KR20200118318A - Apparatus for adjusting gap of substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same - Google Patents

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Abstract

According to the present invention, provided are an apparatus for adjusting a gap of a substrate processing unit, which is capable of enabling efficient substrate processing by minutely adjusting a position of a substrate processing unit facing a substrate, and a substrate processing apparatus using the same. To achieve the purpose, the apparatus includes: a support block supporting a substrate processing unit; and a lifting unit for lifting the support block up and down. The lifting unit includes: a main shaft rotated by receiving a driving force from a drying part; an eccentric shaft axially combined with the main shaft in an eccentric state; a follower member provided on the support block to come in contact with an outer circumference surface of the eccentric shaft so as to lift the support block up and down when the eccentric shaft is rotated; and a guide member guiding the movement of the support block.

Description

기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치{APPARATUS FOR ADJUSTING GAP OF SUBSTRATE PROCESSING UNIT AND　SUBSTRATE PROCESSING　APPARATUS USING THE SAME}Gap control device of substrate processing unit and substrate processing device using the same {APPARATUS FOR ADJUSTING GAP OF SUBSTRATE PROCESSING UNIT AND　SUBSTRATE PROCESSING　APPARATUS USING THE SAME}

본 발명은 기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치에 관한 것으로, 상세하게는 기판과 기판을 향하는 기판처리유닛 사이의 간격을 조절하여, 기판처리 공정을 보다 효율적으로 수행할 수 있도록 하는 기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for controlling a gap of a substrate processing unit and a substrate processing apparatus using the same, and in particular, by controlling the gap between a substrate and a substrate processing unit facing the substrate, the substrate processing process can be performed more efficiently. The present invention relates to an apparatus for controlling a distance of a substrate processing unit and a substrate processing apparatus using the same.

디스플레이 제조에 사용되는 기판은 증착, 패턴 형성, 식각, 화학적 기계적 연마, 세정, 건조 등과 같은 다양한 종류의 기판처리 공정을 거치면서 제조된다.Substrates used for display manufacturing are manufactured through various types of substrate processing processes such as deposition, pattern formation, etching, chemical mechanical polishing, cleaning, and drying.

이러한 다양한 종류의 기판처리 공정 중, 특히 기판에 대한 연마, 세정, 건조 등의 공정을 위해서는 기판연마유닛, 기판세정유닛, 기판건조유닛, 기판코팅유닛 등 실질적으로 작업을 수행할 기판처리유닛의 정확한 위치세팅이 우선적으로 요구된다.Among these various types of substrate processing processes, in particular, for processes such as polishing, cleaning, and drying of the substrate, the substrate polishing unit, the substrate cleaning unit, the substrate drying unit, the substrate coating unit, etc. Position setting is required first.

이와 같이 기판을 향하는 기판처리유닛과 기판과의 간격 설정은, 대상 기판의 종류뿐만 아니라, 공정의 종류 및 기판처리유닛의 종류에 따라 최적의 간격이 설정되어야 하고, 이렇게 설정된 간격은 기판처리 공정 중에도 계속해서 최적의 간격이 얼마나 정확하게 유지되는지에 따라 효율적인 기판처리와 제조되는 기판의 수율을 향상시킬 수 있다.As for setting the distance between the substrate processing unit facing the substrate and the substrate as described above, the optimum distance should be set according to the type of the target substrate as well as the type of the process and the type of the substrate processing unit. Depending on how precisely the optimal spacing is maintained, it is possible to improve the efficient substrate processing and the yield of the manufactured substrate.

일예로 세정 공정은 기판 상의 오염 입자를 제거하는 공정으로, 롤러브러시를 이용한 세정 방법이 널리 사용되고 있는데, 세정액을 기판 상에 분사하는 동시에 기판을 향해 롤러브러시를 가압 회전시킴에 따라 기판 표면의 오염물질을 제거하게 된다.As an example, the cleaning process is a process of removing contaminated particles on the substrate, and a cleaning method using a roller brush is widely used. As the cleaning solution is sprayed on the substrate and the roller brush is pressed and rotated toward the substrate, contaminants on the surface of the substrate Will be removed.

결국 원하는 세정 효과를 충분히 얻기 위해서는 롤러브러시와 기판 사이의 접촉량이 정확하게 세팅되어야 한다.In the end, in order to sufficiently obtain the desired cleaning effect, the contact amount between the roller brush and the substrate must be accurately set.

또한 처리되는 기판의 종류 및 패턴이 변경되는 경우에는 해당 기판에 상응하게 롤러브러시의 간격을 재설정해 주어야 하고, 롤러브러시의 사용주기 등을 고려하여 세정 공정 중에도 필요에 따라 기판과 롤러브러시 사이 간격을 새롭게 재설정해 주어야하는 상황이 발생될 수 있다.In addition, if the type and pattern of the substrate to be processed is changed, the interval of the roller brush must be reset according to the substrate, and the interval between the substrate and the roller brush should be adjusted during the cleaning process as necessary in consideration of the use cycle of the roller brush. There may be a situation that requires a new reset.

또한 일반적으로 롤러브러시 뿐만 아니라 각종 기판처리유닛에 간격조절장치를 부가하기 위해서는 기판처리 공간의 청정도를 고려하여 기판처리 공간과는 분리된 외부공간에 간격조절장치를 설치하게 되는데, 이를 만족하기 위해서는 불필요하게 장비가 복잡해지는 등의 전반적으로 그 설치에 어려움이 발생되었다.In addition, in order to add a space control device to various substrate processing units as well as a roller brush, a space control device is installed in an external space separate from the substrate treatment space in consideration of the cleanliness of the substrate treatment space. In general, difficulties in installation occurred, such as equipment becoming complicated.

대한민국 등록특허공보 제10-1103827호(2012.01.06.공고)Korean Registered Patent Publication No. 10-1103827 (2012.01.06.

본 발명의 목적은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 기판을 향하는 기판처리유닛의 위치를 미세 조절함으로써, 기판 처리를 효율적으로 수행할 수 있는 기판처리유닛의 간격조절장치를 제공함에 있다.An object of the present invention is to solve a conventional problem, and the present invention is to provide an apparatus for adjusting the spacing of a substrate processing unit capable of efficiently performing substrate processing by finely adjusting the position of the substrate processing unit facing the substrate. .

또한 본 발명은 기판 세정을 위한 롤러브러시의 위치를 미세하게 조절함으로써, 다양한 종류의 기판에 대한 세정효율을 향상시킬 수 있는 기판처리장치를 제공함에 있다.In addition, the present invention provides a substrate processing apparatus capable of improving cleaning efficiency for various types of substrates by finely adjusting the position of a roller brush for cleaning a substrate.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치는, 기판처리유닛을 지지하는 지지블록; 및 상기 지지블록을 승하강시키기 위한 승하강유닛을 포함하고, 상기 승하강유닛은, 구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트; 상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트; 상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되어 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및 상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the object of the present invention described above, an apparatus for adjusting a distance of a substrate processing unit according to the present invention includes: a support block supporting the substrate processing unit; And an elevating unit for elevating and lowering the support block, wherein the elevating unit includes: a main shaft rotated by receiving a driving force from a driving unit; An eccentric shaft coupled to the main shaft in an eccentric state; A follower member provided on the support block so as to be in contact with the outer circumferential surface of the eccentric shaft to raise and lower the support block when the eccentric shaft rotates; And it characterized in that it comprises a guide member for guiding the vertical movement of the support block.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 편심샤프트는, 상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트부재; 및 상기 편심샤프트부재의 외주면에 회전 가능하게 결합되는 편심롤러부재를 포함할 수 있다.In addition, in the space control apparatus of the substrate processing unit according to the present invention, the eccentric shaft includes: an eccentric shaft member axially coupled to the main shaft in an eccentric state; And it may include an eccentric roller member rotatably coupled to the outer peripheral surface of the eccentric shaft member.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 팔로워부재는, 상기 지지블록에 결합되는 지지블록 연장부; 및 상기 편심롤러부재가 내부에 삽입되게 상기 지지블록 연장부에 형성되는 장공 구조의 편심롤러 지지부를 포함할 수 있다.In addition, in the apparatus for adjusting the distance of the substrate processing unit according to the present invention, the follower member includes: a support block extension part coupled to the support block; And an eccentric roller support portion having a long hole structure formed on the support block extension portion so that the eccentric roller member is inserted therein.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 편심롤러 지지부는, 상기 편심롤러부재의 외주면과 접촉하는 제1 접촉부; 및 상기 제1 접촉부를 대향하는 제2 접촉부를 포함하고, 상기 제1 접촉부 및 상기 제2 접촉부는 상기 편심롤러부재의 외주면에 동시에 접촉되도록 상기 편심롤러부재의 직경에 상응하는 사이 간격을 갖도록 배치될 수 있다.In addition, in the apparatus for adjusting the distance of the substrate processing unit according to the present invention, the eccentric roller support includes: a first contact portion in contact with an outer circumferential surface of the eccentric roller member; And a second contact portion facing the first contact portion, wherein the first contact portion and the second contact portion are arranged to have an interval corresponding to the diameter of the eccentric roller member so as to simultaneously contact the outer circumferential surface of the eccentric roller member. I can.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 연결브래킷을 매개로 챔버 내벽으로부터 이격되게 배치되는 지지프레임을 포함할 수 있다.In addition, in the apparatus for adjusting the distance of the substrate processing unit according to the present invention, it may include a support frame disposed to be spaced apart from the inner wall of the chamber via a connection bracket.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 메인샤프트는, 상기 지지프레임을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 구동부와 연결되고, 타단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제1 메인샤프트; 및 상기 챔버 내벽을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제2 메인샤프트를 포함할 수 있다.In addition, in the apparatus for adjusting the distance of the substrate processing unit according to the present invention, the main shaft is rotatably supported while passing through the support frame, one end is connected to the driving unit, the other end is connected to the eccentric shaft. Main shaft; And a second main shaft that penetrates the inner wall of the chamber and is rotatably supported, and has one end connected to the eccentric shaft.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 승하강유닛은, 상기 구동부와 상기 메인샤프트를 연결하며 상기 구동부의 구동력을 상기 메인샤프트로 전달하는 동력전달부를 포함할 수 있고, 이때 상기 동력전달부는, 상기 구동부의 출력단과 축 결합되는 제1 기어; 및 상기 제1 기어와 기어 결합되며 상기 메인샤프트와 축 결합되는 제2 기어를 포함할 수 있다.In addition, in the distance control apparatus of the substrate processing unit according to the present invention, the elevating unit may include a power transmission unit that connects the driving unit and the main shaft and transmits the driving force of the driving unit to the main shaft, The power transmission unit may include a first gear axially coupled to an output end of the driving unit; And a second gear coupled to the first gear and axially coupled to the main shaft.

한편 본 발명에 따른 기판처리장치는, 기판처리유닛의 양단부를 지지하는 한 쌍의 지지블록; 상기 한 쌍의 지지블록을 승하강시키기 위한 한 쌍의 승하강유닛; 및 상기 승하강유닛이 설치되며, 기판이 처리되는 공간으로부터 상기 승하강유닛이 오염되는 것을 방지하기 위한 챔버 내벽을 갖는 챔버를 포함하고, 상기 각 승하강유닛은, 구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트; 상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트; 상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되는 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및 상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재를 포함하는 것도 특징으로 한다.Meanwhile, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a pair of support blocks supporting both ends of a substrate processing unit; A pair of elevating units for elevating the pair of support blocks; And a chamber in which the elevating unit is installed, and having an inner wall of the chamber for preventing contamination of the elevating unit from a space in which the substrate is processed, wherein each elevating unit is rotated by receiving a driving force of a driving unit. Main shaft; An eccentric shaft coupled to the main shaft in an eccentric state; A follower member for raising and lowering the support block when the eccentric shaft provided on the support block is rotated to come into contact with the outer circumferential surface of the eccentric shaft; And it characterized in that it comprises a guide member for guiding the vertical movement of the support block.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치에 있어서, 상기 기판처리유닛은, 기판이 통과할 수 있도록 서로 이격되게 배치되는 상측 롤러브러시 및 하측 롤러브러시를 포함하는 것일 수 있다.In addition, in the substrate processing apparatus according to the present invention, the substrate processing unit may include an upper roller brush and a lower roller brush that are disposed to be spaced apart from each other so that the substrate can pass.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치에 있어서, 상기 한 쌍의 승하강유닛에 각각 마련된 상기 메인샤프트를 서로 연결하며, 상기 한 쌍의 승하강유닛의 구동력을 동기화시키는 연결샤프트를 포함할 수도 있다.Further, in the substrate processing apparatus according to the present invention, the main shaft provided in each of the pair of elevating units may be connected to each other, and may include a connection shaft for synchronizing driving force of the pair of elevating units.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치에 있어서, 상기 챔버 내벽을 관통하는 상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽과 상기 메인샤프트 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재; 및 상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽을 향해 상기 실링부재를 가압 고정시키기 위한 칼라부재를 더 포함할 수도 있다.In addition, in the substrate processing apparatus according to the present invention, the sealing member is coupled to the main shaft penetrating the inner wall of the chamber, the sealing member for maintaining airtightness between the inner wall of the chamber and the main shaft; And a collar member coupled to the main shaft and for pressing and fixing the sealing member toward the inner wall of the chamber.

본 발명에 따른 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치는, 편심샤프트의 회전 정도에 따라 팔로워부재의 수직방향 변위를 구현하는 승하강유닛을 통하여, 기판에 대한 기판처리유닛의 미세한 위치조정이 가능하고, 이로부터 다양한 종류나 패턴을 가지는 기판 및 다양한 기판처리유닛에 대응하여 기판처리유닛의 위치를 항상 최적의 상태로 세팅할 수 있는 이점이 있다.The gap adjusting device and the substrate processing apparatus using the same according to the present invention can finely adjust the position of the substrate processing unit with respect to the substrate through an elevating unit that implements vertical displacement of the follower member according to the degree of rotation of the eccentric shaft. From this, there is an advantage in that the position of the substrate processing unit can always be set to an optimal state in correspondence with substrates having various types or patterns and various substrate processing units.

또한 본 발명에 따른 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치는, 편심샤프트와 팔로워부재로 이루어지는 단순 구조의 승하강유닛을 통하여, 장치의 소형화가 가능하고, 기존 기판처리유닛 및 기판처리공간을 점유하지 않고도 장치의 제작 및 설치가 용이한 이점이 있다.In addition, the space control device and the substrate processing apparatus using the same according to the present invention can be miniaturized and do not occupy the existing substrate processing unit and the substrate processing space through a simple elevating unit consisting of an eccentric shaft and a follower member. There is an advantage in that it is easy to manufacture and install the device without it.

특히 본 발명에 따른 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치는, 기판 세정을 위한 롤러브러시에 적용될 경우, 롤러브러시 및 세정공간을 점유하지 않고도 간격조절장치의 제작 및 설치가 용이하고, 세정되는 기판의 종류나 롤러브러시의 사용주기 등을 고려하여 기판과 롤러브러시의 설정간격을 정확하게 유지시킬 수 있으며, 이로써 기판의 세정 효율을 향상시킬 수 있다.In particular, the gap control device and the substrate treatment device using the same according to the present invention, when applied to a roller brush for cleaning a substrate, facilitates manufacturing and installation of a gap control device without occupying a roller brush and a cleaning space, and It is possible to accurately maintain the set distance between the substrate and the roller brush in consideration of the type and the use period of the roller brush, thereby improving the cleaning efficiency of the substrate.

도 1은 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는 도 1의 분리 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 간격조절장치가 설치되는 구조를 설명하기 위한 분리 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 측면 예시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 간격조절장치의 작동을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 간격조절장치를 이용한 기판처리장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 7은 도 6에 도시된 기판처리장치에 이용된 간격조절장치를 설명하기 위한 측면 예시도이다.1 is a perspective view for explaining a gap adjusting device according to the present invention.
2 is an exploded perspective view of FIG. 1.
3 is an exploded perspective view for explaining a structure in which a space control device according to the present invention is installed.
Figure 4 is an exemplary side view for explaining the interval adjustment device according to the present invention.
5 is a view for explaining the operation of the interval control device according to the present invention.
6 is a perspective view for explaining a substrate processing apparatus using a gap adjusting device according to the present invention.
FIG. 7 is an exemplary side view for explaining a gap adjusting device used in the substrate processing apparatus shown in FIG. 6.

이하 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above-described problem to be solved can be realized in detail will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiments, the same names and the same reference numerals are used for the same components, and additional descriptions thereof are omitted.

도 1은 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 사시도이며, 도 2는 도 1의 분리 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 간격조절장치가 설치되는 구조를 설명하기 위한 분리 사시도이며, 도 4는 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 측면 예시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 간격조절장치의 작동을 설명하기 위한 도면이다.1 is a perspective view for explaining a space adjustment device according to the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view of Figure 1, Figure 3 is an exploded perspective view for explaining a structure in which the space control device according to the present invention is installed, 4 is an exemplary side view for explaining the distance control device according to the present invention, Figure 5 is a view for explaining the operation of the distance control device according to the present invention.

먼저 본 발명에 따른 간격조절장치가 적용되는 기판처리유닛은, 기판 제조 공정에서 기판을 처리하기 위한 다양한 종류의 유닛이 적용될 수 있다.First, the substrate processing unit to which the gap control device according to the present invention is applied may include various types of units for processing a substrate in a substrate manufacturing process.

예를 들어 기판 세정을 위한 세정액분사유닛, 기판 세정을 위한 롤러브러시유닛, 기판 건조를 위한 에어분사유닛, 기판 건조를 위한 광조사유닛, 기판 코팅을 위한 약액도포유닛, 에어나이프 등이 적용될 수 있다. 이 외에도 본 발명에 따른 간격조절장치는 기판과 일정 간격이 요구되는 다양한 종류의 기판처리유닛에 선택적으로 적용될 수 있다.For example, a cleaning liquid spraying unit for cleaning a substrate, a roller brush unit for cleaning a substrate, an air spraying unit for drying a substrate, a light irradiation unit for drying a substrate, a chemical application unit for coating a substrate, an air knife, etc. may be applied. . In addition, the spacing control apparatus according to the present invention can be selectively applied to various types of substrate processing units requiring a predetermined distance from the substrate.

한편 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치는 지지블록(110)을 포함할 수 있다.Meanwhile, the apparatus for adjusting the distance of the substrate processing unit according to the present invention may include a support block 110.

지지블록(110)은 상술한 기판처리유닛을 지지하기 위한 부재로써, 기판처리유닛을 고정시키기 위한 기판처리유닛 고정부(111)가 구비될 수 있다.The support block 110 is a member for supporting the above-described substrate processing unit, and may include a substrate processing unit fixing part 111 for fixing the substrate processing unit.

상기 기판처리유닛 고정부(111)에는 기판처리유닛을 고정하기 위한 별도의 체결수단이 구비될 수 있다.The substrate processing unit fixing part 111 may be provided with a separate fastening means for fixing the substrate processing unit.

또한 상기 기판처리유닛 고정부(111)에는 베어링 등의 회전지지부가 구비될 수 있으며, 이를 통해 기판처리유닛을 회전 가능하게 지지할 수 있다. 예를 들어 기판처리유닛 고정부(111)에는 기판처리유닛의 구동축이 직접 결합될 수 있다.In addition, the substrate processing unit fixing portion 111 may be provided with a rotation support portion such as a bearing, through which the substrate processing unit may be rotatably supported. For example, a drive shaft of the substrate processing unit may be directly coupled to the substrate processing unit fixing part 111.

또한 상기 지지블록(110)에는 후술되는 승하강유닛(100)의 가이드부재(180)를 관통시키는 가이드홀(113)이 구비될 수 있다.In addition, the support block 110 may be provided with a guide hole 113 passing through the guide member 180 of the elevating unit 100 to be described later.

상기 가이드홀(113)의 내주면에는 상기 가이드부재(113)와의 마찰을 감소하고 지지블록(110)의 균일한 직선 이동이 확보되도록 부싱부재(185)가 구비될 수 있다. 상기 부싱부재(185)로는 볼 부시(Ball Bush)가 적용될 수 있다.A bushing member 185 may be provided on the inner circumferential surface of the guide hole 113 to reduce friction with the guide member 113 and ensure uniform linear movement of the support block 110. A ball bush may be applied as the bushing member 185.

이와 같은 지지블록(110)은 후술되는 승하강유닛(100)과 연결되어, 승하강유닛(100)의 작동에 따라 연동하여 이동되면서 기판처리유닛을 이동시킬 수 있다. 즉, 기판을 향해 기판처리유닛을 근접시키거나 이격시킬 수 있다.Such a support block 110 may be connected to the elevating unit 100 to be described later, and may move the substrate processing unit while being interlocked with the operation of the elevating unit 100. That is, the substrate processing unit may be brought close to or separated from the substrate.

본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치는, 상기 지지블록(110)을 승하강시키기 위한 승하강유닛(100)을 포함한다.The apparatus for adjusting the distance of the substrate processing unit according to the present invention includes an elevating unit 100 for elevating and lowering the support block 110.

승하강유닛(100)은 메인샤프트(150), 편심샤프트(160), 팔로워부재(170), 가이드부재(180)를 포함할 수 있다.The elevating unit 100 may include a main shaft 150, an eccentric shaft 160, a follower member 170, and a guide member 180.

먼저 도 3을 참조하면 상기 승하강유닛(100)은 챔버에 설치될 수 있다.First, referring to FIG. 3, the elevating unit 100 may be installed in a chamber.

상기 챔버는 기판처리공간으로부터 상기 승하강유닛(100)이 완전히 분리되어 보호될 수 있도록 폐쇄 구조를 이룰 수 있다. 결국 기판이 처리되는 공간으로부터 상기 승하강유닛(100)이 오염되는 것을 방지할 수 있다.The chamber may have a closed structure so that the elevating unit 100 is completely separated and protected from the substrate processing space. As a result, it is possible to prevent the elevating unit 100 from being contaminated from the space where the substrate is processed.

상기 챔버는 챔버 내벽(121)을 포함할 수 있으며, 상기 챔버 내벽(121)은 기판처리유닛을 통해 기판이 처리되는 공간과 승하강유닛(100)이 설치되는 공간이 분리되도록 플레이트 구조로 이루어질 수 있다.The chamber may include an inner wall 121 of the chamber, and the inner wall 121 of the chamber may have a plate structure so that a space in which a substrate is processed through a substrate processing unit and a space in which the elevating unit 100 is installed are separated. have.

또한 상기 챔버 내벽(121)에는 챔버 내벽(121)을 사이에 두고 양측에 배치되는 기판처리유닛과 지지블록(110)이 연결될 수 있도록, 기판처리유닛 또는 지지블록(110)의 일부분을 관통시키는 유닛결합용 관통공(121a)이 구비될 수 있다.In addition, a unit that penetrates a portion of the substrate processing unit or the support block 110 so that the substrate processing unit disposed on both sides of the chamber inner wall 121 and the support block 110 are connected to each other with the chamber inner wall 121 interposed therebetween. A coupling through hole 121a may be provided.

또한 상기 챔버 내벽(121)에는 메인샤프트(150)를 회전 가능하게 지지하기 위한 메인샤프트 관통공(121c)이 구비될 수 있다.In addition, a main shaft through hole 121c for rotatably supporting the main shaft 150 may be provided in the inner wall 121 of the chamber.

또한 상기 챔버 내벽(121)에는 가이드부재(180)를 고정 지지하기 위한 가이드부재 고정브래킷(121b)이 구비될 수 있다.In addition, a guide member fixing bracket 121b for fixing and supporting the guide member 180 may be provided on the inner wall 121 of the chamber.

상기 챔버 내벽(121)의 안쪽 공간에는 연결브래킷(123)을 매개로 상기 챔버 내벽(121)으로부터 이격되게 배치되는 지지프레임(125)을 포함할 수 있다.The inner space of the inner wall 121 of the chamber may include a support frame 125 disposed to be spaced apart from the inner wall 121 of the chamber through a connection bracket 123.

또한 상기 지지프레임(125)에는 메인샤프트(150)를 회전 가능하게 지지하기 위한 메인샤프트 관통공이 구비될 수 있다.In addition, the support frame 125 may be provided with a main shaft through hole for rotatably supporting the main shaft 150.

또한 상기 지지프레임(125)에는 구동부(130)를 고정 지지하기 위한 구동부 고정브래킷이 구비될 수 있다.In addition, a driving part fixing bracket for fixing and supporting the driving part 130 may be provided on the support frame 125.

메인샤프트(150)는 구동부(130)의 구동력을 전달받아 회전될 수 있다.The main shaft 150 may be rotated by receiving the driving force of the driving unit 130.

상기 구동부(130)는 회전 구동력을 제공하는 모터일 수 있다. 또한 도시되진 않았지만 구동부(130)는 회전 구동력을 제공하는 수동핸들 혹은 직선 구동력을 제공하는 실린더일 수도 있다.The driving unit 130 may be a motor that provides rotational driving force. Also, although not shown, the driving unit 130 may be a manual handle providing rotational driving force or a cylinder providing linear driving force.

이러한 구동부(130)의 출력단에 상기 메인샤프트(150)는 직접 결합될 수 있다.The main shaft 150 may be directly coupled to the output terminal of the driving unit 130.

또한 도시된 바와 같이 상기 구동부(130)와 상기 메인샤프트(150)를 연결하며 구동부(130)의 구동력을 메인샤프트(150)로 전달하는 동력전달부(140)를 포함할 수도 있다.In addition, as shown, a power transmission unit 140 connecting the driving unit 130 and the main shaft 150 and transmitting the driving force of the driving unit 130 to the main shaft 150 may be included.

일예로, 구동부(130)가 모터 혹은 수동핸들인 경우, 동력전달부(140)는 구동부(130)의 출력단과 축 결합되는 제1 기어(141)와, 상기 제1 기어(141)와 기어 결합되며 메인샤프트(150)와 축 결합되는 제2 기어(143)로 이루어질 수 있다. 이때 상기 제1 기어(141)는 웜기어일 수 있고, 상기 제2 기어(143)는 웜휠일 수 있다.For example, when the drive unit 130 is a motor or a manual handle, the power transmission unit 140 has a first gear 141 shaft-coupled to the output end of the drive unit 130, and a gear coupling with the first gear 141 It may be made of a second gear 143 that is shaft-coupled with the main shaft 150. At this time, the first gear 141 may be a worm gear, and the second gear 143 may be a worm wheel.

다른 예로, 구동부(130)가 실린더인 경우, 동력전달부(140)는 구동부(130)의 출력단과 결합되는 래크기어와, 상기 래크기어와 기어 결합되며 메인샤프트(150)와 축 결합되는 피니언기어로 이루어질 수도 있다.As another example, when the driving unit 130 is a cylinder, the power transmission unit 140 includes a rack gear coupled to the output end of the driving unit 130 and a pinion gear coupled to the rack gear and axially coupled to the main shaft 150 It can also be made of.

이 외에도 상기 동력전달부(140)는 복수의 감속기어군으로 이루어지거나 벨트와 스프라켓 방식 등으로 이루어질 수 있다.In addition, the power transmission unit 140 may be formed of a plurality of reduction gear groups or may be formed in a belt and sprocket method.

이러한 동력전달부(140)를 통하여, 구동부(130)의 구동력은 큰 감속비로 감속되어 메인샤프트(150)를 미세하게 회전시킬 수 있다.Through this power transmission unit 140, the driving force of the driving unit 130 is reduced by a large reduction ratio, so that the main shaft 150 can be finely rotated.

한편 메인샤프트(150)는 회전 중심이 동일한 제1 메인샤프트(151)와 제2 메인샤프트(153)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the main shaft 150 may include a first main shaft 151 and a second main shaft 153 having the same rotational center.

상기 제1 메인샤프트(151)는 지지프레임(125)을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 구동부(130)와 연결되고, 타단이 편심샤프트(160)와 연결될 수 있다.The first main shaft 151 passes through the support frame 125 and is rotatably supported, and one end is connected to the driving unit 130 and the other end may be connected to the eccentric shaft 160.

상기 제2 메인샤프트(153)는 챔버 내벽(121)의 메인샤프트 관통공(121c)을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 편심샤프트(160)와 연결되고 타단은 자유단으로 마련될 수 있다.The second main shaft 153 is rotatably supported while passing through the main shaft through hole 121c of the inner wall 121 of the chamber, one end is connected to the eccentric shaft 160 and the other end may be provided as a free end. .

상기 제1 메인샤프트(151)와 제2 메인샤프트(153)의 사이에 후술되는 편심샤프트(160)를 배치함으로써 편심샤프트(160)의 회전축을 안정적으로 지지할 수 있다.By arranging an eccentric shaft 160 to be described later between the first main shaft 151 and the second main shaft 153, the rotation axis of the eccentric shaft 160 can be stably supported.

한편 도 6 및 도 7을 참조하면 챔버 내벽(121)을 관통하여 기판이 처리되는 공간으로 연장 배치되는 상기 제2 메인샤프트(153)의 자유단에는, 기판이 처리되는 공간을 사이에 두고 반대쪽에 배치되는 다른 승하강유닛(100") 측으로 구동력을 전달하기 위한 연결샤프트(159)가 결합될 수 있다. 제2 메인샤프트(153)와 연결샤프트(159)는 별도의 축이음부재를 이용하여 연결될 수 있다. 상기 축이음부재는 유니버셜 조인트 등이 적용될 수도 있다.Meanwhile, referring to FIGS. 6 and 7, at the free end of the second main shaft 153 extending through the chamber inner wall 121 and extending into the space where the substrate is processed, the opposite side is provided with a space where the substrate is processed. A connection shaft 159 for transmitting the driving force to the other elevating unit 100" that is disposed may be coupled. The second main shaft 153 and the connection shaft 159 may be connected using a separate shaft joint member. The shaft joint member may be applied with a universal joint or the like.

또한 도 4 및 도 7에 도시된 바와 같이 상기와 같이 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")을 상기 연결샤프트(159)로 연결하기 위하여, 챔버 내벽(121)을 관통하여 기판 처리 공간으로 연장되는 메인샤프트(150) 상에는 별도의 기밀수단이 구비될 수 있다.In addition, as shown in FIGS. 4 and 7, in order to connect the pair of elevating units 100 and 100 ″ to the connection shaft 159 as described above, the substrate processing space through the inner wall 121 of the chamber A separate airtight means may be provided on the main shaft 150 that extends to.

즉, 챔버 내벽(121)을 관통하는 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)과 메인샤프트(150) 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재(155)와, 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)을 향해 상기 실링부재(155)를 가압하여 고정시키는 칼라부재(157)를 포함할 수 있다.That is, it is coupled to the main shaft 150 penetrating the chamber inner wall 121 and is coupled to the sealing member 155 for maintaining airtightness between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150, and the main shaft 150 And may include a collar member 157 that presses and fixes the sealing member 155 toward the chamber inner wall 121.

편심샤프트(160)는 메인샤프트(150)에 편심 상태로 축 결합된다. 즉, 편심샤프트(160)의 중심은 메인샤프트(150)의 회전 중심에서 반경방향으로 치우친 위치에 배치된다. 결국 편심샤프트(160)는 메인샤프트(150)의 회전 시 일정 반경을 가지고 회전될 수 있다.The eccentric shaft 160 is axially coupled to the main shaft 150 in an eccentric state. That is, the center of the eccentric shaft 160 is disposed at a position that is radially offset from the center of rotation of the main shaft 150. As a result, the eccentric shaft 160 may be rotated with a predetermined radius when the main shaft 150 is rotated.

상기 편심샤프트(160)는 메인샤프트(150)에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트부재(161)와, 상기 편심샤프트부재(161)의 외주면에 회전 가능하게 결합되는 편심롤러부재(163)를 포함할 수 있다. 이때 편심샤프트부재(161)와 편심롤러부재(163)는 동심을 이룰 수 있다.The eccentric shaft 160 includes an eccentric shaft member 161 axially coupled to the main shaft 150 in an eccentric state, and an eccentric roller member 163 rotatably coupled to the outer peripheral surface of the eccentric shaft member 161 can do. At this time, the eccentric shaft member 161 and the eccentric roller member 163 may be concentric.

상기 메인샤프트(150)가 제1 메인샤프트(151)와 제2 메인샤프트(153)로 구성되는 경우, 상기 편심샤프트부재(161)의 일단은 제1 메인샤프트(151)와 결합되고 타단은 제2 메인샤프트(153)와 연결될 수 있다.When the main shaft 150 is composed of a first main shaft 151 and a second main shaft 153, one end of the eccentric shaft member 161 is coupled to the first main shaft 151 and the other end 2 It may be connected to the main shaft 153.

팔로워부재(170)는 편심샤프트(160)와 연결되어 편심샤프트(160)와 연동하는 것으로, 지지블록(110)에 구비될 수 있다. 보다 상세하게, 상기 팔로워부재(170)는 편심롤러부재(163)의 외주면과 접촉된 상태에서 편심롤러부재(163)와 연동하여 이동됨에 따라 지지블록(110)의 위치를 이동시킬 수 있다.The follower member 170 is connected to the eccentric shaft 160 to interlock with the eccentric shaft 160 and may be provided on the support block 110. In more detail, the follower member 170 may move the position of the support block 110 in contact with the outer peripheral surface of the eccentric roller member 163 in association with the eccentric roller member 163.

상기 팔로워부재(170)는 지지블록 연장부(171) 및 편심롤러 지지부(173)를 포함할 수 있다.The follower member 170 may include a support block extension part 171 and an eccentric roller support part 173.

상기 지지블록 연장부(171)는 편심롤러 지지부(173)를 마련하기 위해 구비되는 것으로, 지지블록(110)의 일측에서 상기 편심샤프트(160)를 향해 돌출 형성될 수 있다. 이러한 지지블록 연장부(171)는 지지블록(110)에 일체로 형성될 수 있고, 별도의 체결수단에 의해 지지블록(110)에 결합될 수도 있다.The support block extension part 171 is provided to provide the eccentric roller support part 173, and may be formed to protrude toward the eccentric shaft 160 from one side of the support block 110. The support block extension 171 may be integrally formed with the support block 110, and may be coupled to the support block 110 by a separate fastening means.

상기 편심롤러 지지부(173)는 편심롤러부재(163)가 내부에 삽입되게 상기 지지블록 연장부(171)에 관통 형성될 수 있다. 이러한 편심롤러 지지부(173)는 길이를 가지는 장공일 수 있다. 다시 말해 편심롤러 지지부(173)는 지지블록(110)의 변위방향과 교차하는 방향을 따라 길게 형성되는 장공일 수 있다.The eccentric roller support part 173 may be formed through the support block extension part 171 so that the eccentric roller member 163 is inserted therein. The eccentric roller support 173 may be a long hole having a length. In other words, the eccentric roller support part 173 may be a long hole formed long along a direction crossing the displacement direction of the support block 110.

또한 상기 장공 구조의 편심롤러 지지부(173)는 편심롤러부재(163)의 외주면과 접촉하는 제1 접촉부(173a)와, 편심롤러부재(163)를 사이에 두고 상기 제1 접촉부(173a)를 대향하는 제2 접촉부(173b)를 구비할 수 있다.In addition, the eccentric roller support portion 173 of the long hole structure faces the first contact portion 173a in contact with the outer peripheral surface of the eccentric roller member 163 and the first contact portion 173a with the eccentric roller member 163 interposed therebetween. A second contact portion 173b may be provided.

이때 상기 제1 접촉부(173a)와 상기 제2 접촉부(173b)는 편심롤러부재(163)의 외주면에 동시 접촉되도록 편심롤러부재(163)의 직경에 상응하는 사이 간격을 갖도록 마련될 수 있다.In this case, the first contact portion 173a and the second contact portion 173b may be provided to have a gap corresponding to the diameter of the eccentric roller member 163 so as to simultaneously contact the outer peripheral surface of the eccentric roller member 163.

결국 도 5에 도시된 바와 같이 제1 접촉부(173a)는 편심롤러부재(163)의 상부 외주면과 접선의 접촉 상태를 유지할 수 있고, 제2 접촉부(173b)는 편심롤러부재(163)의 하부 외주면과 접선의 접촉 상태를 유지할 수 있다.As a result, as shown in FIG. 5, the first contact part 173a can maintain a contact state of the upper outer circumferential surface of the eccentric roller member 163 and the tangent line, and the second contact part 173b is the lower outer circumferential surface of the eccentric roller member 163 It can maintain the state of contact with the tangent line.

이를 통해 장공 구조의 편심롤러 지지부(173)는 일정한 회전 반경을 가지는 편심롤러부재(163)의 수평방향 이동은 허용하고, 편심롤러부재(163)의 수직방향 이동과는 연동될 수 있다.Through this, the eccentric roller support 173 having a long hole structure allows horizontal movement of the eccentric roller member 163 having a constant rotation radius, and may be interlocked with the vertical movement of the eccentric roller member 163.

상기 제1 접촉부(173a) 및 상기 제2 접촉부(173b)에는 구름 동작하는 편심롤러부재(163)의 원활한 이동이 확보되도록 미끄럼패드가 구비될 수 있다. 예를 들어 미끄럼패드는 구리 합금이나 알루미늄 합금 등 견고하고 내피로성이 우수한 합금이나 특수 금속을 코팅하여 제작될 수 있다.A sliding pad may be provided on the first contact portion 173a and the second contact portion 173b to ensure smooth movement of the eccentric roller member 163 that is rolling. For example, the sliding pad can be manufactured by coating a special metal or an alloy with excellent fatigue resistance, such as a copper alloy or an aluminum alloy.

가이드부재(180)는 지지블록(110)의 슬라이드 이동을 안내하는 부재로써, 간격조절이 요구되는 기판처리유닛의 이동방향을 따라 길게 배치될 수 있다.The guide member 180 is a member that guides the slide movement of the support block 110 and may be elongated along the moving direction of the substrate processing unit requiring an interval adjustment.

또한 상기 가이드부재(180)는 챔버 내벽(121)에 설치된 가이드부재 고정브래킷(121b)에 고정될 수 있다.In addition, the guide member 180 may be fixed to the guide member fixing bracket 121b installed on the inner wall 121 of the chamber.

또한 상기 가이드부재(180)는 지지블록(110)의 가이드홀(113)을 관통하는 한 쌍의 봉 부재로 이루어질 수 있다.In addition, the guide member 180 may be formed of a pair of rod members passing through the guide hole 113 of the support block 110.

이하 본 발명에 따른 간격조절장치의 작동을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of the space control device according to the present invention will be described.

구동부(130)를 회전 작동시키면, 동력전달부(140)에 의해 일정 감속비로 감속된 회전수로 메인샤프트(150)는 회전된다.When the driving unit 130 is rotated, the main shaft 150 is rotated at the number of rotations decelerated by a constant reduction ratio by the power transmission unit 140.

이와 동시 메인샤프트(150)로부터 편심된 편심샤프트(160) 역시 메인샤프트(150)의 회전 중심으로부터 일정 반경을 가지며 회전된다.At the same time, the eccentric shaft 160 eccentric from the main shaft 150 is also rotated with a predetermined radius from the rotation center of the main shaft 150.

이와 동시 지지블록(110)은 팔로워부재(170)에 의하여 편심샤프트(160)의 수직방향 변위에 연동하여 승하강 이동된다.At the same time, the support block 110 is moved up and down in association with the vertical displacement of the eccentric shaft 160 by the follower member 170.

상세하게 장공 구조의 편심롤러 지지부(173)는 수직방향으로 배치된 제1 접촉부(173a)와 제2 접촉부(173b)가 편심롤러부재(163)의 상부 외주면과 하부 외주면에 각각 접촉되어 있기 때문에, 편심롤러부재(163)의 수평방향 변위는 슬립시키고, 편심롤러부재(163)의 수직방향 변위와 연동하게 된다.In detail, since the eccentric roller support portion 173 of the long hole structure is in contact with the upper outer peripheral surface and the lower outer peripheral surface of the eccentric roller member 163, the first contact portion 173a and the second contact portion 173b arranged in the vertical direction, The horizontal displacement of the eccentric roller member 163 slips, and is interlocked with the vertical displacement of the eccentric roller member 163.

이로써 지지블록(110)은 가이드부재(180)를 따라 승하강 이동되며, 기판처리유닛을 함께 이동시킨다.Accordingly, the support block 110 is moved up and down along the guide member 180 and moves the substrate processing unit together.

예를 들어 도 5를 참조하면 메인샤프트(150)와 함께 편심샤프트(160)가 반시계방향으로 회전되는 중, 편심샤프트(160)가 메인샤프트(150)의 수직 상측에 위치할 시, 지지블록(110)은 최고 높이를 유지한다.For example, referring to FIG. 5, when the eccentric shaft 160 is rotated counterclockwise together with the main shaft 150, when the eccentric shaft 160 is positioned vertically above the main shaft 150, the support block (110) remains at its highest height.

계속해서 메인샤프트(150)와 함께 편심샤프트(160)가 반시계방향으로 회전되는 중, 편심샤프트(160)가 메인샤프트(150)의 수직 하측에 위치할 시, 지지블록(110)은 최저 높이를 유지한다.While the eccentric shaft 160 with the main shaft 150 is continuously rotated counterclockwise, when the eccentric shaft 160 is positioned vertically below the main shaft 150, the support block 110 is at the lowest height. Keep it.

결과적으로 편심샤프트(160)의 회전 정도에 따라 지지블록(110)의 높이를 조절할 수 있고, 기판처리유닛의 원하는 위치를 미세하게 조절 및 설정할 수 있다.As a result, the height of the support block 110 can be adjusted according to the degree of rotation of the eccentric shaft 160, and a desired position of the substrate processing unit can be finely adjusted and set.

상기 지지블록(110)의 높이조절범위는 메인샤프트(150)에 편심샤프트(160)가 얼마만큼 편심된 것이냐에 따라 규정될 수 있다. 결국 기판처리유닛마다 요구되는 간격조절범위를 고려하여 메인샤프트(150)에 대한 편심샤프트(160)의 편심 정도는 다양하게 설계 변경될 수 있다.The height adjustment range of the support block 110 may be defined according to how much eccentric shaft 160 is eccentric to the main shaft 150. As a result, the degree of eccentricity of the eccentric shaft 160 with respect to the main shaft 150 may be variously designed and changed in consideration of the distance adjustment range required for each substrate processing unit.

한편 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보이는 도면이다.Meanwhile, FIG. 6 is a view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면 실시예로 도시된 기판처리장치는 롤러브러시를 이용한 기판세정장치를 보이고 있다.Referring to FIG. 6, the substrate processing apparatus shown as an embodiment shows a substrate cleaning apparatus using a roller brush.

도시된 바와 같이 기판 세정을 위한 롤러브러시(20)는 기판이 통과할 수 있도록 서로 이격되게 배치되는 상측 롤러브러시(21) 및 하측 롤러브러시(23)를 포함할 수 있다. 또한 기판이 이송되는 방향을 따라 상측 롤러브러시(21)는 2열 이상으로 배치될 수 있고, 하측 롤러브러시(23) 역시 2열 이상으로 배치될 수 있다.As shown, the roller brush 20 for cleaning the substrate may include an upper roller brush 21 and a lower roller brush 23 that are disposed to be spaced apart from each other so that the substrate can pass. In addition, the upper roller brushes 21 may be disposed in two or more rows along the direction in which the substrate is transferred, and the lower roller brushes 23 may also be disposed in two or more rows.

또한 이와 달리 롤러브러시(20)는 상측 롤러브러시(21)만으로 구성될 수도 있고, 하측 롤러브러시(23)만으로 구성될 수도 있다.Also, unlike this, the roller brush 20 may be composed of only the upper roller brush 21, or may be composed of only the lower roller brush 23.

상기 각 롤러브러시(20)의 양측 단부를 지지하기 위해서는 기본적으로 한 쌍의 지지블록(110)이 구비되며, 이러한 한 쌍의 지지블록(110)에는 전술한 승하강유닛(100)이 구비될 수 있다.In order to support both ends of each roller brush 20, a pair of support blocks 110 are basically provided, and the above-described elevating unit 100 may be provided on the pair of support blocks 110. have.

상기 각 승하강유닛(100)은 앞서 설명한 승하강유닛(100)과 거의 동일하게 구성되는 것으로, 관련한 중복 설명은 생략한다.Each of the elevating units 100 is configured almost the same as the elevating unit 100 described above, and a redundant description thereof will be omitted.

한편 상기와 같이 하나의 롤러브러시(20)를 이동시키기 위해 롤러브러시(20)의 양단부에 한 쌍의 승하강유닛(100)을 구성하는 경우, 하나의 구동원으로 상기 한 쌍의 승하강유닛(100) 측으로 동일한 구동력을 제공할 수 있다.Meanwhile, in the case of configuring a pair of elevating units 100 at both ends of the roller brush 20 to move one roller brush 20 as described above, the pair of elevating units 100 as a single driving source ) Can provide the same driving force.

도 7은 도 6에 도시된 기판처리장치에 있어서, 기판 처리 공간을 사이에 두고 양쪽에 배치되는 승하강유닛 중 한쪽의 승하강유닛을 나타낸 측면 예시도이다.FIG. 7 is an exemplary side view illustrating one of the lifting units disposed on both sides of the substrate processing apparatus shown in FIG. 6 with a substrate processing space therebetween.

도 6 및 도 7을 참조하면 본 발명에 따른 기판처리장치는 롤러브러시(20)의 양단부에 배치되는 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")의 구동력을 동기화시키기 위한 연결샤프트(159)를 포함할 수 있다.6 and 7, the substrate processing apparatus according to the present invention is a connection shaft 159 for synchronizing the driving force of a pair of lifting and lowering units 100 and 100" disposed at both ends of the roller brush 20 It may include.

상기 연결샤프트(159)는 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")에 각각 마련된 메인샤프트(150)를 서로 연결하도록 마련될 수 있다.The connection shaft 159 may be provided to connect the main shaft 150 provided in each of the pair of lifting units 100 and 100" to each other.

즉, 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")은 상기 연결샤프트(159)를 매개로 메인샤프트(150)가 서로 연동하여 회전되기 때문에, 한 쌍의 승하강유닛(100)(100") 중 한쪽 승하강유닛(100)에만 구동부(130)가 배치될 수 있고, 도 7에 도시된 바와 같이 나머지 다른 승하강유닛(100")에는 구동부(130) 및 동력전달부(140)가 배제될 수 있다.That is, since the pair of elevating units 100 and 100" rotates in conjunction with each other through the connection shaft 159, the pair of elevating units 100 and 100" ) The driving unit 130 may be disposed only on one of the elevating units 100, and the driving unit 130 and the power transmission unit 140 are excluded from the other elevating units 100" as shown in FIG. 7 Can be.

이와 같이 연결샤프트(159)를 통하여 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")의 구동을 동기화함으로써, 일측에 배치된 구동부(130)를 작동시키는 것만으로도 롤러브러시(20)를 지지하는 양측 지지블록(110)의 위치를 동일하게 미세 조정할 수 있다.In this way, by synchronizing the driving of the pair of lifting and lowering units 100 and 100" through the connection shaft 159, it is possible to support the roller brush 20 just by operating the driving unit 130 disposed on one side. The positions of both support blocks 110 can be finely adjusted in the same way.

또한 기판의 폭 방향을 따라 길게 배치되는 롤러브러시(20)와 기판과의 사이 간격을 보다 균일하게 설정할 수 있다.In addition, the distance between the roller brush 20 and the substrate disposed longer along the width direction of the substrate may be more uniformly set.

한편 상기와 같이 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")을 연결샤프트(159)로 연결하기 위하여, 챔버 내벽(121)을 관통하여 기판 세정 공간으로 연장되는 메인샤프트(150) 상에는 별도의 기밀수단이 구비될 수 있다.Meanwhile, in order to connect the pair of lifting and lowering units 100 and 100 ″ to the connection shaft 159 as described above, there is a separate on the main shaft 150 extending through the inner wall 121 of the chamber to the substrate cleaning space. An airtight means may be provided.

즉, 챔버 내벽(121)을 관통하는 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)과 메인샤프트(150) 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재(155)와, 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)을 향해 상기 실링부재(155)를 가압하여 고정시키는 칼라부재(157)를 포함할 수 있다.That is, it is coupled to the main shaft 150 penetrating the chamber inner wall 121 and is coupled to the sealing member 155 for maintaining airtightness between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150, and the main shaft 150 And may include a collar member 157 that presses and fixes the sealing member 155 toward the chamber inner wall 121.

이와 같이 실링부재(155)와 칼라부재(157)는 메인샤프트(150)에 연결샤프트(159)를 연결하기 전에 상기 메인샤프트(150)에 미리 체결할 수 있다.As described above, the sealing member 155 and the collar member 157 may be pre-fastened to the main shaft 150 before connecting the connection shaft 159 to the main shaft 150.

이와 같이 챔버 내벽(121)과 세정 공간 내측으로 연장 배치되는 메인샤프트(150)의 사이에 실링부재(155)와 칼라부재(157)를 체결함으로써, 챔버 내벽(121)과 메인샤프트(150) 사이 틈새로 외부 이물질이 유입되거나 세정액이 유출되는 것을 방지할 수 있다.In this way, by fastening the sealing member 155 and the collar member 157 between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150 extending into the cleaning space, between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150 It is possible to prevent foreign substances from flowing into the gap or the outflow of cleaning liquid.

이상과 같이 본 발명에 따른 간격조절장치는 편심샤프트(160)의 회전 정도에 따라 팔로워부재(170)의 수직방향 변위를 구현하는 승하강유닛(100)을 통하여, 기판처리유닛의 미세한 위치조정이 가능하고, 이로부터 다양한 종류의 기판, 다양한 패턴을 가지는 기판, 및 다양한 종류의 기판처리유닛에 대응하여 해당 기판에 대한 기판처리유닛의 설정위치를 항상 최적의 상태로 세팅할 수 있다.As described above, through the elevating unit 100 implementing the vertical displacement of the follower member 170 according to the degree of rotation of the eccentric shaft 160, the space adjusting device according to the present invention enables fine positioning of the substrate processing unit. It is possible, and from this, it is possible to always set the setting position of the substrate processing unit with respect to the substrate in an optimal state in correspondence with various types of substrates, substrates having various patterns, and various types of substrate processing units.

또한 본 발명에 따른 간격조절장치는 편심샤프트(160)와 팔로워부재(170)로 이루어지는 단순 구조의 승하강유닛(100)을 통하여, 장치의 소형화가 가능하고, 기존 기판처리유닛 및 기판처리공간을 점유하지 않고도 장치의 제작 및 설치가 용이하다.In addition, the spacing control device according to the present invention is capable of miniaturization of the device through the elevating unit 100 of a simple structure consisting of an eccentric shaft 160 and a follower member 170, and the existing substrate processing unit and the substrate processing space. It is easy to manufacture and install the device without occupying it.

또한 본 발명에 따른 간격조절장치는 기판 세정을 위한 롤러브러시(20)에 적용될 경우, 롤러브러시(20) 및 세정공간을 점유하지 않고도 간격조절장치의 제작 및 설치가 용이하고, 세정되는 기판의 종류나 롤러브러시(20)의 사용주기 등을 고려하여 기판과 롤러브러시(20)의 설정간격을 정확하게 유지시킬 수 있고, 이로써 기판의 세정 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, when the gap control device according to the present invention is applied to the roller brush 20 for cleaning a substrate, it is easy to manufacture and install the gap control device without occupying the roller brush 20 and the cleaning space, and the type of substrate to be cleaned B. Considering the usage period of the roller brush 20, the set distance between the substrate and the roller brush 20 can be accurately maintained, thereby improving the cleaning efficiency of the substrate.

상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.As described above, preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the drawings, but those skilled in the art will variously modify the present invention within the scope not departing from the spirit and scope of the present invention described in the following claims. Can be modified or changed.

20: 롤러브러시 21: 상측 롤러브러시
23: 하측 롤러브러시 100,100": 승하강유닛
110: 지지블록 120: 고정프레임
130: 구동부 140: 동력전달부
150: 메인샤프트 159: 연결샤프트
160: 편심샤프트 161: 편심샤프트부재
163: 편심롤러부재 170: 팔로워부재
173: 편심롤러 지지부 180: 가이드부재20: roller brush 21: upper roller brush
23: lower roller brush 100,100": elevating unit
110: support block 120: fixed frame
130: drive unit 140: power transmission unit
150: main shaft 159: connecting shaft
160: eccentric shaft 161: eccentric shaft member
163: eccentric roller member 170: follower member
173: eccentric roller support 180: guide member

Claims (11)

기판처리유닛을 지지하는 지지블록; 및
상기 지지블록을 승하강시키기 위한 승하강유닛;을 포함하고,
상기 승하강유닛은,
구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트;
상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트;
상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되어 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및
상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.A support block for supporting the substrate processing unit; And
Including; an elevating unit for elevating and lowering the support block,
The elevating unit,
A main shaft rotated by receiving the driving force of the driving unit;
An eccentric shaft coupled to the main shaft in an eccentric state;
A follower member provided on the support block so as to be in contact with the outer circumferential surface of the eccentric shaft to raise and lower the support block when the eccentric shaft rotates; And
And a guide member that guides the vertical movement of the support block. 제1항에 있어서,
상기 편심샤프트는,
상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트부재; 및
상기 편심샤프트부재의 외주면에 회전 가능하게 결합되는 편심롤러부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.The method of claim 1,
The eccentric shaft,
An eccentric shaft member axially coupled to the main shaft in an eccentric state; And
And an eccentric roller member rotatably coupled to an outer circumferential surface of the eccentric shaft member. 제2항에 있어서,
상기 팔로워부재는,
상기 지지블록에 결합되는 지지블록 연장부; 및
상기 편심롤러부재가 내부에 삽입되게 상기 지지블록 연장부에 형성되는 장공 구조의 편심롤러 지지부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.The method of claim 2,
The follower member,
A support block extension part coupled to the support block; And
And an eccentric roller support part having a long hole structure formed on the support block extension part so that the eccentric roller member is inserted therein. 제3항에 있어서,
상기 편심롤러 지지부는,
상기 편심롤러부재의 외주면과 접촉하는 제1 접촉부; 및
상기 제1 접촉부를 대향하는 제2 접촉부;를 포함하고,
상기 제1 접촉부 및 상기 제2 접촉부는 상기 편심롤러부재의 외주면에 동시에 접촉되도록 상기 편심롤러부재의 직경에 상응하는 사이 간격을 갖도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.The method of claim 3,
The eccentric roller support part,
A first contact portion in contact with an outer peripheral surface of the eccentric roller member; And
Including; a second contact portion facing the first contact portion,
And the first contact portion and the second contact portion are arranged to have an interval corresponding to the diameter of the eccentric roller member so as to simultaneously contact the outer peripheral surface of the eccentric roller member. 제1항에 있어서,
연결브래킷을 매개로 챔버 내벽으로부터 이격되게 배치되는 지지프레임을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.The method of claim 1,
A space control device for a substrate processing unit, comprising a support frame disposed to be spaced apart from the inner wall of the chamber via a connection bracket. 제5항에 있어서,
상기 메인샤프트는,
상기 지지프레임을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 구동부와 연결되고, 타단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제1 메인샤프트; 및
상기 챔버 내벽을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제2 메인샤프트;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.The method of claim 5,
The main shaft,
A first main shaft which penetrates through the support frame and is rotatably supported, one end connected to the driving part, and the other end connected to the eccentric shaft; And
And a second main shaft which penetrates the inner wall of the chamber and is rotatably supported, and has one end connected to the eccentric shaft. 제1항에 있어서,
상기 승하강유닛은, 상기 구동부와 상기 메인샤프트를 연결하며 상기 구동부의 구동력을 상기 메인샤프트로 전달하는 동력전달부;를 더 포함하고,
상기 동력전달부는,
상기 구동부의 출력단과 축 결합되는 제1 기어; 및
상기 제1 기어와 기어 결합되며 상기 메인샤프트와 축 결합되는 제2 기어;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.The method of claim 1,
The elevating unit further includes a power transmission unit connecting the driving unit and the main shaft and transmitting the driving force of the driving unit to the main shaft,
The power transmission unit,
A first gear axially coupled to the output end of the driving unit; And
And a second gear coupled to the first gear and axially coupled to the main shaft. 기판처리유닛의 양단부를 지지하는 한 쌍의 지지블록;
상기 한 쌍의 지지블록을 승하강시키기 위한 한 쌍의 승하강유닛; 및
상기 승하강유닛이 설치되며, 기판이 처리되는 공간으로부터 상기 승하강유닛이 오염되는 것을 방지하기 위한 챔버 내벽을 갖는 챔버;를 포함하고,
상기 각 승하강유닛은,
구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트;
상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트;
상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되는 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및
상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.A pair of support blocks supporting both ends of the substrate processing unit;
A pair of elevating units for elevating the pair of support blocks; And
Including; a chamber in which the elevating unit is installed and having an inner wall of the chamber for preventing contamination of the elevating unit from the space where the substrate is processed,
Each of the elevating units,
A main shaft rotated by receiving the driving force of the driving unit;
An eccentric shaft coupled to the main shaft in an eccentric state;
A follower member for raising and lowering the support block when the eccentric shaft provided on the support block is rotated to come into contact with the outer circumferential surface of the eccentric shaft; And
And a guide member for guiding the vertical movement of the support block. 제8항에 있어서,
상기 기판처리유닛은,
기판이 통과할 수 있도록 서로 이격되게 배치되는 상측 롤러브러시 및 하측 롤러브러시를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 8,
The substrate processing unit,
A substrate processing apparatus comprising an upper roller brush and a lower roller brush that are spaced apart from each other so that the substrate can pass therethrough. 제8항에 있어서,
상기 한 쌍의 승하강유닛에 각각 마련된 상기 메인샤프트를 서로 연결하며, 상기 한 쌍의 승하강유닛의 구동력을 동기화시키는 연결샤프트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 8,
And a connection shaft that connects the main shafts respectively provided in the pair of elevating units to each other, and synchronizing driving force of the pair of elevating units. 제8항에 있어서,
상기 챔버 내벽을 관통하는 상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽과 상기 메인샤프트 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재; 및
상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽을 향해 상기 실링부재를 가압 고정시키기 위한 칼라부재;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 8,
A sealing member coupled to the main shaft penetrating the inner wall of the chamber and maintaining airtightness between the inner wall of the chamber and the main shaft; And
And a collar member coupled to the main shaft and for pressing and fixing the sealing member toward the inner wall of the chamber.
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