KR20200122142A - Apparatus for removing stink using plasma - Google Patents

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Abstract

A deodorization device using plasma according to one embodiment of the present invention comprises: a first plasma generation unit installed in a part of a chamber through which the gas containing odor passes, and generating plasma; and a power supply unit applying power to the first plasma generation unit. The first plasma generating unit includes: a plurality of first electrodes having flexibility; a plurality of second electrodes having flexibility, and located on the lower side of the first electrodes while intersecting the first electrodes; and a first grid part which is an overlapping region of spaced portions formed by the first electrodes being spaced apart from each other, and spaced portions formed by the second electrodes being spaced apart from each other. Plasma is generated in the first plasma generating unit by power supply from the power supply unit so as to decompose odor from the gas containing odor.

Description

플라즈마를 이용한 악취 제거 장치{APPARATUS FOR REMOVING STINK USING PLASMA}Odor removal device using plasma {APPARATUS FOR REMOVING STINK USING PLASMA}

플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 제공된다.An apparatus for removing odor using plasma is provided.

일반적으로, 하수, 분뇨, 음식물쓰레기, 각종 폐기물 등으로부터 발생되는 악취는 환경을 오염시키고, 인체에 유해할 뿐만 아니라, 불쾌감을 초래하고, 처리 비용이 많이 필요하다.In general, odors generated from sewage, manure, food waste, various wastes, etc. pollute the environment, are harmful to the human body, cause discomfort, and require a high treatment cost.

이러한 악취 제거를 위하여 플라즈마(Plasma) 장치가 사용되고 있는데, 플라즈마 장치는 전극이 비유연전극(Non-flexible Electrode)의 형태를 이용하므로, 피처리물의 다양한 형태에 대응하기 어렵다. 또한, 플라즈마 생성하기 위해서 플루오린(Fluorine, F) 또는 메탄(Methane, CH4) 등의 가스를 추가적으로 이용해야 하기 때문에 사용 시 가스 공급에 따른 장소의 제한이 발생될 수 있다.In order to remove such odors, a plasma device is used. Since the plasma device uses a form of a non-flexible electrode, it is difficult to cope with various types of objects to be treated. In addition, since gas such as fluorine (F) or methane (Methane, CH4) needs to be additionally used to generate plasma, there may be restrictions on locations due to gas supply during use.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취를 포함 기체가 통과하는 챔버에 설치되어 안정적으로 플라즈마를 방전하고 플라즈마와 오존을 이용하여 악취 성분의 분해 효율을 높이기 위한 것이다.An apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a chamber through which gas including odor passes, stably discharges plasma, and increases decomposition efficiency of odor components by using plasma and ozone.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취를 포함 기체가 통과하는 챔버와 연결된 덕트에 설치되어 플라즈마를 형성한 상태에서 오존을 이용하여 악취 성분을 용이하게 분해하기 위한 것이다.An apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a duct connected to a chamber through which gas including odor passes, and is to easily decompose odor components using ozone in a state in which plasma is formed.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 플라즈마 생성부를 통해 1차로 기체의 악취를 제거하고, 챔버의 후단부에 설치되는 후단 플라즈마 생성부를 통해 2차로 기체의 악취를 제거하여 악취 제거의 신뢰성을 높이기 위한 것이다.In the apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment of the present invention, the odor of the gas is firstly removed through the plasma generation unit, and the odor of the gas is secondarily removed through the plasma generation unit installed at the rear end of the chamber. It is to increase the reliability of the company.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 대기압에서 플라즈마 특수 가스를 주입하지 않고 피처리물의 다양한 형태에 유연하게 대응하면서 안정적으로 장시간 플라즈마를 방전하기 위한 것이다.An apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment of the present invention is for stably discharging plasma for a long time while flexibly responding to various types of objects to be processed without injecting a special plasma gas at atmospheric pressure.

상기 과제 이외에도 구체적으로 언급되지 않은 다른 과제를 달성하는 데 본 발명에 따른 실시예가 사용될 수 있다.In addition to the above problems, the embodiments according to the present invention may be used to achieve other tasks not specifically mentioned.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취 포함 기체가 통과하는 챔버의 일부에 설치되고, 플라즈마가 생성되는 제1 플라즈마 생성부 및 제1 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고, 제1 플라즈마 생성부는, 유연성을 가지는 복수개의 제1 전극, 제1 전극의 하부에 위치하고, 제1 전극과 교차하며 위치하고 유연성을 가지는 복수개의 제2 전극, 및 복수개의 제1 전극의 서로 이격된 이격부와 복수개의 제2 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부를 포함하고 전원공급부의 전원 공급에 의해 제1 플라즈마 생성부에 플라즈마가 생성되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킨다.The apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a part of a chamber through which odor-containing gas passes, and supplies power for applying power to the first plasma generation unit and the first plasma generation unit where plasma is generated. The first plasma generating unit includes a plurality of first electrodes having flexibility, a plurality of second electrodes positioned under the first electrode, crossing the first electrode, and having flexibility, and the plurality of first electrodes. It includes a first grating part, which is an overlapping area of the spaced part spaced apart from each other and the spaced part spaced apart from each other of a plurality of second electrodes. Plasma is generated in the first plasma generation part by the power supply of the power supply to decompose odors from gases including odors. Let it.

제1 플라즈마 생성부는, 챔버와 연결된 덕트에 설치되고, 덕트에서 플라즈마를 발생시키고 챔버의 내부로 오존이 유입되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킬 수 있다. 상기 제1 전극과 대향하며 위치하는 복수개의 제3 전극을 포함하고 상기 덕트에서 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제2 플라즈마 생성부를 더 포함할 수 있다. 제3 전극은, 상기 제3 전극의 내부로 냉각재가 주입될 수 있다. 제2 플라즈마 생성부는, 상기 제3 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제4 전극을 포함할 수 있다. 제2 플라즈마 생성부는, 복수개의 제3 전극의 서로 이격된 이격부와 복수개의 제4 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제2 격자부를 포함하고, 제2 격자부의 면적은 제1격자부의 면적과 상이할 수 있다.The first plasma generating unit is installed in a duct connected to the chamber, generates plasma in the duct, and allows ozone to flow into the chamber to decompose odors from odor-containing gases. A second plasma generating unit including a plurality of third electrodes facing and positioned with the first electrode and spaced apart from the first plasma generating unit in the duct may be further included. In the third electrode, a coolant may be injected into the third electrode. The second plasma generation unit may include a plurality of fourth electrodes intersecting with the third electrode. The second plasma generating unit includes a second grid portion that is an overlapping region of a spaced portion of the plurality of third electrodes and a spaced portion of the plurality of fourth electrodes spaced apart from each other, and an area of the second grid portion is an area of the first grid portion Can be different from

제1 플라즈마 생성부는, 챔버에 설치되고, 챔버에서 플라즈마를 발생시켜 챔버의 내부로 플라즈마 및 오존이 유입되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킬 수 있다. 복수개의 제5 전극 및 제5 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제6 전극을 포함하고 챔버에서 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제3 플라즈마 생성부를 더 포함할 수 있다. 제5 전극은, 제1 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되고, 제6 전극은 제2 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장될 수 있다.The first plasma generating unit is installed in the chamber and generates plasma in the chamber to allow plasma and ozone to flow into the chamber to decompose odors from odor-containing gases. A third plasma generating unit including a plurality of fifth electrodes and a plurality of sixth electrodes intersecting with the fifth electrode and disposed spaced apart from the first plasma generating unit in the chamber may be further included. The fifth electrode may extend with the first electrode at a preset angle, and the sixth electrode may extend with the second electrode at a preset angle.

챔버는, 챔버의 일측 단부와 연결되고, 플라즈마가 회전 유동하면서 챔버를 통과한 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 후단 플라즈마 생성부를 포함할 수 있다. 후단 플라즈마 생성부는, 외부전극, 외부전극의 내부에 위치하는 내부전극 및 외부전극의 내부로 주입된 가스에 와류를 유도하여 플라즈마를 회전 유동 시키는 회전발생기를 포함할 수 있다.The chamber may include a plasma generating unit connected to one end of the chamber and configured to decompose the odor from the odor-containing gas passing through the chamber while the plasma rotates. The rear-stage plasma generator may include an external electrode, an internal electrode positioned inside the external electrode, and a rotation generator for rotating and flowing plasma by inducing a vortex in a gas injected into the external electrode.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취 포함 기체가 통과하는 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 플라즈마가 생성되는 플라즈마 생성부, 및 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고, 플라즈마 생성부는, 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 유전체 챔버의 일측에서 타측 방향으로 돌출된 톱니부를 포함하는 내부전극을 포함하고, 전원공급부의 전원 공급에 의해 유전체 챔버의 내부에 플라즈마가 생성되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킬 수 있다.An apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment of the present invention includes a plasma generating unit for generating plasma, and a power supply unit for applying power to the plasma generating unit, located inside a dielectric chamber through which odor-containing gas passes. , The plasma generation unit includes an internal electrode located inside the dielectric chamber and including a toothed portion protruding from one side of the dielectric chamber to the other side, and plasma is generated inside the dielectric chamber by supplying power from the power supply unit to contain odor. It can decompose odors from gases.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취를 포함 기체가 통과하는 챔버 또는 챔버와 연결된 덕트에 설치되어 플라즈마와 오존을 이용하여 악취 성분을 분해 효율을 높일 수 있으며, 플라즈마 생성부를 통해 1차로 기체의 악취를 제거하고, 챔버의 후단부에 설치되는 후단 플라즈마 생성부를 통해 2차로 기체의 악취를 제거하여 악취 제거의 신뢰성을 높일 수 있으며, 대기압에서 플라즈마 특수 가스를 주입하지 않고 피처리물의 다양한 형태에 유연하게 대응하면서 안정적으로 장시간 플라즈마를 방전할 수 있다.The apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a chamber through which gas including odor passes or a duct connected to the chamber to increase the efficiency of decomposition of odor components using plasma and ozone. It is possible to improve the reliability of odor removal by first removing the odor of the gas through the first step, and secondly removing the odor of the gas through the plasma generating unit installed at the rear end of the chamber, and without injecting a special plasma gas at atmospheric pressure. Plasma can be stably discharged for a long time while responding flexibly to various forms of water.

도 1은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 챔버의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2내지 도 4는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제2 플라즈마 생성부의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 챔버의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부의 정면도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 후단 플라즈마 생성부의 단면도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a view schematically showing a perspective view of a state in which an apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment is installed in a part of a chamber.
2 to 4 are diagrams schematically showing perspective views of a first plasma generating unit and a second plasma generating unit of an apparatus for removing odors using plasma according to an exemplary embodiment.
5 is a diagram schematically illustrating a perspective view of a state in which an apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment is installed in a part of a chamber.
6 is a diagram schematically illustrating a perspective view of a first plasma generating unit and a third plasma generating unit of an apparatus for removing odor using plasma according to an exemplary embodiment.
7 is a diagram schematically illustrating a front view of a first plasma generating unit and a third plasma generating unit of an apparatus for removing odor using plasma according to an exemplary embodiment.
8 is a diagram schematically showing a cross-sectional view of a plasma generator at a rear end of an apparatus for removing odor using plasma according to an exemplary embodiment.
9 is a diagram schematically showing a perspective view of an apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment.

첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호가 사용되었다. 또한 널리 알려져 있는 공지기술의 경우 그 구체적인 설명은 생략한다. Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art may easily implement the present invention. The present invention may be implemented in various different forms, and is not limited to the embodiments described herein. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and the same reference numerals are used for the same or similar components throughout the specification. Also, in the case of well-known technologies, detailed descriptions thereof will be omitted.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 한편, 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 한편, 어떤 부분이 다른 부분 "바로 아래에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thicknesses are enlarged to clearly express various layers and regions. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the case where the other part is "directly above", but also the case where there is another part in between. On the other hand, when a part is said to be "right above" another part, it means that there is no other part in the middle. Conversely, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is said to be "under" another part, this includes not only the case where the other part is "directly below", but also the case where there is another part in the middle. On the other hand, when one part is "right below" another part, it means that there is no other part in the middle.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.

도 1은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치(1)가 챔버(C)의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내고 도 2 내지 도 4는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치(1)의 제1 플라즈마 생성부(10)와 제2 플라즈마 생성부(20)의 사시도를 나타낸다.1 schematically shows a perspective view of a state in which an odor removing apparatus 1 using plasma according to an embodiment is installed in a part of a chamber C, and FIGS. 2 to 4 are odor removal apparatus 1 using plasma according to the embodiment. ) Is a perspective view of the first plasma generating unit 10 and the second plasma generating unit 20.

도 1 내지 도 4를 참고하면, 악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제2 플라즈마 생성부(20)를 포함할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제2 플라즈마 생성부(20)는 악취 제거 장치(1) 중 임의의 위치에 있는 두 개의 플라즈마 생성부(10, 20)를 의미하고, 도면들에 표시된 위치에 제한되지 않는다. 악취 제거 장치(1)는 하나 이상의 플라즈마 생성부를 포함할 수 있고, 플라즈마 생성부는 필요에 따라 다양한 개수로 배치될 수 있다.1 to 4, the odor removal apparatus 1 may include a first plasma generation unit 10 and a second plasma generation unit 20. The first plasma generating unit 10 and the second plasma generating unit 20 refer to two plasma generating units 10 and 20 at any position among the odor removing apparatus 1, and at the positions indicated in the drawings. Not limited. The odor removal apparatus 1 may include one or more plasma generating units, and the plasma generating units may be arranged in various numbers as necessary.

제1 플라즈마 생성부(10)는 악취 포함 기체(S)가 인입되는 챔버(C)와 연결된 덕트(D)에 설치될 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)는 볼팅 결합, 리벳 결합 등의 결합부(미도시)를 포함하여 덕트(D)에 고정될 수 있으며. 필요에 따라 자성부(미도시)를 포함하여 덕트(D)에 탈부착이 용이하도록 설치될 수 있다.The first plasma generating unit 10 may be installed in a duct D connected to the chamber C into which the odor-containing gas S is introduced. The first plasma generating unit 10 may be fixed to the duct D by including a bonding unit (not shown) such as bolting or rivet bonding. If necessary, it may be installed to facilitate attachment and detachment to the duct D including a magnetic part (not shown).

악취 포함 기체(S)는 하수, 분뇨, 음식물쓰레기, 각종 폐기물 등으로부터 발생되는 악취를 포함하는 기체로서, 이는 암모니아, 황화수소, 메틸메캅탄, 아황산 등을 포함하는 기체일 수 있으며, 폐기물의 이동 또는 저장으로 인해 발생되는 악취뿐만 아니라, 축사 등과 같은 곳에서 발생하는 악취를 포함하는 기체 등일 수 있다.The odor-containing gas (S) is a gas containing odors generated from sewage, manure, food waste, various wastes, etc., which may be a gas containing ammonia, hydrogen sulfide, methyl mecaptan, sulfurous acid, etc., and the movement of wastes or It may be a gas containing not only the odor generated by storage, but also the odor generated in a place such as a barn.

챔버(C)는 y축 방향을 따라 뻗으며, 일방향을 따라 악취를 포함하는 기체(S)를 통과시킬 수 있다. 덕트(D)의 일측은 챔버(C)와 연결되고 타측은 송풍기(Fan)가 설치될 수 있다. 송풍기(Fan)는 공기 유동을 일으키며 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 플라즈마(P), 활성 라디칼, 오존 등을 챔버(C)로 이동시킬 수 있다. 챔버(C)는 원통형 형상을 가지고, 덕트(D)는 사각기둥형 형상을 가질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The chamber C extends along the y-axis direction and may pass the gas S containing odor along one direction. One side of the duct D may be connected to the chamber C, and the other side may be installed with a fan. The blower Fan generates air flow and may move plasma P, active radicals, ozone, and the like generated by the first plasma generating unit 10 to the chamber C. The chamber (C) may have a cylindrical shape, and the duct (D) may have a square column shape, but is not limited thereto.

제 1 플라즈마 생성부(10)는 유연한 특성을 가지는 제1 전극(11) 및 제2 전극(12)을 포함하고, 플라즈마(P)를 생성한다. 제1 전극(11)은 y축 방향을 따라 뻗고 제2 전극(12)은 제1 전극(11)의 하부에서 x축 방향을 따라 뻗으며 서로 교차하며 위치한다. 이 경우, 제1 전극(11)과 제2 전극(12)이 서로 맞닿는 접촉부(18) 및 복수개의 제1 전극(11)이 서로 이격된 이격부와 복수개의 제2 전극(12)이 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부(13)가 형성될 수 있다.The first plasma generating unit 10 includes a first electrode 11 and a second electrode 12 having flexible characteristics, and generates plasma P. The first electrode 11 extends along the y-axis direction, and the second electrode 12 extends along the x-axis direction from the bottom of the first electrode 11 and intersects each other. In this case, the contact portion 18 where the first electrode 11 and the second electrode 12 abut each other, and the spaced portion where the plurality of first electrodes 11 are spaced apart from each other, and the plurality of second electrodes 12 are separated from each other. A first grid portion 13, which is an overlapping region of the separated spaced portion, may be formed.

제 1 플라즈마 생성부(10)는 제1 전극(11)과 제2 전극(12)에 전원이 인가되면 플라즈마 방전이 이루어지고, 생성된 에너지를 이용하여 오존을 생성 할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 오존은 챔버(C)로 이동하여 악취 포함 기체(S)에 포함되는 악취, 세균, 곰팡이 등의 미생물을 제거하여 정화작용을 수행 할 수 있다.When power is applied to the first and second electrodes 11 and 12, the first plasma generation unit 10 generates plasma discharge and generates ozone using the generated energy. The ozone generated by the first plasma generating unit 10 may move to the chamber C and perform a purification action by removing microorganisms such as odors, bacteria, molds, etc. contained in the odor-containing gas S.

제1 전극(11) 및 제2 전극(12)에 전원이 인가되면 플라즈마(P)가 방전되어 전자는 해리(dissociation), 이온화(ionization), 여기(excitation) 반응을 통하여 질소(N2), 산소(O2), 수분(H20) 등을 활성화시켜서 활성 라디칼과 오존을 생성시킬 수 있다. 이러한 활성 라디칼과 오존에 의해 암모니아, 황화수소, 메틸메캅탄, 아황산 등을 분해시킬 뿐만 아니라, 세균이나 곰팡이 등의 유해한 미생물을 제거할 수 있다.When power is applied to the first electrode 11 and the second electrode 12, the plasma P is discharged and electrons are converted into nitrogen (N 2 ) through dissociation, ionization, and excitation reactions. By activating oxygen (O 2 ) and moisture (H 2 0), active radicals and ozone can be generated. These active radicals and ozone not only decompose ammonia, hydrogen sulfide, methyl mecaptan, sulfurous acid, etc., but also remove harmful microorganisms such as bacteria and fungi.

도 2 및 도 4를 참고하면, 제 1 플라즈마 생성부(10)는 제1 전극(11)과 제2 전극(12)의 외측을 둘러싸며 위치하는 하우징(19)을 포함한다. 하우징(19)은 내부에 제1 전극(11)과 제2 전극(12)을 수용하면서 보호할 수 있다. 하우징(19)에는 전원, 접지선 등이 연결될 수 있는 전원공급부(40)가 설치될 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 4, the first plasma generating unit 10 includes a housing 19 positioned outside the first electrode 11 and the second electrode 12. The housing 19 may be protected while accommodating the first electrode 11 and the second electrode 12 therein. The housing 19 may be provided with a power supply unit 40 to which a power source and a ground wire may be connected.

하우징(19)은 사각형, 원형 등의 형상을 가질 수 있으며 필요에 따라 곡면을 갖는 플레이트 형상을 가질 수 있다. 이 경우 제1 전극(11)과 제2 전극(12)은 유연한 특성을 가지므로, 하우징(19)의 형상에 맞추어 휘어지면서 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.The housing 19 may have a shape such as a square or a circle, and may have a plate shape having a curved surface as needed. In this case, since the first electrode 11 and the second electrode 12 have flexible characteristics, plasma treatment may be performed while being bent in accordance with the shape of the housing 19.

전원공급부(40)는 제1 전극(11)과 제2 전극(12)과 연결되어 전원을 인가할 수 있다. 전원공급부(40)에서 전원을 인가하면 제1 전극(11)과 제2 전극(12)가 상호 맞닿는 접촉부(18)에서 방전이 되어 플라즈마(P)가 형성될 수 있다. 이 경우, 플라즈마(P)는 대기압 상태에서 안정적으로 장시간 방전될 수 있다.The power supply unit 40 may be connected to the first electrode 11 and the second electrode 12 to apply power. When power is applied from the power supply unit 40, the first electrode 11 and the second electrode 12 are discharged at the contact portion 18 where they contact each other, thereby forming the plasma P. In this case, the plasma P may be stably discharged for a long time under atmospheric pressure.

제1 전극(11)은 유연성을 가지며, 제1 금속와이어(14), 및 제1 금속와이어(14)를 감싸며 위치하는 제1 유전체(15)로 형성되고, 제2 전극(12)은 유연성을 가지며, 제2 금속와이어(16) 및 제2 금속와이어(16)를 감싸는 제2 유전체(17)로 형성된다.The first electrode 11 has flexibility, and is formed of a first metal wire 14 and a first dielectric 15 positioned surrounding the first metal wire 14, and the second electrode 12 has flexibility. And is formed of a second metal wire 16 and a second dielectric 17 surrounding the second metal wire 16.

제1 전극(11)은 제2 전극(12)의 상부에 위치하고, 제2 전극(12)은 제1 전극(11)의 하부에 위치하면서 서로 z축 방향으로 맞닿을 수 있다. 제1 전극(11), 제2 전극(12)은 상부와 하부에 위치하며 맞닿는 구조이므로, 전극부가 서로 꼬인 구조와 비교시, 꼬인 부분의 높은 전기장 세기에 의해 유전체가 파괴되어 구멍이 생기는 현상을 미연에 방지할 수 있다.The first electrode 11 may be positioned above the second electrode 12, and the second electrode 12 may be positioned below the first electrode 11 and contact each other in the z-axis direction. Since the first electrode 11 and the second electrode 12 are located at the top and the bottom and are in contact with each other, compared to a structure in which the electrode portions are twisted, the dielectric is destroyed by the high electric field strength of the twisted portion and a hole is formed. It can be prevented in advance.

제1 금속와이어(14)와 제2 금속와이어(16)는 전기전도성이 높은 물질인 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt) 또는 알루미늄(Al) 등으로 제조될 수 있다. 제1 유전체(15)와 제2 유전체(17)는 폴리에스테르 또는 폴리에테르와 이소시아네이트와의 반응에 의해 제조된 탄성체로 제조될 수 있다.The first metal wire 14 and the second metal wire 16 are made of copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), or aluminum (Al), which are materials with high electrical conductivity. I can. The first dielectric material 15 and the second dielectric material 17 may be made of polyester or an elastic material produced by reaction of polyether and isocyanate.

악취 제거 장치(1)는 덕트(D)에 설치되고, 제1 플라즈마 생성부(10)와 이격하며 위치하는 제2 플라즈마 생성부(20)를 포함한다. 제2 플라즈마 생성부(20)는 y축 방향을 따라 뻗는 제3 전극(21) 및 x축 방향을 따라 뻗는 제4 전극(22)을 포함하고, 전원이 인가되면 플라즈마(P)를 생성한다. 제3 전극(21)과 제4 전극(22)은 복수개로, 서로 교차하며 위치하면서 그 사이의 이격 공간인 제2 격자부(23) 및 상호 맞닿는 접촉부(28)를 형성할 수 있다. 제3 전극(21)과 제4 전극(22)은 각각 금속와이어 및 금속와이어를 감싸며 위치하는 유전체로 형성될 수 있다.The odor removal apparatus 1 is installed in the duct D, and includes a second plasma generating unit 20 positioned spaced apart from the first plasma generating unit 10. The second plasma generating unit 20 includes a third electrode 21 extending along a y-axis direction and a fourth electrode 22 extending along an x-axis direction, and generates plasma P when power is applied. The third electrode 21 and the fourth electrode 22 may be formed in plural, intersecting each other, and forming a second grid portion 23 and a contact portion 28 which are spaced apart therebetween. The third electrode 21 and the fourth electrode 22 may be formed of a metal wire and a dielectric material that surrounds the metal wire, respectively.

제2 플라즈마 생성부(20)는 제1 플라즈마 생성부(10)와 동일한 구조를 가질 수 있으나, 필요에 따라 전극의 구조를 달리 형성할 수 있다.The second plasma generating unit 20 may have the same structure as the first plasma generating unit 10, but the electrode structure may be differently formed as necessary.

예를 들어, 도 2를 참고하면, 제2 격자부(23)의 면적은 제1 격자부(13)의 면적보다 클 수 있다. 이 경우, 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 라디칼과 오존의 양이 제2 플라즈마 생성부(20)에서 생성된 양보다 크므로, 공기 유동을 일으키는 팬을 구동하지 않더라도 자연스럽게 제2 플라즈마 생성부(20)에서 생성된 라디칼과 오존을 챔버(C)를 향해 밀어내면서 함께 이동할 수 있다. 또한, 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 활성 라디칼과 오존은 큰 단면적의 제2 격자부(23)를 통과할 수 있으므로 덕트(D)에서의 이동 속도가 비교적 빠를 수 있다.For example, referring to FIG. 2, the area of the second grid portion 23 may be larger than the area of the first grid portion 13. In this case, since the amount of radicals and ozone generated by the first plasma generating unit 10 is greater than the amount generated by the second plasma generating unit 20, the second plasma is naturally generated even if the fan that causes the air flow is not driven. The radicals and ozone generated in the part 20 may be moved together while pushing toward the chamber C. In addition, active radicals and ozone generated by the first plasma generating unit 10 may pass through the second grating unit 23 having a large cross-sectional area, so that the moving speed in the duct D may be relatively high.

따라서, 제2 격자부(23)의 면적이 제1 격자부(13)의 면적보다 클 경우, 활성 라디칼과 오존이 빠른 속도로 챔버(C)에 유입될 수 있으므로 악취 포함 기체(S)의 악취 처리의 효율을 높일 수 있다. 또한, 악취 포함 기체(S)가 챔버(C)를 통과하는 유동 속도가 빠를 경우에도, 그 속도에 대응하여 활성 라디칼과 오존을 챔버(C)에 적절하게 유입시킬 수 있으므로 악취 처리의 신뢰성을 높일 수 있다.Therefore, if the area of the second grid part 23 is larger than the area of the first grid part 13, active radicals and ozone may flow into the chamber C at a high speed, so the odor of the gas S including odor The efficiency of treatment can be improved. In addition, even when the flow rate at which the odor-containing gas (S) passes through the chamber (C) is high, active radicals and ozone can be appropriately introduced into the chamber (C) in response to the speed, thereby increasing the reliability of odor treatment. I can.

도 3을 참고하면, 제2 격자부(23)의 면적은 제1 격자부(13)의 면적보다 작을 수 있다. 이 경우, 제1 플라즈마 생성부(10)와 제2 플라즈마 생성부(20)에서 동시에 비교적 큰 양의 플라즈마가 생성되므로 활성 라디칼과 오존의 양이 증가할 수 있다. 즉, 다량의 라디칼과 오존은 챔버(C)를 향해 이동할 수 있으므로,, 비교적 농도가 높은 악취 포함 기체(S)의 악취 처리도 효율적으로 수행할 수 있다.Referring to FIG. 3, an area of the second grating portion 23 may be smaller than an area of the first grating portion 13. In this case, since a relatively large amount of plasma is simultaneously generated in the first plasma generating unit 10 and the second plasma generating unit 20, the amount of active radicals and ozone may increase. That is, since a large amount of radicals and ozone can move toward the chamber C, the odor treatment of the odor-containing gas S having a relatively high concentration can be efficiently performed.

도 4를 참고하면, 제2 플라즈마 생성부(20)는 y축 방향을 따라 뻗는 제3 전극(21)으로만 형성될 수 있다. 이 경우 제3 전극(21)은 원통형 형상을 가지는 금속전극(24) 및 금속전극(24)을 감싸며 위치하는 알루미나 튜브(25)로 형성된다. 금속전극(24)은 주입부(미도시)와 연결되고, 주입부는 금속전극(24)의 내부에는 냉각재를 주입할 수 있다. 냉각재는 냉각수 또는 냉각가스 등의 물에서부터 비활성 기체에 이르기까지 다양한 유체일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Referring to FIG. 4, the second plasma generating unit 20 may be formed only with the third electrode 21 extending along the y-axis direction. In this case, the third electrode 21 is formed of a metal electrode 24 having a cylindrical shape and an alumina tube 25 positioned surrounding the metal electrode 24. The metal electrode 24 is connected to an injection unit (not shown), and the injection unit may inject a coolant into the metal electrode 24. The coolant may be a variety of fluids ranging from water such as cooling water or cooling gas to an inert gas, but is not limited thereto.

금속전극(24)에 주입된 냉각재는 금속전극(24)의 내부를 순환하면서 플라즈마 방전에서 발생하는 열과 유전체의 유전가열로 인한 발생 열을 효과적으로 제어할 수 있다. 저온으로 일정하게 유지되는 방전기는 안정적으로 플라즈마를 발생시킬 수 있으므로 장시간 운전에도 안전성을 확보할 수 있다. 또한 악취의 농도, 악취의 성분 등의 특징에 따라 냉각 온도를 달리 설정할 수 있으므로 필요한 화학적 활성종의 생성에 최적화된 냉각 조건을 제공하여 악취 처리의 효율을 향상시킬 수 있다.The coolant injected into the metal electrode 24 can effectively control heat generated by plasma discharge and heat generated by dielectric heating of the dielectric while circulating inside the metal electrode 24. Dischargers maintained at a constant low temperature can stably generate plasma, so safety can be secured even during long-time operation. In addition, since the cooling temperature can be set differently according to characteristics such as the concentration of the odor and the components of the odor, it is possible to improve the efficiency of the odor treatment by providing cooling conditions optimized for the generation of necessary chemically active species.

악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제2 플라즈마 생성부(20)를 통해 덕트(D)에서 미리 플라즈마 방전을 수행하고, 플라즈마를 통해 생성된 활성 라디칼과 오존을 악취 포함 기체(S)가 통과하는 챔버(C)에 제공하여 간접적으로 기체의 악취 제거를 수행할 수 있다. 이에, 제1 플라즈마 생성부(10)가 악취 포함 기체(S)와 맞닿지 않으므로, 악취 포함 기체(S)가 수분을 포함한 경우에 발생할 수 있는 전극의 마모, 손상 또는 오염 등을 미연에 방지할 수 있다. The odor removal device 1 performs plasma discharge in advance in the duct D through the first plasma generation unit 10 and the second plasma generation unit 20, and contains active radicals and ozone generated through the plasma of odor. By providing it to the chamber C through which the gas S passes, it is possible to indirectly remove the odor of the gas. Accordingly, since the first plasma generating unit 10 does not come into contact with the odor-containing gas (S), it is possible to prevent abrasion, damage, or contamination of the electrode that may occur when the odor-containing gas (S) contains moisture. I can.

또한, 악취 제거 장치(1)는 제1 격자부(13)의 면적과 제2 격자부(23)의 면적이 서로 상이한 구조를 가지거나, 전극 내부를 순환하는 냉각재를 포함할 수 있으므로 플라즈마, 활성 라디칼, 오존 등의 생성량, 이동 속도 등의 달리 적용하여 악취 처리의 신뢰성 및 효율성을 높일 수 있다.In addition, since the odor removal device 1 has a structure in which the area of the first grid part 13 and the area of the second grid part 23 are different from each other, or may include a coolant circulating inside the electrode, plasma, active It is possible to increase the reliability and efficiency of odor treatment by applying different amounts of radicals, ozone, and the like, and movement speed.

도 5는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 챔버의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내고, 도 5는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부의 사시도를 개략적으로 나타낸다.5 schematically shows a perspective view of a state in which an apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment is installed in a part of a chamber, and FIG. 5 is a first plasma generating unit and a third plasma of the apparatus for removing odor using plasma according to the embodiment It schematically shows a perspective view of the generator.

도 5 및 도 6을 참고하면, 악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)를 포함할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)는 악취 제거 장치(1) 중 임의의 위치에 있는 두 개의 플라즈마 생성부(10, 30)를 의미하고, 도면들에 표시된 위치에 제한되지 않는다. 악취 제거 장치(1)는 하나 이상의 플라즈마 생성부를 포함할 수 있고, 플라즈마 생성부는 필요에 따라 다양한 개수로 배치될 수 있다.5 and 6, the odor removal apparatus 1 may include a first plasma generation unit 10 and a third plasma generation unit 30. The first plasma generation unit 10 and the third plasma generation unit 30 refer to two plasma generation units 10 and 30 at any position among the odor removal apparatus 1, and are located at the positions indicated in the drawings. Not limited. The odor removal apparatus 1 may include one or more plasma generating units, and the plasma generating units may be arranged in various numbers as necessary.

제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)는 악취 포함 기체(S)가 인입되는 챔버(C)의 본체에 설치되어 플라즈마(P), 활성 라디칼, 오존 등을 발생시켜 챔버(C)의 악취 포함 기체(S)와 맞닿으며 악취를 처리할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)는 볼팅 결합, 리벳 결합 등의 결합부를 포함하여 챔버(C)의 본체에 고정되거나 자성부를 포함하여 덕트(C)에 탈부착이 용이하도록 설치될 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)는 도 2의 제1 플라즈마 생성부(10)의 구조와 유사하므로, 그 상세한 설명을 생략한다.The first plasma generation unit 10 and the third plasma generation unit 30 are installed in the main body of the chamber C into which the odor-containing gas S is introduced to generate plasma P, active radicals, ozone, etc. It comes into contact with the odor-containing gas (S) of (C) and can treat the odor. The first plasma generating unit 10 may be fixed to the main body of the chamber C including a bolting connection, a rivet connection, or the like, or may be installed to facilitate attachment and detachment to the duct C including a magnetic part. Since the first plasma generating unit 10 is similar to the structure of the first plasma generating unit 10 of FIG. 2, a detailed description thereof will be omitted.

악취 제거 장치(1)는 챔버(C)에서 제1 플라즈마 생성부(10)와 이격하며 위치하는 제3 플라즈마 생성부(30)를 포함한다. 제3 플라즈마 생성부(30)는 제5 전극(31) 및 제6 전극(32)을 포함하고, 제5 전극(31) 및 제6 전극(32)에 전원이 인가되면 플라즈마를 생성한다.The odor removal apparatus 1 includes a third plasma generation unit 30 located in the chamber C and spaced apart from the first plasma generation unit 10. The third plasma generator 30 includes the fifth electrode 31 and the sixth electrode 32, and generates plasma when power is applied to the fifth electrode 31 and the sixth electrode 32.

제5 전극(31)은 복수개로, 제1 전극(11)이 연장된 방향을 기준으로 제1 전극(11)과 대각선을 이루는 방향을 따라 뻗으며 위치한다. 제6 전극(32)은 복수개로, 제2 전극(12)이 연장된 방향을 기준으로 제2 전극(12)과 대각선을 이루는 방향을 따라 뻗으며 위치한다. 제5 전극(31)과 제6 전극(32)은 서로 교차하며 위치하면서 그 사이의 이격 공간인 제3 격자부(33) 및 상호 맞닿는 접촉부(38)를 형성할 수 있다. 제5 전극(31)과 제6 전극(32)은 각각 금속와이어 및 금속와이어를 감싸며 위치하는 유전체로 형성될 수 있다.The fifth electrode 31 is plural and is positioned to extend along a direction forming a diagonal line with the first electrode 11 based on the direction in which the first electrode 11 extends. The sixth electrode 32 is plural and is positioned to extend along a direction forming a diagonal line with the second electrode 12 based on a direction in which the second electrode 12 extends. The fifth electrode 31 and the sixth electrode 32 may be positioned to cross each other and form a third grid portion 33 and a contact portion 38 that are spaced apart therebetween. The fifth electrode 31 and the sixth electrode 32 may be formed of a metal wire and a dielectric disposed surrounding the metal wire, respectively.

도 7은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부를 y축 방향에서 본 정면도를 개략적으로 나타낸다.7 is a schematic front view of a first plasma generating unit and a third plasma generating unit of an apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment, as viewed from a y-axis direction.

도 7을 참고하면, 제5 전극(31)은 제1 전극(11)이 연장된 방향을 기준으로 제1 전극(11)과 미리 설정된 각도를 이루며 위치하고, 제6 전극(32)은 제2 전극(12)이 연장된 방향을 기준으로 제2 전극(12)과 미리 설정된 각도를 이루며 위치한다. 즉, y축 방향으로 본 정면도에서 제1 격자부(13)는 사각형 형상을 가질 수 있고, 제3 격자부는 제1 격자부(13)의 사각형 형상을 기준으로 미리 설정된 각도를 이루며 위치하므로 마름모 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 7, the fifth electrode 31 is positioned at a predetermined angle with the first electrode 11 based on the direction in which the first electrode 11 extends, and the sixth electrode 32 is a second electrode. The second electrode 12 is positioned at a predetermined angle with respect to the direction in which (12) is extended. That is, in the front view viewed in the y-axis direction, the first grid part 13 may have a square shape, and the third grid part is located at a predetermined angle based on the square shape of the first grid part 13, so Can have

이 경우, 제1 격자부(13)에는 제5 전극(31)과 제6 전극(32)이 상호 맞닿는 접촉부(38)가 위치하면서 플라즈마가 생성되지 않는 제1 격자부(13)의 영역을 접촉부(38)에서 생성된 플라즈마가 채울 수 있으므로. 플라즈마 발생 영역을 촘촘하게 형성할 수 있다.In this case, the first grid part 13 has a contact part 38 where the fifth electrode 31 and the sixth electrode 32 abut each other, and the region of the first grid part 13 where plasma is not generated is a contact part. Since the plasma generated in (38) can fill. The plasma generation region can be formed densely.

따라서, 악취 제거 장치(1)는 플라즈마가 챔버(C)에 빈틈없이 생성되어 악취 포함 기체(S)의 악취 처리를 단시간에 수행할 수 있고, 악취 포함 기체(S)의 악취 농도가 높은 경우 악취 처리의 신뢰성을 높일 수 있다.Therefore, the odor removal device 1 can perform the odor treatment of the odor-containing gas (S) in a short time because plasma is generated tightly in the chamber (C), and if the odor concentration of the odor-containing gas (S) is high, the odor The reliability of processing can be improved.

또한, 악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)가 챔버(C)의 본체에 설치되므로, 악취 포함 기체(S)와 플라즈마, 활성 라디칼 또는 오존과 직접적으로 맞닿아 처리될 수 있으므로 악취 처리 효율을 높일 수 있다. In addition, since the first plasma generating unit 10 and the third plasma generating unit 30 are installed in the main body of the chamber C, the odor removing device 1 has a gas containing odor (S) and plasma, active radicals, or ozone. Since it can be treated in direct contact with the odor treatment efficiency can be improved.

도 4 및 도 8을 참고하면, 챔버(C)의 일측 단부에는 후단 플라즈마 생성부(50)가 설치될 수 있다. 후단 플라즈마 생성부(50)는 플라즈마 생성부(10, 20, 30)에서 1차적으로 악취가 처리된 기체(S)를 2차적으로 처리할 수 있다.Referring to FIGS. 4 and 8, a rear end plasma generator 50 may be installed at one end of the chamber C. The subsequent plasma generating unit 50 may secondaryly process the gas S whose odor has been primarily treated by the plasma generating units 10, 20, and 30.

후단 플라즈마 생성부(50)는 외부전극(51), 내부전극(52), 회전발생기(53) 및 가스분배기(56)를 포함한다. 외부전극(51)은 원통형 형상을 가지며 내부전극(52)을 둘러싸며 위치하고, 내측에 방전공간(54)을 포함한다. 내부전극(52)의 외측은 곡면 형상을 가지고 외부전극(51)의 중심에 설치된다. 가스분배기(56)에서 분출된 가스는 방전공간(54)으로 이동할 수 있다. 회전발생기(53)는 방전공간(54)의 하부에 위치하고, 방전공간(54)에서 발생된 플라즈마를 회전시킨다The rear-stage plasma generator 50 includes an external electrode 51, an internal electrode 52, a rotation generator 53, and a gas distributor 56. The external electrode 51 has a cylindrical shape, is located surrounding the internal electrode 52, and includes a discharge space 54 inside. The outer side of the internal electrode 52 has a curved shape and is installed in the center of the external electrode 51. The gas ejected from the gas distributor 56 may move to the discharge space 54. The rotation generator 53 is located under the discharge space 54 and rotates the plasma generated in the discharge space 54.

즉, 플라즈마는 내부전극(52)과 외부전극(51) 사이의 방전공간(54)에서 높은 전압차에 의하여 발생되며 가스분배기(56)는 공기를 회전발생기(53)로 전달하여 내부전극(52)과 외부전극(51) 사이에 회전공기(55)를 발생시킨다.That is, the plasma is generated by a high voltage difference in the discharge space 54 between the internal electrode 52 and the external electrode 51, and the gas distributor 56 delivers air to the rotation generator 53 and the internal electrode 52 ) And the external electrode 51 to generate the rotary air 55.

악취 제거 장치(1)는 후단 플라즈마 생성부(50)를 이용하여 플라즈마 생성부(10, 20, 30)에서 1차적으로 악취가 처리된 기체를 한번 더 처리할 수 있으므로 악취 처리의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Since the odor removal device 1 can process the gas that has been primarily odor treated in the plasma generation units 10, 20, 30 using the plasma generation unit 50 at the rear stage, the reliability of the odor treatment can be improved. I can.

도 9는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 사시도를 개략적으로 나타낸다.9 schematically shows a perspective view of an apparatus for removing odor using plasma according to an embodiment.

도 9를 참고하면, 악취 제거 장치는 유전체 챔버(60), 내부전극(61), 전원공급부(63) 및 플라즈마 생성부(64)를 포함할 수 있다. 유전체 챔버(60)에는 악취 포함 기체가 통과할 수 있다. 유전체 챔버(60)는 원통형 형상을 가지며 저항성을 가지는 유전체일 수 있다. 유전체 챔버(60)의 내부에는 플라즈마가 생성되는 플라즈마 생성부(64)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 9, the apparatus for removing odor may include a dielectric chamber 60, an internal electrode 61, a power supply unit 63, and a plasma generation unit 64. Gas containing odor may pass through the dielectric chamber 60. The dielectric chamber 60 has a cylindrical shape and may be a dielectric having resistance. The dielectric chamber 60 may include a plasma generating unit 64 for generating plasma.

플라즈마 생성부(64)에는 내부전극(61)이 위치하고, 내부전극(61)에 전원공급부(63)의 전원이 공급되면 유전체 챔버(60) 내부에 플라즈마가 생성되므로, 유전체 챔버(60)를 통과하는 악취 포함 기체는 플라즈마 처리될 수 있다. 이에, 악취 포함 기체에 포함되는 악취, 세균, 곰팡이 등의 미생물을 분해 또는 제거 할 수 있다.The internal electrode 61 is located in the plasma generating unit 64, and when the power from the power supply unit 63 is supplied to the internal electrode 61, plasma is generated in the dielectric chamber 60, so that it passes through the dielectric chamber 60. The odor-containing gas may be plasma treated. Accordingly, it is possible to decompose or remove microorganisms such as odor, bacteria, and mold contained in the odor-containing gas.

내부전극(61)은 유전체 챔버(60)의 일측에서 타측 방향으로 돌출된 삼각기둥형 형상을 가질 수 있다. 내부전극(61)은 하측 단부의 꼭짓점에 톱니부(62)를 포함할 수 있다. 톱니부(62)는 꼭짓점 단부의 외측 방향으로 돌출된 톱니 형상을 가질 수 있다.The internal electrode 61 may have a triangular column shape protruding from one side of the dielectric chamber 60 to the other side. The internal electrode 61 may include a toothed portion 62 at a vertex of the lower end. The teeth 62 may have a sawtooth shape protruding outward from the end of the vertex.

내부전극(61)이 톱니부(62)를 포함할 경우, 꼭짓점 단부가 손상되는 것을 미연에 방지할 수 있으며 플라즈마 생성부(64)의 불용 방전을 감소시키고 플라즈마의 발생 효율을 높일 수 있다.When the internal electrode 61 includes the toothed portion 62, it is possible to prevent damage to the end of the vertex in advance, reduce insoluble discharge of the plasma generation unit 64, and increase the plasma generation efficiency.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements by those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also present. It belongs to the scope of rights of

1: 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
C. 챔버 D. 덕트
10: 제1 플라즈마 생성부 11. 제1 전극
12. 제2 전극 13. 제1 격자부
14. 제1 금속와이어 15. 제1 유전체
16. 제2 금속와이어 17. 제2 유전체
18. 접촉부 19. 하우징
20. 제2 플라즈마 생성부 21. 제3 전극
22. 제4 전극 23. 제2 격자부
24. 금속전극 25. 알루미나 튜브
28. 접촉부 29. 하우징
30. 제3 플라즈마 생성부 31. 제5 전극
32. 제6 전극 33. 제3 격자부
38. 접촉부 39. 하우징
40. 전원공급부 50. 후단 플라즈마 생성부
51. 외부전극 52. 내부전극
53. 회전발생기 54. 방전공간
55. 회전공기 56. 가스분배기
60. 유전체 챔버 61. 내부전극
62. 톱니부 63. 전원공급부
64. 플라즈마 생성부1: odor removal device using plasma
C. Chamber D. Duct
10: first plasma generation unit 11. first electrode
12. Second electrode 13. First grid portion
14. First metal wire 15. First dielectric
16. Second metal wire 17. Second dielectric
18. Contact 19. Housing
20. Second plasma generating unit 21. Third electrode
22. fourth electrode 23. second grid portion
24. Metal electrode 25. Alumina tube
28. Contacts 29. Housing
30. Third plasma generation unit 31. Fifth electrode
32. Sixth electrode 33. Third grid portion
38. Contacts 39. Housing
40. Power supply unit 50. Plasma generator at the rear stage
51. External electrode 52. Internal electrode
53. Rotation generator 54. Discharge space
55. Rotary air 56. Gas distributor
60. Dielectric chamber 61. Internal electrode
62. Toothed part 63. Power supply part
64. Plasma generator

Claims (12)

악취 포함 기체가 통과하는 챔버의 일부에 설치되고, 플라즈마가 생성되는 제1 플라즈마 생성부 및
상기 제1 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부
를 포함하고,
상기 제1 플라즈마 생성부는,
유연성을 가지는 복수개의 제1 전극,
상기 제1 전극의 하부에 위치하고, 상기 제1 전극과 교차하며 위치하고 유연성을 가지는 복수개의 제2 전극, 및
상기 복수개의 제1 전극의 서로 이격된 이격부와 상기 복수개의 제2 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부,
를 포함하고
상기 전원공급부의 전원 공급에 의해 상기 제1 플라즈마 생성부에 플라즈마가 생성되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.A first plasma generating unit installed in a part of the chamber through which odor-containing gas passes, and generating plasma, and
Power supply unit for applying power to the first plasma generating unit
Including,
The first plasma generating unit,
A plurality of first electrodes having flexibility,
A plurality of second electrodes positioned under the first electrode and intersecting with the first electrode and having flexibility, and
A first grid portion that is an overlapping region of a spaced portion of the plurality of first electrodes and a spaced portion of the plurality of second electrodes,
Including
Plasma is generated in the first plasma generation unit by supplying power from the power supply unit to decompose odor from the odor-containing gas. 제1항에서,
상기 제1 플라즈마 생성부는, 상기 챔버와 연결된 덕트에 설치되고, 상기 덕트에서 플라즈마를 발생시키고 상기 챔버의 내부로 오존이 유입되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 1,
The first plasma generating unit is installed in a duct connected to the chamber, and generates plasma in the duct, and ozone is introduced into the chamber to decompose odor from the odor-containing gas. 제2항에서,
상기 제1 전극과 대향하며 위치하는 복수개의 제3 전극을 포함하고 상기 덕트에서 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제2 플라즈마 생성부를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In paragraph 2,
An apparatus for removing odors using plasma comprising a plurality of third electrodes facing and positioned with the first electrode, and further comprising a second plasma generating unit installed to be spaced apart from the first plasma generating unit in the duct. 제3항에서,
상기 제3 전극은, 상기 제3 전극의 내부로 냉각재가 주입되는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In paragraph 3,
The third electrode is an apparatus for removing odor using plasma in which a coolant is injected into the third electrode. 제3항에서,
상기 제2 플라즈마 생성부는, 상기 제3 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제4 전극을 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In paragraph 3,
The second plasma generating unit includes a plurality of fourth electrodes intersecting with the third electrode. 제5항에서,
상기 제2 플라즈마 생성부는, 상기 복수개의 제3 전극의 서로 이격된 이격부와 상기 복수개의 제4 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제2 격자부를 포함하고, 상기 제2 격자부의 면적은 상기 제1격자부의 면적과 상이한 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In clause 5,
The second plasma generating unit includes a second grid portion that is an overlapping region of a spaced portion of the plurality of third electrodes spaced apart from each other and a spaced portion spaced apart from each other of the plurality of fourth electrodes, and an area of the second grid portion An apparatus for removing odors using plasma different from the area of the first grid portion. 제1항에서,
상기 제1 플라즈마 생성부는, 상기 챔버의 본체에 설치되고, 상기 챔버에서 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버의 내부로 플라즈마 및 오존이 유입되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 1,
The first plasma generating unit is installed in the main body of the chamber, and generates plasma in the chamber to allow plasma and ozone to flow into the chamber to decompose odors from the odor-containing gas. 제7항에서,
복수개의 제5 전극 및 상기 제5 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제6 전극을 포함하고 상기 챔버에서 상기 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제3 플라즈마 생성부를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In clause 7,
Odor removal using plasma including a plurality of fifth electrodes and a plurality of sixth electrodes intersecting with the fifth electrode, and further comprising a third plasma generating unit installed to be spaced apart from the first plasma generating unit in the chamber Device. 제8항에서,
상기 제5 전극은, 상기 제1 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되고, 상기 제6 전극은 상기 제2 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In clause 8,
The fifth electrode is extended to form a preset angle with the first electrode, and the sixth electrode is extended to form a preset angle with the second electrode. 제1항에서,
상기 챔버는, 상기 챔버의 일측 단부와 연결되고, 플라즈마가 회전 유동하면서 상기 챔버를 통과한 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 후단 플라즈마 생성부를 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 1,
The chamber is connected to one end of the chamber, the plasma odor removal apparatus using a plasma comprising a rear end plasma generating unit for decomposing the odor from the odor-containing gas passing through the chamber while the plasma is rotating. 제10항에서,
상기 후단 플라즈마 생성부는, 외부전극, 상기 외부전극의 내부에 위치하는 내부전극 및 상기 외부전극의 내부로 주입된 가스에 와류를 유도하여 플라즈마를 회전 유동 시키는 회전발생기를 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 10,
The rear-stage plasma generator includes an external electrode, an internal electrode positioned inside the external electrode, and a rotation generator that rotates and flows plasma by inducing a vortex in the gas injected into the external electrode. . 악취 포함 기체가 통과하는 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 플라즈마가 생성되는 플라즈마 생성부, 및
상기 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부
를 포함하고,
상기 플라즈마 생성부는,
상기 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 상기 유전체 챔버의 일측에서 타측 방향으로 돌출된 톱니부를 포함하는 내부전극을 포함하고,
상기 전원공급부의 전원 공급에 의해 상기 유전체 챔버의 내부에 플라즈마가 생성되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.Plasma generating unit located inside the dielectric chamber through which the gas containing odor passes, and generating plasma, and
Power supply unit for applying power to the plasma generating unit
Including,
The plasma generating unit,
And an internal electrode located inside the dielectric chamber and including a toothed portion protruding from one side of the dielectric chamber in the other direction,
Plasma is generated in the dielectric chamber by the power supply of the power supply unit to decompose odor from the odor-containing gas.
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