KR20200144168A - Substrate transporting head - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 303
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 174
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 90
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 90
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims abstract description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 7
- 230000004886 head movement Effects 0.000 description 2
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67248—Temperature monitoring
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 모기판으로부터 분단된 단위 기판을 흡착하도록 구성되는 흡착 부재; 단위 기판의 주위에 위치되는 단재가 차지하는 영역에 대응하도록 배치되는 복수의 푸시 핀; 복수의 푸시 핀이 설치되는 푸시 플레이트; 및 복수의 푸시 핀이 단재를 가압하도록 푸시 플레이트를 이동시키는 푸시 플레이트 구동기를 포함하는 제1 단재 가압부; 및 단재를 가압하도록 단재를 향하여 가스를 분사하도록 구성되는 가스 분사 노즐; 및 가스 분사 노즐로 가스를 공급하도록 구성되는 가스 공급원을 포함하는 제2 단재 가압부를 포함하고, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 흡착 부재가 단위 기판을 흡착하기 이전 또는 흡착 부재가 단위 기판을 흡착할 때 단재를 가압하도록 구성될 수 있고, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나는 흡착 부재에 흡착된 단위 기판의 에지부에 잔류하는 단재를 가압하도록 구성될 수 있다.A substrate transfer head according to an embodiment of the present invention includes: an adsorption member configured to adsorb a unit substrate divided from a mother substrate; A plurality of push pins disposed to correspond to an area occupied by an end material positioned around the unit substrate; A push plate on which a plurality of push pins are installed; And a first end material pressing part including a push plate driver for moving the push plate so that the plurality of push pins press the end material. And a gas injection nozzle configured to inject gas toward the end material to pressurize the end material. And a second end material pressurization unit including a gas supply source configured to supply gas to the gas injection nozzle, and any one of the first end material pressurization unit and the second end material pressurization unit is either before the adsorption member adsorbs the unit substrate or is adsorbed. When the member adsorbs the unit substrate, it may be configured to pressurize the end material, and the other of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is configured to press the end material remaining at the edge of the unit substrate adsorbed by the adsorption member. Can be.
Description
본 발명은 모기판으로부터 분단된 단위 기판을 반송하도록 구성되는 기판 반송 헤드에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer head configured to transfer a unit substrate divided from a mother substrate.
일반적으로, 디스플레이에 사용되는 다양한 종류의 패널, 반도체 기판 등은 취성 재료로 이루어진 모기판으로부터 소정의 크기로 절단된 단위 기판을 사용하여 제조된다.In general, various types of panels and semiconductor substrates used in displays are manufactured using a unit substrate cut to a predetermined size from a mother substrate made of a brittle material.
모기판을 단위 기판으로 절단하기 위하여, 다이아몬드와 같은 재료로 이루어지는 스크라이빙 휠을 모기판에 가압한 후 스크라이빙 휠을 모기판이 절단될 가상의 절단 예정 라인을 따라 이동시키는 것에 의해 모기판에 스크라이빙 라인을 형성하는 스크라이빙 공정이 수행된다. 그리고, 스크라이빙 라인을 따라 모기판을 가압하여 모기판을 단위 기판으로 분단하는 브레이킹 공정이 수행된다. 그런 다음, 브레이킹 공정에 의해 모기판으로부터 분단된 단위 기판을 픽업하여 후속 공정으로 반송하는 기판 반송 공정이 수행된다.In order to cut the mother substrate into a unit substrate, a scribing wheel made of a material such as diamond is pressed against the mother substrate, and then the scribing wheel is moved along the virtual cutting line to be cut to the mother substrate. A scribing process of forming a scribing line is performed. In addition, a braking process of dividing the mother substrate into unit substrates by pressing the mother substrate along the scribing line is performed. Then, a substrate transfer process is performed in which the unit substrate divided from the mother substrate is picked up by the braking process and transferred to a subsequent process.
모기판이 단위 기판으로 분단되면, 단위 기판의 적어도 하나의 에지부에는 실제로 제품에 사용되지 않고 버려지는 부분인 단재(더미, 컬릿)가 존재한다. 이러한 단재는 단위 기판으로부터 분리되어야 하지만 다양한 원인으로 인해 단위 기판의 에지부에 부착된 상태로 잔류할 수 있다.When the mother substrate is divided into a unit substrate, at least one edge portion of the unit substrate has an end material (dummy, cullet) that is not actually used in a product and is discarded. Such a single material must be separated from the unit substrate, but may remain attached to the edge portion of the unit substrate due to various reasons.
본 발명의 목적은 단위 기판의 에지부로부터 단재를 확실하게 분리하여 단위 기판의 에지부에 단재가 잔류하는 것을 방지할 수 있는 기판 반송 헤드를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate transfer head capable of reliably separating an end material from an edge portion of a unit substrate and preventing the end material from remaining at an edge portion of a unit substrate.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 모기판으로부터 분단된 단위 기판을 흡착하도록 구성되는 흡착 부재; 단위 기판의 주위에 위치되는 단재가 차지하는 영역에 대응하도록 배치되는 복수의 푸시 핀; 복수의 푸시 핀이 설치되는 푸시 플레이트; 및 복수의 푸시 핀이 단재를 가압하도록 푸시 플레이트를 이동시키는 푸시 플레이트 구동기를 포함하는 제1 단재 가압부; 및 단재를 가압하도록 단재를 향하여 가스를 분사하도록 구성되는 가스 분사 노즐; 및 가스 분사 노즐로 가스를 공급하도록 구성되는 가스 공급원을 포함하는 제2 단재 가압부를 포함하고, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 흡착 부재가 단위 기판을 흡착하기 이전 또는 흡착 부재가 단위 기판을 흡착할 때 단재를 가압하도록 구성될 수 있고, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나는 흡착 부재에 흡착된 단위 기판의 에지부에 잔류하는 단재를 가압하도록 구성될 수 있다.A substrate transfer head according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes: an adsorption member configured to adsorb a unit substrate divided from a mother substrate; A plurality of push pins disposed to correspond to an area occupied by an end material positioned around the unit substrate; A push plate on which a plurality of push pins are installed; And a first end material pressing part including a push plate driver for moving the push plate so that the plurality of push pins press the end material. And a gas injection nozzle configured to inject gas toward the end material to pressurize the end material. And a second end material pressurization unit including a gas supply source configured to supply gas to the gas injection nozzle, and any one of the first end material pressurization unit and the second end material pressurization unit is either before the adsorption member adsorbs the unit substrate or is adsorbed. When the member adsorbs the unit substrate, it may be configured to pressurize the end material, and the other of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is configured to press the end material remaining at the edge of the unit substrate adsorbed by the adsorption member. Can be.
본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 흡착 부재의 일측에 배치되어 흡착 부재에 흡착된 단위 기판의 에지부에 단재가 존재하는지 여부를 검출하는 단재 감지 센서를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer head according to an embodiment of the present invention may further include an end material detection sensor disposed on one side of the adsorption member to detect whether an end material exists at an edge portion of the unit substrate adsorbed by the adsorption member.
단위 기판으로부터 단재가 이격되는 방향으로 단재를 향하여 가스를 분사하도록, 가스 분사 노즐은 단위 기판의 표면에 직교하는 수직축에 대하여 경사지게 설치될 수 있다.The gas injection nozzle may be installed to be inclined with respect to a vertical axis orthogonal to the surface of the unit substrate so as to spray gas toward the end material in a direction in which the end material is spaced apart from the unit substrate.
본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 단위 기판에 직교하는 수직축에 직교하는 수평축을 중심으로 가스 분사 노즐을 회전시켜 수직축에 대한 가스 분사 노즐의 경사각을 조절하는 노즐 회전기를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer head according to an embodiment of the present invention may further include a nozzle rotator for adjusting the inclination angle of the gas injection nozzle with respect to the vertical axis by rotating the gas injection nozzle about a horizontal axis perpendicular to a vertical axis perpendicular to the unit substrate. .
본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 가스 공급원으로부터 가스 분사 노즐로 공급되는 가스의 온도를 조절하는 가스 온도 조절기를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer head according to an embodiment of the present invention may further include a gas temperature controller for controlling a temperature of a gas supplied from a gas supply source to a gas injection nozzle.
가스 공급원은 가스의 압력을 주기적으로 변화시키면서 가스 분사 노즐로 가스를 공급할 수 있다.The gas supply source may supply gas to the gas injection nozzle while periodically changing the pressure of the gas.
본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드는, 단위 기판을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판 주위의 단재에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈을 구비함으로써, 단위 기판의 에지부로부터 단재를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판의 에지부에 단재가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판의 에지부에 단재가 잔류하는 상태로 단위 기판이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판의 에지부에 잔류하는 단재가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.A substrate transfer head according to an embodiment of the present invention includes an end material pressing module that applies a pressing force to an end material around the unit substrate in a second direction opposite to the first direction when adsorbing and moving the unit substrate in the first direction, The cut material can be more easily and reliably separated from the edge part of the unit substrate to prevent the cut material from remaining at the edge part of the unit substrate. Accordingly, it is possible to prevent a problem in which the unit substrate is conveyed to a subsequent process while the end material remains at the edge portion of the unit substrate. In addition, during a process in which the unit substrate is transported to a subsequent process, there may be a problem that the cut material remaining at the edge of the unit substrate falls from an unintended place.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 설치되는 기판 절단 장치가 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 설치되는 기판 절단 장치가 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 베이스 부재의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 푸시 플레이트의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 푸시 플레이트 및 푸시 핀이 개략적으로 도시된 도면이다.
도 7 내지 도 10은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 14는 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 15는 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 16은 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 17은 본 발명의 제6 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 18은 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 19는 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 베이스 부재의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 20은 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 다른 예가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 21은 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드의 다른 예에 따른 베이스 부재의 저부가 개략적으로 도시된 도면이다.1 is a plan view schematically showing a substrate cutting apparatus in which a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention is installed.
2 is a side view schematically illustrating a substrate cutting apparatus in which a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention is installed.
3 is a schematic view of a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing a bottom portion of a base member of a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention.
5 is a view schematically showing the bottom of the push plate of the substrate transfer head according to the first embodiment of the present invention.
6 is a schematic view of a push plate and a push pin of a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention.
7 to 10 are views for explaining the operation of the substrate transfer head according to the first embodiment of the present invention.
11 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a second embodiment of the present invention.
12 and 13 are views for explaining the operation of the substrate transfer head according to the second embodiment of the present invention.
14 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a third embodiment of the present invention.
15 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a fourth embodiment of the present invention.
16 is a diagram schematically showing a substrate transfer head according to a fifth embodiment of the present invention.
17 is a schematic diagram of a substrate transfer head according to a sixth embodiment of the present invention.
18 is a diagram schematically showing a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.
19 is a view schematically showing a bottom portion of a base member of a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.
20 is a diagram schematically showing another example of a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.
21 is a view schematically showing a bottom portion of a base member according to another example of a substrate transfer head according to a seventh embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드에 대하여 설명한다.Hereinafter, a substrate transfer head according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
먼저, 도 1 내지 도 2를 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드가 구비되는 기판 절단 장치에 대하여 설명한다.First, a substrate cutting apparatus including a substrate transfer head according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 2.
도 1 및 도 2를 참조하면, 기판 절단 공정이 수행될 모기판(S)이 이송되는 방향을 Y축 방향이라 정의하고, 모기판(S)이 이송되는 방향(Y축 방향)에 교차하는 방향을 X축 방향이라 정의한다. 그리고, 모기판(S)이 놓이는 X-Y평면에 수직인 방향을 Z축 방향이라 정의한다. 또한, 스크라이빙 라인이라는 용어는 모기판(S)의 표면에서 소정 방향으로 연장되게 형성되는 홈 및/또는 크랙을 의미한다. 그리고, 절단 예정 라인이라는 용어는 스크라이빙 라인이 형성될 가상의 라인을 의미한다.1 and 2, the direction in which the mother substrate S in which the substrate cutting process is to be performed is transferred is defined as the Y-axis direction, and the direction crosses the direction in which the mother substrate S is transferred (Y-axis direction). Is defined as the X-axis direction. In addition, a direction perpendicular to the X-Y plane on which the mother substrate S is placed is defined as the Z-axis direction. In addition, the term scribing line means a groove and/or crack formed to extend in a predetermined direction from the surface of the mother substrate S. In addition, the term “to be cut line” refers to a virtual line on which a scribing line is to be formed.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 기판 절단 장치는 스크라이빙 유닛(30)과, 제1 스테이지(10)와, 제2 스테이지(20)와, 기판 이송 유닛(40)과, 기판 반송 유닛(50)을 포함할 수 있다.1 and 2, the substrate cutting apparatus includes a
제1 스테이지(10)는 모기판(S)의 이송 방향으로 스크라이빙 유닛(30)의 상류측에 배치된다. 제1 스테이지(10)는 모기판(S)이 스크라이빙 유닛(30)을 향하여 이동되는 동안 모기판(S)을 지지하는 역할을 한다. 또한, 제1 스테이지(10)는 모기판(S)에 스크라이빙 라인을 형성하는 과정에서 모기판(S)을 지지하는 역할을 할 수 있다. 예를 들면, 제1 스테이지(10)는 벨트(11)로서 구성될 수 있다. 벨트(11)는 복수의 풀리(12)에 의해 지지될 수 있다. 복수의 풀리(12) 중 적어도 하나는 벨트(11)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.The
제2 스테이지(20)는 모기판(S)의 이송 방향으로 스크라이빙 유닛(30)의 하류측에 배치된다. 제2 스테이지(20)는 스크라이빙 유닛(30)에 의해 스크라이빙 라인이 형성된 모기판(S)을 수용하여 지지하는 역할을 한다. 또한, 제2 스테이지(20)는 모기판(S)에 스크라이빙 라인을 형성하는 과정에서 모기판(S)을 지지하는 역할을 할 수 있다. 예를 들면, 제2 스테이지(20)는 벨트(21)로서 구성될 수 있다. 벨트(21)는 복수의 풀리(22)에 의해 지지될 수 있다. 복수의 풀리(22) 중 적어도 하나는 벨트(21)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.The
스크라이빙 유닛(30)은 모기판(S)에 X축 방향 및/또는 Y축 방향으로 스크라이빙 라인을 형성하도록 구성된다. 스크라이빙 유닛(30)은 X축 방향으로 연장되는 프레임(31)과, 프레임(31)에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되는 스크라이빙 헤드(32)를 포함한다. 스크라이빙 헤드(32)는 스크라이빙 휠(34)을 구비한다. 스크라이빙 휠(34)은 휠 홀더(33)를 통해 스크라이빙 헤드(32)에 장착될 수 있다.The
스크라이빙 헤드(32)는 프레임(31)에 대하여 X축 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 이를 위해, 프레임(31)에는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 X축 이동 기구가 구비될 수 있다. X축 이동 기구는 스크라이빙 헤드(32)를 X축 방향으로 이동하도록 구동력을 제공할 수 있다.The scribing
스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)의 표면을 가압하는 상태에서, 스크라이빙 헤드(32)가 모기판(S)에 대하여 상대적으로 X축 방향으로 이동되는 것에 의해, 모기판(S)의 표면에는 X축 방향으로 스크라이빙 라인이 형성될 수 있다. 또한, 스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)의 표면을 가압한 상태에서 모기판(S)이 기판 이송 유닛(40)에 의해 Y축 방향으로 이동되는 것에 의해 모기판(S)의 표면에는 Y축 방향으로 스크라이빙 라인이 형성될 수 있다.In a state where the
이와 같이 스크라이빙 휠(34)에 의해 모기판(S)의 표면에 X축 방향 및/또는 Y축 방향으로 스크라이빙 라인이 형성되면, 스크라이빙 라인에 형성된 크랙이 모기판(S)의 내부로 진행함에 따라, 모기판(S)이 스크라이빙 라인을 따라 단위 기판(S1)으로 분단된 상태 또는 작은 힘에 의해서도 모기판(S)이 스크라이빙 라인을 따라 단위 기판(S1)으로 분단될 수 있는 상태가 될 수 있다.In this way, when a scribing line is formed in the X-axis direction and/or Y-axis direction on the surface of the mother substrate S by the
다른 예로서, 도시되지 않았지만, 스크라이빙 라인을 따라 모기판(S)에 소정의 가압력을 가하여 모기판(S)이 스크라이빙 라인을 따라 분단되도록 하는 브레이킹 유닛이 스크라이빙 유닛(30) 및 제2 스테이지(20) 사이에 구비되는 구성에도 본 발명이 적용 가능하다.As another example, although not shown, a braking unit that applies a predetermined pressing force to the mother substrate S along the scribing line so that the mother substrate S is divided along the scribing line is a
한편, 모기판(S)이 복수의 단위 기판(S1)으로 분단되면, 단위 기판(S1)의 적어도 하나의 에지부에는 실제로 제품에 사용되지 않고 버려지는 부분인 단재(S2)가 존재한다.On the other hand, when the mother substrate S is divided into a plurality of unit substrates S1, at least one edge portion of the unit substrate S1 has an end material S2 that is not actually used in a product and is discarded.
스크라이빙 휠(34)은 Z축을 중심으로 회전 가능하게 휠 홀더(33)에 장착될 수 있다. 따라서, 스크라이빙 휠(34)의 절단날이 X축 방향과 평행하게 되거나 Y축 방향과 평행하게 될 수 있다.The
스크라이빙 헤드(32)는 프레임(31)에 대하여 Z축 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 이를 위해, 프레임(31)에는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 Z축 이동 기구가 구비될 수 있다. Z축 이동 기구는 스크라이빙 헤드(32)를 Z축 방향으로 이동하도록 구동력을 제공할 수 있다.The
스크라이빙 헤드(32)가 프레임(31)에 대하여 Z축 방향으로 이동함에 따라, 스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)에 가압되거나 모기판(S)으로부터 이격될 수 있다. 그리고, 스크라이빙 헤드(32)가 Z축 방향으로 이동하는 정도를 조절하는 것에 의해, 스크라이빙 휠(34)이 모기판(S)에 가하는 가압력이 조절될 수 있다. 스크라이빙 헤드(32)가 Z축 방향으로 이동되는 것에 의해, 스크라이빙 휠(34)의 모기판(S)으로의 절삭 깊이(침투 깊이)가 조절될 수 있다.As the
기판 이송 유닛(40)은 모기판(S)의 이송 방향으로의 후방측 단부인 모기판(S)의 후행단을 파지하여 모기판(S)을 스크라이빙 유닛(30)으로 이송하도록 구성된다. 기판 이송 유닛(40)은, 제1 스테이지(10) 상에 지지된 모기판(S)의 후행단을 파지하도록 구성되는 클램프 모듈(41)과, 클램프 모듈(41)과 연결되며 X축 방향으로 연장되는 지지대(42), 지지대(42)와 연결되며 Y축 방향으로 연장되는 가이드 레일(43)을 포함할 수 있다. 지지대(42)와 가이드 레일(43) 사이에는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 클램프 모듈(41)이 모기판(S)의 후행단을 파지한 상태에서 지지대(42)가 직선 이동 기구에 의해 Y축 방향으로 이동됨에 따라, 모기판(S)이 Y축 방향으로 이송될 수 있다. 이때, 제1 스테이지(10)는 클램프 모듈(41)의 이동과 동기화되어 이동하면서 모기판(S)을 안정적으로 지지할 수 있다. 클램프 모듈(41)은 모기판(S)의 후행단에서의 모기판(S)의 상면 및 하면을 가압하여 유지할 수 있다. 다른 예로서, 클램프 모듈(41)은 부압원과 연결된 진공홀을 구비하여 모기판(S)의 상면 또는 하면을 흡착하도록 구성될 수 있다.The
기판 반송 유닛(50)은 제2 스테이지(20)에 지지된 단위 기판(S1)을 후속 공정으로 반송하도록 구성된다.The
기판 반송 유닛(50)은, 기판 반송 헤드(60)와, 지지 프레임(52)과, 헤드 이동 모듈(53)과, 헤드 승강 모듈(54)을 포함한다.The
지지 프레임(52)은 기판 반송 헤드(60)가 Y축 방향으로 이동 가능하게 기판 반송 헤드(60)를 지지하도록 구성된다.The
헤드 이동 모듈(53)은 기판 반송 헤드(60)를 지지 프레임(52)을 따라 Y축 방향으로 이동시키도록 구성된다. 헤드 승강 모듈(54)은 기판 반송 헤드(60)를 Z축 방향으로 이동시키도록 구성된다. 헤드 이동 모듈(53) 및 헤드 승강 모듈(54)로는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 적용될 수 있다.The
한편, 도시되지는 않았으나, 기판 반송 유닛(50)은 기판 반송 헤드(60)를 X축 방향으로 이동시키도록 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구를 더 포함할 수 있다.On the other hand, although not shown, the
이와 같은 구성에 따르면, 기판 반송 헤드(60)가 X축 방향 및/또는 Y축 방향으로 이동하여 반출될 단위 기판(S1)의 상방에 위치될 수 있고, 기판 반송 헤드(60)가 Z축 방향으로 이동하여 단위 기판(S1)을 흡착할 수 있다.According to this configuration, the
도 3 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60)는 단위 기판(S1)을 유지하여 반송하도록 구성된다.As shown in Figs. 3 to 6, the
기판 반송 헤드(60)는 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)를 포함한다.The
베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)는 서로 연결된다. 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62) 사이에는 소정의 공간이 제공된다. 리프트 부재(62)는 헤드 승강 모듈(54)에 연결된다. 따라서, 헤드 승강 모듈(54)에 의해 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)가 함께 Z축 방향으로 이동될 수 있다.The
베이스 부재(61)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the
베이스 부재(61)에는 복수의 흡착 부재(63)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(63)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(63)는 부압원(82)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(63)는 부압원(82)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The
기판 반송 헤드(60)는 제2 스테이지(20)(벨트(21)) 상에 탑재된 단재(S2)를 가압하도록 구성되는 단재 가압 모듈(70)을 더 포함할 수 있다.The
단재 가압 모듈(70)은, 푸시 플레이트(71)와, 복수의 푸시 핀(72)과, 푸시 플레이트 구동기(73)를 포함한다.The end
푸시 플레이트 구동기(73)는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로서 구성될 수 있다. 푸시 플레이트 구동기(73)는 푸시 플레이트(71)와 연결되어 푸시 플레이트(71)를 Z축 방향으로 이동시키도록 구성된다.The
푸시 플레이트(71)는 하나의 단위 기판(S1)과 그 주위의 단재(S2)를 포함한 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The
복수의 푸시 핀(72)은 푸시 플레이트(71)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 푸시 핀(72)은 푸시 플레이트(71)의 하면으로부터 Z축 방향으로 연장된다. 복수의 푸시 핀(72)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 푸시 핀(72)은 복수의 흡착 부재(63)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 푸시 핀(72)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of push pins 72 are provided on the lower surface of the push plate 71 (the surface facing the unit substrate S1 and the end material S2). The plurality of push pins 72 extend from the lower surface of the
베이스 부재(61)에는 복수의 푸시 핀(72)에 각각 대응하는 복수의 관통홀(612)이 형성된다. 복수의 푸시 핀(72)은 복수의 관통홀(612)을 통과하며, 이에 따라, 복수의 푸시 핀(72)의 각각의 하단이 모기판(S)을 향하여 외부로 노출될 수 있다.The
이하, 도 7 내지 도 10을 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60)의 동작에 대하여 설명한다.Hereinafter, an operation of the
도 7에 도시된 바와 같이, 헤드 승강 모듈(54)에 의해 기판 반송 헤드(60)가 단위 기판(S1)을 향하여 하강함에 따라, 복수의 흡착 부재(63)가 단위 기판(S1)의 표면에 접촉한다. 이때, 복수의 푸시 핀(72)의 단부는 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 위치되는 평면으로부터 상방으로 이격된 상태로 유지될 수 있다. 다른 예로서, 복수의 푸시 핀(72)의 단부는 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 위치되는 평면과 동일 평면에 위치될 수 있다. 이 경우, 기판 반송 헤드(60)가 단위 기판(S1)을 향하여 하강함에 따라, 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 단위 기판(S1)의 표면에 접촉하는 것과 동시에 복수의 푸시 핀(72)의 단부가 단재(S2)의 표면에 접촉할 수 있다.As shown in FIG. 7, as the
그리고, 도 8에 도시된 바와 같이, 푸시 플레이트 구동기(73)에 의해 푸시 플레이트(71)가 하강함에 따라, 푸시 플레이트(71)에 설치된 복수의 푸시 핀(72)이 단재(S2)에 접촉하여 단재(S2)를 하방으로 가압한다.And, as shown in Figure 8, as the
그리고, 부압원(82)에 의해 복수의 흡착 부재(63)에 부압이 작용하며, 이에 따라, 단위 기판(S1)에는 상방으로의 흡착력이 작용한다.Further, the negative pressure acts on the plurality of
따라서, 단위 기판(S1)에는 제1 방향(상방)으로의 흡착력이 작용하며, 단재(S2)에는 제1 방향(상방)에 반대되는 제2 방향(하방)으로의 가압력이 작용한다.Accordingly, an adsorption force in a first direction (upward) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in a second direction (downward) opposite to the first direction (upward) acts on the end material S2.
그리고, 도 9에 도시된 바와 같이, 헤드 승강 모듈(54)에 의해 기판 반송 헤드(60)가 상승한다. 이때, 푸시 플레이트(71)는 하강하며, 이에 따라, 복수의 푸시 핀(72)이 계속 단재(S2)를 가압하는 상태가 유지될 수 있다. 즉, 복수의 흡착 부재(63)가 제1 방향으로 상승할 때, 복수의 푸시 핀(72)이 단재(S2)를 제2 방향으로 가압하는 상태가 유지될 수 있다.And, as shown in FIG. 9, the board|
이에 따라, 단위 기판(S1)에는 제1 방향으로의 힘(흡착력 및 복수의 흡착 부재(63)의 상승에 따른 힘)이 작용하며, 단재(S2)에는 제2 방향으로의 가압력이 작용한다. 이와 같이, 단위 기판(S1) 및 단재(S2)에 서로 반대 방향의 힘이 작용함에 따라, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 확실하게 분리될 수 있다.Accordingly, a force in the first direction (adsorption force and force due to the rise of the plurality of adsorption members 63) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in the second direction acts on the end material S2. In this way, as forces in opposite directions act on the unit substrate S1 and the end material S2, the end material S2 can be reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1.
그리고, 도 10에 도시된 바와 같이, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 분리된 상태에서, 기판 반송 헤드(60)가 상승한다. 그리고, 기판 반송 헤드(60)는 수평으로 이동하면서 후속하는 공정으로 이송될 수 있다. 이때, 복수의 푸시 핀(72)의 단부가 복수의 흡착 부재(63)의 단부가 위치되는 평면으로부터 상방으로 이격되도록, 푸시 플레이트(71)가 상승할 수 있으며, 이에 따라, 단위 기판(S1)의 반송 시, 복수의 푸시 핀(72)이 주변의 다른 장비 및 부품과 간섭하는 것이 방지될 수 있다.Then, as shown in FIG. 10, in a state where the end material S2 is separated from the edge portion of the unit substrate S1, the
본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60)는, 단위 기판(S1)을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판(S1) 주위의 단재(S2)에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈(70)을 구비함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 상태로 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.
이하, 도 11 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a
도 11에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)는, 베이스 부재(161)와, 복수의 흡착 부재(163)와, 단재 가압 모듈(170)을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 11, the
베이스 부재(161)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the
베이스 부재(161)에는 복수의 흡착 부재(163)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(163)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(163)는 부압원(182)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(163)는 부압원(182)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.A plurality of
단재 가압 모듈(170)은, 복수의 가스 분사 노즐(175)과, 가스 공급원(176)을 포함한다.The end
가스 공급원(176)은 복수의 가스 분사 노즐(175)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(175)로 가스를 공급하도록 구성된다.The
한편, 가스 공급원(176)은 일정한 압력으로 가스를 가스 분사 노즐(175)로 공급할 수 있다. 다른 예로서, 가스 공급원(176)은 가스의 압력을 주기적으로 변화시키면서 가스 분사 노즐(175)로 가스를 공급할 수 있다. 이 경우, 가스 분사 노즐(175)로부터 분사되는 가스는 소정의 진동파의 형태로 단재(S2)와 충돌하면서 단재(S2)를 진동시킬 수 있으므로, 단재(S2)를 단위 기판(S1)으로부터 보다 확실하게 분리할 수 있다.Meanwhile, the
복수의 가스 분사 노즐(175)은 베이스 부재(161)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(175)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(175)은 복수의 흡착 부재(163)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(175)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of
이하, 도 12 및 도 13을 참조하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)의 동작에 대하여 설명한다.Hereinafter, an operation of the
도 12에 도시된 바와 같이, 기판 반송 헤드(160)가 단위 기판(S1)을 향하여 하강함에 따라, 복수의 흡착 부재(163)가 단위 기판(S1)의 표면에 접촉한다.As shown in FIG. 12, as the
그리고, 부압원(182)에 의해 복수의 흡착 부재(163)에 부압이 작용하며, 이에 따라, 단위 기판(S1)에는 상방으로의 흡착력이 작용한다. 이때, 가스 공급원(176)으로부터 복수의 가스 분사 노즐(175)로 가스가 공급됨에 따라, 복수의 가스 분사 노즐(175)로부터 단재(S2)를 향하여 가스가 분사된다.Further, the negative pressure acts on the plurality of
따라서, 단위 기판(S1)에는 제1 방향(상방)으로의 흡착력이 작용하며, 단재(S2)에는 제1 방향(상방)에 반대되는 제2 방향(하방)으로의 가압력이 작용한다.Accordingly, an adsorption force in a first direction (upward) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in a second direction (downward) opposite to the first direction (upward) acts on the end material S2.
그리고, 도 13에 도시된 바와 같이, 기판 반송 헤드(160)가 상승함에 따라, 복수의 흡착 부재(163)가 상승한다. 이때, 복수의 가스 분사 노즐(175)로부터 단재(S2)를 향하여 가스가 계속 분사된다.And, as shown in FIG. 13, as the
이에 따라, 단위 기판(S1)에는 제1 방향으로의 힘(흡착력 및 복수의 흡착 부재(163)의 상승에 따른 힘)이 작용하며, 단재(S2)에는 제2 방향으로의 가압력이 작용한다. 이와 같이, 단위 기판(S1) 및 단재(S2)에 서로 반대 방향의 힘이 작용함에 따라, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 확실하게 분리될 수 있다.Accordingly, a force in the first direction (adsorption force and force due to the rise of the plurality of adsorption members 163) acts on the unit substrate S1, and a pressing force in the second direction acts on the end material S2. In this way, as forces in opposite directions act on the unit substrate S1 and the end material S2, the end material S2 can be reliably separated from the edge portion of the unit substrate S1.
본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 반송 헤드(160)는, 단위 기판(S1)을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판(S1) 주위의 단재(S2)에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈(170)을 구비함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 상태로 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.
이하, 도 14를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 반송 헤드(260)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 및 제2 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a
도 14에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 반송 헤드(260)는, 베이스 부재(261)와, 복수의 흡착 부재(263)와, 단재 가압 모듈(270)을 포함할 수 있다.As shown in Fig. 14, the
베이스 부재(261)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the
베이스 부재(261)에는 복수의 흡착 부재(263)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(263)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(263)는 부압원(282)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(263)는 부압원(282)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The
단재 가압 모듈(270)은, 복수의 가스 분사 노즐(275)과, 가스 공급원(276)을 포함한다.The end
가스 공급원(276)은 복수의 가스 분사 노즐(275)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(275)로 가스를 공급하도록 구성된다.The
복수의 가스 분사 노즐(275)은 베이스 부재(261)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(275)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(275)은 복수의 흡착 부재(63)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(275)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of
가스 분사 노즐(275)은 단위 기판(S1)의 표면에 직교하는 수직축에 대하여 경사지게 설치될 수 있다. 특히, 가스 분사 노즐(275)의 출구가 단위 기판(S1)의 에지부의 외측을 향하도록 가스 분사 노즐(275)이 수직축에 대하여 경사지게 설치될 수 있다. 이에 따라, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 이격되는 방향으로 단재(S2)를 향하여 가스가 분사될 수 있다. 이에 따라, 단재(S2)에는 제2 방향(하방)으로의 가압력 및 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 이격되는 방향으로의 가압력의 합력이 작용될 수 있다.The
따라서, 복수의 흡착 부재(263)가 단위 기판(S1)을 흡착한 상태에서 복수의 흡착 부재(263)가 상승하면, 단위 기판(S1)에는 제1 방향으로의 힘(흡착력 및 복수의 흡착 부재(263)의 상승에 따른 힘)이 작용하며, 단재(S2)에는 제2 방향(하방)으로의 가압력 및 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 이격되는 방향으로의 가압력이 작용한다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)가 보다 확실하게 분리될 수 있다.Therefore, when the plurality of
이하, 도 15를 참조하여 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 반송 헤드(360)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제3 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a
도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 반송 헤드(360)는, 베이스 부재(361)와, 복수의 흡착 부재(363)와, 단재 가압 모듈(370)을 포함할 수 있다.As shown in Fig. 15, the
베이스 부재(361)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the
베이스 부재(361)에는 복수의 흡착 부재(363)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(363)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(363)는 부압원(382)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(363)는 부압원(382)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The
단재 가압 모듈(370)은, 복수의 가스 분사 노즐(375)과, 가스 공급원(376)과, 노즐 회전기(377)를 포함한다.The end
가스 공급원(376)은 복수의 가스 분사 노즐(375)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(375)로 가스를 공급하도록 구성된다.The
복수의 가스 분사 노즐(375)은 베이스 부재(361)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(375)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(375)은 복수의 흡착 부재(363)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(375)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of
가스 분사 노즐(375)은 단위 기판(S1)의 표면에 수직인 수직축에 대하여 그 경사각이 조절될 수 있도록 설치될 수 있다. 가스 분사 노즐(375)의 경사각을 조절함으로써, 가스 분사 노즐(375)로부터 분사되는 가스의 분사 방향이 조절될 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)의 형상, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 분리되어야 하는 방향 등에 따라 가스 분사 노즐(375)로부터 분사되는 가스의 분사 방향을 조절할 수 있으므로, 단재(S2)를 단위 기판(S1)으로부터 더욱 용이하고 확실하게 분리할 수 있다.The
수직축에 대한 가스 분사 노즐(375)의 경사각을 자동으로 조절할 수 있도록, 가스 분사 노즐(375)에는 노즐 회전기(377)가 연결될 수 있다. 노즐 회전기(377)는 가스 분사 노즐(375)을 수직축에 직교하는 수평축을 중심으로 회전시켜 수직축에 대한 가스 분사 노즐(375)의 경사각을 조절할 수 있다. 이러한 노즐 회전기(377)로는 가스 분사 노즐(375)의 상단과 링크 등을 통해 연결되는 직선 이동 기구가 적용될 수 있으며, 이러한 직선 이동 기구는 공압 또는 유압을 사용하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구일 수 있다.A
한편, 가스 분사 노즐(375)로부터 가스가 분사되는 과정에서 노즐 회전기(377)는 가스 분사 노즐(375)을 반복적으로 왕복 회전시키도록 구성될 수 있다. 이에 따라, 가스 분사 노즐(375)로부터 분사되는 가스의 분사 방향이 반복적으로 변화하면서, 단재(S2)에 진동을 가할 수 있으며, 이에 따라, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 더욱 확실하게 분리될 수 있다.Meanwhile, the
이하, 도 16을 참조하여 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 반송 헤드(460)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제4 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a
도 16에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 반송 헤드(460)는, 베이스 부재(461)와, 복수의 흡착 부재(463)와, 단재 가압 모듈(470)을 포함할 수 있다.As shown in Fig. 16, the
베이스 부재(461)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the
베이스 부재(461)에는 복수의 흡착 부재(463)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(463)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(463)는 부압원(482)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(463)는 부압원(482)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.A plurality of
단재 가압 모듈(470)은, 복수의 가스 분사 노즐(475)과, 가스 공급원(476)과, 가스 온도 조절기(478)를 포함한다.The
가스 공급원(476)은 복수의 가스 분사 노즐(475)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(475)로 가스를 공급하도록 구성된다.The
복수의 가스 분사 노즐(475)은 베이스 부재(461)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(475)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(475)은 복수의 흡착 부재(463)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(475)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of
가스 온도 조절기(478)는 가스 공급원(476)으로부터 공급되는 가스의 온도를 조절하도록 구성될 수 있다. 가스 온도 조절기(478)는 기판 반송 헤드(460)의 주변의 온도에 비하여 높은 온도로 가스를 가열하도록 구성될 수 있다. 또는, 가스 온도 조절기(478)는 기판 반송 헤드(460)의 주변의 온도에 비하여 낮은 온도로 가스를 냉각하도록 구성될 수 있다. 따라서, 가스 분사 노즐(475)로부터 분사되는 가스의 온도는 단위 기판(S1)의 주변의 온도에 비하여 높거나 낮을 수 있다. 따라서, 가스 분사 노즐(475)로부터 분사된 가스가 단재(S2)에 충돌함에 따라, 단재(S2)의 온도가 단위 기판(S1)의 온도에 비하여 높거나 낮게 될 수 있다. 따라서, 단재(S2)와 단위 기판(S1) 사이에는 온도 차가 존재하며, 이러한 온도 차에 의한 열 팽창/열 수축 정도의 차이에 의해, 단재(S2)가 단위 기판(S1)으로부터 더욱 용이하고 확실하게 분리될 수 있다.The
이하, 도 17을 참조하여 본 발명의 제6 실시예에 따른 기판 반송 헤드(560)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제5 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a
도 17에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제6 실시예에 따른 기판 반송 헤드(560)는, 베이스 부재(561)와, 복수의 흡착 부재(563)와, 단재 가압 모듈(570)과, 단재 감지 센서(90)를 포함할 수 있다.As shown in Fig. 17, the
베이스 부재(561)의 하부는, 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 하나의 단위 기판(S1)의 주위의 단재(S2)가 차지하는 영역을 포함하는 영역의 형상과 대응하는 형상을 가질 수 있다.The lower portion of the
베이스 부재(561)에는 복수의 흡착 부재(563)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(563)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(563)는 부압원(582)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(563)는 부압원(582)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.A plurality of
단재 가압 모듈(570)은, 복수의 가스 분사 노즐(575)과, 가스 공급원(576)을 포함한다.The end
가스 공급원(576)은 복수의 가스 분사 노즐(575)과 연결되어 복수의 가스 분사 노즐(575)로 가스를 공급하도록 구성된다.The
복수의 가스 분사 노즐(575)은 베이스 부재(561)의 하면(단위 기판(S1) 및 단재(S2)를 향하는 면)에 설치된다. 복수의 가스 분사 노즐(575)은 단재(S2)가 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치된다. 복수의 가스 분사 노즐(575)은 복수의 흡착 부재(563)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다. 즉, 복수의 가스 분사 노즐(575)은 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치된다.The plurality of
단재 감지 센서(90)는 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는지 여부를 검출하도록 구성될 수 있다. 단재 감지 센서(90)는 복수의 흡착 부재(563)가 차지하는 영역의 외곽을 따라 복수로 배치될 수 있다. 즉, 복수의 단재 감지 센서(90)는 단위 기판(S1)이 차지하는 영역의 외곽을 따라 배치될 수 있다.The cut-
예를 들면, 단재 감지 센서(90)는 발광부와 수광부를 포함하는 광학 센서(거리 센서)로 구성될 수 있으며, 발광부에서 발광된 광이 단재(S2)에 의해 반사된 후 수광부에 도달하는지 여부를 검출함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는지 여부를 검출하도록 구성될 수 있다.For example, the cut-
복수의 흡착 부재(563)가 단위 기판(S1)을 흡착한 상태에서 소정의 높이로 상승할 때, 단재 감지 센서(90)가 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는지 여부를 검출할 수 있다.When the plurality of
가스 공급원(576)과 단재 감지 센서(90)는 도시되지 않은 제어 유닛에 의해 제어될 수 있다. 제어 유닛은 단재 감지 센서(90)에 의해 단재(S2)가 감지될 때 가스 공급원(576)을 제어하여 가스 분사 노즐(575)로부터 가스가 분사되도록 하거나 가스 분사 노즐(575)로부터 분사되는 가스의 압력을 증가시킬 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 확실하게 분리할 수 있다.The
이하, 도 18 내지 도 21을 참조하여 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)에 대하여 설명한다. 전술한 제1 내지 제6 실시예에서 설명한 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a
도 18 및 도 19에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)는, 베이스 부재(761)와, 리프트 부재(762)와, 단재 가압 모듈(770)을 포함할 수 있다.18 and 19, the
베이스 부재(761) 및 리프트 부재(762)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 베이스 부재(61) 및 리프트 부재(62)와 각각 동일하게 구성될 수 있다.The
베이스 부재(761)에는 복수의 흡착 부재(763)가 설치된다. 복수의 흡착 부재(763)는 하나의 단위 기판(S1)이 차지하는 영역과 대응하는 영역 내에 배치될 수 있다. 복수의 흡착 부재(763)는 부압원(782)과 연결된다. 복수의 흡착 부재(763)는 부압원(782)에서 작용하는 부압에 의해 단위 기판(S1)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The
단재 가압 모듈(770)은, 푸시 플레이트(771), 복수의 푸시 핀(772) 및 푸시 플레이트 구동기(773)를 포함하는 제1 단재 가압부와, 복수의 가스 분사 노즐(775) 및 가스 공급원(776)을 포함하는 제2 단재 가압부를 포함할 수 있다.The end
푸시 플레이트(771)와, 복수의 푸시 핀(772)과, 푸시 플레이트 구동기(773)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 푸시 플레이트(71)와, 복수의 푸시 핀(72)과, 푸시 플레이트 구동기(73)와 각각 동일하게 구성될 수 있다. 복수의 가스 분사 노즐(775)과, 가스 공급원(776)은 본 발명의 제2 실시예에 따른 복수의 가스 분사 노즐(175)과, 가스 공급원(176)과 각각 동일하게 구성될 수 있다.The
이러한 구성에 한정되지 않으며, 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)는, 본 발명의 제4 실시예에 따른 노즐 회전기(377), 본 발명의 제5 실시예에 따른 가스 온도 조절기(478), 본 발명의 제6 실시예에 따른 단재 감지 센서(90) 중 적어도 어느 하나를 더 포함할 수 있다.It is not limited to this configuration, the
예를 들면, 본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)가 단재 감지 센서(90)를 구비하는 경우, 제어 유닛은 단재 감지 센서(90)에 의해 단재(S2)가 감지될 때 가스 공급원(776)을 제어하여 가스 분사 노즐(775)로부터 가스가 분사되도록 하거나, 가스 분사 노즐(775)로부터 분사되는 가스의 압력을 증가시키거나, 푸시 플레이트(771)를 구동하여 복수의 푸시 핀(772)이 단재(S2)를 가압하도록 할 수 있다.For example, when the
한편, 일 예로서, 도 18 및 도 19에 도시된 바와 같이, 복수의 가스 분사 노즐(775)은 복수의 푸시 핀(772)의 외측에 배치될 수 있다. 다른 예로서, 도 20 및 도 21에 도시된 바와 같이, 복수의 가스 분사 노즐(775)은 복수의 푸시 핀(772)의 내측에 배치될 수 있다. 또 다른 예로서, 도시되지는 않았지만, 복수의 가스 분사 노즐(775) 중 일부는 복수의 푸시 핀(772) 중 일부의 외측에 배치될 수 있고, 복수의 가스 분사 노즐(775) 중 다른 일부는 복수의 푸시 핀(772) 중 다른 일부의 내측에 배치될 수 있다.Meanwhile, as an example, as shown in FIGS. 18 and 19, a plurality of
본 발명의 제7 실시예에 따른 기판 반송 헤드(760)에 따르면, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 흡착 부재(763)가 단위 기판(S1)을 흡착하기 이전 또는 흡착 부재(763)가 단위 기판(S1)을 흡착할 때 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다. 즉, 제2 스테이지(20) 상에 탑재된 단위 기판(S1)을 흡착 부재(763)가 흡착할 때, 또는, 제2 스테이지(20) 상에 탑재된 단위 기판(S1)을 흡착 부재(763)가 흡착하기 직전에, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 제2 스테이지(20) 상에 탑재된 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다.According to the
또한, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나는 흡착 부재(763)에 흡착된 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다. 즉, 단위 기판(S1)이 흡착 부재(763)에 흡착된 상태로 반송(수직 이동 및 수평 이동)될 때, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나는, 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)를 가압하도록 구성될 수 있다. 이때, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 존재하는 것이 단재 감지 센서(90)에 의해 감지되는 경우에, 제1 단재 가압부 및 제2 단재 가압부 중 다른 하나가 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)를 가압할 수 있다.In addition, the other one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit may be configured to press the end material S2 remaining at the edge of the unit substrate S1 adsorbed by the
이와 같이, 푸시 핀(772) 및 가스 분사 노즐(775)을 함께 사용하여 단재(S2)를 가압할 수 있으므로, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 확실하게 분리할 수 있다.In this way, since the end material S2 can be pressed together by using the
본 발명의 실시예에 따른 기판 반송 헤드(60, 160, 260, 360, 460, 560, 760)는, 단위 기판(S1)을 제1 방향으로 흡착하여 이동시킬 때 단위 기판(S1) 주위의 단재(S2)에 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 가압력을 가하는 단재 가압 모듈(70, 170, 270, 370, 470, 570, 770)을 구비함으로써, 단위 기판(S1)의 에지부로부터 단재(S2)를 보다 용이하고 확실하게 분리하여 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 단위 기판(S1)의 에지부에 단재(S2)가 잔류하는 상태로 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 단위 기판(S1)이 후속 공정으로 반송되는 과정 중 단위 기판(S1)의 에지부에 잔류하는 단재(S2)가 의도하지 않은 장소에서 낙하하는 문제가 발생할 수 있다.The substrate transfer head (60, 160, 260, 360, 460, 560, 760) according to the embodiment of the present invention, when adsorbing and moving the unit substrate (S1) in the first direction, the single material around the unit substrate (S1) By providing the end material pressing module (70, 170, 270, 370, 470, 570, 770) for applying a pressing force in a second direction opposite the first direction to (S2), the end material ( By separating S2) more easily and reliably, it is possible to prevent the end material S2 from remaining at the edge portion of the unit substrate S1. Accordingly, it is possible to prevent a problem in which the unit substrate S1 is conveyed to a subsequent process while the end material S2 remains at the edge portion of the unit substrate S1. In addition, during a process in which the unit substrate S1 is transported to a subsequent process, the end material S2 remaining at the edge of the unit substrate S1 may fall from an unintended location.
본 발명의 바람직한 실시예가 예시적으로 설명되었으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에 한정되지 않으며, 청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경될 수 있다.Although preferred embodiments of the present invention have been described exemplarily, the scope of the present invention is not limited to such specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.
70, 170, 270, 370, 470, 570, 770: 단재 가압 모듈
71, 771: 푸시 플레이트
72, 772: 푸시 핀
175, 275, 375, 475, 575, 775: 가스 분사 노즐
176, 276, 376, 476, 576, 776: 가스 공급원70, 170, 270, 370, 470, 570, 770: single material pressurization module
71, 771: push plate
72, 772: push pin
175, 275, 375, 475, 575, 775: gas injection nozzle
176, 276, 376, 476, 576, 776: gas source
Claims (6)
상기 단위 기판의 주위에 위치되는 단재가 차지하는 영역에 대응하도록 배치되는 복수의 푸시 핀; 상기 복수의 푸시 핀이 설치되는 푸시 플레이트; 및 상기 복수의 푸시 핀이 상기 단재를 가압하도록 상기 푸시 플레이트를 이동시키는 푸시 플레이트 구동기를 포함하는 제1 단재 가압부; 및
상기 단재를 가압하도록 상기 단위 기판의 에지부를 향하여 가스를 분사하도록 구성되는 가스 분사 노즐; 및 상기 가스 분사 노즐로 가스를 공급하도록 구성되는 가스 공급원을 포함하는 제2 단재 가압부를 포함하고,
상기 제1 단재 가압부 및 상기 제2 단재 가압부 중 어느 하나는 상기 흡착 부재가 상기 단위 기판을 흡착하기 이전 또는 상기 흡착 부재가 상기 단위 기판을 흡착할 때 상기 단재를 가압하도록 구성되고,
상기 제1 단재 가압부 및 상기 제2 단재 가압부 중 다른 하나는 상기 흡착 부재에 흡착된 상기 단위 기판의 에지부에 잔류하는 단재를 가압하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 헤드.An adsorption member configured to adsorb the unit substrate divided from the mother substrate;
A plurality of push pins disposed to correspond to an area occupied by an end material positioned around the unit substrate; A push plate on which the plurality of push pins are installed; And a first end material pressing part including a push plate driver for moving the push plate so that the plurality of push pins press the end material. And
A gas injection nozzle configured to inject gas toward an edge portion of the unit substrate to pressurize the end material; And a second end material pressing part including a gas supply source configured to supply gas to the gas injection nozzle,
Any one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is configured to press the end material before the adsorption member adsorbs the unit substrate or when the adsorption member adsorbs the unit substrate,
The other one of the first end material pressing unit and the second end material pressing unit is configured to press the end material remaining at the edge of the unit substrate adsorbed by the adsorption member.
상기 흡착 부재의 일측에 배치되어 상기 흡착 부재에 흡착된 상기 단위 기판의 에지부에 상기 단재가 존재하는지 여부를 검출하는 단재 감지 센서를 더 포함하는 기판 반송 헤드.The method according to claim 1,
A substrate transfer head further comprising an end material detection sensor disposed on one side of the adsorption member and detecting whether the end material is present at an edge portion of the unit substrate adsorbed by the adsorption member.
상기 단위 기판으로부터 상기 단재가 이격되는 방향으로 상기 단재를 향하여 가스를 분사하도록, 상기 가스 분사 노즐은 상기 단위 기판의 표면에 직교하는 수직축에 대하여 경사지게 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 반송 헤드.The method according to claim 1,
The substrate transfer head, wherein the gas injection nozzle is installed to be inclined with respect to a vertical axis orthogonal to the surface of the unit substrate so as to inject gas toward the end material in a direction in which the end material is spaced apart from the unit substrate.
상기 단위 기판에 직교하는 수직축에 직교하는 수평축을 중심으로 상기 가스 분사 노즐을 회전시켜 상기 수직축에 대한 상기 가스 분사 노즐의 경사각을 조절하는 노즐 회전기를 더 포함하는 기판 반송 헤드.The method according to claim 1,
A substrate transfer head further comprising a nozzle rotator configured to adjust an inclination angle of the gas injection nozzle with respect to the vertical axis by rotating the gas injection nozzle about a horizontal axis perpendicular to a vertical axis perpendicular to the unit substrate.
상기 가스 공급원으로부터 상기 가스 분사 노즐로 공급되는 가스의 온도를 조절하는 가스 온도 조절기를 더 포함하는 기판 반송 헤드.The method according to claim 1,
A substrate transfer head further comprising a gas temperature controller for controlling a temperature of a gas supplied from the gas supply source to the gas injection nozzle.
상기 가스 공급원은 가스의 압력을 주기적으로 변화시키면서 상기 가스 분사 노즐로 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 헤드.The method according to claim 1,
The gas supply source supplies gas to the gas injection nozzle while periodically changing the pressure of the gas.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190071381A KR20200144168A (en) | 2019-06-17 | 2019-06-17 | Substrate transporting head |
CN201911182537.3A CN112103228B (en) | 2019-06-17 | 2019-11-27 | Substrate transfer head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190071381A KR20200144168A (en) | 2019-06-17 | 2019-06-17 | Substrate transporting head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200144168A true KR20200144168A (en) | 2020-12-29 |
Family
ID=73749350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190071381A KR20200144168A (en) | 2019-06-17 | 2019-06-17 | Substrate transporting head |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20200144168A (en) |
CN (1) | CN112103228B (en) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101160166B1 (en) * | 2008-11-05 | 2012-06-28 | 세메스 주식회사 | Trasferring unit for scribing apparatus, cutting apparatus having the same and method of cutting substrate using the same |
KR101205832B1 (en) * | 2009-11-27 | 2012-11-29 | 세메스 주식회사 | Substrate transferring unit and method of transfering substrate using the same |
KR20170115636A (en) * | 2016-04-07 | 2017-10-18 | 주식회사 탑 엔지니어링 | Scribing apparatus |
KR20180045666A (en) * | 2016-10-26 | 2018-05-04 | 삼성전자주식회사 | Apparatus for producting substrate |
CN108218212A (en) * | 2016-12-14 | 2018-06-29 | 塔工程有限公司 | Substrate dividing apparatus |
KR102067981B1 (en) * | 2017-09-29 | 2020-01-20 | 주식회사 탑 엔지니어링 | Substrate cutting apparatus |
KR101991267B1 (en) * | 2017-11-23 | 2019-06-20 | 주식회사 탑 엔지니어링 | Apparatus for cutting substrate |
KR102067987B1 (en) * | 2017-11-23 | 2020-01-20 | 주식회사 탑 엔지니어링 | Apparatus for cutting substrate |
-
2019
- 2019-06-17 KR KR1020190071381A patent/KR20200144168A/en not_active Application Discontinuation
- 2019-11-27 CN CN201911182537.3A patent/CN112103228B/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112103228A (en) | 2020-12-18 |
CN112103228B (en) | 2023-12-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20190617 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20220414 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20190617 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20231016 Patent event code: PE09021S01D |
|
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20240102 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20231016 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |