KR20230164777A - Plasma processing System for foul smelling gas - Google Patents

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Abstract

본 발명은 마이크로웨이브(Microwave)을 이용하여 유입된 대상물질을 1차 연소/산화/파괴/분해처리하여 정화된 물질을 제공하는 M/W 플라즈마 버너 시스템과, 상기 MW 플라즈마 버너 시스템에서 1차 처리된 대상물질을 글라이딩아크 플라즈마를 이용하여 2차 연소/산화/파괴/분해처리하는 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템을 포함하는고온 플라즈마 시스템과; 상기 고온 플라즈마 시스템을 통해 1차 및 2차 처리된 대상물질에서 미세먼지를 집진하는 PM 집진시스템과: 제1 DBD 플라즈마 장치로 플라즈마를 발생시키고 이때 생성되는 고농도의 오존 및 OH 라디칼을 이용하여 상기 PM 집진 시스템에서 미세먼지가 집진된 대상물질을 처리하는 제1 저온플라즈마 시스템과 상기 메쉬형 플라즈마 스크러버를 통해 1차 처리된 대상물질에 대해 다단의 흡착제층으로 구성된 흡착탑을 통해 필터링하고 제2 DBD 플라즈마 장치를 통해 생성된 플라즈마를 상기 흡착탑의 최상부에 형성된 광촉매층의 표면에 조사하여 활성 O-H 라디칼을 생성하고 생성된 활성 O-H 라디칼은 통해 상기 대상물질을 2차 처리하는 제2 저온플라즈마 시스템을 포함하는 저온 플라즈마 시스템을 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템을 제공한다.The present invention provides a M/W plasma burner system that provides purified material by performing primary combustion/oxidation/destruction/decomposition treatment on the introduced target material using microwaves, and primary treatment in the MW plasma burner system. A high-temperature plasma system including a gliding arc plasma burner system for secondary combustion/oxidation/destruction/decomposition of the target material using gliding arc plasma; A PM dust collection system that collects fine dust from the primary and secondary treated materials through the high-temperature plasma system: generates plasma with a first DBD plasma device and uses the high concentration of ozone and OH radicals generated at this time to collect the PM dust. A first low-temperature plasma system that processes the target material with fine dust collected in the dust collection system and the target material that is primarily treated through the mesh-type plasma scrubber is filtered through an adsorption tower composed of a multi-stage adsorbent layer and a second DBD plasma device. A low-temperature plasma comprising a second low-temperature plasma system that irradiates the plasma generated through the surface of the photocatalyst layer formed at the top of the adsorption tower to generate active O-H radicals and secondaryly processes the target material through the generated active O-H radicals. Provides a plasma three-stage complex system including a system.

Description

플라즈마 3단계 복합 시스템{Plasma processing System for foul smelling gas}Plasma 3-stage complex system {Plasma processing System for foul smelling gas}

본 발명은 플라즈마 연소산화시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고온 플라즈마 처리, 세라믹 집진 처리, 저온 플라즈마 처리 과정의 순차적 3단계를 거쳐 악취 가스와 VOCs, 유해독성물질 성분을 효율적으로 처리할 수 있는 플라즈마 3단계 복합 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma combustion oxidation system, and more specifically, to a plasma that can efficiently treat odorous gases, VOCs, and harmful toxic substances through three sequential steps: high-temperature plasma treatment, ceramic dust collection treatment, and low-temperature plasma treatment. It is about a three-level complex system.

현재 지자체별 각종 산업단지가 조성되고 급속한 산업화에 따라 전국에 약 440,000개의 제조업체 및 공장이 존재하고 있는데, 이들 제조업체 중에서 유해독성물질, 복합 악취, 미세먼지, 특정 대기유해물질 등을 발생시키는 사업장과 화학물질 취급 사업장은 전국적으로 13만여 사업장이 존재하고 있다.Currently, there are about 440,000 manufacturers and factories across the country due to the construction of various industrial complexes in each local government and rapid industrialization. There are over 130,000 material handling businesses nationwide.

또한, 대기환경보전법 시행령에 따른 업종별 사업장 분류기준에 따른 중·소형 사업장(4~5종) 및 직화구이 음식점 등에서도 유해오염물질의 배출이 증가하고 있다.In addition, emissions of hazardous pollutants are increasing in small and medium-sized businesses (4 to 5 types) and direct-fired restaurants according to the workplace classification standards for each industry in accordance with the Enforcement Decree of the Air Quality Conservation Act.

이에, 대상지역 주민들의 건강권 확보 문제가 지속적으로 제기되고 있고, 각종 환경민원 및 농작물 피해도 증가하는 실정이다.Accordingly, the issue of securing the right to health for residents of target areas continues to be raised, and various environmental complaints and damage to crops are also increasing.

특히, 악취가스와 유해독성물질은 인간의 후각을 자극하여 불쾌감을 줄뿐 아니라 건강상에도 유해한 영향을 미친다. 또한, 악취가스와 함께 배출 전구물질인 휘발성 유기화합물(VOCs)은 증기압이 높아 대기 중으로 쉽게 증발되며 대기 중에서질소산화물(NOx)과 광화학반응을 일으켜 광화학 스모그를 유발시켜 대기중의 오존층을 파괴하고 인체에 악영향을 미칠 수 있다. In particular, odorous gases and harmful toxic substances not only cause discomfort by stimulating the human sense of smell, but also have a harmful effect on health. In addition, volatile organic compounds (VOCs), which are emission precursors along with odorous gases, have high vapor pressure and are easily evaporated into the atmosphere. They cause photochemical reactions with nitrogen oxides (NOx) in the atmosphere, causing photochemical smog, destroying the ozone layer in the atmosphere and destroying human bodies. may have a negative impact.

이러한 악취가스와 VOCs, PAHs, HAPs를 제거하기 위해 활성탄 흡착제거법, 세정제 흡수법, 불꽃산화 연소법, 촉매 산화법, 오존을 이용한 화학적 산화법, 저온 플라즈마를 이용하여 분해하는 방법, 생물학적 여과(bio-filtation) 방식을 이용하는 기술들이 개발되고 있으나, 유해독성물질, VOCs와 난분해성 악취가스를 효과적으로 제거하는 데는 한계가 있다.To remove these odorous gases, VOCs, PAHs, and HAPs, activated carbon adsorption and removal method, detergent absorption method, flame oxidation combustion method, catalytic oxidation method, chemical oxidation method using ozone, decomposition method using low-temperature plasma, and biological filtration (bio-filtration). Although technologies using this method are being developed, there are limits to effectively removing hazardous toxic substances, VOCs, and non-decomposable odor gases.

한국등록특허 10-1400669호(2014.05.29. 공고)Korean Patent No. 10-1400669 (announced on May 29, 2014) 한국공개특허 10-2010-0069213호(2010.06.24. 공개)Korean Patent Publication No. 10-2010-0069213 (published on June 24, 2010) 한국등록특허 제10-1815382(2017.12.28 등록)Korean Registered Patent No. 10-1815382 (registered on December 28, 2017) 한국공개특허 10-2020-0122142(2020.10.27.공개)Korean Patent Publication No. 10-2020-0122142 (published on October 27, 2020)

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 순차적으로 고온 플라즈마 처리, 세라믹 집진 처리, 저온 플라즈마 처리 과정의 3단계를 거쳐 악취 가스와 VOCs, 유해독성물질 성분을 효율적으로 처리할 수 있는 플라즈마 3단계 복합 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is intended to solve the problems described above, and is a plasma that can efficiently treat odorous gases, VOCs, and harmful toxic substances through three sequential steps: high-temperature plasma treatment, ceramic dust collection treatment, and low-temperature plasma treatment. The purpose is to provide a three-stage complex system.

이를 위해, 본 발명은 마이크로웨이브(Microwave)을 이용하여 유입된 대상물질을 1차 연소/산화/파괴/분해처리하여 정화된 물질을 제공하는 M/W 플라즈마 버너 시스템과, 상기 MW 플라즈마 버너 시스템에서 1차 처리된 대상물질을 글라이딩아크 플라즈마를 이용하여 2차 연소/산화/파괴/분해처리하는 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템을 포함하는고온 플라즈마 시스템과; 상기 고온 플라즈마 시스템을 통해 1차 및 2차 처리된 대상물질에서 미세먼지를 집진하는 PM 집진시스템과: 제1 DBD 플라즈마 장치로 플라즈마를 발생시키고 이때 생성되는 고농도의 오존 및 OH 라디칼을 이용하여 상기 PM 집진 시스템에서 미세먼지가 집진된 대상물질을 처리하는 제1 저온플라즈마 시스템과 상기 메쉬형 플라즈마 스크러버를 통해 1차 처리된 대상물질에 대해 다단의 흡착제층으로 구성된 흡착탑을 통해 필터링하고 제2 DBD 플라즈마 장치를 통해 생성된 플라즈마를 상기 흡착탑의 최상부에 형성된 광촉매층의 표면에 조사하여 활성 O-H 라디칼을 생성하고 생성된 활성 O-H 라디칼은 통해 상기 대상물질을 2차 처리하는 제2 저온플라즈마 시스템을 포함하는 저온 플라즈마 시스템을 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템을 제공한다.For this purpose, the present invention provides a M/W plasma burner system that provides purified material by primary combustion/oxidation/destruction/decomposition of the introduced target material using microwaves, and in the MW plasma burner system A high-temperature plasma system including a gliding arc plasma burner system for secondary combustion/oxidation/destruction/decomposition of the primary treated target material using gliding arc plasma; A PM dust collection system that collects fine dust from the primary and secondary treated materials through the high-temperature plasma system: generates plasma with a first DBD plasma device and uses the high concentration of ozone and OH radicals generated at this time to collect the PM dust. A first low-temperature plasma system that processes the target material with fine dust collected in the dust collection system and the target material that is primarily treated through the mesh-type plasma scrubber is filtered through an adsorption tower composed of a multi-stage adsorbent layer and a second DBD plasma device. A low-temperature plasma comprising a second low-temperature plasma system that irradiates the plasma generated through the surface of the photocatalyst layer formed at the top of the adsorption tower to generate active O-H radicals and secondaryly processes the target material through the generated active O-H radicals. Provides a plasma three-stage complex system including a system.

본 발명은 고온 플라즈마 처리, 세라믹 집진 처리, 저온 플라즈마 처리 과정의 순차적 3단계를 거쳐 악취 가스와 VOCs, 유해독성물질 성분을 효율적으로 처리할 수 있게 한다.The present invention makes it possible to efficiently treat odorous gases, VOCs, and harmful toxic substances through three sequential steps: high-temperature plasma treatment, ceramic dust collection treatment, and low-temperature plasma treatment.

이때, 고온 플라즈마 연소산화 시스템은 전단의 M/W 플라즈마 버너 시스템과 후단의 글라이딩 아크 플라즈마 버너 시스템에서 연속적으로 연소 및 산화반응을 수행하여 난분해성 가스 물질 및 유해독성물질 및 악취가스, VOCs, PAHs, HAPs를 연소산화 분해한 후, 출구를 통해 처리된 클린(clean) 물질을 배출하여 친환경을 제공할 수 있다.At this time, the high-temperature plasma combustion oxidation system continuously performs combustion and oxidation reactions in the M/W plasma burner system at the front and the gliding arc plasma burner system at the rear to remove non-decomposable gas substances, harmful toxic substances, odor gases, VOCs, PAHs, After HAPs are decomposed through combustion and oxidation, the treated clean material is discharged through the outlet, making it environmentally friendly.

또한, DBD 플라즈마 유연 전극장치에서 생성된 오존은 챔버로 이동하여 대상물질에 포함되는 악취, 세균, 곰팡이 등의 미생물을 제거하여 정화작용을 수행할 수 있다. In addition, the ozone generated from the DBD plasma flexible electrode device can move to the chamber and perform a purification action by removing microorganisms such as odors, bacteria, and mold contained in the target material.

또한, 저온 DBD 플라즈마 장치를 통해 플라즈마 반응과 UVA를 활성 광촉매/광촉매 필터의 표면에 조사하여 이로 인해 광촉매 반응이 발생하여 활성 O-H 라디칼을 생성한다. 생성된 활성 O-H 라디칼은 강력한 산화력으로 분자의 크기와 특성이 다양한 복합오염물질을 완전 제거할 수 있는 효과가 있다.In addition, plasma reaction and UVA are irradiated to the surface of the active photocatalyst/photocatalyst filter through a low-temperature DBD plasma device, which causes a photocatalytic reaction to generate active O-H radicals. The generated active O-H radicals have a strong oxidizing power and are effective in completely removing complex pollutants of various molecular sizes and characteristics.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 3단계 복합 시스템의 개념을 나타낸 도면이고,
도 2는 도 1의 플라즈마 3단계 복합 시스템의 구성을 나타낸 도면,
도 3은 본 발명에 따른 PTO 플라즈마 연소산화시스템의 구성을 나타낸 도면,
도 4는 도 3의 PTO 플라즈마 연소산화시스템에서 마이크로웨이브 플라즈마 발생부의 구성을 나타낸 도면,
도 5는 도 3의 PTO 플라즈마 연소산화시스템에서 글라이딩아크 플라즈마 발생부의 구성을 나타낸 도면,
도 6은 본 발명에 따른 세라믹 PM 집진 시스템의 구성을 나타낸 도면,
도 7은 도 6의 세라믹 PM 집진 시스템에서 세라믹 필터의 구성을 나타낸 도면,
도 8은 본 발명에 따른 저온플라즈마 시스템의 구성을 나타낸 도면이다.
1 is a diagram showing the concept of a plasma three-stage complex system according to the present invention,
Figure 2 is a diagram showing the configuration of the plasma three-stage complex system of Figure 1;
Figure 3 is a diagram showing the configuration of the PTO plasma combustion oxidation system according to the present invention;
Figure 4 is a diagram showing the configuration of the microwave plasma generator in the PTO plasma combustion oxidation system of Figure 3;
Figure 5 is a diagram showing the configuration of the gliding arc plasma generator in the PTO plasma combustion oxidation system of Figure 3;
6 is a diagram showing the configuration of a ceramic PM dust collection system according to the present invention;
Figure 7 is a diagram showing the configuration of a ceramic filter in the ceramic PM dust collection system of Figure 6;
Figure 8 is a diagram showing the configuration of a low-temperature plasma system according to the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.The advantages and features of the present invention and methods for achieving them will become clear by referring to the embodiments described in detail below along with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and will be implemented in various different forms. The present embodiments only serve to ensure that the disclosure of the present invention is complete and that common knowledge in the technical field to which the present invention pertains is not limited. It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although first, second, etc. are used to describe various components, these components are of course not limited by these terms. These terms are merely used to distinguish one component from another. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may also be a second component within the technical spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The size and thickness of each component shown in the drawings are shown for convenience of explanation, and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the components shown.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 당업자가 충분히 이해할 수 있듯이 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or fully combined or combined with each other, and as can be fully understood by those skilled in the art, various technical interconnections and operations are possible, and each embodiment may be implemented independently of each other. It may be possible to conduct them together due to a related relationship.

이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

본 발명은 악취가스와 유해독성물질 처리를 위한 플라즈마 3단계 복합 시스템에 관한 것으로, 크게 고온 플라즈마 시스템과, 세라믹 집진 시스템과, 저온 플라즈마 시스템으로 구성될 수 있다.The present invention relates to a three-stage plasma complex system for treating odorous gases and hazardous toxic substances, and can be largely comprised of a high-temperature plasma system, a ceramic dust collection system, and a low-temperature plasma system.

여기서, 본 발명에 따른 플라즈마 3단계 복합 시스템은, 공장 등의 산업시설, 음식점 등에서 발생하는 악취 가스와 VOCs, 유해독성물질 등을 연소/산화/파괴/분해처리하여 정화된 가스 또는 물질을 제공하는 친환경 시스템을 제공한다. 여기서, 공장 등의 산업시설, 음식점 등에서 발생하는 악취 가스와 VOCs, 유해독성물질 등은 이하에서 "대상물질"이라 한다. Here, the plasma three-stage complex system according to the present invention provides purified gas or materials by burning/oxidizing/destructing/decomposing odorous gases, VOCs, and harmful toxic substances generated in industrial facilities such as factories, restaurants, etc. Provides an eco-friendly system. Here, odorous gases, VOCs, harmful toxic substances, etc. generated in industrial facilities such as factories, restaurants, etc. are hereinafter referred to as “target substances.”

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 3단계 복합 시스템의 개념을 나타낸 도면이고, 도 2는 도 1의 플라즈마 3단계 복합 시스템의 구성을 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a diagram showing the concept of a three-stage plasma complex system according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the three-stage plasma complex system of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 3단계 복합 시스템은 크게 고온 플라즈마를 이용한 PTO 플라즈마 연소산화시스템의 1단계와, 세라믹 PM 집진 시스템의 2단계와, 저온 플라즈마를 이용한 메쉬형 플라즈마 스크러버와 DBD 플라즈마/활성광촉매 시스템의 3단계 처리과정을 거쳐 대상물질이 정화된다.Referring to Figures 1 and 2, the plasma three-stage complex system according to the present invention is largely divided into the first stage of the PTO plasma combustion oxidation system using high-temperature plasma, the second stage of the ceramic PM dust collection system, and the mesh-type plasma using low-temperature plasma. The target material is purified through a three-step treatment process using a scrubber and a DBD plasma/activated photocatalyst system.

먼저,제1단계의 고온 플라즈마를 이용한 PTO 플라즈마 연소산화시스템에 대해서 살펴본다. First, we will look at the PTO plasma combustion oxidation system using high-temperature plasma in the first stage.

도 3은 본 발명에 따른 PTO 플라즈마 연소산화시스템의 구성을 나타낸 도면, 도 4는 도 3의 PTO 플라즈마 연소산화시스템에서 마이크로웨이브 플라즈마 발생부의 구성을 나타낸 도면, 도 5는 도 3의 PTO 플라즈마 연소산화시스템에서 글라이딩아크 플라즈마 발생부의 구성을 나타낸 도면이다.FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the PTO plasma combustion oxidation system according to the present invention, FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the microwave plasma generator in the PTO plasma combustion oxidation system of FIG. 3, and FIG. 5 is a diagram showing the configuration of the PTO plasma combustion oxidation system of FIG. 3. This is a diagram showing the configuration of the gliding arc plasma generator in the system.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 PTO 플라즈마 연소산화 시스템은 크게, 마이크로웨이브(Microwave)을 이용하여 제1 연소로로 유입된 상기 대상물질을 1차 연소/산화/파괴/분해처리하여 정화된 가스 또는 물질을 제공하는 마이크로웨이브 플라즈마 버너 시스템과, 상기 마이크로웨이브 플라즈마 버너 시스템에서 1차 처리된 대상물질을 제2 연소로에서 글라이딩아크 플라즈마를 이용하여 2차 연소/산화/파괴/분해처리하여 출구를 통해 정화된 가스 또는 물질을 제공하는 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템으로 구성될 수 있다. 여기서, 마이크로웨이브(Microwave)는 이하에서 약칭하여 "M/W"라 표기하고, 상기 대상물질을 연소/산화/파괴/분해처리하여 정화된 가스 또는 물질은 이하에서 약칭하여 "처리된 물질"이라 표기할 수 있다. Referring to Figure 3, the PTO plasma combustion oxidation system according to the present invention is largely purified by primary combustion/oxidation/destruction/decomposition treatment of the target material introduced into the first combustion furnace using microwaves. A microwave plasma burner system that provides gas or material, and secondary combustion/oxidation/destruction/decomposition processing of the target material that has been primarily processed in the microwave plasma burner system using gliding arc plasma in a second combustion furnace to an exit. It may be composed of a gliding arc plasma burner system that provides purified gas or material through. Here, Microwave is hereinafter abbreviated as "M/W", and the gas or material purified by combustion/oxidation/destruction/decomposition treatment of the target material is hereinafter abbreviated as "processed material". It can be marked.

또한, 본 발명에 따른 PTO 플라즈마 연소산화 시스템은 고온 플라즈마를 이용하는 공정으로서 1차 M/W 플라즈마 버너 시스템에서의 플라즈마 처리 공정과 2차 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템에서의 플라즈마 처리 공정은 연속공정으로 순차적으로 이루어지며, 이를 위해 제1 연소로와 제2 연소로는 상호 연통되어 연속 및 순차적인 플라즈마 공정이 이루어질 수 있다.In addition, the PTO plasma combustion oxidation system according to the present invention is a process using high temperature plasma, and the plasma treatment process in the first M/W plasma burner system and the plasma treatment process in the second gliding arc plasma burner system are sequential processes in a continuous process. To this end, the first combustion furnace and the second combustion furnace are connected to each other so that a continuous and sequential plasma process can be performed.

이를 자세히 살펴보면, 대상물질 유입구(IN)를 통해서 유입되는 대상물질은 연속적으로 M/W 플라즈마 버너 시스템과 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템에서 1차 및 2차 연소산화반응을 통해 연소/산화/파괴/분해처리하여 제거되며, 처리된 물질은 후단의 가스 출구를 통해 대기중으로 배출된다. Looking at this in detail, the target material flowing in through the target material inlet (IN) is continuously burned/oxidized/destructed/decomposed through primary and secondary combustion oxidation reactions in the M/W plasma burner system and the gliding arc plasma burner system. is removed, and the treated material is discharged into the atmosphere through the gas outlet at the rear end.

도 3 내지 도 5를 참조하여, 먼저 M/W 플라즈마 버너 시스템을 설명하고, 이어 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템에 대해 설명한다.With reference to FIGS. 3 to 5, the M/W plasma burner system will first be described, and then the gliding arc plasma burner system will be described.

먼저, M/W 플라즈마 버너 시스템은, M/W 제너레이터(101)로부터 발생된 M/W를 전달하는 도파관(123)과, 상기 도파관(123)의 말단부에 위치하고 상기 도파관(123)과 관통되어 연결되는 제1 연소로(100)와, 상기 제1 연소로(100) 내로 대상물질이 유입되는 유입통로로서 대상물질 주입부(IN)와, 상기 제1 연소로(100) 내에서 제공된 M/W 플라즈마에 점화하여 플라즈마 토치를 발생시키는 점화부(122)와, 플라즈마 토치 발생 영역으로, 상기 제1 연소로(100)의 플라즈마 토치 발생 영역으로 탄화수소계 연료를 주입하는 연료 주입부(미도시)를 구비한다.First, the M/W plasma burner system is connected to a waveguide 123 that transmits M/W generated from the M/W generator 101, and is located at the end of the waveguide 123 and penetrates the waveguide 123. a first combustion furnace 100, a target material injection unit (IN) as an inlet passage through which the target material flows into the first combustion furnace 100, and M/W provided within the first combustion furnace 100. An ignition unit 122 that ignites plasma to generate a plasma torch, and a fuel injection unit (not shown) that injects hydrocarbon-based fuel into the plasma torch generation area of the first combustion furnace 100. Equipped with

이때, 상기 제1 연소로(100)는 방전관으로서 도파관(123)과 연결되며, 상기 도파관(123)을 통해 전달된 M/W에 의해 상기 방전관내의 플라즈마 토치 발생 영역(방전공간)에서 플라즈마 화염이 발생된다. 이때, 상기 방전관 내에 플라즈마가 생성되고, 유입된 대상물질은 상기 방전공간에 공급되어 연소/산화/파괴/분해처리 될 수 있다. At this time, the first combustion furnace 100 is connected to the waveguide 123 as a discharge pipe, and a plasma flame is generated in the plasma torch generation area (discharge space) within the discharge pipe by the M/W transmitted through the waveguide 123. occurs. At this time, plasma is generated within the discharge tube, and the introduced target material can be supplied to the discharge space and burned/oxidized/destructed/decomposed.

또한, 상기 제1 연소로(100)는 석영 또는 유리 등의 재질로 이루어진 관형의 반응기가 사용될 수 있으며, 여기서는 석영 재질의 관형 반응기로 석영 홀더(110)를 통해 지지된다. Additionally, the first combustion furnace 100 may use a tubular reactor made of a material such as quartz or glass. Here, the tubular reactor made of quartz is supported through a quartz holder 110.

또한, 플라즈마 연료를 이용하여 화염을 증폭시켜 연소 온도를 높게 증가할 수 있어 일반 가스버너보다 높은 온도에서 화염을 형성할 수 있다. 이를 위해, 연료 주입부와 결합되어, 탄화수소로 이루어진 연료가스(탄화수소계 연료)가 주입되도록 구성된다. 여기서, 탄화수소계 연료로는 LPG, LNG, 등유 등이 사용될 수 있고, 저에너지로 플라즈마를 발생시켜 일정량의 탄화수소계 연료를 주입하면 빠르게 완전 연소 반응 진행이 가능하다. 이때, M/W 플라즈마 연소산화 시스템에서의 운전 온도는 900 ~ 1,600℃로 매우 높은 연소 온도를 제공한다. 이와 같이 탄화수소로 이루어진 연료 가스의 연소에 의한 화염을 이용하여 대용량의 대상물질을 단시간 내에 효율적으로 처리할 수 있다. In addition, the flame can be amplified using plasma fuel to increase the combustion temperature to a high level, making it possible to form a flame at a higher temperature than a regular gas burner. For this purpose, it is connected to the fuel injection unit and configured to inject fuel gas consisting of hydrocarbons (hydrocarbon-based fuel). Here, LPG, LNG, kerosene, etc. can be used as hydrocarbon fuels, and by generating plasma with low energy and injecting a certain amount of hydrocarbon fuel, a complete combustion reaction can proceed quickly. At this time, the operating temperature in the M/W plasma combustion oxidation system is 900 to 1,600°C, providing a very high combustion temperature. In this way, a large volume of target materials can be efficiently processed within a short period of time using flames generated by combustion of fuel gas made of hydrocarbons.

또한, 제1 연소로(100)의 방전공간에는 방전가스, 예컨대 공기, 산소, 스팀 등이 대상물질 주입부 또는 연료 주입부를 통해 주입될 수 있고, 방전가스로 산화제가 포함된 가스를 사용하여 2000℃ 이상의 불꽃 부피를 제공할 수 있어, 아크 플라즈마의 50배에 달해 더 높은 온도를 제공할 수 있다.In addition, discharge gas, such as air, oxygen, steam, etc., may be injected into the discharge space of the first combustion furnace 100 through the target material injection portion or fuel injection portion, and a gas containing an oxidizing agent may be used as the discharge gas to produce 2000 It can provide a flame volume of ℃ or higher, reaching a temperature 50 times higher than that of arc plasma.

또한, 상기 제 1연소로(100)의 방전공간에서 미리 설정된 주파수의 M/W를 공급받아 상기 방전공간내에서 플라즈마를 생성하는데, 이를 위해 상기 도파관(123)과 마이크로웨이브 플라즈마 발생부가 연결된다.In addition, M/W of a preset frequency is supplied from the discharge space of the first combustion furnace 100 to generate plasma within the discharge space. For this purpose, the waveguide 123 and the microwave plasma generator are connected.

여기서, 마이크로웨이브 플라즈마 발생부는, 외부로부터 공급되는 구동전력을 인가받아 M/W 파워(power)를 생성하는 M/W 제너레이터(101)과, 상기 M/W 제너레이터(101)를 통해 발생된 파워 중 반사되어 오는 부분에 의한 마그네트론의 손상을 방지하기 위해 파워의 흐름을 한 방향으로 고정하는 아이솔레이터(isolator)(109)와, 상기 M/W 제너레이터의 일측에 연통설치되고 타측의 제1 연소로(100)와 연결되어 생성된 M/W가 이동하는 통로로서 도파관(123)을 구비한다. 이때, 상기 도파관(123)의 끝단에 제1 연소로(100)가 연결된다. Here, the microwave plasma generator includes a M/W generator 101 that receives driving power supplied from the outside and generates M/W power, and a portion of the power generated through the M/W generator 101. An isolator (109) that fixes the flow of power in one direction to prevent damage to the magnetron due to reflected parts, and a first combustion furnace (100) installed in communication on one side of the M/W generator and on the other side. ) and is provided with a waveguide 123 as a passage through which the generated M/W moves. At this time, the first combustion furnace 100 is connected to the end of the waveguide 123.

또한, 상기 아이솔레이터(109)와 커플러(107)로부터 출력된 M/W의 입사파와 반사파의 세기를 조절하여 임피던스 정합을 유도함으로써 상기 M/W로 유도된 전기장이 방전관 내에서 최대가 되도록 하는 3-스토브 튜너(107)을 더 포함한다. 이때, 양방향 커플러(108)는 상기 M/W 제너레이터(101)에서 생성된 M/W를 수신하여 상기 방전관으로 전달하면서 수신된 M/W를 분리하거나 결합하는 데 사용된다. 또한, 상기 방전관의 반응공간에서 흡수되지 않은 M/W의 반사전력은 감쇄시킨다. 또한, 상기 양방향 커플러(108)를 통과한 M/W 반사력은 방전관에서 다시 반응하게 되고, 상기 방전관에서 반응하지 못한 잔여 M/W가 상기 3 stub 터너를 통해 흡수되게 한다.In addition, the intensity of the incident and reflected waves of the M/W output from the isolator 109 and the coupler 107 are adjusted to induce impedance matching, so that the electric field induced by the M/W is maximized within the discharge tube. It further includes a stove tuner (107). At this time, the two-way coupler 108 is used to receive the M/W generated by the M/W generator 101 and transfer it to the discharge tube while separating or combining the received M/W. In addition, the reflected power of M/W that is not absorbed in the reaction space of the discharge tube is attenuated. In addition, the M/W reflection force passing through the two-way coupler 108 reacts again in the discharge tube, and the remaining M/W that has not reacted in the discharge tube is absorbed through the 3-stub turner.

또한, 마이크로웨이브 플라즈마 발생부를 제어하여 상기 도파관을 통해 제1연소로(100)에 제공되는 M/W 파워를 제어하는 M/W 플라즈마 버너 제어부가 더 구비된다. 이때, M/W 플라즈마 버너 제어부는, 상기 제1 연소로(100)로 제공되는 탄화수소계 연료의 주입양 또는 대상물질의 유입양으로서 질량 또는 부피 등의 유량를 측정하는 유량계(flowmeter) 박스(103)와, 상태표시 LED와 단위 표시 LED가 내장되어 현재의 동작 상태와 데이터 설정, 수정 등의 상태를 표시하는 인디케이터(indicator)(112)와 상기 인디케이터를 통해 표시된 상태값을 통해 설정 M/W 파워 또는 연료의 주입양 또는 대상물질의 유입양을 제어하는 MCU(114)와, M/W 제너레이터에 구동전력을 인가하는 전원공급장치(113) 등을 구비한다. 이때, 상기 전원공급장치(113)는 고전압의 교류 전원이 인가될 수 있다.In addition, a M/W plasma burner control unit that controls the microwave plasma generator to control the M/W power provided to the first combustion furnace 100 through the waveguide is further provided. At this time, the M/W plasma burner control unit is a flowmeter box 103 that measures the flow rate, such as mass or volume, as the injection amount of the hydrocarbon-based fuel provided to the first combustion furnace 100 or the inflow amount of the target material. Wow, there is an indicator (112) with built-in status display LED and unit display LED to display the current operating status and status of data setting, modification, etc., and the status value displayed through the indicator is used to set M/W power or It is equipped with an MCU (114) that controls the injection amount of fuel or the inflow amount of target materials, and a power supply device (113) that applies driving power to the M/W generator. At this time, high voltage alternating current power may be applied to the power supply device 113.

또한, 상기 마이크로웨이브 플라즈마 발생부에는 냉각장치로서 냉각팬(111)이 구비되고, 전체 PTO 플라즈마 연소산화 시스템의 냉각장치로서 챔버의 하부에 오일 압축기(104)와 칠러(105)가 구비되어 반응 챔버의 온도를 조절할 수 있다. In addition, the microwave plasma generator is equipped with a cooling fan 111 as a cooling device, and an oil compressor 104 and a chiller 105 are provided at the bottom of the chamber as cooling devices for the entire PTO plasma combustion oxidation system to form a reaction chamber. The temperature can be adjusted.

도 3 내지 도 5를 참조하면, 1차 M/W 플라즈마 버너 시스템은 대상물질을 고온의 플라즈마로 연소시켜 처리함에 주된 기능이 있으며, 2차 글라이딩 아크 플라즈마 버너 시스템은 역시 고온 플라즈마이나 대상물질의 산화 처리로 특히 휘발성 유기화합물(VOCs)의 제거에 효과가 있음을 확인할 수 있다.Referring to Figures 3 to 5, the primary function of the primary M/W plasma burner system is to process the target material by burning it with high-temperature plasma, and the secondary gliding arc plasma burner system also oxidizes the target material through high-temperature plasma. It can be confirmed that the treatment is particularly effective in removing volatile organic compounds (VOCs).

즉, 2차 글라이딩 아크 플라즈마 버너 시스템은, 고품질(높은 온도)의 화염을 생성하게 되고, 고온산화반응을 통해 VOC 제거가 수월하게 된다. 여기서, “휘발성 유기화합물(VOCs, Volatile Organic Compounds)”이란, 대기 오염 물질 중에서 증기압이 높아 대기 중으로 쉽게 증발되는 액체 또는 기체상 유기화합물을 총칭하는 의미이다.In other words, the secondary gliding arc plasma burner system generates a high-quality (high temperature) flame and makes it easy to remove VOC through a high-temperature oxidation reaction. Here, “Volatile Organic Compounds (VOCs)” refers to a general term for liquid or gaseous organic compounds that easily evaporate into the atmosphere due to high vapor pressure among air pollutants.

글라이딩아크(Gliding Arc) 플라즈마 버너 시스템은, 1차 M/W 플라즈마 버너 시스템의 제1 연소로(100)와 연통되어 1차 연소 처리된 대상물질이 유입되는 제2 연소로와, 고전압의 전력을 공급하여 상기 제2 연소로에서 방전을 통해 아크를 형성하고 생성된 플라즈마는 반응물에 의해 대류되어 상기 제2 연소로 후단으로 밀려나고 전극으로부터 상기 제2 연소로로 유입된 1차 연소 처리된 대상물질을 상기 생성된 플라즈마 화염을 통해 산화반응으로 2차 플라즈마 처리하는 글라이딩아크 버너부를 구비한다.The Gliding Arc plasma burner system is connected to the first combustion furnace 100 of the primary M/W plasma burner system and has a second combustion furnace into which the target material subjected to primary combustion treatment flows, and high-voltage power. An arc is formed through discharge in the second combustion furnace, and the generated plasma is convected by reactants and pushed to the rear end of the second combustion furnace. The target material subjected to primary combustion treatment flows into the second combustion furnace from the electrode. It is provided with a gliding arc burner unit that performs secondary plasma treatment through an oxidation reaction through the generated plasma flame.

상기 제2 연소로는, 글라이딩 아크 방전이 일어나는 아크 반응기로서, 운전 온도는 900 ~ 1,600℃의 고온이며, 석영 또는 유리 등의 재질로 이루어진 관형의 반응기가 사용될 수 있다. 또한, 상기 제2 연소로는 외부 하우징이 단열재로 구비되어 외부로의 열방출을 방지하고, 상기 아크 반응기의 하부에는 아크 또는 플라즈마 화염에 따른 화재예방을 위해 내화물 또는 방화장치(118)가 구비되고, 연소 또는 산화반응에 따른 먼지 등을 집진하는 집진기(117)가 더 구비될 수 있다. The second combustion furnace is an arc reactor in which gliding arc discharge occurs. The operating temperature is high at 900 to 1,600°C, and a tubular reactor made of a material such as quartz or glass may be used. In addition, the second combustion furnace has an external housing made of an insulating material to prevent heat release to the outside, and a refractory material or fire prevention device 118 is provided at the lower part of the arc reactor to prevent fire due to arc or plasma flame. , a dust collector 117 that collects dust resulting from combustion or oxidation reaction may be further provided.

이때, 전원부는 고전압의 교류 전원이 인가될 수 있으며, 글라이딩아크 유량계(102)를 통해 제2 연소로로 제공되는 탄화수소계 연료의 주입양 또는 대상물질의 유입양으로서 질량 또는 부피 등의 유량를 측정할 수 있다.At this time, the power supply unit may be supplied with high-voltage AC power, and may measure the flow rate such as mass or volume as the injection amount of hydrocarbon-based fuel provided to the second combustion furnace or the inflow amount of the target material through the gliding arc flow meter 102. You can.

또한, 글라이딩아크 버너부를 제어하여 제2 연소로에 제공되는 M/W 파워를 제어하는 글라이팅아크 버너 제어부가 더 구비될 수 있다. 이때, 전원공급장치는 고전압의 교류 전원이 인가될 수 있고, M/W 플라즈마 버너 시스템의 전원부(113)과 별도 설치되거나 통합되어 1개로 설치될 수 있다. 또한, 글라이딩아크 제어부, 전원공급장치, 인디케이터 등에서도 M/W 플라즈마 시스템과 통합하여 1개로 설치될 수 있다.In addition, a gliding arc burner control unit may be further provided to control the M/W power provided to the second combustion furnace by controlling the gliding arc burner unit. At this time, the power supply device may be supplied with high-voltage AC power, and may be installed separately or integrated with the power supply unit 113 of the M/W plasma burner system. In addition, the gliding arc control unit, power supply, indicator, etc. can be integrated with the M/W plasma system and installed as a single unit.

도 5a를 참조하면, 글라이딩아크(G.A) 버너부는, 내부 할로우를 통해 연료가 주입되는 글라이딩아크 전극바(121)와, 상기 글라이딩 아크 전극바(121)를 지지하는 제1 전극바 홀더(120)와, 상기 제1 전극바 홀더(120)와 연결되고 외부 전극이 구비되어 내부에 방전가스가 주입되는 제2 전극바 홀더(124)와, 상기 제2 전극바 홀더(124)를 지지하는 글라이딩아크 바디와, 상기 글라이딩아크 전극바의 말단부에 연결되고 상기 제2 연소로의 내부에 위치하여 플라즈마 화염(126)을 발생시키는 내부 전극(125)와, 상기 내부 전극(125)을 커버하고 아크(127)가 발생하는 제3 전극바 홀더를 구비한다. 이때, 글라이딩아크 버너부는 소형장치로서 복수개 구성될 경우 열처리 효과에서 상승의 효과를 가져올 수 있어, 본 발명에서는 3모듈 전극바가 좌우 대칭으로 각 2개씩 총 12개의 글라이딩아크 버너부를 구성할 수 있다. 또한, 제1 내지 제3 전극바 홀더는 화염 등으로 내열성이 좋은 세라믹 소재가 바람직하다.Referring to FIG. 5A, the gliding arc (G.A.) burner unit includes a gliding arc electrode bar 121 into which fuel is injected through an internal hollow, and a first electrode bar holder 120 that supports the gliding arc electrode bar 121. and a second electrode bar holder 124 connected to the first electrode bar holder 120 and equipped with an external electrode and into which discharge gas is injected, and a gliding arc supporting the second electrode bar holder 124. A body, an internal electrode 125 connected to the distal end of the gliding arc electrode bar and located inside the second combustion furnace to generate a plasma flame 126, and an arc 127 that covers the internal electrode 125 and ) is provided with a third electrode bar holder that generates. At this time, the gliding arc burner unit is a small device, and when it is configured in plural, the heat treatment effect can be increased. In the present invention, a total of 12 gliding arc burner units can be formed with 3 module electrode bars, 2 each symmetrically on the left and right. In addition, the first to third electrode bar holders are preferably made of ceramic material that has good heat resistance due to flame, etc.

또한, 상기 글라이딩아크 버너부에서는 회전 글라이딩 아크 방전을 통해 소용돌(Swirl) 방전을 형성하게 된다. 즉, 상기 글라이딩아크 버너부의 외부 전극 및 다른 하나의 내부 전극에 교류의 고전압을 인가하게 되면 전력값이 증가하면서 열에너지로 변환되어 온도가 증가하고, 고온 상태가 형성되면서 낮아진 밀도로 인해 전자의 가속이 발생하고 방전이 일어난다. Additionally, the gliding arc burner unit forms a swirl discharge through a rotating gliding arc discharge. That is, when a high voltage of alternating current is applied to the external electrode of the gliding arc burner unit and the other internal electrode, the power value increases and is converted to heat energy, thereby increasing the temperature. As a high temperature state is formed, the acceleration of electrons occurs due to the lowered density. occurs and discharge occurs.

이때, 상대적으로 다수인 강한 전자에 의해 형성된 플라즈마가 충분히 이온화되어 있을 경우 방전이 쉽게 개재된다.At this time, if the plasma formed by a relatively large number of strong electrons is sufficiently ionized, discharge easily occurs.

또한, 플라즈마가 이탈되고 다시 방전이 이루어질 때, 전극 최단거리가 아닌 플라즈마 이탈 지점에서 직접 방전이 일어나는 연속 방전이 개재된다. 이과정에서 전력 공급값에 따라서 발생하는 연속 방전이 한쪽 끝은 내부 전극 끝단, 또 다른 끝은 외부 전극 내벽에 형성되다가 전력값이 증가하면서 플라즈마 영역이 팽창을 하게 된다.Additionally, when the plasma escapes and discharge occurs again, a continuous discharge occurs where the discharge occurs directly at the plasma departure point rather than at the shortest distance from the electrode. In this process, a continuous discharge that occurs depending on the power supply value is formed at one end at the end of the internal electrode and at the other end at the inner wall of the external electrode, and as the power value increases, the plasma area expands.

이 조건에서 길이 방향으로 증가한 아크선에서는 높은 전자의 가속이 발생하고, 상기 생성된 아크 플라즈마는 고온의 온도와 산소 활성종 발생 환경을 조성한다. 상기 생성된 아크 플라즈마는 고온의 온도와 산소 활성종 발생 환경을 조성하고, 투입되는 연료(LPG)와의 플라즈마 화학반응을 통하여 연소효율을 높일 수 있어 잠재열량의 최대효과를 이끌어 낼 수 있다.Under this condition, high acceleration of electrons occurs in the arc line that increases in the longitudinal direction, and the generated arc plasma creates an environment for high temperature and oxygen active species generation. The generated arc plasma creates an environment of high temperature and oxygen active species generation, and can increase combustion efficiency through plasma chemical reaction with the injected fuel (LPG), thereby maximizing the effect of latent heat.

도 5b를 참조하면, 글라이딩 아크 버너 시스템에서는 고온 산화반응을 통해 VOCs를 CO2와 H2O로 분해하고 반응열은 재활용할 수 있어, 휘발성 유기화합물(VOCs)의 제거에 효과가 있음을 확인할 수 있다.Referring to Figure 5b, the gliding arc burner system decomposes VOCs into CO 2 and H 2 O through a high-temperature oxidation reaction and the reaction heat can be recycled, confirming that it is effective in removing volatile organic compounds (VOCs). .

이어, 고온 연소반응에 의해 산화연소반응 처리후 가스 이송 유닛을 통해 가스 출구(OUT)로 배출하는데, 배출과정에서 광촉매 비드(116)과 하니콤(honeycom)형 하이브리드 복합촉매시스템(115)을 통과시켜 잔존하는 미반응 악취가스, 난분해성 물질, VOCs, HAPs 물질이 추가적으로 제거될 수 있다.Then, after oxidation combustion reaction treatment by high-temperature combustion reaction, it is discharged to the gas outlet (OUT) through the gas transfer unit. During the discharge process, it passes through the photocatalyst beads 116 and the honeycomb-type hybrid composite catalyst system 115. Remaining unreacted odorous gases, non-decomposable substances, VOCs, and HAPs can be additionally removed.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 PTO 시스템에서 플라즈마 연소/산화반응 원리는 다음과 같이 요약할 수 있다.As such, the principle of plasma combustion/oxidation reaction in the PTO system according to the first embodiment of the present invention can be summarized as follows.

즉, 플라즈마 연소산화 반응원리는 양극 및 음극의 두 방전극 사이에 10kV/cm 이상의 고전계를 극히 짧은 순간(수십~수백ns 이내)에 인가하면, 펄스 코로나(pulse corona) 방전에 의해 브러시 같은 형태의 전류채널이 형성되는데, 이를 유광(streamer)이라 한다. 유광은 두 전극 사이를 고에너지 전자가 106 ~ 107 cm/sec의 속도로 전파하며, 그 전계내의 분자와 충돌한다. 이와 같이, 고에너지 전자와 충돌하는 분자는 이온화하여 활성자유전자(active free electron)로 고온연소산화 분해된다.In other words, the plasma combustion oxidation reaction principle is that when a high field of 10 kV/cm or more is applied between two discharge electrodes, the anode and the cathode, for an extremely short moment (within tens to hundreds of ns), a brush-like shape is generated by pulse corona discharge. A current channel is formed, which is called a streamer. High-energy electrons propagate between two electrodes at a speed of 10 6 to 10 7 cm/sec and collide with molecules in the electric field. In this way, molecules that collide with high-energy electrons are ionized and decomposed by high-temperature combustion oxidation into active free electrons.

또한, 플라즈마 버너가 고속선회 화염을 형성하여, 연소로 내의 온도를 신속하게 고온으로 만들 수 있고, 연소 가스 중의 오염물질을 파괴, 분해하는 플라즈마 이온이 주입되는 산화연소장치이며, 공기비를 일정하게 분배하여 완전 연소를 일으키는 공기공급 분배장치가 더 포함될 수 있다.In addition, the plasma burner forms a high-speed rotating flame, which can quickly increase the temperature in the combustion furnace. It is an oxidation combustion device in which plasma ions that destroy and decompose contaminants in the combustion gas are injected, and the air ratio is evenly distributed. Thus, an air supply distribution device that causes complete combustion may be further included.

여기서, M/W 플라즈마 버너와 글라이딩 아크(Gliding Arc) 버너의 연소로(방전관)에서 PTO 고온플라즈마로 연소/산화/파괴/분해 처리한다. 즉, 연소반응과 산화 반응을 순차적으로 진행하면서 고온 연소반응에 의해 악취가스, 난분해성 물질, VOCs, HAPs가 제거될 수 있다.Here, combustion/oxidation/destruction/decomposition is performed with PTO high-temperature plasma in the combustion furnace (discharge tube) of the M/W plasma burner and the gliding arc burner. In other words, odorous gases, non-decomposable substances, VOCs, and HAPs can be removed through the high-temperature combustion reaction while the combustion reaction and oxidation reaction proceed sequentially.

가령, PTO(Plasma Thermal Oxidation) 악취저감 기술은, 저에너지로 고온 플라즈마를 발생시켜 일정량의 탄화수소체 연료를 주입하면 빠르게 완전연소반응을 진행할 수 있다.For example, PTO (Plasma Thermal Oxidation) odor reduction technology generates high-temperature plasma with low energy and can quickly proceed with a complete combustion reaction by injecting a certain amount of hydrocarbon fuel.

또한, 플라즈마 화염을 증폭시키고 연소로 온도를 일반 가스버너보다 높은 온도로 증가시킬 수 있다.Additionally, the plasma flame can be amplified and the combustion furnace temperature can be increased to a higher temperature than that of a regular gas burner.

또한, 마그네트론 에너지 효율 80% 이상, M/W 플라즈마 99%이상 전달 효율, 글라이딩아크(Gliding Arc) 전달율 증가시킬 수 있다.In addition, magnetron energy efficiency can be increased by more than 80%, M/W plasma transmission efficiency can be increased by more than 99%, and gliding arc transmission rate can be increased.

또한, 설치/운전비용이 저렴하고, 전기비용, 유지보수비, 운영비를 대폭적으로 절감시킬수 있는 효과가 있고, LPG, LNG, 등유를 선택적으로 사용가능하다.In addition, installation/operation costs are low, it has the effect of significantly reducing electricity costs, maintenance costs, and operating costs, and LPG, LNG, and kerosene can be selectively used.

이는 기존의 RTO 대비 고온의 환경을 유지할 수 있고, 사용되는 LPG량이 적어 플라즈마 연소효과와 연료비를 절감하고, 소형으로도 제작가능하여 초기 투자비를 절감할 수 있다.This can maintain a high-temperature environment compared to existing RTOs, reduces plasma combustion effects and fuel costs due to the small amount of LPG used, and can be manufactured in a small size, reducing initial investment costs.

도 6은 본 발명에 따른 세라믹 PM 집진 시스템의 구성을 나타낸 도면, 도 7은 도 6의 세라믹 PM 집진 시스템에서 세라믹 필터의 구성을 나타낸 도면이다.FIG. 6 is a diagram showing the configuration of a ceramic PM dust collection system according to the present invention, and FIG. 7 is a diagram showing the configuration of a ceramic filter in the ceramic PM dust collection system of FIG. 6.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 PTO 플라즈마 연소산화 시스템을 통해 고온 연소반응에 의해 산화연소반응 처리후 광촉매 비드(116)과 하니콤(honeycom)형 하이브리드 복합촉매시스템(115)을 통과시켜 잔존 대상물질을 후처리하고 나서, 가스 이송 유닛을 통해 집진 시스템으로 대상물질이 이송된다.Referring to Figure 3, after processing the oxidation combustion reaction through a high temperature combustion reaction through the PTO plasma combustion oxidation system according to the present invention, the remaining residue passes through the photocatalyst beads 116 and the honeycomb type hybrid composite catalyst system 115. After post-processing the target material, the target material is transferred to the dust collection system through a gas transfer unit.

도 6을 참조하면 집진 시스템은, 이송관을 통해 1차 및 2차 처리된 대상물질은 세라믹 필터(200)을 통과하면서 필터링된다. 이때, 세라믹 필터(200)는 3X4의 12개 필터로 배치되어 다단 또는 다층 구조로서 다단 여과가 가능하고 컴팩트하며 높은 비표면적을 자랑한다.Referring to FIG. 6, in the dust collection system, the target materials that are primary and secondary treated through the transfer pipe are filtered while passing through the ceramic filter 200. At this time, the ceramic filter 200 is arranged as 12 filters of 3X4, has a multi-stage or multi-layer structure, enables multi-stage filtration, is compact, and boasts a high specific surface area.

도 7을 참조하면, 세라믹 필터(200)의 내부 구조를 살펴보면 외부 표면에 SiC 코팅층이 형성되고, 필터 내부에는 MnOX, V2O5, TiO2 촉매 코팅층이 형성되어 있다. 이에 따라, 외부 SiC 코팅층은 표면 여과층으로 미세분진과 NOX 성분을 집진 및 여과할 수 있고 미세먼지 표집효율이 99.99%으로 거의 완벽에 가까운 효율을 확인할 수 있다. 또한, 내부 복합 촉매 코팅층은 촉매지지층으로 Urea를 환원제로 사용하여 SCR 촉매반응 통해 높은 집진효율과 제거효율을 제공한다. Referring to FIG . 7, looking at the internal structure of the ceramic filter 200, a SiC coating layer is formed on the outer surface, and a MnO Accordingly, the external SiC coating layer is a surface filtration layer that can collect and filter fine dust and NO In addition, the internal composite catalyst coating layer uses Urea as a reducing agent as a catalyst support layer to provide high dust collection and removal efficiency through SCR catalytic reaction.

또한, 세라믹 재질로서 800℃ 이상의 고온에서 사용 가능하고, 고효율 집진이 가능한 집진장치이다. In addition, as it is made of ceramic material, it can be used at high temperatures above 800℃ and is a dust collection device capable of highly efficient dust collection.

또한, 내화학특성이 우수하며, 불연재로 구성되어 있고, 필터의 교환과 점검이 용이하며 필터 수명이 긴 장점이 있다. 즉, 세라믹 필터(200)가 12개 배열로 각각 필터 홀더(204)를 통해 체결되어 필터의 교환과 점검이 용이하다. 또한, 세라믹 필터(200)를 내장한 분리막 사용하여 역수세 가능한 구조로 여과기 내 도입하여 여과 처리용량 및 처리효율을 극대화시킬 수 있다.In addition, it has excellent chemical resistance, is made of non-flammable materials, is easy to replace and inspect the filter, and has a long filter life. That is, the ceramic filters 200 are arranged in an array of 12 and each is fastened through the filter holder 204, making replacement and inspection of the filters easy. In addition, by using a separator with a built-in ceramic filter 200 and introducing it into the filter with a structure that can be backwashed, filtration capacity and processing efficiency can be maximized.

이러한 세라믹 필터(200)는 미세한 먼지 입자(Dust)와 SOx, NOx 분진까지 거를 수 있어, PM25크기의 입자까지 제거할 수 있다. This ceramic filter 200 can filter fine dust particles (Dust), SOx, and NOx dust, and can even remove particles as large as PM25.

또한, 탈진 방식이 오프라인으로 되어 있어 탈진효율을 극대화할 수 있으며, 하부에 먼지집진기(202)가 연결되고, 볼 밸브(206)를 통해 상기 먼지집진기의 분리 및 체결이 용이아형 수시 점검 및 집진된 미세먼지의 수거 및 청소가 용이하다.In addition, the dust extraction method is offline, so dust extraction efficiency can be maximized, and the dust collector 202 is connected to the bottom, and the dust collector can be easily separated and fastened through the ball valve 206. It is easy to collect and clean fine dust.

또한, 에어 스프레이바(Air Spray bar)(203)를 통해 세라믹 필터(200)를 주기적으로 청소할 수 있어 집진 효율을 향상시킬 수 있다. 이때, 바로미터(barometer sensor)(205)를 통해 자동타이머 탈진 기능이 가능하다.Additionally, the ceramic filter 200 can be cleaned periodically through the air spray bar 203, thereby improving dust collection efficiency. At this time, an automatic timer exhaustion function is possible through the barometer sensor 205.

이때 공기 분배기(201)는 상기 바로미터(205)를 통해 세라믹 필터(200)의 점검 주기를 체크하고 에어 스프레이바(203)를 연동되어 에어 펄스로 수치 체크가 가능하다.At this time, the air distributor 201 checks the inspection cycle of the ceramic filter 200 through the barometer 205 and is linked to the air spray bar 203 to check the numerical value with an air pulse.

본 발명에 따른 PTO 플라즈마 연소산화시스템에서는 전술한 1차 M/W 플라즈마 버너 시스템과 2차 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템을 통한 연속 연소 및 산화공정으로 대상물질인 CO, NOx, SOx 및 VOCs 배출농도를 현저히 낮출 수 있다. 이에 따라 대상물질의 배출농도가 현저히 낮아 배기가스 후처리장치의 의존도가 낮은 건식처리 장치이나, 추가적으로 후처리 필터 시스템으로서 세라믹 PM 집진 시스템을 추가하여 SOx, NOx 저감이 가능하다. 이러한 세라믹 집진 시스템은 미세한 입자와 SOx, NOx 분진까지 거를 수 있는 세라믹 필터를 도입하여 PM25크기의 입자까지 제거할 수 있다.In the PTO plasma combustion oxidation system according to the present invention, the emission concentration of target substances CO, NOx, SOx and VOCs is significantly reduced through continuous combustion and oxidation processes through the above-described primary M/W plasma burner system and secondary gliding arc plasma burner system. It can be lowered. Accordingly, the emission concentration of target substances is significantly low, so it is a dry treatment device with low dependence on the exhaust gas post-treatment device, but it is possible to reduce SOx and NOx by adding a ceramic PM dust collection system as an additional post-treatment filter system. This ceramic dust collection system can remove particles up to PM25 size by introducing a ceramic filter that can filter out fine particles, SOx, and NOx dust.

도 8은 본 발명에 따른 저온플라즈마 시스템의 구성을 나타낸 도면이다.Figure 8 is a diagram showing the configuration of a low-temperature plasma system according to the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 저온플라즈마 시스템은 유연한 전극의 제1 DBD 플라즈마 장치로 플라즈마를 발생시키고 이때 생성되는 고농도의 오존을 및 OH 라디칼을 이용하여 대상물질을 처리하는 메쉬형 플라즈마 스크러버와; 상기 메쉬형 플라즈마 스크러버를 통해 1차 처리된 대상물질은 다단의 흡착제층으로 구성된 흡착탑을 통해 필터링되고 제2 DBD 플라즈마 장치를 통해 생성된 플라즈마를 상기 흡착탑의 최상부에 형성된 광촉매층의 표면에 조사하여 활성 O-H 라디칼을 생성하고 생성된 활성 O-H 라디칼은 통해 상기 대상물질을 2차 처리하는 DBD(Dielectric Barrier Discharge) 플라즈마/활성광촉매 시스템으로 구성된다.Referring to FIG. 8, the low-temperature plasma system according to the present invention generates plasma with a first DBD plasma device of a flexible electrode, and uses a high concentration of ozone generated at this time and OH radicals to treat the target material. A mesh-type plasma scrubber and ; The target material first treated through the mesh-type plasma scrubber is filtered through an adsorption tower composed of a multi-stage adsorbent layer, and the plasma generated through the second DBD plasma device is irradiated to the surface of the photocatalyst layer formed at the top of the adsorption tower to activate it. It consists of a DBD (Dielectric Barrier Discharge) plasma/active photocatalyst system that generates O-H radicals and performs secondary treatment of the target material through the generated active O-H radicals.

특히, 메쉬형 플라즈마 장치는 질소산화물(NOx) 중 NO를 분해/산화시키고 NO2로 변환시켜 효과적으로 처리 및 제거가 가능한다. 즉, NOx-plasma 산화(oxidation) 후 처리, 악취가스와 유해독성물질, VOCs 파괴처리가 가능하다.In particular, the mesh-type plasma device can effectively treat and remove nitrogen oxides (NOx) by decomposing/oxidizing NO and converting it into NO 2 . In other words, treatment after NOx-plasma oxidation and destruction of odorous gases, harmful toxic substances, and VOCs are possible.

먼저, 메쉬(Mesh)형 플라즈마 스크러버는, 상기 대상물질이 유입되는 챔버와, 상기 챔버의 소정 공간에 형성되고 상기 유입된 대상물질이 이송하는 이동통로와, 상기 대상물질 이동통로의 상부에 형성되는 DBD(Dielectric Barrier Discharge) 플라즈마 유연 전극장치(313)과, 상기 대상물질 이동통로의 하부에 형성되는 나노 마이크로버블 플라즈마 장치(301)와, 상기 챔버의 일측에 연결된 약액 탱크로부터 제공되는 세정액을 상기 이동통로상의 대상물질에 분사하는 스프레이 노즐(300)과, 상기 대상물질 이동통로 상에 적재되는 충진물로서 폴링(307)과, 상기 나노 마이크로버블 플라즈마 장치(301)를 통해 생성된 나노 마이크로버블을 상기 이동통로상의 대상물질과 접촉량이 증가하도록 하부에서 상부로 확산시키는 나노버블 디퓨저(diffuser)(308)을 구비한다.First, a mesh-type plasma scrubber includes a chamber into which the target material flows, a movement path formed in a predetermined space of the chamber and through which the introduced target material is transported, and an upper portion of the target material movement passage. The DBD (Dielectric Barrier Discharge) plasma flexible electrode device 313, the nano-microbubble plasma device 301 formed at the bottom of the target material movement passage, and the cleaning solution provided from the chemical solution tank connected to one side of the chamber are moved. A spray nozzle 300 for spraying the target material on the passage, a poling 307 as a filler loaded on the target material movement passage, and the nano microbubble generated through the nano microbubble plasma device 301 are moved. It is provided with a nanobubble diffuser 308 that diffuses from the bottom to the top to increase the amount of contact with the target material in the passage.

이때, 스크러버는 세정에 의한 집진시설을 의미하며, 악취 및 유해가스, 분진, 액상오염물질 등을 동시에 처리할 수 있어 가장 많이 적용되고 있다. 또한, 스크러버는 가스흡수탑이라고도 하며, 건식, 습식, 혼합식으로 나눠지나, 여기서는 습식 스크러버를 말하며, 습식 스크러버는 유해가스를 액체에 접촉시켜 씻어내는 방식으로 오염물질을 정화하는 방식이며, 정화효율을 높이기 위해 통상적으로 수산화나트륨, 황산과 같은 흡수액 혹은 세정액 등 여러 가지 화학반응을 일으키는 고비용의 화학약품을 물과 함께 사용한다. 이는 세정액을 포함한 물이 분사되었을 시, 유해가스와의 접촉율을 높이고 오염물질이 용해된 물을 정화시키는 역할을 하여 처리효율을 높이기 위함이다.At this time, a scrubber refers to a dust collection facility through cleaning, and is most widely applied as it can simultaneously treat odors, harmful gases, dust, and liquid pollutants. In addition, scrubbers are also called gas absorption towers, and are divided into dry, wet, and mixed types, but here, they refer to wet scrubbers. Wet scrubbers are a method of purifying pollutants by contacting harmful gases with liquid and washing them away. Purification efficiency In order to increase this, expensive chemicals that cause various chemical reactions, such as absorbent liquids such as sodium hydroxide and sulfuric acid, or cleaning liquids, are usually used together with water. This is to increase treatment efficiency by increasing the contact rate with harmful gases when water containing cleaning fluid is sprayed and purifying the water in which contaminants are dissolved.

본 발명에서, 스프레이 노즐(300)을 통해 분사되는 세정액(cleaning solution)은 인체에 무해한 세정액으로 사고의 위험성을 낮출 수 있고, 상기 스프레이 노즐을 통해 챔버(chamber) 내에서 플라즈마 오존이 발생되며, 이는 OH-라디칼로 환원되어서 오존보다 18,000배 이상의 산화력을 갖는다. 또한, 각각의 약액탱크를 따로 사용하여 목적별로 다른 약액을 사용하여 폭넓은 범위에서 사용 가능하다.In the present invention, the cleaning solution sprayed through the spray nozzle 300 is a cleaning solution that is harmless to the human body and can reduce the risk of accidents, and plasma ozone is generated within the chamber through the spray nozzle, which is It is reduced to OH-radicals and has an oxidizing power over 18,000 times that of ozone. In addition, by using each chemical tank separately, different chemical solutions can be used for each purpose, making it possible to use it in a wide range.

또한, 상기 충진재 폴링(307)은 상기 스플레이 노즐(300)을 통해 대상물질로 약액 분사시에 전처리 물질로서 폴링과 반응하여 처리효과를 증가시켜준다. 또한, 스프레이 노즐(300)의 상부에 형성되어 챔버상의 수분을 제거하는 제1 데미스터(demister)를 더 구비한다. 여기서, 폴링(충진물)과 데미스터를 사용하여 집진 효율, 악취제거, SOx, NOx 저감효율을 향상시킬 수 있다.In addition, the filler poling 307 reacts with the poling as a pretreatment material when the chemical solution is sprayed onto the target material through the splay nozzle 300, thereby increasing the treatment effect. In addition, a first demister is formed on the spray nozzle 300 to remove moisture in the chamber. Here, dust collection efficiency, odor removal, SOx, and NOx reduction efficiency can be improved by using polling (filling material) and demister.

또한, 분진 특성에 맞는 다양한 필터를 채용 가능하다. 가령, 스프레이 노즐, 2차 폴링, 2차 Demister 등의 필터를 사용할 수 있다.Additionally, various filters suitable for dust characteristics can be adopted. For example, filters such as spray nozzle, secondary polling, secondary demister, etc. can be used.

또한, 챔버는 수평방향 또는 가로 방향을 따라 복수개 배치되고, 상기 수평방향에서 좌측에서 우측으로 일방향을 따라 대상물질을 이동통로를 따라 통과시킬 수 있다. 상기 대상물질의 이동통로는 일측은 챔버의 유입구와 연결되고 타측은 송풍기(Fan)가 설치될 수 있다. 송풍기(Fan)는 공기 유동을 일으키며 DBD 플라즈마 유연 전극 장치(300)에서 생성된 플라즈마(P), 활성 라디칼, 오존 등을 챔버로 이동시킬 수 있다. Additionally, a plurality of chambers are arranged in a horizontal or transverse direction, and the target material can pass along a movement path in one direction from left to right in the horizontal direction. One side of the movement passage of the target material may be connected to the inlet of the chamber, and a blower (Fan) may be installed on the other side. The blower (Fan) causes air flow and can move plasma (P), active radicals, ozone, etc. generated in the DBD plasma flexible electrode device 300 to the chamber.

또한, DBD 플라즈마 유연 전극 장치(313)는, 메쉬(mesh) 형태의 플라즈마 전극 방식으로 저온 플라즈마를 이용하여 공기를 플라즈마시키고 오존을 발생시켜 산화반응을 일으킨다. 여기서, DBD 플라즈마 유연 전극장치는 유연한 특성을 가지는 제1 전극 및 제2 전극을 포함하고, 플라즈마(P)를 생성하는데, 상기 제1 전극 및 제2 전극은 격자구조를 형성할 수 있다. 가령, 제1 전극은 y축 방향을 따라 뻗고 제2 전극은 제1 전극의 하부에서 x축 방향을 따라 뻗으며 서로 교차하며 위치한다. 이때, DBD 플라즈마 유연 전극장치(313)는 메쉬 형태의 플라즈마 전극 방식으로 교차하는 전극 사이 사이로 다량의 오존을 발생시켜 악취 가스 처리에 대한 효율을 높일 수 있다.In addition, the DBD plasma flexible electrode device 313 uses a mesh-shaped plasma electrode method to plasmaize air using low-temperature plasma and generate ozone to cause an oxidation reaction. Here, the DBD plasma flexible electrode device includes a first electrode and a second electrode having flexible characteristics and generates plasma (P), and the first electrode and the second electrode can form a lattice structure. For example, the first electrode extends along the y-axis direction and the second electrode extends along the x-axis direction from the bottom of the first electrode and intersects each other. At this time, the DBD plasma flexible electrode device 313 can increase the efficiency of odorous gas treatment by generating a large amount of ozone between the intersecting electrodes using a mesh-shaped plasma electrode method.

또한, DBD 플라즈마 유연 전극장치는 제1 전극과 제2 전극에 전원이 인가되면 플라즈마 방전이 이루어지고, 생성된 에너지를 이용하여 오존을 생성 할 수 있으며, 플라즈마의 오존 및 OH 라디칼을 이용한 산화반응을 제공한다. 이를 통해, 상기 DBD 플라즈마 유연 전극장치에서 생성된 오존은 챔버로 이동하여 대상물질에 포함되는 악취, 세균, 곰팡이 등의 미생물을 제거하여 정화작용을 수행할 수 있다. In addition, the DBD plasma flexible electrode device generates plasma discharge when power is applied to the first and second electrodes, can generate ozone using the generated energy, and can carry out an oxidation reaction using ozone and OH radicals in the plasma. to provide. Through this, the ozone generated from the DBD plasma flexible electrode device can move to the chamber and perform a purification action by removing microorganisms such as odors, bacteria, and mold contained in the target material.

또한, DBD 플라즈마 유연전극장치는 제1 전극과 제2 전극의 외측을 둘러싸며 위치하는 하우징을 포함하고, 상기 하우징은 내부에 제1 전극과 제2 전극을 수용하면서 보호할 수 있다. 이때, 상기 하우징에는 전원, 접지선 등이 연결될 수 있는 전원공급부가 설치될 수 있으며, 전원공급부는 메쉬형 플라즈마 장치의 제1 전극 및 제2 전극과 연결되어 전원을 인가할 수 있다. 또한, 전원공급부에서 전원을 인가하면 제1 전극과 제2 전극가 상호 맞닿는 접촉부에서 방전이 되어 플라즈마(P)가 형성될 수 있다. 이 경우, 플라즈마(P)는 대기압 상태에서 안정적으로 장시간 방전될 수 있다. In addition, the DBD plasma flexible electrode device includes a housing positioned to surround the outside of the first electrode and the second electrode, and the housing can accommodate and protect the first electrode and the second electrode therein. At this time, a power supply to which a power source, a ground wire, etc. can be connected may be installed in the housing, and the power supply may be connected to the first and second electrodes of the mesh-type plasma device to apply power. Additionally, when power is applied from the power supply unit, a discharge occurs at the contact portion where the first electrode and the second electrode come into contact with each other, thereby forming plasma (P). In this case, the plasma P can be stably discharged for a long time under atmospheric pressure.

또한, DBD 플라즈마 유연전극 장치(313)와 나노 마이크로버블 플라즈마 장치(301)를 제어하는 제어패널이 더 구비될 수 있고, 제어 패널은 중앙집중방식 내장형 채택과 전원 스위치를 집약하여 시인성이 향상되고, 이동중 파손이나 고장율이 낮은 장점이 있다. 또한, 디스플레이를 통해 내부상태 확인이 가능하다.In addition, a control panel that controls the DBD plasma flexible electrode device 313 and the nano microbubble plasma device 301 may be further provided, and the control panel has improved visibility by adopting a centralized built-in type and integrating a power switch, It has the advantage of having a low rate of damage or failure during movement. Additionally, the internal status can be checked through the display.

이와같이, 메쉬형 플라즈마 장치는 제1 전극 및 제2 전극에 전원이 인가되면 플라즈마(P)가 방전되어 전자는 해리(dissociation), 이온화(ionization), 여기(excitation) 반응을 통하여 질소(N2), 산소(O2), 수분(H20) 등을 활성화시켜서 활성 라디칼과 오존을 생성시킬 수 있다. 이러한 활성 라디칼과 오존에 의해 암모니아, 황화수소, 메틸메캅탄, 아황산 등을 분해시킬 뿐만 아니라, 세균이나 곰팡이 등의 유해한 미생물을 제거할 수 있다.In this way, in the mesh-type plasma device, when power is applied to the first and second electrodes, plasma (P) is discharged and electrons are converted to nitrogen (N 2 ) through dissociation, ionization, and excitation reactions. , oxygen (O 2 ), moisture (H 2 0), etc. can be activated to generate active radicals and ozone. These active radicals and ozone not only decompose ammonia, hydrogen sulfide, methyl mecaptan, and sulfurous acid, but also remove harmful microorganisms such as bacteria and mold.

특히, 메쉬형 플라즈마 장치는 질소산화물(NOx) 중 NO를 분해/산화시키고 NO2로 변환시켜 효과적으로 처리 및 제거가 가능한다. 즉, NOx-plasma 산화(oxidation) 후 처리, 악취가스와 유해독성물질, VOCs 파괴처리가 가능하다.In particular, the mesh-type plasma device can effectively treat and remove nitrogen oxides (NOx) by decomposing/oxidizing NO and converting it into NO 2 . In other words, treatment after NOx-plasma oxidation and destruction of odorous gases, harmful toxic substances, and VOCs are possible.

또한, 메쉬형 플라즈마 장치는 활성 O-H 라디칼을 생성하여 분자의 크기와 특성이 다양한 복합오염물질을 제거하고, 담체와 최고 성능의 복합 촉매를 사용하여 처리 및 저감 효과를 극대화할 수 있고, 이어, 2차적으로 DBD 플라즈마/활성 광촉매 시스템을 통해 대상물질을 연소/산화/분해/제거 처리한다.In addition, the mesh-type plasma device generates active O-H radicals to remove complex pollutants with various molecular sizes and characteristics, and can maximize treatment and reduction effects by using a carrier and the highest performance complex catalyst. Secondly, the target material is burned/oxidized/decomposed/removed through the DBD plasma/active photocatalyst system.

즉, DBD(Dielectric Barrier Discharge) 플라즈마 방식은 대기압, 상온에서 플라즈마 작업이 가능하다. 또한, 대기압 환경에서 플라즈마를 발생시키는 DBD 방전방식은 고밀도 (10 ~10 cm ) 산소 활성층을 발생시킴으로써 처리대상 물질을 효과적으로 처리할 수 있다.In other words, the DBD (Dielectric Barrier Discharge) plasma method allows plasma work at atmospheric pressure and room temperature. In addition, the DBD discharge method, which generates plasma in an atmospheric pressure environment, can effectively treat the material to be treated by generating a high-density (10 ~ 10 cm) oxygen active layer.

또한, DBD 플라즈마/활성 광촉매 시스템은 다층의 흡착탑(Adsorption Tower) 방식으로 구성되어 필터 분리형(Filter plate)으로 개별 분리가 가능하여 교체가 용이하다.In addition, the DBD plasma/active photocatalyst system is composed of a multi-layer adsorption tower and can be individually separated with a filter plate, making it easy to replace.

먼저, 메쉬형 플라즈마 스크러버를 통해 1차 처리된 대상물질은 제2 데미스터(Demister)(306)를 통해 수분이 흡수되고, 높은 비표면적을 가진 흡착제로서 활성탄소층(305)과 제올라이트층(306)을 통과하면서 2차 필터링된다.First, the target material that is first treated through the mesh-type plasma scrubber has moisture absorbed through the second demister (306), and the activated carbon layer (305) and the zeolite layer (306) are used as an adsorbent with a high specific surface area. ) and is secondarily filtered.

즉, 활성탄, 제올라이트 흡착제와 유기물 분자에 대한 고도의 흡착능력, 세공(Micropore)가 잘 발달하여 유효 표면적인 매우 넓어 효율적인 처리가 가능하다. 가령, 활성카본(Activated Carbon)과 제올라이트(Zeolite) 등의 높은 비표면적을 갖는 흡착제를 사용하여 효율적인 처리가 가능하고, 고품질의 활성탄을 사용하여 교체주기를 늘릴 수 있다.In other words, activated carbon, zeolite adsorbent, and high adsorption capacity for organic molecules, as well as well-developed pores (micropores), enable efficient treatment with a very large effective surface area. For example, efficient treatment is possible by using adsorbents with a high specific surface area such as activated carbon and zeolite, and the replacement cycle can be extended by using high-quality activated carbon.

이어 UV 램프 조사 구간층(309)에서는 상기 흡착제층을 통과하면서 2차 필터링된 대상물질은 UV 램프 내에서 자외선 조사를 수행한다. 이처럼 자외선 조사를 통해 오염물질 살균 및 분해, 광촉매와 상호작용으로 살균 시너지를 제공할 수 있다.Next, in the UV lamp irradiation section layer 309, the target material that has been secondarily filtered while passing through the adsorbent layer is irradiated with ultraviolet rays within the UV lamp. In this way, ultraviolet irradiation can provide sterilization synergy by sterilizing and decomposing pollutants and interacting with photocatalysts.

이어, 활성 광촉매/광촉매 필터의 산화반응에서 제거되지 않고 잔존하는 대상물질은 후방에 존재하는 DBD/저온 플라즈마 장치와 광촉매 비드(303)로 유도되어 제거된다. 이때, DBD 플라즈마 장치는 플라즈마 반응과 UVA를 활성 광촉매/광촉매 필터의 표면에 조사하여 이로 인해 광촉매 반응이 발생하여 활성 O-H 라디칼을 생성한다. 생성된 활성 O-H 라디칼은 강력한 산화력으로 분자의 크기와 특성이 다양한 복합오염물질을 최종적으로 제거된 상태로 출구를 통해 정화된 클린가스가 제공된다. 이때, 광촉매 비드는 촉매 반응을 촉진시켜 세균 및 오염물질을 분해하는 반도체 물질을 말한다. 또한, 하부에 먼지 집진기(311)을 통해 미세먼지를 집진하고 볼밸브(311)를 통한 개폐를 통해 먼지 청소 및 수시 점검이 가능하다.Subsequently, the remaining target substances that are not removed in the oxidation reaction of the active photocatalyst/photocatalyst filter are guided to the DBD/low-temperature plasma device and the photocatalyst bead 303 located at the rear and are removed. At this time, the DBD plasma device radiates plasma reaction and UVA to the surface of the active photocatalyst/photocatalyst filter, which causes a photocatalytic reaction to generate active O-H radicals. The generated active O-H radicals have strong oxidizing power, and complex pollutants of various molecular sizes and characteristics are finally removed, and purified clean gas is provided through the outlet. At this time, photocatalyst beads are semiconductor materials that promote catalytic reactions to decompose bacteria and contaminants. In addition, fine dust is collected through the dust collector 311 at the bottom, and dust cleaning and frequent inspection are possible through opening and closing through the ball valve 311.

이상의 설명에서 본 발명은 특정의 실시 예와 관련하여 도시 및 설명하였지만, 특허청구범위에 의해 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 개조 및 변화가 가능하다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다.In the above description, the present invention has been shown and described in relation to specific embodiments, but it is common knowledge in the art that various modifications and changes are possible without departing from the spirit and scope of the invention indicated by the patent claims. Anyone who has it will be able to easily understand it.

100: 제1 연소로
101: M/W 제너레이터
102: 글라이딩아크 유량계
103: 유량계 박스
104: 오일(oil) 압축기
105: 칠러(chiller)
106: 글라이딩아크 버너
107: 3 stub 터너
108: 양방향 커플러
109: 아이솔레이터
110: 석영 홀더
111: 냉각팬
112: 인디케이터
113: 전원공급장치
114: MCU
115: 하니콤 세라믹
116: 광촉매 비드
117: 먼지 집진기
118: 방화물(fire Proof)
119: 3모듈 플랜지
121: 아크플라즈마 전극바
122: 점화부
123: 도파관
200: 세라믹 필터
300: 스프레이 노즐
301: 나노 마이크로버블 플라즈마 장치
302, 306: 데미스터(demister)
303: 광촉매층
304: 제올라이트층
305: 활성탄소층
307: 폴링
308: 마이크로버블 확산기
309: UV 램프
310: 볼밸브
311: 먼지 집진기
312, 313: DBD 플라즈마 장치
100: First combustion furnace
101: M/W generator
102: Gliding arc flow meter
103: Flow meter box
104: Oil compressor
105: chiller
106: Gliding arc burner
107: 3 stub turner
108: Two-way coupler
109: Isolator
110: Quartz holder
111: cooling fan
112: indicator
113: power supply device
114: MCU
115: Honeycomb ceramic
116: Photocatalyst bead
117: Dust collector
118: Fire Proof
119: 3-module flange
121: Arc plasma electrode bar
122: Ignition unit
123: waveguide
200: Ceramic filter
300: Spray nozzle
301: Nano microbubble plasma device
302, 306: demister
303: Photocatalyst layer
304: Zeolite layer
305: activated carbon layer
307: Polling
308: Microbubble diffuser
309: UV lamp
310: ball valve
311: dust collector
312, 313: DBD plasma device

Claims (8)

마이크로웨이브(Microwave)을 이용하여 유입된 대상물질을 1차 연소/산화/파괴/분해처리하여 정화된 물질을 제공하는 M/W 플라즈마 버너 시스템과, 상기 MW 플라즈마 버너 시스템에서 1차 처리된 대상물질을 글라이딩아크 플라즈마를 이용하여 2차 연소/산화/파괴/분해처리하는 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템을 포함하는고온 플라즈마 시스템과;
상기 고온 플라즈마 시스템을 통해 1차 및 2차 처리된 대상물질에서 미세먼지를 집진하는 PM 집진시스템과:
제1 DBD 플라즈마 장치로 플라즈마를 발생시키고 이때 생성되는 고농도의 오존 및 OH 라디칼을 이용하여 상기 PM 집진 시스템에서 미세먼지가 집진된 대상물질을 처리하는 제1 저온플라즈마 시스템과 상기 메쉬형 플라즈마 스크러버를 통해 1차 처리된 대상물질에 대해 다단의 흡착제층으로 구성된 흡착탑을 통해 필터링하고 제2 DBD 플라즈마 장치를 통해 생성된 플라즈마를 상기 흡착탑의 최상부에 형성된 광촉매층의 표면에 조사하여 활성 O-H 라디칼을 생성하고 생성된 활성 O-H 라디칼은 통해 상기 대상물질을 2차 처리하는 제2 저온플라즈마 시스템을 포함하는 저온 플라즈마 시스템을 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템.
An M/W plasma burner system that provides purified materials by performing primary combustion/oxidation/destruction/decomposition treatment on the introduced target materials using microwaves, and the target materials that are primarily processed in the MW plasma burner system A high-temperature plasma system including a gliding arc plasma burner system that performs secondary combustion/oxidation/destruction/decomposition treatment using gliding arc plasma;
A PM dust collection system that collects fine dust from the primary and secondary treated materials through the high-temperature plasma system:
Through the mesh-type plasma scrubber and the first low-temperature plasma system that generates plasma with the first DBD plasma device and uses the high concentration of ozone and OH radicals generated at this time to treat the target material in which fine dust is collected in the PM dust collection system. The primary treated target material is filtered through an adsorption tower composed of multiple adsorbent layers, and the plasma generated through the second DBD plasma device is irradiated to the surface of the photocatalyst layer formed at the top of the adsorption tower to generate active OH radicals. A three-stage plasma complex system including a low-temperature plasma system and a second low-temperature plasma system that secondaryly processes the target material through activated OH radicals.
제1항에 있어서,
상기 M/W 플라즈마 버너 시스템은,
M/W 제너레이터로부터 발생된 M/W를 전달하는 도파관과;
상기 도파관의 말단부에 위치하고 상기 도파관과 관통되어 연결되는 제1 연소로와;
상기 제1 연소로 내로 대상물질이 유입되는 유입통로로서 대상물질 주입부와;
상기 제1 연소로 내에서 제공된 M/W 플라즈마에 점화하여 플라즈마 토치를 발생시키는 점화부와;
상기 제1 연소로의 플라즈마 토치 발생 영역으로 탄화수소계 연료를 주입하는 연료 주입부;를 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템.
According to paragraph 1,
The M/W plasma burner system,
A waveguide that transmits M/W generated from the M/W generator;
a first combustion furnace located at an end of the waveguide and penetrated and connected to the waveguide;
an inflow passage through which the target material flows into the first combustion furnace, and an injection portion for the target material;
an ignition unit that ignites the M/W plasma provided in the first combustion furnace to generate a plasma torch;
A plasma three-stage complex system comprising a fuel injection unit that injects hydrocarbon-based fuel into the plasma torch generation area of the first combustion furnace.
제1항에 있어서,
상기 글라이딩아크 플라즈마 버너 시스템은,
1차 M/W 플라즈마 버너 시스템의 제1 연소로와 연통되어 1차 연소 처리된 대상물질이 유입되는 제2 연소로와;
고전압의 전력을 공급하여 상기 제2 연소로에서 방전을 통해 아크를 형성하고 생성된 플라즈마는 반응물에 의해 대류되어 상기 제2 연소로 후단으로 밀려나고 전극으로부터 상기 제2 연소로로 유입된 1차 연소 처리된 대상물질을 상기 생성된 플라즈마 화염을 통해 산화반응으로 2차 플라즈마 처리하는 글라이딩아크 버너부;를 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템.
According to paragraph 1,
The gliding arc plasma burner system,
a second combustion furnace connected to the first combustion furnace of the primary M/W plasma burner system into which the target material subjected to primary combustion treatment flows;
High-voltage power is supplied to form an arc through discharge in the second combustion furnace, and the generated plasma is convected by reactants and pushed to the rear of the second combustion furnace, and primary combustion flows into the second combustion furnace from the electrode. A gliding arc burner unit that processes the treated target material through a secondary plasma oxidation reaction through the generated plasma flame. A three-stage plasma complex system including a gliding arc burner unit.
제3항에 있어서,
상기 글라이딩아크 버너부는,
내부 할로우를 통해 연료가 주입되는 글라이딩아크 전극바와,
상기 글라이딩아크 전극바와 연결되고 외부 전극이 구비되어 내부에 방전가스가 주입되는 전극바 홀더와,
상기 글라이딩아크 전극바의 말단부에 연결되고 상기 제2 연소로의 내부에 위치하여 플라즈마 화염을 발생시키는 내부 전극을 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템.
According to paragraph 3,
The gliding arc burner unit,
A gliding arc electrode bar through which fuel is injected through an internal hollow,
An electrode bar holder connected to the gliding arc electrode bar and equipped with an external electrode into which discharge gas is injected,
A plasma three-stage complex system including an internal electrode connected to a distal end of the gliding arc electrode bar and located inside the second combustion furnace to generate a plasma flame.
제1항에 있어서,
상기 PM 집진 시스템에서 필터부는 외부 표면에 SiC 코팅층이 형성되고, 상기 세라믹 필터부의 내부에는 MnOX, V2O5, TiO2 촉매 중의 어느 하나 또는 이들의 결합 코팅층이 형성된 플라즈마 3단계 복합 시스템.
According to paragraph 1,
In the PM dust collection system , a SiC coating layer is formed on the outer surface of the filter unit, and one of MnO
제1항에 있어서,
상기 제1 DBD 플라즈마 장치는 유연 전극장치로서 메쉬(mesh) 형태의 플라즈마 전극 방식인 플라즈마 3단계 복합 시스템.
According to paragraph 1,
The first DBD plasma device is a flexible electrode device and is a three-stage plasma complex system using a mesh-shaped plasma electrode method.
제6항에 있어서,
상기 제1 저온플라즈마 시스템은,
상기 대상물질 이동통로의 상부에 형성되는 제1 DBD 플라즈마 장치와,
상기 대상물질 이동통로의 하부에 형성되어 생성된 나노 마이크로 버블을 상부로 확산시키는 나노 마이크로버블 플라즈마 장치와,
약액 탱크로부터 제공되는 세정액을 상기 이동통로상의 대상물질에 분사하는 스프레이 노즐을 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템.
According to clause 6,
The first low-temperature plasma system,
A first DBD plasma device formed on the upper part of the target material movement passage,
A nano-microbubble plasma device that is formed at the bottom of the target material movement path and spreads the generated nano-microbubbles upward;
A plasma three-stage complex system including a spray nozzle that sprays the cleaning solution provided from the chemical tank onto the target material on the moving passage.
제1항에 있어서,
상기 흡착탑은,
상기 1차 처리된 대상물질에서 수분을 흡수하는 데미스터(Demister)와,
상기 데미스터의 상부에 형성되고 높은 비표면적을 가진 흡착제로서 순차적으로 형성되어 상기 1차 처리된 대상물질을 필터링하는 활성탄소층과 제올라이트층을 구비한 흡착제층과,
상기 흡착제층을 통과하면서 필터링된 대상물질을 UV 램프 내에서 자외선 조사하는 UV 램프 조사층과,
상기 흡착제층과 조사층을 통해서도 제거되지 않고 잔존하는 대상물질은 후방에 존재하는 DBD/저온 플라즈마 장치와 광촉매 반응을 발생시키는 광촉매층을 포함하는 플라즈마 3단계 복합 시스템.
According to paragraph 1,
The adsorption tower is,
A demister that absorbs moisture from the primary treated material,
An adsorbent layer formed on the top of the demister and sequentially formed as an adsorbent with a high specific surface area, including an activated carbon layer and a zeolite layer to filter the primary treated material;
A UV lamp irradiation layer that irradiates the filtered target material while passing through the adsorbent layer with ultraviolet rays within a UV lamp;
The target material remaining and not removed through the adsorbent layer and the irradiation layer is a three-stage plasma complex system including a DBD/low-temperature plasma device located at the rear and a photocatalyst layer that generates a photocatalytic reaction.
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