KR102274454B1 - Apparatus for removing stink using plasma - Google Patents

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Abstract

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취 포함 기체가 통과하는 챔버의 일부에 설치되고, 플라즈마가 생성되는 제1 플라즈마 생성부 및 제1 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고, 제1 플라즈마 생성부는, 유연성을 가지는 복수개의 제1 전극, 제1 전극의 하부에 위치하고, 제1 전극과 교차하며 위치하고 유연성을 가지는 복수개의 제2 전극, 및 복수개의 제1 전극의 서로 이격된 이격부와 복수개의 제2 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부를 포함하고 전원공급부의 전원 공급에 의해 제1 플라즈마 생성부에 플라즈마가 생성되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킨다.The apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a part of a chamber through which odor-containing gas passes, and a first plasma generating unit generating plasma and a power supply applying power to the first plasma generating unit A first plasma generating unit comprising: a plurality of first electrodes having flexibility, a plurality of second electrodes positioned under the first electrode, intersecting the first electrode, and a plurality of second electrodes having flexibility, and a plurality of first electrodes; It includes a spaced apart portion and a first grid portion that is an overlapping region of the spaced apart portions of the plurality of second electrodes, and plasma is generated in the first plasma generator by the power supply of the power supply to decompose the odor from the odor-containing gas make it

Description

플라즈마를 이용한 악취 제거 장치{APPARATUS FOR REMOVING STINK USING PLASMA}Odor removal device using plasma {APPARATUS FOR REMOVING STINK USING PLASMA}

플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 제공된다.An apparatus for removing odors using plasma is provided.

일반적으로, 하수, 분뇨, 음식물쓰레기, 각종 폐기물 등으로부터 발생되는 악취는 환경을 오염시키고, 인체에 유해할 뿐만 아니라, 불쾌감을 초래하고, 처리 비용이 많이 필요하다.In general, odors generated from sewage, excrement, food waste, various wastes, etc. contaminate the environment, are harmful to the human body, cause discomfort, and require a high treatment cost.

이러한 악취 제거를 위하여 플라즈마(Plasma) 장치가 사용되고 있는데, 플라즈마 장치는 전극이 비유연전극(Non-flexible Electrode)의 형태를 이용하므로, 피처리물의 다양한 형태에 대응하기 어렵다. 또한, 플라즈마 생성하기 위해서 플루오린(Fluorine, F) 또는 메탄(Methane, CH4) 등의 가스를 추가적으로 이용해야 하기 때문에 사용 시 가스 공급에 따른 장소의 제한이 발생될 수 있다.A plasma device is used to remove such odors. Since the plasma device uses the shape of a non-flexible electrode, it is difficult to respond to various shapes of the object to be treated. In addition, since it is necessary to additionally use a gas such as fluorine (F) or methane (CH4) to generate the plasma, there may be restrictions on the location according to the gas supply during use.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취를 포함 기체가 통과하는 챔버에 설치되어 안정적으로 플라즈마를 방전하고 플라즈마와 오존을 이용하여 악취 성분의 분해 효율을 높이기 위한 것이다.An apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a chamber through which a gas containing odors passes, to stably discharge plasma, and to increase efficiency of decomposition of odor components using plasma and ozone.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취를 포함 기체가 통과하는 챔버와 연결된 덕트에 설치되어 플라즈마를 형성한 상태에서 오존을 이용하여 악취 성분을 용이하게 분해하기 위한 것이다.The apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a duct connected to a chamber through which a gas containing odors passes, and is for easily decomposing odor components using ozone in a plasma state.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 플라즈마 생성부를 통해 1차로 기체의 악취를 제거하고, 챔버의 후단부에 설치되는 후단 플라즈마 생성부를 통해 2차로 기체의 악취를 제거하여 악취 제거의 신뢰성을 높이기 위한 것이다.The malodor removal apparatus using plasma according to an embodiment of the present invention removes odors by first removing odors of gas through a plasma generating unit, and secondarily by removing odors of gases through a post plasma generating unit installed at the rear end of the chamber. to increase the reliability of

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 대기압에서 플라즈마 특수 가스를 주입하지 않고 피처리물의 다양한 형태에 유연하게 대응하면서 안정적으로 장시간 플라즈마를 방전하기 위한 것이다.The apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment of the present invention is for stably discharging plasma for a long time while flexibly responding to various types of objects to be processed without injecting a special plasma gas at atmospheric pressure.

상기 과제 이외에도 구체적으로 언급되지 않은 다른 과제를 달성하는 데 본 발명에 따른 실시예가 사용될 수 있다.In addition to the above problems, the embodiment according to the present invention may be used to achieve other problems not specifically mentioned.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취 포함 기체가 통과하는 챔버의 일부에 설치되고, 플라즈마가 생성되는 제1 플라즈마 생성부 및 제1 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고, 제1 플라즈마 생성부는, 유연성을 가지는 복수개의 제1 전극, 제1 전극의 하부에 위치하고, 제1 전극과 교차하며 위치하고 유연성을 가지는 복수개의 제2 전극, 및 복수개의 제1 전극의 서로 이격된 이격부와 복수개의 제2 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부를 포함하고 전원공급부의 전원 공급에 의해 제1 플라즈마 생성부에 플라즈마가 생성되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킨다.The apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a part of a chamber through which odor-containing gas passes, and a first plasma generating unit generating plasma and a power supply applying power to the first plasma generating unit A first plasma generating unit comprising: a plurality of first electrodes having flexibility, a plurality of second electrodes positioned under the first electrode, intersecting the first electrode, and a plurality of second electrodes having flexibility, and a plurality of first electrodes; It includes a spaced apart portion and a first grid portion that is an overlapping region of the spaced apart portions of the plurality of second electrodes, and plasma is generated in the first plasma generator by the power supply of the power supply to decompose the odor from the odor-containing gas make it

제1 플라즈마 생성부는, 챔버와 연결된 덕트에 설치되고, 덕트에서 플라즈마를 발생시키고 챔버의 내부로 오존이 유입되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킬 수 있다. 상기 제1 전극과 대향하며 위치하는 복수개의 제3 전극을 포함하고 상기 덕트에서 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제2 플라즈마 생성부를 더 포함할 수 있다. 제3 전극은, 상기 제3 전극의 내부로 냉각재가 주입될 수 있다. 제2 플라즈마 생성부는, 상기 제3 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제4 전극을 포함할 수 있다. 제2 플라즈마 생성부는, 복수개의 제3 전극의 서로 이격된 이격부와 복수개의 제4 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제2 격자부를 포함하고, 제2 격자부의 면적은 제1격자부의 면적과 상이할 수 있다.The first plasma generating unit may be installed in a duct connected to the chamber, generate plasma in the duct, and ozone may be introduced into the chamber to decompose the odor from the odor-containing gas. It may further include a second plasma generating unit including a plurality of third electrodes positioned to face the first electrode and spaced apart from the first plasma generating unit in the duct. A coolant may be injected into the third electrode into the third electrode. The second plasma generator may include a plurality of fourth electrodes positioned to intersect the third electrode. The second plasma generator includes a second grid portion that is an overlapping region of the spaced apart portions of the plurality of third electrodes and the spaced apart portions of the plurality of fourth electrodes, and the area of the second grid portion is the area of the first grid portion may be different from

제1 플라즈마 생성부는, 챔버에 설치되고, 챔버에서 플라즈마를 발생시켜 챔버의 내부로 플라즈마 및 오존이 유입되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킬 수 있다. 복수개의 제5 전극 및 제5 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제6 전극을 포함하고 챔버에서 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제3 플라즈마 생성부를 더 포함할 수 있다. 제5 전극은, 제1 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되고, 제6 전극은 제2 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장될 수 있다.The first plasma generator may be installed in the chamber, and generate plasma in the chamber to introduce plasma and ozone into the chamber to decompose the odor from the odor-containing gas. It may further include a third plasma generator including a plurality of fifth electrodes and a plurality of sixth electrodes positioned to intersect the fifth electrodes and spaced apart from the first plasma generator in the chamber. The fifth electrode may extend at a preset angle to the first electrode, and the sixth electrode may extend at a preset angle with the second electrode.

챔버는, 챔버의 일측 단부와 연결되고, 플라즈마가 회전 유동하면서 챔버를 통과한 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 후단 플라즈마 생성부를 포함할 수 있다. 후단 플라즈마 생성부는, 외부전극, 외부전극의 내부에 위치하는 내부전극 및 외부전극의 내부로 주입된 가스에 와류를 유도하여 플라즈마를 회전 유동 시키는 회전발생기를 포함할 수 있다.The chamber may include a plasma generating unit connected to one end of the chamber and decomposing the odor from the odor-containing gas passing through the chamber while the plasma rotates and flows. The post-stage plasma generating unit may include an external electrode, an internal electrode positioned inside the external electrode, and a rotation generator that induces a vortex in the gas injected into the external electrode to rotate the plasma.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취 포함 기체가 통과하는 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 플라즈마가 생성되는 플라즈마 생성부, 및 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고, 플라즈마 생성부는, 유전체 챔버의 내부에 위치하고, 유전체 챔버의 일측에서 타측 방향으로 돌출된 톱니부를 포함하는 내부전극을 포함하고, 전원공급부의 전원 공급에 의해 유전체 챔버의 내부에 플라즈마가 생성되어 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시킬 수 있다.An apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment of the present invention is located inside a dielectric chamber through which a odor-containing gas passes, and includes a plasma generator that generates plasma, and a power supply that applies power to the plasma generator, , The plasma generating unit is located inside the dielectric chamber and includes an internal electrode including a sawtooth portion protruding from one side of the dielectric chamber to the other side, and the plasma is generated inside the dielectric chamber by the power supply of the power supply unit and contains an odor It can decompose odors from gases.

본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치는 악취를 포함 기체가 통과하는 챔버 또는 챔버와 연결된 덕트에 설치되어 플라즈마와 오존을 이용하여 악취 성분을 분해 효율을 높일 수 있으며, 플라즈마 생성부를 통해 1차로 기체의 악취를 제거하고, 챔버의 후단부에 설치되는 후단 플라즈마 생성부를 통해 2차로 기체의 악취를 제거하여 악취 제거의 신뢰성을 높일 수 있으며, 대기압에서 플라즈마 특수 가스를 주입하지 않고 피처리물의 다양한 형태에 유연하게 대응하면서 안정적으로 장시간 플라즈마를 방전할 수 있다.The apparatus for removing malodors using plasma according to an embodiment of the present invention is installed in a chamber or a duct connected to the chamber through which a gas containing malodors passes, and can use plasma and ozone to increase the decomposition efficiency of odor components, and includes a plasma generating unit. It is possible to increase the reliability of odor removal by first removing the odor of the gas through the first, and secondly by removing the odor of the gas through the rear plasma generator installed at the rear end of the chamber, without injecting special plasma gas at atmospheric pressure. Plasma can be discharged stably for a long time while flexibly responding to various types of water.

도 1은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 챔버의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2내지 도 4는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제2 플라즈마 생성부의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 챔버의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부의 정면도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 8은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 후단 플라즈마 생성부의 단면도를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 사시도를 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a diagram schematically illustrating a perspective view of a state in which an apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment is installed in a part of a chamber.
2 to 4 are diagrams schematically illustrating perspective views of a first plasma generating unit and a second plasma generating unit of the apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment.
5 is a diagram schematically illustrating a perspective view of a state in which an apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment is installed in a part of a chamber.
6 is a diagram schematically illustrating a perspective view of a first plasma generating unit and a third plasma generating unit of an apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment.
7 is a diagram schematically illustrating a front view of a first plasma generating unit and a third plasma generating unit of an apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment.
8 is a diagram schematically illustrating a cross-sectional view of a plasma generating unit at the rear end of the apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment.
9 is a diagram schematically illustrating a perspective view of an apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment.

첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호가 사용되었다. 또한 널리 알려져 있는 공지기술의 경우 그 구체적인 설명은 생략한다. With reference to the accompanying drawings, the embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In order to clearly explain the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are used for the same or similar components throughout the specification. In addition, in the case of a well-known known technology, a detailed description thereof will be omitted.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 한편, 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 한편, 어떤 부분이 다른 부분 "바로 아래에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In order to clearly express various layers and regions in the drawings, the thicknesses are enlarged. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be “on” another part, it includes not only cases where it is “directly on” another part, but also cases where there is another part in between. On the other hand, when a part is said to be "just above" another part, it means that there is no other part in the middle. Conversely, when a part, such as a layer, film, region, plate, etc., is “under” another part, it includes not only the case where the other part is “directly under” but also the case where another part is in the middle. On the other hand, when a part is said to be "just below" another part, it means that there is no other part in the middle.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part "includes" a certain element, it means that other elements may be further included, rather than excluding other elements, unless otherwise stated.

도 1은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치(1)가 챔버(C)의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내고 도 2 내지 도 4는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치(1)의 제1 플라즈마 생성부(10)와 제2 플라즈마 생성부(20)의 사시도를 나타낸다.1 schematically shows a perspective view of a state in which an apparatus for removing malodor using plasma 1 according to an embodiment is installed in a part of a chamber C, and FIGS. 2 to 4 are an apparatus 1 for removing malodor using plasma according to the embodiment. ) shows a perspective view of the first plasma generating unit 10 and the second plasma generating unit 20 .

도 1 내지 도 4를 참고하면, 악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제2 플라즈마 생성부(20)를 포함할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제2 플라즈마 생성부(20)는 악취 제거 장치(1) 중 임의의 위치에 있는 두 개의 플라즈마 생성부(10, 20)를 의미하고, 도면들에 표시된 위치에 제한되지 않는다. 악취 제거 장치(1)는 하나 이상의 플라즈마 생성부를 포함할 수 있고, 플라즈마 생성부는 필요에 따라 다양한 개수로 배치될 수 있다.1 to 4 , the malodor removal apparatus 1 may include a first plasma generator 10 and a second plasma generator 20 . The first plasma generating unit 10 and the second plasma generating unit 20 mean two plasma generating units 10 and 20 located at any positions among the odor removal apparatus 1, and are located at positions shown in the drawings. not limited The malodor removal apparatus 1 may include one or more plasma generating units, and various numbers of plasma generating units may be disposed as needed.

제1 플라즈마 생성부(10)는 악취 포함 기체(S)가 인입되는 챔버(C)와 연결된 덕트(D)에 설치될 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)는 볼팅 결합, 리벳 결합 등의 결합부(미도시)를 포함하여 덕트(D)에 고정될 수 있으며. 필요에 따라 자성부(미도시)를 포함하여 덕트(D)에 탈부착이 용이하도록 설치될 수 있다.The first plasma generator 10 may be installed in the duct D connected to the chamber C into which the odor-containing gas S is introduced. The first plasma generating unit 10 may be fixed to the duct (D), including coupling portions (not shown) such as bolting coupling, riveting coupling, and the like. If necessary, including a magnetic part (not shown) may be installed to be easily attached to and detached from the duct (D).

악취 포함 기체(S)는 하수, 분뇨, 음식물쓰레기, 각종 폐기물 등으로부터 발생되는 악취를 포함하는 기체로서, 이는 암모니아, 황화수소, 메틸메캅탄, 아황산 등을 포함하는 기체일 수 있으며, 폐기물의 이동 또는 저장으로 인해 발생되는 악취뿐만 아니라, 축사 등과 같은 곳에서 발생하는 악취를 포함하는 기체 등일 수 있다.The odor-containing gas (S) is a gas containing odors generated from sewage, manure, food waste, various wastes, etc., which may be a gas containing ammonia, hydrogen sulfide, methyl mercaptan, sulfurous acid, etc., In addition to the odor generated by storage, it may be a gas containing bad odors generated in places such as livestock sheds.

챔버(C)는 y축 방향을 따라 뻗으며, 일방향을 따라 악취를 포함하는 기체(S)를 통과시킬 수 있다. 덕트(D)의 일측은 챔버(C)와 연결되고 타측은 송풍기(Fan)가 설치될 수 있다. 송풍기(Fan)는 공기 유동을 일으키며 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 플라즈마(P), 활성 라디칼, 오존 등을 챔버(C)로 이동시킬 수 있다. 챔버(C)는 원통형 형상을 가지고, 덕트(D)는 사각기둥형 형상을 가질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The chamber (C) extends along the y-axis direction, and may pass the gas (S) containing the odor along one direction. One side of the duct (D) may be connected to the chamber (C) and the other side may be provided with a blower (Fan). The blower Fan generates air flow and may move the plasma P, active radicals, ozone, etc. generated by the first plasma generator 10 to the chamber C. The chamber (C) may have a cylindrical shape, and the duct (D) may have a square columnar shape, but is not limited thereto.

제 1 플라즈마 생성부(10)는 유연한 특성을 가지는 제1 전극(11) 및 제2 전극(12)을 포함하고, 플라즈마(P)를 생성한다. 제1 전극(11)은 y축 방향을 따라 뻗고 제2 전극(12)은 제1 전극(11)의 하부에서 x축 방향을 따라 뻗으며 서로 교차하며 위치한다. 이 경우, 제1 전극(11)과 제2 전극(12)이 서로 맞닿는 접촉부(18) 및 복수개의 제1 전극(11)이 서로 이격된 이격부와 복수개의 제2 전극(12)이 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부(13)가 형성될 수 있다.The first plasma generator 10 includes a first electrode 11 and a second electrode 12 having flexible characteristics, and generates plasma P. The first electrode 11 extends along the y-axis direction, and the second electrode 12 extends along the x-axis direction under the first electrode 11 and intersects with each other. In this case, the contact portion 18 where the first electrode 11 and the second electrode 12 contact each other, the spaced portion where the plurality of first electrodes 11 are spaced apart from each other, and the plurality of second electrodes 12 are spaced apart from each other. A first lattice portion 13 that is an overlapping region of the spaced apart portions may be formed.

제 1 플라즈마 생성부(10)는 제1 전극(11)과 제2 전극(12)에 전원이 인가되면 플라즈마 방전이 이루어지고, 생성된 에너지를 이용하여 오존을 생성 할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 오존은 챔버(C)로 이동하여 악취 포함 기체(S)에 포함되는 악취, 세균, 곰팡이 등의 미생물을 제거하여 정화작용을 수행 할 수 있다.When power is applied to the first electrode 11 and the second electrode 12 , the first plasma generator 10 may generate a plasma discharge and generate ozone using the generated energy. The ozone generated by the first plasma generating unit 10 may move to the chamber C to remove microorganisms such as odors, bacteria, and molds contained in the odor-containing gas S to perform purification.

제1 전극(11) 및 제2 전극(12)에 전원이 인가되면 플라즈마(P)가 방전되어 전자는 해리(dissociation), 이온화(ionization), 여기(excitation) 반응을 통하여 질소(N2), 산소(O2), 수분(H20) 등을 활성화시켜서 활성 라디칼과 오존을 생성시킬 수 있다. 이러한 활성 라디칼과 오존에 의해 암모니아, 황화수소, 메틸메캅탄, 아황산 등을 분해시킬 뿐만 아니라, 세균이나 곰팡이 등의 유해한 미생물을 제거할 수 있다.When power is applied to the first electrode 11 and the second electrode 12, plasma (P) is discharged, and electrons are dissociated (dissociation), ionization (ionization), through the excitation (excitation) reaction nitrogen (N 2 ), By activating oxygen (O 2 ), moisture (H 2 0), and the like, active radicals and ozone can be generated. With these active radicals and ozone, it is possible to not only decompose ammonia, hydrogen sulfide, methyl mercaptan, sulfurous acid, etc., but also to remove harmful microorganisms such as bacteria and mold.

도 2 및 도 4를 참고하면, 제 1 플라즈마 생성부(10)는 제1 전극(11)과 제2 전극(12)의 외측을 둘러싸며 위치하는 하우징(19)을 포함한다. 하우징(19)은 내부에 제1 전극(11)과 제2 전극(12)을 수용하면서 보호할 수 있다. 하우징(19)에는 전원, 접지선 등이 연결될 수 있는 전원공급부(40)가 설치될 수 있다.2 and 4 , the first plasma generator 10 includes a housing 19 positioned to surround the outside of the first electrode 11 and the second electrode 12 . The housing 19 may be protected while accommodating the first electrode 11 and the second electrode 12 therein. The housing 19 may be provided with a power supply unit 40 to which a power source, a ground wire, and the like can be connected.

하우징(19)은 사각형, 원형 등의 형상을 가질 수 있으며 필요에 따라 곡면을 갖는 플레이트 형상을 가질 수 있다. 이 경우 제1 전극(11)과 제2 전극(12)은 유연한 특성을 가지므로, 하우징(19)의 형상에 맞추어 휘어지면서 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.The housing 19 may have a shape such as a square or a circle, and may have a plate shape having a curved surface if necessary. In this case, since the first electrode 11 and the second electrode 12 have flexible characteristics, the plasma treatment can be performed while being bent according to the shape of the housing 19 .

전원공급부(40)는 제1 전극(11)과 제2 전극(12)과 연결되어 전원을 인가할 수 있다. 전원공급부(40)에서 전원을 인가하면 제1 전극(11)과 제2 전극(12)가 상호 맞닿는 접촉부(18)에서 방전이 되어 플라즈마(P)가 형성될 수 있다. 이 경우, 플라즈마(P)는 대기압 상태에서 안정적으로 장시간 방전될 수 있다.The power supply unit 40 may be connected to the first electrode 11 and the second electrode 12 to apply power. When power is applied from the power supply unit 40 , the first electrode 11 and the second electrode 12 are discharged at the contact portion 18 in contact with each other to form a plasma (P). In this case, the plasma P may be stably discharged for a long time at atmospheric pressure.

제1 전극(11)은 유연성을 가지며, 제1 금속와이어(14), 및 제1 금속와이어(14)를 감싸며 위치하는 제1 유전체(15)로 형성되고, 제2 전극(12)은 유연성을 가지며, 제2 금속와이어(16) 및 제2 금속와이어(16)를 감싸는 제2 유전체(17)로 형성된다.The first electrode 11 has flexibility, and is formed of a first metal wire 14 and a first dielectric 15 positioned to surround the first metal wire 14, and the second electrode 12 has flexibility. and is formed of a second dielectric 17 surrounding the second metal wire 16 and the second metal wire 16 .

제1 전극(11)은 제2 전극(12)의 상부에 위치하고, 제2 전극(12)은 제1 전극(11)의 하부에 위치하면서 서로 z축 방향으로 맞닿을 수 있다. 제1 전극(11), 제2 전극(12)은 상부와 하부에 위치하며 맞닿는 구조이므로, 전극부가 서로 꼬인 구조와 비교시, 꼬인 부분의 높은 전기장 세기에 의해 유전체가 파괴되어 구멍이 생기는 현상을 미연에 방지할 수 있다.The first electrode 11 may be positioned above the second electrode 12 , and the second electrode 12 may be positioned under the first electrode 11 and contact each other in the z-axis direction. Since the first electrode 11 and the second electrode 12 are located on the upper and lower portions and are in contact with each other, compared to the structure in which the electrode parts are twisted with each other, the dielectric is destroyed by the high electric field strength of the twisted part and a hole is formed. can be prevented in advance.

제1 금속와이어(14)와 제2 금속와이어(16)는 전기전도성이 높은 물질인 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt) 또는 알루미늄(Al) 등으로 제조될 수 있다. 제1 유전체(15)와 제2 유전체(17)는 폴리에스테르 또는 폴리에테르와 이소시아네이트와의 반응에 의해 제조된 탄성체로 제조될 수 있다.The first metal wire 14 and the second metal wire 16 may be made of copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt) or aluminum (Al), which are materials with high electrical conductivity. can The first dielectric 15 and the second dielectric 17 may be made of an elastomer made by reacting polyester or polyether with isocyanate.

악취 제거 장치(1)는 덕트(D)에 설치되고, 제1 플라즈마 생성부(10)와 이격하며 위치하는 제2 플라즈마 생성부(20)를 포함한다. 제2 플라즈마 생성부(20)는 y축 방향을 따라 뻗는 제3 전극(21) 및 x축 방향을 따라 뻗는 제4 전극(22)을 포함하고, 전원이 인가되면 플라즈마(P)를 생성한다. 제3 전극(21)과 제4 전극(22)은 복수개로, 서로 교차하며 위치하면서 그 사이의 이격 공간인 제2 격자부(23) 및 상호 맞닿는 접촉부(28)를 형성할 수 있다. 제3 전극(21)과 제4 전극(22)은 각각 금속와이어 및 금속와이어를 감싸며 위치하는 유전체로 형성될 수 있다.The malodor removal device 1 is installed in the duct D, and includes a second plasma generating unit 20 positioned to be spaced apart from the first plasma generating unit 10 . The second plasma generator 20 includes a third electrode 21 extending along the y-axis direction and a fourth electrode 22 extending along the x-axis direction, and generates plasma P when power is applied. A plurality of the third electrode 21 and the fourth electrode 22 may form a second grid portion 23 and a contact portion 28 in contact with each other, which are spaced apart spaces therebetween while intersecting each other. The third electrode 21 and the fourth electrode 22 may be formed of a metal wire and a dielectric material positioned to surround the metal wire, respectively.

제2 플라즈마 생성부(20)는 제1 플라즈마 생성부(10)와 동일한 구조를 가질 수 있으나, 필요에 따라 전극의 구조를 달리 형성할 수 있다.The second plasma generating unit 20 may have the same structure as the first plasma generating unit 10 , but a different electrode structure may be formed as needed.

예를 들어, 도 2를 참고하면, 제2 격자부(23)의 면적은 제1 격자부(13)의 면적보다 클 수 있다. 이 경우, 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 라디칼과 오존의 양이 제2 플라즈마 생성부(20)에서 생성된 양보다 크므로, 공기 유동을 일으키는 팬을 구동하지 않더라도 자연스럽게 제2 플라즈마 생성부(20)에서 생성된 라디칼과 오존을 챔버(C)를 향해 밀어내면서 함께 이동할 수 있다. 또한, 제1 플라즈마 생성부(10)에서 생성된 활성 라디칼과 오존은 큰 단면적의 제2 격자부(23)를 통과할 수 있으므로 덕트(D)에서의 이동 속도가 비교적 빠를 수 있다.For example, referring to FIG. 2 , the area of the second grid part 23 may be larger than the area of the first grid part 13 . In this case, since the amounts of radicals and ozone generated by the first plasma generating unit 10 are greater than those generated by the second plasma generating unit 20 , the second plasma is naturally generated even without driving the fan causing the air flow. Radicals and ozone generated in the unit 20 may move together while pushing toward the chamber (C). In addition, active radicals and ozone generated by the first plasma generating unit 10 may pass through the second grating unit 23 having a large cross-sectional area, so that the moving speed in the duct D may be relatively fast.

따라서, 제2 격자부(23)의 면적이 제1 격자부(13)의 면적보다 클 경우, 활성 라디칼과 오존이 빠른 속도로 챔버(C)에 유입될 수 있으므로 악취 포함 기체(S)의 악취 처리의 효율을 높일 수 있다. 또한, 악취 포함 기체(S)가 챔버(C)를 통과하는 유동 속도가 빠를 경우에도, 그 속도에 대응하여 활성 라디칼과 오존을 챔버(C)에 적절하게 유입시킬 수 있으므로 악취 처리의 신뢰성을 높일 수 있다.Therefore, when the area of the second grid portion 23 is larger than the area of the first grid portion 13 , active radicals and ozone may flow into the chamber C at a high speed, so that the odor of the odor-containing gas S It is possible to increase the processing efficiency. In addition, even when the flow rate of the odor-containing gas S through the chamber C is high, active radicals and ozone can be properly introduced into the chamber C in response to the speed, thereby increasing the reliability of odor treatment. can

도 3을 참고하면, 제2 격자부(23)의 면적은 제1 격자부(13)의 면적보다 작을 수 있다. 이 경우, 제1 플라즈마 생성부(10)와 제2 플라즈마 생성부(20)에서 동시에 비교적 큰 양의 플라즈마가 생성되므로 활성 라디칼과 오존의 양이 증가할 수 있다. 즉, 다량의 라디칼과 오존은 챔버(C)를 향해 이동할 수 있으므로,, 비교적 농도가 높은 악취 포함 기체(S)의 악취 처리도 효율적으로 수행할 수 있다.Referring to FIG. 3 , the area of the second grid unit 23 may be smaller than the area of the first grid unit 13 . In this case, since a relatively large amount of plasma is simultaneously generated by the first plasma generator 10 and the second plasma generator 20 , the amounts of active radicals and ozone may increase. That is, since a large amount of radicals and ozone can move toward the chamber C, odor treatment of the odor-containing gas S having a relatively high concentration can be efficiently performed.

도 4를 참고하면, 제2 플라즈마 생성부(20)는 y축 방향을 따라 뻗는 제3 전극(21)으로만 형성될 수 있다. 이 경우 제3 전극(21)은 원통형 형상을 가지는 금속전극(24) 및 금속전극(24)을 감싸며 위치하는 알루미나 튜브(25)로 형성된다. 금속전극(24)은 주입부(미도시)와 연결되고, 주입부는 금속전극(24)의 내부에는 냉각재를 주입할 수 있다. 냉각재는 냉각수 또는 냉각가스 등의 물에서부터 비활성 기체에 이르기까지 다양한 유체일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Referring to FIG. 4 , the second plasma generator 20 may be formed of only the third electrode 21 extending along the y-axis direction. In this case, the third electrode 21 is formed of a metal electrode 24 having a cylindrical shape and an alumina tube 25 positioned to surround the metal electrode 24 . The metal electrode 24 is connected to an injection unit (not shown), and the injection unit may inject a coolant into the metal electrode 24 . The coolant may be various fluids ranging from water such as coolant or coolant gas to inert gas, but is not limited thereto.

금속전극(24)에 주입된 냉각재는 금속전극(24)의 내부를 순환하면서 플라즈마 방전에서 발생하는 열과 유전체의 유전가열로 인한 발생 열을 효과적으로 제어할 수 있다. 저온으로 일정하게 유지되는 방전기는 안정적으로 플라즈마를 발생시킬 수 있으므로 장시간 운전에도 안전성을 확보할 수 있다. 또한 악취의 농도, 악취의 성분 등의 특징에 따라 냉각 온도를 달리 설정할 수 있으므로 필요한 화학적 활성종의 생성에 최적화된 냉각 조건을 제공하여 악취 처리의 효율을 향상시킬 수 있다.The coolant injected into the metal electrode 24 can effectively control heat generated from plasma discharge and heat generated from dielectric heating of the dielectric while circulating inside the metal electrode 24 . Since the discharge device maintained at a constant low temperature can stably generate plasma, safety can be ensured even during long-term operation. In addition, since the cooling temperature can be set differently according to characteristics such as the concentration of the odor and the components of the odor, it is possible to improve the efficiency of the odor treatment by providing a cooling condition optimized for the generation of required chemically active species.

악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제2 플라즈마 생성부(20)를 통해 덕트(D)에서 미리 플라즈마 방전을 수행하고, 플라즈마를 통해 생성된 활성 라디칼과 오존을 악취 포함 기체(S)가 통과하는 챔버(C)에 제공하여 간접적으로 기체의 악취 제거를 수행할 수 있다. 이에, 제1 플라즈마 생성부(10)가 악취 포함 기체(S)와 맞닿지 않으므로, 악취 포함 기체(S)가 수분을 포함한 경우에 발생할 수 있는 전극의 마모, 손상 또는 오염 등을 미연에 방지할 수 있다. The malodor removal device 1 performs plasma discharge in advance in the duct D through the first plasma generating unit 10 and the second plasma generating unit 20, and includes active radicals and ozone generated through the plasma as odors. It is possible to indirectly remove the odor of the gas by providing it to the chamber C through which the gas S passes. Accordingly, since the first plasma generator 10 does not come into contact with the odor-containing gas S, it is possible to prevent in advance the abrasion, damage or contamination of the electrodes that may occur when the odor-containing gas S contains moisture. can

또한, 악취 제거 장치(1)는 제1 격자부(13)의 면적과 제2 격자부(23)의 면적이 서로 상이한 구조를 가지거나, 전극 내부를 순환하는 냉각재를 포함할 수 있으므로 플라즈마, 활성 라디칼, 오존 등의 생성량, 이동 속도 등의 달리 적용하여 악취 처리의 신뢰성 및 효율성을 높일 수 있다.In addition, since the malodor removal device 1 may have a structure in which the area of the first grid portion 13 and the area of the second grid portion 23 are different from each other, or may include a coolant circulating inside the electrode, plasma, active Reliability and efficiency of odor treatment can be improved by applying different amounts of radicals and ozone, such as generation and movement speed.

도 5는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치가 챔버의 일부에 설치된 상태의 사시도를 개략적으로 나타내고, 도 5는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부의 사시도를 개략적으로 나타낸다.5 schematically shows a perspective view of a state in which the malodor removal apparatus using plasma according to the embodiment is installed in a part of a chamber, and FIG. 5 is a first plasma generating unit and a third plasma of the malodor removal apparatus using plasma according to the embodiment. A perspective view of the generator is schematically shown.

도 5 및 도 6을 참고하면, 악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)를 포함할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)는 악취 제거 장치(1) 중 임의의 위치에 있는 두 개의 플라즈마 생성부(10, 30)를 의미하고, 도면들에 표시된 위치에 제한되지 않는다. 악취 제거 장치(1)는 하나 이상의 플라즈마 생성부를 포함할 수 있고, 플라즈마 생성부는 필요에 따라 다양한 개수로 배치될 수 있다.5 and 6 , the malodor removal apparatus 1 may include a first plasma generator 10 and a third plasma generator 30 . The first plasma generating unit 10 and the third plasma generating unit 30 refer to two plasma generating units 10 and 30 located at arbitrary positions among the odor removal apparatus 1, and are located at positions indicated in the drawings. not limited The malodor removal apparatus 1 may include one or more plasma generating units, and various numbers of plasma generating units may be disposed as needed.

제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)는 악취 포함 기체(S)가 인입되는 챔버(C)의 본체에 설치되어 플라즈마(P), 활성 라디칼, 오존 등을 발생시켜 챔버(C)의 악취 포함 기체(S)와 맞닿으며 악취를 처리할 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)는 볼팅 결합, 리벳 결합 등의 결합부를 포함하여 챔버(C)의 본체에 고정되거나 자성부를 포함하여 덕트(C)에 탈부착이 용이하도록 설치될 수 있다. 제1 플라즈마 생성부(10)는 도 2의 제1 플라즈마 생성부(10)의 구조와 유사하므로, 그 상세한 설명을 생략한다.The first plasma generating unit 10 and the third plasma generating unit 30 are installed in the main body of the chamber C into which the odor-containing gas S is introduced to generate plasma P, active radicals, ozone, etc. into the chamber. It is in contact with the odor-containing gas (S) of (C), and the odor can be treated. The first plasma generator 10 may be fixed to the main body of the chamber C by including a coupling part such as a bolting coupling or a riveting coupling, or may be installed to be easily attached to and detached from the duct C including a magnetic part. Since the first plasma generating unit 10 has a structure similar to that of the first plasma generating unit 10 of FIG. 2 , a detailed description thereof will be omitted.

악취 제거 장치(1)는 챔버(C)에서 제1 플라즈마 생성부(10)와 이격하며 위치하는 제3 플라즈마 생성부(30)를 포함한다. 제3 플라즈마 생성부(30)는 제5 전극(31) 및 제6 전극(32)을 포함하고, 제5 전극(31) 및 제6 전극(32)에 전원이 인가되면 플라즈마를 생성한다.The malodor removal apparatus 1 includes a third plasma generating unit 30 spaced apart from the first plasma generating unit 10 in the chamber (C). The third plasma generator 30 includes a fifth electrode 31 and a sixth electrode 32 , and generates plasma when power is applied to the fifth electrode 31 and the sixth electrode 32 .

제5 전극(31)은 복수개로, 제1 전극(11)이 연장된 방향을 기준으로 제1 전극(11)과 대각선을 이루는 방향을 따라 뻗으며 위치한다. 제6 전극(32)은 복수개로, 제2 전극(12)이 연장된 방향을 기준으로 제2 전극(12)과 대각선을 이루는 방향을 따라 뻗으며 위치한다. 제5 전극(31)과 제6 전극(32)은 서로 교차하며 위치하면서 그 사이의 이격 공간인 제3 격자부(33) 및 상호 맞닿는 접촉부(38)를 형성할 수 있다. 제5 전극(31)과 제6 전극(32)은 각각 금속와이어 및 금속와이어를 감싸며 위치하는 유전체로 형성될 수 있다.A plurality of fifth electrodes 31 are positioned to extend along a diagonal direction with the first electrode 11 based on the direction in which the first electrode 11 extends. A plurality of sixth electrodes 32 are positioned to extend along a direction forming a diagonal line with the second electrode 12 based on the direction in which the second electrode 12 extends. The fifth electrode 31 and the sixth electrode 32 may be positioned to cross each other and form a third grid portion 33 that is a spaced apart space therebetween and a contact portion 38 in contact with each other. The fifth electrode 31 and the sixth electrode 32 may be formed of a metal wire and a dielectric material positioned to surround the metal wire, respectively.

도 7은 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 제1 플라즈마 생성부와 제3 플라즈마 생성부를 y축 방향에서 본 정면도를 개략적으로 나타낸다.7 is a schematic front view of a first plasma generating unit and a third plasma generating unit viewed from the y-axis direction of the malodor removal apparatus using plasma according to the embodiment.

도 7을 참고하면, 제5 전극(31)은 제1 전극(11)이 연장된 방향을 기준으로 제1 전극(11)과 미리 설정된 각도를 이루며 위치하고, 제6 전극(32)은 제2 전극(12)이 연장된 방향을 기준으로 제2 전극(12)과 미리 설정된 각도를 이루며 위치한다. 즉, y축 방향으로 본 정면도에서 제1 격자부(13)는 사각형 형상을 가질 수 있고, 제3 격자부는 제1 격자부(13)의 사각형 형상을 기준으로 미리 설정된 각도를 이루며 위치하므로 마름모 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 7 , the fifth electrode 31 is positioned to form a preset angle with the first electrode 11 with respect to the extending direction of the first electrode 11 , and the sixth electrode 32 is the second electrode (12) is positioned to form a preset angle with the second electrode 12 based on the extending direction. That is, in the front view viewed in the y-axis direction, the first lattice part 13 may have a rectangular shape, and the third lattice part is positioned at a preset angle based on the rectangular shape of the first lattice part 13, and thus has a rhombus shape. can have

이 경우, 제1 격자부(13)에는 제5 전극(31)과 제6 전극(32)이 상호 맞닿는 접촉부(38)가 위치하면서 플라즈마가 생성되지 않는 제1 격자부(13)의 영역을 접촉부(38)에서 생성된 플라즈마가 채울 수 있으므로. 플라즈마 발생 영역을 촘촘하게 형성할 수 있다.In this case, in the first grid portion 13 , a contact portion 38 where the fifth electrode 31 and the sixth electrode 32 contact each other is positioned and the region of the first grid portion 13 in which plasma is not generated is formed as the contact portion. As the plasma generated in (38) can fill. The plasma generating region may be densely formed.

따라서, 악취 제거 장치(1)는 플라즈마가 챔버(C)에 빈틈없이 생성되어 악취 포함 기체(S)의 악취 처리를 단시간에 수행할 수 있고, 악취 포함 기체(S)의 악취 농도가 높은 경우 악취 처리의 신뢰성을 높일 수 있다.Accordingly, in the malodor removal apparatus 1, plasma is tightly generated in the chamber C, so that the malodor treatment of the malodor-containing gas S can be performed in a short time, and when the malodor concentration of the malodor-containing gas S is high, the malodor The reliability of processing can be improved.

또한, 악취 제거 장치(1)는 제1 플라즈마 생성부(10) 및 제3 플라즈마 생성부(30)가 챔버(C)의 본체에 설치되므로, 악취 포함 기체(S)와 플라즈마, 활성 라디칼 또는 오존과 직접적으로 맞닿아 처리될 수 있으므로 악취 처리 효율을 높일 수 있다. In addition, in the malodor removal apparatus 1, since the first plasma generating unit 10 and the third plasma generating unit 30 are installed in the main body of the chamber C, the odor-containing gas S and plasma, active radicals or ozone Since it can be treated in direct contact with the odor, the efficiency of odor treatment can be increased.

도 4 및 도 8을 참고하면, 챔버(C)의 일측 단부에는 후단 플라즈마 생성부(50)가 설치될 수 있다. 후단 플라즈마 생성부(50)는 플라즈마 생성부(10, 20, 30)에서 1차적으로 악취가 처리된 기체(S)를 2차적으로 처리할 수 있다.4 and 8 , a rear end plasma generating unit 50 may be installed at one end of the chamber (C). The post-stage plasma generator 50 may secondarily process the gas S, which has been primarily odor-treated by the plasma generators 10 , 20 , and 30 .

후단 플라즈마 생성부(50)는 외부전극(51), 내부전극(52), 회전발생기(53) 및 가스분배기(56)를 포함한다. 외부전극(51)은 원통형 형상을 가지며 내부전극(52)을 둘러싸며 위치하고, 내측에 방전공간(54)을 포함한다. 내부전극(52)의 외측은 곡면 형상을 가지고 외부전극(51)의 중심에 설치된다. 가스분배기(56)에서 분출된 가스는 방전공간(54)으로 이동할 수 있다. 회전발생기(53)는 방전공간(54)의 하부에 위치하고, 방전공간(54)에서 발생된 플라즈마를 회전시킨다The post-stage plasma generating unit 50 includes an external electrode 51 , an internal electrode 52 , a rotation generator 53 , and a gas distributor 56 . The external electrode 51 has a cylindrical shape, is positioned to surround the internal electrode 52 , and includes a discharge space 54 inside. The outer side of the inner electrode 52 has a curved shape and is installed at the center of the outer electrode 51 . The gas ejected from the gas distributor 56 may move to the discharge space 54 . The rotation generator 53 is located below the discharge space 54 and rotates the plasma generated in the discharge space 54 .

즉, 플라즈마는 내부전극(52)과 외부전극(51) 사이의 방전공간(54)에서 높은 전압차에 의하여 발생되며 가스분배기(56)는 공기를 회전발생기(53)로 전달하여 내부전극(52)과 외부전극(51) 사이에 회전공기(55)를 발생시킨다.That is, the plasma is generated by a high voltage difference in the discharge space 54 between the internal electrode 52 and the external electrode 51 , and the gas distributor 56 delivers air to the rotation generator 53 to the internal electrode 52 . ) and the external electrode 51 to generate rotational air (55).

악취 제거 장치(1)는 후단 플라즈마 생성부(50)를 이용하여 플라즈마 생성부(10, 20, 30)에서 1차적으로 악취가 처리된 기체를 한번 더 처리할 수 있으므로 악취 처리의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Since the malodor removal device 1 can process once again the odor-treated gas in the plasma generators 10, 20, and 30 using the downstream plasma generator 50, the reliability of the malodor treatment can be improved. can

도 9는 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치의 사시도를 개략적으로 나타낸다.9 schematically illustrates a perspective view of an apparatus for removing odors using plasma according to an embodiment.

도 9를 참고하면, 악취 제거 장치는 유전체 챔버(60), 내부전극(61), 전원공급부(63) 및 플라즈마 생성부(64)를 포함할 수 있다. 유전체 챔버(60)에는 악취 포함 기체가 통과할 수 있다. 유전체 챔버(60)는 원통형 형상을 가지며 저항성을 가지는 유전체일 수 있다. 유전체 챔버(60)의 내부에는 플라즈마가 생성되는 플라즈마 생성부(64)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 9 , the malodor removal apparatus may include a dielectric chamber 60 , an internal electrode 61 , a power supply unit 63 , and a plasma generation unit 64 . A gas containing odor may pass through the dielectric chamber 60 . The dielectric chamber 60 may have a cylindrical shape and may be a dielectric having a resistivity. The inside of the dielectric chamber 60 may include a plasma generating unit 64 for generating plasma.

플라즈마 생성부(64)에는 내부전극(61)이 위치하고, 내부전극(61)에 전원공급부(63)의 전원이 공급되면 유전체 챔버(60) 내부에 플라즈마가 생성되므로, 유전체 챔버(60)를 통과하는 악취 포함 기체는 플라즈마 처리될 수 있다. 이에, 악취 포함 기체에 포함되는 악취, 세균, 곰팡이 등의 미생물을 분해 또는 제거 할 수 있다.An internal electrode 61 is located in the plasma generating unit 64 , and when power is supplied from the power supply unit 63 to the internal electrode 61 , plasma is generated inside the dielectric chamber 60 , so that it passes through the dielectric chamber The odor-containing gas may be plasma-treated. Accordingly, it is possible to decompose or remove microorganisms such as malodors, bacteria, and molds contained in the odor-containing gas.

내부전극(61)은 유전체 챔버(60)의 일측에서 타측 방향으로 돌출된 삼각기둥형 형상을 가질 수 있다. 내부전극(61)은 하측 단부의 꼭짓점에 톱니부(62)를 포함할 수 있다. 톱니부(62)는 꼭짓점 단부의 외측 방향으로 돌출된 톱니 형상을 가질 수 있다.The internal electrode 61 may have a triangular prism shape protruding from one side of the dielectric chamber 60 to the other side. The internal electrode 61 may include a sawtooth portion 62 at a vertex of a lower end thereof. The toothed portion 62 may have a sawtooth shape protruding outward from the vertex end.

내부전극(61)이 톱니부(62)를 포함할 경우, 꼭짓점 단부가 손상되는 것을 미연에 방지할 수 있으며 플라즈마 생성부(64)의 불용 방전을 감소시키고 플라즈마의 발생 효율을 높일 수 있다.When the internal electrode 61 includes the toothed part 62 , damage to the vertex end can be prevented in advance, and the insoluble discharge of the plasma generating part 64 can be reduced and plasma generation efficiency can be increased.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiment of the present invention has been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements by those skilled in the art using the basic concept of the present invention as defined in the following claims are also provided. is within the scope of the

1: 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치
C. 챔버 D. 덕트
10: 제1 플라즈마 생성부 11. 제1 전극
12. 제2 전극 13. 제1 격자부
14. 제1 금속와이어 15. 제1 유전체
16. 제2 금속와이어 17. 제2 유전체
18. 접촉부 19. 하우징
20. 제2 플라즈마 생성부 21. 제3 전극
22. 제4 전극 23. 제2 격자부
24. 금속전극 25. 알루미나 튜브
28. 접촉부 29. 하우징
30. 제3 플라즈마 생성부 31. 제5 전극
32. 제6 전극 33. 제3 격자부
38. 접촉부 39. 하우징
40. 전원공급부 50. 후단 플라즈마 생성부
51. 외부전극 52. 내부전극
53. 회전발생기 54. 방전공간
55. 회전공기 56. 가스분배기
60. 유전체 챔버 61. 내부전극
62. 톱니부 63. 전원공급부
64. 플라즈마 생성부1: Plasma-using odor removal device
C. Chamber D. Duct
10: first plasma generator 11. first electrode
12. Second electrode 13. First lattice part
14. first metal wire 15. first dielectric
16. Second metal wire 17. Second dielectric
18. Contacts 19. Housing
20. Second plasma generator 21. Third electrode
22. Fourth electrode 23. Second lattice part
24. Metal electrode 25. Alumina tube
28. Contacts 29. Housing
30. Third plasma generator 31. Fifth electrode
32. 6th electrode 33. 3rd lattice part
38. Contacts 39. Housing
40. Power supply unit 50. Post-stage plasma generation unit
51. External electrode 52. Internal electrode
53. Rotation Generator 54. Discharge Space
55. Rotating air 56. Gas distributor
60. Dielectric chamber 61. Internal electrode
62. Toothed part 63. Power supply part
64. Plasma generator

Claims (12)

악취 포함 기체가 통과하는 챔버의 일부에 설치되고, 플라즈마가 생성되는 제1 플라즈마 생성부 및
상기 제1 플라즈마 생성부에 전원을 인가하는 전원공급부
를 포함하고,
상기 제1 플라즈마 생성부는,
제1 금속와이어를 감싸며 위치하는 제1 유전체를 포함하고 유연성을 가지는 복수개의 제1 전극,
상기 제1 전극의 하부에서 상기 제1 전극과 교차하며 위치하고 제2 금속와이어를 감싸며 위치하는 제2 유전체를 포함하며 유연성을 가지는 복수개의 제2 전극, 및
상기 복수개의 제1 전극의 서로 이격된 이격부와 상기 복수개의 제2 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제1 격자부,
를 포함하고
상기 전원공급부의 전원 공급에 의해 상기 제1 플라즈마 생성부에 플라즈마가 생성되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키며,
상기 제1 전극과 대향하며 위치하는 복수개의 제3 전극을 포함하고 상기 챔버와 연결된 덕트에서 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제2 플라즈마 생성부를 더 포함하고,
상기 제3 전극은, 튜브 내부에 튜브 형태로 금속전극이 삽입되며, 상기 금속전극의 내부로 냉각재가 주입되는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.a first plasma generating unit installed in a part of the chamber through which the odor-containing gas passes, and generating plasma; and
A power supply unit for applying power to the first plasma generating unit
including,
The first plasma generating unit,
A plurality of first electrodes including a first dielectric positioned surrounding the first metal wire and having flexibility;
A plurality of second electrodes having flexibility and including a second dielectric positioned to intersect the first electrode and surround the second metal wire under the first electrode, and
a first grid portion that is an overlapping region of the spaced apart portions of the plurality of first electrodes and the spaced apart portions of the plurality of second electrodes;
includes
Plasma is generated in the first plasma generating unit by the power supply of the power supply unit to decompose the odor from the odor-containing gas,
Including a plurality of third electrodes positioned to face the first electrode and further comprising a second plasma generating unit installed to be spaced apart from the first plasma generating unit in a duct connected to the chamber,
The third electrode is an apparatus for removing odors using plasma in which a metal electrode is inserted in a tube shape inside the tube, and a coolant is injected into the metal electrode. 제1항에서,
상기 제1 플라즈마 생성부는, 상기 덕트에 설치되고, 상기 덕트에서 플라즈마를 발생시키고 상기 챔버의 내부로 오존이 유입되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 1,
The first plasma generator is installed in the duct, and generates plasma in the duct, and ozone is introduced into the chamber to decompose odor from the odor-containing gas. 삭제delete 삭제delete 제1항에서,
상기 제2 플라즈마 생성부는, 상기 제3 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제4 전극을 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 1,
The second plasma generating unit may include a plurality of fourth electrodes positioned to intersect the third electrode. 제5항에서,
상기 제2 플라즈마 생성부는, 상기 복수개의 제3 전극의 서로 이격된 이격부와 상기 복수개의 제4 전극의 서로 이격된 이격부의 중첩 영역인 제2 격자부를 포함하고, 상기 제2 격자부의 면적은 상기 제1격자부의 면적과 상이한 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 5,
The second plasma generator may include a second grid portion that is an overlapping region of the spaced apart portions of the plurality of third electrodes and the spaced apart portions of the plurality of fourth electrodes, and the area of the second grid portion is A malodor removal device using a plasma different from the area of the first grid. 제1항에서,
상기 제1 플라즈마 생성부는, 상기 챔버의 본체에 설치되고, 상기 챔버에서 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버의 내부로 플라즈마 및 오존이 유입되어 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 1,
The first plasma generator is installed in the main body of the chamber, and generates plasma in the chamber to introduce plasma and ozone into the chamber to decompose odors from the odor-containing gas. 제7항에서,
복수개의 제5 전극 및 상기 제5 전극과 교차하며 위치하는 복수개의 제6 전극을 포함하고 상기 챔버에서 상기 제1 플라즈마 생성부와 이격하며 설치되는 제3 플라즈마 생성부를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 7,
Odor removal using plasma including a plurality of fifth electrodes and a plurality of sixth electrodes intersecting the fifth electrodes and further comprising a third plasma generating unit spaced apart from the first plasma generating unit in the chamber Device. 제8항에서,
상기 제5 전극은, 상기 제1 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되고, 상기 제6 전극은 상기 제2 전극과 미리 설정된 각도를 이루며 연장되는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 8,
The fifth electrode extends to form a preset angle with the first electrode, and the sixth electrode extends to form a preset angle with the second electrode. 제1항에서,
상기 챔버는, 상기 챔버의 일측 단부와 연결되고, 플라즈마가 회전 유동하면서 상기 챔버를 통과한 상기 악취 포함 기체로부터 악취를 분해시키는 후단 플라즈마 생성부를 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 1,
The chamber is connected to one end of the chamber, the plasma odor removal apparatus using a plasma including a plasma generating unit for decomposing the malodor from the odor-containing gas that has passed through the chamber while rotating and flowing. 제10항에서,
상기 후단 플라즈마 생성부는, 외부전극, 상기 외부전극의 내부에 위치하는 내부전극 및 상기 외부전극의 내부로 주입된 가스에 와류를 유도하여 플라즈마를 회전 유동 시키는 회전발생기를 포함하는 플라즈마를 이용한 악취 제거 장치.In claim 10,
The rear end plasma generating unit may include an external electrode, an internal electrode positioned inside the external electrode, and a rotation generator for rotating the plasma by inducing a vortex in the gas injected into the external electrode. . 삭제delete
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