KR20090006518U - Substrate cleaning unit - Google Patents

Substrate cleaning unit Download PDF

Info

Publication number
KR20090006518U
KR20090006518U KR2020070020745U KR20070020745U KR20090006518U KR 20090006518 U KR20090006518 U KR 20090006518U KR 2020070020745 U KR2020070020745 U KR 2020070020745U KR 20070020745 U KR20070020745 U KR 20070020745U KR 20090006518 U KR20090006518 U KR 20090006518U
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shaft
lifting
elevating
gear
brush
Prior art date
Application number
KR2020070020745U
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR200461069Y1 (en
Inventor
김주영
이용진
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR2020070020745U priority Critical patent/KR200461069Y1/en
Publication of KR20090006518U publication Critical patent/KR20090006518U/en
Application granted granted Critical
Publication of KR200461069Y1 publication Critical patent/KR200461069Y1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
    • B08B1/12—Brushes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

본 고안은 평판 디스플레이 기판 등을 세정하는 기판 세정장치에 관한 것으로서, 특히 세정용 브러시의 승강구조가 간소화된 기판 세정장치에 관한 것이다.

본 고안의 구성은, 기판 세정용 브러시를 횡축 지지하는 브러시 샤프트와, 상기 브러시 샤프트의 양단부로부터 횡축방향으로 연장된 승강용 샤프트와, 상기 브러시 샤프트를 회전 구동하는 회전구동부와, 상기 승강용 샤프트 중 일단부측 승강용 샤프트를 승강시키는 승강구동부 및, 상기 일단부측 승강용 샤프트에 연동하여 타단부측 승강용 샤프트가 동시 승강하도록 타단부측 승강용 샤프트를 지지하는 승강지지부를 포함하여 이루어진다.

위와 같은 구성에 따라, 본 고안은 외관과 구조가 매우 콤팩트화되는 이점이 있으며, 세정 챔버의 하부에 통상적으로 구비되는 세정액 탱크 등을 배치함에 있어서 설비의 레이아웃에 매우 유리한 효과가 있다.

Figure P2020070020745

기판, 세정, 브러시, 승강, 승강용 샤프트

The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a flat panel display substrate and the like, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus in which the lifting structure of the cleaning brush is simplified.

The constitution of the present invention includes a brush shaft for transversely supporting the substrate cleaning brush, a lift shaft extending in the transverse direction from both ends of the brush shaft, a rotation drive unit for rotationally driving the brush shaft, and the lift shaft. And an elevating driving part for elevating one end side elevating shaft and an elevating support portion for supporting the other end elevating shaft so as to simultaneously elevate the other end elevating shaft in association with the one end elevating shaft.

According to the configuration as described above, the present invention has the advantage that the appearance and structure is very compact, there is a very advantageous effect on the layout of the equipment in disposing a cleaning liquid tank or the like that is usually provided in the lower portion of the cleaning chamber.

Figure P2020070020745

Board, Cleaning, Brush, Lifting, Lifting Shaft

Description

기판 세정장치{Substrate cleaning unit}Substrate cleaning unit

본 고안은 평판 디스플레이 기판 등을 세정하는 기판 세정장치에 관한 것으로서, 특히 세정용 브러시의 승강구조가 간소화된 기판 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a flat panel display substrate and the like, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus in which the lifting structure of the cleaning brush is simplified.

LCD(Liquid Crystal Display : 액정표시장치)를 비롯한 FPD(Flat Panel Display : 평판 디스플레이) 기판 등의 제조에 있어서, 세정공정은 그 이전의 각 공정을 거치는 과정에서 기판의 표면에 부착된 입자나 유기 오염물 또는 불순물 등의 오염물질을 제거하는 공정이다. 이러한 세정공정은 탈이온수나 세제 등의 세정액을 기판의 피세정면에 노즐로 분사하고, 세정액에 의해 젖은 피세정면을 롤 브러시 등으로 스크러빙하는 과정으로 이루어진다.In the manufacture of liquid crystal displays (LCDs) and flat panel display (FPD) substrates, the cleaning process involves particles or organic contaminants adhering to the surface of the substrate during the previous steps. Or it is a process of removing contaminants, such as impurities. This cleaning process consists of spraying cleaning liquid, such as deionized water or detergent, onto the surface to be cleaned of the substrate with a nozzle, and scrubbing the surface to be wet with the cleaning liquid with a roll brush or the like.

특히 롤 브러시를 이용한 스크러빙 과정에서는 상부 브러시와 하부 브러시 사이로 기판을 통과시켜 세정을 행하는데, 기판의 두께에 따라 상부 브러시와 하부 브러시 사이의 간격을 조정할 필요가 있다. 따라서, 통상적인 기판 세정장치에는 상부 브러시와 하부 브러시의 간격 조정을 위해 이들 브러시의 높낮이를 조절할 수 있는 승강수단이 구비되어 있다.In particular, in the scrubbing process using a roll brush, the substrate is passed through the upper brush and the lower brush to perform cleaning, and it is necessary to adjust the distance between the upper brush and the lower brush according to the thickness of the substrate. Therefore, the conventional substrate cleaning apparatus is provided with lifting means for adjusting the height of these brushes for adjusting the gap between the upper brush and the lower brush.

첨부도면 도 1 및 도 2는 대한민국 공개특허 제10-2006-0117663(명칭 : 평판 디스플레이 제조를 위한 세정 브러시 유닛)이 개시하고 있는 종래의 브러시 승강수단이 구비된 기판 세정장치를 발췌 도시한 것이다.1 and 2 are excerpts showing a substrate cleaning apparatus equipped with a conventional brush lifting means disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2006-0117663 (name: cleaning brush unit for manufacturing a flat panel display).

도 1 및 도 2에 나타난 바와 같이, 종래 기판 세정장치의 브러시 승강수단은 크린부스(즉, 세정 챔버 : 110)의 하부에 설치되는 제1승강부재(140)와 제2승강부재(140')로 구성되어 있다. 제1승강부재(140)는, 서보모터(142)와 이 서보모터(142)에 의해 회전하는 회전축(144), 이 회전축(144)에 설치되어 상부 브러시(133)의 높낮이를 조절하는 제1,2원판캠(146a,146b), 그리고 상부 브러시축(134)과 연결되면서 LM가이드(150)를 따라 상하 이동 가능하게 되는 제1캠로드(148)와 제2캠로드(149)로 구성되어 있다. 또한, 제2승강부재(140')는 제1승강부재(140)의 옆에 나란히 설치되어 하부 브러시(133)의 높낮이를 조절하게 되며, 제1승강부재(140)와 마찬가지로 서보모터(142)와 회전축(144)과 제1,2원판캠(146a,146b), 그리고 제1캠로드(148)과 제2캠로드(149)로 구성되어 있다.1 and 2, the brush lifting means of the conventional substrate cleaning apparatus is the first lifting member 140 and the second lifting member 140 'installed below the clean booth (that is, the cleaning chamber: 110). Consists of The first elevating member 140 is a servomotor 142 and a rotating shaft 144 rotated by the servomotor 142, and a first shaft installed on the rotating shaft 144 to adjust the height of the upper brush 133. The first cam rod 148 and the second cam rod 149 which are connected to the second disc cams 146a and 146b and the upper brush shaft 134 and move up and down along the LM guide 150 are configured. have. In addition, the second elevating member 140 'is installed side by side next to the first elevating member 140 to adjust the height of the lower brush 133, the servo motor 142 similar to the first elevating member 140 And a rotation shaft 144, first and second disc cams 146a and 146b, and a first cam rod 148 and a second cam rod 149.

이와 같이 종래의 기판 세정장치에 구비된 브러시 승강수단은 브러시축(134)의 양단부가 동시에 같은 높낮이로 승강할 수 있도록 브러시축(134)에 대응하는 회전축(144)을 구비함에 중요한 특징이 있다. 즉, 회전축(144)의 회전과 이에 연동하는 제1,2원판캠(146a,146b)의 작동에 의해 브러시(133) 양단부의 승강이 동시화된다.As such, the brush lifting means provided in the conventional substrate cleaning apparatus has an important feature in that it has a rotating shaft 144 corresponding to the brush shaft 134 so that both ends of the brush shaft 134 can be simultaneously raised and lowered at the same height. That is, the lifting of both ends of the brush 133 is synchronized by the rotation of the rotation shaft 144 and the operation of the first and second disc cams 146a and 146b interlocked therewith.

그런데, 상기 회전축(144)이 크린부스의 하부에 공간을 차지하면서 설치되기 때문에, 크린부스(110)의 하부에 통상적으로 구비되는 세정액 탱크(도시되지 않음) 등을 배치함에 있어서 설비의 레이아웃에 매우 불리하게 되고, 기판 세정장치의 구조가 복잡해지는 문제가 있다. However, since the rotating shaft 144 is installed while occupying a space under the clean booth, the layout of the cleaning liquid tank (not shown) or the like, which is usually provided under the clean booth 110, is very suitable for the layout of the equipment. There is a disadvantage that the structure of the substrate cleaning apparatus becomes complicated.

본 고안은 전술한 바와 같은 종래의 문제점을 개선하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은, 외관과 구조가 보다 더 콤팩트화하고 전체 설비의 레이아웃에 유리한 기판 세정장치를 제공하는 데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to improve the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to provide a substrate cleaning apparatus which is more compact in appearance and structure and advantageous to the layout of the entire installation.

위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 고안의 구성은, 기판 세정용 브러시를 횡축 지지하는 브러시 샤프트와, 상기 브러시 샤프트의 양단부로부터 횡축방향으로 연장된 승강용 샤프트와, 상기 브러시 샤프트를 회전 구동하는 회전구동부와, 상기 승강용 샤프트 중 일단부측 승강용 샤프트를 승강시키는 승강구동부 및, 상기 일단부측 승강용 샤프트에 연동하여 타단부측 승강용 샤프트가 동시 승강하도록 타단부측 승강용 샤프트를 지지하는 승강지지부를 포함하여 이루어진다.The construction of the present invention for achieving the above object, the brush shaft for supporting the substrate cleaning brush transversely, the lifting shaft extending in the transverse direction from both ends of the brush shaft, the rotary drive unit for rotationally driving the brush shaft And an elevating driving unit for elevating one end of the elevating shaft among the elevating shafts, and an elevating support unit for supporting the other end elevating shaft so as to simultaneously elevate the other end elevating shaft in conjunction with the one end elevating shaft. It is made to include.

여기서, 상기 승강구동부에는 승강 조작이 이루어지는 제1승강조작부재와 이 제1승강조작부재에 의해 회전 구동되는 승강력 전달축 및 이 승강력 전달축에 의해 지지되며 회전하는 제1기어가 구비되고, 상기 일단부측 승강용 샤프트에는 상기 제1기어에 선택적으로 치합되어 제1기어의 회전에 따라 일단부측 승강용 샤프트가 승강하도록 하는 제2기어가 구비되며. 상기 타단부측 승강용 샤프트에는 상기 승강지지부 측에 연결되는 제3기어가 구비되고, 상기 승강지지부에는 상기 제3기어에 선택적으로 치합되는 제4기어와 이 제4기어를 지지하며 상기 일단부측 승강용 샤프 트가 승강할 때 상기 타단부측 승강용 샤프트가 동시에 승강하도록 회전하는 승강지지축이 구비된 구성이 개시될 수 있다. Here, the elevating drive unit is provided with a first elevating operation member which is lifted up and down, a lifting force transmission shaft driven by the first lifting operation member and a first gear that is supported and rotated by the lifting force transmission shaft, The one end lifting shaft is provided with a second gear that is selectively engaged with the first gear so that the one end lifting shaft in accordance with the rotation of the first gear. The other end lifting shaft is provided with a third gear connected to the lifting support side, and the lifting support is configured to support the fourth gear and the fourth gear selectively engaged with the third gear, and the lifting end is lifted on the one end side. When the shaft is lifted, a configuration may be disclosed in which a lifting support shaft is rotated so that the other end lifting shaft is lifted at the same time.

특히, 상기 승강지지축에는 상기 타단부측 승강용 샤프트에서 승강 조작을 행할 수 있는 제2승강조작부재가 구비될 수 있다.In particular, the elevating support shaft may be provided with a second elevating operation member capable of elevating operation on the other end side elevating shaft.

그리고, 상기 제1기어와 제2기어의 선택적 치합 및 상기 제3기어와 제4기어의 선택적 치합을 위해, 상기 승강구동부와 상기 승강지지부는 각각 상기 승강용 샤프트를 상대로 이동 가능하게 되는 것이 바람직하다.In addition, for the selective engagement of the first gear and the second gear and the selective engagement of the third gear and the fourth gear, the lifting drive unit and the lifting support unit may be movable relative to the lifting shaft, respectively. .

또, 상기 일단부측 승강용 샤프트에 상기 회전구동부가 연결됨으로써 승강용 샤프트의 회전 구동에 의해 상기 브러시 샤프트가 회전 구동되는 구성이 개시될 수 있다.In addition, a configuration in which the brush shaft is rotationally driven by the rotational driving of the elevating shaft by connecting the rotary driver to the one end side elevating shaft may be disclosed.

상기와 같이 구성된 본 고안은 승강구동부에 의한 브러시 및 브러시 샤프트의 승강구동력을 전달하는 구성이 세정 챔버의 하부에 구비되지 않고 브러시 샤프트에 횡축방향으로 직접 마련되어 있기 때문에, 종래에 비해 브러시 및 브러시 샤프트의 승강 작동을 위한 구성이 매우 간소화된다.According to the present invention configured as described above, since the configuration for transmitting the driving force of the brush and the brush shaft by the elevating driver is not provided in the lower portion of the cleaning chamber, it is provided directly in the transverse direction in the brush shaft, The configuration for lifting operation is greatly simplified.

따라서, 세정장치의 외관과 구조가 매우 콤팩트화되는 이점이 있으며, 세정 챔버의 하부에 통상적으로 구비되는 세정액 탱크 등을 배치함에 있어서 설비의 레이아웃에 매우 유리한 효과가 있다.Therefore, there is an advantage that the appearance and structure of the cleaning apparatus is very compact, and there is a very advantageous effect on the layout of the equipment in arranging the cleaning liquid tank or the like that is usually provided in the lower portion of the cleaning chamber.

이하에서는 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 고안이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 고안의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention can be modified in various forms, the scope of the present invention is limited to the embodiments described below It doesn't happen.

도 3은 본 고안의 실시예에 따른 기판 세정장치의 주요 구성부를 나타낸 정면도이고, 도 4는 도 3의 기판 세정장치에 대한 측면부 사시도이다.Figure 3 is a front view showing the main components of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a side perspective view of the substrate cleaning apparatus of FIG.

도 3 및 도 4에 나타난 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치는, 기판 세정용 브러시(10)를 지지하는 브러시 샤프트(20)와, 이 브러시 샤프트(20)의 양단부로부터 연장된 승강용 샤프트(30,30')와, 브러시 샤프트(20)를 회전 구동하는 회전구동부(40)와, 승강용 샤프트(30,30')의 일단부를 승강시키는 승강구동부(50), 그리고 승강용 샤프트(30,30')의 타단부를 지지하는 승강지지부(60)를 구비하고 있다. 이들 구성 요소들은 기판 세정용 브러시(10)가 기판을 사이에 두고 상하로 한 쌍이 설치됨에 따라서 상측 브러시에 관련된 요소들과 하측 브러시에 관련된 요소들로 구분되어 동일한 구성으로 구비되는데, 본 명세서에서는 편의상 상측 브러시와 관련된 구성 요소들을 중심으로 설명하기로 한다. 각 구성 요소들에 대해 보다 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.3 and 4, the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention, the brush shaft 20 for supporting the substrate cleaning brush 10, and extending from both ends of the brush shaft 20 Lifting shafts 30 and 30 ', a rotary drive unit 40 for rotationally driving the brush shaft 20, lifting driver 50 for lifting one end of the lifting shafts 30 and 30', and lifting A lift support portion 60 for supporting the other ends of the shafts 30 and 30 'is provided. These components are divided into elements related to the upper brush and elements related to the lower brush as the substrate cleaning brush 10 is installed up and down with the substrate interposed therebetween, and the components are provided in the same configuration. The components related to the upper brush will be described below. Looking at each component in more detail as follows.

먼저, 브러시 샤프트(20)는 기판 세정용 브러시(10)에 브러시(10)의 횡축방향으로 결합되어 브러시(10)를 지지하게 된다. 브러시 샤프트(20)의 횡축방향 양단 부는 베어링(71,71')이 매개되어 있는 제1지지부재(70)와 제2지지부재(70')에 의해 회전 가능하게 지지되고 있다. 그리고, 이들 제1지지부재(70)와 제2지지부재(70')의 하측에 제1지지블록(80')과 제2지지블록(80')이 각각 상하방향으로 길게 설치되어 있고, 이 제1지지블록(80)과 제2지지블록(80') 각각은 제1베이스 블록(90)과 제2베이스 블록(90')에 의해 세정 챔버(도시되지 않음)의 저면에서 지지된다.First, the brush shaft 20 is coupled to the substrate cleaning brush 10 in the horizontal axis direction of the brush 10 to support the brush 10. Both ends of the axial direction of the brush shaft 20 are rotatably supported by the first support member 70 and the second support member 70 'through which the bearings 71 and 71' are mediated. Further, the first support block 80 'and the second support block 80' are provided in the vertical direction below the first support member 70 and the second support member 70 ', respectively. Each of the first support block 80 and the second support block 80 'is supported at the bottom of the cleaning chamber (not shown) by the first base block 90 and the second base block 90'.

승강용 샤프트(30,30')는 브러시 샤프트(20)의 양단부로부터 브러시 샤프트(20)의 횡축방향으로 길게 연장된 축이다. 승강용 샤프트(30,30')는 브러시 샤프트(20)의 양단부에 일체로 형성될 수도 있고, 브러시 샤프트(20)의 양단부에 별물로서 결합될 수도 있다. 설명의 편의를 위해, 브러시 샤프트(20)의 양단부 중 일단부에 구비된 승강용 샤프트(30,30')를 일단부측 승강용 샤프트(30)라 호칭하고, 브러시 샤프트(20)의 타단부에 구비된 승강용 샤프트(30,30')를 타단부측 승강용 샤프트(30')라 호칭한다. 일단부측 승강용 샤프트(30)와 타단부측 승강용 샤프트(30')에는 각각 기어가 구비되어 있는데, 일단부측 승강용 샤프트(30)의 기어를 제2기어(31)라 하고, 타단부측 승강용 샤프트(30')의 기어를 제3기어(31')라 호칭한다.The lifting shafts 30 and 30 'are shafts extending in the transverse axial direction of the brush shaft 20 from both ends of the brush shaft 20. The lifting shafts 30 and 30 ′ may be integrally formed at both ends of the brush shaft 20, or may be coupled as separate parts to both ends of the brush shaft 20. For convenience of description, the lifting shafts 30 and 30 'provided at one end of both ends of the brush shaft 20 are referred to as one end lifting shaft 30, and the other end of the brush shaft 20 The provided lifting shafts 30 and 30 'are called other end side lifting shafts 30'. Gears are provided on one end side lifting shaft 30 and the other end side lifting shaft 30 ', respectively, and the gears of one end side lifting shaft 30 are referred to as second gears 31 and the other end side. The gear of the lifting shaft 30 'is referred to as a third gear 31'.

상기 회전구동부(40)는 브러시 샤프트(20)를 회전 구동하게 되는데, 본 실시예에서 브러시 샤프트(20)의 양단부에 승강용 샤프트(30,30')가 구비되어 있으므로, 회전구동부(40)는 승강용 샤프트(30,30')를 경유하여 브러시 샤프트(20)와 연결됨으로써 브러시 샤프트(20)를 회전 구동하게 된다. 즉, 회전구동부(40)의 회전구동축(41)이 일단부측 승강용 샤프트(30)와 커플링(42)으로 연결되어 있어서, 회전구동부(40)의 회전 구동력이 회전구동축(41)을 통해 일단부측 승강용 샤프트(30)로 전달되고, 이에 따라서 브러시 샤프트(20)가 회전하게 된다.The rotary drive unit 40 is to drive the rotation of the brush shaft 20. In this embodiment, the lifting shafts 30 and 30 'are provided at both ends of the brush shaft 20, the rotary drive unit 40 is The brush shaft 20 is rotationally driven by being connected to the brush shaft 20 via the lifting shafts 30 and 30 '. That is, the rotary drive shaft 41 of the rotary drive unit 40 is connected to one end side lifting shaft 30 and the coupling 42, so that the rotary driving force of the rotary drive unit 40 is once through the rotary drive shaft 41. It is transmitted to the secondary lifting shaft 30, and the brush shaft 20 is rotated accordingly.

다음으로, 상기 승강구동부(50)는 제1지지부재(70)와 제1지지블록(80)을 지지하고 있는 제1베이스 블록(90) 상에 설치되어 상기 일단부측 승강용 샤프트(30)를 승강시키게 된다. 이 승강구동부(50)는 제1승강조작부재(51)와 승강력 전달축(52) 및 제1기어(53)로 구성되어 있다. 제1승강조작부재(51)는 세정장치를 운용하는 작업자가 승강 조작을 하기 위한 수단으로서, 승강력 전달축(52)과 기어 물림으로 연결되어 있다. 승강력 전달축(52)은 제1베이스 블록(90)에 회전 가능하게 설치되어 제1지지부재(70)를 향해 길게 연장된 축이다. 이 승강력 전달축(52)의 상단부에는 일단부측 승강용 샤프트(30)의 제2기어(31)와 선택적으로 맞물리는 제1기어(53)가 구비되어 있다. 특히, 승강구동부(50)는 제1베이스 블록(90) 상에서 일단부측 승강용 샤프트(30)를 상대로 전진하거나 후퇴할 수 있도록 통상적인 슬라이딩 구조로 설치되어 있다. 따라서, 승강구동부(50)가 일단부측 승강용 샤프트(30)를 승강시킬 때에만 일단부측 승강용 샤프트(30)를 향해 전진하여 승강력 전달축(52)의 제1기어(53)가 일단부측 승강용 샤프트(30)의 제2기어(31)에 맞물리게 되고, 승강 작동이 완료되면 일단부측 승강용 샤프트(30)로부터 물러나게 됨으로써, 차후에 상기 회전구동부(40)에 의한 브러시 샤프트(20)의 회전 구동시 제1기어(53)와 제2기어(31)의 파손을 방지할 수 있게 된다.Next, the elevating driving part 50 is installed on the first base block 90 supporting the first supporting member 70 and the first supporting block 80 so as to lift the one end side lifting shaft 30. Ascended. The lifting driving unit 50 is composed of a first lifting operation member 51, a lifting force transmission shaft 52, and a first gear 53. The first elevating operation member 51 is a means for elevating operation by an operator operating the cleaning device, and is connected to the elevating force transmission shaft 52 by a gear bite. The lifting force transmission shaft 52 is a shaft which is rotatably installed on the first base block 90 and extends toward the first support member 70. The upper end of the elevating force transmission shaft 52 is provided with a first gear 53 which is selectively engaged with the second gear 31 of the one end side lifting shaft 30. In particular, the elevating drive unit 50 is provided with a conventional sliding structure so as to be able to move forward or backward with respect to the one end side lifting shaft 30 on the first base block 90. Therefore, only when the elevating drive unit 50 raises and lowers the one end side lifting shaft 30, the first gear 53 of the elevating force transmission shaft 52 moves forward toward the one end side lifting shaft 30. The second gear 31 of the elevating shaft 30 is engaged, and when the elevating operation is completed, it is withdrawn from the one end side elevating shaft 30, so that the rotation of the brush shaft 20 by the rotary drive unit 40 is later performed. In operation, damage to the first gear 53 and the second gear 31 can be prevented.

상기 승강지지부(60)는 타단부측 승강용 샤프트(30')를 지지하도록 제2베이스 블록(90') 상에 설치되어 있는데, 제2베이스 블록(90')에 회전 가능하게 설치되 어 타단부측 승강용 샤프트(30')를 향해 길게 뻗은 승강지지축(61)을 구비함과 아울러, 이 승강지지축(61)의 상단부에서 타단부측 승강용 샤프트(30')의 제3기어(31')에 선택적으로 맞물리는 제4기어(62)를 구비하고 있다. 이에 따라, 승강구동부(50)의 작동에 의해 일단부측 승강용 샤프트(30)가 승강하게 되면, 이에 연동하여 타단부측 승강용 샤프트(30')의 제3기어(31')가 승강지지축(61)의 제4기어(62)에 맞물린 상태에서 동시에 일단부측 승강용 샤프트(30)의 승강 높이만큼 승강하게 된다. 한편, 승강구동부(50) 측에서 뿐만 아니라 승강지지부(60)에서도 승강 조작을 할 수 있도록, 승강지지축(61)에 제2승강조작부재(63)가 설치될 수 있다. 이러한 승강지지부(60)는 승강구동부(50)의 경우와 같이 제2베이스 블록(90') 상에서 타단부측 승강용 샤프트(30')를 상대로 전진하거나 후퇴할 수 있도록 통상적인 슬라이딩 구조로 설치되어 있다. 따라서, 승강지지부(60)가 타단부측 승강용 샤프트(30')를 승강시킬 때에만 타단부측 승강용 샤프트(30')를 향해 전진하여 승강지지축(61)의 제4기어(62)가 타단부측 승강용 샤프트(30')의 제3기어(31')에 맞물리게 되고, 승강 작동이 완료되면 타단부측 승강용 샤프트(30')로부터 물러나게 됨으로써, 차후에 상기 회전구동부(40)에 의한 브러시 샤프트(20)의 회전 구동시 제3기어(31')와 제4기어(62)의 파손을 방지할 수 있게 된다.The lifting support 60 is installed on the second base block 90 'to support the other end lifting shaft 30', and is rotatably installed on the second base block 90 '. A third gear of the other end side elevating shaft 30 'at an upper end of the elevating support shaft 61, and having an elevating support shaft 61 extending toward the end elevating shaft 30'; And a fourth gear 62 for selectively engaging 31 ". Accordingly, when the one end side lifting shaft 30 is lifted by the operation of the elevating drive unit 50, the third gear 31 ′ of the other end lifting shaft 30 ′ is lifted and supported by the lifting shaft 30. In the state engaged with the fourth gear 62 of 61, at the same time, ascending and descending height of one end side lifting shaft 30 is raised and lowered. On the other hand, the second elevating operation member 63 may be installed on the elevating support shaft 61 so that the elevating operation may be performed not only on the elevating driving unit 50 side but also on the elevating support unit 60. The lifting support 60 is installed in a conventional sliding structure to move forward or backward on the other end side lifting shaft 30 'on the second base block 90' as in the case of the lifting driving unit 50 '. have. Therefore, the fourth gear 62 of the elevating support shaft 61 is moved forward toward the other end side lifting shaft 30 'only when the lifting support 60 lifts the other end lifting shaft 30'. Is engaged with the third gear 31 'of the other end lifting shaft 30', and when the lifting operation is completed, it is withdrawn from the other end lifting shaft 30 ', so that the rotary drive unit 40 is later When the brush shaft 20 is driven to rotate, the damage of the third gear 31 ′ and the fourth gear 62 can be prevented.

다음에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정장치의 작동에 대해 설명한다.Next, the operation of the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention configured as described above will be described.

먼저, 브러시 샤프트(20)의 회전 구동은 회전구동부(40)에 의해 이루어지는 데, 브러시 샤프트(20)의 양단부에 승강용 샤프트(30,30')가 구비되어 있고, 회전구동부(40)의 회전구동축(41)은 일단부측 승강용 샤프트(30)에 커플링(42)으로 연결되어 있으므로, 회전구동부(40)의 회전구동력은 일단부측 승강용 샤프트(30)를 통해 브러시 샤프트(20)로 전달됨으로써 브러시 샤프트(20)가 회전하게 된다.First, the rotational drive of the brush shaft 20 is made by the rotation driving unit 40. Lift shafts 30 and 30 'are provided at both ends of the brush shaft 20, and the rotation of the rotation driving unit 40 is performed. Since the drive shaft 41 is connected to the one end side lifting shaft 30 by the coupling 42, the rotational driving force of the rotation driving unit 40 is transmitted to the brush shaft 20 through the one end side lifting shaft 30. As a result, the brush shaft 20 rotates.

한편, 브러시 샤프트(20)의 승강 작동은 승강구동부(50)의 제1승강조작부재(51)를 조작하거나 승강지지부(60)의 제2승강조작부재(63)를 조작함으로써 이루어지게 된다. 그런데, 브러시 샤프트(20)의 회전 구동시 승강용 샤프트(30,30')의 제2기어(31)와 제3기어(31')가 승강구동부(50)의 제1기어(53)와 승강지지부(60)의 제4기어(62)에 각각 치합되어 있으면 이들 기어(53,31,31',62)에 파단이 발생하므로, 제1승강조작부재(51) 또는 제2승강조작부재(63)의 조작에 앞서 승강구동부(50)와 승강지지부(60)는 승강용 샤프트(30,30') 측으로부터 물러나 있는 상태로 조정되어 있게 된다. 그리고, 브러시 샤프트(20)의 회전 작동이 정지된 상태에서 브러시 샤프트(20)를 승강시킬 경우에만 승강구동부(50)와 승강지지부(60)를 각각 제1베이스 블록(90)과 제2베이스 블록(90') 상에서 승강용 샤프트(30,30') 측으로 슬라이딩 전진시킨다.Meanwhile, the lifting operation of the brush shaft 20 is performed by operating the first lifting operation member 51 of the lifting driving unit 50 or the second lifting operation member 63 of the lifting support 60. However, when the brush shaft 20 rotates, the second gear 31 and the third gear 31 of the lifting shafts 30 and 30 'move up and down with the first gear 53 of the lifting driving unit 50. If each of the gears 53 is engaged with the fourth gear 62 of the support portion 60, the gears 53, 31, 31 ', and 62 are broken. Therefore, the first elevating manipulation member 51 or the second elevating manipulation member 63 is broken. Prior to the operation of), the elevating drive unit 50 and the elevating support unit 60 are adjusted in a state of being receded from the elevating shafts 30 and 30 '. In addition, when the brush shaft 20 is lifted in the state in which the rotation operation of the brush shaft 20 is stopped, the first driving block 50 and the lifting support 60 are respectively moved to the first base block 90 and the second base block. Sliding forward on the lifting shafts 30, 30 'on 90'.

위의 상태로부터 제1승강조작부재(51)를 회전 조작하면 제1승강조작부재(51)에 연결되어 있는 승강력 전달축(52)이 회전한다. 이 승강력 전달축(52)의 상단부에는 앞서 설명한 바와 같이 제1기어(53)가 구비되어 있는데, 이 제1기어(53)에는 일단부측 승강용 샤프트(30)의 제2기어(31)가 치합되어 있다. 따라서, 승강력 전달축(52)의 회전에 따른 회전력은 제1기어(53)에 의해 제2기어(31)로 전달됨으로써, 제1기어(53)의 회전력이 일단부측 승강용 샤프트(30)를 승강시키게 된다. 일단부측 승강용 샤프트(30)의 승강 작동은 제1승강조작부재(51)의 회전 조작 방향에 따라 상승 작동 또는 하강 작동으로 이루어지게 되는데, 예를 들어 제1승강조작부재(51)가 좌회전하는 경우에는 상승 작동, 우회전하는 경우에는 하강 작동을 하게 된다. 이러한 일단부측 승강용 샤프트(30)의 승강 작동은 브러시 샤프트(20)의 횡축 방향으로 그대로 전달되어, 일단부측 승강용 샤프트(30) 및 브러시 샤프트(20)와 한 몸을 이루고 있는 타단부측 승강용 샤프트(30')에 미치게 된다. 타단부측 승강용 샤프트(30')에는 제3기어(31')가 구비되어 있고, 제3기어(31')에는 승강지지부(60)의 제4기어(62)가 치합되어 있으므로, 타단부측 승강용 샤프트(30')는 제4기어(62)와 승강지지부(60)를 회전시키면서 승강하게 된다. 따라서, 결국엔 일단부측 승강용 샤프트(30)와 타단부측 승강용 샤프트(30') 사이의 브러시 샤프트(20)는 제1승강조작부재(51)의 조작에 따른 승강 작동이 동시에 동일 높이로 이루어지게 된다. 이와 마찬가지로 제2승강조작부재(63)를 조작하는 경우에도 제1승강조작부재(51)에 의한 브러시 샤프트(20)의 승강 작동과 동일하게 브러시 샤프트(20)가 승강 작동하게 된다.When the first elevating operation member 51 is rotated from the above state, the elevating force transmission shaft 52 connected to the first elevating operation member 51 rotates. As described above, the upper end of the elevating force transmission shaft 52 is provided with a first gear 53. The first gear 53 has a second gear 31 of the one end side lifting shaft 30. It is engaged. Therefore, the rotational force according to the rotation of the lifting force transmission shaft 52 is transmitted to the second gear 31 by the first gear 53, so that the rotational force of the first gear 53 is lifted on one end side of the lifting shaft 30. Will be raised. The lifting operation of the one end side lifting shaft 30 is made by the lifting operation or the lowering operation according to the rotation operation direction of the first lifting operation member 51, for example, the first lifting operation member 51 is left In case of upward movement, in case of turning right, the downward movement is performed. The lifting operation of the one end side lifting shaft 30 is transmitted as it is in the horizontal axis direction of the brush shaft 20, and the other end side lifting which forms one body with the one end side lifting shaft 30 and the brush shaft 20. Extends to the dragon shaft 30 '. The other end side lifting shaft 30 'is provided with a third gear 31', and the third gear 31 'is engaged with the fourth gear 62 of the lifting support 60, so that the other end is engaged. The side lift shaft 30 'is lifted while rotating the fourth gear 62 and the lift support 60. Therefore, the brush shaft 20 between the one end side lifting shaft 30 and the other end side lifting shaft 30 'has the same lifting operation at the same time as the first lifting operation member 51 is operated. Will be done. Similarly, even when operating the second lift operation member 63, the brush shaft 20 moves up and down in the same manner as the lift operation of the brush shaft 20 by the first lift operation member 51.

지금까지의 설명에서 회전 작동과 승강 작동의 대상을 브러시 샤프트(20)로 언급하고 있으나, 브러시 샤프트(20)에 설치된 기판 세정용 브러시(10)가 브러시 샤프트(20)와 일체의 상태에서 회전 작동 및 승강 작동하는 것임은 주지의 사실이라 할 것이다.In the above description, the object of the rotation operation and the lifting operation is referred to as the brush shaft 20. However, the substrate cleaning brush 10 installed on the brush shaft 20 is rotated in an integral state with the brush shaft 20. And it is known that the lifting operation.

이상에서는 본 고안을 바람직한 실시예에 의거하여 설명하였으나, 본 고안은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 고안의 기술적 사상의 범위 내에서 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.In the above described the present invention based on the preferred embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment, various modifications by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention This is possible.

도 1은 종래의 브러시 승강수단이 구비된 기판 세정장치를 나타낸 정면도이다.1 is a front view showing a substrate cleaning apparatus equipped with a conventional brush lifting means.

도 2는 도 1의 측면도이다.2 is a side view of FIG. 1.

도 3은 본 고안의 실시예에 따른 기판 세정장치의 주요 구성부를 나타낸 정면도이다.Figure 3 is a front view showing the main components of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 기판 세정장치에 대한 측면부 사시도이다.4 is a side perspective view of the substrate cleaner of FIG. 3.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10 : 브러시 20 : 브러시 샤프트10 brush 20 brush shaft

30 : 일단부측 승강용 샤프트 30' : 타단부측 승강용 샤프트30: One end lifting shaft 30 ': The other end lifting shaft

31 : 제2기어 31' : 제3기어31: second gear 31 ': third gear

40 : 회전구동부 41 : 회전구동축40: rotary drive part 41: rotary drive shaft

50 : 승강구동부 51 : 제1승강조작부재50: elevating drive unit 51: the first elevating operation member

52 : 승강력 전달축 53 : 제1기어52: lift transmission shaft 53: first gear

60 : 승강지지부 61 : 승강지지축60: lifting support 61: lifting support shaft

62 : 제4기어 63 : 제2승강조작부재62: fourth gear 63: second lifting operation member

70 : 제1지지부재 70' : 제2지지부재70: first support member 70 ': second support member

71,71' : 베어링 80 : 제1지지블록71,71 ': Bearing 80: First support block

80' : 제2지지블록 90 : 제1베이스 블록80 ': second support block 90: first base block

90' : 제2베이스 블록90 ': second base block

Claims (5)

기판 세정용 브러시를 횡축 지지하는 브러시 샤프트;A brush shaft for transversely supporting the substrate cleaning brush; 상기 브러시 샤프트의 양단부로부터 횡축방향으로 연장된 승강용 샤프트;A lifting shaft extending in the transverse axis direction from both ends of the brush shaft; 상기 브러시 샤프트를 회전 구동하는 회전구동부;A rotary drive unit for rotating the brush shaft; 상기 승강용 샤프트 중 일단부측 승강용 샤프트를 승강시키는 승강구동부; 및An elevating driving unit for elevating one end of the elevating shaft of the elevating shaft; And 상기 일단부측 승강용 샤프트에 연동하여 타단부측 승강용 샤프트가 동시 승강하도록 타단부측 승강용 샤프트를 지지하는 승강지지부를 포함하여 이루어진 기판 세정장치.And an elevating support portion for supporting the other end lifting shaft so that the other end lifting shaft is simultaneously lifted in association with the one end lifting shaft. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 승강구동부에는 승강 조작이 이루어지는 제1승강조작부재와 이 제1승강조작부재에 의해 회전 구동되는 승강력 전달축 및 이 승강력 전달축에 의해 지지되며 회전하는 제1기어가 구비되고,The elevating driving part is provided with a first elevating operation member which is provided with an elevating operation, an elevating force transmission shaft driven to rotate by the first elevating operation member, and a first gear that is supported and rotated by the elevating force transmitting shaft, 상기 일단부측 승강용 샤프트에는 상기 제1기어에 선택적으로 치합되어 제1기어의 회전에 따라 일단부측 승강용 샤프트가 승강하도록 하는 제2기어가 구비되며. 상기 타단부측 승강용 샤프트에는 상기 승강지지부 측에 연결되는 제3기어가 구비되고,The one end lifting shaft is provided with a second gear that is selectively engaged with the first gear so that the one end lifting shaft in accordance with the rotation of the first gear. The other end lifting shaft is provided with a third gear connected to the lifting support side, 상기 승강지지부에는 상기 제3기어에 선택적으로 치합되는 제4기어와 이 제4기어를 지지하며 상기 일단부측 승강용 샤프트가 승강할 때 상기 타단부측 승강용 샤프트가 동시에 승강하도록 회전하는 승강지지축이 구비된 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.The lifting support shaft supports a fourth gear selectively engaged with the third gear and the fourth gear, and the lifting support shaft rotates so that the other end lifting shaft is simultaneously lifted when the lifting shaft for one end is lifted. Substrate cleaning apparatus, characterized in that provided. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 승강지지축에는 상기 타단부측 승강용 샤프트에서 승강 조작을 행할 수 있는 제2승강조작부재가 구비된 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.And the second elevating operation member capable of elevating operation on the other end side elevating shaft is provided on the elevating support shaft. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1기어와 제2기어의 선택적 치합 및 상기 제3기어와 제4기어의 선택적 치합을 위해, 상기 승강구동부와 상기 승강지지부는 각각 상기 승강용 샤프트를 상대로 이동 가능하게 된 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.And the lifting drive unit and the lifting support unit are movable relative to the lifting shaft for selective engagement of the first gear and the second gear and selective engagement of the third gear and the fourth gear. Cleaning device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 일단부측 승강용 샤프트에 상기 회전구동부가 연결됨으로써 승강용 샤프트의 회전 구동에 의해 상기 브러시 샤프트가 회전 구동되는 것을 특징으로 하는 기판 세정장치.And the rotary shaft is connected to the one end-side lifting shaft so that the brush shaft is driven to rotate by the rotation driving of the lifting shaft.
KR2020070020745U 2007-12-26 2007-12-26 Substrate cleaning unit KR200461069Y1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020070020745U KR200461069Y1 (en) 2007-12-26 2007-12-26 Substrate cleaning unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020070020745U KR200461069Y1 (en) 2007-12-26 2007-12-26 Substrate cleaning unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090006518U true KR20090006518U (en) 2009-07-01
KR200461069Y1 KR200461069Y1 (en) 2012-06-29

Family

ID=41323251

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2020070020745U KR200461069Y1 (en) 2007-12-26 2007-12-26 Substrate cleaning unit

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200461069Y1 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101387919B1 (en) * 2012-12-24 2014-04-22 주식회사 케이씨텍 Substrate cleaning apparatus
KR101389769B1 (en) * 2012-12-24 2014-04-28 주식회사 케이씨텍 Substrate cleaning apparatus
CN110260709A (en) * 2019-07-22 2019-09-20 新疆天电电力工程有限责任公司 A kind of plate cleaning device and cleaning system
KR20200033428A (en) * 2018-09-20 2020-03-30 주식회사 디엠에스 Apparatus for cleaning substrate and method of installing the same
KR20200118318A (en) * 2019-04-05 2020-10-15 주식회사 디엠에스 Apparatus for adjusting gap of substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same
KR20200118317A (en) * 2019-04-05 2020-10-15 주식회사 디엠에스 Apparatus for adjusting gap of substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same
CN112691951A (en) * 2020-11-19 2021-04-23 中国核工业中原建设有限公司 Wisdom building site sprays to remove dust and uses degree of dust monitoring device

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090002849U (en) * 2007-09-18 2009-03-23 주식회사 케이씨텍 Large area substrate cleaning apparatus
KR100908402B1 (en) * 2007-11-26 2009-07-20 주식회사 케이씨텍 Substrate Cleaning Equipment
KR100894224B1 (en) * 2008-12-11 2009-04-20 주식회사 케이씨텍 Driving device of roll brush for cleaning substrate

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101387919B1 (en) * 2012-12-24 2014-04-22 주식회사 케이씨텍 Substrate cleaning apparatus
KR101389769B1 (en) * 2012-12-24 2014-04-28 주식회사 케이씨텍 Substrate cleaning apparatus
KR20200033428A (en) * 2018-09-20 2020-03-30 주식회사 디엠에스 Apparatus for cleaning substrate and method of installing the same
KR20200118318A (en) * 2019-04-05 2020-10-15 주식회사 디엠에스 Apparatus for adjusting gap of substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same
KR20200118317A (en) * 2019-04-05 2020-10-15 주식회사 디엠에스 Apparatus for adjusting gap of substrate processing unit and substrate processing apparatus using the same
CN110260709A (en) * 2019-07-22 2019-09-20 新疆天电电力工程有限责任公司 A kind of plate cleaning device and cleaning system
CN112691951A (en) * 2020-11-19 2021-04-23 中国核工业中原建设有限公司 Wisdom building site sprays to remove dust and uses degree of dust monitoring device
CN112691951B (en) * 2020-11-19 2022-04-08 中国核工业中原建设有限公司 Wisdom building site sprays to remove dust and uses degree of dust monitoring device

Also Published As

Publication number Publication date
KR200461069Y1 (en) 2012-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR200461069Y1 (en) Substrate cleaning unit
JP3214600U (en) Solar panel cleaning device
CN1243630C (en) Cutting machine
JP3540524B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
TW200822266A (en) Lift pin driving device and a flat panel display manufacturing apparatus having same
CN102113108B (en) Substrate-conveying device
KR100618918B1 (en) Apparatus for transfering works
KR101883015B1 (en) Liquid processing device, liquid processing method and storage medium
KR100793040B1 (en) Apparatus for grinding glass plate
TWI275553B (en) Cassette feeding apparatus
CN113683006A (en) Lifting machine for vehicle chassis maintenance
KR20080083793A (en) Cullet remover for glass
CN111640692B (en) Cleaning auxiliary device and cleaning device for wafer
JP2006116465A (en) Treatment apparatus of substrate
KR20090053428A (en) Lifting device
JP2009026782A (en) Sheet transfer device, sheet treatment and transfer system, and sheet transfer method
JPH10165342A (en) High lift cleaning machine
KR100894224B1 (en) Driving device of roll brush for cleaning substrate
CN219043519U (en) Substrate cleaning equipment after ceramic wafer is thrown away
JPH08131372A (en) Window wiping robot
KR100871321B1 (en) Silicon caulking apparatus
CN104224060A (en) Double-spiral-arm mopping plate of automatic floor mopping machine
CN217831002U (en) Polycrystalline silicon wafer surface leaching device
CN204033258U (en) The bispin arm wiping board of automatic floor-scrubbing machine
CN217577363U (en) Glass cleaning device for glass loading machine

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160525

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170419

Year of fee payment: 6

EXPY Expiration of term