KR102114025B1 - Apparatus for cutting substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는, 기판을 이송하는 이송 유닛; 및 이송 유닛에 의해 이송된 기판을 반전시키는 반전 유닛을 포함할 수 있고, 반전 유닛은, 서로 이격되게 배치되는 제1 및 제2 픽커 모듈; 한 쌍의 픽커 모듈을 Z축 방향으로 이동시키는 픽커 승강 모듈; 및 한 쌍의 픽커 모듈을 Z축에 직교하는 축을 중심으로 회전시키는 픽커 회전 모듈을 포함할 수 있으며, 한 쌍의 픽커 모듈에는 기판을 흡착하는 복수의 흡착 패드가 각각 구비되고, 제1 픽커 모듈에 구비되는 흡착 패드와 제2 픽커 모듈에 구비되는 흡착 패드는 서로 반대 방향을 향하도록 배치될 수 있다.Substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention, a transfer unit for transferring a substrate; And an inverting unit for inverting the substrate transferred by the conveying unit, the inverting unit comprising: first and second picker modules spaced apart from each other; A picker elevating module that moves a pair of picker modules in the Z-axis direction; And a picker rotation module that rotates the pair of picker modules about an axis orthogonal to the Z axis, and the pair of picker modules is provided with a plurality of suction pads for adsorbing a substrate, respectively, and the first picker module. The adsorption pad provided and the adsorption pad provided on the second picker module may be arranged to face opposite directions.

Figure R1020180011133
Figure R1020180011133

Description

기판 절단 장치{APPARATUS FOR CUTTING SUBSTRATE}Substrate cutting device {APPARATUS FOR CUTTING SUBSTRATE}

본 발명은 기판을 절단하는 기판 절단 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cutting device for cutting a substrate.

일반적으로, 평판 디스플레이에 사용되는 액정 디스플레이 패널, 유기 전계 발광 디스플레이 패널, 무기 전계 발광 디스플레이 패널, 투과형 프로젝터 기판, 반사형 프로젝터 기판 등은 유리와 같은 취성의 머더 글라스 패널(이하, '기판'이라 함)로부터 소정의 크기로 절단된 단위 글라스 패널(이하, '단위 기판'이라 함)을 사용한다.In general, liquid crystal display panels used in flat panel displays, organic electroluminescent display panels, inorganic electroluminescent display panels, transmissive projector substrates, reflective projector substrates, etc. are brittle mother glass panels (hereinafter referred to as 'substrates') ), A unit glass panel cut to a predetermined size (hereinafter referred to as a 'unit substrate') is used.

기판을 절단하는 공정은, 기판이 절단될 절단 예정선을 따라 다이아몬드와 같은 재질의 스크라이빙 휠을 가압하면서 이동시켜 스크라이빙 라인을 형성하는 스크라이빙 공정과, 스크라이빙 라인을 따라 기판을 가압하는 것에 의해 기판을 절단하여 단위 기판을 얻는 브레이킹 공정을 포함한다.The process of cutting the substrate includes: a scribing process of forming a scribing line by pressing and moving a scribing wheel made of a diamond-like material along a cutting line to be cut, and a substrate along the scribing line And breaking the substrate by pressing to obtain a unit substrate.

따라서, 기판을 절단하기 위해 스크라이빙 공정 및 브레이킹 공정을 개별적으로 수행하여야 하므로 공정의 수가 증가하는 문제가 있다.Therefore, since the scribing process and the breaking process must be performed separately to cut the substrate, there is a problem that the number of processes increases.

대한민국공개특허 제10-2007-0070824호(2007.07.04)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2007-0070824 (2007.07.04)

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제를 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 스크라이빙 공정 및 브레이킹 공정을 개별적으로 수행하지 않고 기판을 효율적으로 절단할 수 있는 기판 절단 장치를 제공하는 데에 있다.The present invention is to solve the problems of the prior art described above, the object of the present invention is to provide a substrate cutting apparatus capable of efficiently cutting a substrate without performing a scribing process and a breaking process individually. have.

본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는, 기판을 이송하는 이송 유닛; 및 이송 유닛에 의해 이송된 기판을 반전시키는 반전 유닛을 포함할 수 있고, 반전 유닛은, 서로 Z축 방향으로 이격되게 배치되는 제1 및 제2 픽커 모듈; 제1 및 제2 픽커 모듈을 Z축 방향으로 이동시키는 픽커 승강 모듈; 및 제1 및 제2 픽커 모듈을 Z축에 직교하는 축을 중심으로 회전시키는 픽커 회전 모듈을 포함할 수 있고, 제1 및 제2 픽커 모듈에는 기판을 흡착하는 복수의 흡착 패드가 각각 구비되고, 제1 픽커 모듈에 구비되는 흡착 패드와 제2 픽커 모듈에 구비되는 흡착 패드는 서로 반대 방향을 향하도록 배치될 수 있고, 제1 및 제2 픽커 모듈 중 상방에 배치된 하나의 픽커 모듈로 기판이 전달된 다음, 하나의 픽커 모듈이 기판을 지지한 상태로 회전되어 하방에 배치되면, 다른 하나의 픽커 모듈이 상방에 배치되어 후속하는 다른 기판을 전달받을 수 있다.Substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention, a transfer unit for transferring a substrate; And an inverting unit that inverts the substrate transferred by the conveying unit, the inverting unit comprising: first and second picker modules disposed to be spaced apart from each other in the Z axis direction; A picker elevating module for moving the first and second picker modules in the Z-axis direction; And a picker rotation module that rotates the first and second picker modules about an axis orthogonal to the Z axis, and the first and second picker modules are each provided with a plurality of adsorption pads that adsorb substrates. The adsorption pad provided in the 1 picker module and the adsorption pad provided in the second picker module may be arranged to face opposite directions, and the substrate is transferred to one picker module disposed above the first and second picker modules. Then, when one picker module is rotated while supporting the substrate and disposed below, the other picker module may be disposed above and receive another substrate.

본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는 반전 유닛에 의해 반전된 기판을 외부로 반송하는 반송 유닛을 더 포함할 수 있으며, 반송 유닛은 기판의 크기에 대응하는 크기를 갖는 하나의 일체형 벨트를 포함할 수 있다.The substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention may further include a conveying unit that conveys the substrate inverted by the inverting unit to the outside, and the conveying unit includes one integral belt having a size corresponding to the size of the substrate. can do.

본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는 복수의 흡착 패드에 연결되는 진공원을 더 포함할 수 있으며, 진공원은 복수의 흡착 패드에 기판이 안착된 후 제1 및 제2 픽커 모듈이 상승하는 동안, 복수의 흡착 패드에 진공을 가할 수 있다.The substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention may further include a vacuum source connected to a plurality of adsorption pads, and the first and second picker modules are raised after the substrate is seated on the plurality of adsorption pads. In the meantime, a vacuum can be applied to the plurality of adsorption pads.

반전 유닛은, 복수의 흡착 패드 각각의 압력을 측정하는 압력 센서를 더 포함할 수 있다.The inversion unit may further include a pressure sensor that measures the pressure of each of the plurality of adsorption pads.

반전 유닛은, 복수의 흡착 패드와 각각 연결되어 복수의 흡착 패드의 높이를 조절하는 패드 높이 조절기를 더 포함할 수 있다.The inverting unit may further include a pad height adjuster that is respectively connected to the plurality of adsorption pads to adjust the heights of the plurality of adsorption pads.

본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는 압력 센서에 의해 측정된 복수의 흡착 패드 내의 압력 변화를 근거로 패드 높이 조절기를 제어하여 복수의 흡착 패드 중 하나 이상의 흡착 패드의 높이를 조절하는 제어 유닛을 더 포함할 수 있다.A substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention controls a pad height adjuster based on pressure changes in a plurality of adsorption pads measured by a pressure sensor to control a height of one or more adsorption pads among a plurality of adsorption pads. It may further include.

본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는, 외부로부터 반입된 기판의 위치를 결정하는 정렬 유닛; 기판의 제1 면 및 제2 면에 X축 방향에 평행한 제1 및 제2 X축 절단 라인을 각각 형성하는 제1 절단 유닛; 기판의 제1 면에 Y축 방향에 평행한 제1 Y축 절단 라인을 형성하는 제2 절단 유닛; 기판의 제2 면에 Y축 방향에 평행한 제2 Y축 절단 라인을 형성하는 제3 절단 유닛을 더 포함할 수 있다.A substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention includes: an alignment unit that determines a position of a substrate carried from the outside; A first cutting unit forming first and second X-axis cutting lines parallel to the X-axis direction on first and second surfaces of the substrate, respectively; A second cutting unit forming a first Y-axis cutting line parallel to the Y-axis direction on the first surface of the substrate; A third cutting unit for forming a second Y-axis cutting line parallel to the Y-axis direction on the second surface of the substrate may be further included.

정렬 유닛은, Y축 방향으로 연장되며 X축 방향으로 소정의 간격으로 이격되게 배치되는 복수의 벨트; 복수의 벨트와 연결되어 복수의 벨트를 승강시키는 벨트 승강 장치; 복수의 벨트 사이에 배치되어 기판을 부양시키는 복수의 부양 장치; 및 복수의 부양 장치에 의해 부양된 기판의 측면을 가압하는 가압 장치를 포함할 수 있다.The alignment unit includes a plurality of belts extending in the Y-axis direction and spaced apart at predetermined intervals in the X-axis direction; A belt elevating device connected to a plurality of belts to elevate the plurality of belts; A plurality of floatation devices disposed between the plurality of belts to support the substrate; And a pressing device that presses the side surfaces of the substrate lifted by the plurality of lifting devices.

제1 절단 유닛은, X축 방향으로 연장되는 제1 프레임, 제1 프레임에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며, Z축 방향으로 서로 대면하도록 배치되는 적어도 한 쌍의 제1 헤드를 포함할 수 있고, 적어도 한 쌍의 제1 헤드는 Z축 방향으로 이격되게 배치되며 각각 커팅 휠을 구비하는 제1 및 제2 커팅 휠 모듈과, Z축 방향으로 이격되게 배치되며 각각 롤러를 구비하는 제1 및 제2 롤러 모듈을 포함할 수 있으며, 제1 커팅 휠 모듈의 커팅 휠은 제2 롤러 모듈의 롤러와 서로 일치하도록 배치되며, 제2 커팅 휠 모듈의 커팅 휠은 제1 롤러 모듈의 롤러와 서로 일치하도록 배치될 수 있다.The first cutting unit may include a first frame extending in the X-axis direction and a first frame movably installed in the X-axis direction and disposed to face each other in the Z-axis direction. And at least one pair of first heads are spaced apart in the Z-axis direction, and each of the first and second cutting wheel modules is provided with a cutting wheel, and the first and second rollers are spaced apart in the Z-axis direction. It may include a second roller module, the cutting wheel of the first cutting wheel module is arranged to coincide with the roller of the second roller module, the cutting wheel of the second cutting wheel module coincides with the roller of the first roller module Can be arranged.

제2 절단 유닛은, X축 방향으로 연장되며 Y축 방향으로 이동 가능하도록 구성되는 제2 프레임; 제2 프레임에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며 커팅 휠을 구비하는 제2 헤드; 기판이 지지되는 벨트; 및 벨트의 하측에서 Z축 방향으로 이동 가능하게 배치되어 커팅 휠이 기판에 가압될 때 벨트를 지지하여 기판을 지지하는 지지 플레이트를 포함할 수 있다.The second cutting unit includes: a second frame extending in the X-axis direction and configured to be movable in the Y-axis direction; A second head movably installed in the X-axis direction on the second frame and having a cutting wheel; A belt on which the substrate is supported; And a support plate disposed to be movable in the Z-axis direction from the lower side of the belt to support the belt when the cutting wheel is pressed against the substrate to support the substrate.

제3 절단 유닛은, X축 방향으로 연장되며 Y축 방향으로 이동 가능하도록 구성되는 제3 프레임; 제3 프레임에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며 커팅 휠을 구비하는 제3 헤드; 기판이 지지되는 벨트; 및 벨트의 하측에서 Z축 방향으로 이동 가능하게 배치되어 커팅 휠이 기판에 가압될 때 벨트를 지지하여 기판을 지지하는 지지 플레이트를 포함할 수 있다.The third cutting unit includes: a third frame extending in the X-axis direction and configured to be movable in the Y-axis direction; A third head movably installed in the X-axis direction on the third frame and having a cutting wheel; A belt on which the substrate is supported; And a support plate disposed to be movable in the Z-axis direction from the lower side of the belt to support the belt when the cutting wheel is pressed against the substrate to support the substrate.

상기한 바와 같이 구성되는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치에 의하면, 복수의 절단 라인, 즉, 제1 및 제2 X축 절단 라인, 제1 Y축 절단 라인, 제2 Y축 절단 라인이, 제1 절단 유닛, 제2 절단 유닛 및 제3 절단 유닛에 의해 순차적으로 형성되면서 기판이 절단될 수 있다. 따라서, 기판을 절단하기 위해 스크라이빙 공정 및 브레이킹 공정이 별도로 수행되는 종래 기술에 비하여 공정의 수를 줄여, 기판을 절단하는 데에 있어서의 효율을 향상시킬 수 있다.According to the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention configured as described above, a plurality of cutting lines, that is, the first and second X-axis cutting line, the first Y-axis cutting line, the second Y-axis cutting line , The substrate may be cut while being sequentially formed by the first cutting unit, the second cutting unit, and the third cutting unit. Therefore, compared to the prior art in which the scribing process and the breaking process are separately performed to cut the substrate, the number of processes can be reduced to improve the efficiency in cutting the substrate.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치가 개략적으로 도시된 블록도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치에 의해 절단되는 기판이 도시된 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 정렬 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 정렬 유닛이 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 정렬 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제1 이송 유닛, 제1 절단 유닛 및 제2 이송 유닛이 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제1 이송 유닛, 제1 절단 유닛 및 제2 이송 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제1 이송 유닛의 가압 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 10 내지 도 13은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제1 및 제2 플레이트가 개략적으로 도시된 도면이다.
도 14는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제어 블록도이다.
도 15 내지 도 25는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제1 이송 유닛, 제1 절단 유닛 및 제2 이송 유닛의 작동 과정이 순차적으로 도시된 도면이다.
도 26은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제2 이송 유닛 및 제2 절단 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 27 내지 도 29는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제2 이송 유닛으로부터 제2 절단 유닛으로 기판을 전달하는 과정이 개략적으로 도시된 도면이다.
도 30은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제2 절단 유닛이 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 31은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제2 절단 유닛 및 제1 반전 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 32 내지 도 37은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제1 반전 유닛의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 38은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제1 반전 유닛 및 제3 절단 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 39는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제3 절단 유닛이 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 40은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제3 이송 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 41은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제3 이송 유닛이 개략적으로 도시된 도면이다.
도 42는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제3 이송 유닛의 제어 블록도이다.
도 43은 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제3 이송 유닛 및 제2 반전 유닛이 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 44는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제2 반전 유닛이 개략적으로 도시된 도면이다.
도 45는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제2 반전 유닛의 제어 블록도이다.
도 46 내지 도 49는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치의 제2 반전 유닛의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a block diagram schematically showing a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view showing a substrate cut by a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a side view schematically showing an alignment unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view schematically illustrating an alignment unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a side view schematically showing an alignment unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a plan view schematically illustrating a first transfer unit, a first cutting unit, and a second transfer unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 and 8 are side views schematically illustrating a first transfer unit, a first cutting unit, and a second transfer unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
9 is a side view schematically showing a pressing unit of the first transfer unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
10 to 13 are views schematically illustrating first and second plates of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
14 is a control block diagram of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
15 to 25 are views sequentially showing an operation process of the first transfer unit, the first cutting unit, and the second transfer unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
26 is a side view schematically illustrating a second transfer unit and a second cutting unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
27 to 29 are views schematically illustrating a process of transferring a substrate from the second transfer unit to the second cutting unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
30 is a plan view schematically illustrating a second cutting unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
31 is a side view schematically showing a second cutting unit and a first inverting unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
32 to 37 are views for explaining the operation of the first inversion unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
38 is a side view schematically illustrating a first inverting unit and a third cutting unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
39 is a plan view schematically illustrating a third cutting unit of a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention.
40 is a side view schematically showing a third transfer unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
41 is a diagram schematically showing a third transfer unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
42 is a control block diagram of a third transfer unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
43 is a side view schematically showing a third transfer unit and a second inversion unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
44 is a view schematically showing a second inversion unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
45 is a control block diagram of a second inverting unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.
46 to 49 are views for explaining the operation of the second inversion unit of the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치에 의해 절단되는 대상은 제1 기판 및 제2 기판이 합착된 합착 기판이다. 예를 들면, 제1 기판은 박막 트랜지스터를 구비할 수 있으며, 제2 기판은 컬러 필터를 구비할 수 있으며, 그 반대일 수 있다. 이하, 합착 기판을 간단히 기판이라고 하며, 외부로 노출된 제1 기판의 표면을 제1 면이라고 하고, 외부로 노출된 제2 기판의 표면을 제2 면이라고 한다.The object to be cut by the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention is a bonding substrate to which the first substrate and the second substrate are bonded. For example, the first substrate may include a thin film transistor, the second substrate may include a color filter, and vice versa. Hereinafter, the bonded substrate is simply referred to as a substrate, the surface of the first substrate exposed to the outside is referred to as a first surface, and the surface of the second substrate exposed to the outside is referred to as a second surface.

한편, 기판 절단 공정이 수행될 기판이 이송되는 방향을 Y축 방향이라 정의하고, 기판이 이송되는 방향(Y축 방향)에 교차하는 방향을 X축 방향이라 정의한다. 그리고, 기판이 놓이는 X-Y평면에 수직인 방향을 Z축 방향이라 정의한다.Meanwhile, a direction in which the substrate to be subjected to the substrate cutting process is transferred is defined as a Y-axis direction, and a direction crossing a direction in which the substrate is transferred (Y-axis direction) is defined as an X-axis direction. And, a direction perpendicular to the X-Y plane on which the substrate is placed is defined as a Z-axis direction.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는, 외부로부터 반입된 기판의 위치를 결정하는 정렬 유닛(100)과, 기판(S)의 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에 X축 방향에 평행한 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 각각 형성하는 제1 절단 유닛(200)과, 기판(S)의 제1 면(S1)에 Y축 방향에 평행한 제1 Y축 절단 라인(YL1)을 형성하는 제2 절단 유닛(300)과, 제1 Y축 절단 라인(YL1)이 형성된 기판(S)을 반전시키는 제1 반전 유닛(400)과, 기판(S)의 제2 면(S2)에 Y축 방향에 평행한 제2 Y축 절단 라인(YL2)을 형성하는 제3 절단 유닛(500)과, 정렬 유닛(100)과 제1 절단 유닛(200) 사이에 배치되어 기판을 정렬 유닛(100)으로부터 제1 절단 유닛(200)으로 이송시키는 제1 이송 유닛(600)과, 제1 절단 유닛(200)과 제2 절단 유닛(300) 사이에 배치되어 기판을 제1 절단 유닛(200)으로부터 제2 절단 유닛(300)으로 전달하는 제2 이송 유닛(700)과, 제3 절단 유닛(500)에 의해 절단된 기판을 외부로 반출하는 제3 이송 유닛(800)과, 제3 이송 유닛(800)에 의해 이송된 기판의 양면이 향하는 방향을 조절하도록 기판(S)을 반전시키는 제2 반전 유닛(1400)과, 제2 반전 유닛(1400)에 의해 반전된 기판(S)을 외부로 반송하는 반송 유닛(1500)과, 기판 절단 장치의 구성 요소의 작동을 제어하는 제어 유닛(1000)을 포함할 수 있다.1 and 2, a substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention includes an alignment unit 100 for determining the position of a substrate carried from the outside, and a first surface S1 of the substrate S ) And a first cutting unit 200 forming first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 parallel to the X-axis direction on the second surface S2 and the first surface of the substrate S A second cutting unit 300 forming a first Y-axis cutting line YL1 parallel to the Y-axis direction in (S1) and a substrate S inverting the substrate S on which the first Y-axis cutting line YL1 is formed 1 inverting unit 400, a third cutting unit 500 forming a second Y-axis cutting line YL2 parallel to the Y-axis direction on the second surface S2 of the substrate S, and an alignment unit ( 100) and the first cutting unit 200 and the first cutting unit 600 for transferring the substrate from the alignment unit 100 to the first cutting unit 200, the first cutting unit 200 and the The second transfer unit 700 is disposed between the two cutting units 300 to transfer the substrate from the first cutting unit 200 to the second cutting unit 300, and the third cutting unit 500 cuts the A third transfer unit 800 for taking the substrate out, and a second reversing unit 1400 for reversing the substrate S so as to control the direction in which both surfaces of the substrate transferred by the third transfer unit 800 are directed. , A transfer unit 1500 for conveying the substrate S inverted by the second inversion unit 1400 to the outside, and a control unit 1000 for controlling the operation of the components of the substrate cutting device.

정렬 유닛(100), 제1 절단 유닛(200), 제2 절단 유닛(300), 제1 반전 유닛(400), 제3 절단 유닛(500), 제2 반전 유닛(1400), 반송 유닛(1500)은 지면과 평행하게 수평으로 일렬로 배치된다. 따라서, 기판(S)이 정렬 유닛(100), 제1 절단 유닛(200), 제2 절단 유닛(300), 제1 반전 유닛(400), 제3 절단 유닛(500), 제2 반전 유닛(1400), 반송 유닛(1500)을 수평으로 연속적으로 이송되면서, 기판(S)을 절단하는 공정이 수행될 수 있다.Alignment unit 100, first cutting unit 200, second cutting unit 300, first reversing unit 400, third cutting unit 500, second reversing unit 1400, conveying unit 1500 ) Are arranged horizontally and parallel to the ground. Therefore, the substrate S is the alignment unit 100, the first cutting unit 200, the second cutting unit 300, the first inversion unit 400, the third cutting unit 500, the second inversion unit ( 1400), while continuously transporting the transport unit 1500 horizontally, a process of cutting the substrate S may be performed.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는 기판(S)의 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 각각 형성하고, 기판(S)의 제1 면(S1)에 제1 Y축 절단 라인(YL1)을 형성하고, 기판(S)을 반전시키고, 기판(S)의 제2 면(S2)에 제2 Y축 절단 라인(YL2)을 형성하여, 기판(S)을 단위 기판으로 절단한다.2, the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention is the first and second X-axis cutting line (XL1) on the first surface (S1) and the second surface (S2) of the substrate (S), XL2) are respectively formed, the first Y-axis cutting line YL1 is formed on the first surface S1 of the substrate S, the substrate S is inverted, and the second surface S2 of the substrate S ), A second Y-axis cutting line YL2 is formed, and the substrate S is cut into a unit substrate.

도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 정렬 유닛(100)은 기판(S)이 이송되는 방향(Y축 방향)으로 연장되며 X축 방향으로 소정의 간격으로 이격되게 배치되는 복수의 벨트(110)와, 복수의 벨트(110)와 연결되어 복수의 벨트(110)를 승강시키는 벨트 승강 장치(120)와, 복수의 벨트(110) 사이에 배치되어 기판(S)을 부양시키는 복수의 부양 장치(130)와, 복수의 부양 장치(130)에 의해 부양된 기판(S)의 측면을 가압하는 가압 장치(140)를 포함할 수 있다.3 to 5, the alignment unit 100 extends in the direction in which the substrate S is transported (Y-axis direction) and is disposed at a predetermined interval in the X-axis direction, a plurality of belts 110 ), A belt lifting device 120 connected to the plurality of belts 110 to elevate the plurality of belts 110, and a plurality of lifting devices disposed between the plurality of belts 110 to support the substrate S It may include a pressing device 140 for pressing the side surface of the substrate (S) supported by the plurality of flotation devices 130 and 130.

복수의 벨트(110)는 각각 복수의 풀리(111)에 의해 지지될 수 있다. 복수의 풀리(111) 중 적어도 하나는 벨트(110)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.Each of the plurality of belts 110 may be supported by a plurality of pulleys 111. At least one of the plurality of pulleys 111 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 110.

벨트 승강 장치(120)는 복수의 풀리(111)와 연결되는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.The belt lifting device 120 may be composed of a pneumatic or hydraulically operated actuator connected to a plurality of pulleys 111, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism. .

복수의 부양 장치(130)는 가스 공급원(미도시)과 연결되는 복수의 가스 분사 노즐(131)을 포함할 수 있다. 복수의 가스 분사 노즐(131)은 Y축 방향으로 소정의 간격으로 이격될 수 있다.The plurality of flotation devices 130 may include a plurality of gas injection nozzles 131 connected to a gas supply source (not shown). The plurality of gas injection nozzles 131 may be spaced apart at predetermined intervals in the Y-axis direction.

가압 장치(140)는 기판(S)의 측면을 가압하는 가압 부재(141)와, 가압 부재(141)를 기판(S)을 향하는 방향 및 기판(S)으로부터 이격되는 방향으로 이동시키는 가압 부재 이동 장치(142)를 포함할 수 있다. 복수의 가압 부재(141)가 기판(S)의 서로 대향하는 적어도 두 개의 측면을 가압할 수 있도록 배치될 수 있다. 가압 부재(141)는 기판(S)의 측면을 가압할 수 있도록 기판(S)의 측면에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 다른 예로서, 가압 부재(141)는 기판(S)의 코너부를 가압할 수 있도록 기판(S)의 코너부에 대응하는 형상을 가질 수 있다.The pressing device 140 moves the pressing member 141 which presses the side surface of the substrate S, and the pressing member that moves the pressing member 141 in a direction toward the substrate S and a direction away from the substrate S Device 142 may be included. A plurality of pressing members 141 may be disposed to press at least two sides facing each other of the substrate S. The pressing member 141 may have a shape corresponding to the side surface of the substrate S so as to press the side surface of the substrate S. As another example, the pressing member 141 may have a shape corresponding to the corner portion of the substrate S so as to press the corner portion of the substrate S.

이와 같은 구성에 따르면, 도 3에 도시된 바와 같이, 외부로부터 정렬 유닛(100)으로 기판(S)이 반입되는 과정에서는, 복수의 벨트(110)가 복수의 부양 장치(130)로부터 상승된 상태를 유지한다. 그리고, 복수의 벨트(110)의 회전됨에 따라 기판(S)이 복수의 가압 부재(141) 사이의 소정의 위치로 이동될 수 있다.According to such a configuration, as shown in FIG. 3, in a process in which the substrate S is brought into the alignment unit 100 from the outside, a plurality of belts 110 are raised from the plurality of flotation devices 130 To maintain. And, as the plurality of belts 110 are rotated, the substrate S may be moved to a predetermined position between the plurality of pressing members 141.

그리고, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 복수의 벨트(110) 상의 소정의 위치로 이동되면, 복수의 벨트(110)가 하강하는 것과 동시에 가스 분사 노즐(131)로부터 기판(S)을 향하여 가스가 분사되며, 분사된 가스에 의해 기판(S)이 부양된다.And, as shown in Figures 4 and 5, when the substrate (S) is moved to a predetermined position on the plurality of belts 110, the plurality of belts 110 are lowered from the gas injection nozzle 131 at the same time Gas is injected toward the substrate S, and the substrate S is supported by the injected gas.

그리고, 기판(S)이 부양된 상태에서, 가압 부재 이동 장치(142)의 작동에 의해 가압 부재(141)가 기판(S)의 측면을 가압하며, 이에 따라, 기판(S)이 병진 운동하거나 회전 운동하면서 기판(S)의 위치 및 자세가 결정될 수 있다.Then, in the state where the substrate S is floated, the pressing member 141 presses the side surface of the substrate S by the operation of the pressing member moving device 142, and accordingly, the substrate S is translated or The position and posture of the substrate S may be determined while rotating.

그리고, 기판(S)의 위치 및 자세가 결정된 이후에는, 가스 분사 노즐(131)로부터의 가스의 분사가 중단되는 것과 동시에 복수의 벨트(110)가 상승하며, 이에 따라, 기판(S)은 그 위치가 결정된 상태로 복수의 벨트(110) 상에 지지될 수 있다.Then, after the position and posture of the substrate S are determined, the injection of the gas from the gas injection nozzle 131 is stopped, and at the same time, the plurality of belts 110 rises, and accordingly, the substrate S is The position may be supported on the plurality of belts 110 in a determined state.

그리고, 복수의 벨트(110)의 회전에 의해 기판(S)이 정렬 유닛(100)으로부터 반출되며, 이와 동시에, 제1 이송 유닛(600)이 작동하면서, 기판(S)이 제1 절단 유닛(200)으로 전달된다.And, the substrate S is taken out from the alignment unit 100 by rotation of the plurality of belts 110, and at the same time, while the first transfer unit 600 is operating, the substrate S is the first cutting unit ( 200).

도 6 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 제1 이송 유닛(600)은 기판(S)을 지지하는 복수의 벨트(610)와, 정렬 유닛(100) 및 제1 절단 유닛(200) 사이에 설치되어 기판(S)을 흡착하여 이송하는 셔틀 유닛(620)과, 복수의 벨트(610) 상에 지지된 기판(S)의 후행단을 파지하는 제1 파지 유닛(630)과, 제1 파지 유닛(630)과 연결되며 Y축 방향을 연장되는 제1 가이드 레일(640)과, 기판(S)이 복수의 벨트(610) 상으로 반입될 때 기판(S)의 후행단을 가압하여 기판(S)을 정렬시키는 가압 유닛(650)과, 제1 절단 유닛(200)에 인접하게 배치되어 기판(S)을 부양시키거나 흡착하여 지지하는 제1 플레이트(660)를 포함할 수 있다.6 to 9, the first transfer unit 600 is installed between the plurality of belts 610 supporting the substrate S and the alignment unit 100 and the first cutting unit 200. The first gripping unit 630 and the first gripping unit for gripping and transferring the trailing end of the substrate S supported on the plurality of belts 610, and the shuttle unit 620 which adsorbs and transports the substrate S The first guide rail 640 connected to the 630 and extending in the Y-axis direction, and the substrate S by pressing the trailing end of the substrate S when the substrate S is carried on the plurality of belts 610 ), And a first plate 660 disposed adjacent to the first cutting unit 200 to support or adsorb the substrate S.

복수의 벨트(610)는 X축 방향으로 서로 이격될 수 있다. 각 벨트(610)는 복수의 풀리(611)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(611) 중 적어도 하나는 벨트(610)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.The plurality of belts 610 may be spaced apart from each other in the X-axis direction. Each belt 610 is supported by a plurality of pulleys 611, and at least one of the plurality of pulleys 611 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 610.

제1 이송 유닛(600)의 복수의 벨트(610)는 정렬 유닛(100)의 복수의 벨트(110)에 인접하게 동일 평면상에 배치되어 기판(S)이 정렬 유닛(100)의 복수의 벨트(110)로부터 제1 이송 유닛(600)의 복수의 벨트(610)로 직접 전달될 수 있다.The plurality of belts 610 of the first transfer unit 600 are disposed on the same plane adjacent to the plurality of belts 110 of the alignment unit 100 such that the substrate S is a plurality of belts of the alignment unit 100. It can be transferred directly from the 110 to a plurality of belts 610 of the first transfer unit 600.

도 6에 도시된 바와 같이, 셔틀 유닛(620)은 Y축 방향으로 연장되는 레일(621)과, 레일(621)을 따라 이동 가능하게 구성되는 셔틀 부재(622)와, 셔틀 부재(622)를 Z축 방향으로 승강시키는 셔틀 부재 승강 장치(623)을 포함할 수 있다.As illustrated in FIG. 6, the shuttle unit 620 includes a rail 621 extending in the Y-axis direction, a shuttle member 622 configured to be movable along the rail 621, and a shuttle member 622. It may include a shuttle member lifting device 623 for lifting in the Z-axis direction.

셔틀 부재(622)와 레일(621) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 셔틀 부재(622)는 직선 이동 기구에 의해 레일(621)을 따라 Y축 방향으로 이동될 수 있다.Between the shuttle member 622 and the rail 621, a pneumatic or hydraulic actuator may be provided, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism. Therefore, the shuttle member 622 may be moved in the Y-axis direction along the rail 621 by a linear movement mechanism.

레일(621)은 정렬 유닛(100)까지 연장되며, 이에 따라, 셔틀 부재(622)는 정렬 유닛(100)으로부터 제1 이송 유닛(600)까지 이동될 수 있다.The rail 621 extends to the alignment unit 100, and accordingly, the shuttle member 622 may be moved from the alignment unit 100 to the first transfer unit 600.

셔틀 부재(622)는 진공원과 연결되어 기판(S)을 흡착하도록 구성된다. 따라서, 셔틀 부재(622)가 기판(S)을 흡착한 상태에서 Y축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)이 Y축 방향으로 이동될 수 있다.The shuttle member 622 is connected to a vacuum source and is configured to adsorb the substrate S. Therefore, as the shuttle member 622 is moved in the Y-axis direction while the substrate S is adsorbed, the substrate S may be moved in the Y-axis direction.

셔틀 부재(622)는 정렬 유닛(100)과 제1 이송 유닛(600) 사이에서 왕복을 이동되면서, 기판(S)을 정렬 유닛(100)로부터 제1 이송 유닛(600)으로 전달하는 역할을 수행한다.The shuttle member 622 serves to transfer the substrate S from the alignment unit 100 to the first transport unit 600 while moving reciprocally between the alignment unit 100 and the first transport unit 600. do.

셔틀 부재 승강 장치(623)는 셔틀 부재(622)와 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다. 셔틀 부재 승강 장치(623)은 기판(S)을 이송하는 경우 셔틀 부재(622)를 상승시켜 셔틀 부재(622)가 기판(S)을 흡착할 수 있도록 한다. 그리고, 셔틀 부재(622)에 의해 기판(S)이 제1 이송 유닛(600)으로 이송된 이후에, 셔틀 부재 승강 장치(623)는 셔틀 부재(622)를 하강시켜 셔틀 부재(622)가 기판(S), 푸셔(652) 및 제1 파지 유닛(630)과 간섭하는 것을 방지한다.The shuttle member lifting device 623 may be composed of a shuttle member 622 and a pneumatic or hydraulic actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism. The shuttle member lifting device 623 raises the shuttle member 622 when transferring the substrate S so that the shuttle member 622 can adsorb the substrate S. Then, after the substrate S is transferred to the first transfer unit 600 by the shuttle member 622, the shuttle member lifting device 623 lowers the shuttle member 622 so that the shuttle member 622 is transferred to the substrate. (S), the pusher 652 and the first gripping unit 630 to prevent interference.

제1 파지 유닛(630)과 제1 가이드 레일(640) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 제1 파지 유닛(630)이 기판(S)을 파지한 상태에서 제1 파지 유닛(630)이 직선 이동 기구에 의해 Y축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)이 Y축 방향으로 이송될 수 있다. 이때, 복수의 벨트(610)는 제1 파지 유닛(630)의 이동과 함께 회전하면서 기판(S)을 안정적으로 지지할 수 있다.Between the first gripping unit 630 and the first guide rail 640, a pneumatic or hydraulically actuated actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism may be provided. have. Therefore, as the first gripping unit 630 is moved in the Y-axis direction by the linear movement mechanism while the first gripping unit 630 grips the substrate S, the substrate S is transferred in the Y-axis direction. Can be. At this time, the plurality of belts 610 may stably support the substrate S while rotating with the movement of the first gripping unit 630.

제1 파지 유닛(630)은 X축 방향으로 연장되며 제1 가이드 레일(640)에 연결되는 지지바(631)와, 지지바(631)에 복수로 구비되어 기판(S)을 파지하는 파지 부재(632)를 포함할 수 있다. 파지 부재(632)는 기판(S)을 가압하여 유지하는 클램프일 수 있다. 다른 예로서, 파지 부재(632)는 진공원과 연결된 진공홀을 구비하여 기판(S)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The first gripping unit 630 extends in the X-axis direction and is provided with a plurality of support bars 631 connected to the first guide rails 640 and support bars 631 to hold the substrate S. (632). The gripping member 632 may be a clamp that presses and holds the substrate S. As another example, the gripping member 632 may be configured to adsorb the substrate S by having a vacuum hole connected to a vacuum source.

가압 유닛(650)은 Y축 방향으로 연장되는 레일(651)과, 레일(651)을 따라 이동 가능하게 구성되는 푸셔(652)와, 푸셔(652)를 Z축 방향으로 승강시키는 푸셔 승강 장치(653)를 포함할 수 있다.The pressing unit 650 includes a rail 651 extending in the Y-axis direction, a pusher 652 configured to be movable along the rail 651, and a pusher lifting device for elevating the pusher 652 in the Z-axis direction ( 653).

푸셔(652)와 레일(651) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 푸셔(652)는 직선 이동 기구에 의해 레일(651)을 따라 Y축 방향으로 이동될 수 있다.Between the pusher 652 and the rail 651, a pneumatic or hydraulically actuated actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism may be provided. Therefore, the pusher 652 can be moved in the Y-axis direction along the rail 651 by a linear movement mechanism.

푸셔 승강 장치(653)는 푸셔(652)와 연결되는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다. 푸셔 승강 장치(653)은 푸셔(652)가 기판(S)의 후행단을 가압할 수 있도록 푸셔(652)를 상승시키며, 푸셔(652)가 기판(S)의 후행단을 가압한 이후에, 푸셔 승강 장치(653)는 푸셔(652)를 하강시켜, 푸셔(652)가 기판(S), 셔틀 부재(622) 및 제1 파지 유닛(630)과 간섭하는 것을 방지한다.The pusher hoisting device 653 may be composed of a pneumatic or hydraulically operated actuator connected to the pusher 652, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism. The pusher lifting device 653 raises the pusher 652 so that the pusher 652 can press the trailing end of the substrate S, and after the pusher 652 presses the trailing end of the substrate S, The pusher lifting device 653 lowers the pusher 652 to prevent the pusher 652 from interfering with the substrate S, the shuttle member 622, and the first gripping unit 630.

기판(S)이 복수의 벨트(610) 상에 위치된 상태에서, 가압 유닛(650)은 기판(S)의 후행단을 밀어 기판(S)이 정확한 위치(P)에 위치될 수 있도록 한다.With the substrate S positioned on the plurality of belts 610, the pressing unit 650 pushes the trailing end of the substrate S so that the substrate S can be positioned at the correct position P.

다른 예로서, 셔틀 부재(622)가 기판(S)의 선행단을 흡착하여 Y축 방향으로 이송하는 과정에서, 기판(S)의 후행단이 푸셔(652)를 통과할 때, 푸셔(652)가 기판(S)의 이동 속도에 비하여 빠른 속도로 이동하여 기판(S)의 후행단에 접촉한 후, 푸셔(652)가 셔틀 부재(622)에 의한 기판(S)의 이동 속도와 동기화되어 기판(S)과 동일한 속도로 이동될 수 있다.As another example, in the process of the shuttle member 622 adsorbing the leading end of the substrate S and transferring it in the Y-axis direction, when the trailing end of the substrate S passes through the pusher 652, the pusher 652 Is moved at a higher speed than the movement speed of the substrate S, and then contacts the trailing end of the substrate S, and then the pusher 652 is synchronized with the movement speed of the substrate S by the shuttle member 622. It can be moved at the same speed as (S).

또 다른 예로서, 복수의 벨트(610)의 회전에 의해 기판(S)이 Y축 방향으로 이송되는 과정에서, 푸셔(652)는 기판(S)의 이동 속도에 비하여 빠른 속도로 이동하여 기판(S)의 후행단에 접촉한 후, 푸셔(652)가 기판(S)의 이동 속도와 동기화되어 기판(S)과 동일한 속도로 이동될 수 있다.As another example, in the process in which the substrate S is transferred in the Y-axis direction by the rotation of the plurality of belts 610, the pusher 652 moves at a higher speed than the moving speed of the substrate S to move the substrate ( After contacting the trailing end of S), the pusher 652 can be moved at the same speed as the substrate S in synchronization with the movement speed of the substrate S.

이와 같은 푸셔(652)에 의해 기판(S)이 벨트(610) 상에서 흔들리지 않고 이동하여 정 위치에 위치될 수 있다.The substrate S may be moved on the belt 610 without being shaken by the pusher 652 and positioned in a fixed position.

제1 플레이트(660)는 기판(S)을 부양시키거나 흡착할 수 있도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 제1 플레이트(660)의 표면에는 가스 공급원 및 진공원과 연결되는 복수의 슬롯이 형성될 수 있다. 가스 공급원으로부터 제1 플레이트(660)의 복수의 슬롯으로 가스가 공급되는 경우, 기판(S)이 제1 플레이트(660)로부터 부양될 수 있다. 또한, 진공원에 의해 제1 플레이트(660)의 복수의 슬롯으로 가스가 흡입되는 경우, 기판(S)이 제1 플레이트(660)에 흡착될 수 있다.The first plate 660 may be configured to support or adsorb the substrate S. For example, a plurality of slots connected to a gas source and a vacuum source may be formed on the surface of the first plate 660. When gas is supplied from a gas supply source to a plurality of slots of the first plate 660, the substrate S may be lifted from the first plate 660. In addition, when gas is sucked into a plurality of slots of the first plate 660 by a vacuum source, the substrate S may be adsorbed to the first plate 660.

기판(S)이 제1 플레이트(660)로부터 부양된 상태에서 기판(S)은 제1 플레이트(660)와 마찰 없이 이동될 수 있다. 그리고, 기판(S)의 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성되는 과정에서, 기판(S)이 제1 플레이트(660)에 흡착되어 고정될 수 있다.The substrate S may be moved without friction with the first plate 660 in a state where the substrate S is floated from the first plate 660. In addition, in the process of forming the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 on the first surface S1 and the second surface S2 of the substrate S, the substrate S is the first plate ( 660) may be adsorbed and fixed.

도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 절단 유닛(200)은 기판(S)의 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에 제1 X축 절단 라인(XL1) 및 제2 X축 절단 라인(XL2)을 각각 형성하도록 구성된다.6 to 8, the first cutting unit 200 includes first X-axis cutting lines XL1 and second on the first surface S1 and the second surface S2 of the substrate S. It is configured to form the X-axis cutting line (XL2), respectively.

제1 절단 유닛(200)은 X축 방향으로 연장되는 제1 프레임(210)과, 제1 프레임(210)에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되는 제1 헤드(220)를 포함한다. 제1 프레임(210)에는 X축 방향으로 복수의 제1 헤드(220)가 구비될 수 있다.The first cutting unit 200 includes a first frame 210 extending in the X-axis direction and a first head 220 movably installed in the X-axis direction on the first frame 210. The first frame 210 may be provided with a plurality of first heads 220 in the X-axis direction.

그리고, 적어도 한 쌍의 제1 헤드(220)가 Z축 방향으로 서로 대면하도록 제1 프레임(210)에 설치될 수 있다.Also, at least one pair of first heads 220 may be installed on the first frame 210 so as to face each other in the Z-axis direction.

적어도 한 쌍의 제1 헤드(220)는 Z축 방향으로 이격되게 배치되며 각각 커팅 휠(225)을 구비하는 제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221)과, Z축 방향으로 이격되게 배치되며 각각 롤러(229)를 구비하는 제1 및 제2 롤러 모듈(222)을 포함할 수 있다.At least one pair of first heads 220 are arranged to be spaced apart in the Z-axis direction, and each of the first and second cutting wheel modules 221 including the cutting wheels 225 to be spaced apart in the Z-axis direction, respectively It may include a first and second roller module 222 having a roller 229.

제1 커팅 휠 모듈(221)의 커팅 휠(225)은 제2 롤러 모듈(222)의 롤러(229)와 서로 일치하도록 배치되며, 제2 커팅 휠 모듈(221)의 커팅 휠(225)은 제1 롤러 모듈(222)의 롤러(229)와 서로 일치하도록 배치된다.The cutting wheel 225 of the first cutting wheel module 221 is arranged to coincide with the roller 229 of the second roller module 222, and the cutting wheel 225 of the second cutting wheel module 221 is made of The rollers 229 of the one roller module 222 are arranged to match each other.

제1 커팅 휠 모듈(221)의 커팅 휠(225) 및 제1 롤러 모듈의 롤러(229)는 제1 면(S1)에 가압될 수 있고, 제2 커팅 휠 모듈(222)의 커팅 휠(225) 및 제2 롤러 모듈의 롤러(229)는 제2 면(S2)에 가압될 수 있다.The cutting wheel 225 of the first cutting wheel module 221 and the roller 229 of the first roller module may be pressed on the first surface S1, and the cutting wheel 225 of the second cutting wheel module 222 may be pressed. ) And the roller 229 of the second roller module may be pressed onto the second surface S2.

따라서, 복수의 커팅 휠(225)과 복수의 롤러(229)가 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에 각각 가압된 상태에서, 제1 헤드(220)가 기판(S)에 대하여 상대적으로 X축 방향으로 이동되는 것에 의해, 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에는 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 각각 형성될 수 있다.Accordingly, in a state in which the plurality of cutting wheels 225 and the plurality of rollers 229 are respectively pressed against the first surface S1 and the second surface S2, the first head 220 is attached to the substrate S. By relatively moving in the X-axis direction, first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 may be formed on the first surface S1 and the second surface S2, respectively.

한편, 제1 커팅 휠 모듈(221)의 커팅 휠(225) 및 제2 커팅 휠 모듈(221)의 커팅 휠(225)은 Y축 방향으로 이격될 수 있으며, 제1 롤러 모듈(222)의 롤러(229)와 제2 롤러 모듈(222)의 롤러(229)는 Y축 방향으로 이격될 수 있다. 이에 따라, 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)은 Y축 방향으로 서로 이격될 수 있다.Meanwhile, the cutting wheel 225 of the first cutting wheel module 221 and the cutting wheel 225 of the second cutting wheel module 221 may be spaced apart in the Y-axis direction, and the rollers of the first roller module 222 may be separated. 229 and the roller 229 of the second roller module 222 may be spaced apart in the Y-axis direction. Accordingly, the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 may be spaced apart from each other in the Y-axis direction.

따라서, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 절단된 이후에는, 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 Y축 방향으로 서로 이격된 거리만큼의 폭을 갖는 Y축 단차부(YS)가 형성될 수 있으며, 이러한 Y축 단차부(YS)에는 배선 및/또는 배선과 연결되는 전극 등이 형성될 수 있다.Therefore, as shown in FIG. 2, after the substrate S is cut, the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 have Y-axis widths that are spaced apart from each other in the Y-axis direction. A stepped portion YS may be formed, and a wire and / or an electrode connected to the wire may be formed on the Y-axis stepped portion YS.

제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221) 각각은 커팅 휠(225)을 기판(S)에 대해 가압하기 위해 커팅 휠(225)을 Z축 방향으로 이동시키는 휠 이동 모듈(230)을 포함할 수 있다. 휠 이동 모듈(230)에 의해 커팅 휠(225)이 기판(S)의 표면과 접촉될 수 있고, 정해진 가압력으로 기판(S)의 표면에 가압될 수 있다. 예를 들면, 휠 이동 모듈(230)은 커팅 휠 모듈(221)을 기판(S)에 대하여 수직(Z축 방향)으로 이동시키는 것에 의해 커팅 휠(225)을 기판(S)에 대해 수직으로 이동시킬 수 있다. 휠 이동 모듈(230)은 기판(S)에 대한 커팅 휠(225)의 위치를 조절하는 역할을 한다.Each of the first and second cutting wheel modules 221 may include a wheel moving module 230 that moves the cutting wheel 225 in the Z-axis direction to press the cutting wheel 225 against the substrate S. have. The cutting wheel 225 may be brought into contact with the surface of the substrate S by the wheel movement module 230 and may be pressed against the surface of the substrate S with a predetermined pressing force. For example, the wheel movement module 230 moves the cutting wheel 225 vertically with respect to the substrate S by moving the cutting wheel module 221 perpendicular to the substrate S (Z-axis direction). I can do it. The wheel movement module 230 serves to adjust the position of the cutting wheel 225 with respect to the substrate (S).

휠 이동 모듈(230)은 커팅 휠 모듈(221)과 연결되어 유압 또는 공압에 의해 커팅 휠 모듈(221)을 Z축 방향으로 이동시키는 액추에이터일 수 있다. 다만, 본 발명은 이러한 구성에 한정되지 않으며, 휠 이동 모듈(230)는 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로서 구성될 수 있다.The wheel movement module 230 may be an actuator that is connected to the cutting wheel module 221 and moves the cutting wheel module 221 in the Z-axis direction by hydraulic or pneumatic. However, the present invention is not limited to this configuration, and the wheel movement module 230 may be configured as a linear movement mechanism such as a linear motor or a ball screw mechanism operated by electromagnetic interaction.

한편, 도 15 내지 도 25에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치는, 기판(S)의 선행단의 가장자리 및 후행단의 가장자리에 위치된 더미 부분(컬릿(cullet), 즉, 단위 기판으로서 사용되지 않고 절단된 후 버려지는 비유효 영역)을 파지하여 기판(S)으로부터 제거하기 위한 더미 제거 유닛(900)을 더 포함할 수 있다.On the other hand, as shown in Figures 15 to 25, the substrate cutting apparatus according to an embodiment of the present invention, the dummy portion (cullet), located on the edge of the leading edge and the trailing edge of the substrate (S), That is, the dummy removal unit 900 may be further included to hold the non-effective area that is not used as a unit substrate but is discarded after being cut and removed from the substrate S.

더미 제거 유닛(900)은 제1 이송 유닛(600) 및 제2 이송 유닛(700) 사이에 배치될 수 있다.The dummy removal unit 900 may be disposed between the first transfer unit 600 and the second transfer unit 700.

더미 제거 유닛(900)은 기판(S)의 비유효 영역을 파지하는 클램프(910)와, 클램프(910)를 수직 및 수평으로 이동시키며 클램프(910)를 수평축(X축) 및 수직축(Z축)을 중심으로 회전시키는 클램프 구동 장치(920)를 포함할 수 있다.The dummy removing unit 900 moves the clamp 910 vertically and horizontally through the clamp 910 gripping the ineffective area of the substrate S, and moves the clamp 910 horizontally (X-axis) and vertical axis (Z-axis). It may include a clamp driving device 920 to rotate about.

클램프(910)는 서로 인접하게 이동되거나 서로 이격되게 이동되는 한 쌍의 클램프 부재를 포함할 수 있다. 한 쌍의 클램프 부재가 기판(S)을 사이에 두고 서로 인접하게 이동되는 것에 의해 기판(S)이 클램프 부재에 의해 파지될 수 있다.The clamp 910 may include a pair of clamp members that are moved adjacent to each other or spaced apart from each other. The substrate S can be held by the clamp member by moving a pair of clamp members adjacent to each other with the substrate S interposed therebetween.

예를 들면, 클램프 구동 장치(920)는 클램프(910)와 연결된 복수의 아암을 포함하는 다축 로봇일 수 있다.For example, the clamp driving device 920 may be a multi-axis robot including a plurality of arms connected to the clamp 910.

도 6 내지 도 25에 도시된 바와 같이, 제2 이송 유닛(700)은, 제1 절단 유닛(200)에 인접하게 배치되어 기판(S)을 부양시키거나 흡착하여 지지하는 제2 플레이트(760)와, 제2 플레이트(760)에 연결되는 벨트(710)와, 제2 플레이트(760) 및 벨트(710)를 Y축 방향으로 왕복으로 이동시키는 이동 장치(730)를 포함할 수 있다.6 to 25, the second transfer unit 700 is disposed adjacent to the first cutting unit 200 to support or support the second plate 760 by supporting the substrate S And a belt 710 connected to the second plate 760 and a moving device 730 moving the second plate 760 and the belt 710 reciprocally in the Y-axis direction.

또한, 제2 이송 유닛(700)은 벨트(710)를 승강시키는 승강 장치(740)를 선택적으로 포함할 수 있다.In addition, the second transfer unit 700 may optionally include a lifting device 740 for lifting the belt 710.

제2 플레이트(760)와 벨트(710)는 함께 Y축 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 즉, 제2 플레이트(760)와 벨트(710)는 기판(S)이 이송되는 방향과 평행한 방향(Y축 방향)으로 함께 이동 가능하게 구성될 수 있다.The second plate 760 and the belt 710 may be configured to be movable in the Y-axis direction together. That is, the second plate 760 and the belt 710 may be configured to be movable together in a direction parallel to the direction in which the substrate S is transferred (Y-axis direction).

제1 절단 유닛(200)에 의해 기판(S)의 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 각각 형성될 때, 제2 플레이트(760)는 제1 플레이트(660)를 향하여 이동되며, 제1 플레이트(660)와 제2 플레이트(760) 사이에 제1 헤드(220)가 위치될 수 있다. 제1 절단 유닛(200)에 의해 기판(S)의 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 각각 형성될 때, 제2 플레이트(760)는 제1 플레이트(660)를 향하여 이동되어, 기판(S)이 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760) 모두에 지지될 수 있다.When the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 are respectively formed on the first surface S1 and the second surface S2 of the substrate S by the first cutting unit 200, the second The plate 760 is moved toward the first plate 660, and the first head 220 may be positioned between the first plate 660 and the second plate 760. When the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 are respectively formed on the first surface S1 and the second surface S2 of the substrate S by the first cutting unit 200, the second The plate 760 is moved toward the first plate 660 so that the substrate S can be supported on both the first plate 660 and the second plate 760.

벨트(710)는 복수로 구비될 수 있으며, 복수의 벨트(710)는 X축 방향으로 서로 이격될 수 있다. 각 벨트(710)는 복수의 풀리(711)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(711) 중 적어도 하나는 벨트(710)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.A plurality of belts 710 may be provided, and the plurality of belts 710 may be spaced apart from each other in the X-axis direction. Each belt 710 is supported by a plurality of pulleys 711, and at least one of the plurality of pulleys 711 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 710.

제2 플레이트(760)는 기판(S)을 부양시키거나 흡착할 수 있도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 제2 플레이트(760)의 표면에는 가스 공급원 및 진공원과 연결되는 복수의 슬롯이 형성될 수 있다. 가스 공급원으로부터 제2 플레이트(760)의 복수의 슬롯으로 가스가 공급되는 경우, 기판(S)이 제2 플레이트(760)로부터 부양될 수 있다. 또한, 진공원에 의해 제2 플레이트(760)의 복수의 슬롯으로 가스가 흡입되는 경우, 기판(S)이 제2 플레이트(760)에 흡착될 수 있다.The second plate 760 may be configured to support or adsorb the substrate S. For example, a plurality of slots connected to a gas source and a vacuum source may be formed on the surface of the second plate 760. When gas is supplied from a gas supply source to a plurality of slots of the second plate 760, the substrate S may be lifted from the second plate 760. In addition, when gas is sucked into the plurality of slots of the second plate 760 by the vacuum source, the substrate S may be adsorbed to the second plate 760.

기판(S)이 제2 플레이트(760)로 이송되는 과정에서, 제2 플레이트(760)의 슬롯으로 가스가 공급되며, 이에 따라, 기판(S)은 제2 플레이트(760)와 마찰 없이 이동될 수 있다.In the process of transferring the substrate S to the second plate 760, gas is supplied to the slot of the second plate 760, and accordingly, the substrate S is to be moved without friction with the second plate 760. Can be.

기판(S)의 제1 면(S1) 및 제 2면(S2)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성되는 과정에서, 기판(S)이 제2 플레이트(760)에 흡착되어 고정될 수 있다.In the process of forming the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 on the first surface S1 and the second surface S2 of the substrate S, the substrate S is the second plate 760 It can be adsorbed on and fixed.

기판(S)이 제2 플레이트(760)로부터 후속 공정으로 이동하는 과정에서, 제2 플레이트(760)의 슬롯으로 가스가 공급되며, 이에 따라, 기판(S)은 제2 플레이트(760)와 마찰 없이 이동될 수 있다.In the process of moving the substrate S from the second plate 760 to a subsequent process, gas is supplied to the slots of the second plate 760, whereby the substrate S rubs against the second plate 760 Can be moved without.

또한, 제2 이송 유닛(700)은 제2 플레이트(760)을 승강시키는 플레이트 승강 모듈(750)을 더 포함할 수 있다. 플레이트 승강 모듈(750)은 Y축 방향으로 연장되는 레일(720)의 하부에 설치되어 제2 플레이트(760)와 벨트(710)을 함께 승강시키도록 구성될 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 플레이트 승강 모듈(750)은 제2 플레이트(760)에 연결되어 제2 플레이트(760)를 승강시키도록 구성될 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 하나의 플레이트 승강 모듈(750)에 의해 제2 플레이트(760)가 상승하거나 하강할 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 플레이트 승강 모듈(750) 대신, 제2 플레이트(760)을 하강시키는 플레이트 하강 모듈(751) 또는 제2 플레이트(760)를 상승시키는 플레이트 상승 모듈(752)이 구비될 수 있다.In addition, the second transfer unit 700 may further include a plate elevating module 750 that elevates the second plate 760. The plate lifting module 750 may be installed at a lower portion of the rail 720 extending in the Y-axis direction to be configured to lift the second plate 760 and the belt 710 together. However, the present invention is not limited to this, and the plate lifting module 750 may be configured to be connected to the second plate 760 to elevate the second plate 760. According to an embodiment of the present invention, the second plate 760 may be raised or lowered by one plate lifting module 750. However, the present invention is not limited to this, and instead of the plate elevating module 750, the plate descending module 751 for lowering the second plate 760 or the plate elevating module 752 for raising the second plate 760 is provided. It may be provided.

플레이트 승강 모듈(750), 플레이트 하강 모듈(751) 또는 플레이트 상승 모듈(752)로는, 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 적용될 수 있다.With the plate lifting module 750, the plate lowering module 751, or the plate raising module 752, a linear movement such as an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a ball screw mechanism Mechanisms can be applied.

도 10에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 제1 플레이트(660)로부터 제2 플레이트(760)로 이송되는 과정에서, 제2 플레이트(760)가 플레이트 하강 모듈(751)에 의해 소정의 거리로 하강될 수 있다. 이에 따라, 기판(S)의 선행단이 제2 플레이트(760)의 상부로 진입할 때 제2 플레이트(760)의 선단과 충돌하는 것이 방지될 수 있다.As shown in FIG. 10, in the process of transferring the substrate S from the first plate 660 to the second plate 760, the second plate 760 is a predetermined distance by the plate lowering module 751 Can be lowered to Accordingly, when the leading end of the substrate S enters the upper portion of the second plate 760, collision with the leading end of the second plate 760 can be prevented.

또한, 도 11에 도시된 바와 같이, 제2 플레이트(760)가 제1 플레이트(660)로부터 이동하여 기판(S)이 분할되는 과정에서, 제2 플레이트(760)가 플레이트 상승 모듈(752)에 의해 소정의 거리로 상승될 수 있다. 이에 따라, 기판(S)에 형성된 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 응력이 집중될 수 있으며, 이에 따라, 기판(S)이 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 원활하게 분할될 수 있다.In addition, as shown in FIG. 11, in the process where the second plate 760 is moved from the first plate 660 and the substrate S is divided, the second plate 760 is attached to the plate raising module 752. Can be raised to a predetermined distance. Accordingly, stress may be concentrated along the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 formed on the substrate S, and accordingly, the substrate S may include the first and second X-axis cutting lines ( XL1, XL2).

또한, 제2 플레이트(760)를 승강시키는 플레이트 승강 모듈(750)이 구비되는 경우, 기판(S)이 분할되는 과정에서, 제2 플레이트(760)가 플레이트 승강 모듈(760)에 의해 소정 거리로 상승 및 하강될 수 있다. 제2 플레이트(760)의 상승 및 하강을 소정의 횟수로 반복될 수 있다. 이에 따라, 기판(S)에 형성된 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 응력이 집중되는 것과 함께 응력이 될 수 있으며, 이에 따라, 기판(S)이 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 원활하게 분할될 수 있다.In addition, when the plate elevating module 750 for elevating the second plate 760 is provided, in a process in which the substrate S is divided, the second plate 760 is moved to a predetermined distance by the plate elevating module 760. It can rise and fall. The rise and fall of the second plate 760 may be repeated a predetermined number of times. Accordingly, the stress may be concentrated along the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 formed on the substrate S, and thus, the stress may be the first and second substrate S. It can be divided smoothly along the X-axis cutting lines (XL1, XL2).

이러한 효과는 기판(S)이 단위 기판으로 분할될 때뿐만 아니라 기판(S)으로부터 더미 부분이 제거될 때에도 동일하게 발생할 수 있다.This effect can occur equally not only when the substrate S is divided into unit substrates, but also when the dummy portion is removed from the substrate S.

한편, 도 12에 도시된 바와 같이, 제1 플레이트(660)은 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A1)로 경사지게 구비될 수 있다. 마찬가지로, 제2 플레이트(760)도 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A2)로 경사지게 구비될 수 있다. 즉, 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)은 기판(S)에 대하여 소정의 각도로 경사진 표면을 가질 수 있다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 12, the first plate 660 may be provided to be inclined at a predetermined angle A1 in the transfer direction of the substrate S. Similarly, the second plate 760 may also be provided to be inclined at a predetermined angle A2 in the transfer direction of the substrate S. That is, the first plate 660 and the second plate 760 may have surfaces inclined at a predetermined angle with respect to the substrate S.

본 발명의 실시예에서는, 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)이 모두 경사지게 구비될 수 있다. 이때, 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)는 동일한 방향으로 경사지게 형성될 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760) 중 어느 하나만이 경사지게 구비될 수 있다.In an embodiment of the present invention, both the first plate 660 and the second plate 760 may be provided to be inclined. At this time, the first plate 660 and the second plate 760 may be formed to be inclined in the same direction. However, the present invention is not limited thereto, and only one of the first plate 660 and the second plate 760 may be inclined.

예를 들면, 제1 플레이트(660)은 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A1)로 하향 경사지게 구비될 수 있다. 다른 예로서, 제1 플레이트(660)은 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A1)로 상향 경사지게 구비될 수 있다.For example, the first plate 660 may be provided to be inclined downward at a predetermined angle A1 in the transfer direction of the substrate S. As another example, the first plate 660 may be provided to be inclined upward at a predetermined angle A1 in the transfer direction of the substrate S.

또한, 제2 플레이트(760)는 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A2)로 하향 경사지게 구비될 수 있다. 다른 예로서, 제2 플레이트(760)는 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A2)로 상향 경사지게 구비될 수 있다.In addition, the second plate 760 may be provided to be inclined downward at a predetermined angle A2 in the transport direction of the substrate S. As another example, the second plate 760 may be provided to be inclined upward at a predetermined angle A2 in the transfer direction of the substrate S.

본 발명의 실시예에서는, 제1 플레이트(660)은 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A1)로 하향 경사지게 구비되고, 제2 플레이트(760)는 기판(S)의 이송 방향으로 소정의 각도(A2)로 하향 경사지게 구비된다.In an embodiment of the present invention, the first plate 660 is provided to be inclined downward at a predetermined angle A1 in the transfer direction of the substrate S, and the second plate 760 is predetermined in the transfer direction of the substrate S It is provided to be inclined downward at an angle (A2).

이와 같은 구성에 따르면, 도 13에 도시된 바와 같이, 제2 플레이트(760)가 제1 플레이트(660)로부터 이동하여 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2) 기판(S)이 분할되는 과정에서, 분할된 두 개의 단위 기판의 단부(P1, P2)들 사이에 슬립(마찰)이 방지된다. 따라서, 분할된 두 개의 단위 기판의 단부(P1, P2)들 사이의 슬립(마찰) 및 슬립으로 인한 스크래치나 정전기 등에 의해 기판(S)이 파손되는 것을 방지할 수 있다.According to this configuration, as shown in Figure 13, the second plate 760 is moved from the first plate 660, the first and second X-axis cutting line (XL1, XL2) substrate (S) is divided In the process, slip (friction) is prevented between the ends P1 and P2 of the two divided unit substrates. Accordingly, it is possible to prevent the substrate S from being damaged by slip (friction) between the divided ends of the two unit substrates P1 and P2 and scratches or static electricity caused by the slip.

이러한 효과는 기판(S)이 단위 기판으로 분할될 때뿐만 아니라 기판(S)으로부터 더미 부분이 제거될 때에도 동일하게 발생할 수 있다.This effect can occur equally not only when the substrate S is divided into unit substrates, but also when the dummy portion is removed from the substrate S.

이동 장치(730)는 Y축 방향으로 연장되는 레일(720)을 따라 제2 플레이트(760) 및 벨트(710)를 Y축 방향으로 왕복으로 이동시키는 역할을 한다. 이동 장치(730)로는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 적용될 수 있다.The moving device 730 serves to reciprocally move the second plate 760 and the belt 710 along the rail 720 extending in the Y-axis direction in the Y-axis direction. As the moving device 730, a linear movement mechanism such as an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a ball screw mechanism may be applied.

도 22에 도시된 바와 같이, 기판(S)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성된 후, 기판(S)이 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)에 흡착된 상태에서, 제2 플레이트(760)가 이동 장치(730)에 의해 제1 플레이트(660)로부터 멀어지게 이동되면, 기판(S)이 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 분할될 수 있다.22, after the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 are formed on the substrate S, the substrate S is attached to the first plate 660 and the second plate 760. In the adsorbed state, when the second plate 760 is moved away from the first plate 660 by the moving device 730, the substrate S is the first and second X-axis cutting lines (XL1, XL2) It can be divided along.

도 14에 도시된 바와 같이, 이동 장치(730)는 제어 유닛(1000)과 연결되어 제어 유닛(1000)에 의해 제어될 수 있다. 이동 장치(730)에는 이동 장치(730)의 부하를 측정하기 위한 부하 측정 모듈(1100)이 연결될 수 있다.As illustrated in FIG. 14, the mobile device 730 may be connected to the control unit 1000 and controlled by the control unit 1000. A load measurement module 1100 for measuring a load of the mobile device 730 may be connected to the mobile device 730.

예를 들면, 이동 장치(730)가 회전 모터를 포함하는 직선 이동 기구인 경우 이동 장치(730)의 부하는 토크일 수 있다. 기판(S)을 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 분할하기 위해 이동 장치(730)가 제2 플레이트(760)를 이동시키는 동안 이동 장치(730)의 부하가 증가할 수 있다. 그리고, 기판(S)이 분할되는 시점에서 이동 장치(730)의 부하가 감소될 수 있다.For example, when the moving device 730 is a linear moving mechanism including a rotating motor, the load of the moving device 730 may be torque. The load of the mobile device 730 will increase while the mobile device 730 moves the second plate 760 to divide the substrate S along the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2. Can be. In addition, the load of the mobile device 730 may be reduced at the time when the substrate S is divided.

기판(S)을 분할하기 위해 제2 플레이트(760)를 이동시키는 이동 장치(730)의 부하는 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력에 따라 달라질 수 있다. 예를 들면, 커팅 휠(225)의 가압력이 감소하는 경우 커팅 휠(225)의 절삭 깊이가 감소하여 기판(S)이 분할되기 어려워지므로, 기판(S)이 분할될 때에 측정되는 이동 장치(730)의 부하가 증가하게 된다. 반대로, 커팅 휠(225)의 가압력이 증가하는 경우 커팅 휠(225)의 절삭 깊이가 증가하여 기판(S)이 분할되기 쉬워지므로, 기판(S)이 분할될 때에 측정되는 이동 장치(730)의 부하가 감소하게 된다.The load of the moving device 730 moving the second plate 760 to divide the substrate S may vary according to the pressing force applied by the cutting wheel 225 to the substrate S. For example, when the pressing force of the cutting wheel 225 decreases, since the cutting depth of the cutting wheel 225 decreases, the substrate S becomes difficult to be divided, so the moving device 730 measured when the substrate S is divided ) Will increase the load. Conversely, when the pressing force of the cutting wheel 225 increases, the cutting depth of the cutting wheel 225 increases, so that the substrate S is easily divided, so that the moving device 730 measured when the substrate S is divided The load is reduced.

따라서, 기판(S)이 분할될 때에 측정된 이동 장치(730)의 부하를 기준으로, 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력을 조절할 수 있다.Accordingly, the pressing force applied by the cutting wheel 225 to the substrate S may be adjusted based on the load of the moving device 730 measured when the substrate S is divided.

예를 들면, 커팅 휠(225)이 반복적으로 사용되어 커팅 휠(225)의 사용량이 증가하는 경우, 커팅 휠(225)이 마모될 수 있다. 커팅 휠(225)이 마모됨에 따라, 커팅 휠(225)의 직경이 감소되며, 커팅 휠(225)의 절삭 깊이가 감소된다. 이에 따라, 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력이 감소되므로, 기판(S)이 분할될 때에 측정되는 이동 장치(730)의 부하가 증가될 수 있다. 이와 같은 경우, 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력을 증가시킴으로써, 커팅 휠(225)이 마모되는 경우에도 기판(S)에 형성되는 절단 라인의 형상을 균일하고 일정하게 유지할 수 있다. 그리고, 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력을 증가시키기 위해, 휠 이동 모듈(230)은 커팅 휠(225)을 기판(S)을 향하여 더 이동시킬 수 있다.For example, when the use of the cutting wheel 225 is increased because the cutting wheel 225 is repeatedly used, the cutting wheel 225 may be worn. As the cutting wheel 225 wears, the diameter of the cutting wheel 225 decreases, and the cutting depth of the cutting wheel 225 decreases. Accordingly, since the pressing force applied by the cutting wheel 225 to the substrate S is reduced, the load of the mobile device 730 measured when the substrate S is divided can be increased. In this case, by increasing the pressing force applied to the substrate S by the cutting wheel 225, even when the cutting wheel 225 is worn, the shape of the cutting line formed on the substrate S can be uniformly and uniformly maintained. . In addition, in order to increase the pressing force applied to the substrate S by the cutting wheel 225, the wheel movement module 230 may further move the cutting wheel 225 toward the substrate S.

부하 측정 모듈(1100)은 기판(S)이 분할될 때의 이동 장치(730)의 부하를 측정한다. 제어 유닛(1000)은 부하 측정 모듈(1100)에 의해 측정된 이동 장치(730)의 부하를 기준으로 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력을 조절할 수 있다. 이를 위해, 기판(S)에 가하는 가압력을 변화시키면서 기판(S)이 분할될 때의 이동 장치(730)의 부하를 측정하는 실험이나 시뮬레이션이 선행될 수 있다. 이러한 실험 또는 시뮬레이션에 의해 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력의 변화에 따른 이동 장치(730)의 부하 변화에 관한 데이터가 획득될 수 있다.The load measurement module 1100 measures the load of the mobile device 730 when the substrate S is divided. The control unit 1000 may adjust the pressing force applied by the cutting wheel 225 to the substrate S based on the load of the mobile device 730 measured by the load measuring module 1100. To this end, experiments or simulations of measuring the load of the mobile device 730 when the substrate S is divided while changing the pressing force applied to the substrate S may be preceded. By this experiment or simulation, data regarding a load change of the mobile device 730 according to a change in the pressing force applied by the cutting wheel 225 to the substrate S may be obtained.

또한, 기판(S)이 적절하게 분할되는 경우의 이동 장치(730)의 부하가 기준 부하로서 미리 설정될 수 있다. 이러한 기준 부하는 기판(S)의 두께, 재질 등의 기판(S)의 특성에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 기판(S)의 특성에 따른 복수의 기준 부하가 실험 또는 시뮬레이션에 의해 미리 설정될 수 있다.Further, the load of the mobile device 730 when the substrate S is appropriately divided can be preset as a reference load. The reference load may vary depending on the characteristics of the substrate S, such as the thickness and material of the substrate S. Therefore, a plurality of reference loads according to the characteristics of the substrate S may be set in advance by experiment or simulation.

제어 유닛(1000)은, 기판(S)이 분할될 때에 측정된 이동 장치(730)의 부하와 기준 부하를 비교하여, 기판(S)에 적절한 가압력이 가해지는지 여부를 판단할 수 있다.The control unit 1000 may compare the load of the mobile device 730 measured when the substrate S is divided with a reference load, and determine whether an appropriate pressing force is applied to the substrate S.

기판(S)이 분할될 때에 측정된 부하가 기준 부하의 범위 내에 있는 경우, 제어 유닛(1000)은 기판(S)을 적절하게 분할하기 위한 가압력이 기판(S)에 가해지는 것으로 판단할 수 있다. 또한, 측정된 부하가 기준 부하의 범위를 벗어난 경우, 제어 유닛(1000)은 기판(S)에 지나치게 크거나 작은 가압력이 가해지는 것으로 판단할 수 있다.When the load measured when the substrate S is divided is within the range of the reference load, the control unit 1000 may determine that a pressing force for properly dividing the substrate S is applied to the substrate S. . In addition, when the measured load is outside the range of the reference load, the control unit 1000 may determine that an excessively large or small pressing force is applied to the substrate S.

기판(S)이 분할될 때에 측정된 이동 장치(730)의 부하가 기준 부하 미만인 경우에는, 제어 유닛(1000)은 적절한 가압력을 초과하는 가압력이 기판(S)에 가해지는 것으로 판단하고, 휠 이동 모듈(230)을 제어하여 커팅 휠(225)이 기판(S)으로부터 멀어지는 방향으로 이동되도록 한다. 이에 따라, 커팅 휠(225)에 의해 기판(S)에 가해지는 가압력이 감소하여, 기판(S)의 분할하기 위해 요구되는 이동 장치(730)의 부하가 증가될 수 있다.When the load of the mobile device 730 measured when the substrate S is divided is less than the reference load, the control unit 1000 determines that a pressing force exceeding the appropriate pressing force is applied to the substrate S, and the wheel moves. By controlling the module 230, the cutting wheel 225 is moved in a direction away from the substrate S. Accordingly, the pressing force applied to the substrate S by the cutting wheel 225 is reduced, so that the load of the mobile device 730 required to divide the substrate S can be increased.

또한, 기판(S)이 분할될 때에 측정된 이동 장치(730)의 부하가 기준 부하를 초과하는 경우에는, 제어 유닛(1000)은 적절한 가압력 미만인 가압력이 기판(S)에 가해지는 것으로 판단하고, 휠 이동 모듈(230)을 제어하여 커팅 휠(225)이 기판(S)을 향하여 더 이동되도록 한다. 이에 따라, 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력이 증가하여, 기판(S)의 분할하기 위해 요구되는 이동 장치(730)의 부하가 감소될 수 있다.Further, when the load of the mobile device 730 measured when the substrate S is divided exceeds the reference load, the control unit 1000 determines that a pressing force less than an appropriate pressing force is applied to the substrate S, The wheel movement module 230 is controlled to further move the cutting wheel 225 toward the substrate S. Accordingly, the pressing force applied by the cutting wheel 225 to the substrate S increases, so that the load of the mobile device 730 required to divide the substrate S can be reduced.

이와 같이, 기판(S)이 분할될 때의 이동 장치(730)의 부하가 기준 부하의 범위를 벗어나는 경우, 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가하는 가압력을 조절하여, 이동 장치(730)의 부하를 기준 부하의 범위 내에 유지시킬 수 있다. 따라서, 이동 장치(730)가 최적의 기준 부하의 범위 내에서 작동하면서 기판(S)을 분할할 수 있다. 또한, 이동 장치(730)의 부하가 과도하게 증가하거나 감소하는 것을 방지할 수 있다.As described above, when the load of the moving device 730 when the substrate S is divided is outside the range of the reference load, the pressing force applied by the cutting wheel 225 to the substrate S is adjusted to move the moving device 730. Can keep the load of within the range of the reference load. Therefore, the substrate S can be divided while the mobile device 730 operates within an optimal reference load range. In addition, it is possible to prevent the load of the mobile device 730 from excessively increasing or decreasing.

또한, 커팅 휠(225)의 마모 등에 의해 기판(S)에 가해지는 가압력이 달라지는 경우에도, 이동 장치(730)의 부하를 기준으로 휠 이동 모듈(230)을 제어하여, 커팅 휠(225)의 가압력을 자동으로 조절할 수 있다. 따라서, 커팅 휠(225)이 마모되는 경우에도 커팅 휠(225)이 기판(S)에 가압되는 정도가 일정하게 유지될 수 있으며, 이에 따라, 기판(S)에 균일하고 일정한 절단 라인이 형성될 수 있다.In addition, even when the pressing force applied to the substrate S is changed due to wear of the cutting wheel 225 or the like, the wheel moving module 230 is controlled based on the load of the moving device 730, so that the cutting wheel 225 The pressing force can be adjusted automatically. Therefore, even when the cutting wheel 225 is worn, the degree to which the cutting wheel 225 is pressed against the substrate S may be kept constant, and accordingly, a uniform and constant cutting line may be formed on the substrate S. Can be.

한편, 커팅 휠(225)의 불량 등으로 인해 기판(S)에 가해지는 가압력이 매우 낮은 경우, 이동 장치(730)의 부하가 지나치게 크게 증가할 수 있다. 이 경우, 제어 유닛(1000)은 이러한 상황을 기판 절단 장치의 고장으로 인식하고, 기판 절단 장치의 동작을 중단할 수 있다.On the other hand, when the pressing force applied to the substrate S due to the defect of the cutting wheel 225 is very low, the load of the mobile device 730 may increase excessively. In this case, the control unit 1000 may recognize this situation as a failure of the substrate cutting device and stop the operation of the substrate cutting device.

이하, 도 15 내지 도 25를 참조하여, 제1 이송 유닛(600), 제1 절단 유닛(200) 및 제2 이송 유닛(700)의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, operations of the first transfer unit 600, the first cutting unit 200, and the second transfer unit 700 will be described with reference to FIGS. 15 to 25.

도 15에 도시된 바와 같이, 기판(S)의 선행단에 더미 부분이 제거되지 않은 상태로 기판(S)이 제1 절단 유닛(200)으로 이송된다. 이때, 기판(S)은 제1 플레이트(660)로부터 분사되는 가스에 의해 제1 플레이트(660)로부터 부양될 수 있다.As shown in FIG. 15, the substrate S is transferred to the first cutting unit 200 in a state where the dummy portion is not removed at the leading end of the substrate S. At this time, the substrate S may be floated from the first plate 660 by gas injected from the first plate 660.

그리고, 기판(S)이 제1 플레이트(660) 상에 위치되면 기판(S)이 제1 플레이트(660)에 흡착된다. 이때, 제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221, 222)의 커팅 휠(225)이 기판(S)에 각각 접촉된 후, X축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)의 더미 부분에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성된다.Then, when the substrate S is positioned on the first plate 660, the substrate S is adsorbed to the first plate 660. At this time, after the cutting wheels 225 of the first and second cutting wheel modules 221 and 222 contact the substrate S, respectively, as they are moved in the X-axis direction, the first of the dummy portions of the substrate S And second X-axis cutting lines XL1 and XL2.

그리고, 도 16 및 도 17에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성된 기판(S)의 더미 부분으로 더미 제거 유닛(900)의 클램프(910)가 이동된다. 그리고, 클램프(910)가 기판(S)의 더미 부분을 파지한 후, 회전하거나 수평으로 이동하면서, 더미 부분을 기판(S)으로부터 제거한다. 더미 부분을 제거한 클램프(910)는 제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221, 222)의 커팅 휠(225)의 이동을 방해하지 않는 원래의 위치로 복귀한다.Then, as shown in FIGS. 16 and 17, the clamp 910 of the dummy removal unit 900 moves to the dummy portion of the substrate S on which the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 are formed. do. Then, after the clamp 910 grips the dummy portion of the substrate S, while rotating or moving horizontally, the dummy portion is removed from the substrate S. The clamp 910 from which the dummy portion is removed returns to the original position that does not interfere with the movement of the cutting wheels 225 of the first and second cutting wheel modules 221 and 222.

그리고, 도 18에 도시된 바와 같이, 제1 플레이트(660)가 고정된 상태에서 제2 플레이트(760)가 제1 플레이트(660)를 향하여 Y축 방향으로 이동한다. 이에 따라, 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760) 사이의 간격이 줄어들게 되어, 기판(S)이 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760) 모두에 지지될 수 있다.And, as shown in FIG. 18, the second plate 760 moves in the Y-axis direction toward the first plate 660 while the first plate 660 is fixed. Accordingly, the distance between the first plate 660 and the second plate 760 is reduced, so that the substrate S can be supported on both the first plate 660 and the second plate 760.

그리고, 도 19에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 제2 이송 유닛(700)을 향하여 이송된다. 이때, 기판(S)은 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)로 공급되는 가스에 의해 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)로부터 부양될 수 있다.Then, as shown in FIG. 19, the substrate S is transferred toward the second transfer unit 700. At this time, the substrate S may be supported from the first plate 660 and the second plate 760 by the gas supplied to the first plate 660 and the second plate 760.

그리고, 도 20에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760) 상에 위치되면 기판(S)이 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)에 흡착된다. 이때, 제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221, 222)의 커팅 휠(225)이 기판(S)에 각각 접촉된 후, X축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성된다.And, as shown in Figure 20, when the substrate S is located on the first plate 660 and the second plate 760, the substrate S is the first plate 660 and the second plate 760 Is adsorbed on. At this time, after the cutting wheels 225 of the first and second cutting wheel modules 221 and 222 contact the substrate S, respectively, as they are moved in the X-axis direction, the first and second substrates S and 2 are moved. X-axis cutting lines XL1 and XL2 are formed.

그리고, 도 21 및 도 22에 도시된 바와 같이, 기판(S)에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성된 후, 제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221, 222)의 커팅 휠(225)이 기판(S)으로 이격되게 이동된다. 그리고, 기판(S)이 제1 플레이트(660) 및 제2 플레이트(760)에 흡착된 상태에서, 제2 플레이트(760)가 제1 플레이트(660)로부터 멀어지게 이동되면, 기판(S)이 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 분할된다.Then, as shown in FIGS. 21 and 22, after the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 are formed on the substrate S, the first and second cutting wheel modules 221 and 222 The cutting wheel 225 is moved away from the substrate (S). Then, in a state where the substrate S is adsorbed to the first plate 660 and the second plate 760, when the second plate 760 is moved away from the first plate 660, the substrate S It is divided along the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2.

한편, 도 23에 도시된 바와 같이, 기판(S)의 중간 부분을 분할한 이후, 기판(S)의 후행단에 더미 부분이 제거되지 않은 상태로 기판(S)이 제1 절단 유닛(200)으로 이송된다. 이때, 제2 플레이트(760)로부터 분사되는 가스에 의해 제2 플레이트(760)로부터 부양될 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 23, after dividing the middle portion of the substrate S, the substrate S is the first cutting unit 200 in a state where the dummy portion is not removed at the trailing end of the substrate S Is transferred to. At this time, it may be supported from the second plate 760 by the gas injected from the second plate 760.

그리고, 기판(S)이 제2 플레이트(760) 상에 위치되면 기판(S)이 제2 플레이트(760)에 흡착된다. 이때, 제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221, 222)의 커팅 휠(225)이 기판(S)에 각각 접촉된 후, X축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)의 더미 부분에 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성된다.Then, when the substrate S is positioned on the second plate 760, the substrate S is adsorbed to the second plate 760. At this time, after the cutting wheels 225 of the first and second cutting wheel modules 221 and 222 contact the substrate S, respectively, as they are moved in the X-axis direction, the first of the dummy portions of the substrate S And second X-axis cutting lines XL1 and XL2.

그리고, 도 24 및 도 25에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)이 형성된 기판(S)의 더미 부분으로 더미 제거 유닛(900)의 클램프(910)가 이동된다. 그리고, 클램프(910)가 기판(S)의 더미 부분을 파지한 후, 회전하거나 수평으로 이동하면서, 더미 부분을 기판(S)으로부터 제거한다. 더미 부분을 제거한 클램프(910)는 제1 및 제2 커팅 휠 모듈(221, 222)의 커팅 휠(225)의 이동을 방해하지 않는 원래의 위치로 복귀한다.Then, as shown in FIGS. 24 and 25, the clamp 910 of the dummy removal unit 900 moves to the dummy portion of the substrate S on which the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 are formed. do. Then, after the clamp 910 grips the dummy portion of the substrate S, while rotating or moving horizontally, the dummy portion is removed from the substrate S. The clamp 910 from which the dummy portion is removed returns to the original position that does not interfere with the movement of the cutting wheels 225 of the first and second cutting wheel modules 221 and 222.

한편, 도 26에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2)을 따라 분할된 기판(S)은 복수의 벨트(710)의 회전에 의해 제2 절단 유닛(300)으로 전달될 수 있다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 26, the substrate S divided along the first and second X-axis cutting lines XL1 and XL2 is the second cutting unit 300 by rotation of the plurality of belts 710. Can be delivered to

이때, 도 27에 도시된 바와 같이, 제2 이송 유닛(700) 및 제2 절단 유닛(300)이 동일 높이로 배치되어, 기판(S)이 제2 절단 유닛(300)으로 곧바로 전달될 수 있다. 이 경우, 제2 플레이트(760)로부터 공급된 가스에 의해 기판(S)은 제2 플레이트(760)로부터 부양된다.At this time, as shown in FIG. 27, the second transfer unit 700 and the second cutting unit 300 are disposed at the same height, so that the substrate S can be directly transferred to the second cutting unit 300. . In this case, the substrate S is supported from the second plate 760 by the gas supplied from the second plate 760.

다른 예로서, 승하강하며 수평으로 이동 가능한 픽커 유닛(미도시)이 제2 이송 유닛(700)과 제2 절단 유닛(300) 사이에 배치되어 기판(S)을 제2 이송 유닛(700)으로부터 제2 절단 유닛(300)으로 전달하는 데에 사용될 수 있다. 도 29 및 도 30에 도시된 바와 같이, 제2 이송 유닛(700)은 소정 높이(H)만큼 제2 절단 유닛(300)으로부터 낮은 위치에 배치될 수 있다. 이 경우, 승강 장치(740)에 의해 벨트(710)가 소정 높이(H)만큼 상승하여, 벨트(710)가 제2 절단 유닛(300)과 동일 높이로 위치될 수 있다. 이 때, 벨트(710)가 승강 장치(740)에 의해 상승될 때, 기판(S)이 제2 플레이트(760)로부터 이격되게 이동된다. 이와 같이, 승강 장치(740)에 의해 벨트(710)가 제2 플레이트(760)에 대하여 상대적으로 상승되어, 기판(S)이 제2 플레이트(760)로부터 이격될 수 있다. 따라서, 기판(S)과 제2 플레이트(760) 사이의 마찰을 방지하기 위해 기판(S)을 제2 플레이트(760)로부터 부양시킬 필요가 없다.As another example, a picker unit (not shown) that is vertically movable while moving up and down is disposed between the second transfer unit 700 and the second cutting unit 300 to transfer the substrate S from the second transfer unit 700. It can be used to deliver to the second cutting unit 300. As shown in FIGS. 29 and 30, the second transfer unit 700 may be disposed at a lower position from the second cutting unit 300 by a predetermined height (H). In this case, the belt 710 is raised by a predetermined height H by the lifting device 740, so that the belt 710 may be positioned at the same height as the second cutting unit 300. At this time, when the belt 710 is raised by the lifting device 740, the substrate S is moved away from the second plate 760. As such, the belt 710 is raised relative to the second plate 760 by the lifting device 740, so that the substrate S may be spaced apart from the second plate 760. Therefore, it is not necessary to float the substrate S from the second plate 760 to prevent friction between the substrate S and the second plate 760.

도 30 및 도 31에 도시된 바와 같이, 제2 절단 유닛(300)은 기판(S)의 제1 면(S1)에 제1 Y축 절단 라인(YL1)을 형성하도록 구성된다.30 and 31, the second cutting unit 300 is configured to form a first Y-axis cutting line YL1 on the first surface S1 of the substrate S.

제2 절단 유닛(300)은 X축 방향으로 연장되며 Y축 방향으로 이동 가능하도록 구성되는 제2 프레임(310)과, 제2 프레임(310)에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며 커팅 휠(321)을 구비하는 제2 헤드(320)와, 제2 프레임(310)의 이동을 안내하는 제2 가이드 레일(330)과, 기판(S)이 지지되는 벨트(340)와, 벨트(340)의 하측에서 Z축 방향으로 이동 가능하게 배치되어 커팅 휠(321)이 기판(S)에 가압될 때 벨트(340)를 지지하여 이에 따라 기판(S)을 지지하는 지지 플레이트(350)와, 지지 플레이트(350)를 Z축 방향으로 승강시키는 지지 플레이트 승강 장치(360)를 포함할 수 있다.The second cutting unit 300 extends in the X-axis direction and is installed to be movable in the X-axis direction on the second frame 310 and the second frame 310 configured to be movable in the Y-axis direction, and the cutting wheel ( A second head 320 having a 321, a second guide rail 330 for guiding the movement of the second frame 310, a belt 340 on which the substrate S is supported, and a belt 340 The support plate 350 which is arranged to be movable in the Z-axis direction from the lower side of the cutting wheel 321 to support the belt 340 when it is pressed against the substrate S, thereby supporting the substrate S, and the support It may include a support plate lifting device 360 for lifting the plate 350 in the Z-axis direction.

제2 프레임(310)에는 X축 방향으로 복수의 제2 헤드(320)가 구비될 수 있다.The second frame 310 may be provided with a plurality of second heads 320 in the X-axis direction.

제2 프레임(310)과 제2 가이드 레일(330) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 커팅 휠(321)이 기판(S)에 가압된 상태에서 제2 프레임(310)이 제2 가이드 레일(330)을 따라 Y축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)의 제1 면(S1)에는 제1 Y축 절단 라인(YL1)이 형성될 수 있다.Between the second frame 310 and the second guide rail 330, a pneumatic or hydraulic actuator may be provided, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism. . Accordingly, as the second frame 310 is moved in the Y-axis direction along the second guide rail 330 while the cutting wheel 321 is pressed against the substrate S, the first surface of the substrate S ( A first Y-axis cutting line YL1 may be formed in S1).

벨트(340)는 복수의 풀리(341)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(341) 중 적어도 하나는 벨트(340)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다. 벨트(340)는 기판(S)의 전체면을 균일하게 지지하고 이송할 수 있도록 복수의 부분으로 분할되지 않은 일체형 벨트인 것이 바람직하다.The belt 340 is supported by a plurality of pulleys 341, and at least one of the plurality of pulleys 341 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 340. The belt 340 is preferably an integral belt that is not divided into a plurality of parts so that the entire surface of the substrate S can be uniformly supported and transported.

벨트(340)가 회전되어 기판(S)이 이동되는 경우, 지지 플레이트(350)가 지지 플레이트 승강 장치(360)에 의해 하강되어 벨트(340)로부터 이격되어 벨트(340)가 지지 플레이트(350)와의 마찰 없이 원활하게 이동될 수 있도록 한다. 그리고, 기판(S)에 제1 Y축 절단 라인(YL1)을 형성할 때에는, 지지 플레이트(350)가 지지 플레이트 승강 장치(360)에 의해 상승되어 벨트(340)의 하면을 지지하며, 이에 따라, 기판(S)을 지지한다. 예를 들면, 지지 플레이트(350)는 진공원과 연결된 진공홀을 구비하여 기판(S)을 흡착하도록 구성될 수 있다.When the belt 340 is rotated to move the substrate S, the support plate 350 is lowered by the support plate lifting device 360 to be separated from the belt 340 so that the belt 340 is the support plate 350 It should be able to move smoothly without friction with. And, when forming the first Y-axis cutting line (YL1) on the substrate (S), the support plate 350 is raised by the support plate lifting device 360 to support the lower surface of the belt 340, accordingly , Support the substrate (S). For example, the support plate 350 may be configured to have a vacuum hole connected to a vacuum source to adsorb the substrate S.

기판(S)의 제1 면(S1)에 제1 Y축 절단 라인(YL1)이 형성되는 과정에서는, 커팅 휠(321)을 갖는 제2 헤드(320)가 설치되는 제2 프레임(310)이 이동되고, 기판(S)이 지지 플레이트(350)에 의해 지지되므로, 커팅 휠(321)이 보다 큰 압력으로 기판(S)에 가압될 수 있으므로, 기판(S)을 용이하게 분리시킬 수 있다.In the process of forming the first Y-axis cutting line YL1 on the first surface S1 of the substrate S, the second frame 310 in which the second head 320 having the cutting wheel 321 is installed is Since the substrate S is moved and supported by the support plate 350, the cutting wheel 321 can be pressed against the substrate S with a greater pressure, so that the substrate S can be easily separated.

또한, 기판(S)이 지지 플레이트(350)에 지지되므로, 커팅 휠(321)을 지지하기 위한 롤러를 필요로 하지 않는다. 따라서, 롤러를 제거한 공간만큼 제2 헤드(320)의 폭을 줄일 수 있고, 이에 따라, 복수의 제2 헤드(320)가 최대로 인접하였을 때의 복수의 제2 헤드(320)의 커팅 휠(321) 사이의 간격을 줄일 수 있다. 따라서, 커팅 휠(321)에 의해 형성될 수 있는 제1 Y축 절단 라인(YL1) 사이의 간격을 줄일 수 있다.In addition, since the substrate S is supported by the support plate 350, a roller for supporting the cutting wheel 321 is not required. Therefore, the width of the second head 320 can be reduced by the space from which the roller is removed, and accordingly, the cutting wheels of the plurality of second heads 320 when the plurality of second heads 320 are adjacent to each other ( 321) can reduce the distance between. Accordingly, a gap between the first Y-axis cutting lines YL1 that may be formed by the cutting wheel 321 can be reduced.

도 31에 도시된 바와 같이, 제1 Y축 절단 라인(YL1)이 형성된 기판(S)은 벨트(340)의 회전에 의해 제2 절단 유닛(300)으로부터 제1 반전 유닛(400)으로 전달될 수 있다. 다른 예로서, 승하강하며 수평으로 이동 가능한 픽커 유닛(미도시)이 제2 절단 유닛(300) 및 제1 반전 유닛(400) 사이에 배치되어 기판(S)을 제2 절단 유닛(300)으로부터 제1 반전 유닛(400)으로 전달하는 데에 사용될 수 있다.As shown in FIG. 31, the substrate S on which the first Y-axis cutting line YL1 is formed is transferred from the second cutting unit 300 to the first inversion unit 400 by rotation of the belt 340. Can be. As another example, a picker unit (not shown) that is vertically movable while moving up and down is disposed between the second cutting unit 300 and the first inverting unit 400 to move the substrate S from the second cutting unit 300. It can be used to transfer to the first inversion unit 400.

도 31 내지 도 38에 도시된 바와 같이, 제1 반전 유닛(400)은 X축 방향으로 서로 이격되게 배치되는 복수의 벨트(410)와, Z축 방향으로 연장되는 지지대(420)와, 제1 흡착 노즐(431)을 구비하는 제1 흡착 플레이트(430)와, 제2 흡착 노즐(441)을 구비하는 제2 흡착 플레이트(440)와, 제1 흡착 플레이트(430) 및 제2 흡착 플레이트(440)를 지지대(420)를 따라 Z축 방향으로 이동시키는 흡착 플레이트 승강 장치(450)와, 제1 흡착 플레이트(430) 및 제2 흡착 플레이트(440)를 회전시키는 흡착 플레이트 회전 장치(460)를 포함할 수 있다.31 to 38, the first reversing unit 400 includes a plurality of belts 410 disposed apart from each other in the X-axis direction, a support 420 extending in the Z-axis direction, and a first A first adsorption plate 430 having an adsorption nozzle 431, a second adsorption plate 440 having a second adsorption nozzle 441, a first adsorption plate 430 and a second adsorption plate 440 ) Includes an adsorption plate lifting device 450 that moves the Z-axis direction along the support 420, and an adsorption plate rotating device 460 that rotates the first adsorption plate 430 and the second adsorption plate 440. can do.

벨트(410)는 복수의 풀리(411)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(411) 중 적어도 하나는 벨트(410)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.The belt 410 is supported by a plurality of pulleys 411, and at least one of the plurality of pulleys 411 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 410.

흡착 플레이트 승강 장치(450)는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.The adsorption plate lifting device 450 may be composed of a pneumatic or hydraulically actuated actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism.

흡착 플레이트 회전 장치(460)는 전기 모터로 구성될 수 있다.The suction plate rotating device 460 may be configured as an electric motor.

제1 흡착 플레이트(430) 및 제2 흡착 플레이트(440)는 그 사이에 기판(S)이 위치되도록 Z축 방향으로 서로 이격되게 배치된다. 제1 흡착 플레이트(430)의 제1 흡착 노즐(431)과 제2 흡착 플레이트(440)의 제2 흡착 노즐(441)은 서로 마주보도록 배치될 수 있다.The first adsorption plate 430 and the second adsorption plate 440 are spaced apart from each other in the Z-axis direction so that the substrate S is positioned therebetween. The first adsorption nozzle 431 of the first adsorption plate 430 and the second adsorption nozzle 441 of the second adsorption plate 440 may be disposed to face each other.

이하, 기판(S)을 반전시키는 동작에 대하여 설명한다. 설명의 편의를 위해, 제1 흡착 플레이트(430)가 제2 흡착 플레이트(440) 상부에 위치된 상태를 기준으로 설명한다.Hereinafter, the operation of inverting the substrate S will be described. For convenience of description, description will be made based on a state in which the first adsorption plate 430 is positioned above the second adsorption plate 440.

먼저, 도 32에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 벨트(410)에 위치되지 않을 때, 제1 흡착 플레이트(430) 및 제2 흡착 플레이트(440)가 벨트(410) 사이의 공간에 위치된다. 그리고, 도 33에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 벨트(410) 상으로 반입되면, 기판(S)이 제1 흡착 플레이트(430) 및 제2 흡착 플레이트(440) 사이에 위치된다.First, as shown in FIG. 32, when the substrate S is not positioned on the belt 410, the first adsorption plate 430 and the second adsorption plate 440 are located in the space between the belts 410. do. And, as shown in FIG. 33, when the substrate S is carried on the belt 410, the substrate S is positioned between the first adsorption plate 430 and the second adsorption plate 440.

그리고, 도 34에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 흡착 플레이트(430, 440)가 상승함에 따라 기판(S)이 제2 흡착 플레이트(440)의 제2 흡착 노즐(441)과 접촉된다. 그리고, 제1 및 제2 흡착 플레이트(430, 440)가 계속 상승함에 따라, 기판(S)이 제2 흡착 플레이트(440)의 제2 흡착 노즐(441)에 접촉된 상태로 상승한다. 이때, 기판(S)은 중력에 의해 제2 흡착 노즐(441)에 지지되므로, 제2 흡착 노즐(441)에 흡착력을 가하지 않는 경우에도 기판(S)의 자세가 유지될 수 있다.Then, as illustrated in FIG. 34, as the first and second adsorption plates 430 and 440 rise, the substrate S contacts the second adsorption nozzle 441 of the second adsorption plate 440. Then, as the first and second adsorption plates 430 and 440 continue to rise, the substrate S rises in contact with the second adsorption nozzle 441 of the second adsorption plate 440. At this time, since the substrate S is supported by the second adsorption nozzle 441 by gravity, the posture of the substrate S can be maintained even when no adsorption force is applied to the second adsorption nozzle 441.

한편, 제1 흡착 노즐(431) 또는 제2 흡착 노즐(441)에 흡착력이 작용되는 경우, 그 흡착력의 세기가 기판(S)을 적절하게 흡착할 수 있는 세기로 증가하기 위해서는 소정의 시간이 요구된다. 본 발명의 경우에는, 제1 흡착 노즐(431) 또는 제2 흡착 노즐(441)에 흡착력이 소정의 세기로 증가되는 시간 동안에도 중력에 의해 기판(S)을 제1 흡착 노즐(431) 또는 제2 흡착 노즐(441)에 지지하여 기판(S)을 상승시킬 수 있다. 따라서, 흡착력의 세기가 기판(S)을 적절하게 흡착할 수 있는 세기로 증가하는 시간 동안 기판(S)을 상승시키지 못하고 대기하는 문제를 방지할 수 있다. 결과적으로, 기판(S)을 상승시키는 데에 요구되는 시간을 줄일 수 있다.On the other hand, when an adsorption force is applied to the first adsorption nozzle 431 or the second adsorption nozzle 441, a predetermined time is required to increase the strength of the adsorption force to a strength capable of properly adsorbing the substrate S. do. In the case of the present invention, the substrate S is first adsorbed by the first adsorption nozzle 431 or by gravity even during a time when the adsorption force is increased to a predetermined intensity by the first adsorption nozzle 431 or the second adsorption nozzle 441. 2 The substrate S may be raised by being supported by the adsorption nozzle 441. Accordingly, it is possible to prevent the problem of waiting without raising the substrate S for a time during which the strength of the adsorption force increases to a strength capable of properly adsorbing the substrate S. As a result, the time required to raise the substrate S can be reduced.

기판(S)이 상승하는 동안 제2 흡착 플레이트(440)의 제2 흡착 노즐(441)이 기판(S)을 흡착하면, 도 35에 도시된 바와 같이, 제1 흡착 플레이트(430) 및 제2 흡착 플레이트(440)가 흡착 플레이트 회전 장치(460)에 의해 회전된다.When the second adsorption nozzle 441 of the second adsorption plate 440 adsorbs the substrate S while the substrate S is raised, as shown in FIG. 35, the first adsorption plate 430 and the second The adsorption plate 440 is rotated by the adsorption plate rotating device 460.

그리고, 도 36에 도시된 바와 같이, 기판(S)이 제2 흡착 플레이트(440)의 제2 흡착 노즐(441)에 흡착된 상태로 하강한다.Then, as illustrated in FIG. 36, the substrate S is lowered to the state adsorbed by the second adsorption nozzle 441 of the second adsorption plate 440.

그리고, 도 37에 도시된 바와 같이, 제1 흡착 플레이트(430)가 벨트(410) 사이의 공간으로 삽입되면, 기판(S)이 벨트(410) 상에 놓이면서 제2 흡착 노즐(441)로부터 분리된다. 이와 같은 상태에서는 제1 흡착 플레이트(430)가 제2 흡착 플레이트(440)의 하부에 위치되므로, 곧바로 다음 순서의 기판(S)을 반전시키는 동작을 수행할 수 있으며, 이에 따라, 공정에 요구되는 시간을 줄일 수 있다.And, as shown in FIG. 37, when the first adsorption plate 430 is inserted into the space between the belts 410, the substrate S is placed on the belt 410 and separated from the second adsorption nozzle 441. do. In this state, since the first adsorption plate 430 is located under the second adsorption plate 440, the operation of inverting the substrate S in the next order can be performed immediately, and accordingly, it is required for the process. Save time.

이러한 상태에서, 도 38에 도시된 바와 같이, 반전된 기판(S)은 벨트(410)의 회전에 의해 제1 반전 유닛(400)으로부터 제3 절단 유닛(500)으로 전달될 수 있다. 다른 예로서, 승하강하며 수평으로 이동 가능한 픽커 유닛(미도시)이 제1 반전 유닛(400) 및 제3 절단 유닛(500) 사이에 배치되어 기판(S)을 제1 반전 유닛(400)으로부터 제3 절단 유닛(500)으로 전달하는 데에 사용될 수 있다.In this state, as shown in FIG. 38, the inverted substrate S may be transferred from the first inversion unit 400 to the third cutting unit 500 by rotation of the belt 410. As another example, a picker unit (not shown) that is vertically movable while moving up and down is disposed between the first inversion unit 400 and the third cutting unit 500 to move the substrate S from the first inversion unit 400. It can be used to deliver to the third cutting unit 500.

도 38 및 도 39에 도시된 바와 같이, 제3 절단 유닛(500)은 기판(S)의 제2 면(S2)에 제2 Y축 절단 라인(YL2)을 형성하도록 구성된다.38 and 39, the third cutting unit 500 is configured to form a second Y-axis cutting line YL2 on the second surface S2 of the substrate S.

제3 절단 유닛(500)은 X축 방향으로 연장되며 Y축 방향으로 이동 가능하도록 구성되는 제3 프레임(510)과, 제3 프레임(510)에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며 커팅 휠(521)을 구비하는 제3 헤드(520)와, 제3 프레임(510)의 이동을 안내하는 제3 가이드 레일(530)과, 기판(S)이 지지되는 벨트(540)와, 벨트(540)의 하측에서 Z축 방향으로 이동 가능하게 배치되어 커팅 휠(521)이 기판(S)에 가압될 때 벨트(540)를 지지하여 이에 따라 기판(S)을 지지하는 지지 플레이트(550)와, 지지 플레이트(550)를 Z축 방향으로 승강시키는 지지 플레이트 승강 장치(560)를 포함할 수 있다.The third cutting unit 500 extends in the X-axis direction and is installed to be movable in the X-axis direction on the third frame 510 and configured to be movable in the Y-axis direction, and the cutting wheel ( A third head 520 having 521, a third guide rail 530 for guiding movement of the third frame 510, a belt 540 on which the substrate S is supported, and a belt 540 The support plate 550 which is disposed to be movable in the Z-axis direction from the lower side of the cutting wheel 521 to support the belt 540 when it is pressed against the substrate S, thereby supporting the substrate S, and the support It may include a support plate lifting device 560 for lifting the plate 550 in the Z-axis direction.

제3 프레임(510)에는 X축 방향으로 복수의 제3 헤드(520)가 구비될 수 있다.The third frame 510 may be provided with a plurality of third heads 520 in the X-axis direction.

제3 프레임(510)과 제3 가이드 레일(530) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 커팅 휠(521)이 기판(S)에 가압된 상태에서 제3 프레임(510)이 제3 가이드 레일(530)을 따라 Y축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)의 제2 면(S2)에는 제2 Y축 절단 라인(YL2)이 형성될 수 있다.Between the third frame 510 and the third guide rail 530, a pneumatic or hydraulically actuated actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism may be provided. . Accordingly, as the third frame 510 is moved in the Y-axis direction along the third guide rail 530 while the cutting wheel 521 is pressed against the substrate S, the second surface of the substrate S ( A second Y-axis cutting line YL2 may be formed in S2).

벨트(540)는 복수의 풀리(541)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(541) 중 적어도 하나는 벨트(540)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다. 벨트(540)는 기판(S)의 전체면을 균일하게 지지하고 이송할 수 있도록 복수의 부분으로 분할되지 않은 일체형 벨트인 것이 바람직하다.The belt 540 is supported by a plurality of pulleys 541, and at least one of the plurality of pulleys 541 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 540. The belt 540 is preferably an integral belt that is not divided into a plurality of parts so that the entire surface of the substrate S can be uniformly supported and transported.

벨트(540)가 회전되어 기판(S)이 이동되는 경우, 지지 플레이트(550)가 지지 플레이트 승강 장치(560)에 의해 하강되어 벨트(540)로부터 이격되어 벨트(540)가 지지 플레이트(550)와의 마찰 없이 원활하게 이동될 수 있도록 한다. 그리고, 기판(S)에 제2 Y축 절단 라인(YL2)을 형성할 때에는, 지지 플레이트(550)가 지지 플레이트 승강 장치(560)에 의해 상승되어 벨트(540)의 하면을 지지하며, 이에 따라, 기판(S)을 지지한다. 예를 들면, 지지 플레이트(550)는 진공원과 연결된 진공홀을 구비하여 기판(S)을 흡착하도록 구성될 수 있다.When the belt 540 is rotated to move the substrate S, the support plate 550 is lowered by the support plate lifting device 560 to be spaced apart from the belt 540 so that the belt 540 is the support plate 550 It should be able to move smoothly without friction with. In addition, when forming the second Y-axis cutting line YL2 on the substrate S, the support plate 550 is raised by the support plate lifting device 560 to support the lower surface of the belt 540, and accordingly , Support the substrate (S). For example, the support plate 550 may be configured to have a vacuum hole connected to a vacuum source to adsorb the substrate S.

기판(S)의 제2 면(S2)에 제2 Y축 절단 라인(YL2)이 형성되는 과정에서는 커팅 휠(521)을 갖는 제3 헤드(520)가 설치되는 제3 프레임(510)이 이동되고, 기판(S)이 지지 플레이트(550)에 의해 지지되므로, 커팅 휠(521)이 보다 큰 압력으로 기판(S)에 가압될 수 있으므로, 기판(S)을 용이하게 분리시킬 수 있다.In the process of forming the second Y-axis cutting line YL2 on the second surface S2 of the substrate S, the third frame 510 where the third head 520 having the cutting wheel 521 is installed moves. Since the substrate S is supported by the support plate 550, the cutting wheel 521 can be pressed against the substrate S with a greater pressure, so that the substrate S can be easily separated.

또한, 기판(S)이 지지 플레이트(550)에 지지되므로, 커팅 휠(521)을 지지하기 위한 롤러를 필요로 하지 않는다. 따라서, 롤러를 제거한 공간만큼 제3 헤드(520)의 폭을 줄일 수 있고, 이에 따라, 복수의 제3 헤드(520)가 최대로 인접하였을 때의 복수의 제3 헤드(520)의 커팅 휠(521) 사이의 간격을 줄일 수 있다. 따라서, 커팅 휠(521)에 의해 형성될 수 있는 제2 Y축 절단 라인(YL2) 사이의 간격을 줄일 수 있다.In addition, since the substrate S is supported on the support plate 550, a roller for supporting the cutting wheel 521 is not required. Therefore, the width of the third head 520 can be reduced by the space from which the roller is removed, and accordingly, the cutting wheels of the plurality of third heads 520 when the plurality of third heads 520 are adjacent to the maximum ( 521). Accordingly, a gap between the second Y-axis cutting lines YL2 that may be formed by the cutting wheel 521 can be reduced.

기판(S)의 제2 면(S2)에 제2 Y축 절단 라인(YL2)이 형성됨에 따라, 제1 Y축 절단 라인(YL1) 및 제2 Y축 절단 라인(YL2)이 서로 연결되면서, 기판(S)이 제1 및 제2 Y축 절단 라인(YL1, YL2)을 따라 절단될 수 있다.As the second Y-axis cutting line YL2 is formed on the second surface S2 of the substrate S, the first Y-axis cutting line YL1 and the second Y-axis cutting line YL2 are connected to each other, The substrate S may be cut along the first and second Y-axis cutting lines YL1 and YL2.

따라서, 기판(S)이 절단된 이후에는, 제1 및 제2 Y축 절단 라인(YL1, YL2)이 X축 방향으로 서로 이격된 거리만큼의 폭을 갖는 X축 단차부(XS)가 형성될 수 있으며, 이러한 X축 단차부(XS)에는 배선 및/또는 배선과 연결되는 전극 등이 형성될 수 있다.Therefore, after the substrate S is cut, the X-axis step portion XS having widths equal to the distances between the first and second Y-axis cutting lines YL1 and YL2 spaced apart from each other in the X-axis direction is formed. The X-axis step portion XS may include wires and / or electrodes connected to the wires.

절단된 기판(S)은 벨트(540)의 회전에 의해 제3 절단 유닛(500)으로부터 제3 이송 유닛(800)으로 전달될 수 있다.The cut substrate S may be transferred from the third cutting unit 500 to the third transfer unit 800 by rotation of the belt 540.

도 40 내지 도 42에 도시된 바와 같이, 제3 이송 유닛(800)은 제3 절단 유닛(500)으로부터 전달되는 기판(S)을 수용하는 벨트(810)와, 기판(S)을 파지하여 이송하기 위한 픽커 모듈(820)과, 픽커 모듈(820)이 Y축 방향으로 이동 가능하게 지지되는 지지 프레임(830)과, 픽커 모듈(820)을 지지 프레임(830)을 따라 이동시키는 이동 모듈(840)과, 픽커 모듈(820)을 Z축 방향으로 이동시키는 승강 모듈(850)을 포함할 수 있다.40 to 42, the third transfer unit 800 is a belt 810 for receiving the substrate S transferred from the third cutting unit 500, and the substrate S is gripped and transferred A picker module 820 for supporting, a support frame 830 in which the picker module 820 is movably supported in the Y-axis direction, and a moving module 840 for moving the picker module 820 along the support frame 830 ) And a lifting module 850 for moving the picker module 820 in the Z-axis direction.

벨트(810)는 복수의 풀리(811)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(811) 중 적어도 하나는 벨트(810)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다. 제3 이송 유닛(800)의 벨트(810)는 제3 절단 유닛(500)의 벨트(540)와 동일 높이로 형성되어 기판(S)이 제3 절단 유닛(500)으로부터 제3 이송 유닛(800)으로 수평으로 전달될 수 있다.The belt 810 is supported by a plurality of pulleys 811, and at least one of the plurality of pulleys 811 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 810. The belt 810 of the third transfer unit 800 is formed at the same height as the belt 540 of the third cutting unit 500 so that the substrate S is transferred from the third cutting unit 500 to the third transfer unit 800 ).

이동 모듈(840) 및 승강 모듈(850)은 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.The moving module 840 and the lifting module 850 may be constituted by a pneumatic or hydraulic actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear moving mechanism such as a ball screw mechanism.

픽커 모듈(820)은 진공원(860)과 진공 라인(861)을 통하여 연결되는 복수의 흡착 패드(821)와, 복수의 흡착 패드(821)와 각각 연결되어 흡착 패드(821)를 승하강시키는 패드 높이 조절기(822)와, 복수의 흡착 패드(821)와 각각 연결되어 흡착 패드(821) 내의 압력을 측정하는 압력 센서(823)를 포함할 수 있다.The picker module 820 is connected to a plurality of adsorption pads 821 and a plurality of adsorption pads 821 connected through a vacuum source 860 and a vacuum line 861 to elevate the adsorption pads 821. A pad height adjuster 822 and a plurality of adsorption pads 821 may be connected to each other, and may include a pressure sensor 823 measuring pressure in the adsorption pads 821.

패드 높이 조절기(822)는 사용자가 수동으로 복수의 흡착 패드(821)의 높이를 조절할 수 있도록 구성될 수 있다. 또한, 복수의 흡착 패드(821)의 높이가 자동으로 조절될 수 있도록, 패드 높이 조절기(822)는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.The pad height adjuster 822 may be configured to allow a user to manually adjust the heights of the plurality of adsorption pads 821. In addition, so that the height of the plurality of adsorption pads 821 can be automatically adjusted, the pad height adjuster 822 is an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a ball screw mechanism. It may be configured as a linear movement mechanism.

다른 예로서, 복수의 패드 높이 조절기(822)는 복수의 흡착 패드(821)에 각각 연결되지 않고, 둘 이상의 흡착 패드(821)를 하나의 그룹으로 지정하여 복수의 그룹의 흡착 패드(821)를 지정하고 각 그룹의 흡착 패드(821)의 높이를 조절하도록 구성될 수 있다.As another example, the plurality of pad height adjusters 822 are not connected to the plurality of adsorption pads 821, respectively, and designate two or more adsorption pads 821 as one group to select the plurality of adsorption pads 821. It can be configured to designate and adjust the height of each group of adsorption pads 821.

이러한 경우, 제어 유닛(1000)은 압력 센서(823)에 의해 측정된 흡착 패드(821) 내의 압력 변화를 근거로 패드 높이 조절기(822)를 제어하여 복수의 흡착 패드(821)를 승하강시킬 수 있다.In this case, the control unit 1000 may control the pad height adjuster 822 based on the pressure change in the adsorption pad 821 measured by the pressure sensor 823 to elevate the plurality of adsorption pads 821. have.

기판(S)이 제3 이송 유닛(800)의 벨트(810)로 이송되면, 기판(S)은 픽커 모듈(820)에 흡착되며, 픽커 모듈(820)의 수직 이동 및 수평 이동에 의해 기판(S)이 후속 공정으로 이송될 수 있다.When the substrate S is transferred to the belt 810 of the third transfer unit 800, the substrate S is adsorbed to the picker module 820, and the substrate (S) is moved by vertical and horizontal movement of the picker module 820. S) can be transferred to a subsequent process.

이러한 과정에서 기판(S)이 픽커 모듈(820)의 복수의 흡착 패드(821) 모두에 균일하게 흡착될 것이 요구된다. 그런데, 제3 이송 유닛(800)의 벨트(810)의 높이 변화로 인한 기판(S)의 평탄도 변화, 픽커 모듈(820)의 복수의 흡착 패드(821)의 수직 위치 변화로 인해, 기판(S)이 픽커 모듈(820)의 복수의 흡착 패드(821) 모두에 균일하게 흡착되지 못할 수 있다. 기판(S)이 복수의 흡착 패드(821) 모두에 균일하게 흡착되지 않은 상태에서, 픽커 모듈(820)이 수직 및 수평으로 이동하는 경우, 기판(S)이 복수의 흡착 패드(821)로부터 이탈되는 문제가 발생할 수 있다.In this process, it is required that the substrate S is uniformly adsorbed on all of the plurality of adsorption pads 821 of the picker module 820. By the way, due to the change in the flatness of the substrate S due to the height change of the belt 810 of the third transfer unit 800, and the vertical position of the plurality of adsorption pads 821 of the picker module 820, the substrate ( S) may not be uniformly adsorbed on all of the plurality of adsorption pads 821 of the picker module 820. When the picker module 820 moves vertically and horizontally while the substrate S is not uniformly adsorbed on all of the plurality of adsorption pads 821, the substrate S is detached from the plurality of adsorption pads 821 Problems can occur.

따라서, 본 발명의 실시예에 따른 제3 이송 유닛(800)의 경우에는, 픽커 모듈(820)이 기판(S)을 완전히 흡착하기 전에 픽커 모듈(820)을 기판(S)을 향하여 서서히 이동시키면서 압력 센서(823)에 의해 복수의 흡착 패드(821) 내의 압력이 측정된다.Accordingly, in the case of the third transfer unit 800 according to the embodiment of the present invention, the picker module 820 is gradually moved toward the substrate S before the picker module 820 completely adsorbs the substrate S The pressure in the plurality of adsorption pads 821 is measured by the pressure sensor 823.

픽커 모듈(820)을 기판(S)을 향하여 서서히 이동됨에 따라, 기판(S)이 흡착 패드(821)에 흡착되는데, 기판(S)의 평탄도가 일정하고 복수의 흡착 패드(821)의 수직 위치가 균일한 경우에는, 기판(S)이 복수의 흡착 패드(821)에 흡착될 때 복수의 흡착 패드(821) 내의 압력이 동시에 변화하게 된다.As the picker module 820 is gradually moved toward the substrate S, the substrate S is adsorbed to the adsorption pad 821, and the flatness of the substrate S is constant and the plurality of adsorption pads 821 are vertical. When the positions are uniform, the pressure in the plurality of adsorption pads 821 changes simultaneously when the substrate S is adsorbed to the plurality of adsorption pads 821.

그러나, 기판(S)의 평탄도가 일정하지 못하거나 복수의 흡착 패드(821)의 수직 위치가 균일하지 않는 경우에는, 기판(S)의 일부분만이 복수의 흡착 패드(821) 중 일부의 흡착 패드(821)에 흡착되고 기판(S)의 나머지 부분은 흡착 패드(821)에 흡착되지 않는다. 이러한 경우, 복수의 흡착 패드(821) 중 일부의 압력이 변화하지만 기판(S)이 흡착되지 않은 흡착 패드(821)의 압력이 변화하지 않는다.However, when the flatness of the substrate S is not constant or the vertical positions of the plurality of adsorption pads 821 are not uniform, only a part of the substrate S adsorbs some of the plurality of adsorption pads 821 The pad 821 is adsorbed and the rest of the substrate S is not adsorbed on the pad 821. In this case, the pressure of some of the plurality of adsorption pads 821 changes, but the pressure of the adsorption pads 821 on which the substrate S is not adsorbed does not change.

이로부터, 압력이 변화한 흡착 패드(821)와 압력이 변화하지 않은 흡착 패드(821) 사이에는 기판(S)에 대한 상대적인 높이차가 있음을 알 수 있으며, 압력이 변화한 흡착 패드(821)의 높이를 조절하거나 압력이 변화하지 않은 흡착 패드(821)의 높이를 조절하는 것에 의해 이러한 상대적인 높이차를 제거할 수 있다.From this, it can be seen that there is a relative height difference with respect to the substrate S between the adsorption pad 821 where the pressure is changed and the adsorption pad 821 where the pressure is not changed. This relative height difference can be eliminated by adjusting the height or adjusting the height of the adsorption pad 821 where the pressure has not changed.

제어 유닛(1000)은 복수의 압력 센서(823)에 의해 측정된 복수의 흡착 패드(821)의 압력(압력 변화)를 근거로 패드 높이 조절기(822)를 제어하여 압력이 변화한 흡착 패드(821)의 높이를 조절하거나 압력이 변화하지 않은 흡착 패드(821)의 높이를 조절할 수 있다.The control unit 1000 controls the pad height adjuster 822 based on the pressure (pressure change) of the plurality of adsorption pads 821 measured by the plurality of pressure sensors 823, so that the pressure changes in the adsorption pads 821 ) May be adjusted or the height of the adsorption pad 821 whose pressure has not changed.

이에 따라, 복수의 흡착 패드(821) 간에 기판(S)에 대한 상대적인 높이차가 제거될 수 있으며, 이에 따라, 기판(S)의 전체면이 복수의 흡착 패드(821)에 균일하게 흡착될 수 있다.Accordingly, a relative height difference relative to the substrate S between the plurality of adsorption pads 821 may be removed, and accordingly, the entire surface of the substrate S may be uniformly adsorbed to the plurality of adsorption pads 821. .

이와 같은 구성에 따르면, 기판(S)의 전체면이 복수의 흡착 패드(821)에 균일하게 흡착될 수 있으므로, 기판(S)이 픽커 모듈(820)에 의해 안정적으로 후속 공정으로 이송될 수 있다.According to this configuration, since the entire surface of the substrate S can be uniformly adsorbed to the plurality of adsorption pads 821, the substrate S can be stably transferred to a subsequent process by the picker module 820. .

도 43 내지 도 45에 도시된 바와 같이, 제2 반전 유닛(1400)은 기판(S)의 상측면 또는 하측면이 향하는 방향을 조절하기 위해 기판(S)을 반전시키는 역할을 한다. 반전 유닛(1400)은 Z축 방향으로 연장되는 지지대(1420)와, 복수의 제1 흡착 패드(1431)를 구비하는 제1 픽커 모듈(1430)과, 복수의 제2 흡착 패드(1441)를 구비하는 제2 픽커 모듈(1440)과, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)을 지지대(1420)를 따라 Z축 방향으로 이동시키는 픽커 승강 모듈(1450)과, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)을 Z축에 직교하는 축(예를 들면, X축)을 중심으로 회전시키는 픽커 회전 모듈(1460)을 포함할 수 있다.43 to 45, the second inversion unit 1400 serves to invert the substrate S to adjust the direction in which the upper or lower surface of the substrate S is directed. The reversing unit 1400 includes a support 1420 extending in the Z-axis direction, a first picker module 1430 having a plurality of first suction pads 1431, and a plurality of second suction pads 1442. The second picker module 1440 and the first and second picker modules 1430 and 1440 move the picker lift module 1450 along the support 1420 in the Z-axis direction, and the first and second picker modules A picker rotation module 1460 that rotates (1430, 1440) about an axis orthogonal to the Z axis (eg, the X axis) may be included.

픽커 승강 모듈(1450)은 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.The picker elevating module 1450 may be composed of a pneumatic or hydraulic actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism.

픽커 회전 모듈(1460)은 회전 장치(460)는 전기 모터로 구성될 수 있다.The picker rotation module 1460 may include a rotation device 460 of an electric motor.

제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)은 Z축 방향으로 서로 이격되게 배치된다. 제1 픽커 모듈(1430)의 제1 흡착 패드(1431)와 제2 픽커 모듈(1440)의 제2 흡착 패드(1441)는 서로 반대 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 즉, 제1 픽커 모듈(1430)의 제1 흡착 패드(1431)가 상방으로 배치되는 경우, 제2 픽커 모듈(1440)의 제2 흡착 패드(1441)는 하방으로 배치될 수 있다. 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)이 픽커 회전 모듈(1460)에 의해 회전되면, 제1 픽커 모듈(1430)의 제1 흡착 패드(1431)와 제2 픽커 모듈(1440)의 제2 흡착 패드(1441)가 향하는 방향이 변경될 수 있다.The first and second picker modules 1430 and 1440 are spaced apart from each other in the Z-axis direction. The first adsorption pad 1431 of the first picker module 1430 and the second adsorption pad 1441 of the second picker module 1440 may be arranged to face opposite directions. That is, when the first adsorption pad 1431 of the first picker module 1430 is disposed upward, the second adsorption pad 1441 of the second picker module 1440 may be disposed downward. When the first and second picker modules 1430 and 1440 are rotated by the picker rotation module 1460, the first adsorption pad 1431 of the first picker module 1430 and the second of the second picker module 1440 The direction in which the adsorption pad 1401 is directed may be changed.

한편, 반송 유닛(1500)은 기판(S)의 폭에 대응하는 크기를 갖는 하나의 일체형 벨트(1510)를 포함할 수 있다. 벨트(1510)는 기판(S)의 전체면을 균일하게 지지하고 이송할 수 있도록 복수의 부분으로 분할되지 않은 하나의 일체형 벨트인 것이 바람직하다.Meanwhile, the transport unit 1500 may include one integral belt 1510 having a size corresponding to the width of the substrate S. The belt 1510 is preferably a single integral belt that is not divided into a plurality of parts so that the entire surface of the substrate S can be uniformly supported and transported.

벨트(1510)는 복수의 풀리(1511)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(1511) 중 적어도 하나는 벨트(1510)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.The belt 1510 is supported by a plurality of pulleys 1511, and at least one of the plurality of pulleys 1511 may be a drive pulley providing a driving force for rotating the belt 1510.

제1 픽커 모듈(1430)의 제1 흡착 패드(1431)와 제2 픽커 모듈(1440)의 제2 흡착 패드(1441)가 서로 반대 방향을 향하도록 배치되므로, 기판(S)이 제3 이송 유닛(800)으로부터 제1 흡착 패드(1431) 또는 제2 흡착 패드(1441)로 전달되고, 기판(S)이 반전된 후 제1 흡착 패드(1431) 또는 제2 흡착 패드(1441)로부터 반송 유닛(1500)의 벨트(1510)로 전달될 수 있다. 이러한 구성에 따르면, 벨트(1510)가 기판(S)의 폭에 대응하는 크기를 갖는 하나의 일체형 벨트로 이루어질 수 있다. 따라서, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)로부터 전달된 기판(S)이 분할되지 않은 하나의 일체형 벨트(1510)의 상면에 처짐 없이 안정적으로 지지될 수 있다.Since the first adsorption pad 1431 of the first picker module 1430 and the second adsorption pad 1441 of the second picker module 1440 are arranged to face opposite directions, the substrate S is the third transfer unit After being transferred from the 800 to the first adsorption pad 1431 or the second adsorption pad 1441, and after the substrate S is inverted, the conveying unit (from the first adsorption pad 1431 or the second adsorption pad 1441) 1500) of the belt 1510. According to this configuration, the belt 1510 may be formed of one integral belt having a size corresponding to the width of the substrate S. Accordingly, the substrate S transferred from the first and second picker modules 1430 and 1440 can be stably supported without sagging on the upper surface of one unified belt 1510.

도 44 및 도 45에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)의 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)는 진공원(1480)과 진공 라인(1481)을 통하여 연결될 수 있다. 또한, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)은, 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)와 각각 연결되어 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)를 승하강시키는 패드 높이 조절기(1470)와, 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)와 각각 연결되어 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441) 내의 압력을 측정하는 압력 센서(1485)를 포함할 수 있다.44 and 45, the first and second adsorption pads 1431 and 1441 of the first and second picker modules 1430 and 1440 are through a vacuum source 1480 and a vacuum line 1801. Can be connected. In addition, the first and second picker modules 1430 and 1440 are connected to the first and second adsorption pads 1431 and 1441, respectively, to raise and lower the first and second adsorption pads 1431 and 1441. The regulator 1470 may include a pressure sensor 1485 connected to the first and second adsorption pads 1431 and 1441 to measure pressure in the first and second adsorption pads 1431 and 1441, respectively.

패드 높이 조절기(1470)는 사용자가 수동으로 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)의 높이를 조절할 수 있도록 구성될 수 있다. 또한, 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)의 높이가 자동으로 조절될 수 있도록, 패드 높이 조절기(1470)는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.The pad height adjuster 1470 may be configured to allow a user to manually adjust the heights of the first and second adsorption pads 1431 and 1441. In addition, so that the height of the first and second adsorption pads 1431 and 1441 can be automatically adjusted, the pad height adjuster 1470 is an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction. , Or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism.

다른 예로서, 복수의 패드 높이 조절기(1470)가 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)에 각각 연결되지 않고, 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441) 중 둘 이상의 흡착 패드(1431, 1441)를 하나의 그룹으로 지정하여 복수의 그룹의 흡착 패드(1431, 1441)를 지정하고 각 그룹의 흡착 패드(1431, 1441)의 높이를 조절하도록 구성될 수 있다.As another example, a plurality of pad height adjusters 1470 are not connected to the first and second adsorption pads 1431 and 1441, respectively, and two or more adsorption pads 1431 of the first and second adsorption pads 1431 and 1441 are not connected. , 1441) as a group to designate a plurality of groups of adsorption pads 1431 and 1441 and to adjust the height of each group of adsorption pads 1431 and 1441.

이러한 경우, 제어 유닛(1000)은 압력 센서(1485)에 의해 측정된 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441) 내의 압력 변화를 근거로 패드 높이 조절기(1470)를 제어하여 제1 및 제2 흡착 패드(1431, 1441)를 개별적으로 승하강시킬 수 있다.In this case, the control unit 1000 controls the pad height adjusters 1470 based on pressure changes in the first and second adsorption pads 1431 and 1441 measured by the pressure sensor 1485 to control the first and second. The adsorption pads 1431 and 1441 can be individually raised and lowered.

기판(S)이 제1 픽커 모듈(1430) 또는 제2 픽커 모듈(1440)에 안착되면, 기판(S)은 제1 픽커 모듈(1430) 또는 제2 픽커 모듈(1440)에 흡착되며, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)이 회전되는 것에 의해 기판(S)이 반전될 수 있다.When the substrate S is seated on the first picker module 1430 or the second picker module 1440, the substrate S is adsorbed to the first picker module 1430 or the second picker module 1440, and the first And the substrate S may be inverted by rotating the second picker modules 1430 and 1440.

이러한 과정에서 기판(S)이 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 모두에 균일하게 흡착될 것이 요구된다. 그런데, 기판(S)의 평탄도 변화, 복수의 흡착 패드(1431, 1441)의 수직 위치 변화로 인해, 기판(S)이 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 모두에 균일하게 흡착되지 못할 수 있다. 기판(S)이 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 모두에 균일하게 흡착되지 않은 상태에서, 제1 픽커 모듈(1430) 또는 제2 픽커 모듈(1440)이 수직으로 이동되거나 회전되는 경우, 기판(S)이 복수의 흡착 패드(1431, 1441)로부터 이탈되는 문제가 발생할 수 있다.In this process, the substrate S is required to be uniformly adsorbed on all of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441. However, due to a change in flatness of the substrate S and a change in vertical positions of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441, the substrate S may not be uniformly adsorbed to all of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441. . When the substrate S is not uniformly adsorbed to all of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441, when the first picker module 1430 or the second picker module 1440 is vertically moved or rotated, the substrate ( A problem may arise in which S) deviates from the plurality of adsorption pads 1431 and 1441.

따라서, 본 발명의 실시예에 따른 제2 반전 유닛(1400)의 경우에는, 제1 픽커 모듈(1430) 또는 제2 픽커 모듈(1440)이 기판(S)을 완전히 흡착하기 전에 제1 픽커 모듈(1430) 또는 제2 픽커 모듈(1440)을 기판(S)을 향하여 서서히 이동시키면서 압력 센서(1485)에 의해 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 내의 압력이 측정된다.Therefore, in the case of the second inverting unit 1400 according to the embodiment of the present invention, the first picker module 1430 before the first picker module 1430 or the second picker module 1440 completely adsorbs the substrate S ( 1430) or the second picker module 1440 is gradually moved toward the substrate S while the pressure in the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 is measured by the pressure sensor 1485.

제1 픽커 모듈(1430) 또는 제2 픽커 모듈(1440)을 기판(S)을 향하여 서서히 이동됨에 따라, 기판(S)이 흡착 패드(1431, 1441)에 흡착되는데, 기판(S)의 평탄도가 일정하고 복수의 흡착 패드(1431, 1441)의 수직 위치가 균일한 경우에는, 기판(S)이 복수의 흡착 패드(1431, 1441)에 흡착될 때 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 내의 압력이 동시에 변화하게 된다.As the first picker module 1430 or the second picker module 1440 is gradually moved toward the substrate S, the substrate S is adsorbed on the adsorption pads 1431 and 1441, and the flatness of the substrate S When is constant and the vertical positions of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 are uniform, the pressure in the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 when the substrate S is adsorbed to the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 This will change at the same time.

그러나, 기판(S)의 평탄도가 일정하지 못하거나 복수의 흡착 패드(1431, 1441)의 수직 위치가 균일하지 않는 경우에는, 기판(S)의 일부분만이 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 중 일부의 흡착 패드(1431, 1441)에 흡착되고 기판(S)의 나머지 부분은 흡착 패드(1431, 1441)에 흡착되지 않는다. 이러한 경우, 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 중 일부의 압력이 변화하지만 기판(S)이 흡착되지 않은 흡착 패드(1431, 1441)의 압력이 변화하지 않는다.However, when the flatness of the substrate S is not constant, or when the vertical positions of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 are not uniform, only a part of the substrate S has a plurality of adsorption pads 1431 and 1441. Some of the adsorption pads 1431 and 1441 are adsorbed, and the rest of the substrate S is not adsorbed on the adsorption pads 1431 and 1441. In this case, the pressure of some of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 changes, but the pressure of the adsorption pads 1431 and 1441 to which the substrate S is not adsorbed does not change.

이로부터, 압력이 변화한 흡착 패드(1431, 1441)와 압력이 변화하지 않은 흡착 패드(1431, 1441) 사이에는 기판(S)에 대한 상대적인 높이차가 있음을 알 수 있으며, 압력이 변화한 흡착 패드(1431, 1441)의 높이를 조절하거나 압력이 변화하지 않은 흡착 패드(1431, 1441)의 높이를 조절하는 것에 의해 이러한 상대적인 높이차를 제거할 수 있다.From this, it can be seen that there is a relative height difference with respect to the substrate S between the adsorption pads 1431 and 1441 whose pressure is changed and the adsorption pads 1431 and 1441 whose pressure is not changed, and the adsorption pads whose pressure is changed. This relative height difference can be eliminated by adjusting the height of the (1431, 1441) or by adjusting the height of the adsorption pads (1431, 1441) where the pressure has not changed.

제어 유닛(1000)은 복수의 압력 센서(1485)에 의해 측정된 복수의 흡착 패드(1431, 1441)의 압력(압력 변화)를 근거로 패드 높이 조절기(1470)를 제어하여 압력이 변화한 흡착 패드(1431, 1441)의 높이를 조절하거나 압력이 변화하지 않은 흡착 패드(1431, 1441)의 높이를 조절할 수 있다.The control unit 1000 controls the pad height adjuster 1470 based on the pressure (pressure change) of the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 measured by the plurality of pressure sensors 1485 to adjust the pressure of the adsorption pad. The heights of the (1431, 1441) may be adjusted or the heights of the adsorption pads (1431, 1441) whose pressure has not changed.

이에 따라, 복수의 흡착 패드(1431, 1441) 간에 기판(S)에 대한 상대적인 높이차가 제거될 수 있으며, 이에 따라, 기판(S)의 전체면이 복수의 흡착 패드(1431, 1441)에 균일하게 흡착될 수 있다.Accordingly, a relative height difference relative to the substrate S between the plurality of adsorption pads 1431 and 1441 can be removed, and accordingly, the entire surface of the substrate S is uniformly applied to the plurality of adsorption pads 1431 and 1441. Can be adsorbed.

이와 같은 구성에 따르면, 기판(S)의 전체면이 복수의 흡착 패드(1431, 1441)에 균일하게 흡착될 수 있으므로, 기판(S)이 제1 픽커 모듈(1430) 또는 제2 픽커 모듈(1440)에 의해 안정적으로 흡착된 후 반전될 수 있다.According to this configuration, since the entire surface of the substrate S can be uniformly adsorbed to the plurality of adsorption pads 1431 and 1441, the substrate S is the first picker module 1430 or the second picker module 1440 ) And then inverted after being stably adsorbed.

이하, 도 43 및 도 46 내지 도 49를 참조하여, 기판(S)을 반전시키는 동작에 대하여 설명한다. 설명의 편의를 위해 제1 픽커 모듈(1430)이 제2 픽커 모듈(1440)의 상부에 위치된 상태를 기준으로 설명한다.Hereinafter, an operation of inverting the substrate S will be described with reference to FIGS. 43 and 46 to 49. For convenience of description, the first picker module 1430 will be described based on the state located above the second picker module 1440.

먼저, 도 43에 도시된 바와 같이, 제3 이송 유닛(800)의 벨트(810)로 이송된 기판(S)이 픽커 모듈(820)에 의해 파지된 후, 제2 반전 유닛(1400)을 향하여 이송된다.First, as shown in FIG. 43, after the substrate S transferred to the belt 810 of the third transfer unit 800 is gripped by the picker module 820, toward the second inversion unit 1400 Is transferred.

그리고, 도 46에 도시된 바와 같이, 제3 이송 유닛(800)에 의해 기판(S)이 제1 픽커 모듈(1430)의 상부에 위치된 후, 제1 픽커 모듈(1430)의 제1 흡착 패드(1431) 상으로 전달된다.And, as shown in FIG. 46, after the substrate S is positioned on the first picker module 1430 by the third transfer unit 800, the first adsorption pad of the first picker module 1430 (1431).

그리고, 도 47에 도시된 바와 같이, 제3 이송 유닛(800)의 픽커 모듈(820)은 원래의 위치로 복귀하여, 벨트(810)로 이송된 새로운 기판(S)을 파지할 수 있다. 그리고, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)이 픽커 승강 모듈(1450)에 의해 상승된다. 이때, 기판(S)은 중력에 의해 제1 픽커 모듈(1430)에 지지되므로, 제1 픽커 모듈(1430)의 제1 흡착 패드(1431)에 진공이 가해지지 않은 경우에도 기판(S)의 자세가 유지될 수 있다.In addition, as shown in FIG. 47, the picker module 820 of the third transfer unit 800 may return to its original position to grip the new substrate S transferred to the belt 810. Then, the first and second picker modules 1430 and 1440 are raised by the picker elevating module 1450. At this time, since the substrate S is supported by the first picker module 1430 by gravity, the posture of the substrate S even when no vacuum is applied to the first adsorption pad 1431 of the first picker module 1430 Can be maintained.

한편, 제1 흡착 패드(1431) 또는 제2 흡착 패드(1441)에 진공이 작용되는 경우, 그 진공의 세기가 기판(S)을 적절하게 흡착할 수 있는 세기로 증가하기 위해서는 소정의 시간이 요구된다. 본 발명의 경우에는, 제1 흡착 패드(1431) 또는 제2 흡착 패드(1441)에 가해지는 진공의 세기가 소정의 세기로 증가되는 시간 동안에도 중력에 의해 기판(S)이 제1 흡착 패드(1431) 또는 제2 흡착 패드(1441)에 지지된 상태로 기판(S)을 상승시킬 수 있다. 즉, 진공원(1480)은 제1 흡착 패드(1431) 또는 제2 흡착 패드(1441)에 기판(S)이 안착된 후, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)이 상승하기 시작하는 시점에서 또는 상승하는 동안, 제1 흡착 패드(1431) 또는 제2 흡착 패드(1441)에 진공을 가하도록 구성될 수 있다.On the other hand, when a vacuum is applied to the first adsorption pad 1431 or the second adsorption pad 1441, a predetermined time is required to increase the strength of the vacuum to a strength capable of properly adsorbing the substrate S. do. In the case of the present invention, the substrate S is the first adsorption pad (G) due to gravity even during a time period when the intensity of the vacuum applied to the first adsorption pad 1431 or the second adsorption pad 1441 is increased to a predetermined intensity. 1431) or the substrate S may be raised while being supported by the second adsorption pad 1441. That is, after the substrate S is seated on the first adsorption pad 1431 or the second adsorption pad 1441, the first and second picker modules 1430 and 1440 start to rise in the vacuum source 1480. It may be configured to apply a vacuum to the first adsorption pad 1431 or the second adsorption pad 1441 at a point in time or during an ascent.

따라서, 본 발명의 구성에 따르면, 진공의 세기가 기판(S)을 적절하게 흡착할 수 있는 세기로 증가하는 시간 동안 기판(S)을 상승시키지 못하고 대기하는 문제를 방지할 수 있다. 결과적으로, 기판(S)을 상승시키는 데에 요구되는 시간을 줄일 수 있다.Therefore, according to the configuration of the present invention, it is possible to prevent the problem of waiting without raising the substrate S for a time period during which the strength of the vacuum increases to a strength capable of properly adsorbing the substrate S. As a result, the time required to raise the substrate S can be reduced.

그리고, 도 47에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)이 픽커 회전 모듈(1460)에 의해 회전된다. 한편, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)은 상승되는 것과 동시에 회전될 수 있다. 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)이 회전됨에 따라, 기판(S)이 반전될 수 있다.And, as shown in FIG. 47, the first and second picker modules 1430 and 1440 are rotated by the picker rotation module 1460. Meanwhile, the first and second picker modules 1430 and 1440 may be rotated simultaneously with being raised. As the first and second picker modules 1430 and 1440 are rotated, the substrate S may be inverted.

그리고, 도 48에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)이 픽커 승강 모듈(1450)에 의해 하강된다. 이에 따라, 기판(S)이 반송 유닛(1500)의 벨트(1510)를 향하여 이송될 수 있다.And, as illustrated in FIG. 48, the first and second picker modules 1430 and 1440 are lowered by the picker elevating module 1450. Accordingly, the substrate S may be transferred toward the belt 1510 of the transfer unit 1500.

그리고, 도 49에 도시된 바와 같이, 제1 픽커 모듈(1430)로부터 반송 유닛(1500)의 벨트(1510)로 기판(S)이 전달되며, 벨트(1510)로 전달된 기판(S)은 후속 공정으로 이송될 수 있다.And, as shown in FIG. 49, the substrate S is transferred from the first picker module 1430 to the belt 1510 of the transfer unit 1500, and the substrate S transferred to the belt 1510 is subsequently Can be transferred to the process.

그리고, 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)은 원래의 위치로 복귀한다. 이때, 제2 픽커 모듈(1440)이 제1 픽커 모듈(1430)의 상부에 위치되므로, 곧바로 제3 이송 유닛(800)에 의해 제2 픽커 모듈(1440)로 기판(S)이 전달될 수 있고, 기판(S)이 제1 및 제2 픽커 모듈(1430, 1440)의 상승 및 하강에 의해 반전될 수 있다. 따라서, 이러한 연속적인 동작에 의해 기판(S)을 반전시키는 과정에 요구되는 시간을 줄일 수 있다.Then, the first and second picker modules 1430 and 1440 return to their original positions. At this time, since the second picker module 1440 is located above the first picker module 1430, the substrate S may be transferred to the second picker module 1440 by the third transfer unit 800 immediately. , The substrate S may be inverted by rising and falling of the first and second picker modules 1430 and 1440. Therefore, the time required for the process of inverting the substrate S by such a continuous operation can be reduced.

상기한 바와 같이 구성되는 본 발명의 실시예에 따른 기판 절단 장치에 의하면, 복수의 절단 라인, 즉, 제1 및 제2 X축 절단 라인(XL1, XL2), 제1 Y축 절단 라인(YL1), 제2 Y축 절단 라인(YL2)이, 순차적으로 배치되는 제1 절단 유닛(200), 제2 절단 유닛(300) 및 제3 절단 유닛(400)에 의해 순차적으로 형성되면서 기판(S)이 절단될 수 있다. 따라서, 기판을 절단하기 위해 스크라이빙 공정 및 브레이킹 공정을 별도로 수행하여야 했던 종래 기술에 비하여 공정의 수를 줄여, 기판을 절단하는 데에 있어서의 효율을 향상시킬 수 있다.According to the substrate cutting apparatus according to the embodiment of the present invention configured as described above, a plurality of cutting lines, that is, the first and second X-axis cutting line (XL1, XL2), the first Y-axis cutting line (YL1) When the second Y-axis cutting line YL2 is sequentially formed by the first cutting unit 200, the second cutting unit 300, and the third cutting unit 400, the substrate S is sequentially formed. Can be cut. Therefore, the number of processes can be reduced and the efficiency in cutting the substrate can be improved as compared to the prior art in which the scribing process and the breaking process must be performed separately to cut the substrate.

본 발명의 바람직한 실시예가 예시적으로 설명되었으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에 한정되지 않으며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경될 수 있다.Although a preferred embodiment of the present invention has been described by way of example, the scope of the present invention is not limited to such a specific embodiment, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.

100: 정렬 유닛 200: 제1 절단 유닛
300: 제2 절단 유닛 400: 제1 반전 유닛
500: 제3 절단 유닛 600: 제1 이송 유닛
700: 제2 이송 유닛 800: 제3 이송 유닛
900: 더미 제거 유닛 1400: 제2 반전 유닛
100: alignment unit 200: first cutting unit
300: second cutting unit 400: first reversing unit
500: third cutting unit 600: first conveying unit
700: second transfer unit 800: third transfer unit
900: dummy removal unit 1400: second inversion unit

Claims (11)

기판을 이송하는 이송 유닛; 및
상기 이송 유닛에 의해 이송된 상기 기판을 반전시키는 반전 유닛을 포함하고,
상기 반전 유닛은,
서로 Z축 방향으로 이격되게 배치되는 제1 및 제2 픽커 모듈;
상기 제1 및 제2 픽커 모듈을 Z축 방향으로 이동시키는 픽커 승강 모듈; 및
상기 제1 및 제2 픽커 모듈을 Z축에 직교하는 축을 중심으로 회전시키는 픽커 회전 모듈을 포함하고,
상기 제1 및 제2 픽커 모듈에는 상기 기판을 흡착하는 복수의 흡착 패드가 각각 구비되고, 상기 제1 픽커 모듈에 구비되는 흡착 패드와 상기 제2 픽커 모듈에 구비되는 흡착 패드는 서로 반대 방향을 향하도록 배치되고,
상기 제1 및 제2 픽커 모듈 중 상방에 배치된 하나의 픽커 모듈로 상기 기판이 전달된 다음, 하나의 픽커 모듈이 상기 기판을 지지한 상태로 회전되어 하방에 배치되면, 다른 하나의 픽커 모듈이 상방에 배치되어 후속하는 다른 기판을 전달받는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
A transfer unit for transferring the substrate; And
Inverting unit for inverting the substrate transferred by the transfer unit,
The reversing unit,
First and second picker modules spaced apart from each other in the Z-axis direction;
A picker elevating module for moving the first and second picker modules in the Z-axis direction; And
And a picker rotation module for rotating the first and second picker modules about an axis orthogonal to the Z axis,
The first and second picker modules are each provided with a plurality of suction pads that adsorb the substrate, and the suction pads provided in the first picker module and the suction pads provided in the second picker module face opposite directions. Arranged to
When the substrate is transferred to one picker module disposed above the first and second picker modules, and then one picker module is rotated while supporting the substrate and disposed below, the other picker module A device for cutting a substrate, which is disposed above and receives subsequent substrates.
청구항 1에 있어서,
상기 반전 유닛에 의해 반전된 기판을 외부로 반송하는 반송 유닛을 더 포함하고,
상기 반송 유닛은 상기 기판의 크기에 대응하는 크기를 갖는 하나의 벨트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a conveying unit for conveying the substrate inverted by the inverting unit to the outside,
The transfer unit comprises a belt having a size corresponding to the size of the substrate substrate cutting apparatus.
청구항 1에 있어서,
상기 복수의 흡착 패드에 연결되는 진공원을 더 포함하고,
상기 진공원은 상기 복수의 흡착 패드에 상기 기판이 안착된 후 상기 제1 및 제2 픽커 모듈이 상승하는 동안, 상기 복수의 흡착 패드에 진공을 가하는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a vacuum source connected to the plurality of adsorption pads,
The vacuum source applies a vacuum to the plurality of adsorption pads while the first and second picker modules are raised after the substrates are seated on the plurality of adsorption pads.
청구항 1에 있어서,
상기 반전 유닛은, 상기 복수의 흡착 패드 각각의 압력을 측정하는 압력 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 1,
The inverting unit, further comprising a pressure sensor for measuring the pressure of each of the plurality of adsorption pads substrate cutting device.
청구항 4에 있어서,
상기 반전 유닛은, 상기 복수의 흡착 패드와 각각 연결되어 상기 복수의 흡착 패드의 높이를 조절하는 패드 높이 조절기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 4,
The inverting unit, further comprising a pad height adjuster that is connected to each of the plurality of adsorption pads to adjust the height of the plurality of adsorption pads.
청구항 5에 있어서,
상기 압력 센서에 의해 측정된 상기 복수의 흡착 패드 내의 압력 변화를 근거로 상기 패드 높이 조절기를 제어하여 상기 복수의 흡착 패드 중 하나 이상의 흡착 패드의 높이를 조절하는 제어 유닛을 더 포함하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 5,
And a control unit that controls the height of at least one of the plurality of adsorption pads by controlling the pad height adjuster based on the pressure change in the plurality of adsorption pads measured by the pressure sensor.
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
외부로부터 반입된 기판의 위치를 결정하는 정렬 유닛;
상기 기판의 제1 면 및 제2 면에 X축 방향에 평행한 제1 및 제2 X축 절단 라인을 각각 형성하는 제1 절단 유닛;
상기 기판의 제1 면에 Y축 방향에 평행한 제1 Y축 절단 라인을 형성하는 제2 절단 유닛; 및
상기 기판의 제2 면에 Y축 방향에 평행한 제2 Y축 절단 라인을 형성하는 제3 절단 유닛을 더 포함하는 기판 절단 장치.
The method according to any one of claims 1 to 6,
An alignment unit that determines the position of the substrate brought in from the outside;
A first cutting unit for forming first and second X-axis cutting lines parallel to the X-axis direction on first and second surfaces of the substrate;
A second cutting unit forming a first Y-axis cutting line parallel to the Y-axis direction on the first surface of the substrate; And
And a third cutting unit forming a second Y-axis cutting line parallel to the Y-axis direction on the second surface of the substrate.
청구항 7에 있어서,
상기 정렬 유닛은,
Y축 방향으로 연장되며 X축 방향으로 소정의 간격으로 이격되게 배치되는 복수의 벨트;
상기 복수의 벨트와 연결되어 상기 복수의 벨트를 승강시키는 벨트 승강 장치;
상기 복수의 벨트 사이에 배치되어 상기 기판을 부양시키는 복수의 부양 장치; 및
상기 복수의 부양 장치에 의해 부양된 상기 기판의 측면을 가압하는 가압 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 7,
The alignment unit,
A plurality of belts extending in the Y-axis direction and spaced apart at predetermined intervals in the X-axis direction;
A belt elevating device connected to the plurality of belts to elevate the plurality of belts;
A plurality of lifting devices disposed between the plurality of belts to support the substrate; And
And a pressing device that presses a side surface of the substrate lifted by the plurality of lifting devices.
청구항 7에 있어서,
상기 제1 절단 유닛은, X축 방향으로 연장되는 제1 프레임, 상기 제1 프레임에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며, Z축 방향으로 서로 대면하도록 배치되는 적어도 한 쌍의 제1 헤드를 포함하고,
상기 적어도 한 쌍의 제1 헤드는 Z축 방향으로 이격되게 배치되며 각각 커팅 휠을 구비하는 제1 및 제2 커팅 휠 모듈과, Z축 방향으로 이격되게 배치되며 각각 롤러를 구비하는 제1 및 제2 롤러 모듈을 포함하며,
상기 제1 커팅 휠 모듈의 커팅 휠은 상기 제2 롤러 모듈의 롤러와 서로 일치하도록 배치되며, 제2 커팅 휠 모듈의 커팅 휠은 상기 제1 롤러 모듈의 롤러와 서로 일치하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 7,
The first cutting unit includes a first frame extending in the X-axis direction, a first frame movably installed in the X-axis direction, and at least one pair of first heads disposed to face each other in the Z-axis direction. and,
The at least one pair of first heads are arranged to be spaced apart in the Z-axis direction, and each of the first and second cutting wheel modules is provided to have a cutting wheel, and the first and second rollers are spaced apart in the Z-axis direction, respectively Includes 2 roller modules,
The cutting wheel of the first cutting wheel module is arranged to coincide with the roller of the second roller module, and the cutting wheel of the second cutting wheel module is arranged to coincide with the roller of the first roller module. Substrate cutting device.
청구항 7에 있어서,
상기 제2 절단 유닛은,
X축 방향으로 연장되며 Y축 방향으로 이동 가능하도록 구성되는 제2 프레임;
상기 제2 프레임에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며 커팅 휠을 구비하는 제2 헤드;
상기 기판이 지지되는 벨트; 및
상기 벨트의 하측에서 Z축 방향으로 이동 가능하게 배치되어 상기 커팅 휠이 상기 기판에 가압될 때 상기 벨트를 지지하여 상기 기판을 지지하는 지지 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 7,
The second cutting unit,
A second frame extending in the X-axis direction and configured to be movable in the Y-axis direction;
A second head movably installed in the X-axis direction on the second frame and having a cutting wheel;
A belt on which the substrate is supported; And
And a support plate supporting the substrate by supporting the belt when the cutting wheel is pressed against the substrate by being movably disposed in the Z-axis direction from the lower side of the belt.
청구항 7에 있어서,
상기 제3 절단 유닛은,
X축 방향으로 연장되며 Y축 방향으로 이동 가능하도록 구성되는 제3 프레임;
상기 제3 프레임에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되며 커팅 휠을 구비하는 제3 헤드;
상기 기판이 지지되는 벨트; 및
상기 벨트의 하측에서 Z축 방향으로 이동 가능하게 배치되어 상기 커팅 휠이 상기 기판에 가압될 때 상기 벨트를 지지하여 상기 기판을 지지하는 지지 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 절단 장치.
The method according to claim 7,
The third cutting unit,
A third frame extending in the X-axis direction and configured to be movable in the Y-axis direction;
A third head movably installed in the X-axis direction on the third frame and having a cutting wheel;
A belt on which the substrate is supported; And
And a support plate supporting the substrate by supporting the belt when the cutting wheel is pressed against the substrate by being movably disposed in the Z-axis direction from the lower side of the belt.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102353208B1 (en) * 2020-01-29 2022-01-24 주식회사 탑 엔지니어링 Method of controlling substrate cutting apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100789454B1 (en) * 2002-02-09 2007-12-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Cutting device and method of liquid crystal panel
KR101211428B1 (en) * 2003-12-04 2012-12-18 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Substrate Processing Method, Substrate Processing Equipment and Substrate Transfer Method, Substrate Transfer Mechanism

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06254786A (en) * 1992-03-24 1994-09-13 Mitsubishi Materials Corp Vacuum sucking device
KR100753162B1 (en) 2005-12-29 2007-08-30 주식회사 탑 엔지니어링 Substrate position detection method using position error of motor and scriber using same
KR102605917B1 (en) * 2016-04-07 2023-11-27 주식회사 탑 엔지니어링 Scribing apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100789454B1 (en) * 2002-02-09 2007-12-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Cutting device and method of liquid crystal panel
KR101211428B1 (en) * 2003-12-04 2012-12-18 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Substrate Processing Method, Substrate Processing Equipment and Substrate Transfer Method, Substrate Transfer Mechanism

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