereof will be omitted.

도 18 및 도 19에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)는, 베이스 부재(761)와, 리프트 부재(762)와, 단재 가압 모듈(770)을 포함할 수 있다.18 and 19, the substrate transfer head 760 according to the seventh embodiment of the present invention includes a base member 761, a lift member 762, and an end material pressing module 770 can do.

베이스 부재(761) 및 리프트 부재(762)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)와 각각 동일하게 구성될 수 있다.The base member 761 and the lift member 762 may be configured identically to the base member 61 and the lift member 62 according to the first embodiment of the present invention.

베이스 부재(761)에는 복수의 흡착 부재(763)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(763)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(763)는 부압원(782)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(763)는 부압원(782)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The base member 761 is provided with a plurality of adsorption members 763. The plurality of adsorption members 763 may be disposed in an area corresponding to an area occupied by one unit substrate S1. The plurality of adsorption members 763 are connected to the negative pressure source 782. The plurality of adsorption members 763 may be configured to adsorb the unit substrate S1 by negative pressure acting in the negative pressure source 782.

단재 가압 모듈(770)은, 푸시 플레이트(771), 복수의 푸시 핀(772) 및 푸시 플레이트 구동기(773)를 포함하는 제1 단재 가압부와, 복수의 가스 분사 노즐(775) 및 가스 공급원(776)을 포함하는 제2 단재 가압부를 포함할 수 있다.The end material pressurization module 770 includes a first end material pressurization unit including a push plate 771, a plurality of push pins 772 and a push plate driver 773, a plurality of gas injection nozzles 775, and a gas supply source ( It may include a second end material pressing unit including 776).

푸시 플레이트(771)와, 복수의 푸시 핀(772)과, 푸시 플레이트 구동기(773)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 푸시 플레이트(71)와, 복수의 푸시 핀(72)과, 푸시 플레이트 구동기(73)와 각각 동일하게 구성될 수 있다. 복수의 가스 분사 노즐(775)과, 가스 공급원(776)은 본 발명의 제2 실시예에 따른 복수의 가스 분사 노즐(175)과, 가스 공급원(176)과 각각 동일하게 구성될 수 있다.The push plate 771, the plurality of push pins 772, and the push plate driver 773 are provided with a push plate 71, a plurality of push pins 72, and a push plate according to the first embodiment of the present invention. Each of the actuators 73 may be configured identically. The plurality of gas injection nozzles 775 and the gas supply source 776 may be configured identically to the plurality of gas injection nozzles 175 and the gas supply source 176 according to the second embodiment of the present invention.

이러한 구성에 한정되지 않으며, 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)는, 본 발명의 제4 실시예에 따른 노즐 회전기(377), 본 발명의 제5 실시예에 따른 가스 온도 조절기(478), 본 발명의 제6 실시예에 따른 단재 감지 센서(90) 중 적어도 어느 하나를 더 포함할 수 있다.It is not limited to this configuration, the substrate transfer head 760 according to the seventh embodiment of the present invention, the nozzle rotator 377 according to the fourth embodiment of the present invention, the gas temperature according to the fifth embodiment of the present invention The controller 478 may further include at least one of the disconnection detection sensor 90 according to the sixth embodiment of the present invention.

예를 들면, 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)가 단재 감지 센서(90)를 구비하는 경우, 제어 유닛은 단재 감지 센서(90)에 의해 단재(S2)가 감지될 때 가스 공급원(776)을 제어하여 가스 분사 노즐(775)로부터 가스가 분사되도록 하거나, 가스 분사 노즐(775)로부터 분사되는 가스의 압력을 증가시키거나, 푸시 플레이트(771)를 구동하여 복수의 푸시 핀(772)이 단재(S2)를 가압하도록 할 수 있다.For example, when the substrate transfer head 760 according to the seventh embodiment of the present invention includes the cut-off detection sensor 90, the control unit is when the cut-off material S2 is detected by the cut-off detection sensor 90 The gas supply source 776 is controlled to allow gas to be injected from the gas injection nozzle 775, or the pressure of the gas injected from the gas injection nozzle 775 is increased, or a plurality of push pins are driven by driving the push plate 771. 772 can be made to pressurize the end material (S2).

한편, 일 예로서, 도 18 및 도 19에 도시된 바와 같이, 복수의 가스 분사 노즐(775)은 복수의 푸시 핀(772)의 외측에 배치될 수 있다. 다른 예로서, 도 20 및 도 21에 도시된 바와 같이, 복수의 가스 분사 노즐(775)은 복수의 푸시 핀(772)의 내측에 배치될 수 있다. 또 다른 예로서, 도시되지는 않았지만, 복수의 가스 분사 노즐(775) 중 일부는 복수의 푸시 핀(772) 중 일부의 외측에 배치될 수 있고, 복수의 가스 분사 노즐(775) 중 다른 일부는 복수의 푸시 핀(772) 중 다른 일부의 내측에 배치될 수 있다.Meanwhile, as an example, as shown in FIGS. 18 and 19, a plurality of gas injection nozzles 775 may be disposed outside the plurality of push pins 772. As another example, as shown in FIGS. 20 and 21, a plurality of gas injection nozzles 775 may be disposed inside the plurality of push pins 772. As another example, although not shown, some of the plurality of gas injection nozzles 775 may be disposed outside some of the plurality of push pins 772, and another part of the plurality of gas injection nozzles 775 It may be disposed inside another part of the plurality of push pins 772.

본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)에 따르면, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 흡착 부재(763)가 단위 기판(S1)을 흡착하기 이전 또는 흡착 부재(763)가 단위 기판(S1)을 흡착할 때 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다. 즉, 제2 스테이지(20) 상에 탑재된 단위 기판(S1)을 흡착 부재(763)가 흡착할 때, 또는, 제2 스테이지(20) 상에 탑재된 단위 기판(S1)을 흡착 부재(763)가 흡착하기 직전에, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 제2 스테이지(20) 상에 탑재된 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다.According to the substrate transfer head 760 according to the seventh embodiment of the present invention, any one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is either before the adsorption member 763 adsorbs the unit substrate S1 or is adsorbed. When the member 763 adsorbs the unit substrate S1, it may be configured to press the end material S2. That is, when the adsorption member 763 adsorbs the unit substrate S1 mounted on the second stage 20, or the unit substrate S1 mounted on the second stage 20 is adsorbed by the adsorption member 763 Immediately before) is adsorbed, any one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit may be configured to press the end material S2 mounted on the second stage 20.

또한, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나는 흡착 부재(763)에 흡착된 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다. 즉, 단위 기판(S1)이 흡착 부재(763)에 흡착된 상태로 반송(수직 이동 및 수평 이동)될 때, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나는, 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다. 이때, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는 것이 단재 감지 센서(90)에 의해 감지되는 경우에, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나가 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)를 가압할 수 있다.In addition, the other one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit may be configured to press the end material S2 remaining at the edge of the unit substrate S1 adsorbed by the adsorption member 763. That is, when the unit substrate S1 is conveyed (vertically moved and horizontally moved) in a state adsorbed by the adsorption member 763, the other one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is the unit substrate S1 It may be configured to press the end material (S2) remaining at the edge of the. At this time, when the presence of the cut material S2 at the edge of the unit substrate S1 is detected by the cut material detection sensor 90, the other one of the first cut material pressing part and the second cut material pressing part is the unit substrate ( The end material S2 remaining at the edge portion of S1) can be pressed.

이와 같이, 푸시 핀(772) 및 가스 분사 노즐(775)을 함께 사용하여 단재(S2)를 가압할 수 있으므로, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 확실하게 분리할 수 있다.In this way, since the end material S2 can be pressed together by using the push pin 772 and the gas injection nozzle 775, the end material S2 can be more reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1. .

본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60, 160, 260, 360, 460, 560, 760)는, 단위 기판(S1)을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판(S1) 주위의 단재(S2)에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈(70, 170, 270, 370, 470, 570, 770)을 구비함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 상태로 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.The substrate transfer head (60, 160, 260, 360, 460, 560, 760) according to the embodiment of the present invention, when adsorbing and moving the unit substrate (S1) in the first direction, the single material around the unit substrate (S1) By providing the end material pressing module (70, 170, 270, 370, 470, 570, 770) for applying a pressing force in a second direction opposite the first direction to (S2), the end material ( By separating S2) more easily and reliably, it is possible to prevent the end material S2 from remaining at the edge portion of the unit substrate S1. Accordingly, it is possible to prevent a problem in which the unit substrate S1 is conveyed to a subsequent process while the end material S2 remains at the edge portion of the unit substrate S1. In addition, during a process in which the unit substrate S1 is transported to a subsequent process, the end material S2 remaining at the edge of the unit substrate S1 may fall from an unintended location.

본 발명의 바람직한 실시예가 예시적으로 설명되었으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에 한정되지 않으며, 청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경될 수 있다.Although preferred embodiments of the present invention have been described exemplarily, the scope of the present invention is not limited to such specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.

70, 170, 270, 370, 470, 570, 770: 단재 가압 모듈
71, 771: 푸시 플레이트
72, 772: 푸시 핀
175, 275, 375, 475, 575, 775: 가스 분사 노즐
176, 276, 376, 476, 576, 776: 가스 공급원
70, 170, 270, 370, 470, 570, 770: single material pressurization module
71, 771: push plate
72, 772: push pin
175, 275, 375, 475, 575, 775: gas injection nozzle
176, 276, 376, 476, 576, 776: gas source

Claims (6)

모기판으로부터 분단된 단위 기판을 흡착하도록 구성되는 흡착 부재;
상기 단위 기판의 주위에 위치되는 단재가 차지하는 영역에 대응하도록 배치되는 복수의 푸시 핀; 상기 복수의 푸시 핀이 설치되는 푸시 플레이트; 및 상기 복수의 푸시 핀이 상기 단재를 가압하도록 상기 푸시 플레이트를 이동시키는 푸시 플레이트 구동기를 포함하는 제1 단재 가압부; 및
상기 단재를 가압하도록 상기 단위 기판의 에지부를 향하여 가스를 분사하도록 구성되는 가스 분사 노즐; 및 상기 가스 분사 노즐로 가스를 공급하도록 구성되는 가스 공급원을 포함하는 제2 단재 가압부를 포함하고,
상기 제1 단재 가압부 및 상기 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 상기 흡착 부재가 상기 단위 기판을 흡착하기 이전 또는 상기 흡착 부재가 상기 단위 기판을 흡착할 때 상기 단재를 가압하도록 구성되고,
상기 제1 단재 가압부 및 상기 제2 단재 가압부 중 다른 하나는 상기 흡착 부재에 흡착된 상기 단위 기판의 에지부에 잔류하는 단재를 가압하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 헤드.
An adsorption member configured to adsorb the unit substrate divided from the mother substrate;
A plurality of push pins disposed to correspond to an area occupied by an end material positioned around the unit substrate; A push plate on which the plurality of push pins are installed; And a first end material pressing part including a push plate driver for moving the push plate so that the plurality of push pins press the end material. And
A gas injection nozzle configured to inject gas toward an edge portion of the unit substrate to pressurize the end material; And a second end material pressing part including a gas supply source configured to supply gas to the gas injection nozzle,
Any one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is configured to press the end material before the adsorption member adsorbs the unit substrate or when the adsorption member adsorbs the unit substrate,
The other one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is configured to press the end material remaining at the edge of the unit substrate adsorbed by the adsorption member.
청구항 1에 있어서,
상기 흡착 부재의 일측에 배치되어 상기 흡착 부재에 흡착된 상기 단위 기판의 에지부에 상기 단재가 존재하는지 여부를 검출하는 단재 감지 센서를 더 포함하는 기판 반송 헤드.
The method according to claim 1,
A substrate transfer head further comprising an end material detection sensor disposed on one side of the adsorption member and detecting whether the end material is present at an edge portion of the unit substrate adsorbed by the adsorption member.
청구항 1에 있어서,
상기 단위 기판으로부터 상기 단재가 이격되는 방향으로 상기 단재를 향하여 가스를 분사하도록, 상기 가스 분사 노즐은 상기 단위 기판의 표면에 직교하는 수직축에 대하여 경사지게 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 헤드.
The method according to claim 1,
The substrate transfer head, wherein the gas injection nozzle is installed to be inclined with respect to a vertical axis orthogonal to the surface of the unit substrate so as to inject gas toward the end material in a direction in which the end material is spaced apart from the unit substrate.
청구항 1에 있어서,
상기 단위 기판에 직교하는 수직축에 직교하는 수평축을 중심으로 상기 가스 분사 노즐을 회전시켜 상기 수직축에 대한 상기 가스 분사 노즐의 경사각을 조절하는 노즐 회전기를 더 포함하는 기판 반송 헤드.
The method according to claim 1,
A substrate transfer head further comprising a nozzle rotator configured to adjust an inclination angle of the gas injection nozzle with respect to the vertical axis by rotating the gas injection nozzle about a horizontal axis perpendicular to a vertical axis perpendicular to the unit substrate.
청구항 1에 있어서,
상기 가스 공급원으로부터 상기 가스 분사 노즐로 공급되는 가스의 온도를 조절하는 가스 온도 조절기를 더 포함하는 기판 반송 헤드.
The method according to claim 1,
A substrate transfer head further comprising a gas temperature controller for controlling a temperature of a gas supplied from the gas supply source to the gas injection nozzle.
청구항 1에 있어서,
상기 가스 공급원은 가스의 압력을 주기적으로 변화시키면서 상기 가스 분사 노즐로 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 헤드.
The method according to claim 1,
The gas supply source supplies gas to the gas injection nozzle while periodically changing the pressure of the gas.
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KR101160166B1 (en) * 2008-11-05 2012-06-28 세메스 주식회사 Trasferring unit for scribing apparatus, cutting apparatus having the same and method of cutting substrate using the same
KR101205832B1 (en) * 2009-11-27 2012-11-29 세메스 주식회사 Substrate transferring unit and method of transfering substrate using the same
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KR20180045666A (en) * 2016-10-26 2018-05-04 삼성전자주식회사 Apparatus for producting substrate
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KR102067981B1 (en) * 2017-09-29 2020-01-20 주식회사 탑 엔지니어링 Substrate cutting apparatus
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