KR102634033B1 - Apparatus for adjusting gap of substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 향하는 기판처리유닛의 위치를 미세 조절함으로써, 기판 처리를 효율적으로 수행할 수 있는 기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치를 제공함에 있다. 이를 위한 본 발명은 기판처리유닛을 지지하는 지지블록; 및 상기 지지블록을 승하강시키기 위한 승하강유닛을 포함하고, 상기 승하강유닛은, 구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트; 상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트; 상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되어 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및 상기 지지블록의 이동을 안내하는 가이드부재를 포함하는 특징을 개시한다.The present invention provides a device for adjusting the spacing of a substrate processing unit that can efficiently process a substrate by finely adjusting the position of the substrate processing unit facing the substrate, and a substrate processing device using the same. The present invention for this purpose includes a support block supporting a substrate processing unit; and a lifting and lowering unit for raising and lowering the support block, wherein the lifting and lowering unit includes a main shaft that rotates by receiving the driving force of the driving unit; An eccentric shaft axially coupled to the main shaft; A follower member provided on the support block in contact with the outer peripheral surface of the eccentric shaft to raise and lower the support block when the eccentric shaft rotates; and a guide member that guides the movement of the support block.

Description

기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치{APPARATUS FOR ADJUSTING GAP OF SUBSTRATE PROCESSING UNIT AND　SUBSTRATE PROCESSING　APPARATUS USING THE SAME}Gap adjustment device for substrate processing unit and substrate processing device using the same

본 발명은 기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치에 관한 것으로, 상세하게는 기판과 기판을 향하는 기판처리유닛 사이의 간격을 조절하여, 기판처리 공정을 보다 효율적으로 수행할 수 있도록 하는 기판처리유닛의 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for adjusting the spacing of a substrate processing unit and a substrate processing device using the same. Specifically, the present invention relates to a device for adjusting the spacing between a substrate and a substrate processing unit facing the substrate, so that the substrate processing process can be performed more efficiently. It relates to a spacing adjustment device for a substrate processing unit and a substrate processing device using the same.

디스플레이 제조에 사용되는 기판은 증착, 패턴 형성, 식각, 화학적 기계적 연마, 세정, 건조 등과 같은 다양한 종류의 기판처리 공정을 거치면서 제조된다.Substrates used in display manufacturing are manufactured through various types of substrate processing processes such as deposition, pattern formation, etching, chemical and mechanical polishing, cleaning, and drying.

이러한 다양한 종류의 기판처리 공정 중, 특히 기판에 대한 연마, 세정, 건조 등의 공정을 위해서는 기판연마유닛, 기판세정유닛, 기판건조유닛, 기판코팅유닛 등 실질적으로 작업을 수행할 기판처리유닛의 정확한 위치세팅이 우선적으로 요구된다.Among these various types of substrate processing processes, especially for processes such as polishing, cleaning, and drying of substrates, it is necessary to use accurate substrate processing units such as substrate polishing units, substrate cleaning units, substrate drying units, and substrate coating units to actually perform the work. Location setting is required first.

이와 같이 기판을 향하는 기판처리유닛과 기판과의 간격 설정은, 대상 기판의 종류뿐만 아니라, 공정의 종류 및 기판처리유닛의 종류에 따라 최적의 간격이 설정되어야 하고, 이렇게 설정된 간격은 기판처리 공정 중에도 계속해서 최적의 간격이 얼마나 정확하게 유지되는지에 따라 효율적인 기판처리와 제조되는 기판의 수율을 향상시킬 수 있다.In this way, the optimal spacing between the substrate processing unit and the substrate facing the substrate must be set according to the type of process and the type of substrate processing unit as well as the type of target substrate, and the distance set in this way must be set even during the substrate processing process. Depending on how accurately the optimal spacing is maintained, efficient substrate processing and yield of manufactured substrates can be improved.

일예로 세정 공정은 기판 상의 오염 입자를 제거하는 공정으로, 롤러브러시를 이용한 세정 방법이 널리 사용되고 있는데, 세정액을 기판 상에 분사하는 동시에 기판을 향해 롤러브러시를 가압 회전시킴에 따라 기판 표면의 오염물질을 제거하게 된다.For example, the cleaning process is a process of removing contaminant particles on the substrate, and a cleaning method using a roller brush is widely used. By spraying the cleaning liquid onto the substrate and simultaneously pressing and rotating the roller brush toward the substrate, contaminants on the substrate surface are removed. will be removed.

결국 원하는 세정 효과를 충분히 얻기 위해서는 롤러브러시와 기판 사이의 접촉량이 정확하게 세팅되어야 한다.Ultimately, in order to achieve the desired cleaning effect, the amount of contact between the roller brush and the substrate must be set accurately.

또한 처리되는 기판의 종류 및 패턴이 변경되는 경우에는 해당 기판에 상응하게 롤러브러시의 간격을 재설정해 주어야 하고, 롤러브러시의 사용주기 등을 고려하여 세정 공정 중에도 필요에 따라 기판과 롤러브러시 사이 간격을 새롭게 재설정해 주어야하는 상황이 발생될 수 있다.In addition, if the type and pattern of the substrate being processed changes, the gap between the roller brushes must be reset to correspond to the substrate in question, and the gap between the substrate and the roller brush must be adjusted as necessary during the cleaning process, taking into account the usage cycle of the roller brush, etc. A situation may arise where a new reset is required.

또한 일반적으로 롤러브러시 뿐만 아니라 각종 기판처리유닛에 간격조절장치를 부가하기 위해서는 기판처리 공간의 청정도를 고려하여 기판처리 공간과는 분리된 외부공간에 간격조절장치를 설치하게 되는데, 이를 만족하기 위해서는 불필요하게 장비가 복잡해지는 등의 전반적으로 그 설치에 어려움이 발생되었다.In addition, in general, in order to add a gap adjustment device not only to roller brushes but also to various substrate processing units, the gap adjustment device is installed in an external space separate from the substrate processing space in consideration of the cleanliness of the substrate processing space, but it is not necessary to satisfy this requirement. As the equipment became more complex, difficulties arose in overall installation.

대한민국 등록특허공보 제10-1103827호(2012.01.06.공고)Republic of Korea Patent Publication No. 10-1103827 (announced on January 6, 2012)

본 발명의 목적은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 기판을 향하는 기판처리유닛의 위치를 미세 조절함으로써, 기판 처리를 효율적으로 수행할 수 있는 기판처리유닛의 간격조절장치를 제공함에 있다.The purpose of the present invention is to solve the conventional problems, and the present invention provides a spacing adjustment device for the substrate processing unit that can efficiently perform substrate processing by finely adjusting the position of the substrate processing unit facing the substrate. .

또한 본 발명은 기판 세정을 위한 롤러브러시의 위치를 미세하게 조절함으로써, 다양한 종류의 기판에 대한 세정효율을 향상시킬 수 있는 기판처리장치를 제공함에 있다.In addition, the present invention provides a substrate processing device that can improve cleaning efficiency for various types of substrates by finely adjusting the position of the roller brush for substrate cleaning.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치는, 기판처리유닛을 지지하는 지지블록; 및 상기 지지블록을 승하강시키기 위한 승하강유닛을 포함하고, 상기 승하강유닛은, 구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트; 상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트; 상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되어 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및 상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the object of the present invention described above, a spacing adjustment device for a substrate processing unit according to the present invention includes a support block supporting the substrate processing unit; and a lifting and lowering unit for raising and lowering the support block, wherein the lifting and lowering unit includes a main shaft that rotates by receiving the driving force of the driving unit; An eccentric shaft axially coupled to the main shaft; A follower member provided on the support block in contact with the outer peripheral surface of the eccentric shaft to raise and lower the support block when the eccentric shaft rotates; and a guide member that guides the vertical movement of the support block.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 편심샤프트는, 상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트부재; 및 상기 편심샤프트부재의 외주면에 회전 가능하게 결합되는 편심롤러부재를 포함할 수 있다.In addition, in the spacing adjustment device of the substrate processing unit according to the present invention, the eccentric shaft includes: an eccentric shaft member axially coupled to the main shaft in an eccentric state; And it may include an eccentric roller member rotatably coupled to the outer peripheral surface of the eccentric shaft member.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 팔로워부재는, 상기 지지블록에 결합되는 지지블록 연장부; 및 상기 편심롤러부재가 내부에 삽입되게 상기 지지블록 연장부에 형성되는 장공 구조의 편심롤러 지지부를 포함할 수 있다.In addition, in the spacing adjustment device of the substrate processing unit according to the present invention, the follower member includes: a support block extension coupled to the support block; And it may include an eccentric roller support portion having a long hole structure formed on the support block extension portion so that the eccentric roller member is inserted therein.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 편심롤러 지지부는, 상기 편심롤러부재의 외주면과 접촉하는 제1 접촉부; 및 상기 제1 접촉부를 대향하는 제2 접촉부를 포함하고, 상기 제1 접촉부 및 상기 제2 접촉부는 상기 편심롤러부재의 외주면에 동시에 접촉되도록 상기 편심롤러부재의 직경에 상응하는 사이 간격을 갖도록 배치될 수 있다.In addition, in the spacing adjustment device of the substrate processing unit according to the present invention, the eccentric roller support portion includes a first contact portion contacting the outer peripheral surface of the eccentric roller member; and a second contact part facing the first contact part, wherein the first contact part and the second contact part are arranged to have a gap corresponding to the diameter of the eccentric roller member so as to simultaneously contact the outer peripheral surface of the eccentric roller member. You can.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 연결브래킷을 매개로 챔버 내벽으로부터 이격되게 배치되는 지지프레임을 포함할 수 있다.Additionally, the apparatus for adjusting the spacing of the substrate processing unit according to the present invention may include a support frame disposed to be spaced apart from the inner wall of the chamber via a connection bracket.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 메인샤프트는, 상기 지지프레임을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 구동부와 연결되고, 타단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제1 메인샤프트; 및 상기 챔버 내벽을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제2 메인샤프트를 포함할 수 있다.In addition, in the spacing adjustment device of the substrate processing unit according to the present invention, the main shaft is rotatably supported through the support frame, one end is connected to the driving unit, and the other end is connected to the eccentric shaft. main shaft; And it may include a second main shaft that penetrates the inner wall of the chamber and is rotatably supported, and one end of which is connected to the eccentric shaft.

또한 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치에 있어서, 상기 승하강유닛은, 상기 구동부와 상기 메인샤프트를 연결하며 상기 구동부의 구동력을 상기 메인샤프트로 전달하는 동력전달부를 포함할 수 있고, 이때 상기 동력전달부는, 상기 구동부의 출력단과 축 결합되는 제1 기어; 및 상기 제1 기어와 기어 결합되며 상기 메인샤프트와 축 결합되는 제2 기어를 포함할 수 있다.In addition, in the apparatus for adjusting the spacing of the substrate processing unit according to the present invention, the raising and lowering unit may include a power transmission unit that connects the driving unit and the main shaft and transmits the driving force of the driving unit to the main shaft. The power transmission unit includes a first gear axially coupled to the output end of the drive unit; And it may include a second gear gear-coupled with the first gear and axially coupled with the main shaft.

한편 본 발명에 따른 기판처리장치는, 기판처리유닛의 양단부를 지지하는 한 쌍의 지지블록; 상기 한 쌍의 지지블록을 승하강시키기 위한 한 쌍의 승하강유닛; 및 상기 승하강유닛이 설치되며, 기판이 처리되는 공간으로부터 상기 승하강유닛이 오염되는 것을 방지하기 위한 챔버 내벽을 갖는 챔버를 포함하고, 상기 각 승하강유닛은, 구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트; 상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트; 상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되는 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및 상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재를 포함하는 것도 특징으로 한다.Meanwhile, the substrate processing apparatus according to the present invention includes a pair of support blocks supporting both ends of the substrate processing unit; A pair of raising and lowering units for raising and lowering the pair of support blocks; And a chamber in which the lifting and lowering unit is installed and has an inner wall of the chamber to prevent the lifting and lowering unit from being contaminated from the space where the substrate is processed, wherein each lifting and lowering unit is rotated by receiving the driving force of the driving unit. main shaft; An eccentric shaft axially coupled to the main shaft; a follower member that raises and lowers the support block when the eccentric shaft rotates, provided on the support block in contact with the outer peripheral surface of the eccentric shaft; And it is also characterized by including a guide member that guides the vertical movement of the support block.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치에 있어서, 상기 기판처리유닛은, 기판이 통과할 수 있도록 서로 이격되게 배치되는 상측 롤러브러시 및 하측 롤러브러시를 포함하는 것일 수 있다.Additionally, in the substrate processing apparatus according to the present invention, the substrate processing unit may include an upper roller brush and a lower roller brush that are spaced apart from each other to allow the substrate to pass.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치에 있어서, 상기 한 쌍의 승하강유닛에 각각 마련된 상기 메인샤프트를 서로 연결하며, 상기 한 쌍의 승하강유닛의 구동력을 동기화시키는 연결샤프트를 포함할 수도 있다.In addition, in the substrate processing apparatus according to the present invention, the main shaft provided in each of the pair of lifting and lowering units is connected to each other, and may include a connecting shaft that synchronizes the driving force of the pair of lifting and lowering units.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치에 있어서, 상기 챔버 내벽을 관통하는 상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽과 상기 메인샤프트 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재; 및 상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽을 향해 상기 실링부재를 가압 고정시키기 위한 칼라부재를 더 포함할 수도 있다.Additionally, in the substrate processing apparatus according to the present invention, a sealing member coupled to the main shaft penetrating the inner wall of the chamber and maintaining airtightness between the inner wall of the chamber and the main shaft; And it is coupled to the main shaft and may further include a collar member for pressing and fixing the sealing member toward the inner wall of the chamber.

본 발명에 따른 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치는, 편심샤프트의 회전 정도에 따라 팔로워부재의 수직방향 변위를 구현하는 승하강유닛을 통하여, 기판에 대한 기판처리유닛의 미세한 위치조정이 가능하고, 이로부터 다양한 종류나 패턴을 가지는 기판 및 다양한 기판처리유닛에 대응하여 기판처리유닛의 위치를 항상 최적의 상태로 세팅할 수 있는 이점이 있다.The spacing adjusting device and the substrate processing device using the same according to the present invention enable fine positioning of the substrate processing unit with respect to the substrate through a raising and lowering unit that implements vertical displacement of the follower member according to the degree of rotation of the eccentric shaft. , there is an advantage that the position of the substrate processing unit can always be set to the optimal state in response to substrates of various types or patterns and various substrate processing units.

또한 본 발명에 따른 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치는, 편심샤프트와 팔로워부재로 이루어지는 단순 구조의 승하강유닛을 통하여, 장치의 소형화가 가능하고, 기존 기판처리유닛 및 기판처리공간을 점유하지 않고도 장치의 제작 및 설치가 용이한 이점이 있다.In addition, the spacing adjusting device according to the present invention and the substrate processing device using the same enable miniaturization of the device through a simple lifting and lowering unit consisting of an eccentric shaft and a follower member, and do not occupy the existing substrate processing unit and substrate processing space. There is an advantage in that it is easy to manufacture and install the device.

특히 본 발명에 따른 간격조절장치 및 이를 이용한 기판처리장치는, 기판 세정을 위한 롤러브러시에 적용될 경우, 롤러브러시 및 세정공간을 점유하지 않고도 간격조절장치의 제작 및 설치가 용이하고, 세정되는 기판의 종류나 롤러브러시의 사용주기 등을 고려하여 기판과 롤러브러시의 설정간격을 정확하게 유지시킬 수 있으며, 이로써 기판의 세정 효율을 향상시킬 수 있다.In particular, when the spacing adjusting device according to the present invention and the substrate processing device using the same are applied to a roller brush for substrate cleaning, it is easy to manufacture and install the spacing adjusting device without occupying the roller brush and cleaning space, and it is easy to manufacture and install the spacing adjusting device without occupying the roller brush and cleaning space, Considering the type and usage cycle of the roller brush, the set interval between the substrate and the roller brush can be accurately maintained, thereby improving the cleaning efficiency of the substrate.

도 1은 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는 도 1의 분리 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 간격조절장치가 설치되는 구조를 설명하기 위한 분리 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 측면 예시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 간격조절장치의 작동을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 간격조절장치를 이용한 기판처리장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 7은 도 6에 도시된 기판처리장치에 이용된 간격조절장치를 설명하기 위한 측면 예시도이다.Figure 1 is a perspective view for explaining the spacing adjustment device according to the present invention.
Figure 2 is an exploded perspective view of Figure 1.
Figure 3 is an exploded perspective view to explain the structure in which the spacing adjustment device according to the present invention is installed.
Figure 4 is an exemplary side view for explaining the spacing adjustment device according to the present invention.
Figure 5 is a diagram for explaining the operation of the gap adjustment device according to the present invention.
Figure 6 is a perspective view for explaining a substrate processing apparatus using a gap adjusting device according to the present invention.
FIG. 7 is a side view illustrating a spacing adjustment device used in the substrate processing apparatus shown in FIG. 6.

이하 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention, in which the above-described problem to be solved can be concretely realized, will be described with reference to the attached drawings. In describing the present embodiments, the same names and the same symbols are used for the same components, and additional descriptions thereof are omitted.

도 1은 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 사시도이며, 도 2는 도 1의 분리 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 간격조절장치가 설치되는 구조를 설명하기 위한 분리 사시도이며, 도 4는 본 발명에 따른 간격조절장치를 설명하기 위한 측면 예시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 간격조절장치의 작동을 설명하기 위한 도면이다.Figure 1 is a perspective view for explaining the spacing adjustment device according to the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view of Figure 1, Figure 3 is an exploded perspective view for explaining the structure in which the spacing adjusting device according to the present invention is installed, Figure 4 is an exemplary side view for explaining the spacing adjustment device according to the present invention, and Figure 5 is a diagram for explaining the operation of the spacing adjusting device according to the present invention.

먼저 본 발명에 따른 간격조절장치가 적용되는 기판처리유닛은, 기판 제조 공정에서 기판을 처리하기 위한 다양한 종류의 유닛이 적용될 수 있다.First, the substrate processing unit to which the gap adjusting device according to the present invention is applied can be applied to various types of units for processing substrates in the substrate manufacturing process.

예를 들어 기판 세정을 위한 세정액분사유닛, 기판 세정을 위한 롤러브러시유닛, 기판 건조를 위한 에어분사유닛, 기판 건조를 위한 광조사유닛, 기판 코팅을 위한 약액도포유닛, 에어나이프 등이 적용될 수 있다. 이 외에도 본 발명에 따른 간격조절장치는 기판과 일정 간격이 요구되는 다양한 종류의 기판처리유닛에 선택적으로 적용될 수 있다.For example, a cleaning liquid injection unit for substrate cleaning, a roller brush unit for substrate cleaning, an air injection unit for substrate drying, a light irradiation unit for substrate drying, a chemical liquid application unit for substrate coating, an air knife, etc. may be applied. . In addition, the spacing adjusting device according to the present invention can be selectively applied to various types of substrate processing units that require a certain spacing from the substrate.

한편 본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치는 지지블록(110)을 포함할 수 있다.Meanwhile, the spacing adjustment device of the substrate processing unit according to the present invention may include a support block 110.

지지블록(110)은 상술한 기판처리유닛을 지지하기 위한 부재로써, 기판처리유닛을 고정시키기 위한 기판처리유닛 고정부(111)가 구비될 수 있다.The support block 110 is a member for supporting the above-described substrate processing unit, and may be provided with a substrate processing unit fixing part 111 for fixing the substrate processing unit.

상기 기판처리유닛 고정부(111)에는 기판처리유닛을 고정하기 위한 별도의 체결수단이 구비될 수 있다.The substrate processing unit fixing part 111 may be provided with a separate fastening means for fixing the substrate processing unit.

또한 상기 기판처리유닛 고정부(111)에는 베어링 등의 회전지지부가 구비될 수 있으며, 이를 통해 기판처리유닛을 회전 가능하게 지지할 수 있다. 예를 들어 기판처리유닛 고정부(111)에는 기판처리유닛의 구동축이 직접 결합될 수 있다.Additionally, the substrate processing unit fixing part 111 may be provided with a rotation support such as a bearing, through which the substrate processing unit can be rotatably supported. For example, the drive shaft of the substrate processing unit may be directly coupled to the substrate processing unit fixing part 111.

또한 상기 지지블록(110)에는 후술되는 승하강유닛(100)의 가이드부재(180)를 관통시키는 가이드홀(113)이 구비될 수 있다.In addition, the support block 110 may be provided with a guide hole 113 that penetrates the guide member 180 of the raising and lowering unit 100, which will be described later.

상기 가이드홀(113)의 내주면에는 상기 가이드부재(113)와의 마찰을 감소하고 지지블록(110)의 균일한 직선 이동이 확보되도록 부싱부재(185)가 구비될 수 있다. 상기 부싱부재(185)로는 볼 부시(Ball Bush)가 적용될 수 있다.A bushing member 185 may be provided on the inner peripheral surface of the guide hole 113 to reduce friction with the guide member 113 and ensure uniform linear movement of the support block 110. A ball bush may be applied as the bushing member 185.

이와 같은 지지블록(110)은 후술되는 승하강유닛(100)과 연결되어, 승하강유닛(100)의 작동에 따라 연동하여 이동되면서 기판처리유닛을 이동시킬 수 있다. 즉, 기판을 향해 기판처리유닛을 근접시키거나 이격시킬 수 있다.Such a support block 110 is connected to the lifting and lowering unit 100, which will be described later, and can move the substrate processing unit while moving in conjunction with the operation of the lifting and lowering unit 100. That is, the substrate processing units can be brought closer to or spaced apart from the substrate.

본 발명에 따른 기판처리유닛의 간격조절장치는, 상기 지지블록(110)을 승하강시키기 위한 승하강유닛(100)을 포함한다.The spacing adjustment device of the substrate processing unit according to the present invention includes a raising and lowering unit 100 for raising and lowering the support block 110.

승하강유닛(100)은 메인샤프트(150), 편심샤프트(160), 팔로워부재(170), 가이드부재(180)를 포함할 수 있다.The lifting and lowering unit 100 may include a main shaft 150, an eccentric shaft 160, a follower member 170, and a guide member 180.

먼저 도 3을 참조하면 상기 승하강유닛(100)은 챔버에 설치될 수 있다.First, referring to Figure 3, the lifting and lowering unit 100 may be installed in the chamber.

상기 챔버는 기판처리공간으로부터 상기 승하강유닛(100)이 완전히 분리되어 보호될 수 있도록 폐쇄 구조를 이룰 수 있다. 결국 기판이 처리되는 공간으로부터 상기 승하강유닛(100)이 오염되는 것을 방지할 수 있다.The chamber may have a closed structure so that the lifting and lowering unit 100 can be completely separated and protected from the substrate processing space. Ultimately, it is possible to prevent the lifting and lowering unit 100 from being contaminated from the space where the substrate is processed.

상기 챔버는 챔버 내벽(121)을 포함할 수 있으며, 상기 챔버 내벽(121)은 기판처리유닛을 통해 기판이 처리되는 공간과 승하강유닛(100)이 설치되는 공간이 분리되도록 플레이트 구조로 이루어질 수 있다.The chamber may include a chamber inner wall 121, and the chamber inner wall 121 may be formed of a plate structure to separate the space where the substrate is processed through the substrate processing unit and the space where the lifting and lowering unit 100 is installed. there is.

또한 상기 챔버 내벽(121)에는 챔버 내벽(121)을 사이에 두고 양측에 배치되는 기판처리유닛과 지지블록(110)이 연결될 수 있도록, 기판처리유닛 또는 지지블록(110)의 일부분을 관통시키는 유닛결합용 관통공(121a)이 구비될 수 있다.In addition, the chamber inner wall 121 is a unit that penetrates a portion of the substrate processing unit or the support block 110 so that the substrate processing unit and the support block 110 disposed on both sides with the chamber inner wall 121 in between can be connected. A through hole 121a for coupling may be provided.

또한 상기 챔버 내벽(121)에는 메인샤프트(150)를 회전 가능하게 지지하기 위한 메인샤프트 관통공(121c)이 구비될 수 있다.Additionally, the chamber inner wall 121 may be provided with a main shaft through hole 121c for rotatably supporting the main shaft 150.

또한 상기 챔버 내벽(121)에는 가이드부재(180)를 고정 지지하기 위한 가이드부재 고정브래킷(121b)이 구비될 수 있다.Additionally, the chamber inner wall 121 may be provided with a guide member fixing bracket 121b for fixing and supporting the guide member 180.

상기 챔버 내벽(121)의 안쪽 공간에는 연결브래킷(123)을 매개로 상기 챔버 내벽(121)으로부터 이격되게 배치되는 지지프레임(125)을 포함할 수 있다.The inner space of the chamber inner wall 121 may include a support frame 125 spaced apart from the chamber inner wall 121 via a connection bracket 123.

또한 상기 지지프레임(125)에는 메인샤프트(150)를 회전 가능하게 지지하기 위한 메인샤프트 관통공이 구비될 수 있다.Additionally, the support frame 125 may be provided with a main shaft through hole for rotatably supporting the main shaft 150.

또한 상기 지지프레임(125)에는 구동부(130)를 고정 지지하기 위한 구동부 고정브래킷이 구비될 수 있다.Additionally, the support frame 125 may be provided with a driving unit fixing bracket for fixing and supporting the driving unit 130.

메인샤프트(150)는 구동부(130)의 구동력을 전달받아 회전될 수 있다.The main shaft 150 may be rotated by receiving the driving force of the driving unit 130.

상기 구동부(130)는 회전 구동력을 제공하는 모터일 수 있다. 또한 도시되진 않았지만 구동부(130)는 회전 구동력을 제공하는 수동핸들 혹은 직선 구동력을 제공하는 실린더일 수도 있다.The driving unit 130 may be a motor that provides rotational driving force. Also, although not shown, the driving unit 130 may be a manual handle that provides rotational driving force or a cylinder that provides linear driving force.

이러한 구동부(130)의 출력단에 상기 메인샤프트(150)는 직접 결합될 수 있다.The main shaft 150 may be directly coupled to the output terminal of the drive unit 130.

또한 도시된 바와 같이 상기 구동부(130)와 상기 메인샤프트(150)를 연결하며 구동부(130)의 구동력을 메인샤프트(150)로 전달하는 동력전달부(140)를 포함할 수도 있다.Additionally, as shown, it may include a power transmission unit 140 that connects the driving unit 130 and the main shaft 150 and transmits the driving force of the driving unit 130 to the main shaft 150.

일예로, 구동부(130)가 모터 혹은 수동핸들인 경우, 동력전달부(140)는 구동부(130)의 출력단과 축 결합되는 제1 기어(141)와, 상기 제1 기어(141)와 기어 결합되며 메인샤프트(150)와 축 결합되는 제2 기어(143)로 이루어질 수 있다. 이때 상기 제1 기어(141)는 웜기어일 수 있고, 상기 제2 기어(143)는 웜휠일 수 있다.For example, when the driving unit 130 is a motor or a manual handle, the power transmission unit 140 includes a first gear 141 that is axially coupled to the output end of the driving unit 130, and a gear coupling with the first gear 141. It may be composed of a second gear 143 that is axially coupled to the main shaft 150. At this time, the first gear 141 may be a worm gear, and the second gear 143 may be a worm wheel.

다른 예로, 구동부(130)가 실린더인 경우, 동력전달부(140)는 구동부(130)의 출력단과 결합되는 래크기어와, 상기 래크기어와 기어 결합되며 메인샤프트(150)와 축 결합되는 피니언기어로 이루어질 수도 있다.As another example, when the drive unit 130 is a cylinder, the power transmission unit 140 includes a rack gear coupled to the output end of the drive unit 130, and a pinion gear gear-coupled with the rack gear and axially coupled to the main shaft 150. It may be done with

이 외에도 상기 동력전달부(140)는 복수의 감속기어군으로 이루어지거나 벨트와 스프라켓 방식 등으로 이루어질 수 있다.In addition, the power transmission unit 140 may be composed of a plurality of reduction gear groups or may be composed of a belt and sprocket method, etc.

이러한 동력전달부(140)를 통하여, 구동부(130)의 구동력은 큰 감속비로 감속되어 메인샤프트(150)를 미세하게 회전시킬 수 있다.Through this power transmission unit 140, the driving force of the drive unit 130 is reduced at a large reduction ratio to finely rotate the main shaft 150.

한편 메인샤프트(150)는 회전 중심이 동일한 제1 메인샤프트(151)와 제2 메인샤프트(153)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the main shaft 150 may include a first main shaft 151 and a second main shaft 153 with the same center of rotation.

상기 제1 메인샤프트(151)는 지지프레임(125)을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 구동부(130)와 연결되고, 타단이 편심샤프트(160)와 연결될 수 있다.The first main shaft 151 is rotatably supported while penetrating the support frame 125, and has one end connected to the driving unit 130 and the other end connected to the eccentric shaft 160.

상기 제2 메인샤프트(153)는 챔버 내벽(121)의 메인샤프트 관통공(121c)을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 편심샤프트(160)와 연결되고 타단은 자유단으로 마련될 수 있다.The second main shaft 153 penetrates the main shaft through hole 121c of the chamber inner wall 121 and is rotatably supported. One end is connected to the eccentric shaft 160, and the other end may be provided as a free end. .

상기 제1 메인샤프트(151)와 제2 메인샤프트(153)의 사이에 후술되는 편심샤프트(160)를 배치함으로써 편심샤프트(160)의 회전축을 안정적으로 지지할 수 있다.By disposing the eccentric shaft 160, which will be described later, between the first main shaft 151 and the second main shaft 153, the rotation axis of the eccentric shaft 160 can be stably supported.

한편 도 6 및 도 7을 참조하면 챔버 내벽(121)을 관통하여 기판이 처리되는 공간으로 연장 배치되는 상기 제2 메인샤프트(153)의 자유단에는, 기판이 처리되는 공간을 사이에 두고 반대쪽에 배치되는 다른 승하강유닛(100") 측으로 구동력을 전달하기 위한 연결샤프트(159)가 결합될 수 있다. 제2 메인샤프트(153)와 연결샤프트(159)는 별도의 축이음부재를 이용하여 연결될 수 있다. 상기 축이음부재는 유니버셜 조인트 등이 적용될 수도 있다.Meanwhile, referring to FIGS. 6 and 7, the free end of the second main shaft 153, which extends through the chamber inner wall 121 and extends into the space where the substrate is processed, is located on the opposite side with the space where the substrate is processed. A connecting shaft 159 for transmitting the driving force to the other placed elevating unit 100" may be coupled. The second main shaft 153 and the connecting shaft 159 may be connected using a separate shaft joint member. A universal joint, etc. may be applied to the shaft joint member.

또한 도 4 및 도 7에 도시된 바와 같이 상기와 같이 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")을 상기 연결샤프트(159)로 연결하기 위하여, 챔버 내벽(121)을 관통하여 기판 처리 공간으로 연장되는 메인샤프트(150) 상에는 별도의 기밀수단이 구비될 수 있다.In addition, as shown in Figures 4 and 7, in order to connect the pair of raising and lowering units 100 (100") to the connection shaft 159, the substrate processing space penetrates the chamber inner wall 121. A separate airtight means may be provided on the main shaft 150 extending to.

즉, 챔버 내벽(121)을 관통하는 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)과 메인샤프트(150) 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재(155)와, 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)을 향해 상기 실링부재(155)를 가압하여 고정시키는 칼라부재(157)를 포함할 수 있다.That is, it is coupled to the main shaft 150 that penetrates the chamber inner wall 121 and is coupled to the main shaft 150 and a sealing member 155 to maintain airtightness between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150. It may include a collar member 157 that presses and secures the sealing member 155 toward the chamber inner wall 121.

편심샤프트(160)는 메인샤프트(150)에 편심 상태로 축 결합된다. 즉, 편심샤프트(160)의 중심은 메인샤프트(150)의 회전 중심에서 반경방향으로 치우친 위치에 배치된다. 결국 편심샤프트(160)는 메인샤프트(150)의 회전 시 일정 반경을 가지고 회전될 수 있다.The eccentric shaft 160 is axially coupled to the main shaft 150 in an eccentric state. That is, the center of the eccentric shaft 160 is disposed at a position radially biased from the rotation center of the main shaft 150. Ultimately, the eccentric shaft 160 can rotate with a certain radius when the main shaft 150 rotates.

상기 편심샤프트(160)는 메인샤프트(150)에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트부재(161)와, 상기 편심샤프트부재(161)의 외주면에 회전 가능하게 결합되는 편심롤러부재(163)를 포함할 수 있다. 이때 편심샤프트부재(161)와 편심롤러부재(163)는 동심을 이룰 수 있다.The eccentric shaft 160 includes an eccentric shaft member 161 axially coupled to the main shaft 150 and an eccentric roller member 163 rotatably coupled to the outer peripheral surface of the eccentric shaft member 161. can do. At this time, the eccentric shaft member 161 and the eccentric roller member 163 may be concentric.

상기 메인샤프트(150)가 제1 메인샤프트(151)와 제2 메인샤프트(153)로 구성되는 경우, 상기 편심샤프트부재(161)의 일단은 제1 메인샤프트(151)와 결합되고 타단은 제2 메인샤프트(153)와 연결될 수 있다.When the main shaft 150 is composed of a first main shaft 151 and a second main shaft 153, one end of the eccentric shaft member 161 is coupled to the first main shaft 151 and the other end is connected to the first main shaft 151. 2 Can be connected to the main shaft (153).

팔로워부재(170)는 편심샤프트(160)와 연결되어 편심샤프트(160)와 연동하는 것으로, 지지블록(110)에 구비될 수 있다. 보다 상세하게, 상기 팔로워부재(170)는 편심롤러부재(163)의 외주면과 접촉된 상태에서 편심롤러부재(163)와 연동하여 이동됨에 따라 지지블록(110)의 위치를 이동시킬 수 있다.The follower member 170 is connected to the eccentric shaft 160 and interlocks with the eccentric shaft 160, and may be provided on the support block 110. More specifically, the follower member 170 may move the position of the support block 110 as it moves in conjunction with the eccentric roller member 163 while in contact with the outer peripheral surface of the eccentric roller member 163.

상기 팔로워부재(170)는 지지블록 연장부(171) 및 편심롤러 지지부(173)를 포함할 수 있다.The follower member 170 may include a support block extension portion 171 and an eccentric roller support portion 173.

상기 지지블록 연장부(171)는 편심롤러 지지부(173)를 마련하기 위해 구비되는 것으로, 지지블록(110)의 일측에서 상기 편심샤프트(160)를 향해 돌출 형성될 수 있다. 이러한 지지블록 연장부(171)는 지지블록(110)에 일체로 형성될 수 있고, 별도의 체결수단에 의해 지지블록(110)에 결합될 수도 있다.The support block extension portion 171 is provided to provide the eccentric roller support portion 173, and may be formed to protrude toward the eccentric shaft 160 from one side of the support block 110. This support block extension 171 may be formed integrally with the support block 110, or may be coupled to the support block 110 by a separate fastening means.

상기 편심롤러 지지부(173)는 편심롤러부재(163)가 내부에 삽입되게 상기 지지블록 연장부(171)에 관통 형성될 수 있다. 이러한 편심롤러 지지부(173)는 길이를 가지는 장공일 수 있다. 다시 말해 편심롤러 지지부(173)는 지지블록(110)의 변위방향과 교차하는 방향을 따라 길게 형성되는 장공일 수 있다.The eccentric roller support portion 173 may be formed to penetrate the support block extension portion 171 so that the eccentric roller member 163 is inserted therein. This eccentric roller support portion 173 may be a long hole. In other words, the eccentric roller support portion 173 may be a long hole formed long along a direction intersecting the displacement direction of the support block 110.

또한 상기 장공 구조의 편심롤러 지지부(173)는 편심롤러부재(163)의 외주면과 접촉하는 제1 접촉부(173a)와, 편심롤러부재(163)를 사이에 두고 상기 제1 접촉부(173a)를 대향하는 제2 접촉부(173b)를 구비할 수 있다.In addition, the eccentric roller support portion 173 of the long hole structure has a first contact portion 173a in contact with the outer peripheral surface of the eccentric roller member 163, and an opposing first contact portion 173a with the eccentric roller member 163 interposed therebetween. It may be provided with a second contact portion 173b.

이때 상기 제1 접촉부(173a)와 상기 제2 접촉부(173b)는 편심롤러부재(163)의 외주면에 동시 접촉되도록 편심롤러부재(163)의 직경에 상응하는 사이 간격을 갖도록 마련될 수 있다.At this time, the first contact portion 173a and the second contact portion 173b may be provided with a gap corresponding to the diameter of the eccentric roller member 163 so as to simultaneously contact the outer peripheral surface of the eccentric roller member 163.

결국 도 5에 도시된 바와 같이 제1 접촉부(173a)는 편심롤러부재(163)의 상부 외주면과 접선의 접촉 상태를 유지할 수 있고, 제2 접촉부(173b)는 편심롤러부재(163)의 하부 외주면과 접선의 접촉 상태를 유지할 수 있다.Ultimately, as shown in FIG. 5, the first contact portion 173a can maintain a tangential contact state with the upper outer peripheral surface of the eccentric roller member 163, and the second contact portion 173b can maintain a state of tangential contact with the upper outer peripheral surface of the eccentric roller member 163. It is possible to maintain a state of tangential contact with.

이를 통해 장공 구조의 편심롤러 지지부(173)는 일정한 회전 반경을 가지는 편심롤러부재(163)의 수평방향 이동은 허용하고, 편심롤러부재(163)의 수직방향 이동과는 연동될 수 있다.Through this, the eccentric roller support portion 173 of the long hole structure allows the horizontal movement of the eccentric roller member 163 having a constant rotation radius and can be linked to the vertical movement of the eccentric roller member 163.

상기 제1 접촉부(173a) 및 상기 제2 접촉부(173b)에는 구름 동작하는 편심롤러부재(163)의 원활한 이동이 확보되도록 미끄럼패드가 구비될 수 있다. 예를 들어 미끄럼패드는 구리 합금이나 알루미늄 합금 등 견고하고 내피로성이 우수한 합금이나 특수 금속을 코팅하여 제작될 수 있다.The first contact portion 173a and the second contact portion 173b may be provided with sliding pads to ensure smooth movement of the eccentric roller member 163 in rolling motion. For example, a sliding pad can be manufactured by coating an alloy or special metal that is strong and has excellent fatigue resistance, such as copper alloy or aluminum alloy.

가이드부재(180)는 지지블록(110)의 슬라이드 이동을 안내하는 부재로써, 간격조절이 요구되는 기판처리유닛의 이동방향을 따라 길게 배치될 수 있다.The guide member 180 is a member that guides the slide movement of the support block 110 and may be arranged long along the movement direction of the substrate processing unit for which spacing adjustment is required.

또한 상기 가이드부재(180)는 챔버 내벽(121)에 설치된 가이드부재 고정브래킷(121b)에 고정될 수 있다.Additionally, the guide member 180 may be fixed to a guide member fixing bracket 121b installed on the chamber inner wall 121.

또한 상기 가이드부재(180)는 지지블록(110)의 가이드홀(113)을 관통하는 한 쌍의 봉 부재로 이루어질 수 있다.Additionally, the guide member 180 may be made of a pair of rod members penetrating the guide hole 113 of the support block 110.

이하 본 발명에 따른 간격조절장치의 작동을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of the spacing adjustment device according to the present invention will be described as follows.

구동부(130)를 회전 작동시키면, 동력전달부(140)에 의해 일정 감속비로 감속된 회전수로 메인샤프트(150)는 회전된다.When the driving unit 130 is rotated, the main shaft 150 is rotated at a rotation speed reduced by the power transmission unit 140 at a constant reduction ratio.

이와 동시 메인샤프트(150)로부터 편심된 편심샤프트(160) 역시 메인샤프트(150)의 회전 중심으로부터 일정 반경을 가지며 회전된다.At the same time, the eccentric shaft 160, which is eccentric from the main shaft 150, is also rotated with a certain radius from the rotation center of the main shaft 150.

이와 동시 지지블록(110)은 팔로워부재(170)에 의하여 편심샤프트(160)의 수직방향 변위에 연동하여 승하강 이동된다.At the same time, the support block 110 is moved up and down in conjunction with the vertical displacement of the eccentric shaft 160 by the follower member 170.

상세하게 장공 구조의 편심롤러 지지부(173)는 수직방향으로 배치된 제1 접촉부(173a)와 제2 접촉부(173b)가 편심롤러부재(163)의 상부 외주면과 하부 외주면에 각각 접촉되어 있기 때문에, 편심롤러부재(163)의 수평방향 변위는 슬립시키고, 편심롤러부재(163)의 수직방향 변위와 연동하게 된다.In detail, the eccentric roller support part 173 of the long hole structure has a vertically arranged first contact part 173a and a second contact part 173b, so that they contact the upper and lower peripheral surfaces of the eccentric roller member 163, respectively. The horizontal displacement of the eccentric roller member 163 causes slip and is linked to the vertical displacement of the eccentric roller member 163.

이로써 지지블록(110)은 가이드부재(180)를 따라 승하강 이동되며, 기판처리유닛을 함께 이동시킨다.Accordingly, the support block 110 moves up and down along the guide member 180, and moves the substrate processing unit together.

예를 들어 도 5를 참조하면 메인샤프트(150)와 함께 편심샤프트(160)가 반시계방향으로 회전되는 중, 편심샤프트(160)가 메인샤프트(150)의 수직 상측에 위치할 시, 지지블록(110)은 최고 높이를 유지한다.For example, referring to FIG. 5, while the eccentric shaft 160 is rotating counterclockwise together with the main shaft 150, when the eccentric shaft 160 is located vertically above the main shaft 150, the support block (110) maintains the highest height.

계속해서 메인샤프트(150)와 함께 편심샤프트(160)가 반시계방향으로 회전되는 중, 편심샤프트(160)가 메인샤프트(150)의 수직 하측에 위치할 시, 지지블록(110)은 최저 높이를 유지한다.While the eccentric shaft 160 continues to rotate counterclockwise together with the main shaft 150, when the eccentric shaft 160 is located vertically below the main shaft 150, the support block 110 is at its lowest height. maintain.

결과적으로 편심샤프트(160)의 회전 정도에 따라 지지블록(110)의 높이를 조절할 수 있고, 기판처리유닛의 원하는 위치를 미세하게 조절 및 설정할 수 있다.As a result, the height of the support block 110 can be adjusted according to the degree of rotation of the eccentric shaft 160, and the desired position of the substrate processing unit can be finely adjusted and set.

상기 지지블록(110)의 높이조절범위는 메인샤프트(150)에 편심샤프트(160)가 얼마만큼 편심된 것이냐에 따라 규정될 수 있다. 결국 기판처리유닛마다 요구되는 간격조절범위를 고려하여 메인샤프트(150)에 대한 편심샤프트(160)의 편심 정도는 다양하게 설계 변경될 수 있다.The height adjustment range of the support block 110 can be defined depending on how eccentric the eccentric shaft 160 is relative to the main shaft 150. Ultimately, considering the spacing adjustment range required for each substrate processing unit, the degree of eccentricity of the eccentric shaft 160 with respect to the main shaft 150 may be designed in various ways.

한편 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보이는 도면이다.Meanwhile, Figure 6 is a diagram showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면 실시예로 도시된 기판처리장치는 롤러브러시를 이용한 기판세정장치를 보이고 있다.Referring to FIG. 6, the substrate processing device shown as an example shows a substrate cleaning device using a roller brush.

도시된 바와 같이 기판 세정을 위한 롤러브러시(20)는 기판이 통과할 수 있도록 서로 이격되게 배치되는 상측 롤러브러시(21) 및 하측 롤러브러시(23)를 포함할 수 있다. 또한 기판이 이송되는 방향을 따라 상측 롤러브러시(21)는 2열 이상으로 배치될 수 있고, 하측 롤러브러시(23) 역시 2열 이상으로 배치될 수 있다.As shown, the roller brush 20 for cleaning a substrate may include an upper roller brush 21 and a lower roller brush 23 that are spaced apart from each other to allow the substrate to pass. Additionally, along the direction in which the substrate is transported, the upper roller brushes 21 may be arranged in two or more rows, and the lower roller brushes 23 may also be arranged in two or more rows.

또한 이와 달리 롤러브러시(20)는 상측 롤러브러시(21)만으로 구성될 수도 있고, 하측 롤러브러시(23)만으로 구성될 수도 있다.Also, unlike this, the roller brush 20 may be composed of only the upper roller brush 21 or only the lower roller brush 23.

상기 각 롤러브러시(20)의 양측 단부를 지지하기 위해서는 기본적으로 한 쌍의 지지블록(110)이 구비되며, 이러한 한 쌍의 지지블록(110)에는 전술한 승하강유닛(100)이 구비될 수 있다.In order to support both ends of each roller brush 20, a pair of support blocks 110 are basically provided, and the pair of support blocks 110 may be equipped with the above-mentioned lifting and lowering unit 100. there is.

상기 각 승하강유닛(100)은 앞서 설명한 승하강유닛(100)과 거의 동일하게 구성되는 것으로, 관련한 중복 설명은 생략한다.Each of the above-mentioned lifting and lowering units 100 is configured almost identically to the previously described lifting and lowering unit 100, and any redundant description thereof will be omitted.

한편 상기와 같이 하나의 롤러브러시(20)를 이동시키기 위해 롤러브러시(20)의 양단부에 한 쌍의 승하강유닛(100)을 구성하는 경우, 하나의 구동원으로 상기 한 쌍의 승하강유닛(100) 측으로 동일한 구동력을 제공할 수 있다.On the other hand, when a pair of raising and lowering units 100 are configured at both ends of the roller brush 20 to move one roller brush 20 as described above, the pair of lifting and lowering units 100 are connected with one driving source. ) can provide the same driving force to the side.

도 7은 도 6에 도시된 기판처리장치에 있어서, 기판 처리 공간을 사이에 두고 양쪽에 배치되는 승하강유닛 중 한쪽의 승하강유닛을 나타낸 측면 예시도이다.FIG. 7 is a side view illustrating one of the lifting and lowering units disposed on both sides with a substrate processing space in between in the substrate processing apparatus shown in FIG. 6.

도 6 및 도 7을 참조하면 본 발명에 따른 기판처리장치는 롤러브러시(20)의 양단부에 배치되는 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")의 구동력을 동기화시키기 위한 연결샤프트(159)를 포함할 수 있다.Referring to Figures 6 and 7, the substrate processing apparatus according to the present invention includes a connection shaft 159 for synchronizing the driving force of a pair of raising and lowering units 100 and 100" disposed at both ends of the roller brush 20. may include.

상기 연결샤프트(159)는 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")에 각각 마련된 메인샤프트(150)를 서로 연결하도록 마련될 수 있다.The connecting shaft 159 may be provided to connect the main shafts 150 provided in each pair of raising and lowering units 100 (100") to each other.

즉, 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")은 상기 연결샤프트(159)를 매개로 메인샤프트(150)가 서로 연동하여 회전되기 때문에, 한 쌍의 승하강유닛(100)(100") 중 한쪽 승하강유닛(100)에만 구동부(130)가 배치될 수 있고, 도 7에 도시된 바와 같이 나머지 다른 승하강유닛(100")에는 구동부(130) 및 동력전달부(140)가 배제될 수 있다.That is, since the main shaft 150 of the pair of lifting and lowering units 100 (100") rotates in conjunction with each other via the connecting shaft 159, the pair of lifting and lowering units 100 (100") ), the driving unit 130 may be disposed only in one of the lifting and lowering units 100, and as shown in FIG. 7, the driving unit 130 and the power transmission unit 140 are excluded from the other lifting and lowering units 100". It can be.

이와 같이 연결샤프트(159)를 통하여 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")의 구동을 동기화함으로써, 일측에 배치된 구동부(130)를 작동시키는 것만으로도 롤러브러시(20)를 지지하는 양측 지지블록(110)의 위치를 동일하게 미세 조정할 수 있다.In this way, by synchronizing the driving of the pair of raising and lowering units 100 (100") through the connecting shaft 159, the roller brush 20 is supported just by operating the driving unit 130 disposed on one side. The positions of the support blocks 110 on both sides can be finely adjusted equally.

또한 기판의 폭 방향을 따라 길게 배치되는 롤러브러시(20)와 기판과의 사이 간격을 보다 균일하게 설정할 수 있다.In addition, the distance between the roller brush 20 disposed long along the width direction of the substrate and the substrate can be set more uniformly.

한편 상기와 같이 한 쌍의 승하강유닛(100)(100")을 연결샤프트(159)로 연결하기 위하여, 챔버 내벽(121)을 관통하여 기판 세정 공간으로 연장되는 메인샤프트(150) 상에는 별도의 기밀수단이 구비될 수 있다.Meanwhile, in order to connect the pair of raising and lowering units 100 (100") to the connecting shaft 159 as described above, a separate unit is installed on the main shaft 150 that penetrates the chamber inner wall 121 and extends into the substrate cleaning space. Confidential means may be provided.

즉, 챔버 내벽(121)을 관통하는 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)과 메인샤프트(150) 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재(155)와, 메인샤프트(150)에 결합되며 챔버 내벽(121)을 향해 상기 실링부재(155)를 가압하여 고정시키는 칼라부재(157)를 포함할 수 있다.That is, it is coupled to the main shaft 150 that penetrates the chamber inner wall 121 and is coupled to the main shaft 150 and a sealing member 155 to maintain airtightness between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150. It may include a collar member 157 that presses and secures the sealing member 155 toward the chamber inner wall 121.

이와 같이 실링부재(155)와 칼라부재(157)는 메인샤프트(150)에 연결샤프트(159)를 연결하기 전에 상기 메인샤프트(150)에 미리 체결할 수 있다.In this way, the sealing member 155 and the collar member 157 can be fastened to the main shaft 150 before connecting the connecting shaft 159 to the main shaft 150.

이와 같이 챔버 내벽(121)과 세정 공간 내측으로 연장 배치되는 메인샤프트(150)의 사이에 실링부재(155)와 칼라부재(157)를 체결함으로써, 챔버 내벽(121)과 메인샤프트(150) 사이 틈새로 외부 이물질이 유입되거나 세정액이 유출되는 것을 방지할 수 있다.In this way, by fastening the sealing member 155 and the collar member 157 between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150 extending inside the cleaning space, a gap is formed between the chamber inner wall 121 and the main shaft 150. It can prevent foreign substances from entering through gaps or cleaning fluid from leaking.

이상과 같이 본 발명에 따른 간격조절장치는 편심샤프트(160)의 회전 정도에 따라 팔로워부재(170)의 수직방향 변위를 구현하는 승하강유닛(100)을 통하여, 기판처리유닛의 미세한 위치조정이 가능하고, 이로부터 다양한 종류의 기판, 다양한 패턴을 가지는 기판, 및 다양한 종류의 기판처리유닛에 대응하여 해당 기판에 대한 기판처리유닛의 설정위치를 항상 최적의 상태로 세팅할 수 있다.As described above, the spacing adjustment device according to the present invention allows fine positioning of the substrate processing unit through the raising and lowering unit 100, which implements vertical displacement of the follower member 170 according to the degree of rotation of the eccentric shaft 160. This is possible, and from this, the setting position of the substrate processing unit for the corresponding substrate can always be set to the optimal state in response to various types of substrates, substrates with various patterns, and various types of substrate processing units.

또한 본 발명에 따른 간격조절장치는 편심샤프트(160)와 팔로워부재(170)로 이루어지는 단순 구조의 승하강유닛(100)을 통하여, 장치의 소형화가 가능하고, 기존 기판처리유닛 및 기판처리공간을 점유하지 않고도 장치의 제작 및 설치가 용이하다.In addition, the spacing adjustment device according to the present invention enables miniaturization of the device through a simple structure raising and lowering unit 100 consisting of an eccentric shaft 160 and a follower member 170, and reduces the size of the existing substrate processing unit and substrate processing space. It is easy to manufacture and install the device without occupying the space.

또한 본 발명에 따른 간격조절장치는 기판 세정을 위한 롤러브러시(20)에 적용될 경우, 롤러브러시(20) 및 세정공간을 점유하지 않고도 간격조절장치의 제작 및 설치가 용이하고, 세정되는 기판의 종류나 롤러브러시(20)의 사용주기 등을 고려하여 기판과 롤러브러시(20)의 설정간격을 정확하게 유지시킬 수 있고, 이로써 기판의 세정 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, when the spacing adjusting device according to the present invention is applied to the roller brush 20 for substrate cleaning, it is easy to manufacture and install the spacing adjusting device without occupying the roller brush 20 and the cleaning space, and it is easy to manufacture and install the spacing adjusting device according to the type of substrate being cleaned. Considering the usage cycle of the roller brush 20, etc., the set interval between the substrate and the roller brush 20 can be accurately maintained, thereby improving the cleaning efficiency of the substrate.

상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.As described above, preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the drawings, but those skilled in the art may vary the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the following claims. It can be modified or changed.

20: 롤러브러시 21: 상측 롤러브러시
23: 하측 롤러브러시 100,100": 승하강유닛
110: 지지블록 120: 고정프레임
130: 구동부 140: 동력전달부
150: 메인샤프트 159: 연결샤프트
160: 편심샤프트 161: 편심샤프트부재
163: 편심롤러부재 170: 팔로워부재
173: 편심롤러 지지부 180: 가이드부재20: roller brush 21: upper roller brush
23: Lower roller brush 100,100": Raising and lowering unit
110: support block 120: fixed frame
130: driving unit 140: power transmission unit
150: main shaft 159: connection shaft
160: Eccentric shaft 161: Eccentric shaft member
163: Eccentric roller member 170: Follower member
173: Eccentric roller support 180: Guide member

Claims (11)

기판처리유닛을 지지하는 지지블록; 및
상기 지지블록을 승하강시키기 위한 승하강유닛;을 포함하고,
상기 승하강유닛은,
구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트;
상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트;
상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되어 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및
상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재;를 포함하고,
상기 편심샤프트는,
상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트부재; 및
상기 편심샤프트부재의 외주면에 회전 가능하게 결합되는 편심롤러부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.A support block supporting the substrate processing unit; and
Includes a raising and lowering unit for raising and lowering the support block,
The raising and lowering unit is,
A main shaft that rotates by receiving the driving force of the driving unit;
An eccentric shaft axially coupled to the main shaft;
A follower member provided on the support block in contact with the outer peripheral surface of the eccentric shaft to raise and lower the support block when the eccentric shaft rotates; and
It includes a guide member that guides the vertical movement of the support block,
The eccentric shaft is,
An eccentric shaft member axially coupled to the main shaft in an eccentric state; and
An eccentric roller member rotatably coupled to the outer peripheral surface of the eccentric shaft member. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 팔로워부재는,
상기 지지블록에 결합되는 지지블록 연장부; 및
상기 편심롤러부재가 내부에 삽입되게 상기 지지블록 연장부에 형성되는 장공 구조의 편심롤러 지지부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.According to paragraph 1,
The absence of the follower is,
A support block extension coupled to the support block; and
A spacing adjustment device for a substrate processing unit comprising: an eccentric roller support portion having a long hole structure formed on the extension portion of the support block so that the eccentric roller member is inserted therein. 제3항에 있어서,
상기 편심롤러 지지부는,
상기 편심롤러부재의 외주면과 접촉하는 제1 접촉부; 및
상기 제1 접촉부를 대향하는 제2 접촉부;를 포함하고,
상기 제1 접촉부 및 상기 제2 접촉부는 상기 편심롤러부재의 외주면에 동시에 접촉되도록 상기 편심롤러부재의 직경에 상응하는 사이 간격을 갖도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.According to paragraph 3,
The eccentric roller support part,
a first contact portion in contact with the outer peripheral surface of the eccentric roller member; and
It includes a second contact portion facing the first contact portion,
The first contact part and the second contact part are arranged to have a gap corresponding to the diameter of the eccentric roller member so that they simultaneously contact the outer peripheral surface of the eccentric roller member. 기판처리유닛을 지지하는 지지블록; 및
상기 지지블록을 승하강시키기 위한 승하강유닛;을 포함하고,
상기 승하강유닛은,
구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트;
상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트;
상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되어 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재;
상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재; 및
연결브래킷을 매개로 챔버 내벽으로부터 이격되게 배치되며 상기 메인샤프트를 회전 가능하게 지지하는 지지프레임을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.A support block supporting the substrate processing unit; and
Includes a raising and lowering unit for raising and lowering the support block,
The raising and lowering unit is,
A main shaft that rotates by receiving the driving force of the driving unit;
An eccentric shaft axially coupled to the main shaft;
A follower member provided on the support block in contact with the outer peripheral surface of the eccentric shaft to raise and lower the support block when the eccentric shaft rotates;
A guide member guiding the vertical movement of the support block; and
A spacing adjustment device for a substrate processing unit, comprising a support frame that is spaced apart from the inner wall of the chamber via a connection bracket and rotatably supports the main shaft. 제5항에 있어서,
상기 메인샤프트는,
상기 지지프레임을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 구동부와 연결되고, 타단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제1 메인샤프트; 및
상기 챔버 내벽을 관통하며 회전 가능하게 지지되며, 일단이 상기 편심샤프트와 연결되는 제2 메인샤프트;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.According to clause 5,
The main shaft is,
a first main shaft that passes through the support frame and is rotatably supported, one end of which is connected to the driving unit, and the other end of which is connected to the eccentric shaft; and
A second main shaft that penetrates the inner wall of the chamber and is rotatably supported, one end of which is connected to the eccentric shaft. 제1항에 있어서,
상기 승하강유닛은, 상기 구동부와 상기 메인샤프트를 연결하며 상기 구동부의 구동력을 상기 메인샤프트로 전달하는 동력전달부;를 더 포함하고,
상기 동력전달부는,
상기 구동부의 출력단과 축 결합되는 제1 기어; 및
상기 제1 기어와 기어 결합되며 상기 메인샤프트와 축 결합되는 제2 기어;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리유닛의 간격조절장치.According to paragraph 1,
The lifting and lowering unit further includes a power transmission unit that connects the driving unit and the main shaft and transmits the driving force of the driving unit to the main shaft,
The power transmission unit,
a first gear axially coupled to the output end of the drive unit; and
A spacing adjustment device for a substrate processing unit comprising a second gear gear-coupled with the first gear and shaft-coupled with the main shaft. 기판처리유닛의 양단부를 지지하는 한 쌍의 지지블록;
상기 한 쌍의 지지블록을 승하강시키기 위한 한 쌍의 승하강유닛; 및
상기 승하강유닛이 설치되며, 기판이 처리되는 공간으로부터 상기 승하강유닛이 오염되는 것을 방지하기 위한 챔버 내벽을 갖는 챔버;를 포함하고,
상기 각 승하강유닛은,
구동부의 구동력을 전달받아 회전되는 메인샤프트;
상기 메인샤프트에 편심 상태로 축 결합되는 편심샤프트;
상기 편심샤프트의 외주면과 접촉되게 상기 지지블록에 마련되는 상기 편심샤프트의 회전 시 상기 지지블록을 승하강시키는 팔로워부재; 및
상기 지지블록의 상하 이동을 안내하는 가이드부재;를 포함하며,
상기 챔버 내벽을 관통하는 상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽과 상기 메인샤프트 사이의 기밀을 유지하기 위한 실링부재; 및
상기 메인샤프트에 결합되며, 상기 챔버 내벽을 향해 상기 실링부재를 가압 고정시키기 위한 칼라부재;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.A pair of support blocks supporting both ends of the substrate processing unit;
A pair of raising and lowering units for raising and lowering the pair of support blocks; and
A chamber in which the lifting and lowering unit is installed, and having an inner wall of the chamber to prevent the lifting and lowering unit from being contaminated from the space where the substrate is processed,
Each of the above lifting and lowering units,
A main shaft that rotates by receiving the driving force of the driving unit;
An eccentric shaft axially coupled to the main shaft;
a follower member that raises and lowers the support block when the eccentric shaft rotates, provided on the support block in contact with the outer peripheral surface of the eccentric shaft; and
It includes a guide member that guides the vertical movement of the support block,
A sealing member coupled to the main shaft penetrating the inner wall of the chamber and maintaining airtightness between the inner wall of the chamber and the main shaft; and
The substrate processing apparatus further includes a collar member coupled to the main shaft and pressurized and fixed to the sealing member toward the inner wall of the chamber. 제8항에 있어서,
상기 기판처리유닛은,
기판이 통과할 수 있도록 서로 이격되게 배치되는 상측 롤러브러시 및 하측 롤러브러시를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.According to clause 8,
The substrate processing unit,
A substrate processing device comprising an upper roller brush and a lower roller brush that are spaced apart from each other to allow the substrate to pass through. 제8항에 있어서,
상기 한 쌍의 승하강유닛에 각각 마련된 상기 메인샤프트를 서로 연결하며, 상기 한 쌍의 승하강유닛의 구동력을 동기화시키는 연결샤프트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.According to clause 8,
A substrate processing apparatus comprising a connecting shaft that connects the main shafts provided in each of the pair of lifting and lowering units to each other and synchronizes driving forces of the pair of lifting and lowering units. 삭제delete
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